JP2003066460A - 液晶配向膜用光配向材 - Google Patents
液晶配向膜用光配向材Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光反応基を含まない側鎖構造を導入して配向
膜用光配向材の電気的性質を改善した新しい液晶配向膜
用光配向材を提供すること。 【解決手段】 少なくとも１種のマレイミド系重合体の
繰返し単位を含む液晶配向膜用配向材であって、前記配
向材を構成する繰返し単位のうち、光反応基を少なくと
も１つ以上含む繰返し単位と、これを含まない非光反応
基からなる繰返し単位の当量比が２：８〜１０：０であ
る液晶配向膜用光配向材。
膜用光配向材の電気的性質を改善した新しい液晶配向膜
用光配向材を提供すること。 【解決手段】 少なくとも１種のマレイミド系重合体の
繰返し単位を含む液晶配向膜用配向材であって、前記配
向材を構成する繰返し単位のうち、光反応基を少なくと
も１つ以上含む繰返し単位と、これを含まない非光反応
基からなる繰返し単位の当量比が２：８〜１０：０であ
る液晶配向膜用光配向材。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶配向膜用光配
向材に関し、より詳しくは液晶表示素子において液晶に
均一な配向状態を与えて液晶を制御する役割を果たす液
晶配向膜の電気的特性を改善し、製品の信頼性を向上さ
せるための新規の液晶配向膜用光配向材に関する。
向材に関し、より詳しくは液晶表示素子において液晶に
均一な配向状態を与えて液晶を制御する役割を果たす液
晶配向膜の電気的特性を改善し、製品の信頼性を向上さ
せるための新規の液晶配向膜用光配向材に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子は、外部の電圧印加有無に
よって電界の影響を受けた液晶の配列が変化し、その配
列の変化に応じて、液晶表示素子に流入する外部の光が
遮断及び透過される性質を用いて駆動される。このよう
な液晶表示素子は、液晶分子の配列特性によって光透過
性や応答速度、視野角、コントラスト比（ｃｏｎｔｒａ
ｓｔ ｒａｔｉｏ）などといった表示素子としての機能
が決定される。従って、液晶分子の配列を均一に制御す
る技術が非常に重要である。
よって電界の影響を受けた液晶の配列が変化し、その配
列の変化に応じて、液晶表示素子に流入する外部の光が
遮断及び透過される性質を用いて駆動される。このよう
な液晶表示素子は、液晶分子の配列特性によって光透過
性や応答速度、視野角、コントラスト比（ｃｏｎｔｒａ
ｓｔ ｒａｔｉｏ）などといった表示素子としての機能
が決定される。従って、液晶分子の配列を均一に制御す
る技術が非常に重要である。
【０００３】配向膜とは、このような液晶分子の均一な
配列、即ち配向のためにＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ
Ｏｘｉｄｅ）のような透明導電膜と液晶との間に成膜
される高分子物質をいい、これをラビング（ｒｕｂｂｉ
ｎｇ）などの機械的な方法またはその他の方法で液晶を
制御するための手段として適用される物質である。
配列、即ち配向のためにＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ
Ｏｘｉｄｅ）のような透明導電膜と液晶との間に成膜
される高分子物質をいい、これをラビング（ｒｕｂｂｉ
ｎｇ）などの機械的な方法またはその他の方法で液晶を
制御するための手段として適用される物質である。
【０００４】液晶表示素子において現在まで液晶を均一
に配列、即ち配向させる方法は、ポリイミドなどの高分
子を透明導電ガラス上に塗布して高分子配向膜を成層
し、ナイロンまたはレイヨンなどのラビング布を巻いた
回転ローラーを高速回転させながら配向膜を擦って配向
させる方法であるが、これをラビング工程（ｒｕｂｂｉ
ｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）と称する。ラビング工程によっ
て、液晶分子は配向膜の表面に一定のプレチルト角（ｐ
ｒｅｔｉｌｔ ａｎｇｌｅ）をもって配向される。
に配列、即ち配向させる方法は、ポリイミドなどの高分
子を透明導電ガラス上に塗布して高分子配向膜を成層
し、ナイロンまたはレイヨンなどのラビング布を巻いた
回転ローラーを高速回転させながら配向膜を擦って配向
させる方法であるが、これをラビング工程（ｒｕｂｂｉ
ｎｇ ｐｒｏｃｅｓｓ）と称する。ラビング工程によっ
て、液晶分子は配向膜の表面に一定のプレチルト角（ｐ
ｒｅｔｉｌｔ ａｎｇｌｅ）をもって配向される。
【０００５】ラビング工程による液晶配向方法は、未だ
液晶を容易かつ安定的に配向できるほぼ唯一の方法なの
で、現在液晶表示素子を製造する大部分の会社で製品量
産のためのプロセスに普遍的に適用されている。しか
し、ラビング工程は、ラビング時に液晶配向膜の表面に
機械的なスクラッチを生じさせるか或いは高い静電気を
発生させるために、薄膜トランジスタを破壊し、ラビン
グ布の微細なファイバなどによって不良を起こす要因と
なっており、生産収率の向上を害している。このような
ラビングの問題点を克服し、生産的な面において革新を
成し遂げようと新しく創案された液晶配向方式が、Ｕ
Ｖ、即ち光による液晶配向（以下、光配向）である。
液晶を容易かつ安定的に配向できるほぼ唯一の方法なの
で、現在液晶表示素子を製造する大部分の会社で製品量
産のためのプロセスに普遍的に適用されている。しか
し、ラビング工程は、ラビング時に液晶配向膜の表面に
機械的なスクラッチを生じさせるか或いは高い静電気を
発生させるために、薄膜トランジスタを破壊し、ラビン
グ布の微細なファイバなどによって不良を起こす要因と
なっており、生産収率の向上を害している。このような
ラビングの問題点を克服し、生産的な面において革新を
成し遂げようと新しく創案された液晶配向方式が、Ｕ
Ｖ、即ち光による液晶配向（以下、光配向）である。
【０００６】また、最近、液晶ディスプレイの大型化に
伴って、ノートブックなどの個人用から壁掛けＴＶ用な
どの家庭用へ用途が段々拡張されるにつれて、液晶ディ
スプレイに対しては高画質、高品位化および光視野角が
要求されている。最近、光配向は液晶ディスプレイの品
質を達成するための方法としても脚光を浴び始めた。
伴って、ノートブックなどの個人用から壁掛けＴＶ用な
どの家庭用へ用途が段々拡張されるにつれて、液晶ディ
スプレイに対しては高画質、高品位化および光視野角が
要求されている。最近、光配向は液晶ディスプレイの品
質を達成するための方法としても脚光を浴び始めた。
【０００７】ところが、Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ等（Ｊｐｎ．
Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ．，Ｖｏｌ． ３１，
１９９２， ２１５５）、 Ｄａｅ Ｓ． Ｋａｎｇ等
（米国特許第５，４６４，６６９号）、Ｙｕｒｉｙ Ｒ
ｅｚｎｉｋｏｖ（Ｊｐｎ．Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙ
ｓ．， Ｖｏｌ． ３４， １９９５， Ｌ１０００）
等によって発表された光配向は、その概念の優秀性にも
拘わらず、これを裏付けるべき新しい物質開発に困り、
未だ商業化に差しかかっていない。この最も主な理由
は、既存の液晶ディスプレイ製作工程に無理なく適用さ
れるほど工程性を満足させていないか、或いはディスプ
レイの表示品質が既存のラビング用ポリイミド（ｐｏｌ
ｙｉｍｉｄｅ）に比較されるべき水準まで到達していな
いことにある。
Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙｓ．，Ｖｏｌ． ３１，
１９９２， ２１５５）、 Ｄａｅ Ｓ． Ｋａｎｇ等
（米国特許第５，４６４，６６９号）、Ｙｕｒｉｙ Ｒ
ｅｚｎｉｋｏｖ（Ｊｐｎ．Ｊ． Ａｐｐｌ． Ｐｈｙ
ｓ．， Ｖｏｌ． ３４， １９９５， Ｌ１０００）
等によって発表された光配向は、その概念の優秀性にも
拘わらず、これを裏付けるべき新しい物質開発に困り、
未だ商業化に差しかかっていない。この最も主な理由
は、既存の液晶ディスプレイ製作工程に無理なく適用さ
れるほど工程性を満足させていないか、或いはディスプ
レイの表示品質が既存のラビング用ポリイミド（ｐｏｌ
ｙｉｍｉｄｅ）に比較されるべき水準まで到達していな
いことにある。
【０００８】一方、本発明者らは、韓国特許公開第２０
００−８６３３号で、マレイミドの単独重合体または共
重合体にシンナメート基を含む側鎖構造を導入した構造
の光配向材を提示したことがある。ところが、実際、液
晶ディスプレイ装置に適用するには、電気的特性及び電
気光学的特性が十分でないので、依然と改善の余地が多
い。
００−８６３３号で、マレイミドの単独重合体または共
重合体にシンナメート基を含む側鎖構造を導入した構造
の光配向材を提示したことがある。ところが、実際、液
晶ディスプレイ装置に適用するには、電気的特性及び電
気光学的特性が十分でないので、依然と改善の余地が多
い。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる従来
の技術の問題点を解決するためのもので、その目的は光
反応基を含まない側鎖構造を導入して配向膜用光配向材
の電気的性質を改善した新しい液晶配向膜用光配向材を
提供することにある。
の技術の問題点を解決するためのもので、その目的は光
反応基を含まない側鎖構造を導入して配向膜用光配向材
の電気的性質を改善した新しい液晶配向膜用光配向材を
提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、下記化学式１で表わされる繰返し単位、
または化学式１で表わされる繰返し単位及び下記化学式
２で表わされる繰返し単位からなる群より選択された１
種以上の繰返し単位で構成される液晶配向膜用光配向材
であって、前記光配向材を構成する繰返し単位のうち、
下記化学式５で表わされる作用基からなる群より選択さ
れた光反応基を少なくとも１つ以上含む繰返し単位とこ
れを含まない、即ち非光反応基のみからなる繰返し単位
の当量比が２：８〜１０：０であることを特徴とする液
晶配向膜用光配向材を提供する。
に、本発明は、下記化学式１で表わされる繰返し単位、
または化学式１で表わされる繰返し単位及び下記化学式
２で表わされる繰返し単位からなる群より選択された１
種以上の繰返し単位で構成される液晶配向膜用光配向材
であって、前記光配向材を構成する繰返し単位のうち、
下記化学式５で表わされる作用基からなる群より選択さ
れた光反応基を少なくとも１つ以上含む繰返し単位とこ
れを含まない、即ち非光反応基のみからなる繰返し単位
の当量比が２：８〜１０：０であることを特徴とする液
晶配向膜用光配向材を提供する。
【００１１】
【化８】
【００１２】
【化９】
【００１３】（式中、Ｘはそれぞれ独立に水素原子、炭
素数１〜１４の直鎖状もしくは分枝状アルキル基、フッ
素原子、または塩素原子であり、Ｙは酸素原子または炭
素数２〜１４のアルキレン基であり、Ｒは下記化学式３
で表わされる。）
素数１〜１４の直鎖状もしくは分枝状アルキル基、フッ
素原子、または塩素原子であり、Ｙは酸素原子または炭
素数２〜１４のアルキレン基であり、Ｒは下記化学式３
で表わされる。）
【００１４】
【化１０】
【００１５】（式中、Ｒ1は下記化学式４で表わされる
作用基からなる群より選択され、Ｒ2は下記化学式５及
び６で表わされる作用基からなる群より選択され、Ｒ3
は下記化学式７で表わされる作用基からなる群より選択
され、ｋは０〜３の整数であり、１は０〜５の整数であ
り、前記Ｒ1、Ｒ2が複数個の場合、それぞれのＲ1、Ｒ2
は互いに異なることもある。）
作用基からなる群より選択され、Ｒ2は下記化学式５及
び６で表わされる作用基からなる群より選択され、Ｒ3
は下記化学式７で表わされる作用基からなる群より選択
され、ｋは０〜３の整数であり、１は０〜５の整数であ
り、前記Ｒ1、Ｒ2が複数個の場合、それぞれのＲ1、Ｒ2
は互いに異なることもある。）
【００１６】
【化１１】
【００１７】（式中、ｑは０〜１０の整数である。）
【００１８】
【化１２】
【００１９】
【化１３】
【００２０】
【化１４】
【００２１】（式中、Ｚはそれぞれ独立に水素原子、炭
素数１〜１３のアルキル基またはアルコキシ基、ｐが０
〜１２の整数を表す−（ＯＣＨ2）pＣＨ3、フッ素原
子、または塩素原子であり、ｍは０〜１８の整数であ
る。）
素数１〜１３のアルキル基またはアルコキシ基、ｐが０
〜１２の整数を表す−（ＯＣＨ2）pＣＨ3、フッ素原
子、または塩素原子であり、ｍは０〜１８の整数であ
る。）
【００２２】
【発明の実施の形態】以下、本発明をより詳しく説明す
る。
る。
【００２３】本発明の光配向材は、マレイミド系列の単
独重合体または共重合体から構成される。前記マレイミ
ド系列の重合体は、既存のポリビニールアルコール炭化
水素系ポリマーに比較して熱安定性に優れ、液晶ディス
プレイの製造のための工程要求温度、即ち２００℃以上
の熱安定性を確保することができる。従って、マレイミ
ドを基本的な主鎖構造に導入して配向膜の熱安定性を高
めようとした。
独重合体または共重合体から構成される。前記マレイミ
ド系列の重合体は、既存のポリビニールアルコール炭化
水素系ポリマーに比較して熱安定性に優れ、液晶ディス
プレイの製造のための工程要求温度、即ち２００℃以上
の熱安定性を確保することができる。従って、マレイミ
ドを基本的な主鎖構造に導入して配向膜の熱安定性を高
めようとした。
【００２４】本発明では、配向膜の電気的特性を改善す
るために、光配向材ポリマーを構成する繰返し単位にお
いて、感光性反応基を有する繰返し単位と非感光性構造
の繰返し単位を一定比率で調節するようにしたことを特
徴とする。即ち、ポリマーを構成する繰返し単位とし
て、非感光性構造の繰返し単位が必須的に含まれるよう
にして、配向膜の電気的特性を向上させている。
るために、光配向材ポリマーを構成する繰返し単位にお
いて、感光性反応基を有する繰返し単位と非感光性構造
の繰返し単位を一定比率で調節するようにしたことを特
徴とする。即ち、ポリマーを構成する繰返し単位とし
て、非感光性構造の繰返し単位が必須的に含まれるよう
にして、配向膜の電気的特性を向上させている。
【００２５】また、電気的分極現象を減らすフッ素やア
ルキル基などの機能基を側鎖の末端に導入して電気的特
性をさらに改善している。このような物質は、透過率や
絶縁率、電気光学的特性などに優れているため、光学材
料と電子材料分野において広く応用されており、日増し
にその適用範囲が拡大しつつある。ところが、このよう
な要素は、材料に有利な特性のみを与えるものではな
く、特に成膜性において多くの問題点を抱えている。成
膜性は物質の塗布性と平坦性、界面における接着性など
を含んだ概念であって、これは液晶表示素子の製造にお
いて非常に重要な工程要素である。前記要素の含量が高
い物質であるほど、成膜性が劣化するのが一般的な現象
であるが、本発明ではこれら置換基の含量及び物質内に
おける置換位置を最適化してこれを克服した。
ルキル基などの機能基を側鎖の末端に導入して電気的特
性をさらに改善している。このような物質は、透過率や
絶縁率、電気光学的特性などに優れているため、光学材
料と電子材料分野において広く応用されており、日増し
にその適用範囲が拡大しつつある。ところが、このよう
な要素は、材料に有利な特性のみを与えるものではな
く、特に成膜性において多くの問題点を抱えている。成
膜性は物質の塗布性と平坦性、界面における接着性など
を含んだ概念であって、これは液晶表示素子の製造にお
いて非常に重要な工程要素である。前記要素の含量が高
い物質であるほど、成膜性が劣化するのが一般的な現象
であるが、本発明ではこれら置換基の含量及び物質内に
おける置換位置を最適化してこれを克服した。
【００２６】また、アルキル基及びフッ素の置換率が高
い配向膜を使用する場合、表面エネルギーが非常に低く
なってプレチルト角が必要以上に高くなる場合が発生
し、一般的なＴＮモード液晶表示素子として使用できな
くなるが、本発明ではアルキル基及びフッ素を側鎖の最
外郭位置に導入して前記の現象を最小化した。
い配向膜を使用する場合、表面エネルギーが非常に低く
なってプレチルト角が必要以上に高くなる場合が発生
し、一般的なＴＮモード液晶表示素子として使用できな
くなるが、本発明ではアルキル基及びフッ素を側鎖の最
外郭位置に導入して前記の現象を最小化した。
【００２７】このような特徴を有する本発明の配向剤
は、下記化学式１で表わされる繰返し単位で構成される
単独重合体、或いは化学式１で表わされる繰返し単位及
び下記化学式２で表わされる繰返し単位からなる群より
選択された１種以上の繰返し単位で構成される共重合体
である。
は、下記化学式１で表わされる繰返し単位で構成される
単独重合体、或いは化学式１で表わされる繰返し単位及
び下記化学式２で表わされる繰返し単位からなる群より
選択された１種以上の繰返し単位で構成される共重合体
である。
【００２８】
【化１５】
【００２９】
【化１６】
【００３０】（式中、Ｘはそれぞれ独立に水素原子、炭
素数１〜１４の直鎖状もしくは分枝状アルキル基、フッ
素原子、または塩素原子であり、Ｙは酸素原子または炭
素数２〜１４のアルキレン基であり、Ｒは下記化学式３
で表わされる。）
素数１〜１４の直鎖状もしくは分枝状アルキル基、フッ
素原子、または塩素原子であり、Ｙは酸素原子または炭
素数２〜１４のアルキレン基であり、Ｒは下記化学式３
で表わされる。）
【００３１】
【化１７】
【００３２】（式中、Ｒ1は下記化学式４で表わされる
作用基からなる群より選択され、Ｒ2は下記化学式５及
び６で表わされる作用基からなる群より選択され、Ｒ3
は下記化学式７で表わされる作用基からなる群より選択
され、ｋは０〜３の整数であり、１は０〜５の整数であ
り、前記Ｒ1、Ｒ2が複数個の場合、それぞれのＲ1、Ｒ2
は互いに異なることもある。）
作用基からなる群より選択され、Ｒ2は下記化学式５及
び６で表わされる作用基からなる群より選択され、Ｒ3
は下記化学式７で表わされる作用基からなる群より選択
され、ｋは０〜３の整数であり、１は０〜５の整数であ
り、前記Ｒ1、Ｒ2が複数個の場合、それぞれのＲ1、Ｒ2
は互いに異なることもある。）
【００３３】
【化１８】
【００３４】（式中、ｑは０〜１０の整数である。）
【００３５】
【化１９】
【００３６】
【化２０】
【００３７】
【化２１】
【００３８】（式中、Ｚはそれぞれ独立に水素原子、炭
素数１〜１３のアルキル基またはアルコキシ基、ｐが０
〜１２の整数を表す−（ＯＣＨ2）pＣＨ3、フッ素原
子、または塩素原子であり、ｍは０〜１８の整数であ
る。） 前記本発明の光配向材を構成する側鎖構造は、化学式５
で表わされる光反応基を含む構造と光反応基を含まない
構造に分けられる。前述したように、本発明の光配向材
は、前記光反応基を含む構造と光反応基を含まない構造
との比率を調節して光配向材の電気的特性の向上効果を
得ようとする。即ち、本発明は前記化学式５で表わされ
る作用基からなる群より選択された感光基を少なくとも
１つ以上含む繰返し単位とこれを含まない、即ち非光反
応基のみで構成される繰返し単位の当量比が２：８〜１
０：０、より好ましくは４：６〜９：１となるように調
節したことを特徴とする。感光基を含む繰返し単位の当
量比を２０％以上としたのは、液晶配向のための最小光
反応基の比率をいうもので、これより少ない場合、液晶
の配向特性が著しく低下して配向材としての役割を果た
すことができないためである。
素数１〜１３のアルキル基またはアルコキシ基、ｐが０
〜１２の整数を表す−（ＯＣＨ2）pＣＨ3、フッ素原
子、または塩素原子であり、ｍは０〜１８の整数であ
る。） 前記本発明の光配向材を構成する側鎖構造は、化学式５
で表わされる光反応基を含む構造と光反応基を含まない
構造に分けられる。前述したように、本発明の光配向材
は、前記光反応基を含む構造と光反応基を含まない構造
との比率を調節して光配向材の電気的特性の向上効果を
得ようとする。即ち、本発明は前記化学式５で表わされ
る作用基からなる群より選択された感光基を少なくとも
１つ以上含む繰返し単位とこれを含まない、即ち非光反
応基のみで構成される繰返し単位の当量比が２：８〜１
０：０、より好ましくは４：６〜９：１となるように調
節したことを特徴とする。感光基を含む繰返し単位の当
量比を２０％以上としたのは、液晶配向のための最小光
反応基の比率をいうもので、これより少ない場合、液晶
の配向特性が著しく低下して配向材としての役割を果た
すことができないためである。
【００３９】前記化学式７は側鎖構造の末端を示す部分
であり、ここに特定形態のフッ素、塩素、アルキル基な
どを導入して配向膜としての電気的安定性及び光特性を
向上させようとした。化学式７に表示されたＺのうち少
なくとも１つ以上がフッ素原子であることが電気光学的
特性を向上させる。即ち、これらＺの導入形態を調節
し、置換の程度及び位置の調節によってより優れた電気
光学的特性を示す光配向材を合成することができた。
であり、ここに特定形態のフッ素、塩素、アルキル基な
どを導入して配向膜としての電気的安定性及び光特性を
向上させようとした。化学式７に表示されたＺのうち少
なくとも１つ以上がフッ素原子であることが電気光学的
特性を向上させる。即ち、これらＺの導入形態を調節
し、置換の程度及び位置の調節によってより優れた電気
光学的特性を示す光配向材を合成することができた。
【００４０】このような構造の光配向用ポリマーを溶媒
に溶解させ、既存のラビング用ポリイミドの代りに配向
膜として使用し、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板にプ
リンティング方式で塗布して光配向フィルムを成膜した
後、既存のラビング工程に代えて３ｋＷ水銀ランプなど
を使用して、偏光した紫外線で液晶配向のための露光工
程を行わせることができる。この際、光エネルギーとし
ては、通常２００〜２０００Ｊ／ｃｍ2のものを使用
し、一般にエネルギー強度が５０Ｊ／ｃｍ2程度以上で
あれば、液晶を配向させることができる。この際、液晶
の配向に一定の方向性を与えるために、プレチルト角
（ｐｒｅｔｉｌｔ ａｎｇｌｅ）を液晶に与えなければ
ならないが、これを実現するためにＵＶの照射面に一定
の角度で配向膜の表面を傾かせて照射する傾斜照射を原
則とする。これは既存のラビング工程で液晶を配向する
方法により、ラビングの強さや回数などを調節してプレ
チルト角を調節することと同じ原理である。
に溶解させ、既存のラビング用ポリイミドの代りに配向
膜として使用し、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板にプ
リンティング方式で塗布して光配向フィルムを成膜した
後、既存のラビング工程に代えて３ｋＷ水銀ランプなど
を使用して、偏光した紫外線で液晶配向のための露光工
程を行わせることができる。この際、光エネルギーとし
ては、通常２００〜２０００Ｊ／ｃｍ2のものを使用
し、一般にエネルギー強度が５０Ｊ／ｃｍ2程度以上で
あれば、液晶を配向させることができる。この際、液晶
の配向に一定の方向性を与えるために、プレチルト角
（ｐｒｅｔｉｌｔ ａｎｇｌｅ）を液晶に与えなければ
ならないが、これを実現するためにＵＶの照射面に一定
の角度で配向膜の表面を傾かせて照射する傾斜照射を原
則とする。これは既存のラビング工程で液晶を配向する
方法により、ラビングの強さや回数などを調節してプレ
チルト角を調節することと同じ原理である。
【００４１】
【実施例】以下、実施例によって本発明をより詳細に説
明する。下記実施例は本発明を説明するためのものに過
ぎず、本発明を制限するものではない。
明する。下記実施例は本発明を説明するためのものに過
ぎず、本発明を制限するものではない。
【００４２】１）光配向材の合成
（実施例１）
【００４３】
【化２２】
【００４４】無水マレイン酸（ｍａｌｅｉｃ ａｎｈｙ
ｄｒｉｄｅ）１０ｇ（０．１０モル）とアミノフェノー
ル（ａｍｉｎｏｐｈｅｎｏｌ）１０．１ｇ（０．０９モ
ル）をトルエン１００ｍｌに加え、常温で２時間攪拌し
てアミン酸の形で反応させた後、これを無水酢酸（ａｃ
ｅｔｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）１００ｍｌに投入して
酢酸ナトリウム（ｓｏｄｉｕｍ ａｃｅｔａｔｅ：ＣＨ
3ＣＯＯＮａ）０．４１ｇ（０．００５モル）で９５℃
にて４時間脱水化反応させ、４−アセトキシフェニルマ
レイミド（４−Ａｃｅｔｏｘｙｐｈｅｎｙｌｍａｌｅｉ
ｍｉｄｅ）を５０％の収率で製造した。
ｄｒｉｄｅ）１０ｇ（０．１０モル）とアミノフェノー
ル（ａｍｉｎｏｐｈｅｎｏｌ）１０．１ｇ（０．０９モ
ル）をトルエン１００ｍｌに加え、常温で２時間攪拌し
てアミン酸の形で反応させた後、これを無水酢酸（ａｃ
ｅｔｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）１００ｍｌに投入して
酢酸ナトリウム（ｓｏｄｉｕｍ ａｃｅｔａｔｅ：ＣＨ
3ＣＯＯＮａ）０．４１ｇ（０．００５モル）で９５℃
にて４時間脱水化反応させ、４−アセトキシフェニルマ
レイミド（４−Ａｃｅｔｏｘｙｐｈｅｎｙｌｍａｌｅｉ
ｍｉｄｅ）を５０％の収率で製造した。
【００４５】
【化２３】
【００４６】前記で合成された４−アセトキシフェニル
マレイミド１０ｇ（０．０４３モル）を、アセトン下で
重合開始剤としてＡＩＢＮ（２，２’−Ａｚｏｂｉｓｉ
ｓｏｂｕｔｙｒｏｎｉｔｒｉｌｅ）０．３５ｇを用いて
６５℃で４時間ラジカル重合させ、下記の如く重合体を
合成した。
マレイミド１０ｇ（０．０４３モル）を、アセトン下で
重合開始剤としてＡＩＢＮ（２，２’−Ａｚｏｂｉｓｉ
ｓｏｂｕｔｙｒｏｎｉｔｒｉｌｅ）０．３５ｇを用いて
６５℃で４時間ラジカル重合させ、下記の如く重合体を
合成した。
【００４７】
【化２４】
【００４８】このように作られた重合体を、メタノール
／アセトンの混合溶媒１Ｌ下でｐ−トルエンスルホン酸
（ｐ−ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ａｃｉｄ：ｐ
−ＴｓＯＨ）５ｇを用いて８０℃で５時間脱保護化さ
せ、下記化学式のポリマーを８５％の収率で合成した。
／アセトンの混合溶媒１Ｌ下でｐ−トルエンスルホン酸
（ｐ−ｔｏｌｕｅｎｅｓｕｌｆｏｎｉｃ ａｃｉｄ：ｐ
−ＴｓＯＨ）５ｇを用いて８０℃で５時間脱保護化さ
せ、下記化学式のポリマーを８５％の収率で合成した。
【００４９】
【化２５】
【００５０】一方、側鎖光反応基は次のように合成され
た。まず、４−ヒドロキシアセトフェノーン（４−ｈｙ
ｄｒｏｘｙａｃｅｔｏｐｈｅｎｏｎｅ）１０．２ｇ
（０．０７５モル）を水溶性ＮａＯＨ溶液（０．７％Ｎ
ａＯＨ）に溶かした後、ベンズアルデヒド（ｂｅｎｚａ
ｌｄｅｈｙｄｅ）８ｇ（０．０７５モル）を加え、常温
で８時間攪拌した。この溶液を５Ｎ ＨＣｌ溶液で中性
化して次の如く４−ヒドロキシカルコン（４−ｈｙｄｒ
ｏｘｙｃｈａｌｃｏｎｅ）を５０％の収率で合成した。
た。まず、４−ヒドロキシアセトフェノーン（４−ｈｙ
ｄｒｏｘｙａｃｅｔｏｐｈｅｎｏｎｅ）１０．２ｇ
（０．０７５モル）を水溶性ＮａＯＨ溶液（０．７％Ｎ
ａＯＨ）に溶かした後、ベンズアルデヒド（ｂｅｎｚａ
ｌｄｅｈｙｄｅ）８ｇ（０．０７５モル）を加え、常温
で８時間攪拌した。この溶液を５Ｎ ＨＣｌ溶液で中性
化して次の如く４−ヒドロキシカルコン（４−ｈｙｄｒ
ｏｘｙｃｈａｌｃｏｎｅ）を５０％の収率で合成した。
【００５１】
【化２６】
【００５２】このように合成された４−ヒドロキシカル
コン１１．２ｇ（０．０５モル）をＤＭＦ（Ｄｉｍｅｔ
ｈｙｌ ｆｏｒｍａｍｉｄｅ）６０ｍｌとトルエン６０
ｍｌに溶かした後、Ｋ2ＣＯ3 ８ｇ（０．０６モル）を
加え、還流（ｒｅｆｌｕｘ）して水を抜き取った後、フ
ルオロ安息香酸（４−ｆｌｕｏｒｏｂｅｎｚｏｉｃａｃ
ｉｄ）８．３ｇ（０．０５モル）を加えた。２４時間還
流して所望の生成物を４０％の収率で合成した。
コン１１．２ｇ（０．０５モル）をＤＭＦ（Ｄｉｍｅｔ
ｈｙｌ ｆｏｒｍａｍｉｄｅ）６０ｍｌとトルエン６０
ｍｌに溶かした後、Ｋ2ＣＯ3 ８ｇ（０．０６モル）を
加え、還流（ｒｅｆｌｕｘ）して水を抜き取った後、フ
ルオロ安息香酸（４−ｆｌｕｏｒｏｂｅｎｚｏｉｃａｃ
ｉｄ）８．３ｇ（０．０５モル）を加えた。２４時間還
流して所望の生成物を４０％の収率で合成した。
【００５３】
【化２７】
【００５４】このように合成された側鎖光反応基２．５
ｇ（０．００７モル）をアシルクロライド（ａｃｙｌｃ
ｈｌｏｒｉｄｅ）反応させた後、ここに１−メチル−２
−ピロリジノン（１−ｍｅｔｈｙｌ−２−ｐｙｒｒｏｌ
ｉｄｉｎｏｎｅ）２０ｍｌ下でトリエチルアミン（ｔｒ
ｉｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ）１．０９ｇ（０．０１モル）
を加えた後、常温で１時間攪拌し、前記で合成された高
分子１ｇ（０．００３モル）に置換させて本実施例の光
配向剤を６０％の収率で製造した。
ｇ（０．００７モル）をアシルクロライド（ａｃｙｌｃ
ｈｌｏｒｉｄｅ）反応させた後、ここに１−メチル−２
−ピロリジノン（１−ｍｅｔｈｙｌ−２−ｐｙｒｒｏｌ
ｉｄｉｎｏｎｅ）２０ｍｌ下でトリエチルアミン（ｔｒ
ｉｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ）１．０９ｇ（０．０１モル）
を加えた後、常温で１時間攪拌し、前記で合成された高
分子１ｇ（０．００３モル）に置換させて本実施例の光
配向剤を６０％の収率で製造した。
【００５５】
【化２８】
【００５６】（実施例２）
【００５７】
【化２９】
【００５８】前記ポリマーの主鎖構造の合成は、実施例
１における合成過程に準じた。即ち、実施例１と同一の
方法で合成された４−アセトキシフェニルマレイミド１
０ｇ（０．０４３モル）、アセトキシスチレン（Ａｃｅ
ｔｏｘｙｓｔｙｒｅｎｅ）６．９７ｇ（０．０４３モ
ル）、及び重合開始剤としてのＡＩＢＮ０．３５ｇをア
セトン溶媒に入れて６５℃で４時間ラジカル重合させ、
下記式の如き構造の共重合体を合成した。
１における合成過程に準じた。即ち、実施例１と同一の
方法で合成された４−アセトキシフェニルマレイミド１
０ｇ（０．０４３モル）、アセトキシスチレン（Ａｃｅ
ｔｏｘｙｓｔｙｒｅｎｅ）６．９７ｇ（０．０４３モ
ル）、及び重合開始剤としてのＡＩＢＮ０．３５ｇをア
セトン溶媒に入れて６５℃で４時間ラジカル重合させ、
下記式の如き構造の共重合体を合成した。
【００５９】
【化３０】
【００６０】前記で製造された重合体を、メタノール／
アセトンの混合溶媒（１Ｌ）下でｐ−トルエンスルホン
酸５ｇを用いて８０℃で５時間脱保護化させ、下記の如
き本発明の高分子主鎖構造を有する重合体を８５％の収
率で合成した。
アセトンの混合溶媒（１Ｌ）下でｐ−トルエンスルホン
酸５ｇを用いて８０℃で５時間脱保護化させ、下記の如
き本発明の高分子主鎖構造を有する重合体を８５％の収
率で合成した。
【００６１】
【化３１】
【００６２】一方、側鎖反応基の場合は次のように合成
した。まず、４−カルボキシベンズアルデヒド（４−ｃ
ａｒｂｏｘｙｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅ）１ｇ（０．０
０６モル）をチオニルクロライド（Ｔｈｉｏｎｙｌ ｃ
ｈｌｏｒｉｄｅ：ＳＯＣｌ2）０．７９ｇ（０．００６
モル）とジクロロメタン（ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈａ
ｎｅ）で４０分間反応させた後、ピリジン５０ｍｌでエ
チルマロネート０．７９ｇ（０．００６モル）と常温で
３時間反応させ、再びアシル−クロライド（ａｃｙｌ
ｃｈｌｏｒｉｄｅ）反応を経て中間体のエチルトランス
クロロカルボニルシンナメート（Ｅｔｈｙｌ−ｔｒａｎ
ｓ−ｃｈｌｏｒｏｃａｒｂｏｎｙｌ ｃｉｎｎａｍａｔ
ｅ）を５０％の収率で合成した。このように合成された
物質を、ＮａＯＨ／ＤＭＳＯ（Ｄｉｍｅｔｈｙｌ ｓｕ
ｌｆｏｘｉｄｅ）水溶液を用いて４−ヒドロキシ安息香
酸（ｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）０．９
８ｇ（０．００６モル）と常温で２時間反応させること
により、下記のような側鎖光反応基を６０％の収率で合
成した。
した。まず、４−カルボキシベンズアルデヒド（４−ｃ
ａｒｂｏｘｙｂｅｎｚａｌｄｅｈｙｄｅ）１ｇ（０．０
０６モル）をチオニルクロライド（Ｔｈｉｏｎｙｌ ｃ
ｈｌｏｒｉｄｅ：ＳＯＣｌ2）０．７９ｇ（０．００６
モル）とジクロロメタン（ｄｉｃｈｌｏｒｏｍｅｔｈａ
ｎｅ）で４０分間反応させた後、ピリジン５０ｍｌでエ
チルマロネート０．７９ｇ（０．００６モル）と常温で
３時間反応させ、再びアシル−クロライド（ａｃｙｌ
ｃｈｌｏｒｉｄｅ）反応を経て中間体のエチルトランス
クロロカルボニルシンナメート（Ｅｔｈｙｌ−ｔｒａｎ
ｓ−ｃｈｌｏｒｏｃａｒｂｏｎｙｌ ｃｉｎｎａｍａｔ
ｅ）を５０％の収率で合成した。このように合成された
物質を、ＮａＯＨ／ＤＭＳＯ（Ｄｉｍｅｔｈｙｌ ｓｕ
ｌｆｏｘｉｄｅ）水溶液を用いて４−ヒドロキシ安息香
酸（ｈｙｄｒｏｘｙｂｅｎｚｏｉｃ ａｃｉｄ）０．９
８ｇ（０．００６モル）と常温で２時間反応させること
により、下記のような側鎖光反応基を６０％の収率で合
成した。
【００６３】
【化３２】
【００６４】合成された側鎖光反応基２．５ｇ（０．０
０７モル）をアシル−クロライド反応させた後、前記で
合成された高分子主鎖構造１ｇ（０．００３モル）、ト
リエチルアミン１．０９ｇ（０．０１モル）と共に１−
メチル−２−ピロリジノン２０ｍｌに溶かした後、常温
で攪拌させ、本実施例の光配向材を６０％の収率で製造
した。
０７モル）をアシル−クロライド反応させた後、前記で
合成された高分子主鎖構造１ｇ（０．００３モル）、ト
リエチルアミン１．０９ｇ（０．０１モル）と共に１−
メチル−２−ピロリジノン２０ｍｌに溶かした後、常温
で攪拌させ、本実施例の光配向材を６０％の収率で製造
した。
【００６５】
【化３３】
【００６６】（実施例３）
【００６７】
【化３４】
【００６８】エキソ−３，６−エポキシ−１，２，３，
６−テトラヒドロフタル酸無水物（ｅｘｏ−３，６−ｅ
ｐｏｘｙ−１，２，３，６−ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｐｈ
ｔｈａｌｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）１０ｇ（０．０６
モル）とアミノフェノール６．７３ｇ（０．０６モル）
をトルエン１００ｍｌに加え、常温で２時間攪拌してア
ミン酸の形で反応させた後、これを無水酢酸１００ｍｌ
で酢酸ナトリウム２．４６ｇ（０．００５モル）と９５
℃で４時間脱水反応させ、４−アセトキシフェニル−
３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフタ
ル酸イミド（４−Ａｃｅｔｏｘｙｐｈｅｎｙｌ−３，６
−ｅｐｏｘｙ−１，２，３，６−ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏ
ｐｈｔｈａｌｉｃｉｍｉｄｅ）を５０％の収率で製造し
た。
６−テトラヒドロフタル酸無水物（ｅｘｏ−３，６−ｅ
ｐｏｘｙ−１，２，３，６−ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏｐｈ
ｔｈａｌｉｃ ａｎｈｙｄｒｉｄｅ）１０ｇ（０．０６
モル）とアミノフェノール６．７３ｇ（０．０６モル）
をトルエン１００ｍｌに加え、常温で２時間攪拌してア
ミン酸の形で反応させた後、これを無水酢酸１００ｍｌ
で酢酸ナトリウム２．４６ｇ（０．００５モル）と９５
℃で４時間脱水反応させ、４−アセトキシフェニル−
３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフタ
ル酸イミド（４−Ａｃｅｔｏｘｙｐｈｅｎｙｌ−３，６
−ｅｐｏｘｙ−１，２，３，６−ｔｅｔｒａｈｙｄｒｏ
ｐｈｔｈａｌｉｃｉｍｉｄｅ）を５０％の収率で製造し
た。
【００６９】
【化３５】
【００７０】実施例１と同一の方法で合成された４−ア
セトキシマレイミド単量体１０ｇ（０．０４３モル）、
前記で合成された４−アセトキシフェニル−３，６−エ
ポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸イミド
７．８ｇ（０．０３モル）、アセトキシスチレン２．７
ｇ（０．０２モル）、及び重合開始剤としてのＡＩＢＮ
０．７１ｇをアセトン溶媒に入れ、６５℃で４時間ラジ
カル重合させて下記式の如く三元共重合体を合成した。
セトキシマレイミド単量体１０ｇ（０．０４３モル）、
前記で合成された４−アセトキシフェニル−３，６−エ
ポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸イミド
７．８ｇ（０．０３モル）、アセトキシスチレン２．７
ｇ（０．０２モル）、及び重合開始剤としてのＡＩＢＮ
０．７１ｇをアセトン溶媒に入れ、６５℃で４時間ラジ
カル重合させて下記式の如く三元共重合体を合成した。
【００７１】
【化３６】
【００７２】前記製造された共重合体を実施例１と同一
の方法で脱保護化させ、下記のような最終的な高分子を
８５％の収率で合成した。
の方法で脱保護化させ、下記のような最終的な高分子を
８５％の収率で合成した。
【００７３】
【化３７】
【００７４】このように合成されたポリマー５ｇ（０．
０１３モル）を１−メチル−２−ピロリジノン５０ｍｌ
下に溶かした後、トリエチルアミン４．７ｇ（０．４６
８モル）と側鎖反応基の４−メトキシシンナモイルクロ
ライド（４−ｍｅｔｈｏｘｙｃｉｎｎａｍｏｙｌｃｈｌ
ｏｒｉｄｅ）６．１ｇ（０．０３モル）を加え、常温で
１時間攪拌する方法によって置換させることにより、本
実施例の光配向材を６０％の収率で製造した。
０１３モル）を１−メチル−２−ピロリジノン５０ｍｌ
下に溶かした後、トリエチルアミン４．７ｇ（０．４６
８モル）と側鎖反応基の４−メトキシシンナモイルクロ
ライド（４−ｍｅｔｈｏｘｙｃｉｎｎａｍｏｙｌｃｈｌ
ｏｒｉｄｅ）６．１ｇ（０．０３モル）を加え、常温で
１時間攪拌する方法によって置換させることにより、本
実施例の光配向材を６０％の収率で製造した。
【００７５】
【化３８】
【００７６】（実施例４）
【００７７】
【化３９】
【００７８】実施例１と同一の方法で合成された４−ア
セトキシマレイミド１０ｇ（０．０４３モル）、アセト
キシスチレン４．２ｇ（０．０２５モル）、ビニールア
セテート１．４３ｇ（０．０１６モル）、及び重合開始
剤としてのＡＩＢＮ０．３５ｇをアセトン溶媒に加え、
６５℃で４時間ラジカル重合させて下記式の如く三元共
重合体を合成した。
セトキシマレイミド１０ｇ（０．０４３モル）、アセト
キシスチレン４．２ｇ（０．０２５モル）、ビニールア
セテート１．４３ｇ（０．０１６モル）、及び重合開始
剤としてのＡＩＢＮ０．３５ｇをアセトン溶媒に加え、
６５℃で４時間ラジカル重合させて下記式の如く三元共
重合体を合成した。
【００７９】
【化４０】
【００８０】前記製造された共重合体を、メタノール／
アセトンの混合溶媒１Ｌ下でｐ−トルエンスルホン酸５
ｇを用いて８０℃で５時間脱保護化させ、下記化学式の
高分子を８５％の収率で合成した。
アセトンの混合溶媒１Ｌ下でｐ−トルエンスルホン酸５
ｇを用いて８０℃で５時間脱保護化させ、下記化学式の
高分子を８５％の収率で合成した。
【００８１】
【化４１】
【００８２】このように合成された高分子１ｇ（０．０
０７モル）に実施例１と同一の方法によって１−メチル
−２−ピロリジノン５０ｍｌでトリエチルアミン２．５
４ｇ（０．０２５モル）を加えた後、常温で１時間攪拌
する方法によって実施例２で製造された光反応基５．８
ｇ（０．０１７モル）を置換させ、本実施例の光配向剤
を６０％の収率で製造した。
０７モル）に実施例１と同一の方法によって１−メチル
−２−ピロリジノン５０ｍｌでトリエチルアミン２．５
４ｇ（０．０２５モル）を加えた後、常温で１時間攪拌
する方法によって実施例２で製造された光反応基５．８
ｇ（０．０１７モル）を置換させ、本実施例の光配向剤
を６０％の収率で製造した。
【００８３】
【化４２】
【００８４】（実施例５）
【００８５】
【化４３】
【００８６】前記ポリマーの主鎖構造の合成は、実施例
１における合成過程に準じた。
１における合成過程に準じた。
【００８７】側鎖反応基は、桂皮酸１ｇ（０．００６モ
ル）を二塩化メタン下でチオニルクロライド０．７１ｇ
（０．００６モル）と３５℃で１時間反応させてシンナ
モイルクロライドに合成した後、４−ヒドロキシ安息香
酸０．９８ｇ（０．００６モル）ＮａＯＨ／ＤＭＳＯ水
溶液を使用して常温で１時間反応させた。
ル）を二塩化メタン下でチオニルクロライド０．７１ｇ
（０．００６モル）と３５℃で１時間反応させてシンナ
モイルクロライドに合成した後、４−ヒドロキシ安息香
酸０．９８ｇ（０．００６モル）ＮａＯＨ／ＤＭＳＯ水
溶液を使用して常温で１時間反応させた。
【００８８】
【化４４】
【００８９】このように合成されたものをチオニルクロ
ライドと再びアシル−クロライド反応させた側鎖光反応
基１．５ｇ（０．００５モル）とバレリルクロライド
（ｖａｌｅｒｙｌ ｃｈｌｏｒｉｄｅ）０．２４ｇ
（０．００２モル）を７：３の比率で主鎖１ｇ（０．０
０３モル）に置換させ、下記構造の光配向材を６０％の
収率で合成した。
ライドと再びアシル−クロライド反応させた側鎖光反応
基１．５ｇ（０．００５モル）とバレリルクロライド
（ｖａｌｅｒｙｌ ｃｈｌｏｒｉｄｅ）０．２４ｇ
（０．００２モル）を７：３の比率で主鎖１ｇ（０．０
０３モル）に置換させ、下記構造の光配向材を６０％の
収率で合成した。
【００９０】
【化４５】
【００９１】（実施例６）
【００９２】
【化４６】
【００９３】実施例１と同一の方法で合成された４−ア
セトキシフェニルマレイミド１０ｇ（０．０４３モ
ル）、ｎ−ブチルアクリレート（ｎ−ｂｕｔｙｌａｃｒ
ｙｌａｔｅ）２．３１ｇ（０．０１８モル）、及び重合
開始剤としてのＡＩＢＮ０．３５ｇをアセトン溶媒に入
れ、６５℃で４時間ラジカル重合させて下記の如く共重
合体を合成した後、メタノール／アセトンの混合溶媒１
Ｌ下でｐ−トルエンスルホン酸５ｇを用い、８０℃で５
時間脱保護化させて下記の如く共重合体を８５％の収率
で合成した。
セトキシフェニルマレイミド１０ｇ（０．０４３モ
ル）、ｎ−ブチルアクリレート（ｎ−ｂｕｔｙｌａｃｒ
ｙｌａｔｅ）２．３１ｇ（０．０１８モル）、及び重合
開始剤としてのＡＩＢＮ０．３５ｇをアセトン溶媒に入
れ、６５℃で４時間ラジカル重合させて下記の如く共重
合体を合成した後、メタノール／アセトンの混合溶媒１
Ｌ下でｐ−トルエンスルホン酸５ｇを用い、８０℃で５
時間脱保護化させて下記の如く共重合体を８５％の収率
で合成した。
【００９４】
【化４７】
【００９５】前記のように合成されたポリマー主鎖構造
１ｇ（０．００６モル）を１−メチル−２−ピロリジノ
ン５０ｍｌに溶かし、実施例５で合成された側鎖反応基
４．０ｇ（０．０１４モル）及びトリメチルアミン２．
３６ｇ（０．０２３モル）を加えた後、常温で１時間攪
拌させ、本実施例の光配向材を５０％の収率で製造し
た。
１ｇ（０．００６モル）を１−メチル−２−ピロリジノ
ン５０ｍｌに溶かし、実施例５で合成された側鎖反応基
４．０ｇ（０．０１４モル）及びトリメチルアミン２．
３６ｇ（０．０２３モル）を加えた後、常温で１時間攪
拌させ、本実施例の光配向材を５０％の収率で製造し
た。
【００９６】
【化４８】
【００９７】（実施例７）
【００９８】
【化４９】
【００９９】前記ポリマーの主鎖構造の合成は実施例１
での合成過程に準じた。
での合成過程に準じた。
【０１００】一方、側鎖は次のように合成した。４−ヒ
ドロキシ桂皮酸（４−Ｈｙｄｒｏｘｙｃｉｎｎａｍｉｃ
ａｃｉｄ）５０ｇ（０．３モル）をＮａＯＨ水溶液
（０．２５ｗｔ％）に溶かした後、ＤＭＳＯを加え、
２，６−ジフルオロベンゾイルクロライド（２，６−Ｄ
ｉｆｌｕｏｒｏｂｅｎｚｏｙｌ ｃｈｌｏｒｉｄｅ）５
３．７ｇ（０．３モル）を加えた。常温で１時間攪拌し
た後、４Ｎ ＨＣｌ溶液で中性化して所望の生成物を合
成した。
ドロキシ桂皮酸（４−Ｈｙｄｒｏｘｙｃｉｎｎａｍｉｃ
ａｃｉｄ）５０ｇ（０．３モル）をＮａＯＨ水溶液
（０．２５ｗｔ％）に溶かした後、ＤＭＳＯを加え、
２，６−ジフルオロベンゾイルクロライド（２，６−Ｄ
ｉｆｌｕｏｒｏｂｅｎｚｏｙｌ ｃｈｌｏｒｉｄｅ）５
３．７ｇ（０．３モル）を加えた。常温で１時間攪拌し
た後、４Ｎ ＨＣｌ溶液で中性化して所望の生成物を合
成した。
【０１０１】
【化５０】
【０１０２】このように合成された２，６−ジフルオロ
ベンゾキシ−４，４’−シンナモイルクロライド（２，
６−Ｄｉｆｌｕｏｒｏｂｅｎｚｏｘｙ−４，４’−Ｃｉ
ｎｎａｍｏｙｌ Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）０．７当量（１７
ｇ、０．０５５モル）と３，４−ジフルオロシンナモイ
ルクロライド（３，４−Ｄｉｆｌｕｏｒｏｃｉｎｎａｍ
ｏｙｌ Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）０．３当量（７．３ｇ、
０．０２ｍｏｌ）に主鎖のポリ（４−ヒドロキシフェニ
ルマレイミド−ａｌｔ−４−ヒドロキシスチレン）（Ｐ
ｏｌｙ（４−Ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌｍａｌｅｉｍ
ｉｄｅ−ａｌｔ−４−Ｈｙｄｒｏｘｙｓｔｙｒｅｎ
ｅ））１０．２ｇ（０．０３２モル）を加え、ここにト
リエチルアミン０．９１ｇ（０．００９モル）を１−メ
チル−２−ピロリジノン２０ｍｌ下で加えた後、常温で
１時間攪拌させて置換させ、本実施例の光配向材を６０
％の収率で合成した。
ベンゾキシ−４，４’−シンナモイルクロライド（２，
６−Ｄｉｆｌｕｏｒｏｂｅｎｚｏｘｙ−４，４’−Ｃｉ
ｎｎａｍｏｙｌ Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）０．７当量（１７
ｇ、０．０５５モル）と３，４−ジフルオロシンナモイ
ルクロライド（３，４−Ｄｉｆｌｕｏｒｏｃｉｎｎａｍ
ｏｙｌ Ｃｈｌｏｒｉｄｅ）０．３当量（７．３ｇ、
０．０２ｍｏｌ）に主鎖のポリ（４−ヒドロキシフェニ
ルマレイミド−ａｌｔ−４−ヒドロキシスチレン）（Ｐ
ｏｌｙ（４−Ｈｙｄｒｏｘｙｐｈｅｎｙｌｍａｌｅｉｍ
ｉｄｅ−ａｌｔ−４−Ｈｙｄｒｏｘｙｓｔｙｒｅｎ
ｅ））１０．２ｇ（０．０３２モル）を加え、ここにト
リエチルアミン０．９１ｇ（０．００９モル）を１−メ
チル−２−ピロリジノン２０ｍｌ下で加えた後、常温で
１時間攪拌させて置換させ、本実施例の光配向材を６０
％の収率で合成した。
【０１０３】
【化５１】
【０１０４】２）液晶表示素子の製作及び特性評価
前記で得られた光配向材を１−メチル−２−ピロリジノ
ンと２−ブトキシエタノール（２−Ｂｕｔｏｘｙｔｈａ
ｎｏｌ）の混合溶媒に溶解させ、ＴＦＴ基板とカラーフ
ィルタ基板にプリンティング方式で塗布して光配向膜を
成膜した。その後、３ｋＷ水銀ランプを用いた偏光紫外
線で液晶配向のための露光工程を行った。このような露
光工程を除いた他の全ての工程は、一般的な液晶ディス
プレイ（ＬＣＤ）製作工程をそのまま遵守し、１５”液
晶ディスプレイを製作した。このように製作された液晶
表示素子を用いて、ディスプレイとしての基本的な電気
光学的特性であるコントラスト比、応答速度、視野角、
輝度などを評価し、これを表３にまとめた。さらに同一
の方式で小型の１”の単位セルを製造して配向膜の電気
的特性、即ち電圧維持率及び残留ＤＣなどを測定して表
１、２にまとめた。液晶はＴＮモードのＴＦＴ−ＬＣＤ
に用いられるメルク（Ｍｅｒｃｋ）社の液晶を使用し
た。
ンと２−ブトキシエタノール（２−Ｂｕｔｏｘｙｔｈａ
ｎｏｌ）の混合溶媒に溶解させ、ＴＦＴ基板とカラーフ
ィルタ基板にプリンティング方式で塗布して光配向膜を
成膜した。その後、３ｋＷ水銀ランプを用いた偏光紫外
線で液晶配向のための露光工程を行った。このような露
光工程を除いた他の全ての工程は、一般的な液晶ディス
プレイ（ＬＣＤ）製作工程をそのまま遵守し、１５”液
晶ディスプレイを製作した。このように製作された液晶
表示素子を用いて、ディスプレイとしての基本的な電気
光学的特性であるコントラスト比、応答速度、視野角、
輝度などを評価し、これを表３にまとめた。さらに同一
の方式で小型の１”の単位セルを製造して配向膜の電気
的特性、即ち電圧維持率及び残留ＤＣなどを測定して表
１、２にまとめた。液晶はＴＮモードのＴＦＴ−ＬＣＤ
に用いられるメルク（Ｍｅｒｃｋ）社の液晶を使用し
た。
【０１０５】（比較例１）ラビング用配向材として広く
用いられているポリイミド（ＳＥ ７９９２、日産化
学）を使用して上記と同一の方法で液晶ディスプレイ及
びセルを製作し、その物性を測定した。
用いられているポリイミド（ＳＥ ７９９２、日産化
学）を使用して上記と同一の方法で液晶ディスプレイ及
びセルを製作し、その物性を測定した。
【０１０６】（比較例２）本発明者らによる韓国公開特
許第２０００−８６３号に開示された下記の如き構造の
光方向材を用いて上記と同一の方法で液晶ディスプレイ
及びセルを製作し、その物性を測定した。
許第２０００−８６３号に開示された下記の如き構造の
光方向材を用いて上記と同一の方法で液晶ディスプレイ
及びセルを製作し、その物性を測定した。
【０１０７】
【化５２】
【０１０８】表１は実施例１〜７及び比較例１、２で測
定した電圧維持率を示し、表２は残留ＤＣ値を示すもの
で、比較例１より優れた電圧維持率及び残留ＤＣの特性
を示し、既存の光配向材の問題点を多く改善したことが
分る。電圧維持率及び残留ＤＣ値は、表示品質の信頼性
及び電気的安定性の面において非常に重要な特性であっ
て、特に動画像の自然な具現において応答速度と共に液
晶表示素子の最も脆弱な特性である画面の残像現像に対
する原因要素と認識されている。電圧維持率が既存のラ
ビング配向材を使用した比較例１より優れた特性を示し
ており、特に残留ＤＣ値においてラビング配向材よりも
改善された特性を示している。
定した電圧維持率を示し、表２は残留ＤＣ値を示すもの
で、比較例１より優れた電圧維持率及び残留ＤＣの特性
を示し、既存の光配向材の問題点を多く改善したことが
分る。電圧維持率及び残留ＤＣ値は、表示品質の信頼性
及び電気的安定性の面において非常に重要な特性であっ
て、特に動画像の自然な具現において応答速度と共に液
晶表示素子の最も脆弱な特性である画面の残像現像に対
する原因要素と認識されている。電圧維持率が既存のラ
ビング配向材を使用した比較例１より優れた特性を示し
ており、特に残留ＤＣ値においてラビング配向材よりも
改善された特性を示している。
【０１０９】
【表１】
【０１１０】※測定時の条件：電圧１Ｖ、パルス維持時
間：６４μｓ、周波数：６０Ｈｚ
間：６４μｓ、周波数：６０Ｈｚ
【０１１１】
【表２】
【０１１２】※測定方法：単位セルに（−２０Ｖ）〜
（＋２０Ｖ）の電圧を加え、電気容量を繰返し測定した
後、同一の電圧において電気容量の差異（ΔＣ）が最大
の点を比較することにより、相対的に残留ＤＣを推定。
（＋２０Ｖ）の電圧を加え、電気容量を繰返し測定した
後、同一の電圧において電気容量の差異（ΔＣ）が最大
の点を比較することにより、相対的に残留ＤＣを推定。
【０１１３】
【表３】
【０１１４】※コントラスト比及び輝度は、画面の中心
と周辺の９箇所でそれぞれ測定して平均を出した値であ
る。
と周辺の９箇所でそれぞれ測定して平均を出した値であ
る。
【０１１５】
【発明の効果】本発明によって光配向材において改善が
求められた電気的特性値をラビング用配向材のポリイミ
ド以上に向上させることができ、実際液晶表示素子を製
作して比較評価した電気光学特性でもラビング用配向材
と等しい水準を示す液晶配向膜用光配向材を提供するこ
とができる。
求められた電気的特性値をラビング用配向材のポリイミ
ド以上に向上させることができ、実際液晶表示素子を製
作して比較評価した電気光学特性でもラビング用配向材
と等しい水準を示す液晶配向膜用光配向材を提供するこ
とができる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 李 恩 慶
大韓民国ソウル特別市江西區加陽洞 宇成
アパート102棟1304號
(72)発明者 金 周 永
大韓民国大田市儒城區田民洞 世宗アパー
ト101棟1201号
Ｆターム(参考） 2H090 HB13Y HD12 HD13 MA10
MB14
4J100 AB07Q AD02Q AE09Q AL08Q
AM47P AR36Q AR39Q AT08P
AT08Q BA02P BA02Q BA03P
BA03Q BA04P BA04Q BA11P
BA11Q BA15P BA15Q BA51P
BA51Q BB01P BB01Q BB07P
BB07Q BC04P BC04Q BC43P
BC43Q CA01 CA04 CA05
CA06 DA61 DA66 JA39
Claims (5)
- 【請求項１】 下記化学式１で表わされる繰返し単位、
または化学式１で表わされる繰返し単位及び下記化学式
２で表わされる繰返し単位からなる群より選択された１
種以上の繰返し単位で構成される液晶配向膜用光配向材
であって、前記光配向材を構成する繰返し単位のうち、
下記化学式５で表わされる作用基からなる群より選択さ
れた光反応基を少なくとも１つ以上含む繰返し単位とこ
れを含まない、即ち非光反応基のみからなる繰返し単位
の当量比が２：８〜１０：０であることを特徴とする液
晶配向膜用光配向材。 【化１】 【化２】 （式中、Ｘはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１４
の直鎖状もしくは分枝状アルキル基、フッ素原子、また
は塩素原子であり、Ｙは酸素原子または炭素数２〜１４
のアルキレン基であり、Ｒは下記化学式３で表わされ
る。） 【化３】 （式中、Ｒ1は下記化学式４で表わされる作用基からな
る群より選択され、Ｒ2は下記化学式５及び６で表わさ
れる作用基からなる群より選択され、Ｒ3は下記化学式
７で表わされる作用基からなる群より選択され、ｋは０
〜３の整数、１は０〜５の整数であり、前記Ｒ1、Ｒ2が
複数個の場合、それぞれのＲ1、Ｒ2は互いに異なること
もある。） 【化４】 （式中、ｑは０〜１０の整数である。） 【化５】 【化６】 【化７】 （式中、Ｚはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜１３
のアルキル基またはアルコキシ基、ｐが０〜１２の整数
を表す−（ＯＣＨ2）pＣＨ3、フッ素原子、または塩素
原子であり、ｍは０〜１８の整数である。） - 【請求項２】 前記光配向材を構成する繰返し単位のう
ち、化学式５で表わされる作用基からなる群より選択さ
れた光反応基を少なくとも１つ以上含む繰返し単位とこ
れを含まない、即ち非光反応基のみからなる繰返し単位
の当量比が４：６〜９：１であることを特徴とする請求
項１記載の液晶配向膜用光配向材。 - 【請求項３】 前記光配向材に導入された側鎖構造の末
端を示す−Ｒ3に少なくとも１つ以上のフッ素基が置換
されていることを特徴とする請求項１又は２記載の液晶
配向膜用光配向材。 - 【請求項４】 前記光配向材は、前記化学式１で表わさ
れるマレイミド系列の繰返し単位と、前記化学式２で表
わされる繰返し単位のうちスチレン系列の繰返し単位と
からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか1項
に記載の液晶配向膜用光配向材。 - 【請求項５】 前記光配向材は光反応基であって、前記
化学式５で表わされる作用基のうちシンナメート基を含
むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載
の液晶配向膜用光配向材。
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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| JP2004002753A (ja) * | 2002-03-28 | 2004-01-08 | Toray Ind Inc | 樹脂組成物及びそれよりなる絶縁膜、半導体装置、及び有機電界発光素子 |
| JP2004168863A (ja) * | 2002-11-19 | 2004-06-17 | Chisso Corp | 光重合性液晶組成物およびそれを用いた光学素子 |
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| WO2008117615A1 (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | 液晶表示装置及び配向膜材料用重合体 |
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| WO2012029589A1 (ja) * | 2010-08-30 | 2012-03-08 | シャープ株式会社 | 液晶表示パネル、液晶表示装置及び配向膜材料用重合体 |
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| KR101385578B1 (ko) * | 2012-04-24 | 2014-04-15 | 한국생산기술연구원 | 이미드 그룹을 갖는 신나메이트계 광 배향 소재 |
| KR101451162B1 (ko) * | 2013-04-30 | 2014-10-16 | 한국생산기술연구원 | 말레이미드계 주사슬을 갖는 샬콘계 광배향 소재 및 그 제조방법 |
| KR101482621B1 (ko) * | 2013-04-30 | 2015-01-14 | 한국생산기술연구원 | 말레이미드계 주사슬을 갖는 찰콘계 광배향 소재 |
| KR101482622B1 (ko) * | 2013-05-02 | 2015-01-14 | 한국생산기술연구원 | 말레이미드계 주사슬을 갖는 신나메이트계 광배향 소재 |
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