JP2005263986A - 乾燥ガスハイドレート生成装置および生成方法 - Google Patents

乾燥ガスハイドレート生成装置および生成方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2005263986A
JP2005263986A JP2004078958A JP2004078958A JP2005263986A JP 2005263986 A JP2005263986 A JP 2005263986A JP 2004078958 A JP2004078958 A JP 2004078958A JP 2004078958 A JP2004078958 A JP 2004078958A JP 2005263986 A JP2005263986 A JP 2005263986A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hydrate
gas hydrate
gas
pressure vessel
unreacted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004078958A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4511854B2 (ja
Inventor
Yuichi Kato
裕一 加藤
Takashi Arai
敬 新井
Kazuyoshi Matsuo
和芳 松尾
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd
Original Assignee
Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd filed Critical Mitsui Engineering and Shipbuilding Co Ltd
Priority to JP2004078958A priority Critical patent/JP4511854B2/ja
Publication of JP2005263986A publication Critical patent/JP2005263986A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4511854B2 publication Critical patent/JP4511854B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Abstract

【課題】乾燥ガスハイドレートH2の生成装置42内部に対する付着を少なくし、ガスハイドレートの生成熱を効率的に除去し、効率よく乾燥ガスハイドレートH2を生成することのできる乾燥ガスハイドレート生成装置42および生成方法をを提供する。
【解決手段】湿潤ガスハイドレートH1と複数の球体4を、気密性を有する耐圧容器1の中で、回転軸5に取り付けられた回転翼7で攪拌して、未反応の水W1と未反応のハイドレート形成ガスG1を接触させて、新たにガスハイドレートを生成させ、球体4を遊動させて、耐圧容器1内部に付着したガスハイドレートを取り除き、攪拌効率を低下させず、また、ガスハイドレート生成熱の外部への伝熱を確保し、さらに球体4自体がこの生成熱を蓄熱して付着遊動体循環路14を介して除熱して効率的に乾燥ガスハイドレートH2を生成する。
【選択図】 図3

Description

本発明は、水分を多く含む湿潤ガスハイドレートに含まれる水分を低減させ、効率的に乾燥ガスハイドレートを生成する乾燥ガスハイドレート生成装置および生成方法に関するものである。
近年、水分子の作るカゴの中にガス分子が一つずつ収まる結晶構造をなすガスハイドレートが新たなガスの輸送手段として注目されている。ガスハイドレートは、その結晶構造により高いガス包蔵性を有し、また、液化天然ガスのように極低温にする必要がなく、常圧・低温(−15〜−40℃程度)で輸送、貯蔵ができるため関連設備の投資負担が少なくて済むことが大きなメリットとされている。
このガスハイドレートは、加圧状態の耐圧容器の中で、冷却された水にハイドレート形成ガス、例えばメタンガスが供給されて生成される。しかし、ガスハイドレート生成工程では未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含んだ含水率の高い湿潤ガスハイドレートが生成されるため、湿潤ガスハイドレートを輸送すれば無駄な水分を運ぶことになり、輸送効率が悪く、貯蔵などにも適さず、取り扱い性がよくない。そこで、湿潤ガスハイドレートを脱水、乾燥して乾燥ガスハイドレートを生成する方法が提案されている。
その一つの提案として回転スクリューで湿潤ガスハイドレートを圧縮して、スクリーンを介して水分だけを取り除いて乾燥ガスハイドレートを生成する方法がある(特許文献1参照)。このような脱水方法では、ガスハイドレートの粒径が小さいためスクリーンの目も小さくする必要があり、脱水できる水分量にも限界がある。また、脱水率を上げるためにスクリーンの目を大きくすれば漏出するガスハイドレートが多くなり、ガスハイドレートの回収率が悪化するという問題が生じる。
別の提案としては、耐圧容器内で湿潤ガスハイドレートを攪拌翼で攪拌して、未反応のハイドレート形成ガスと未反応の水を接触させて新たにガスハイドレートを生成することで未反応の水を減少させ、乾燥ガスハイドレートを生成する方法が提案されている(特許文献2)。この乾燥ガスハイドレート生成方法では、新たなガスハイドレート生成時に生成熱が発生するために、耐圧容器内の温度が上昇しガスハイドレートが生成しにくくなるので、耐圧容器内を冷却する必要がある。そこで、未反応のハイドレート形成ガスを耐圧容器から取り出して冷却した後、再度の耐圧容器に戻して循環させるガス循環路を設け、このガス循環によってガスハイドレート生成熱を除去している。
ところが、このガス循環による冷却では耐圧容器から取り出す未反応のハイドレート形成ガスと耐圧容器に戻す未反応のハイドレート形成ガスの温度差を大きくできないため、大量のガス循環が必要となり、ガス循環装置が大きくなるという問題がある。これに伴い、乾燥装置も大きくなってしまう。
また、含水率90%程度の湿潤ガスハイドレートの水分が減少し、たとえば含水率が50〜70%になると付着性が増し、ガスハイドレートが耐圧容器の内面、攪拌翼、攪拌軸などに付着し、攪拌負荷が大きくなり攪拌効率が低下する。また、この付着によりガスハイドレート生成熱の外部への伝熱が妨げられ、耐圧容器内の温度が上昇し、ガスハイドレートが生成しにくくなる。
即ち、乾燥ガスハイドレートを効率よく生成することが困難になる。
特開2003―73679号 特開2001―279278号
本発明は前記したような従来技術の問題点を解決するためになされたものである。即ち、ガスハイドレートの生成装置内部に対する付着を少なくし、ガスハイドレートの生成熱を効率的に除去し、効率よく乾燥ガスハイドレートを生成することのできる乾燥ガスハイドレート生成装置および生成方法を提供することにある。
請求項1に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置は、水とハイドレート形成ガスを反応させて生成した、未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含む湿潤ガスハイドレートを、気密性を有する耐圧容器の中で、該耐圧容器を回転させて該未反応の水と該未反応のハイドレート形成ガスを接触させて、新たにガスハイドレートを生成することで該未反応の水を減少させて該耐圧容器内の湿潤ガスハイドレートを乾燥ガスハイドレートとする乾燥ガスハイドレート生成装置であって、前記耐圧容器に未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含む湿潤ガスハイドレートを供給する供給路と、前記耐圧容器から乾燥ガスハイドレートを取り出す排出路と、前記耐圧容器の回転により前記耐圧容器の中を遊動し、前記耐圧容器内面に付着したガスハイドレートを取り除く付着防止遊動体と、前記耐圧容器内の前記未反応のハイドレート形成ガスを冷却して循環させるガス循環路とからなるものである。
請求項2に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置は、水とハイドレート形成ガスを反応させて生成した、未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含む湿潤ガスハイドレートを、気密性を有する耐圧容器の中で、該耐圧容器内に設けられた回転軸に取り付けられた回転翼で攪拌して、該未反応の水と該未反応のハイドレート形成ガスを接触させて、新たにガスハイドレートを生成することで該未反応の水を減少させて該耐圧容器内の湿潤ガスハイドレートを乾燥ガスハイドレートとする乾燥ガスハイドレート生成装置であって、前記耐圧容器に未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含む湿潤ガスハイドレートを供給する供給路と、前記耐圧容器から乾燥ガスハイドレートを取り出す排出路と、前記回転翼の回転により前記耐圧容器の中を遊動し、前記耐圧容器内部に付着したガスハイドレートを取り除く付着防止遊動体と、前記耐圧容器内の前記未反応のハイドレート形成ガスを冷却して循環させるガス循環路とからなるものである。
ここで、耐圧容器内部に付着したガスハイドレートとは、耐圧容器内面、回転軸、回転翼に付着したガスハイドレートを意味するものである。
請求項3に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置は、請求項2に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置において、回転軸を筒状にし、回転翼を中空状にし、該回転軸と該回転翼の内部を連通させて、冷媒を流通させる冷媒通路を設けたものである。
請求項4に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置は、請求項1〜3のいずれか一の請求項に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置において、大きさの異なる付着防止遊動体を混合して用いるものである。
請求項5に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置は、請求項1〜4のいずれか一の請求項に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置において、付着防止遊動体の材質をアルミニウム、軽量セラミック、硬質プラスチックのうち少なくともいずれか一つとしたものである。
請求項6に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置は、請求項1〜5のいずれか一の請求項に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置において、耐圧容器内の付着防止遊動体を冷却して循環させる付着防止遊動体循環路を設けたものである。
請求項7に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置は、請求項6に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置において、付着防止遊動体を内部に蓄熱材を有するものにしたものである。
請求項8に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置は、請求項1〜7のいずれか一の請求項に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置において、付着防止遊動体を球体としたものである。
請求項9に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置は、請求項1〜8のいずれか一の請求項に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置において、耐圧容器にハイドレート形成ガスを補給するガス補給路を設けたものである。
請求項10に記載の乾燥ガスハイドレート生成方法は、水とハイドレート形成ガスを反応させて生成した、未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含む湿潤ガスハイドレートを、気密性を有する耐圧容器の中で、該耐圧容器を回転させて該未反応の水と該未反応のハイドレート形成ガスを接触させて、新たにガスハイドレートを生成することで該未反応の水を減少させて該耐圧容器内の湿潤ガスハイドレートを乾燥ガスハイドレートとする乾燥ガスハイドレート生成方法であって、前記耐圧容器内に複数の球体を収容し、前記耐圧容器を回転させて該球体を遊動させて、前記耐圧容器内面に付着したガスハイドレートを取り除くようにしたものである。
請求項11に記載の乾燥ガスハイドレート生成方法は、水とハイドレート形成ガスを反応させて生成した、未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含む湿潤ガスハイドレートを、気密性を有する耐圧容器の中で、該耐圧容器内に設けられた回転軸に取り付けられた回転翼で攪拌して、該未反応の水と該未反応のハイドレート形成ガスを接触させて、新たにガスハイドレートを生成することで該未反応の水を減少させて該耐圧容器内の湿潤ガスハイドレートを乾燥ガスハイドレートとする乾燥ガスハイドレート生成方法であって、前記耐圧容器内に複数の球体を収容し、前記回転軸を回転させて該球体を遊動させて、前記耐圧容器内部に付着したガスハイドレートを取り除くようにしたものである。
ここで、耐圧容器内部に付着したガスハイドレートとは、耐圧容器内面、回転軸、回転翼に付着したガスハイドレートを意味するものである。
請求項12に記載の乾燥ガスハイドレート生成方法は、請求項10または11に記載の乾燥ガスハイドレート生成方法において、耐圧容器内の球体を取り出して前記耐圧容器とは別の冷却をした後に再び、該耐圧容器に戻して循環させるようにしたものである。
気密性を有する耐圧容器の中で、該耐圧容器を回転させて該未反応の水と該未反応のハイドレート形成ガスを接触させて、新たにガスハイドレートを生成することで該未反応の水を減少させて該耐圧容器内の湿潤ガスハイドレートを乾燥ガスハイドレートとすることで機械的な圧縮による装置に比べて、乾燥ガスハイドレートを効率的に生成できる。
この構成により、連続的に供給路から湿潤ガスハイドレートを供給しつつ、乾燥ガスハイドレートを生成することも比較的容易にできるので、乾燥ハイドレート生成の一層の効率化を図ることができる。
耐圧容器を回転させ、付着防止遊動体を耐圧容器の中で遊動させることで、耐圧容器内面に付着したガスハイドレートに衝突させ、削ぎ落とすようにして取り除くことができる。
この構成により、付着防止遊動体によって耐圧容器1の回転負荷の上昇を抑制して攪拌効率の低下を防ぎ、また、ガスハイドレートの生成熱の外部への伝熱低下を防ぎ、耐圧容器1内の温度上昇を抑制する。
即ち、効率的な乾燥ガスハイドレートの生成が可能となる。
ガス循環路を設けて、耐圧容器内の未反応のハイドレート形成ガスを冷却して循環させることで、未反応の水と接触してガスハイドレートが生成しやすくなる。
気密性を有する耐圧容器の中で、該耐圧容器内に設けられた回転軸に取り付けられた回転翼で攪拌して、該未反応の水と該未反応のハイドレート形成ガスを接触させて、新たにガスハイドレートを生成することで該未反応の水を減少させて該耐圧容器内の湿潤ガスハイドレートを乾燥ガスハイドレートとすることで機械的な圧縮による装置に比べて、乾燥ガスハイドレートを効率的に生成できる。
この構成により、連続的に供給路から湿潤ガスハイドレートを供給しつつ、乾燥ガスハイドレートを生成することも容易にできるので、乾燥ハイドレート生成の一層の効率化を図ることができる。
回転翼を回転させ、付着防止遊動体を耐圧容器の中で遊動させることで、耐圧容器内部に付着したガスハイドレートに衝突させ、削ぎ落とすようにして取り除くことができる。
この構成により、付着防止遊動体によって回転軸5の回転負荷の上昇を抑制して攪拌効率の低下を防ぎ、また、ガスハイドレートの生成熱の外部への伝熱低下を防ぎ、耐圧容器1内の温度上昇を抑制する。
即ち、効率的な乾燥ガスハイドレートの生成が可能となる。
筒状の回転軸に中空状の回転翼を取り付け、回転軸内部と中空状の回転翼の内部を連通させて冷媒を流通させる冷媒通路を設けることによって、未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスに直接、頻繁に接触し、接触面積も大きい回転翼の内部に冷媒が流通し、ガスハイドレート生成熱は回転翼表面から内部に伝わり、この熱を回転翼内部を流通する冷媒が除去する。
この構成により、効率よく除熱ができ、乾燥ガスハイドレートを効率的に生成できる。
また、回転軸と回転翼を利用して冷媒通路とすると、耐圧容器内部に別途、冷媒通路を設ける必要がなく、耐圧容器内部のスペースを狭めることもない。
大きさの異なる付着防止遊動体を混合して用いることで、付着したガスハイドレートを細かい所まで取り除くことができる。即ち、効率的な乾燥ガスハイドレートの生成が可能となる。
付着防止遊動体の材質をアルミニウム、軽量セラミック、硬質プラスチックのうち少なくともいずれか一つとすると、比重が小さいので生成装置の回転負荷が軽減されると共に、乾燥ガスハイドレートの粉砕も防止できる。即ち、効率的な乾燥ガスハイドレートの生成に寄与する。
耐圧容器内の付着防止遊動体を冷却して循環させる付着防止遊動体循環路を設けることで、付着防止遊動体を介して耐圧容器内のガスハイドレート生成熱を効率的に取り除くことができる。
さらに、付着防止遊動体を内部に蓄熱材を有するものとすれば、蓄熱材の相変化による冷却効果で耐圧容器内のガスハイドレート生成熱を大量に蓄熱するので除熱効果は一層、向上する。
付着防止遊動体を球体とすれば、耐圧容器内で衝突しても各部材の破損や、キズの発生もしにくく、また、どこかに引っ掛かるなどの問題も生じにくく取り扱い性がよい。
耐圧容器にハイドレート形成ガスを補給するガス補給路を設けると耐圧容器内に未反応の水が多く、耐圧容器内の未反応のハイドレート形成ガスだけでは湿潤ガスハイドレートを十分に乾燥ガスハイドレートとすることができない場合は、未反応のハイドレート形成ガスを補給することで、湿潤ガスハイドレートを乾燥ガスハイドレートとすることができる。
まず、図4に基づいてガスハイドレートを製造する全体フローを説明する。ガスハイドレート生成装置40では、例えば圧力が5.4MPaに保持された耐圧ドラムに2℃程度に冷却された水Wが供給され、さらにハイドレート形成ガスGが供給されて、ガスハイドレートが生成する。しかし、ここで生成されたガスハイドレートは未反応のハイドレート形成ガスG1と未反応の水W1が多く含まれたスラリー状の湿潤ガスハイドレートH1である。その後、湿潤ガスハイドレートH1は本発明に係る乾燥ガスハイドレート生成装置42で水分を取り除かれて、乾燥ガスハイドレートH2になり、過冷却器43を経てガスハイドレートの製造が完了する。詳細については、実施形態において説明する。
以下、本発明の実施形態について説明するが、この説明は乾燥ガスハイドレート生成装置と乾燥ガスハイドレート生成方法を併せて説明するものである。
図1に基づいて乾燥ガスハイドレート生成装置42の第一の実施形態を説明する。気密性を有する耐圧容器1には、未反応の水W1および未反応のハイドレート形成ガスG1を含む湿潤ガスハイドレートH1を供給する供給路2と、乾燥ガスハイドレートH2を取り出す排出路3が耐圧容器1内部の気密性を保つように取り付けられている。ここで、耐圧容器1内は圧力は5.4MPa程度、温度は2〜3℃程度に保たれている。
さらに、耐圧容器1は両端が回転可能に支持され、図示しない回転駆動装置によって回転する。耐圧容器1は円筒状をしているが、多角筒状とすることもできる。
耐圧容器1内には、複数の球体の付着防止遊動体4が収容されている。付着防止遊動体4は球体に限定されないが、取り扱い性などから球体が好ましい。
付着防止遊動体4の表面粗さは、特に限定しないが加工コストやガスハイドレートの付着防止、除熱効果などの観点から適宜、決定する。したがって、滑らかな表面、適度に粗い表面などにすることができる。
付着防止遊動4体の大きさは収容する数、耐圧容器1の大きさなどによって異なるが、付着防止遊動体4が球体で耐圧容器1が円筒状の場合は概ね球体の外径を耐圧容器1の内径の1〜20%程度に設定する。
耐圧容器1に収容する付着防止遊動体4の数量は大きさとの兼ね合いがあるが、概ね耐圧容器1の容積に対して10〜40%程度の体積を占めるような数量に設定する。単数とすることもできるが、ガスハイドレートの付着防止、除熱効果の観点から多数にするのが好ましい。
単一の大きさの付着防止遊動体4を用いることも大きさの異なるものを混合して用いることもできる。この混合比率などについては、効率的な乾燥ガスハイドレートH2が生成するように適宜、決定する。
付着防止遊動体4は、ガスハイドレートの付着防止が目的なので鉄などの比重の大きい材質でなくてもよく、生成装置42の回転駆動負荷の軽減およびガスハイドレート粒子の粉砕防止を考慮するとむしろ比重の小さいアルミニウム、軽量セラミック、硬質プラスチックなどが好ましい。
また、付着防止遊動体4に鉄やセラミックなどの比重の大きな材質を用いる場合は中空体として軽量化するのが好ましい。
付着防止遊動体4は材質にかかわらず、中空体としてその内部に蓄熱材を入れることもできる。これにより、蓄熱材の相変化による冷却効果でガスハイドレート生成熱を大量に吸収し、除熱効果を向上させガスハイドレートを生成し易くできる。蓄熱材としては水、炭酸ソーダ、炭酸水素カリウム水溶液、塩化カリウム水溶液、塩化カルシウム水溶液、エチレングリコール水溶液などを用いることができる。
耐圧容器1には耐圧容器1内の未反応のハイドレート形成ガスG1取り出した後、ガス冷却器21で冷却して再度、耐圧容器1に戻すガス循環路20が設けられ、耐圧容器1にハイドレート形成ガスGを補給するガス補給路22も装備されている。ガス循環路20もガス補給路22もロータリージョイント9を介して耐圧容器1と連通している。
また、耐圧容器1を外側から全体的に冷却する冷却ジャケット31も装備されている。
つぎに、使用方法について説明する。まず、耐圧容器1に供給路2から未反応の水W1および未反応のハイドレート形成ガスG1を含む湿潤ガスハイドレートH1を供給する。その後、図示しない回転駆動装置で耐圧容器1を回転させると耐圧容器1の回転と球体4の遊動により、耐圧容器1内の湿潤ガスハイドレートH1が攪拌される。
この攪拌で、未反応の水W1および未反応のハイドレート形成ガスG1が頻繁に接触することになり、新たにガスハイドレートが生成し、未反応の水W1が減少して耐圧容器1内の湿潤ガスハイドレートH1が乾燥ガスハイドレートH2となる。
ここで、新たにガスハイドレートが生成すると生成熱が発生し、耐圧容器1内の温度が上がり、即ち、未反応の水W1および未反応のハイドレート形成ガスG1の温度が上昇し、新たなガスハイドレートが生成しにくくなる。冷却ジャケット31で耐圧容器1全体を冷却しているが、これだけでは十分でないため、耐圧容器1内の未反応のハイドレート形成ガスG1をガス循環路20から取り出し、ガス冷却器21で2℃程度まで冷却した後、耐圧容器1内に戻すようにしている。
また、未反応の水W1が減少するとガスハイドレートが耐圧容器1の内面に付着するようになる。この付着を放置すると耐圧容器1の回転負荷が大きくなり、攪拌効率が悪くなる。
さらに、このガスハイドレートの付着により耐圧容器1内のガスハイドレートの生成熱を外部に伝えにくくなり、耐圧容器1内の温度が上昇し、新たなガスハイドレートが生成しにくくなる。
即ち、効率的に乾燥ガスハイドレートH2を生成できなくなる。
ところが、この実施形態では耐圧容器1にガスハイドレートが付着しても耐圧容器1の回転により、球体4が適度に耐圧容器1内を遊動し、付着したガスハイドレートに衝突し、削ぎ落とすようにして取り除くことになる。
つまり、球体4によるガスハイドレート付着防止遊動により耐圧容器1の回転負荷の上昇を抑制して攪拌効率の低下を防ぎ、また、ガスハイドレートの生成熱の外部への伝熱低下を防ぎ、耐圧容器1内の温度上昇を抑制する。
即ち、効率的な乾燥ガスハイドレートH2の生成が可能となる。
耐圧容器1内に未反応の水W1が多い場合は、耐圧容器1内の未反応のハイドレート形成ガスG1との接触でガスハイドレートを生成させるだけでは未反応の水W1が余ってしまい、湿潤ガスハイドレートH1を十分に乾燥ガスハイドレートH2とすることができない。この場合は、ガス補給路22からハイドレート形成ガスGを補給することで、湿潤ガスハイドレートH1を乾燥ガスハイドレートH2とすることができる。
また、連続的に供給路2から湿潤ガスハイドレートH1を供給しつつ、乾燥ガスハイドレートH2を生成することも比較的容易にできるので、乾燥ハイドレートH2の生成を一層、効率化することができる。
つぎに図2に基づいて乾燥ガスハイドレート生成装置42の第二の実施形態を説明する。湿潤ガスハイドレートH1を供給する供給路2と、乾燥ガスハイドレートH2を取り出す排出路3、耐圧容器1内の圧力、温度条件は第一の実施形態と同様である。
ガス循環路20、ガス補給路22、冷却ジャケット31も装備されており、第一の実施形態と同様である。ただし、この実施形態では耐圧容器1は固定されて回転しないのでガス循環路20、ガス補給路22と耐圧容器1の連通にロータリージョイント9は不要となる。
耐圧容器1内に収容される付着防止遊動体4についても第一の実施形態と同様である。
この実施形態では耐圧容器1は円筒状をしており、耐圧容器1を貫いて筒状の回転軸5が設けられ、この回転軸5には耐圧容器1内面に向かって中空状の回転翼7が固定されている。回転軸5の回転により回転翼7が回転して耐圧容器に収容された湿潤ガスハイドレートH1を攪拌するので、耐圧容器1は円筒状が好ましい。
回転翼7の内部と筒状の回転軸5の内部は連通していて、冷媒通路11となっている。回転翼7の形状は、スクリュー形状、板状、円形状など様々なものを採用できるが、枚数、大きさなどとともに、攪拌効率や冷却効率を考慮して適宜、決定する。
回転軸5および回転翼7または回転翼7のみを中実体とすることもできるが耐圧容器1内の除熱効果を考慮すれば、回転軸5、回転翼7ともに冷媒通路11を設けた方がよい。だだし、加工費や付属装置などのコスト、メンテナンス等を考慮して適宜、決定する。
つぎに、使用方法について説明するが第一の実施形態と同様の部分については既に説明しているので、第一の実施形態と異なる部分について説明する。
耐圧容器1内に湿潤ガスハイドレートH1と付着防止遊動体4の球体が収容された状態で、回転軸5を図示しない回転駆動装置で回転させると回転翼7が湿潤ガスハイドレートH1を攪拌し、球体4は遊動することになる。
この回転翼7の攪拌と球体4の遊動で、未反応の水W1および未反応のハイドレート形成ガスG1が頻繁に接触することになり、新たにガスハイドレートが生成し、未反応の水W1が減少して耐圧容器1内の湿潤ガスハイドレートH1が乾燥ガスハイドレートH2となる。
未反応の水W1が減少することによりガスハイドレートが耐圧容器1の内面のみならず、回転軸5や回転翼7の表面に付着するが球体4の遊動により、球体4がこれらの付着したガスハイドレートを削ぎ落として取り除くことになる。
したがって、ガスハイドレート付着による回転軸の回転負荷上昇や、ガスハイドれート生成熱の外部への伝熱が妨げられることがなくなり、乾燥ガスハイドレートH2を効率的に生成することができる。
また、ガスハイドレート生成熱を取り除くために、耐圧容器1内の未反応のハイドレート形成ガスG1をガス循環路20から取り出し、ガス冷却器21で2℃程度まで冷却した後、耐圧容器1内に戻すようにしているが、ハイドレート形成ガスG1の取り出す時と戻す時の温度差を大きくできず、十分な除熱ができないので、さらに冷媒Rによる除熱をおこなう。
筒状の回転軸5の一方から冷媒通路11に冷媒Rを流入し、中空状の回転翼7内部を流通させ、回転軸5の他方へと冷媒Rを流出させる。この冷媒通路11は流入側と流出側を連結して途中に冷媒冷却器12を設けて冷媒Rを循環させている。
この冷媒通路11は、未反応の水W1および未反応のハイドレート形成ガスG1に直接、頻繁に接触し、接触面積も大きい中空状の回転翼7の内部を通るようになっているので、ガスハイドレート生成熱は中空状の回転翼7表面から内部に伝わり、この熱を中空状の回転翼7内部を流通する冷媒Rが除去するので、効率よく除熱ができる。
尚、中空状の回転翼7内部の冷媒通路11の形状、大きさは冷媒Rが流通しやすく、除熱効果が高くなるように適宜、決定する。
冷媒Rは気体よりも液体にした方が除熱能力を大きくできるので、効率よく除熱するには液体冷媒を用いることが望ましい。液体冷媒Rとしては、たとえば、アンモニア、ブタン、フロン、塩化カルシウム水溶液、エチレングリコール水溶液などが用いられる。
また、連続的に供給路2から湿潤ガスハイドレートH1を供給しつつ、乾燥ガスハイドレートH2を生成することも容易にできるので、乾燥ハイドレートH2生成の一層の効率化を図ることができる。
つぎに、図3に基づいて第三の実施形態について説明する。この実施形態と第一の実施形態および第二の実施形態との相違点は耐圧容器1内の付着防止遊動体4を冷却して循環させる付着防止遊動体循環路14を設けたことにある。
したがって、第一の実施形態にも第二の実施形態にも付着防止遊動体循環路14を設けることができるが、以下は代表して第二の実施形態に付着防止遊動体循環路14を設けた場合で説明を行なう。
また、他の部分については既述しているので付着防止遊動体循環路14についてのみ説明する。
耐圧容器1には中途に付着防止遊動体冷却器15を設け、取り出した球体4を耐圧容器1とは別に、付着防止遊動体冷却器15で冷却した後に再び耐圧容器1に戻す付着防止遊動体循環路14が設けてある。
この球体4の取り出し口と付着防止遊動体冷却器15の間に乾燥ハイドレートH2を取り出す排出路3が設けられている。
付着防止遊動体循環路14における球体4の循環は重力による自然移動とスクリューコンベア18を組み合わせているが、特にこれに限定する必要はなく、一般的な循環装置を用いればよい。
耐圧容器1内を遊動してガスハイドレートが付着し、ガスハイドレート生成熱を蓄熱した球体4は、取り出し口から取り出され、排出路3で付着したガスハイドレートを落し、付着防止遊動体冷却器15に移動する。
付着防止遊動体冷却器15で球体4は冷却され、つまりガスハイドレート生成熱がここで熱交換される。その後、冷却された球体4は再び耐圧容器1に戻り、耐圧容器1内面などに付着したガスハイドレートを取り除いて攪拌効率を低下させず、また、ガスハイドレート生成熱の外部への伝熱を確保し、さらに球体4自体がこの生成熱を蓄熱して付着遊動体循環路14を介して除熱する。
即ち、付着防止遊動体循環路14により効率的な乾燥ガスハイドレートH2の生成が実現する。
また、この実施形態では連続的に供給路2から湿潤ガスハイドレートH1を供給しつつ、乾燥ガスハイドレートH2を生成することが容易にできるので、乾燥ハイドレート生成H2の一層の効率化を図ることができる。
第一の実施形態の構造概要を示す説明図である。 第二の実施形態の構造概要を示す説明図である。 第三の実施形態の構造概要を示す説明図である。 ガスハイドレート製造の全体フローを示す説明図である。
符号の説明
1 耐圧容器 2 供給路 3 排出路
4 付着防止遊動体(球体) 5 回転軸 7 回転翼
9 ロータリージョイント 11 冷媒通路 12 冷媒冷却器
14 付着防止遊動体循環路 15 付着防止遊動体冷却器
18 スクリューコンベア 20 ガス循環路
21 ガス冷却器 22 ガス補給路
31 冷却ジャケット
40 ガスハイドレート生成装置
42 乾燥ガスハイドレート生成装置 43 過冷却器
G ハイドレート形成ガス G1 未反応のハイドレート形成ガス
W 水 W1 未反応の水
H1 湿潤ガスハイドレート H2 乾燥ガスハイドレート
R 冷媒

Claims (12)

  1. 水とハイドレート形成ガスを反応させて生成した、未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含む湿潤ガスハイドレートを、気密性を有する耐圧容器の中で、該耐圧容器を回転させて該未反応の水と該未反応のハイドレート形成ガスを接触させて、新たにガスハイドレートを生成することで該未反応の水を減少させて該耐圧容器内の湿潤ガスハイドレートを乾燥ガスハイドレートとする乾燥ガスハイドレート生成装置であって、
    前記耐圧容器に未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含む湿潤ガスハイドレートを供給する供給路と、
    前記耐圧容器から乾燥ガスハイドレートを取り出す排出路と、
    前記耐圧容器の回転により前記耐圧容器の中を遊動し、前記耐圧容器内面に付着したガスハイドレートを取り除く付着防止遊動体と、
    前記耐圧容器内の前記未反応のハイドレート形成ガスを冷却して循環させるガス循環路と、からなる乾燥ガスハイドレート生成装置。
  2. 水とハイドレート形成ガスを反応させて生成した、未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含む湿潤ガスハイドレートを、気密性を有する耐圧容器の中で、該耐圧容器内に設けられた回転軸に取り付けられた回転翼で攪拌して、該未反応の水と該未反応のハイドレート形成ガスを接触させて、新たにガスハイドレートを生成することで該未反応の水を減少させて該耐圧容器内の湿潤ガスハイドレートを乾燥ガスハイドレートとする乾燥ガスハイドレート生成装置であって、
    前記耐圧容器に未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含む湿潤ガスハイドレートを供給する供給路と、
    前記耐圧容器から乾燥ガスハイドレートを取り出す排出路と、
    前記回転翼の回転により前記耐圧容器の中を遊動し、前記耐圧容器内部に付着したガスハイドレートを取り除く付着防止遊動体と、
    前記耐圧容器内の前記未反応のハイドレート形成ガスを冷却して循環させるガス循環路と、からなる乾燥ガスハイドレート生成装置。
  3. 回転軸を筒状にし、回転翼を中空状にし、該回転軸と該回転翼の内部を連通させて、冷媒を流通させる冷媒通路を設けた請求項2に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置。
  4. 大きさの異なる付着防止遊動体を混合して用いる請求項1〜3のいずれか一の請求項に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置。
  5. 付着防止遊動体の材質をアルミニウム、軽量セラミック、硬質プラスチックのうち少なくともいずれか一つとした請求項1〜4のいずれか一の請求項に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置。
  6. 耐圧容器内の付着防止遊動体を冷却して循環させる付着防止遊動体循環路を設けた請求項1〜5のいずれか一の請求項に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置。
  7. 付着防止遊動体を内部に蓄熱材を有するものにした請求項6に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置。
  8. 付着防止遊動体を球体とした請求項1〜7のいずれか一の請求項に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置。
  9. 耐圧容器にハイドレート形成ガスを補給するガス補給路を設けた請求項1〜8のいずれか一の請求項に記載の乾燥ガスハイドレート生成装置。
  10. 水とハイドレート形成ガスを反応させて生成した、未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含む湿潤ガスハイドレートを、気密性を有する耐圧容器の中で、該耐圧容器を回転させて該未反応の水と該未反応のハイドレート形成ガスを接触させて、新たにガスハイドレートを生成することで該未反応の水を減少させて該耐圧容器内の湿潤ガスハイドレートを乾燥ガスハイドレートとする乾燥ガスハイドレート生成方法であって、
    前記耐圧容器内に複数の球体を収容し、前記耐圧容器を回転させて該球体を遊動させて、前記耐圧容器内面に付着したガスハイドレートを取り除くようにした乾燥ガスハイドレート生成方法。
  11. 水とハイドレート形成ガスを反応させて生成した、未反応の水および未反応のハイドレート形成ガスを含む湿潤ガスハイドレートを、気密性を有する耐圧容器の中で、該耐圧容器内に設けられた回転軸に取り付けられた回転翼で攪拌して、該未反応の水と該未反応のハイドレート形成ガスを接触させて、新たにガスハイドレートを生成することで該未反応の水を減少させて該耐圧容器内の湿潤ガスハイドレートを乾燥ガスハイドレートとする乾燥ガスハイドレート生成方法であって、
    前記耐圧容器内に複数の球体を収容し、前記回転軸を回転させて該球体を遊動させて、前記耐圧容器内部に付着したガスハイドレートを取り除くようにした乾燥ガスハイドレート生成方法。
  12. 耐圧容器内の球体を取り出して前記耐圧容器とは別の冷却をした後に再び、前記耐圧容器に戻して循環させるようにした請求項10または11に記載の乾燥ガスハイドレート生成方法。
JP2004078958A 2004-03-18 2004-03-18 乾燥ガスハイドレート生成装置および生成方法 Expired - Fee Related JP4511854B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004078958A JP4511854B2 (ja) 2004-03-18 2004-03-18 乾燥ガスハイドレート生成装置および生成方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004078958A JP4511854B2 (ja) 2004-03-18 2004-03-18 乾燥ガスハイドレート生成装置および生成方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005263986A true JP2005263986A (ja) 2005-09-29
JP4511854B2 JP4511854B2 (ja) 2010-07-28

Family

ID=35088861

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004078958A Expired - Fee Related JP4511854B2 (ja) 2004-03-18 2004-03-18 乾燥ガスハイドレート生成装置および生成方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4511854B2 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100931368B1 (ko) 2008-09-23 2009-12-11 동국대학교 산학협력단 볼밀을 사용한 고압냉동분쇄식 하이드레이트 제조방법 및 이에 사용되는 하이드레이트 제조장치
KR100953107B1 (ko) * 2009-12-11 2010-04-19 동국대학교 산학협력단 분쇄 및 확산숙성 교대법을 적용한 하이드레이트 제조설비
CN109847555A (zh) * 2019-02-01 2019-06-07 常州大学 一种基于水合物法回收催化干气中多种气体的装置及方法

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0949600A (ja) * 1995-05-31 1997-02-18 Osaka Gas Co Ltd 天然ガスの貯蔵送出方法およびその装置
JP2001279278A (ja) * 2000-03-31 2001-10-10 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレート脱水装置及び多段ガスハイドレート脱水装置
JP2001348583A (ja) * 2000-06-07 2001-12-18 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレート製造装置
JP2003073679A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレートスラリー脱水装置
JP2004035840A (ja) * 2002-07-08 2004-02-05 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート脱水機
JP2004059630A (ja) * 2002-07-25 2004-02-26 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート生成方法及び装置
JP2004099831A (ja) * 2002-09-12 2004-04-02 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造方法及び装置
JP2005238042A (ja) * 2004-02-25 2005-09-08 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレートの乾燥装置

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0949600A (ja) * 1995-05-31 1997-02-18 Osaka Gas Co Ltd 天然ガスの貯蔵送出方法およびその装置
JP2001279278A (ja) * 2000-03-31 2001-10-10 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレート脱水装置及び多段ガスハイドレート脱水装置
JP2001348583A (ja) * 2000-06-07 2001-12-18 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレート製造装置
JP2003073679A (ja) * 2001-08-31 2003-03-12 Mitsubishi Heavy Ind Ltd ガスハイドレートスラリー脱水装置
JP2004035840A (ja) * 2002-07-08 2004-02-05 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート脱水機
JP2004059630A (ja) * 2002-07-25 2004-02-26 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート生成方法及び装置
JP2004099831A (ja) * 2002-09-12 2004-04-02 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレート製造方法及び装置
JP2005238042A (ja) * 2004-02-25 2005-09-08 Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd ガスハイドレートの乾燥装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100931368B1 (ko) 2008-09-23 2009-12-11 동국대학교 산학협력단 볼밀을 사용한 고압냉동분쇄식 하이드레이트 제조방법 및 이에 사용되는 하이드레이트 제조장치
KR100953107B1 (ko) * 2009-12-11 2010-04-19 동국대학교 산학협력단 분쇄 및 확산숙성 교대법을 적용한 하이드레이트 제조설비
CN109847555A (zh) * 2019-02-01 2019-06-07 常州大学 一种基于水合物法回收催化干气中多种气体的装置及方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP4511854B2 (ja) 2010-07-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100455839B1 (ko) 수화물계 축열재 및 그 제조방법, 수화물계 축열재를 이용한 축열장치, 그리고 수화물계 냉열수송매체
Chandrasekaran et al. Solidification behavior of water based nanofluid phase change material with a nucleating agent for cool thermal storage system
US20050107648A1 (en) Gas hydrate production device and gas hydrate dehydrating device
US8419969B2 (en) Clathrate hydrate with latent heat storing capability, process for producing the same, and apparatus therefor, latent heat storing medium, and method of increasing amount of latent heat of clathrate hydrate and processing apparatus for increasing amount of latent heat of clathrate hydrate
AU2002306357B9 (en) Method of pelletizing, handling and transporting gas hydrate
JP4511854B2 (ja) 乾燥ガスハイドレート生成装置および生成方法
CA2605364A1 (en) Process for producing slush fluid and apparatus therefor
JP2007254503A (ja) ガスハイドレートペレット製造装置
JP2001010990A (ja) メタンハイドレートの製造装置および製造方法
JP4665820B2 (ja) 蓄熱材の凝固融解促進方法及び蓄熱装置
JP2006002000A (ja) メタンハイドレート生成装置及びメタンガス供給システム
JP2005238042A (ja) ガスハイドレートの乾燥装置
EP2593728A1 (en) Industrial shell and tube heat exchanger
JP2850264B2 (ja) 蓄放熱方法
JP5034441B2 (ja) 潜熱蓄熱媒体の製造方法、潜熱蓄熱媒体
JP2006225471A (ja) 脱圧装置
JP2006124532A (ja) ガスハイドレート冷却装置
JP2005247920A (ja) ハイドレート生成方法および生成装置
JP2003321685A (ja) 天然ガスの包接水和物の製造方法及び製造装置
WO2019172984A1 (en) Heavy water ocean thermal energy conversion method and system
JP5482769B2 (ja) 包接水和物の潜熱蓄熱性能を変化させる装置及び方法
JP2010276285A (ja) 製氷機
JP2003321687A (ja) 天然ガス包接水和物の製造方法及び製造装置
JP2010195988A (ja) クラスレートハイドレートの製造方法
JP5482768B2 (ja) 潜熱蓄熱性能を有する包接水和物、その製造装置、潜熱蓄熱媒体ならびに、包接水和物の潜熱蓄熱量を増加させる処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20060322

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090826

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100112

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100311

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100420

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100507

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130514

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140514

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees