JP2002348274A - モノ置換ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 - Google Patents
モノ置換ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法Info
- Publication number
- JP2002348274A JP2002348274A JP2002078115A JP2002078115A JP2002348274A JP 2002348274 A JP2002348274 A JP 2002348274A JP 2002078115 A JP2002078115 A JP 2002078115A JP 2002078115 A JP2002078115 A JP 2002078115A JP 2002348274 A JP2002348274 A JP 2002348274A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- compound represented
- group
- water
- organic layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
ホンを工業的に有利に製造する方法を提供する。 【解決手段】式(I)で表される化合物を含む水溶液の
pHを所定値(P1)に調整して有機溶媒で抽出後、有
機層と水層とに分液する工程と、分液した有機層に水又
は一定のpH値に調整された水を加え、水層のpHを所
定値(P2)に調整して有機層を分取する工程とを有す
ることを特徴とする式(I)で表される化合物の製造方
法。 【化1】 (式中、R1及びR2は、それぞれ独立してハロゲン原
子、C1〜C8アルキル基又はC2〜C8アルケニル基
を表し、m及びnは、それぞれ独立して0又は1〜4の
整数を表し、R3は、C1〜C8アルキル基、C2〜C
8アルケニル基、C3〜C8シクロアルキル基又は置換
基を有してもよいアラルキル基を表す。)
Description
剤として有用な4−置換ヒドロキシ−4’−ヒドロキシ
ジフェニルスルホン等のモノ置換ジヒドロキシジフェニ
ルスルホンを含む混合物を、効率よく精製する工程を有
する高純度なモノ置換ジヒドロキシジフェニルスルホン
類を製造する方法に関する。
表される化合物(以下、「4−置換ヒドロキシ−4’−
ヒドロキシジフェニルスルホン」という。)は、発色感
度、保存性、耐感光性等に優れた顕色剤であり、ファク
シミリ等の高速記録用、あるいは保存性を重視したラベ
ル等の記録材料に多用されている。
キシジフェニルスルホン(以下、「目的物」ともい
う。)は、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン
(以下「BPS」という。)とアルキルハライドとを、
アルカリの存在下、水又は水−有機溶媒中で反応させる
ことにより製造されている(特開昭58−20493号
公報、特開昭58−82788号公報、特開昭60−1
3852号公報、特開昭60−56949号公報、特開
平6−251248号公報、特開平5−255234号
公報及び特許公報第2500532号等参照)。
が完全に進行せず、同時に副反応も進行することから、
反応液には目的物の他に未反応のBPSや副生成物であ
る4,4’−ジ置換ヒドロキシジフェニルスルホン等の
不純物が含まれている。そのため、反応液からこれらの
不純物を除去することが必要となる。
ロキシジフェニルスルホンは、このものがアルカリ水に
不溶であることから、反応液に必要に応じて非水混和性
有機溶媒を加えて、分液することにより除去できる。ま
た、未反応のBPSは、反応液に非水混和性有機溶媒を
添加して、有機層と水層の2相系とした後、水層のpH
値を所定値に調整して、目的物を有機層側へ、BPSを
水層側へ分離することで除去できる。これらの分離・精
製方法は、BPSと目的物のフェノール水酸基の酸性度
に差があることを利用したものである。
ル性水酸基の酸性度の差は微妙であり、水層のpHが設
定値より低くなれば、BPSは完全に除去されるが、目
的物を完全に有機層へ分離することが困難となり、目的
物のロスが大きくなってしまう。逆に、水層のpHが設
定値より高くなると、目的物のロスは少なくなるが、有
機層へBPSが移動し、目的物の中にBPSが不純物と
して混入する。
において十分満足できる4−置換ヒドロキシ−4’−ヒ
ドロキシジフェニルスルホンを得ることが困難な場合が
あった。特に、高濃度で反応させて得られた反応液を上
述した方法によって精製を行なう場合には、精製が不十
分となり、目的物の中に原料の4,4’−ジヒドロキシ
ジフェニルスルホン(以下、「BPS」という。)が不
純物として混入する場合が多くなる傾向にあった。
フェニルスルホンは主に顕色剤として用いられるが、例
えば、4−置換ヒドロキシ−4’−ヒドロキシジフェニ
ルスルホンの製品中に、BPSが0.4%以上含まれる
場合には感熱紙の地肌カブリの原因となる。したがっ
て、高純度な4−置換ヒドロキシ−4’−ヒドロキシジ
フェニルスルホン等のモノ置換ジヒドロキシジフェニル
スルホンを得ることができる製造方法の開発が求められ
ていた。
に鑑みてなされたものであり、高純度なモノ置換ジヒド
ロキシジフェニルスルホンを工業的に有利に製造する方
法を提供することを課題とする。
の解決を図るべく、例えば、BPSにイソプロピルブロ
マイドを反応させて得られる反応液から、高純度の4−
イソプロポキシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホン
を効率よく単離する方法について鋭意検討を加えた、
が困難である原因は次のように考えられた。すなわち、 4−イソプロポキシ−4’−ヒドロキシジフェニルス
ルホン等の4−置換ヒドロキシ−4’−ヒドロキシジフ
ェニルスルホン(以下、「目的物」ともいう。)とBP
Sのフェノール性水酸基の酸性度の違いは小さい。従っ
て、正確なpH調整を行なわなければ、目的物とBPS
等とを完全に分離することができない。 また、目的物とBPSは共に水及び非水混和性溶媒に
対する溶解性に乏しい。そのため、これらの混合物に非
水混和性溶媒を加え2相系溶液とした場合、特に高濃度
の混合物溶液を用いる場合においては、水層と有機層の
界面付近に目的物とBPSとが分離されない状態で混在
する第2の有機層(中間層)が生じてしまい、分離が不
十分となる。そして、この層の全体に占める割合は、反
応物の濃度が高濃度になるにしたがって大きくなる傾向
にある。 一方、工業的規模で目的物を製造する場合において
は、作業効率や反応槽、処理槽の容量上の問題から、反
応液にあまりに大量の水と非水混和性有機溶媒を添加す
ることはできない。 従って、特に、反応混合物を高濃度で処理する場合に
は、処理する水層のpHを所定値に調整し、有機層を分
取する一連の操作を単に1回行っただけでは、目的物と
BPSとを完全な分離が困難な場合が多い。
のpH調整と有機層の分取からなる一連の操作を複数回
繰り返すことにより、目的物を高収率かつ高純度で得る
ことができることを見出し、本発明を完成するに到っ
た、
て、ハロゲン原子、C1〜C8アルキル基又はC2〜C
8アルケニル基を表し、m及びnは、それぞれ独立して
0又は1〜4の整数を表し、R3は、C1〜C8アルキ
ル基、C2〜C8アルケニル基、C3〜C8シクロアル
キル基又は置換基を有してもよいアラルキル基を表
す。)で表される化合物を含む水溶液のpHを所定値
(P1)に調整して有機溶媒で抽出後、有機層と水層と
に分液する工程と、分液した有機層に水又は一定のpH
値に調整された水を加え、水層のpHを所定値(P2)
に調整して有機層を分取する工程とを有することを特徴
とする式(I)で表される化合物の製造方法が提供され
る。
(I)で表される化合物を含む水溶液のpHを所定値
(P1)に調整して有機溶媒で抽出後、有機層と水層と
に分液する工程が、前記式(I)で表される化合物を含
む混合物の水及び水非混和性有機溶媒からなる2相系溶
液の水層のpHを所定値(P1)に調整して、有機層を
分液する工程であるのが好ましい。
前記P1と異なる値に設定するのが好ましく、前記P1
を前記P2よりも低い値に設定するのがより好ましく、
前記P1を8.4〜8.7の範囲に、前記P2を8.3
〜8.6の範囲にそれぞれ設定するのがさらに好まし
い。
(I)で表される化合物を含む水溶液が、式(II)
て、ハロゲン原子、C1〜C8アルキル基又はC2〜C
8アルケニル基を表し、m及びnは、それぞれ独立して
0又は1〜4の整数を表す。)で表される化合物と、式
(III)
2〜C8アルケニル基、C3〜C8シクロアルキル基又
は置換基を有してもよいアラルキル基を表し、Xはハロ
ゲン原子を表す。)で表される化合物とを、溶媒中、塩
基存在下に反応させて得られる反応物を含む水応液であ
るのが好ましい。
式(I)で表される化合物が、式(IV)
C2〜C9アルケニル基、C3〜C8シクロアルキル基
又は置換基を有してもよいアラルキル基を表す。)で表
される化合物であるのが好ましい。
度で含有する混合物であっても、該混合物から、高純度
の目的物を効率よく単離できるモノ置換ジヒドロキシジ
フェニルスルホン類の製造方法が提供される。
表される化合物、2)式(I)で表される化合物を含む
水溶液、3)分液工程、4)分取工程に項分けして詳細
に説明する。
る。前記式(I)において、R1及びR2は、それぞれ
独立して、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子;メチ
ル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n
−ブチル基、t−ブチル基等の炭素数1〜8のアルキル
基;又はプロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基
等の炭素数2〜8のアルケニル基;を表す。
4の整数を表す。R3は、メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル
基等の炭素数1〜8のアルキル基;プロペニル基、イソ
プロペニル基、ブテニル基等の炭素数2〜8のアルケニ
ル基;シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘ
キシル基等の炭素数3〜8のシクロアルキル基;又はベ
ンジル基、4−クロロベンジル基、2−フェニルエチル
基等の置換基を有してもよいアラルキル基;を表す。
物は、R3がメチル基、エチル基、n−プロピル基、イ
ソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基等の炭素数
1〜4のアルキル基である化合物が好ましく、m及びn
が0であり、R3がメチル基、エチル基、n−プロピル
基、イソプロピル基、n−ブチル基、t−ブチル基等の
炭素数1〜4のアルキル基である化合物がより好まし
く、式(IV)
で表される化合物がさらに好ましく、4−イソプロポキ
シ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホンが特に好まし
い。
液 式(I)で表される化合物を含む水溶液としては、少な
くとも前記式(I)で表される化合物を含む水溶液であ
れば特に制限されない。水溶液は溶媒として主に水を含
むが、他の有機溶媒が含まれていてもよい。式(I)で
表される化合物を含む水溶液としては、下記反応式に示
すように、式(II)で表される化合物と式(III)で表され
る化合物とを、溶媒中、塩基の存在下に反応させて得ら
れる反応物を含む水溶液であるのが好ましい。
記と同じ意味を表し、Xは、塩素、臭素、ヨウ素等のハ
ロゲン原子を表す。)
メチル、ヨウ化エチル、エチルブロマイド、ヨウ化n−
プロピル、n−プロピルブロマイド、n−プロピルクロ
ライド、ヨウ化イソプロピル、イソプロピルブロマイ
ド、イソプロピルクロライド、ヨウ化n−ブチル、n−
ブチルブロマイド、ヨウ化sec−ブチル、sec−ブ
チルブロマイド、ヨウ化t−ブチル、t−ブチルブロマ
イド、ヨウ化n−ペンチル、n−ペンチルブロマイド、
ヨウ化n−ヘキシル、n−ヘキシルブロマイド等のアル
キルハライド;アリルクロライド、アリルブロマイド、
ヨウ化アリル、クロチルクロライド、クロチルブロマイ
ド等のアルケニルハライド;ヨウ化シクロプロピル、シ
クロプロピルブロマイド、シクロプロピルクロライド、
ヨウ化シクロペンチル、シクロペンチルブロマイド、シ
クロペンチルクロライド、ヨウ化シクロヘキシル、シク
ロヘキシルブロマイド、シクロヘキシルクロライド等の
シクロアルキルハライド;ヨウ化ベンジル、ベンジルブ
ロマイド、ベンジルクロライド、ヨウ化4−クロロベン
ジル、4−メチルベンジルブロマイド、3−クロロベン
ジルクロライド、ヨウ化(1−フェニル)エチル、(1
−フェニル)エチルブロマイド、2−フェニルエチルブ
ロマイド、2−フェニルエチルクロライド、3−フェニ
ルプロピルブロマイド等のアラルキルハライド;等が挙
げられる。
合物としては、式(III)中、Xが臭素原子であるものが
好ましく、イソプロピルブロマイドが特に好ましい。上
記反応式において、化合物(III)の使用量は、式(I
I)で表される化合物1モルに対して、通常1〜3モ
ル、好ましくは1〜1.5モルの範囲である。
リウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物;水
酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類
金属水酸化物;炭酸カルシウム等のアルカリ金属炭酸
塩;等が挙げられる。これらの中でも、水酸化ナトリウ
ム等のアルカリ金属水酸化物の使用が好ましい。アルカ
リの使用量は、式(II)で表される化合物1モルに対し
て、通常1〜5モル、好ましくは1.5〜3モルの範囲
である。
−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセタミド
等のアミド類;メタノール、エタノール、プロパノール
等のアルコール類;水−トルエン、水−キシレン、水−
ベンゼン等の2相系混合溶媒;等が挙げられる。溶媒の
使用量は、式(II)で表される化合物1gに対して、通
常、0.1〜10mlの範囲である。
れる化合物のアルカリ塩の溶液中に、化合物(III)を
添加する方法が挙げられる。化合物(III)を添加する
方法としては特に制限はないが、例えば、化合物(II
I)の一定量を反応液に連続的に滴下する方法や、化合
物(III)を少量ずつを数回に分けて添加する方法等が
挙げられる。反応は、通常、室温から溶媒の沸点までの
温度範囲、好ましくは45〜80℃の温度範囲で行わ
れ、通常、1〜25時間程度で終了する。
液中には、通常、目的物である式(I)で表される化合
物の他に、未反応の式(II)で表される化合物、未反応の
式(III)で表される化合物及び副生成物であるジ置換ヒ
ドロキシジフェニルスルホン等が不純物として含まれて
いる。したがって、目的物を得るためには、反応混合物
からこれらの不純物を分離する工程、すなわち反応混合
物を精製する必要がある。
れる化合物を含む混合物の水溶液の水層のpHを所定値
(P1)に調整して有機溶媒で抽出後、有機層と水層と
に分液する工程(分液工程)と、分液した有機層に水又
は一定のpH値に調整された水を加え、水層のpHを所
定値(P2)に調整して有機層を分取する工程(分取工
程)とを有することを特徴とする。
水層のpHを所定値(P1)に調整して有機溶媒で抽出
後、有機層と水層とに分液する。
去する。化合物(III)を除去する方法としては特に制
限はなく、公知の方法が採用できる。例えば、(i)反応
混合物を加熱し、化合物(III)を留去する方法や、(i
i)反応混合物にベンゼンやトルエン等の抽出溶媒を添加
して溶媒抽出により除去する方法等が挙げられるが、
(i)の方法が簡便である。
減圧下で行うこともできる。減圧下で行う場合には、よ
り低温で留去することができ、化合物(III)の分解を
抑制することができる。また、(i)の方法においては、
化合物(III)を溶媒とともに共沸留去させることもで
きる。この場合には、反応混合物に溶媒を適当量加えて
から行うのが好ましい。なお、化合物(III)の除去
は、該化合物の分解を最小限に抑える観点から反応終了
後できるだけ速やかに行うのが好ましい。また、回収し
た化合物(III)は、再度反応に供することができる。
及び所望により水及び/又はアルカリ(水)を加えて、
反応混合物を有機層と水層との2相系溶液とする。前記
非水混和性溶媒としては、水と混和しない有機溶媒であ
れば特に制限されないが、トルエン、キシレン、ベンゼ
ン等の芳香族炭化水素等の使用が好ましい。
を有しないジ置換ヒドロキシジフェニルスルホンを有機
層側へ、目的物を水層側へ分離することができる。この
分液操作は目的物及び不純物等の晶析を防止する観点か
ら、晶析温度以上の温度、通常70〜90℃の温度範囲
で行うのが好ましい。また、用いられる非水混和性有機
溶媒の使用量は、通常、原料として用いた式(II)で表さ
れる化合物1gに対して、0.5〜5mlの範囲であ
る。
し、得られた水層に非水混和性有機溶媒及び所望により
水を加えて有機層と水層との2相系溶液とし、水層のp
Hを所定値(P1)に調整する。pHを所定値(P1)
に調整することにより、目的物を有機層側へ、BPS等
の不純物をアルカリ水層側へ分離することができる。p
H値の調整は、通常、水層に酸又はアルカリを添加する
ことにより行なうことができる。
を、アルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等をそれぞれ用いることができる。アルカリを用い
る場合には、水溶液で添加しても良い。また、酸又はア
ルカリは、急激なpH変化を防止し、精密なpH調整を
行なう観点から混合物全体を十分に撹拌しながら少量ず
つ添加するのが好ましい。
ましくは8.3〜8.7の範囲である。また、この場合
においては、目的物及び不純物等の晶析を防止する観点
から、非水混和性有機溶媒及び水を必要に応じて反応液
に添加し、分離操作を晶析温度以上の温度、通常70〜
90℃の温度範囲に維持しながら行うのが好ましい。
れた水を加え、水層のpHを所定値(P2)に調整して
有機層を分取する。上記水層を除いて得られた有機層
に、水及び必要に応じて非混和性有機溶媒を加えて再度
2相系溶液とし、水層のpHを所定値(P2)に調整す
る。特に、反応混合物の濃度が高い場合等においては、
有機層と水層との界面付近に、式(I)で表される化合
物と式(II)で表される化合物等が完全に分離しないので
第2の有機層を形成することがある。この場合には、完
全に水層として分離した部分を除去し、有機層と第2の
有機層とを分取して、そこへ、水及び所望により非水混
和性有機溶媒を添加して2相系溶液とする。
の操作と同様にして行うことができる。水層のpHを所
定値(P2)に調整することにより、有機層中に含まれ
る不純物を水層へ除去することができる。また、pH値
(P2)は、P1と同じ設定値とすることもできるが、
目的物と式(II)で表される化合物とを完全に分離するた
めには、1回目のpH値と微妙に変化させて行なうのが
好ましく、P1をP2よりも低い値に設定するのがより
好ましく、P1は8.4〜8.7の範囲に設定し、P2
は8.3〜8.6の範囲に設定するのがさらに好まし
い。また、2相系溶液として水層のpH値を調整して有
機層を分取する一連の操作の回数は、必要に応じてさら
に繰り返し行うこともできる。
において、水層のpHを所定値(P1及びP2)に調整
し、有機層を分取する一連の操作を2回以上繰り返すこ
とにより、反応混合物からきわめて高純度の式(I)で
表される化合物を単離することができる。
溶液から有機層を分取し、必要に応じて水洗を行なっ
て、得られた有機層を冷却して晶析させ、析出結晶をろ
取し、水洗及び乾燥することにより、目的物を得ること
ができる。
する。本発明は下記の実施例に限定されることなく、本
発明の主旨を逸脱しない範囲で、化合物(II)、化合物
(III)、溶媒の種類等を自由に変更することができ
る。(実施例)4−イソプロポキシ−4’−ヒドロキシ
ジフェニルスルホンの製造
ン450g、48%水酸化ナトリウム水溶液255ml
及び水120mlを反応槽に仕込み、撹拌しながら75
℃に昇温させて全容を均一な溶液とした。得られた溶液
に、イソプロピルブロマイド225gを55±3℃でゆ
っくりと滴下し、滴下終了後さらに55±5℃で、滴下
開始からトータルで20時間撹拌を継続して反応液Aを
得た。
で1時間加熱して未反応のイソプロピルブロマイドを留
去させた。その後、温水300ml及びトルエン250
mlを80℃で加えて十分に撹拌し、水層を分取した。
を79℃で加え、同温度で30分間撹拌した。さらに、
30%希硫酸を撹拌しながら82℃で少量ずつ1時間か
けて滴下して、反応液の水層のpHが均一に8.4〜
8.7になるように調整した。このものを82℃で30
分間静置した後、トルエン層を分取した。
mlを82℃で加え、30%希硫酸を撹拌しながら82
℃で少量ずつ1時間かけて滴下して、水層のpHが均一
に8.3〜8.6になるように調整した。このものを8
2℃で30分間静置した後、トルエン層を分取した。次
に、このトルエン層にトルエン250ml及び水250
mlを82℃で加え、同温度で2時間撹拌した後、82
℃で30分間静置して、トルエン層を分取した。
り、結晶を晶析させ、析出結晶をろ取し、トルエンで洗
浄、乾燥することにより、目的とする4−イソプロポキ
シ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホンの粉末36
8.0gを得た(収率70%)。このものの純度を液体
クロマトグラフィーで分析したところ、4−イソプロポ
キシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホン:99.8
3重量%、BPS:0.01重量%であった。
ドロキシジフェニルスルホンの製造 4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン450g、
48%水酸化ナトリウム水溶液255ml及び水120
mlを反応槽に仕込み、実施例1と同じ条件で反応させ
て反応液Bを得た。
え、80℃で1時間加熱して、未反応のイソプロピルブ
ロマイドを蒸発留去させた。その後、温水300ml及
びトルエン250mlを80℃で加えて十分に撹拌し、
水層を分取した。得られた水層にトルエン1100ml
及び水200mlを79℃で加え、同温度で30分間撹
拌した。さらに、30%希硫酸を撹拌しながら82℃で
少量ずつ1時間かけて滴下して、水層のpHが均一に
8.4〜8.7になるように調整した。このものを82
℃で30分間静置した後、トルエン層を分取した。次
に、このトルエン層にトルエン250ml及び水250
mlを82℃で加え、同温度で2時間撹拌した後、82
℃で30分間静置して、トルエン層を分取した。
り、結晶を晶析させ、析出結晶をろ取し、トルエンで洗
浄、乾燥することにより、目的とする4−イソプロポキ
シ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホンの粉末36
8.0gを得た(収率70%)。このものの純度を液体
クロマトグラフィーで分析したところ、4−イソプロポ
キシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホン:98.4
重量%、BPS:1.5重量%であった。
目的物及び不純物を高濃度で含有する混合物から、高純
度の目的物を効率よく単離できるモノ置換ジヒドロキシ
ジフェニルスルホンの製造方法が提供される。また、B
PSと式(2):R−X(式中、R、Xは前記と同じ意
味を表す。)で表される化合物とを、溶媒中、塩基存在
下に反応させて得られる反応物を精製の対象とする場合
には、従来の製造ラインに何ら変更を加えることなく、
2相系溶液の水層のpH調整と有機層の分取からなる操
作を追加するだけでよい。
Claims (7)
- 【請求項1】式(I) 【化1】 (式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、ハロゲン
原子、C1〜C8アルキル基又はC2〜C8アルケニル
基を表し、m及びnは、それぞれ独立して0又は1〜4
の整数を表し、R3は、C1〜C8アルキル基、C2〜
C8アルケニル基、C3〜C8シクロアルキル基又は置
換基を有してもよいアラルキル基を表す。)で表される
化合物を含む水溶液のpHを所定値(P1)に調整して
有機溶媒で抽出後、有機層と水層とに分液する工程と、
分液した有機層に水又は一定のpH値に調整された水を
加え、水層のpHを所定値(P2)に調整して有機層を
分取する工程とを有することを特徴とする式(I)で表
される化合物の製造方法。 - 【請求項2】前記式(I)で表される化合物を含む水溶
液のpHを所定値(P1)に調整して有機溶媒で抽出
後、有機層と水層とに分液する工程が、前記式(I)で
表される化合物を含む混合物の水及び水非混和性有機溶
媒からなる2相系溶液の水層のpHを所定値(P1)に
調整して、有機層を分液する工程であることを特徴とす
る請求項1記載の式(I)で表される化合物の製造方
法。 - 【請求項3】前記P2を前記P1と異なる値に設定する
請求項1又は2に記載の式(I)で表される化合物の製
造方法。 - 【請求項4】前記P1を前記P2よりも低い値に設定す
ることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の式
(I)で表される化合物の製造方法。 - 【請求項5】前記P1を8.4〜8.7の範囲に、前記
P2を8.3〜8.6の範囲にそれぞれ設定することを
特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の式(I)で
表される化合物の製造方法。 - 【請求項6】前記式(I)で表される化合物を含む水溶
液が、式(II) 【化2】 (式中、R1及びR2は、それぞれ独立して、ハロゲン
原子、C1〜C8アルキル基又はC2〜C8アルケニル
基を表し、m及びnは、それぞれ独立して0又は1〜4
の整数を表す。)で表される化合物と、式(III) 【化3】 (式中、R3はC1〜C8アルキル基、C2〜C8アル
ケニル基、C3〜C8シクロアルキル基又は置換基を有
してもよいアラルキル基を表し、Xはハロゲン原子を表
す。)で表される化合物とを、溶媒中、塩基存在下に反
応させて得られる反応物を含む水溶液であることを特徴
とする請求項1〜5のいずれかに記載の式(I)で表さ
れる化合物の製造方法。 - 【請求項7】前記式(I)で表される化合物が、式(IV) 【化4】 (式中、R3は、C1〜C8アルキル基、C2〜C9ア
ルケニル基、C3〜C8シクロアルキル基又は置換基を
有してもよいアラルキル基を表す。)で表される化合物
であることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載
の式(I)で表される化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002078115A JP4219606B2 (ja) | 2001-03-23 | 2002-03-20 | モノ置換ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001-84218 | 2001-03-23 | ||
JP2001084218 | 2001-03-23 | ||
JP2002078115A JP4219606B2 (ja) | 2001-03-23 | 2002-03-20 | モノ置換ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002348274A true JP2002348274A (ja) | 2002-12-04 |
JP4219606B2 JP4219606B2 (ja) | 2009-02-04 |
Family
ID=26611869
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002078115A Expired - Fee Related JP4219606B2 (ja) | 2001-03-23 | 2002-03-20 | モノ置換ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4219606B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015017077A (ja) * | 2013-07-12 | 2015-01-29 | 昭和電工株式会社 | 尿素化合物の製造方法 |
-
2002
- 2002-03-20 JP JP2002078115A patent/JP4219606B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015017077A (ja) * | 2013-07-12 | 2015-01-29 | 昭和電工株式会社 | 尿素化合物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4219606B2 (ja) | 2009-02-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH09255609A (ja) | 9,9−ビス(4−(2−ヒドロキシエトキシ)フ ェニル)フルオレンの製造方法 | |
JP2002348274A (ja) | モノ置換ジヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 | |
JP2000273081A (ja) | ジフェニルスルホン化合物の工業的製造方法 | |
JP3169574B2 (ja) | 4−ヒドロキシ−4’−ベンジルオキシジフェニルスルホンの製造方法 | |
JP4219593B2 (ja) | 4−置換ヒドロキシ−4’−ヒドロキシジフェニルスルホンの製造方法 | |
JP4807690B2 (ja) | ジフェニルスルホン化合物の製造方法 | |
JP3042122B2 (ja) | N−シアノアセトアミジン誘導体の製造方法 | |
JP2928856B2 (ja) | ビス(4―アリルオキシ―3,5―ジブロモフェニル)スルホンの製造を行う方法 | |
JP2853244B2 (ja) | ビス[3,5―ジブロモ―4―(ジブロモプロポキシ)フェニル]スルホンの製法 | |
JP4508377B2 (ja) | スルホニル化合物の製造方法 | |
JP3001626B2 (ja) | 2―クロロプロピオンアルデヒド三量体およびその製造方法 | |
JPH0621092B2 (ja) | 4−ベンジルオキシフエノ−ルの製造方法 | |
JP2874963B2 (ja) | アリルブロミド類の製造法 | |
JP2752877B2 (ja) | ヒドロキシナフトエ酸類のエーテルエステル体の製法 | |
JP2004149440A (ja) | ベンジルカルバゼート化合物の製造法 | |
JP2553075B2 (ja) | シクロゲラニルフエニルスルホンの製造方法 | |
JPH10114729A (ja) | アミノフェノールの製造 | |
JP3174968B2 (ja) | 2−ハロゲノ−6−置換チオベンゾニトリル類の製造法 | |
JPS622579B2 (ja) | ||
EP0064091A1 (en) | Production of hydrocarbylthioaldoxime in aqueous methanol solvent | |
JP2001226318A (ja) | 2−フルオロイソ酪酸又はそのエステルの製造方法 | |
EP4048657A1 (en) | Processes for making tetrazolinone compounds | |
JPH04182440A (ja) | 3,5―ジフルオロ―1―ブロモベンゼンの製造方法 | |
CN117327008A (zh) | 多替拉韦中间体的绿色合成工艺 | |
JP2001199925A (ja) | 3,3’−ジフルオロ−4,4’−ジメトキシ−ベンゾフェノンの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050114 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080805 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081006 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20081104 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20081112 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111121 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4219606 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111121 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121121 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121121 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131121 Year of fee payment: 5 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |