JP2003073679A - ガスハイドレートスラリー脱水装置 - Google Patents

ガスハイドレートスラリー脱水装置

Info

Publication number
JP2003073679A
JP2003073679A JP2001264911A JP2001264911A JP2003073679A JP 2003073679 A JP2003073679 A JP 2003073679A JP 2001264911 A JP2001264911 A JP 2001264911A JP 2001264911 A JP2001264911 A JP 2001264911A JP 2003073679 A JP2003073679 A JP 2003073679A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas hydrate
slurry
water
raw material
dehydrator
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001264911A
Other languages
English (en)
Other versions
JP5106727B2 (ja
Inventor
Takahiro Kimura
隆宏 木村
Shojiro Iwasaki
省二郎 岩崎
Katsuo Ito
勝夫 伊東
Yuichi Kondo
雄一 近藤
Kozo Yoshikawa
孝三 吉川
Hirotsugu Nagayasu
弘貢 長安
Haruhiko Ema
晴彦 江間
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP2001264911A priority Critical patent/JP5106727B2/ja
Publication of JP2003073679A publication Critical patent/JP2003073679A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5106727B2 publication Critical patent/JP5106727B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Filtration Of Liquid (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 連続的に効率よく脱水して含水率の低いガス
ハイドレートとし、その貯蔵や輸送にかかるコストを削
減するのに適したガスハイドレートスラリー脱水装置を
提供する。 【解決手段】 原料スラリーの供給を受ける原料スラリ
ー導入口40b、分離した回収水を排出する回収水排出
口40e及び回収したガスハイドレートを取り出すハイ
ドレート排出口40fを備えた容器本体40と、該容器
本体40の内部に設けた筒形スクリーン状のろ材40c
と、該ろ材40cの内部に設置されて回転するスクリュ
ー部41と、該スクリュー部41の駆動部42とを具備
してなるスクリュープレス型脱水機12Aとした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、たとえば天然ガス
のような原料ガスと水とを接触させて生成したガスハイ
ドレート(水和物)が含んでいる水分を除去するガスハ
イドレートスラリー除去装置に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、メタン等の炭化水素を主成分とす
る天然ガスを貯蔵・輸送する方法としては、ガス田から
天然ガスを採取したあと液化温度まで冷却し、液化天然
ガス(LNG)とした状態で貯蔵・輸送する方法が一般
的である。しかしながら、たとえば液化天然ガスの主成
分であるメタンの場合、液化させるには−162℃とい
った極低温条件が必要であり、こうした条件を維持しな
がら貯蔵・輸送を行うためには、専用の貯蔵装置やLN
G輸送船といった専用の輸送手段が必要となる。こうし
た装置等の製造および維持・管理には非常に高いコスト
を要するため、上記方法に代わる低コストの貯蔵・輸送
方法が鋭意研究されてきた。
【0003】こうした研究の結果、天然ガスを水和させ
て固体状態の水和物(以下「天然ガスハイドレート」と
する)を生成し、この固体状態のまま貯蔵・輸送すると
いう方法が見出され、近年特に有望視されている。この
方法では、LNGを取扱う場合のような極低温条件は必
要とされず、また固体とするためその取扱いも比較的容
易である。このため、既存の冷凍装置あるいは既存のコ
ンテナ船を若干改良したものを各々貯蔵装置あるいは輸
送手段として利用可能となり、従って、大幅な低コスト
化が図れるものとして期待が寄せられている。
【0004】この天然ガスハイドレートとは、包接化合
物(クラスレート化合物)の一種であって、複数の水分
子(H2O )により形成された立体かご型の包接格子
(クラスレート)の中に、天然ガスの各成分を構成する
分子、すなわちメタン(CH4)、エタン(C26)、
プロパン(C38)等が入り込み包接された結晶構造を
なすものである。クラスレートに包接された天然ガス構
成分子どうしの分子間距離は、天然ガスが高圧充填され
た場合のガスボンベ中における分子間距離よりも短くな
る。これは、天然ガスが緊密充填された固体を生成し得
ることを意味し、たとえばメタンの水和物が安定に存在
し得る条件下、すなわち−30℃・大気圧(1kg/c
2 )においては、気体状態と比較して約1/170の
体積とすることができる。このように、天然ガスハイド
レートは比較的容易に得られる温度・圧力条件下におい
て製造可能で、かつ安定した保存が可能なものである。
【0005】この方法において、ガス田から産出された
天然ガスは、酸性ガス除去工程において二酸化炭素(C
2 )や硫化水素(H2S )等の酸性ガスを除去され、
低温・高圧状態にしていったんガス貯蔵部に貯蔵された
後、生成工程において水和される。この天然ガスハイド
レートは水が混在するスラリー状(以下「原料スラリ
ー」とする)であり、続く脱水工程において、原料スラ
リーに混在している未反応の水が除去され、さらに冷却
工程および減圧工程を経て固体となったものがコンテナ
等の容器に封入され、貯蔵装置内において所定の温度・
圧力に調整された状態で貯蔵される。
【0006】輸送時には、この容器のままコンテナ船等
の輸送手段に積み込まれ、目的地まで輸送される。目的
地での陸揚げ後、天然ガスハイドレートは分解工程を経
て天然ガスの状態に戻され、各供給地へと送られる。な
お、上述した天然ガスハイドレートの他にも、原料ガス
を代えることによって、種々のガスハイドレートを生成
することができる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来のガスハイドレートの生成から輸送までのプロセスに
おいては、下記のような解決すべき問題を有している。
すなわち、ガスハイドレートの生成プラントでは、生成
直後のガスハイドレートが多量の水を含んだスラリー状
であるため、このガスハイドレートをそのままあるいは
冷凍して貯蔵及び輸送をすれば、水(氷)の分だけ容積
や重量が増すため、貯蔵や輸送にかかるコストは膨大な
ものとなってしまう。換言すれば、多量の水を含むスラ
リー状ガスハイドレート(原料スラリー)を冷却すれ
ば、最終製品となるガスハイドレート固体として輸送す
る場合のガス密度が低くなり、余分な水(氷)も同時に
輸送することとなって輸送効率上好ましくない。特に天
然ガスハイドレートの場合には、大気圧下で天然ガスハ
イドレートを貯蔵及び輸送しようとすれば、共存する水
を0℃以下とする必要が生じるため、冷却の際に水を氷
とするために多大なエネルギーが必要となる。なお、ス
ラリー状のガスハイドレートに過剰の水が存在する場合
には、ガスハイドレートと水とを分離するのは困難であ
ることが知られている。
【0008】このような背景から、生成したガスハイド
レートの原料スラリーから効率よく水を除去(脱水)す
ることが求められ、これを容易に実現するガスハイドレ
ートスラリー脱水装置の開発が望まれている。本発明は
上記の事情に鑑みてなされたものであり、連続的に効率
よく脱水して含水率の低いガスハイドレートとし、最終
製品となる固体のガスハイドレートを貯蔵及び輸送する
のにかかるコストを削減するのに適したガスハイドレー
トスラリー脱水装置の提供を目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するため、以下の手段を採用した。請求項1に記載の
ガスハイドレートスラリー脱水装置は、水を含むガスハ
イドレートの原料スラリーから水分を除去するガスハイ
ドレートスラリー脱水装置であって、前記原料スラリー
の供給を受ける原料スラリー導入口、分離した回収水を
排出する回収水排出口及び回収したガスハイドレートを
取り出すハイドレート排出口を備えた容器本体と、該容
器本体の内部に設けた筒形スクリーン状のろ材と、該ろ
材の内部に設置されて回転するスクリュー部と、該スク
リュー部の駆動手段とを具備してなるスクリュープレス
型の脱水機としたことを特徴とするものである。
【0010】このようなガスハイドレートスラリー脱水
装置とすれば、スクリュープレス型の脱水機としたこと
によって、物理脱水を連続して容易に実施することが可
能になる。
【0011】請求項2に記載のガスハイドレートスラリ
ー脱水装置は、請求項1記載のガスハイドレートスラリ
ー脱水装置において、前記スクリュー部の軸内に冷却媒
体を循環させることを特徴としている。このようなガス
ハイドレートスラリー脱水装置によれば、スクリュー部
の軸内に冷却媒体を循環させるようにしたので、スクリ
ュー部とろ材との間で発生する摩擦熱を冷却により除去
し、ガスハイドレートの分解を抑制することができる。
なお、好適な冷却媒体としては、冷媒や冷水などがあ
る。
【0012】請求項3に記載のガスハイドレードスラリ
ー脱水装置は、請求項1または2記載のガスハイドレー
トスラリー脱水装置において、前記ろ材の外周部に冷却
媒体を流すことを特徴としている。このようなガスハイ
ドレートスラリー脱水装置によれば、ろ材の外周部に冷
却媒体を流すようにしたので、スクリュー部とろ材との
間で発生する摩擦熱を冷却により除去し、ガスハイドレ
ートの分解を抑制することができる。なお、好適な冷却
媒体としては、冷媒や冷水などがある。
【0013】請求項4に記載のガスハイドレートスラリ
ー脱水装置は、請求項3記載のガスハイドレートスラリ
ー脱水装置において、前記冷却媒体が前記ハイドレート
出口側に流されることを特徴としている。このようなガ
スハイドレートスラリー脱水装置によれば、摩擦熱が最
も発生しやすいハイドレート出口側を効率よく冷却する
ことができる。
【0014】請求項5に記載のガスハイドレートスラリ
ー脱水装置は、請求項3または4記載のガスハイドレー
トスラリー脱水装置において、前記回収水排出口から回
収した回収水を前記冷却媒体として使用することを特徴
としている。このようなガスハイドレートスラリー脱水
装置によれば、冷却媒体として回収水を有効に利用して
冷却を行うことができる。
【0015】請求項6に記載のガスハイドレートスラリ
ー脱水装置は、請求項1から4のいずれかに記載のガス
ハイドレートスラリー脱水装置において、前記回収水排
出口から回収した回収水の一部を前記原料スラリー導入
口へ戻すことを特徴としている。このようなガスハイド
レートスラリー脱水装置によれば、回収した回収水の一
部を原料スラリー導入口へ戻すようにしたので、ガスハ
イドレートの回収率を高くすることができる。
【0016】請求項7に記載のガスハイドレートスラリ
ー脱水装置は、請求項1から4のいずれかに記載のガス
ハイドレートスラリー脱水装置において、前記回収水を
前記スクリュー部の搬送方向へ複数段階に分割して回収
することを特徴としている。このようなガスハイドレー
トスラリー脱水装置によれば、スクリュー部の搬送方向
へ複数段に分割して回収水を回収するようにしたので、
ガスハイドレートスラリーのリーク量が少ない上流側
(原料スラリー導入口側)のろ過部と、リーク量が多い
下流側(ハイドレート排出口側)の脱水部とに分割し
て、ガスハイドレート濃度が異なる回収水に分別して回
収することができる。
【0017】請求項8に記載のガスハイドレートスラリ
ー脱水装置は、請求項7記載のガスハイドレートスラリ
ー脱水装置において、濃度の濃い回収水を前記原料スラ
リー導入口へ戻すことを特徴としている。このようなガ
スハイドレートスラリー脱水装置によれば、高濃度の回
収水を原料スラリー導入口へ戻すことによって、ガスハ
イドレートの回収率を上げることができる。
【0018】請求項9に記載のガスハイドレートスラリ
ー脱水装置は、請求項8記載のガスハイドレートスラリ
ー脱水装置において、前記原料スラリー導入口へ戻す濃
度の濃い回収水の一部を請求項3または4記載の冷却媒
体として使用することを特徴としている。このようなガ
スハイドレートスラリー脱水装置によれば、ガスハイド
レートの回収率を向上させながら冷却を行うことができ
る。
【0019】請求項10に記載のガスハイドレートスラ
リー脱水装置は、請求項7記載のガスハイドレートスラ
リー回収装置において、濃度の濃い回収水を前記原料ス
ラリー導入口へ戻し、濃度の薄い回収水を請求項3また
は4記載の冷却媒体として使用することを特徴としてい
る。このようなガスハイドレートスラリー脱水装置によ
れば、高濃度の回収水を原料スラリー導入口へ戻すこと
で回収率を上げ、低濃度の回収水については冷却媒体と
して有効利用することができる。
【0020】請求項11に記載のガスハイドレートスラ
リー脱水装置は、請求項1から10のいずれかに記載の
ガスハイドレートスラリー脱水装置において、前記容器
本体内に原料ガスを供給して生成容器内と同等のガス組
成とし、かつ、前記容器本体の内部温度をハイドレート
生成温度領域に維持することを特徴としている。このよ
うなガスハイドレードスラリー脱水装置によれば、容器
本体内に原料ガスを供給して生成容器内と同等のガス組
成とし、かつ、容器本体の内部温度をハイドレート生成
温度領域に維持するようにしたので、物理脱水を行って
も残っている残存水をハイドレート化する水和脱水によ
って含水率を下げることができる。なお、スクリュープ
レス型の圧縮脱水により、局部的に内部圧力より外周部
の圧力が高くなるので、特にハイドレート排出口に近い
領域で圧力が高くなってガスハイドレートを生成しやす
くなる。
【0021】請求項12に記載のガスハイドレートスラ
リー脱水装置は、請求項11記載のガスハイドレートス
ラリー脱水装置において、前記容器本体内の原料ガス組
成中ハイドレート化しやすい成分の濃度を生成容器内よ
り高く設定したことを特徴としている。このようなガス
ハイドレートスラリー脱水装置によれば、容器本体内が
生成容器内よりガスハイドレートを生成しやすい環境と
なり、物理脱水に加えて水和脱水も行われるので、より
一層の含水率低下を期待できる。
【0022】請求項13に記載のガスハイドレートスラ
リー脱水装置は、請求項11または12記載のガスハイ
ドレートスラリー脱水装置において、前記容器本体内の
ガスの一部を、連続的にあるいは間欠的にパージするこ
とを特徴としている。このようなガスハイドレートスラ
リー脱水装置によれば、ガスハイドレート化しない、も
しくはしにくいガスが蓄積して濃度が上昇しすぎるのを
防止し、容器本体内を適切なガス組成に保つことができ
る。
【0023】請求項14に記載のガスハイドレートスラ
リー脱水装置は、請求項1から13のいずれかに記載の
ガスハイドレートスラリー脱水装置において、原料スラ
リー導入口の近傍にろ過手段を設けることを特徴として
いる。このようなガスハイドレートスラリー脱水装置に
よれば、低濃度の原料スラリーから水分を分離して回収
率を向上させることができる。
【0024】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係るガスハイドレ
ートスラリー脱水装置の一実施形態を図面に基づいて説
明する。なお、以下の実施形態では、ガスハイドレート
として、天然ガスを原料とする天然ガスハイドレートを
例に示して説明する。 <第1の実施形態>最初に、本発明に係る第1の実施形
態を図1ないし図3に示して説明する。図1は本発明に
係る天然ガスハイドレートの生成システムのプロセスを
示すブロック図である。図において、符号1は天然ガス
と水とを氷点よりも高温かつ大気圧よりも高圧下で反応
させて天然ガスハイドレートを生成する生成手段、2は
生成された天然ガスハイドレートを物理的に脱水する物
理脱水手段、3は脱水の過程もしくは脱水後において天
然ガスハイドレートに含まれる残存水分を天然ガスと反
応させて天然ガスハイドレートを生成する水和脱水手
段、4は生成された天然ガスハイドレートを冷却する冷
却手段、5は冷却された天然ガスハイドレートを大気圧
まで減圧する減圧手段、6は天然ガスハイドレートを成
形固化する成形手段である。
【0025】当該生成システムの具体的な装置構成を図
2に示す。図において、11は生成手段1を構成する生
成装置、12は物理脱水手段2を構成するガスハイドレ
ートスラリー脱水装置としてのスクリュープレス型脱水
装置、13は水和脱水手段3を構成する2軸スクリュー
型脱水装置、14は冷却手段4を構成するスクリューコ
ンベア型冷却装置、15は減圧手段5を構成するバルブ
切替型減圧装置、16は成形手段6を構成する加圧プレ
ス型成形装置(ガスハイドレート成形装置)である。ま
た、符号17は原料である水を貯蔵する貯水槽、18は
同じく原料である天然ガスを産出するガス田、19はガ
ス田18から産出された天然ガスを貯蔵するガス貯蔵部
である。
【0026】生成装置11は密閉された圧力容器20を
有している。圧力容器20には水配管21を介して貯水
槽17が接続されており、圧力容器20の内部には、水
配管21を通じて貯水槽17の水が供給されることによ
って水相Lが形成されている。また、水配管21には給
水ポンプ22およびバルブ23が設けられており、水相
Lが所定の水位を保つように制御される。
【0027】また、圧力容器20にはガス配管24を介
してガス貯蔵部19が接続されている。ガス貯蔵部19
には、ガス田18から産出された天然ガスが、酸性ガス
および重質成分の除去の工程を経た後、圧縮機等により
低温・高圧の状態にされて貯蔵されている。圧力容器2
0の内部には、ガス貯蔵部19に貯蔵された天然ガスが
ガス配管24を通じて供給されることによって気相Gが
形成されている。
【0028】さらに、圧力容器20には気相Gの圧力を
計測する圧力計25が設けられ、ガス配管にはバルブ2
6および流量調節弁27が設けられており、流量調節弁
27の開度は、圧力計25の計測値に基づき圧力容器2
0内部に天然ガスを補充して気相Gの圧力をガスハイド
レートの生成圧力(例えば40atm)に保つように制
御される。
【0029】圧力容器20の内部には、水相Lの温度を
氷点よりも高温であってガスハイドレートの生成温度
(例えば5℃前後)よりも低温(これの状態を「過冷
却」と定義する)に保つ冷却装置28が設けられてい
る。冷却装置28によって過冷却の状態を保つのは、天
然ガスハイドレートが生成する過程で発生する水和熱を
回収し、生成装置11の内部を常に生成温度に保つため
である。なお、冷却装置28には、水相Lを直接冷却す
る冷却コイルやラジエタ、圧力容器20を包んで容器全
体を冷却する冷却ジャケットを採用するのが好ましい。
【0030】圧力容器20には、底部と頂部とを繋ぐ水
配管30が接続されている。水配管30には、フィルタ
31、バルブ32、水循環ポンプ33、熱交換器34お
よびバルブ35が設けられている。また、圧力容器20
の頂部から内側に突き出した水配管30の端部には、ス
プレーノズル36が設けられている。
【0031】水相Lの液面に近い圧力容器20の側面に
は、液面に生成されたスラリー状の天然ガスハイドレー
トを抜き出すスラリー抜出口20aが設けられている。
このスラリー抜出口20aはスラリー配管37を介して
スクリュープレス型脱水装置12に接続されている。ス
ラリー配管37には、バルブ38およびスラリー抜出ポ
ンプ39が設けられており、水相Lの液面に生成された
天然ガスハイドレートを抜き出してスクリュープレス型
脱水装置12に供給するようになっている。
【0032】スクリュープレス型脱水装置12は、円筒
形の内部空間40aを有する容器本体40と、容器本体
40の内部に設けられた筒形スクリーン(メッシュ)状
のろ材40cと、側面に螺旋状の突条部41aを有し内
部空間40aに配置された軸体であるスクリュー部41
と、このスクリュー部41を駆動する電動機等の駆動部
42とを備えている。容器本体40の先端(上流側)に
は、生成装置11においてスラリー状に生成された天然
ガスハイドレート(原料スラリー)を上方から内部空間
40aに取り入れる原料スラリー導入口40bが設けら
れている。原料スラリー導入口40bには、上述したス
ラリー配管37が接続されている。容器本体40は、内
部空間40aを形成するろ材(内壁)40cと外殻を構
成する筐体40dとの二重構造になっており、ろ材40
cはメッシュ加工され、筐体40dの下部には脱水して
内部に溜まった回収水を排出する回収水排水口40eが
設けられている。
【0033】スクリュー部41は、突条部41aの回転
外周面を内部空間40aの内面、すなわちろ材40cに
近接させて配置されるとともに、自らの軸線を中心とし
て所定方向に回転可能に支持されており、軸端に連結さ
れた駆動部42によって回転駆動される。容器本体40
の終端(下流側)には、スクリュー部41の回転によっ
て搬送されてきた天然ガスハイドレートを取り出すハイ
ドレート排出口40fが設けられている。ハイドレート
排出口40fはハイドレート配管43を介して後段の2
軸スクリュー型脱水装置13に接続されている。
【0034】以下では、上述したスクリュープレス型脱
水装置(ガスハイドレートスラリー脱水装置)12につ
いて、本発明の特徴的な構成を詳述する。図3に示すス
クリュープレス型脱水装置12Aは、ろ材40c内で原
料スラリーをスクリュー部41により連続的に圧縮し、
水のみをろ材40cの外側に搾り出すことにより、脱水
を行う。同時に原料スラリーは該スクリュー部41によ
りろ材40c内を前進し、ハイドレート排出口40fよ
り固形分(ガスハイドレート)として連続的に排出され
る。従って、原料スラリーから連続的にかつ効率よくガ
スハイドレートを回収できるようになるので、天然ガス
ハイドレートの回収率を向上させることができる。
【0035】上述したスクリュープレス型脱水装置12
(12A)で脱水された天然ガスハイドレートは、2軸
スクリュー型脱水装置13へ送られる。2軸スクリュー
型脱水装置13は、断面が長円形をなす筒形の内部空間
50aを有する容器本体50と、側面に螺旋状の突条部
51a,52aを有し内部空間50aに配置されて個々
に回転しながら天然ガスハイドレートを搬送する2本の
軸体51,52とを備えている。
【0036】容器本体50の先端には、スクリュープレ
ス型脱水装置12において物理的に脱水された天然ガス
ハイドレートを取り入れる取入口50bが設けられてい
る。取入口50bには、上述したハイドレート配管43
が接続されている。軸体51,52は、両者が平行に配
置されるとともに軸方向から見てそれぞれの突条部51
a,52aを重複させて配置されている。さらに、それ
ぞれの突条部51a,52aを内部空間50aの内面に
近接させて配置されるとともに、自らの軸線を中心とし
て回転可能に支持されており、駆動部53によって回転
駆動される。なお、両軸体の回転方向は同方向であって
もよいし、異なる方向であってもよい。
【0037】容器本体50の終端には、軸体51,52
の回転によって搬送されてきたガスハイドレートを取り
出す取出口50cが設けられている。取出口50cには
ハイドレート配管54を介して後段のスクリューコンベ
ア型冷却装置14に接続されている。取出口50cに近
い容器体50の側面には、天然ガスを内部空間50aに
供給するガス供給孔50dが設けられている。ガス供給
孔50dは、ガス配管24から分岐するガス配管55を
介してガス貯蔵部19に接続されている。ガス配管55
にはバルブ56および流量調節弁57が設けられてい
る。
【0038】一方、取入口50bに近い容器体50に
は、内部空間50aの圧力を検出する圧力計58が設置
されており、流量調節弁57の開度は、圧力計58の計
測値に基づき内部空間50aに天然ガスを補充して内部
の圧力を常に生成圧(例えば40atm)に保持するよ
うに制御されている。
【0039】スクリュープレス型脱水装置12および2
軸スクリュー型脱水装置13には、容器本体40,50
の内部を上記過冷却の状態に保持する冷却装置(図示
略)が設けられている。
【0040】スクリューコンベア型冷却装置14は、円
筒形の内部空間60aを有する容器本体60と、側面に
螺旋状の突条部61aを有し内部空間60aに配置され
た軸体61とを備えている。容器本体60の先端には、
2軸スクリュー型脱水装置13において水和脱水された
天然ガスハイドレートを内部空間60aに取り入れる取
入口60bが設けられている。取入口60bには、上述
したハイドレート配管54が接続されている。
【0041】軸体61は、突条部61aを内部空間60
aの内面に近接させて配置されるとともに、自らの軸線
を中心として所定方向に回転可能に支持されており、駆
動部62によって回転駆動される。容器体60の終端に
は、軸体61の回転によって搬送されてきた天然ガスハ
イドレートを取り出す取出口60cが設けられている。
取出口60cはハイドレート配管63を介して後段のバ
ルブ切替型減圧装置15に接続されている。
【0042】容器本体60は、内部空間60aを形成す
る内壁60dと外殻を構成する筐体60eとの二重構造
になっており、取出口60cに近い筐体60eの側面に
は内壁60dとの隙間に冷媒を導入する冷媒入口60f
が設けられ、取入口60bに近い筐体60eの側面には
冷媒を導出する冷媒出口60gが設けられている。容器
本体60には、冷媒入口60fと冷媒出口60gとを繋
ぐ冷媒配管65が接続されており、冷媒配管65には冷
媒循環ポンプ66および熱交換器67が設けられてい
る。冷媒は熱交換器66によって冷却され、冷媒配管6
5を通じて内壁60dと筐体60eとの隙間に流入し、
脱水を終えた天然ガスハイドレートを低気圧下でも分解
しない氷点以下の低温(例えば−10℃〜−15℃)ま
で冷却する。
【0043】バルブ切替型減圧装置15は、ハイドレー
ト配管63に直列に設けられた2つのバルブ71,72
によって構成されている。2つのバルブ71,72は離
間して配置され、後段のバルブ72を経たハイドレート
配管63は大気開放されており、その後段には加圧プレ
ス型成形装置16が設けられている。加圧プレス型成形
装置16は、固定の壁部75と壁部75に接近離間可能
に駆動されるプレート76とを備えている。
【0044】上記のように構成された生成システムによ
る天然ガスハイドレートの生成について説明する。ま
ず、貯水槽17から圧力容器20内に水を導入し水相L
を形成する。同時に、ガス貯蔵部19から圧力容器20
内に天然ガスを導入し、気相Gの圧力をガスハイドレー
トの生成圧力にまで高める。なお、水相Lを形成する水
には、必要であれば安定化剤を添加してもよい。次に、
水相Lの温度を過冷却の状態にまで冷却し、以後はこの
状態が維持されるように温度管理を行う。
【0045】圧力容器20内の温度および圧力の状態が
安定したら、水相Lを形成する水の一部を水配管30を
通じて圧力容器20の底部から抜き出し、熱交換器34
によって上記再度冷却した後、スプレーノズル36から
気相G中に噴霧する。スプレーノズル36から噴霧され
た水粒子は気相G中を漂いながら水相Lに向けて落下す
る。このように気相G中に水の粒子を多量に形成するこ
とにより、気相G中に存在する水の粒子の表面積、すな
わち気相Gを形成する天然ガスとの接触面積が極めて大
きくなる。水粒子の表面では、水と天然ガスとの水和反
応が起こり、天然ガスハイドレートが生成される。な
お、圧力容器20内の温度は氷点よりも高温になるよう
に制御されているので、水相Lを形成する水や噴霧され
た水粒子が凍りつくことはない。
【0046】水粒子の表面で生成された天然ガスハイド
レートはそのまま落下し、水相Lの液面に降り積もり、
天然ガスハイドレートの層を形成する。この天然ガスハ
イドレートはスラリー抜出口20aから抜き出され、ス
ラリー配管37を通じてスクリュープレス型脱水装置1
2に送り込まれる。このとき、天然ガスハイドレートは
水とともに回収されるため、含水率が非常に高いスラリ
ー状となる。
【0047】スラリー配管37を通じてスクリュープレ
ス型脱水装置12Aに送り込まれたスラリー状天然ガス
ハイドレート(原料スラリー)は、スクリーン80によ
って原料スラリー導入口40bから容器本体40の内部
空間40aに落下し、原料スラリー中に含まれている水
分がろ過分離される。このため、低濃度の原料スラリー
はスクリーン80におけるろ過によってその濃度を増し
た後、原料スラリー導入口40bを通じて内部空間40
aに収容される。従って、以後のスクリュー部41によ
る物理脱水の負荷が低減され、低濃度の原料スラリーか
ら効率よくガスハイドレートを回収できるようになり、
天然ガスハイドレートの回収率を向上させることができ
る。なお、天然ガスハイドレートから分離された水分
は、ろ材40cのメッシュを通じて筐体40dの下部に
落下して集められ、回収水排出口40eから排出され
る。
【0048】一方、物理脱水を終えた天然ガスハイドレ
ートは、ハイドレート排出口40fを通じてスクリュー
プレス型脱水装置12から取り出され、ハイドレート配
管43を通じて2軸スクリュー型脱水装置13に送り込
まれる。2軸スクリュー型脱水装置13に送り込まれた
天然ガスハイドレートは、取入口50bを通じて内部空
間50aに収容され、軸体51,52の回転によって軸
方向に搬送される。その過程で残存する水分と内部空間
50aに供給された天然ガスと接触し、これとともに撹
拌されつつ冷却されることによって残存する水分と天然
ガスとを反応させてハイドレート化する。
【0049】内部空間50aに収容された天然ガスハイ
ドレートは、取出口50cに至るころには残存する水分
のほとんどを未水和の天然ガスと水和反応させることで
脱水され、結果的に天然ガスハイドレートそのものの量
を増加させる。水和脱水を終えた天然ガスハイドレート
は、取出口50cを通じて2軸スクリュー型脱水装置1
3から取り出され、ハイドレート配管54を通じてスク
リューコンベア型冷却装置14に送り込まれる。
【0050】スクリューコンベア型冷却装置14に送り
込まれた天然ガスハイドレートは、取入口60bを通じ
て内部空間60aに収容され、軸体61の回転によって
軸方向に搬送され、その過程で容器本体60内部を循環
する冷媒によって冷却される。氷点以下の低温になるま
で冷却された天然ガスハイドレートは、取出口60fを
通じてスクリューコンベア型冷却装置14から取り出さ
れ、ハイドレート配管63を通じてバルブ切替型減圧装
置15に送り込まれる。
【0051】バルブ切替型減圧装置15は上流側のバル
ブ71を開き、下流側のバルブ72を閉じた状態とさ
れ、天然ガスハイドレートを受け入れる。バルブ71,
72間には天然ガスハイドレートが蓄積していくので、
ある程度になったらバルブ71を閉じ、続いてバルブ7
2を開いてバルブ71,72間の天然ガスハイドレート
を大気圧まで減圧する。減圧を終えた天然ガスハイドレ
ートは、バルブ切替型減圧装置15から取り出され、加
圧プレス型成形装置16に送り込まれる。
【0052】加圧プレス型成形装置16に送り込まれた
天然ガスハイドレートは、プレート76によって壁部7
5に押し付けられるようにして成形固化される。成形固
化された天然ガスハイドレートは図示しない専用の輸送
容器に収容され、貯蔵・輸送される。
【0053】上記の生成システムにおいては、天然ガス
と水とを氷点よりも高温、かつ大気圧よりも高圧下で反
応させることで、水を凍らせることなく天然ガスハイド
レートを生成することが可能である。ただし、この天然
ガスハイドレートには多量の水が含まれることになるの
で、生成された天然ガスハイドレートを物理的に脱水
し、さらにこの物理脱水の後に天然ガスハイドレートに
含まれる残存水分を天然ガスと反応させて天然ガスハイ
ドレートを生成することによって天然ガスハイドレート
の含水率を低下させる。
【0054】ここまでの工程はいずれも氷点よりも高
温、かつ大気圧よりも高圧下で実施されるので、生成さ
れた天然ガスハイドレートを大気圧下に取り出すべく、
これを氷点よりも低温にまで冷却し、残存する水(氷)
の中に凍りづけにしたのち減圧し、大気圧下に取り出せ
るようにする。以上の各工程を実施することで、より含
水率の低い天然ガスハイドレートが得られる。
【0055】従って、上記の生成システムによれば、含
水率の低い天然ガスハイドレートを生成してその貯蔵や
輸送にかかるコストを削減することができる。また、減
圧を終えた天然ガスハイドレートを成形固化することに
より、貯蔵や輸送の際の利便性を向上させることができ
る。
【0056】なお、本実施形態においては、物理脱水単
独のスクリュープレス型脱水装置12Aにより脱水した
後に水和脱水を行っているが、物理脱水と同時進行的に
水和脱水を行うようにしても構わない。また、減圧手段
5(バルブ切替型減圧装置15)の後段に成形手段6
(加圧プレス型成形装置16)を設けたが、成形手段6
を設けず、脱水を終えた天然ガスハイドレートをそのま
ま容器に詰めて貯蔵・輸送することも可能である。
【0057】<第2の実施形態>図4に示すスクリュー
プレス型脱水装置12Bでは、スクリュー部41の軸内
に流路(図示省略)を形成して、冷却媒体82を循環さ
せるようにしてある。この冷却媒体82は、スクリュー
部41の下流(ハイドレート排出口40f)側軸端より
軸内を軸方向上流(原料スラリ導入口40b)側へ向か
って流れてから元の下流側軸端へ戻るように循環するこ
とで、スクリュー部41とろ材40cとの間で発生する
摩擦熱を吸収して冷却する。
【0058】すなわち、冷却媒体82は、突条部41a
が回転することによって脱水されていく天然ガスハイド
レート(原料スラリー)と、この天然ガスハイドレート
が旋回しながら前進する過程で摩擦接触するろ材40c
の内壁面との間に発生する摩擦熱を吸収し、この摩擦熱
の影響を受けて、せっかく生成した天然ガスハイドレー
トが分解するような温度まで上昇するのを防止する。こ
のような摩擦熱は、天然ガスハイドレートの脱水が進ん
で含水率の低下した下流側ほど大きくなる傾向にあるの
で、冷却媒体82の循環は必ずしも軸全体にわたる必要
はない。なお、好適な冷却媒体82としては、たとえば
フロンガスのような冷媒や冷水などがあり、また、上述
した第1実施例と組合せた構成も可能である。
【0059】このようなスクリュープレス型脱水装置1
2Bでは、脱水が進んで含水率の低下した天然ガスハイ
ドレートが、摩擦熱による温度上昇の影響を受けて分解
するのを防止または抑制することができるので、天然ガ
スハイドレートの回収率向上に有効である。
【0060】<第3の実施形態>図5に示すスクリュー
プレス型脱水装置12Cは、上述した第2実施例の摩擦
熱冷却に係る変形例であり、ろ材40cの外周側に冷却
媒体を流す構成が異なっている。図示の例では、スクリ
ュー部41の下流側上部に冷却ノズル83を配置して、
ろ材40cの上方から冷水84(あるいは冷媒)などの
冷却媒体を放出している。こうして放出された冷却媒体
は、ろ材40cの外周面に沿って流下するので、スクリ
ュー部41とろ材40cとの間で発生する摩擦熱を吸収
して冷却することができる。
【0061】このようにすれば、冷却媒体は、突条部4
1aが回転することによって脱水されていく天然ガスハ
イドレート(原料スラリー)と、この天然ガスハイドレ
ートが旋回しながら前進する過程で摩擦接触するろ材4
0cの内壁面との間に発生する摩擦熱を吸収し、温度上
昇によって天然ガスハイドレートが分解するのを防止ま
たは抑制することができる。この時、天然ガスハイドレ
ートはスクリュー部41の回転により加圧を受けている
ため、水分が内側から外側へ向けて流れる状況にあり、
すなわち内側の圧力が高い状況にあるため、固形化して
きた天然ガスハイドレートの外周面において冷却媒体が
浸透するようなことはない。また、上述したように、摩
擦熱は天然ガスハイドレートの脱水が進んで含水率の低
下した下流側ほど大きくなる傾向にある。従って、ろ材
40cの軸方向全体にわたって冷却媒体を流すことも可
能ではあるが、特に、大きな摩擦熱が発生しやすいハイ
ドレート排出口40fに近い下流側に流すことで、より
少ない冷却媒体の消費で効果的に冷却することができ
る。
【0062】<第4の実施形態>図6に示すスクリュー
プレス型脱水装置12Dは、上述した第3実施例の変形
例であり、スクリュー部41で脱水した回収水を冷却媒
体の冷水84として使用する。すなわち、ろ材40cを
通過して筐体40dの下部に落下した回収水の一部また
は全量を冷却媒体として再利用するものである。図示の
例では、回収水排水口40eから流出させる回収水の管
路85から冷却水導入管86を分岐させ、回収水の一部
を冷水84として冷却ノズル83へ供給している。な
お、図示は省略したが、冷却水導入管86の途中に適当
な冷却手段を設けておき、回収水を適温まで冷却してか
ら冷却ノズル83へ供給するとよい。
【0063】また、上述した回収水はまた、図4に示し
た第2実施例の冷却媒体として、すなわちスクリュー部
41の軸内へ供給する冷却媒体としても再利用すること
が可能である。この場合も、適当な冷却手段を通過させ
て適温に冷却したものを使用するとよい。
【0064】<第5の実施形態>図7に示すスクリュー
プレス型脱水装置12Eは、回収水の一部を原料スラリ
ー導入口40bへ戻すようにしてある。すなわち、ろ材
40cを通過して筐体40dの下部に落下した回収水
は、その一部が回収水排出口40eに接続された回収水
戻し管87を通って原料スラリーを供給するスラリー配
管37に合流させるか、あるいは、直接原料スラリー導
入口40bへ供給してもよい。
【0065】このような構成とすれば、回収水の中に含
まれている天然ガスハイドレートを再度スクリュープレ
ス型脱水装置12Eへ供給することができるので、回収
水を全量廃棄する場合と比較して、天然ガスハイドレー
トの回収率を向上させることができる。
【0066】<第6の実施形態>図8に示すスクリュー
プレス型脱水装置12Fは、回収水をスクリュー部41
の搬送方向(軸方向)へ複数段階に分割して、図示の例
では2分割して回収するように構成されている。すなわ
ち、筐体40dの下部に仕切板88を設け、ろ材40c
を通過して落下してきた回収水を仕切板88により分割
するようになっている。この仕切板88は、スクリュー
部41の軸方向と直交するようにして、筐体40dの底
面に立設されている。
【0067】この結果、原料スラリー導入口40bに近
い上流側から回収されたスラリー濃度の低い回収水は、
低濃度回収水排水口40gから回収され、ハイドレート
排出口40fに近い下流側から回収されたスラリー濃度
の高い回収水は、高濃度排水口40hから回収される。
従って、仕切板88を境にして、天然ガスハイドレート
スラリーのリーク量が少ない上流側(原料スラリー導入
口40b側)のろ過部89と、リーク量が多い下流側
(ハイドレート排出口40f側)の脱水部90とに分割
されるので、天然ガスハイドレート濃度が異なる回収水
に分別して回収することができる。
【0068】<第7の実施形態>図9に示すスクリュー
プレス型脱水装置12Gは、上述した第6実施例のもの
で分別して回収した回収水の内、高濃度回収水排水口4
0hから回収した天然ガスハイドレートスラリー濃度の
高い回収水を、循環スラリー91として原料スラリー導
入口40bへ戻すようにしてある。循環スラリー91
は、高濃度回収水排水口40hとスラリー配管37とを
接続したスラリー循環配管92を流れ、原料スラリーと
共に再度脱水される。すなわち、脱水部90において、
ろ材40cを通過して筐体40dの下部に落下した高濃
度の回収水は、高濃度回収水排出口40hに接続された
スラリー循環配管92を通って原料スラリーを供給する
スラリー配管37に合流し、あるいは直接原料スラリー
導入口40bへ供給される。
【0069】このような構成とすれば、高濃度の回収水
中に含まれている天然ガスハイドレートを再度スクリュ
ープレス型脱水装置12Gへ供給することができるの
で、回収水の全量を廃棄する場合と比較して、天然ガス
ハイドレートの回収率を向上させることができる。特
に、高濃度の回収水が循環されて原料スラリーと合流す
るので、回収水の全量を戻す場合と比較して水分の割合
が低くなり、脱水の負荷が低減される。
【0070】<第8の実施形態>図10に示すスクリュ
ープレス型脱水装置12Hは、上述した第7実施例の変
形例であり、高濃度の回収水である循環スラリー91の
一部を分岐させて、第2実施例(図4参照)または第3
実施例(図5参照)の冷却媒体として使用する。図10
に示した実施例は、循環スラリー91の一部を冷却ノズ
ル83へ供給する冷却水分岐配管93をスラリー循環配
管92から分岐させている。なお、冷却水分岐配管93
の適所に冷却手段(図示省略)を設け、適切な温度まで
冷却してから冷却ノズル83へ供給するとよい。
【0071】このような構成とすれば、高濃度の循環ス
ラリー91を利用して冷却を行うことができ、さらに、
冷却に使用した循環スラリー91は再度脱水部90で高
濃度の回収水として回収されて循環するので、摩擦熱除
去の冷却を実施しながら天然ガスハイドレートの回収率
を向上させることができる。
【0072】また、図示は省略したが、図9に示した第
7の実施形態及び図10に示した第8の実施形態の変形
例として、以下に説明する構成も可能である。すなわ
ち、循環スラリー91の一部を分岐させて第2実施例
(図4参照)または第3実施例(図5参照)における冷
却媒体として使用する代わりに、低濃度回収水排出口4
0gから回収した低濃度の回収水を冷却媒体として使用
し、高濃度の循環スラリー91は全量原料スラリー導入
口40bへ戻す。この場合も、冷却媒体として使用する
低濃度の回収水については、適所に冷却手段を設けて適
切な温度まで冷却したものを供給するとよい。
【0073】このような構成とすれば、高濃度の循環ス
ラリー91を再度脱水して天然ガスハイドレートを回収
することができるので回収率が向上し、低濃度の回収水
については冷却媒体として有効に利用することができ
る。なお、冷却媒体として使用された低濃度の回収水
は、冷却後に循環スラリー91として回収されるので、
外部に廃棄されることなく回収水の全量から天然ガスハ
イドレートを回収でき、回収率の向上に有効である。
【0074】<第9の実施形態>図11に示すスクリュ
ープレス型脱水装置12Iは、容器本体40内に原料ガ
ス94を供給して、生成装置(生成容器)11と同等の
ガス組成とし、かつ、容器本体40の内部温度をハイド
レート生成領域に維持したものである。原料ガス94を
スクリュープレス型脱水装置12Iに供給するととも
に、内部を適切な温度にすることにより、天然ガスハイ
ドレートを生成する環境となる。なお、適切な内部温度
については上述した生成装置11と同様であり、その温
度維持には同様の冷却装置28などを採用することがで
きる。
【0075】このような構成とすれば、スクリュープレ
ス型脱水機による物理的な脱水、すなわち圧縮して回収
水を絞り出す物理脱水に加えて、水と原料ガス94との
水和により天然ガスハイドレートを生成するという水和
脱水が可能となる。従って、物理脱水しても残っている
残存水を水和脱水して、天然ガスハイドレートの含水率
を低下させることができる。また、このような天然ガス
ハイドレートの生成は、ハイドレート排出口40fに近
い下流側ほど圧縮脱水の圧力が高くなっているので、原
料ガス94の供給は下流側とするのが好ましい。なお、
物理脱水されて固形化しつつある天然ガスハイドレート
は、スクリュー部41の軸に近い側の内部圧力よりも外
周部側の圧力が局部的に高くなるので、天然ガスハイド
レートの生成には好ましい圧力環境となる。
【0076】さらに、上述した第9の実施形態におい
て、容器本体40内の原料ガス組成が、生成反応装置1
1よりも原料ガス中のハイドレート成分の濃度が高くな
るように設定すれば、容器本体40内がより一層天然ガ
スハイドレートを生成しやすい環境となる。このため、
水和脱水がより一層促進され、含水率をさらに低下させ
ることができる。
【0077】<第10の実施形態>図12に示すスクリ
ュープレス型脱水装置12Jは、容器本体40内に原料
ガス94を供給して、生成装置(生成容器)11と同等
のガス組成とし、かつ、容器本体40の内部温度をハイ
ドレート生成領域に維持することに加えて、容器本体4
0内に存在するガスをパージガス95としてパージす
る。ここで実施するパージは、容器本体40内における
原料ガスのうち、O2 ,N2 などのハイドレート化しな
い、もしくは、しにくい成分のガス濃度を所定の値(範
囲)に維持するように、連続的にあるいは間欠的に実施
する。なお、原料ガス濃度の所定の値(範囲)は、上述
した生成装置11と同等、またはそれより高いものとな
る。
【0078】このような構成とすれば、天然ガスハイド
レート化しない、もしくは、しにくい原料ガス成分が容
器本体40内に蓄積して、天然ガスハイドレート化しな
い、もしくは、しにくいガス濃度が上昇するのを防止で
きる。従って、天然ガスハイドレートを生成しやすい適
切なガス濃度を常に維持して、水和脱水を促進すること
ができる。
【0079】<第11の実施形態>図13に示すスクリ
ュープレス型脱水装置12Kは、原料スラリー導入口4
0b近傍に、ろ過手段としてメッシュ状のスクリーン8
0を設けてある。このスクリーン80は、原料スラリー
導入口40bからろ材40cの内部へ通じる流路を除い
て、ろ材40cを上流側へ延長するように設けられてい
る。
【0080】このような構成とすれば、このスクリーン
80で、原料スラリー導入口40bから容器本体40の
内部空間40aに落下してきた原料スラリー中に含まれ
ている水分をろ過分離して、筐体40dの下部に落下さ
せる。このため、低濃度の原料スラリーはスクリーン8
0におけるろ過によってその濃度を増すので、以後のス
クリュー部41による物理脱水の負荷が低減される。
【0081】なお、上述した第1〜11の実施形態に示
したスクリュープレス型脱水装置12A〜Kについて
は、それぞれの特徴的な構成を適宜組合せることができ
る。
【0082】ところで、上述したスクリュープレス型脱
水装置12A〜Kは、図1に示した生成システムのプロ
セス以外にも使用することができる。以下、上述したス
クリュープレス型脱水装置12A〜Kを適用できるプロ
セスの構成例を図面に基づいて簡単に説明する。なお、
上記実施形態において既に説明した構成要素には同一符
号を付して説明は省略する。図14に示すブロック図の
プロセス構成(第1変形例)では、脱水によって分離さ
れた水(回収水)を生成手段1に戻して再利用する。具
体的には、スクリュープレス型脱水装置12A〜Kの排
水口40eと貯水槽17とを接続する水配管を設け、天
然ガスハイドレートから分離された回収水を、この水配
管を通じて貯水槽17や圧力容器20に戻すように構成
されている。
【0083】図15に示すブロック図のプロセス構成
(第2変形例)では、図14の場合と同様に、回収水を
生成手段1に戻すのであるが、回収水を生成手段1に戻
す前にその水を冷却する水冷却手段7を設けてある。
【0084】図16に示すブロック図のプロセス構成
(第3変形例)では、水和脱水手段3において天然ガス
ハイドレートの生成に供されなかった天然ガスを生成手
段1に導くようにしてある。
【0085】図17に示すブロック図のプロセス構成
(第4変形例)では、図16の場合と同様に、天然ガス
を生成手段1に導入する前に冷却する天然ガス冷却手段
8を設けてある。なお、天然ガス冷却手段8には、天然
ガスを直接的に冷却する機構の他、天然ガスを断熱膨張
させ自らの温度を低下させたうえで昇圧する機構を採用
しても構わない。また、生成手段1への導入前ではな
く、天然ガスを水和脱水手段3へ導入する前に天然ガス
冷却手段8を設けても構わないし、両方に設けても構わ
ない。
【0086】図18に示すブロック図のプロセス構成
(第5変形例)では、生成手段1において天然ガスハイ
ドレートの生成に供されなかった天然ガスを水和脱水手
段3に導き、生成手段1と水和脱水手段3との間を循環
させるようにしてある。
【0087】図19に示すブロック図のプロセス構成
(第6変形例)では、生成手段1において天然ガスハイ
ドレートを生成した後に残る未反応ガスを生成手段1か
ら除去する(パージする)ようにしてある。なお、図1
7に示すように、天然ガスを生成手段1と水和脱水手段
3との間で循環させる場合には、循環系を構成するガス
配管のいずれかの場所から未反応ガスを除去するように
しても構わない。
【0088】図20に示すブロック図のプロセス構成
(第7変形例)では、未反応ガスを内燃機関9やボイラ
等の燃料として利用している。
【0089】図21に示すブロック図のプロセス構成
(第8変形例)では、未反応ガスをガスタービン10の
駆動ガスとして利用している。
【0090】以上説明したように、本発明のスクリュー
プレス型脱水装置は、図1及び図14〜21に示したブ
ロック図のプロセス構成はもちろんのこと、それらの組
合せによるプロセス構成に対しても採用可能である。ま
た、本発明のスクリュープレス型脱水装置は、上記の各
プロセス構成またはそれらの組合せによるプロセス構成
を採用した天然ガスハイドレート生成システムに限ら
ず、生成後の天然ガスハイドレートについて脱水を必要
とするプロセスを採用した生成システムに対しても採用
可能である。さらに、上記の説明では天然ガスハイドレ
ートを例に示してあるが、本発明はこれに限定されるも
のではなく、天然ガスハイドレート以外のガスハイドレ
ートにも適用することができる。なお、本発明の構成は
上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の
要旨を逸脱しない範囲内において適宜変更することがで
きる。
【0091】
【発明の効果】上述した本発明のガスハイドレートスラ
リー脱水装置によれば、下記のような効果を奏する。請
求項1に記載の発明によれば、スクリュープレス型の脱
水機としたことによって、連続的な物理脱水を容易に実
施できるので、生産性や効率の面で優れたものとなる。
【0092】請求項2に記載の発明によれば、スクリュ
ー部の軸内に冷却媒体を循環させるようにしたので、ス
クリュー部とろ材との間で発生する摩擦熱を冷却により
除去し、ガスハイドレートの分解を抑制してガスハイド
レートの回収率を向上させることができる。
【0093】請求項3に記載の発明によれば、ろ材の外
周部に冷却媒体を流すようにしたので、スクリュー部と
ろ材との間で発生する摩擦熱を冷却により除去し、ガス
ハイドレートの分解を抑制することで、ガスハイドレー
トの回収効率を向上させることができる。
【0094】請求項4に記載の発明によれば、摩擦熱が
最も発生しやすいハイドレート出口側を効率よく冷却す
ることができるので、摩擦熱によるガスハイドレートの
分解を抑制してガスハイドレートの回収効率を向上させ
ることができる。
【0095】請求項5に記載の発明によれば、冷却媒体
として回収水を有効に利用して冷却を行い、摩擦熱によ
るガスハイドレートの分解を抑制してガスハイドレート
の回収効率を向上させることができる。
【0096】請求項6に記載の発明によれば、回収した
回収水の一部を原料スラリー導入口へ戻すようにしたの
で、ガスハイドレートを廃棄することなく回収して回収
率を向上させることができる。
【0097】請求項7に記載の発明によれば、スクリュ
ー部の搬送方向へ複数段に分割して回収水を回収するよ
うにしたので、ガスハイドレートスラリーのリーク量が
少ない上流側のろ過部と、リーク量が多い下流側の脱水
部とに分割して、ガスハイドレート濃度が異なる回収水
に分別して回収することができる。従って、濃度別に回
収した回収水を、最適な用途に再利用することができ
る。
【0098】請求項8に記載の発明によれば、高濃度の
回収水を原料スラリー導入口へ戻すことによって、ガス
ハイドレートの回収率を向上させることができる。請求
項9に記載の発明によれば、原料スラリー導入口へ戻す
高濃度の回収水の一部を冷却媒体として使用するので、
ガスハイドレートの回収率を向上させながら冷却を行う
ことができる。請求項10に記載の発明によれば、高濃
度の回収水を原料スラリー導入口へ戻すことで回収率を
上げ、低濃度の回収水については冷却媒体として有効利
用することができる。
【0099】請求項11に記載の発明によれば、容器本
体内に原料ガスを供給して生成容器内と同等のガス組成
とし、かつ、容器本体の内部温度をハイドレート生成温
度領域に維持するようにしたので、物理脱水を行っても
残っている残存水をハイドレート化する水和脱水によっ
て含水率を下げることができる。請求項12に記載の発
明によれば、容器本体内が生成容器内よりガスハイドレ
ートを生成しやすい環境となり、物理脱水に加えて水和
脱水も行われるので、より一層の含水率を低下させるこ
とができる。請求項13に記載の発明によれば、ガスハ
イドレート化しない、もしくは、しにくいガス成分が蓄
積して濃度が上昇しすぎるのを防止し、容器本体内を適
切なガス濃度に保つことで水和脱水を促進することがで
きる。
【0100】請求項14に記載の発明によれば、原料ス
ラリー導入口の近傍に設けたろ過手段によって、原料ス
ラリー導入口から落下してきた低濃度の原料スラリーか
ら水分を分離させることができるので、含水率の小さい
ガスハイドレートを効率よく回収して回収率を向上させ
ることができる。
【0101】従って、原料スラリーから余分な水分を効
率よく脱水して含水率の低いガスハイドレートを提供で
きるので、貯蔵や輸送にかかるコストを削減するのに有
効な含水率の低い固体のガスハイドレート(最終製品)
を製造するのに適したガスハイドレートスラリー脱水装
置となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る実施形態として、天然ガスハイ
ドレート生成システムのプロセス構成例を示すブロック
図である。
【図2】 図1の生成システムの具体的な装置構成を示
す図である。
【図3】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱水
装置の第1の実施形態を示す構成図である。
【図4】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱水
装置の第2の実施形態を示す構成図である。
【図5】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱水
装置の第3の実施形態を示す構成図である。
【図6】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱水
装置の第4の実施形態を示す構成図である。
【図7】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱水
装置の第5の実施形態を示す構成図である。
【図8】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱水
装置の第6の実施形態を示す構成図である。
【図9】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱水
装置の第7の実施形態を示す構成図である。
【図10】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱
水装置の第8の実施形態を示す構成図である。
【図11】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱
水装置の第9の実施形態を示す構成図である。
【図12】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱
水装置の第10の実施形態を示す構成図である。
【図13】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱
水装置の第11の実施形態を示す構成図である。
【図14】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱
水装置を適用可能な天然ガスハイドレート生成システム
のプロセス(第1変形例)を示すブロック図である。
【図15】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱
水装置を適用可能な天然ガスハイドレート生成システム
のプロセス(第2変形例)を示すブロック図である。
【図16】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱
水装置を適用可能な天然ガスハイドレート生成システム
のプロセス(第3変形例)を示すブロック図である。
【図17】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱
水装置を適用可能な天然ガスハイドレート生成システム
のプロセス(第4変形例)を示すブロック図である。
【図18】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱
水装置を適用可能な天然ガスハイドレート生成システム
のプロセス(第5変形例)を示すブロック図である。
【図19】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱
水装置を適用可能な天然ガスハイドレート生成システム
のプロセス(第6変形例)を示すブロック図である。
【図20】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱
水装置を適用可能な天然ガスハイドレート生成システム
のプロセス(第7変形例)を示すブロック図である。
【図21】 本発明に係るガスハイドレートスラリー脱
水装置を適用可能な天然ガスハイドレート生成システム
のプロセス(第8変形例)を示すブロック図である。
【符号の説明】
12,12A〜K スクリュープレス型脱水装置(ガ
スハイドレートスラリー脱水装置) 40 容器本体 40b 原料スラリー導入口 40c ろ材 40e 回収水排水口 40f ハイドレート排出口 40g 低濃度回収水排出口 40h 高濃度回収水排出口 41 スクリュー部 42 駆動部 80 スクリーン(ろ過手段)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C07C 7/20 C10L 3/00 A 9/02 B01D 29/30 501 (72)発明者 伊東 勝夫 兵庫県神戸市兵庫区和田崎町一丁目1番1 号 三菱重工業株式会社神戸造船所内 (72)発明者 近藤 雄一 兵庫県神戸市兵庫区和田崎町一丁目1番1 号 三菱重工業株式会社神戸造船所内 (72)発明者 吉川 孝三 兵庫県高砂市荒井町新浜2丁目1番1号 三菱重工業株式会社高砂研究所内 (72)発明者 長安 弘貢 兵庫県高砂市荒井町新浜2丁目1番1号 三菱重工業株式会社高砂研究所内 (72)発明者 江間 晴彦 兵庫県高砂市荒井町新浜2丁目1番1号 三菱重工業株式会社高砂研究所内 Fターム(参考) 4H006 AA02 AA04 AD10 AD17 AD33 BD82

Claims (14)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 水を含むガスハイドレートの原料スラ
    リーから水分を除去するガスハイドレートスラリー脱水
    装置であって、 前記原料スラリーの供給を受ける原料スラリー導入口、
    分離した回収水を排出する回収水排出口及び回収したガ
    スハイドレートを取り出すハイドレート排出口を備えた
    容器本体と、該容器本体の内部に設けた筒形スクリーン
    状のろ材と、該ろ材の内部に設置されて回転するスクリ
    ュー部と、該スクリュー部の駆動手段とを具備してなる
    スクリュープレス型脱水機としたことを特徴とするガス
    ハイドレートスラリー脱水装置。
  2. 【請求項2】 前記スクリュー部の軸内に冷却媒体を
    循環させることを特徴とする請求項1記載のガスハイド
    レードスラリー脱水装置。
  3. 【請求項3】 前記ろ材の外周部に冷却媒体を流すこ
    とを特徴とする請求項1または2記載のガスハイドレー
    トスラリー脱水装置。
  4. 【請求項4】 前記冷却媒体が前記ハイドレート出口
    側に流されることを特徴とする請求項3記載のガスハイ
    ドレートスラリー脱水装置。
  5. 【請求項5】 前記回収水排出口から回収した回収水
    を前記冷却媒体として使用することを特徴とする請求項
    3または4記載のガスハイドレートスラリー脱水装置。
  6. 【請求項6】 前記回収水排出口から回収した回収水
    の一部を前記原料スラリー導入口へ戻すことを特徴とす
    る請求項1から4のいずれかに記載のガスハイドレート
    スラリー脱水装置。
  7. 【請求項7】 前記回収水を前記スクリュー部の搬送
    方向へ複数段階に分割して回収することを特徴とする請
    求項1から4のいずれかに記載のガスハイドレートスラ
    リー脱水装置。
  8. 【請求項8】 濃度の濃い回収水を前記原料スラリー
    導入口へ戻すことを特徴とする請求項7記載のガスハイ
    ドレートスラリー回収装置。
  9. 【請求項9】 前記原料スラリー導入口へ戻す濃度の
    濃い回収水の一部を請求項3または4記載の冷却媒体と
    して使用することを特徴とする請求項8記載のガスハイ
    ドレートスラリー脱水装置。
  10. 【請求項10】 濃度の濃い回収水を前記原料スラリ
    ー導入口へ戻し、濃度の薄い回収水を請求項3または4
    記載の冷却媒体として使用することを特徴とする請求項
    7記載のガスハイドレートスラリー回収装置。
  11. 【請求項11】 前記容器本体内に原料ガスを供給し
    て生成容器内と同等のガス組成とし、かつ、前記容器本
    体の内部温度をハイドレート生成温度領域に維持するこ
    とを特徴とする請求項1から10のいずれかに記載のガ
    スハイドレードスラリー脱水装置。
  12. 【請求項12】 前記容器本体内の原料ガス組成中ハ
    イドレート化しやすい成分の濃度を生成容器内より高く
    設定したことを特徴とする請求項11記載のガスハイド
    レートスラリー脱水装置。
  13. 【請求項13】 前記容器本体内のガスの一部を、連
    続的にあるいは間欠的にパージすることを特徴とする請
    求項11または12記載のガスハイドレートスラリー脱
    水装置。
  14. 【請求項14】 前記原料スラリー導入口の近傍にろ
    過手段を設けたことを特徴とする請求項1から13のい
    ずれかに記載のガスハイドレートスラリー脱水装置。
JP2001264911A 2001-08-31 2001-08-31 ガスハイドレートスラリー脱水装置 Expired - Fee Related JP5106727B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001264911A JP5106727B2 (ja) 2001-08-31 2001-08-31 ガスハイドレートスラリー脱水装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001264911A JP5106727B2 (ja) 2001-08-31 2001-08-31 ガスハイドレートスラリー脱水装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2003073679A true JP2003073679A (ja) 2003-03-12
JP5106727B2 JP5106727B2 (ja) 2012-12-26

Family

ID=19091442

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001264911A Expired - Fee Related JP5106727B2 (ja) 2001-08-31 2001-08-31 ガスハイドレートスラリー脱水装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5106727B2 (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005255945A (ja) * 2004-03-15 2005-09-22 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造方法及び装置
JP2005263986A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 乾燥ガスハイドレート生成装置および生成方法
JP2005263675A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレートの製造方法及び装置
JP2006095438A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレートスラリーの流動層反応塔
WO2007110921A1 (ja) * 2006-03-28 2007-10-04 Mitsui Engineering And Shipbuilding Co., Ltd. ガスハイドレートスラリーの脱水塔
WO2007113912A1 (ja) * 2006-04-05 2007-10-11 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. ガスハイドレート製造装置及び脱水装置
KR101052588B1 (ko) 2009-09-30 2011-07-29 (주)유성 가스 하이드레이트 슬러리의 탈수, 농축을 위한 장치 및 그 방법
WO2012171046A1 (de) * 2011-05-20 2012-12-20 Applied Chemicals Handels-Gmbh Schneckenpresse
CN110345384A (zh) * 2019-08-20 2019-10-18 西南石油大学 一种页岩气水合物浆液快速转运卸载装置及方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63141568A (ja) * 1986-12-04 1988-06-14 Fuaanesu I S:Kk 固形物の脱水・脱脂処理方法
JPH0392310A (ja) * 1989-09-04 1991-04-17 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 熱可塑性樹脂の脱水方法
JPH10258395A (ja) * 1997-03-18 1998-09-29 Shinwa Eng Kk スクリュ−式固液分離精製搾り機
JP2000264851A (ja) * 1999-03-15 2000-09-26 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ハイドレートの製造方法および製造装置
JP2000282071A (ja) * 1999-03-26 2000-10-10 Chikusan Kankyo Hozen Gijutsu Kenkyu Kumiai 湿潤有機性廃棄物から乾燥物を製造する方法及び装置
JP2001072615A (ja) * 1999-09-01 2001-03-21 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd ハイドレート製造方法及びその製造装置
JP2001342473A (ja) * 2000-03-30 2001-12-14 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレート製造装置およびガスハイドレート脱水装置
JP2003055675A (ja) * 2001-08-15 2003-02-26 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレートの生成方法および生成装置、ならびにガスハイドレートの生成システム
JP2003073678A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレートスラリーの脱水装置及び脱水方法

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63141568A (ja) * 1986-12-04 1988-06-14 Fuaanesu I S:Kk 固形物の脱水・脱脂処理方法
JPH0392310A (ja) * 1989-09-04 1991-04-17 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 熱可塑性樹脂の脱水方法
JPH10258395A (ja) * 1997-03-18 1998-09-29 Shinwa Eng Kk スクリュ−式固液分離精製搾り機
JP2000264851A (ja) * 1999-03-15 2000-09-26 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ハイドレートの製造方法および製造装置
JP2000282071A (ja) * 1999-03-26 2000-10-10 Chikusan Kankyo Hozen Gijutsu Kenkyu Kumiai 湿潤有機性廃棄物から乾燥物を製造する方法及び装置
JP2001072615A (ja) * 1999-09-01 2001-03-21 Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd ハイドレート製造方法及びその製造装置
JP2001342473A (ja) * 2000-03-30 2001-12-14 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレート製造装置およびガスハイドレート脱水装置
JP2003055675A (ja) * 2001-08-15 2003-02-26 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレートの生成方法および生成装置、ならびにガスハイドレートの生成システム
JP2003073678A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレートスラリーの脱水装置及び脱水方法

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005255945A (ja) * 2004-03-15 2005-09-22 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造方法及び装置
JP4638679B2 (ja) * 2004-03-15 2011-02-23 三井造船株式会社 ガスハイドレート製造装置
JP4511854B2 (ja) * 2004-03-18 2010-07-28 三井造船株式会社 乾燥ガスハイドレート生成装置および生成方法
JP2005263986A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd 乾燥ガスハイドレート生成装置および生成方法
JP2005263675A (ja) * 2004-03-18 2005-09-29 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレートの製造方法及び装置
JP2006095438A (ja) * 2004-09-29 2006-04-13 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレートスラリーの流動層反応塔
WO2007110921A1 (ja) * 2006-03-28 2007-10-04 Mitsui Engineering And Shipbuilding Co., Ltd. ガスハイドレートスラリーの脱水塔
US8043579B2 (en) 2006-04-05 2011-10-25 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. Gas hydrate production apparatus and dewatering unit
EP2006363A1 (en) * 2006-04-05 2008-12-24 MITSUI ENGINEERING & SHIPBUILDING CO., LTD Gas hydrate production apparatus and dewatering unit
WO2007113912A1 (ja) * 2006-04-05 2007-10-11 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. ガスハイドレート製造装置及び脱水装置
US8309031B2 (en) 2006-04-05 2012-11-13 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. Gas hydrate production apparatus
EP2006363A4 (en) * 2006-04-05 2012-11-28 Mitsui Shipbuilding Eng APPARATUS FOR GENERATING GASEOUS HYDRATE AND WATER EXTRACTING UNIT
CN101415802B (zh) * 2006-04-05 2013-02-06 三井造船株式会社 气体水合物制造装置和脱水装置
US8420018B2 (en) 2006-04-05 2013-04-16 Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. Gas hydrate production apparatus
KR101052588B1 (ko) 2009-09-30 2011-07-29 (주)유성 가스 하이드레이트 슬러리의 탈수, 농축을 위한 장치 및 그 방법
WO2012171046A1 (de) * 2011-05-20 2012-12-20 Applied Chemicals Handels-Gmbh Schneckenpresse
US9003968B2 (en) 2011-05-20 2015-04-14 Applied Chemicals Handels—GmbH Screw extruder
EA024103B1 (ru) * 2011-05-20 2016-08-31 Эпплайд Кемикалз Хандельс-Гмбх Шнековый пресс
CN110345384A (zh) * 2019-08-20 2019-10-18 西南石油大学 一种页岩气水合物浆液快速转运卸载装置及方法
CN110345384B (zh) * 2019-08-20 2024-03-26 西南石油大学 一种页岩气水合物浆液快速转运卸载装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP5106727B2 (ja) 2012-12-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5019683B2 (ja) ガスハイドレートスラリーの脱水装置及び脱水方法
JP2003105362A (ja) 天然ガスハイドレートの生成方法および生成システム
JP2001342473A (ja) ガスハイドレート製造装置およびガスハイドレート脱水装置
EP1375630A1 (en) Gas hydrate production device and gas hydrate dehydrating device
US6028234A (en) Process for making gas hydrates
JP5106727B2 (ja) ガスハイドレートスラリー脱水装置
FR2619203A1 (fr) Procede et installation de refroidissement cryogenique utilisant du dioxyde de carbone liquide en tant qu'agent frigorigene
CN104833175A (zh) 一种flng/flpg油气预处理及液化方法
JP2003064385A (ja) ガスハイドレートの生成システムおよび生成方法
JP5052386B2 (ja) ガスハイドレートの製造装置
MX2010010193A (es) Aparato de tratamiento de gas, compresor de tornillo sumergido en agua.
JP2006241188A (ja) 天然ガスハイドレート生成システムおよびその生成方法
CN104556033A (zh) 二氧化碳的纯化
RU2670478C1 (ru) Комплекс сжижения, хранения и отгрузки природного газа
JP2003041276A (ja) 天然ガス水和物の脱水方法および脱水システム、ならびに天然ガス水和物の遠心脱水装置
JP2000317302A (ja) 燃焼排ガスの処理方法及び装置
JP2001279278A (ja) ガスハイドレート脱水装置及び多段ガスハイドレート脱水装置
JP4638706B2 (ja) ガスハイドレート製造方法
KR101692260B1 (ko) 가스 하이드레이트 펠릿 성형장치
JP2003055675A (ja) ガスハイドレートの生成方法および生成装置、ならびにガスハイドレートの生成システム
JP2012115880A (ja) ガスハイドレートペレットの成形装置および成形方法
JP2004244496A (ja) 天然ガスハイドレートの生成方法および生成システム
CN205603544U (zh) 一种浮式液化天然气系统
JP2001316684A (ja) ガスハイドレート処理方法および処理装置
JP5528921B2 (ja) ガスハイドレートの付着水分離装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20080730

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20110915

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111004

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111202

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120911

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20121003

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 5106727

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20151012

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees