JP2003065522A - 廃棄物焼却工場における高度ハロゲン化廃棄物の低腐食性および低放出性同時焼却法 - Google Patents
廃棄物焼却工場における高度ハロゲン化廃棄物の低腐食性および低放出性同時焼却法Info
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 廃棄物燃焼工場における高ハロゲン化廃棄物
の低腐食性且つ低放出性同時焼却法。 【解決手段】 焼却装置は少なくとも一つの燃焼室３，
４、廃熱ボイラー５、酸性及びアルカリ性スクラバー
７，８からなる多段煙道ガススクラバーを有し、硫黄１
８を燃焼室３，４へ制御して添加する。硫黄量は煙道ガ
ス中の全ハロゲン負荷に比例して制御され、添加した硫
黄は燃焼室で燃焼してＳＯ2 を与える。生成する全ＳＯ
2 は、煙道ガス中のハロゲンを抑制し、続いて安定なハ
ロゲンをアルカリ性スクラバーへもたらす。煙道で必要
とされるＳＯ2 含量は、ハロゲンの種類に依存する。硫
黄の燃焼室への添加は、煙道ガス中のＳＯ2 含量が残存
ＳＯ2 含量を簡単な１次制御回路を介して定常運転に維
持するように制御される。全ハロゲン負荷急激な変化の
場合には、この１次制御回路を供給先駆け制御により拡
張する。
の低腐食性且つ低放出性同時焼却法。 【解決手段】 焼却装置は少なくとも一つの燃焼室３，
４、廃熱ボイラー５、酸性及びアルカリ性スクラバー
７，８からなる多段煙道ガススクラバーを有し、硫黄１
８を燃焼室３，４へ制御して添加する。硫黄量は煙道ガ
ス中の全ハロゲン負荷に比例して制御され、添加した硫
黄は燃焼室で燃焼してＳＯ2 を与える。生成する全ＳＯ
2 は、煙道ガス中のハロゲンを抑制し、続いて安定なハ
ロゲンをアルカリ性スクラバーへもたらす。煙道で必要
とされるＳＯ2 含量は、ハロゲンの種類に依存する。硫
黄の燃焼室への添加は、煙道ガス中のＳＯ2 含量が残存
ＳＯ2 含量を簡単な１次制御回路を介して定常運転に維
持するように制御される。全ハロゲン負荷急激な変化の
場合には、この１次制御回路を供給先駆け制御により拡
張する。
Description
【０００１】本発明は、廃棄物焼却工場における高ハロ
ゲン化廃棄物、好ましくは液体廃棄物の低腐食性且つ低
放出性同時燃焼に関する。望ましくないハロゲン化廃棄
物、例えば遊離の塩素（Ｃｌ2 ）、遊離の臭素（Ｂｒ
2 ）、及び／または遊離のヨウ素（Ｉ2 ）は、炉内です
でに一部、そして次いでそれより多量に続くボイラ−で
の煙道ガスの冷却開始点で生成する。遊離のハロゲンの
対応するハロゲン化水素からの温度に依存した、動力学
的に限定された再生はディ−コン（Ｄｅａｃｏｎ）反応
に従って進行するが、この反応は幸運にも非常に制限さ
れる。硫黄の、廃棄物焼却工場の燃焼室への制御された
添加、即ち各全ハロゲン負荷に適合した添加及びそれか
ら燃焼により生成するＳＯ2 の使用により、遊離のハロ
ゲンの実質的な抑制がボイラ−中で、即ちボイラ−の終
点間での煙道ガスの通路において可能である。
ゲン化廃棄物、好ましくは液体廃棄物の低腐食性且つ低
放出性同時燃焼に関する。望ましくないハロゲン化廃棄
物、例えば遊離の塩素（Ｃｌ2 ）、遊離の臭素（Ｂｒ
2 ）、及び／または遊離のヨウ素（Ｉ2 ）は、炉内です
でに一部、そして次いでそれより多量に続くボイラ−で
の煙道ガスの冷却開始点で生成する。遊離のハロゲンの
対応するハロゲン化水素からの温度に依存した、動力学
的に限定された再生はディ−コン（Ｄｅａｃｏｎ）反応
に従って進行するが、この反応は幸運にも非常に制限さ
れる。硫黄の、廃棄物焼却工場の燃焼室への制御された
添加、即ち各全ハロゲン負荷に適合した添加及びそれか
ら燃焼により生成するＳＯ2 の使用により、遊離のハロ
ゲンの実質的な抑制がボイラ−中で、即ちボイラ−の終
点間での煙道ガスの通路において可能である。
【０００２】廃棄物焼却工場は、例えばＨ．Ｗ．ファビ
アン（Ｆａｂｉａｎｎ）ら［１］に記述されている。典
型的な廃棄物焼却工場は、１次燃焼室（例えばロ−タリ
−キルン）、２次燃焼室（後燃焼室）、廃熱ボイラ−を
含んでなり、更に静電的または濾過ダスト分離器、例え
ば１段または多段酸性洗浄（クエンチ（ｑｕｅｎｃｈ）
及び例えば酸性回転ダスト除去スクラバ−）及びアルカ
リ性洗浄（例えばアルカリ性回転ダスト除去スクラバ
−）を有する、更に適当ならば脱ミスト装置を有する煙
道ガススクラバ−、及び例えば凝縮静電的沈降器を含
む。
アン（Ｆａｂｉａｎｎ）ら［１］に記述されている。典
型的な廃棄物焼却工場は、１次燃焼室（例えばロ−タリ
−キルン）、２次燃焼室（後燃焼室）、廃熱ボイラ−を
含んでなり、更に静電的または濾過ダスト分離器、例え
ば１段または多段酸性洗浄（クエンチ（ｑｕｅｎｃｈ）
及び例えば酸性回転ダスト除去スクラバ−）及びアルカ
リ性洗浄（例えばアルカリ性回転ダスト除去スクラバ
−）を有する、更に適当ならば脱ミスト装置を有する煙
道ガススクラバ−、及び例えば凝縮静電的沈降器を含
む。
【０００３】ハロゲン化廃棄物の燃焼の場合、加水分解
の結果として、最初に主にハロゲン化水素、例えばＨＣ
ｌが燃焼室で生成し、またそれより少ない量で遊離のハ
ロゲン、更に痕跡量のもともと結合してないハロゲン遊
離基及びハロゲン原子も生成する。煙道ガスの冷却過程
において、後者は再結合して遊離のハロゲンを生成す
る。更に、特に金属酸化物に富む飛灰がディ−コン反応
（４ＨＸ＋Ｏ2 ２Ｘ 2 ＋２Ｈ2 Ｏ、但しＸ＝Ｃｌ，
ＢｒまたはＩ）の触媒として存在すると、遊離のハロゲ
ン、例えば塩素（Ｃｌ2 ）がハロゲン化水素からますま
す生成する。接触ディ−コン反応による遊離のハロゲン
の生成の程度は、ボイラ−の飛灰の種類及び量の両方に
依存する。
の結果として、最初に主にハロゲン化水素、例えばＨＣ
ｌが燃焼室で生成し、またそれより少ない量で遊離のハ
ロゲン、更に痕跡量のもともと結合してないハロゲン遊
離基及びハロゲン原子も生成する。煙道ガスの冷却過程
において、後者は再結合して遊離のハロゲンを生成す
る。更に、特に金属酸化物に富む飛灰がディ−コン反応
（４ＨＸ＋Ｏ2 ２Ｘ 2 ＋２Ｈ2 Ｏ、但しＸ＝Ｃｌ，
ＢｒまたはＩ）の触媒として存在すると、遊離のハロゲ
ン、例えば塩素（Ｃｌ2 ）がハロゲン化水素からますま
す生成する。接触ディ−コン反応による遊離のハロゲン
の生成の程度は、ボイラ−の飛灰の種類及び量の両方に
依存する。
【０００４】遊離のハロゲンは多くの理由から望ましく
ない。 −ハロゲン化水素と対比して、遊離のハロゲンは酸性ス
クラバ−領域に不溶であり、例えばアルカリ性スクラバ
−において水酸化ナトリウム溶液（ＮａＯＨ）を用いる
化学吸着によりハロゲン化ナトリウムとして、同時に次
亜ハロゲン化ナトリウムとして洗浄除去できる。 −アルカリ性スクラバ−水中の次亜ハロゲン酸塩の濃度
は、十分な還元剤を供給して低く保たなければならな
い、即ち例えば硫化水素またはチオ硫酸により安定なハ
ロゲン化ナトリウムへ還元して遊離のハロゲンがきれい
なガス側へ入るのを回避しなければならない。還元剤が
不十分な場合には、煙道ガススクラバ−の下流のきれい
なガスは、法律で規定された限界値に入らないであろ
う。 −ボイラ−煙道ガスにおける比較的高濃度の遊離のハロ
ゲンは、ボイラ−、さらには工場の他の部分の腐食を引
き起こす。 −遊離のハロゲンは、中間及び下流ボイラ−領域、そし
て適当ならばボイラ−の直接下流に配置された静電的ま
たは濾過ダスト分離器において、ダイオキシン及びフラ
ン類のデノボ合成を促進する。
ない。 −ハロゲン化水素と対比して、遊離のハロゲンは酸性ス
クラバ−領域に不溶であり、例えばアルカリ性スクラバ
−において水酸化ナトリウム溶液（ＮａＯＨ）を用いる
化学吸着によりハロゲン化ナトリウムとして、同時に次
亜ハロゲン化ナトリウムとして洗浄除去できる。 −アルカリ性スクラバ−水中の次亜ハロゲン酸塩の濃度
は、十分な還元剤を供給して低く保たなければならな
い、即ち例えば硫化水素またはチオ硫酸により安定なハ
ロゲン化ナトリウムへ還元して遊離のハロゲンがきれい
なガス側へ入るのを回避しなければならない。還元剤が
不十分な場合には、煙道ガススクラバ−の下流のきれい
なガスは、法律で規定された限界値に入らないであろ
う。 −ボイラ−煙道ガスにおける比較的高濃度の遊離のハロ
ゲンは、ボイラ−、さらには工場の他の部分の腐食を引
き起こす。 −遊離のハロゲンは、中間及び下流ボイラ−領域、そし
て適当ならばボイラ−の直接下流に配置された静電的ま
たは濾過ダスト分離器において、ダイオキシン及びフラ
ン類のデノボ合成を促進する。
【０００５】遊離の塩素及び／または他の遊離のハロゲ
ンをＳＯ2 で抑制することにより、上述した望ましくな
い影響及びダイオキシン及びフラン類のデノボ合成
［１］が抑制でき、或いは少なくとも大きく制限でき
る。参照［２］、［３］、［４］。
ンをＳＯ2 で抑制することにより、上述した望ましくな
い影響及びダイオキシン及びフラン類のデノボ合成
［１］が抑制でき、或いは少なくとも大きく制限でき
る。参照［２］、［３］、［４］。
【０００６】遊離のハロゲンがボイラ−中でＳＯ2 と反
応することは知られている。例えば遊離の塩素は、ＳＯ
2 及び水蒸気と反応して塩化水素に戻り、ＳＯ3 が生成
する。参照、例えばＣｌ2 の抑制に関しては［１］。遊
離の臭素もＳＯ2 と反応する。しかしながらこのＢｒ2
及びＳＯ2 間の反応は直接臭化水素に至らず、最初ボイ
ラ−中でＳＯ2 Ｂｒ2 （臭化スルフリル）を与え、次い
でこれが酸性スクラバ−中で加水分解してＨＢｒ及びＳ
０4 2-を生成すると思われる。高ハロゲン化廃棄物の焼
却において、ボイラ−煙道ガス中の各ハロゲン負荷のど
のくらいの割合が一時的に遊離のハロゲンＸ2 （例えば
Ｃｌ2 及びＢｒ2 ）として生じるかを時期的に推定する
ことは正確には知られていない。各ディ−コン反応の熱
力学的平衡の温度依存性に従えば、臭素及びヨウ素の場
合、塩素の場合よりも非常に高い割合で遊離ハロゲンの
再生する傾向がある。
応することは知られている。例えば遊離の塩素は、ＳＯ
2 及び水蒸気と反応して塩化水素に戻り、ＳＯ3 が生成
する。参照、例えばＣｌ2 の抑制に関しては［１］。遊
離の臭素もＳＯ2 と反応する。しかしながらこのＢｒ2
及びＳＯ2 間の反応は直接臭化水素に至らず、最初ボイ
ラ−中でＳＯ2 Ｂｒ2 （臭化スルフリル）を与え、次い
でこれが酸性スクラバ−中で加水分解してＨＢｒ及びＳ
０4 2-を生成すると思われる。高ハロゲン化廃棄物の焼
却において、ボイラ−煙道ガス中の各ハロゲン負荷のど
のくらいの割合が一時的に遊離のハロゲンＸ2 （例えば
Ｃｌ2 及びＢｒ2 ）として生じるかを時期的に推定する
ことは正確には知られていない。各ディ−コン反応の熱
力学的平衡の温度依存性に従えば、臭素及びヨウ素の場
合、塩素の場合よりも非常に高い割合で遊離ハロゲンの
再生する傾向がある。
【０００７】ファビアンら［１］によれば、燃焼廃棄物
中の硫黄と塩素の比は、「硫黄／塩素のモル比＞１」を
与えるようなものであるべきである。しかしながら、い
かに多くの「塩素」（遊離の塩素を意味する）がモルで
言及してボイラ−の煙道ガスにおいて変化する全塩素負
荷に一時的に存在するかは、更に正確には知られてなか
った。対応する不確定さは、他の遊離のハロゲン、特に
Ｂｒ2 及びＩ2 でも存在する。
中の硫黄と塩素の比は、「硫黄／塩素のモル比＞１」を
与えるようなものであるべきである。しかしながら、い
かに多くの「塩素」（遊離の塩素を意味する）がモルで
言及してボイラ−の煙道ガスにおいて変化する全塩素負
荷に一時的に存在するかは、更に正確には知られてなか
った。対応する不確定さは、他の遊離のハロゲン、特に
Ｂｒ2 及びＩ2 でも存在する。
【０００８】遊離のハロゲン（強酸性スクラバ−に実質
的に不溶であり、従って洗浄により除去できない）、例
えばＣｌ2 及び／またはＢｒ2 は、残存ＳＯ2 （これも
強酸性スクラバ−に実質的に不溶である）と一緒になっ
てクエンチ前の汚れたボイラ−ガスから除去されなく
て、続いてアルカリ性スクラバ−での複合化学吸着中
に、例えばＮａＸのような安定な形で結合せしめられ
る。更に正確には化学吸着中にＮａＸの他に最初に一緒
に生成する不安定な次亜塩素酸塩ＮａＯＸの還元により
安定なＮａＸを生成する。参照［６］。
的に不溶であり、従って洗浄により除去できない）、例
えばＣｌ2 及び／またはＢｒ2 は、残存ＳＯ2 （これも
強酸性スクラバ−に実質的に不溶である）と一緒になっ
てクエンチ前の汚れたボイラ−ガスから除去されなく
て、続いてアルカリ性スクラバ−での複合化学吸着中
に、例えばＮａＸのような安定な形で結合せしめられ
る。更に正確には化学吸着中にＮａＸの他に最初に一緒
に生成する不安定な次亜塩素酸塩ＮａＯＸの還元により
安定なＮａＸを生成する。参照［６］。
【０００９】最後にこのＮａＯＸの安定なＮａＸへの還
元は、これもアルカリ性スクラバ−中で化学吸着される
残存ＳＯ2 から内部的に工程中生成する硫化水素を介し
て進行するばかりでなく、アルカリ性スクラバ−に外部
から添加される還元剤、例えばチオ硫酸塩（Ｎａ2 Ｓ2
Ｏ3 ・５Ｈ2 Ｏ）を介して進行する。参照、［７］。
元は、これもアルカリ性スクラバ−中で化学吸着される
残存ＳＯ2 から内部的に工程中生成する硫化水素を介し
て進行するばかりでなく、アルカリ性スクラバ−に外部
から添加される還元剤、例えばチオ硫酸塩（Ｎａ2 Ｓ2
Ｏ3 ・５Ｈ2 Ｏ）を介して進行する。参照、［７］。
【００１０】従来法から知られる廃棄物焼却工場に対す
る手段は、高ハロゲン化廃棄物の焼却中に生成する遊離
のハロゲンを信頼性よく且つ安価に抑制し及び／または
捕捉するのに十分でない。廃棄物の種類の意図的な変化
及び運転のばらつきの結果として、全ハロゲン負荷はし
ばしば変動する。それにもかかわらず、存在する全ハロ
ゲン負荷に対して常に最適に適合させた操作媒体（ｍｅ
ｄｉａ）添加の適当な手段が欠けており、また特に高全
ハロゲン負荷における遊離のハロゲンの、対応する価格
を最適化した抑制の適当な手段が欠如している。
る手段は、高ハロゲン化廃棄物の焼却中に生成する遊離
のハロゲンを信頼性よく且つ安価に抑制し及び／または
捕捉するのに十分でない。廃棄物の種類の意図的な変化
及び運転のばらつきの結果として、全ハロゲン負荷はし
ばしば変動する。それにもかかわらず、存在する全ハロ
ゲン負荷に対して常に最適に適合させた操作媒体（ｍｅ
ｄｉａ）添加の適当な手段が欠けており、また特に高全
ハロゲン負荷における遊離のハロゲンの、対応する価格
を最適化した抑制の適当な手段が欠如している。
【００１１】それゆえに本発明の目的は、操作媒体の最
小消費と最小残存物生成を含む廃棄物焼却工場におい
て、高ハロゲン化廃棄物の低腐食性及び邸放出性同時焼
却法を発見することである。
小消費と最小残存物生成を含む廃棄物焼却工場におい
て、高ハロゲン化廃棄物の低腐食性及び邸放出性同時焼
却法を発見することである。
【００１２】本発明の目的は、少なくとも１つの燃焼
室、廃熱ボイラ−、煙道ガススクラバ−（例えば１段ま
たは多段酸性スクラバ−およびアルカリ性スクラバ−か
らなる）を有する、但しそこで固体または液体硫黄また
は対応する硫黄担体、例えば廃硫酸を、他の硫黄含有廃
棄物の他に、制御された方法で燃焼室に添加する、廃棄
物焼却工場における高ハロゲン化廃棄物の低腐食性及び
邸放出性同時焼却法及びそのための装置によって達成さ
れる。硫黄または対応する硫黄担体の添加は、煙道ガス
中に存在する全ハロゲン負荷（例えば全塩素及び／また
は臭素負荷）に比例して、本質的に制御される。
室、廃熱ボイラ−、煙道ガススクラバ−（例えば１段ま
たは多段酸性スクラバ−およびアルカリ性スクラバ−か
らなる）を有する、但しそこで固体または液体硫黄また
は対応する硫黄担体、例えば廃硫酸を、他の硫黄含有廃
棄物の他に、制御された方法で燃焼室に添加する、廃棄
物焼却工場における高ハロゲン化廃棄物の低腐食性及び
邸放出性同時焼却法及びそのための装置によって達成さ
れる。硫黄または対応する硫黄担体の添加は、煙道ガス
中に存在する全ハロゲン負荷（例えば全塩素及び／また
は臭素負荷）に比例して、本質的に制御される。
【００１３】硫黄は１次または２次燃焼室に、固体硫
黄、液体硫黄、または他の硫黄担体、例えば廃棄硫酸の
形で直接添加できる。
黄、液体硫黄、または他の硫黄担体、例えば廃棄硫酸の
形で直接添加できる。
【００１４】固体硫黄は好ましくはペレットまたは粒状
形で添加される。この添加形は、ペレットまたは粒状の
固体硫黄（例えば硫黄粒状物）が例えば硫黄粉末より安
全に取り扱え、容易に秤量できるという利点を持つ。硫
黄粒状物は好ましくは空気圧供給により１次燃焼室へ添
加される。硫黄粒状物は制御できる秤量及び輸送系、例
えば秤量スクリューまたは振動シュートを用いて供給す
べきである。続く燃焼室、好ましくはロ−タリ−キルン
の上部への注入装置及び空気圧供給導管を有する速度制
御型秤量スクリューは好適である（「硫黄粒状物のブラ
スティング（ｂｌａｓｔｉｎｇ）」）。廃硫酸は、制御
できる秤量ポンプを用いて、噴霧ノズルまたは対応する
ジェット具を用いて１次または２次燃焼室へ添加され
る。
形で添加される。この添加形は、ペレットまたは粒状の
固体硫黄（例えば硫黄粒状物）が例えば硫黄粉末より安
全に取り扱え、容易に秤量できるという利点を持つ。硫
黄粒状物は好ましくは空気圧供給により１次燃焼室へ添
加される。硫黄粒状物は制御できる秤量及び輸送系、例
えば秤量スクリューまたは振動シュートを用いて供給す
べきである。続く燃焼室、好ましくはロ−タリ−キルン
の上部への注入装置及び空気圧供給導管を有する速度制
御型秤量スクリューは好適である（「硫黄粒状物のブラ
スティング（ｂｌａｓｔｉｎｇ）」）。廃硫酸は、制御
できる秤量ポンプを用いて、噴霧ノズルまたは対応する
ジェット具を用いて１次または２次燃焼室へ添加され
る。
【００１５】調節された具合に添加される他の硫黄含有
廃棄物、及び更に固体または液体硫黄または硫黄担体
は、１次及び／または２次燃焼室で燃えて、ＳＯ2 を生
成する。
廃棄物、及び更に固体または液体硫黄または硫黄担体
は、１次及び／または２次燃焼室で燃えて、ＳＯ2 を生
成する。
【００１６】硫黄または他の硫黄担体の燃焼室への添加
は、本発明によれば、存在する煙道ガスの全ハロゲン負
荷から始めて、ボイラ−の上流の煙道ガス中のコンピュ
ーターで計算された理論ＳＯ2 含量或いは別にクエンチ
の上流の汚れたガス中の対応する理論的残存ＳＯ2 含量
を連続的に維持するように制御することである。
は、本発明によれば、存在する煙道ガスの全ハロゲン負
荷から始めて、ボイラ−の上流の煙道ガス中のコンピュ
ーターで計算された理論ＳＯ2 含量或いは別にクエンチ
の上流の汚れたガス中の対応する理論的残存ＳＯ2 含量
を連続的に維持するように制御することである。
【００１７】制御された具合に添加される硫黄または硫
黄担体は、ボイラ−煙道ガス中のＳＯ2 供給を、十分で
あるが、過剰でなく増加させることが意図される。ボイ
ラ−中の遊離のハロゲンを抑制するばかりでなく、続く
アルカリ性スクラバ−での次亜塩素酸塩の還元に対して
必要とされるＳＯ2 は、全ハロゲン負荷と共に上昇す
る。即ちボイラ−の上流（２次燃焼室の下流）の煙道ガ
ス中の必要とされるＳＯ 2 含量またはボイラ−の下流
（クエンチの上流）の汚れたボイラ−ガス中の対応する
残存ＳＯ2 含量は、全ハロゲン負荷と共に増加させねば
ならない。臭素または更にヨウ素の場合、全ハロゲン負
荷中の遊離のハロゲンの割合は塩素の場合よりかなり多
く、かくして特に硫黄、即ち煙道ガス中の全ハロゲン負
荷に基づくそれが必要である。
黄担体は、ボイラ−煙道ガス中のＳＯ2 供給を、十分で
あるが、過剰でなく増加させることが意図される。ボイ
ラ−中の遊離のハロゲンを抑制するばかりでなく、続く
アルカリ性スクラバ−での次亜塩素酸塩の還元に対して
必要とされるＳＯ2 は、全ハロゲン負荷と共に上昇す
る。即ちボイラ−の上流（２次燃焼室の下流）の煙道ガ
ス中の必要とされるＳＯ 2 含量またはボイラ−の下流
（クエンチの上流）の汚れたボイラ−ガス中の対応する
残存ＳＯ2 含量は、全ハロゲン負荷と共に増加させねば
ならない。臭素または更にヨウ素の場合、全ハロゲン負
荷中の遊離のハロゲンの割合は塩素の場合よりかなり多
く、かくして特に硫黄、即ち煙道ガス中の全ハロゲン負
荷に基づくそれが必要である。
【００１８】「塩素と硫黄のバランス」から、運転によ
る検討で、典型的な廃棄物焼却工場（例えば乾燥基準で
Ｏ2 １１容量％の酸素含量及び例えばＨ2 ０の乾燥基準
で１０−３０容量％の水蒸気含量を用いて運転）のボイ
ラ−煙道ガスにおいて、塩化水素から塩素ディ−コン反
応
る検討で、典型的な廃棄物焼却工場（例えば乾燥基準で
Ｏ2 １１容量％の酸素含量及び例えばＨ2 ０の乾燥基準
で１０−３０容量％の水蒸気含量を用いて運転）のボイ
ラ−煙道ガスにおいて、塩化水素から塩素ディ−コン反
応
【００１９】
【化１】
【００２０】を経て、選考する煙道ガスの冷却で、全塩
素負荷の約４％が遊離の塩素（Ｃｌ2）として再生する
ことが決定された。この再生された遊離塩素の４％の
内、約７５％（全塩素負荷の約３％に相当）は、ボイラ
−中においてグリフィン（Ｇｒｉｆｆｉｎｎ）反応Ｃｌ
2 ＋ＳＯ2 ＋Ｈ2 Ｏ→２ＨＣｌ＋ＳＯ3 を受けて、ＳＯ
2および水蒸気でＨＣｌへ再転化される。それゆえに硫
黄の供給が十分であれば、合計で塩素負荷の約９９％が
水溶性ＨＣｌとして酸性スクラバ−の廃水中へ直接入
る。従って合計で塩素負荷の約１％だけが遊離の塩素
（Ｃｌ2 ）として、続くアルカリ性スクラバ−の廃水中
に入る。ここで遊離の塩素（Ｃｌ2 ）は、ＳＯ2と同時
に化学吸着され、クエンチ上流の汚れたボイラ−ガスか
らの残存ＳＯ2 が十分であるならば、塩化ナトリウムへ
還元される。
素負荷の約４％が遊離の塩素（Ｃｌ2）として再生する
ことが決定された。この再生された遊離塩素の４％の
内、約７５％（全塩素負荷の約３％に相当）は、ボイラ
−中においてグリフィン（Ｇｒｉｆｆｉｎｎ）反応Ｃｌ
2 ＋ＳＯ2 ＋Ｈ2 Ｏ→２ＨＣｌ＋ＳＯ3 を受けて、ＳＯ
2および水蒸気でＨＣｌへ再転化される。それゆえに硫
黄の供給が十分であれば、合計で塩素負荷の約９９％が
水溶性ＨＣｌとして酸性スクラバ−の廃水中へ直接入
る。従って合計で塩素負荷の約１％だけが遊離の塩素
（Ｃｌ2 ）として、続くアルカリ性スクラバ−の廃水中
に入る。ここで遊離の塩素（Ｃｌ2 ）は、ＳＯ2と同時
に化学吸着され、クエンチ上流の汚れたボイラ−ガスか
らの残存ＳＯ2 が十分であるならば、塩化ナトリウムへ
還元される。
【００２１】臭素の場合の運転研究及び対応するバラン
スから、廃棄物焼却工場（例えば乾燥基準でＯ2 １１容
量％の酸素含量及び例えばＨ2 ０の乾燥基準で１０−３
０容量％の水蒸気含量を用いて運転）のボイラ−煙道ガ
スにおいて、遊離の臭素の再生画分は塩素の場合のそれ
より非常に多いことが分かった；ここにＢｒ2 画分は、
全ハロゲン負荷の単に４％（塩素を参照）でなく、比較
的低い全臭素負荷で４０％、非常に高い臭素負荷で６５
％であった。
スから、廃棄物焼却工場（例えば乾燥基準でＯ2 １１容
量％の酸素含量及び例えばＨ2 ０の乾燥基準で１０−３
０容量％の水蒸気含量を用いて運転）のボイラ−煙道ガ
スにおいて、遊離の臭素の再生画分は塩素の場合のそれ
より非常に多いことが分かった；ここにＢｒ2 画分は、
全ハロゲン負荷の単に４％（塩素を参照）でなく、比較
的低い全臭素負荷で４０％、非常に高い臭素負荷で６５
％であった。
【００２２】臭素の場合のそのようなバランスは、遊離
の臭素がボイラ中において十分なＳＯ2 供給物の存在下
に、多分反応方程式
の臭素がボイラ中において十分なＳＯ2 供給物の存在下
に、多分反応方程式
【００２３】
【化２】
【００２４】によりスルフリルブロマイドＳＯ2 Ｂｒ2
が生成するために、＞９０％抑制されるということを確
証している。比較的少量ないし非常に高い全臭素負荷に
おける本発明者の運転研究は、いずれの場合でも、今日
まで知られていなかったように、反応生成物がボイラ−
中ですでに生成し、多分これが酸性スクラバ−領域で明
らかに加水分解をうけてＨＢｒとＳＯ4 2-を生成する直
接検知できないるＳＯ2Ｂｒ2 であるということを見出
した。臭素の場合に煙道ガスに十分なＳＯ2 が供給され
ているならば、全ハロゲン負荷の約９９％が酸性スクラ
バ−の廃水中においてブロマイドＨＢｒとして回収され
る。この場合にも、塩素の場合と同様に、全ハロゲン負
荷の約１％だけがＢｒ2 としてアルカリ性スクラバ−か
ら水中に入り、そこで化学吸着され、十分な残存ＳＯ2
供給されているならば安定なＮａＢｒヘ還元される。
が生成するために、＞９０％抑制されるということを確
証している。比較的少量ないし非常に高い全臭素負荷に
おける本発明者の運転研究は、いずれの場合でも、今日
まで知られていなかったように、反応生成物がボイラ−
中ですでに生成し、多分これが酸性スクラバ−領域で明
らかに加水分解をうけてＨＢｒとＳＯ4 2-を生成する直
接検知できないるＳＯ2Ｂｒ2 であるということを見出
した。臭素の場合に煙道ガスに十分なＳＯ2 が供給され
ているならば、全ハロゲン負荷の約９９％が酸性スクラ
バ−の廃水中においてブロマイドＨＢｒとして回収され
る。この場合にも、塩素の場合と同様に、全ハロゲン負
荷の約１％だけがＢｒ2 としてアルカリ性スクラバ−か
ら水中に入り、そこで化学吸着され、十分な残存ＳＯ2
供給されているならば安定なＮａＢｒヘ還元される。
【００２５】それゆえに酸性廃水のハライド負荷は、少
なくとも定常運転におけるボイラ−煙道ガスの全ハロゲ
ン負荷の良好な尺度となる。その理由は、一定の仕込み
速度においてボイラ−煙道ガスの全ハロゲン負荷が、塩
素の場合ばかりでなく、臭素の場合にも酸性スクラバ−
の廃水のハライド負荷に同一の約９９％であるからであ
る。
なくとも定常運転におけるボイラ−煙道ガスの全ハロゲ
ン負荷の良好な尺度となる。その理由は、一定の仕込み
速度においてボイラ−煙道ガスの全ハロゲン負荷が、塩
素の場合ばかりでなく、臭素の場合にも酸性スクラバ−
の廃水のハライド負荷に同一の約９９％であるからであ
る。
【００２６】これに対し、非定常運転状態では、即ち急
激に負荷が変化する場合には、クエンチからの酸性廃水
と共に特定の時間に放出されるハライド負荷は、ボイラ
−煙道ガスに存在する全ハロゲン負荷にゆっくりと従
う、即ちそれは後になって、より正確には酸性スクラバ
−の底部相における洗浄水の平均滞留時間だけ時間的に
遅れてクエンチの廃水と共に現れる（遅れの程度は、例
えば４５分）。
激に負荷が変化する場合には、クエンチからの酸性廃水
と共に特定の時間に放出されるハライド負荷は、ボイラ
−煙道ガスに存在する全ハロゲン負荷にゆっくりと従
う、即ちそれは後になって、より正確には酸性スクラバ
−の底部相における洗浄水の平均滞留時間だけ時間的に
遅れてクエンチの廃水と共に現れる（遅れの程度は、例
えば４５分）。
【００２７】酸性廃水中のハライド濃度は、例えば伝導
性の測定から得られる。水性ハライド溶液の電気伝導度
は非常に温度依存性であることが知られている。それゆ
えに温度による補正をするために、温度の測定を伝導性
の測定と一緒に行う。次いで酸性廃水中の全ハライド負
荷を、例えば電気誘導フロ−メ−タ−により測定した酸
性廃水容量流速をハライド濃度に乗じることによって得
る。
性の測定から得られる。水性ハライド溶液の電気伝導度
は非常に温度依存性であることが知られている。それゆ
えに温度による補正をするために、温度の測定を伝導性
の測定と一緒に行う。次いで酸性廃水中の全ハライド負
荷を、例えば電気誘導フロ−メ−タ−により測定した酸
性廃水容量流速をハライド濃度に乗じることによって得
る。
【００２８】酸性廃水における煙道ガス全ハロゲン負荷
の記述した間接的決定法の別法として、存在する煙道ガ
スの全ハロゲン負荷を直接決定することもできるが、汚
れたボイラ−ガスのＨＸ及びＸ2 含量から及び煙道ガス
の容量流速または煙道ガスの容量流速に比例する因子、
例えばボイラ−水蒸気流出物からの決定で、比較的複雑
である。この目的のために、クエンチの上流の汚れたボ
イラ−ガス中のＨＸ及びＸ2 含量は、例えば近赤外分光
法に基づく装置を用いて測定しなければならないであろ
う。
の記述した間接的決定法の別法として、存在する煙道ガ
スの全ハロゲン負荷を直接決定することもできるが、汚
れたボイラ−ガスのＨＸ及びＸ2 含量から及び煙道ガス
の容量流速または煙道ガスの容量流速に比例する因子、
例えばボイラ−水蒸気流出物からの決定で、比較的複雑
である。この目的のために、クエンチの上流の汚れたボ
イラ−ガス中のＨＸ及びＸ2 含量は、例えば近赤外分光
法に基づく装置を用いて測定しなければならないであろ
う。
【００２９】存在する全ハロゲン負荷から始まるが、添
加すべき硫黄の質量流速に対して不必要な硫黄を供給し
ないで、連続的に硫黄の必要量を満足裏に供給するため
には、最初に「運転的に予備決定される硫黄添加ランプ
（ｒａｍｐ）を用いる１次制御回路」が得策である。こ
の１次制御回路において、クエンチの上流（ボイラ−の
下流）の汚れたボイラ−ガスにおいて連続的に測定され
るＳＯ2 含量は、「得られる制御変数」として役立つ。
以下を参照。
加すべき硫黄の質量流速に対して不必要な硫黄を供給し
ないで、連続的に硫黄の必要量を満足裏に供給するため
には、最初に「運転的に予備決定される硫黄添加ランプ
（ｒａｍｐ）を用いる１次制御回路」が得策である。こ
の１次制御回路において、クエンチの上流（ボイラ−の
下流）の汚れたボイラ−ガスにおいて連続的に測定され
るＳＯ2 含量は、「得られる制御変数」として役立つ。
以下を参照。
【００３０】中間の遊離のハロゲンは、説明したよう
に、更に正確には例えば塩素が約７５％だけ抑制される
場合、ボイラ−中で必ずしも完全には抑制されない。残
りの約２５％の遊離の塩素はアルカリ性スクラバ−に入
る。他の還元剤を外部から添加しないと仮定した場合、
クエンチの上流（ボイラ−の下流）の汚れたボイラ−ガ
ス中に常にある残存ＳＯ2 含量は、アルカリ性スクラバ
−での工程に十分な二硫化物（ｂｉｓｕｌｆｉｄｅ）を
内部的還元剤として提供する。
に、更に正確には例えば塩素が約７５％だけ抑制される
場合、ボイラ−中で必ずしも完全には抑制されない。残
りの約２５％の遊離の塩素はアルカリ性スクラバ−に入
る。他の還元剤を外部から添加しないと仮定した場合、
クエンチの上流（ボイラ−の下流）の汚れたボイラ−ガ
ス中に常にある残存ＳＯ2 含量は、アルカリ性スクラバ
−での工程に十分な二硫化物（ｂｉｓｕｌｆｉｄｅ）を
内部的還元剤として提供する。
【００３１】アルカリ性スクラバ−中において汚れたボ
イラ−ガスの残存ＳＯ2 から内部的に工程で生成する二
硫化物は、酸化に対して安定でないことが知られてい
る。即ちそれは、そこで次亜塩素酸塩（ＮａＯＣｌ）の
望ましい還元に働くばかりでなく、同時に溶解酸素とも
反応する。それゆえに塩素の場合、クエンチの上流の汚
れたボイラ−ガス中に必要とされる残存ＳＯ2 含量は、
化学量論的観点からの、アルカリ性スクラバ−で化学吸
着された残存塩素負荷に相当するものよりかなり高い。
これらの発見は、クエンチの上流の汚れたボイラ−ガス
中の残存ＳＯ2 含量の設定点（ｓｅｔ−ｐｏｉｎｔ）の
ために、存在する全塩素負荷（Ｃｌtot ｋｇ／時）に依
存して及びこの負荷を乾燥煙道ガス流速に関連づけるこ
とによる汚れたボイラ−ガス中の対応するＣｌtot 濃度
（Ｃｌtot ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry ）に依存して、
運転条件下に予め決定すべき工場に特異的な「硫黄添加
ランプ」と呼ばれるものを誘導する。
イラ−ガスの残存ＳＯ2 から内部的に工程で生成する二
硫化物は、酸化に対して安定でないことが知られてい
る。即ちそれは、そこで次亜塩素酸塩（ＮａＯＣｌ）の
望ましい還元に働くばかりでなく、同時に溶解酸素とも
反応する。それゆえに塩素の場合、クエンチの上流の汚
れたボイラ−ガス中に必要とされる残存ＳＯ2 含量は、
化学量論的観点からの、アルカリ性スクラバ−で化学吸
着された残存塩素負荷に相当するものよりかなり高い。
これらの発見は、クエンチの上流の汚れたボイラ−ガス
中の残存ＳＯ2 含量の設定点（ｓｅｔ−ｐｏｉｎｔ）の
ために、存在する全塩素負荷（Ｃｌtot ｋｇ／時）に依
存して及びこの負荷を乾燥煙道ガス流速に関連づけるこ
とによる汚れたボイラ−ガス中の対応するＣｌtot 濃度
（Ｃｌtot ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry ）に依存して、
運転条件下に予め決定すべき工場に特異的な「硫黄添加
ランプ」と呼ばれるものを誘導する。
【００３２】硫黄の添加ランプは、例えば塩素の場合、
次のようにして運転条件下に決定できる：このために必
要とされる「予め選択した高全塩素負荷における運転試
験」が行われ、最初に非常に過剰な硫黄の供給で試験を
開始し、従ってクエンチの上流（ボイラ−の下流）の汚
れたボイラ−ガス流における残存ＳＯ2 含量を非常に過
剰にして開始する。それゆえにアルカリ性スクラバ−に
おいては、最初かなりの二硫化物が供給される；これと
反対にそこには次亜塩素酸が存在せず、対応して最初は
アルカリ性スクラバ−の下流のきれいなガスには遊離の
塩素が検出されない。次いで遊離の塩素がきれいなガス
側で検出されるまで、硫黄の供給を段階的に減少させ
る。第一に予め選んだ全塩素負荷または汚れたボイラ−
ガスにおける対応して予め選んだＣｌtot 濃度（Ｃｌ
tot ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry ）、及び第二に遊離の
塩素がはっきりと検出できる汚れたボイラ−ガスの得ら
れる残存ＳＯ2 含量は、硫黄添加ランプの１点を形成す
る。
次のようにして運転条件下に決定できる：このために必
要とされる「予め選択した高全塩素負荷における運転試
験」が行われ、最初に非常に過剰な硫黄の供給で試験を
開始し、従ってクエンチの上流（ボイラ−の下流）の汚
れたボイラ−ガス流における残存ＳＯ2 含量を非常に過
剰にして開始する。それゆえにアルカリ性スクラバ−に
おいては、最初かなりの二硫化物が供給される；これと
反対にそこには次亜塩素酸が存在せず、対応して最初は
アルカリ性スクラバ−の下流のきれいなガスには遊離の
塩素が検出されない。次いで遊離の塩素がきれいなガス
側で検出されるまで、硫黄の供給を段階的に減少させ
る。第一に予め選んだ全塩素負荷または汚れたボイラ−
ガスにおける対応して予め選んだＣｌtot 濃度（Ｃｌ
tot ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry ）、及び第二に遊離の
塩素がはっきりと検出できる汚れたボイラ−ガスの得ら
れる残存ＳＯ2 含量は、硫黄添加ランプの１点を形成す
る。
【００３３】この点は、それ自体硫黄の添加ランプがこ
の１つの測定点と座標の原点を通る直線であるから、一
方で煙道ガス中のＣｌtot 濃度を含む全塩素負荷と他方
でクエンチの上流（ボイラ−の下流）の汚れたボイラ−
ガス流中の連続的に測定される残存ＳＯ2 含量の必要と
される最小値との間の関係として、硫黄の添加ランプを
確立するのにすでに十分である。かくしてこのように決
定された直線は、クエンチの上流（ボイラ−の下流）の
汚れたボイラ−ガス流中の設定点における残存ＳＯ2 含
量を異なる全塩素負荷に対して維持しなければならない
広い塩素負荷範囲に対して十分な精度を示し、従ってア
ルカリ性スクラバ−において常に十分な次亜塩素酸塩が
存在し且つそこで期待される次亜塩素酸塩の還元が起こ
り、従ってアルカリ性スクラバ−の下流におけるきれい
なガス中には遊離の塩素（Ｃｌ2）がもはや実質的に検
知できず、または予めきめた限界値以下の、きれいなガ
スには最小に過ぎないＣｌ2 濃度しか検出できない。
の１つの測定点と座標の原点を通る直線であるから、一
方で煙道ガス中のＣｌtot 濃度を含む全塩素負荷と他方
でクエンチの上流（ボイラ−の下流）の汚れたボイラ−
ガス流中の連続的に測定される残存ＳＯ2 含量の必要と
される最小値との間の関係として、硫黄の添加ランプを
確立するのにすでに十分である。かくしてこのように決
定された直線は、クエンチの上流（ボイラ−の下流）の
汚れたボイラ−ガス流中の設定点における残存ＳＯ2 含
量を異なる全塩素負荷に対して維持しなければならない
広い塩素負荷範囲に対して十分な精度を示し、従ってア
ルカリ性スクラバ−において常に十分な次亜塩素酸塩が
存在し且つそこで期待される次亜塩素酸塩の還元が起こ
り、従ってアルカリ性スクラバ−の下流におけるきれい
なガス中には遊離の塩素（Ｃｌ2）がもはや実質的に検
知できず、または予めきめた限界値以下の、きれいなガ
スには最小に過ぎないＣｌ2 濃度しか検出できない。
【００３４】臭素またはヨウ素の場合にも、硫黄の添加
に対する対応する工場に特異的な硫黄添加ランプを決定
することができる。
に対する対応する工場に特異的な硫黄添加ランプを決定
することができる。
【００３５】ボイラ−中の「ＳＯ2 消費」の結果とし
て、（運転では測定されない）ボイラ−の上流の煙道ガ
ス流中のＳＯ2 含量は、（運転では連続的に測定され
る）クエンチの上流（ボイラ−の下流）の汚れたボイラ
−ガス流中の残存ＳＯ2 含量よりかなり高くなければな
らない。この差、即ちボイラ−中のハロゲンに特異的な
ＳＯ2 消費は計算できる：例えば塩素の場合、存在する
全塩素負荷（または酸性廃水中の対応する塩素負荷）に
ボイラ−における工場に特異的な塩素負荷（例えば全塩
素負荷の３％、即ち全４％中の７５％）を乗じ、次いで
この値をＣｌ2 のモル質量（Ｃｌ2 ７０．９１４ｋｇ／
キロモル）で割り、最後に二酸化硫黄のモル質量（６
４．０６ｋｇ／キロモル）を掛けねばならない。次いで
この計算されたボイラ−における塩素に特異的なＳＯ2
消費を、硫黄添加ランプに従う全塩素負荷に相当する残
存ＳＯ2 必要量に付加しなければならない。最後に公知
の避けがたいＳＯ2 ／ＳＯ3 転化によるＳＯ2 消費を更
に考慮しなければならない：酸素１１％以下の廃棄物焼
却工場において、これは全ＳＯ2 負荷の約８％である。
それゆえに、ボイラ−の上流の煙道ガス中の予め決定し
たＳＯ2 含量は、対応する係数１＋０．０８／０．９２
＝１．０９だけ増加させねばならない。ボイラ−の上流
の煙道ガスにおいてこのように計算される設定点ＳＯ2
含量または対応する硫黄の質量流速は、ボイラ−内部の
遊離塩素の部分的抑制のために、またはアルカリ性スク
ラバ−の循環水中の次亜塩素酸塩の低下のために十分で
ある。
て、（運転では測定されない）ボイラ−の上流の煙道ガ
ス流中のＳＯ2 含量は、（運転では連続的に測定され
る）クエンチの上流（ボイラ−の下流）の汚れたボイラ
−ガス流中の残存ＳＯ2 含量よりかなり高くなければな
らない。この差、即ちボイラ−中のハロゲンに特異的な
ＳＯ2 消費は計算できる：例えば塩素の場合、存在する
全塩素負荷（または酸性廃水中の対応する塩素負荷）に
ボイラ−における工場に特異的な塩素負荷（例えば全塩
素負荷の３％、即ち全４％中の７５％）を乗じ、次いで
この値をＣｌ2 のモル質量（Ｃｌ2 ７０．９１４ｋｇ／
キロモル）で割り、最後に二酸化硫黄のモル質量（６
４．０６ｋｇ／キロモル）を掛けねばならない。次いで
この計算されたボイラ−における塩素に特異的なＳＯ2
消費を、硫黄添加ランプに従う全塩素負荷に相当する残
存ＳＯ2 必要量に付加しなければならない。最後に公知
の避けがたいＳＯ2 ／ＳＯ3 転化によるＳＯ2 消費を更
に考慮しなければならない：酸素１１％以下の廃棄物焼
却工場において、これは全ＳＯ2 負荷の約８％である。
それゆえに、ボイラ−の上流の煙道ガス中の予め決定し
たＳＯ2 含量は、対応する係数１＋０．０８／０．９２
＝１．０９だけ増加させねばならない。ボイラ−の上流
の煙道ガスにおいてこのように計算される設定点ＳＯ2
含量または対応する硫黄の質量流速は、ボイラ−内部の
遊離塩素の部分的抑制のために、またはアルカリ性スク
ラバ−の循環水中の次亜塩素酸塩の低下のために十分で
ある。
【００３６】臭素の場合にも対応する方法に従うことが
できる。この場合、煙道ガス側の全臭素負荷または廃水
側臭素負荷に、臭素の場合に決定した中間体遊離臭素の
工場に特異的な割合を掛ける。運転での検討によれば、
この割合は低い全臭素負荷の４０％から高い全臭素負荷
の６５％までであり、それゆえに塩素の場合よりも非常
に大きい。遊離の塩素と対比して、遊離の臭素はボイラ
−中に存在して実質的にＳＯ2 と反応し（多分ＳＯ2 Ｂ
ｒ2 を形成）、更に正確には遊離の臭素の＞９０％が反
応する。凡そでは、ボイラ−中において１００％のＢｒ
2 の転化が推定される。それゆえに計算のためには、全
中間体Ｂｒ2 負荷を、Ｂｒ2 のモル質量（Ｂｒ2 １５
９．８８ｋｇ／キロモル）で割り、二酸化硫黄のモル質
量（６４．０６ｋｇ／キロモル）を掛ける。この場合に
も上述したように係数１．０９だけ適当に増量し、酸化
によるＳＯ2 ／ＳＯ3 の転化に由来する硫黄の消費も考
慮する。
できる。この場合、煙道ガス側の全臭素負荷または廃水
側臭素負荷に、臭素の場合に決定した中間体遊離臭素の
工場に特異的な割合を掛ける。運転での検討によれば、
この割合は低い全臭素負荷の４０％から高い全臭素負荷
の６５％までであり、それゆえに塩素の場合よりも非常
に大きい。遊離の塩素と対比して、遊離の臭素はボイラ
−中に存在して実質的にＳＯ2 と反応し（多分ＳＯ2 Ｂ
ｒ2 を形成）、更に正確には遊離の臭素の＞９０％が反
応する。凡そでは、ボイラ−中において１００％のＢｒ
2 の転化が推定される。それゆえに計算のためには、全
中間体Ｂｒ2 負荷を、Ｂｒ2 のモル質量（Ｂｒ2 １５
９．８８ｋｇ／キロモル）で割り、二酸化硫黄のモル質
量（６４．０６ｋｇ／キロモル）を掛ける。この場合に
も上述したように係数１．０９だけ適当に増量し、酸化
によるＳＯ2 ／ＳＯ3 の転化に由来する硫黄の消費も考
慮する。
【００３７】ここにボイラ−の上流の煙道ガスにおける
運転中の計算された理論ＳＯ2 含量を１次制御回路の
「得られた設定点値」として用いる制御について、ここ
に記述する別法は、次亜塩素酸塩の還元のためにアルカ
リ性スクラバ−で必要とされる還元剤がクエンチの上流
の汚れたボイラ−ガスからの残存ＳＯ2 で賄われるので
なくて、外部から供給される還元剤、例えばチオ硫酸塩
のような酸化に対してより安定な還元剤で賄うならば、
常に興味深い。この場合、硫黄の添加ランプは、丁度ゼ
ロ以上に設定される（「残存ＳＯ2 の還元剤としての要
求はない」）：それゆえに添加する硫黄はボイラ−中の
内部ハロゲン消費に対してだけ役立ち、汚れたボイラ−
ガスからの残存ＳＯ2 の代わりに例えば外部から供給さ
れるチオ硫酸塩が還元剤となる。
運転中の計算された理論ＳＯ2 含量を１次制御回路の
「得られた設定点値」として用いる制御について、ここ
に記述する別法は、次亜塩素酸塩の還元のためにアルカ
リ性スクラバ−で必要とされる還元剤がクエンチの上流
の汚れたボイラ−ガスからの残存ＳＯ2 で賄われるので
なくて、外部から供給される還元剤、例えばチオ硫酸塩
のような酸化に対してより安定な還元剤で賄うならば、
常に興味深い。この場合、硫黄の添加ランプは、丁度ゼ
ロ以上に設定される（「残存ＳＯ2 の還元剤としての要
求はない」）：それゆえに添加する硫黄はボイラ−中の
内部ハロゲン消費に対してだけ役立ち、汚れたボイラ−
ガスからの残存ＳＯ2 の代わりに例えば外部から供給さ
れるチオ硫酸塩が還元剤となる。
【００３８】ＳＯ2 の不足する場合にきれいなガスへ入
る遊離の塩素または臭素は、好ましくは電気化学的測定
セル、例えばドレガ−・ジッヒャ−ハイツテクニク（Ｄ
ｒａｅｇｅｒ Ｓｉｃｈｅｒｈｅｉｔｓｔｅｃｈｎｉ
ｋ）からのケモサンサ−（Ｃｈｅｍｏｓｅｎｓｏｒ）
（参照［８］）を用いて、アルカリ性スクラバ−の下流
のきれいなガス中のＣｌ2 またはＢｒ2 を直接測定する
ことにより測定される。試験ガスをバイパスの煙道ガス
から連続的に採取し、乾燥し、次いでケモセンサ−で分
析する。遊離の塩素（または遊離の臭素）は、ケモセン
サ−の測定セルの電圧変化をもたらし、これを濃度に変
換する。このセンサ−がＳＣＲの上流のきれいなガスに
も存在する窒素酸化物（ＮＯx ）に対して高いクロス
（ｃｒｏｓｓ）感度を有するために、主なＣｌ2 測定値
は、どんな割合においても存在するきれいなガスのＮＯ
x 含量を用いてＣｌ2 の見掛けの読みを連続的にＮＯx
に対して補正しなければならない。
る遊離の塩素または臭素は、好ましくは電気化学的測定
セル、例えばドレガ−・ジッヒャ−ハイツテクニク（Ｄ
ｒａｅｇｅｒ Ｓｉｃｈｅｒｈｅｉｔｓｔｅｃｈｎｉ
ｋ）からのケモサンサ−（Ｃｈｅｍｏｓｅｎｓｏｒ）
（参照［８］）を用いて、アルカリ性スクラバ−の下流
のきれいなガス中のＣｌ2 またはＢｒ2 を直接測定する
ことにより測定される。試験ガスをバイパスの煙道ガス
から連続的に採取し、乾燥し、次いでケモセンサ−で分
析する。遊離の塩素（または遊離の臭素）は、ケモセン
サ−の測定セルの電圧変化をもたらし、これを濃度に変
換する。このセンサ−がＳＣＲの上流のきれいなガスに
も存在する窒素酸化物（ＮＯx ）に対して高いクロス
（ｃｒｏｓｓ）感度を有するために、主なＣｌ2 測定値
は、どんな割合においても存在するきれいなガスのＮＯ
x 含量を用いてＣｌ2 の見掛けの読みを連続的にＮＯx
に対して補正しなければならない。
【００３９】しかしながら他に、電気化学的測定セルの
代わりにまたはそれに加えて、きれいなガス中のＣｌ2
またはＢｒ2 含量を監視するために、煙道ガススクラバ
−の下流に（例えばファンの後であるが、確かにいずれ
か下流のＳＣＲ触媒床の上流に）連続的に表示するＣｌ
2 及び／またはＢｒ2 の異なる測定装置、例えば近赤外
分光法に基づく装置を配置してもよい。
代わりにまたはそれに加えて、きれいなガス中のＣｌ2
またはＢｒ2 含量を監視するために、煙道ガススクラバ
−の下流に（例えばファンの後であるが、確かにいずれ
か下流のＳＣＲ触媒床の上流に）連続的に表示するＣｌ
2 及び／またはＢｒ2 の異なる測定装置、例えば近赤外
分光法に基づく装置を配置してもよい。
【００４０】塩素の場合、きれいなガスのＳＣＲの通過
時に遊離の塩素がそこに存在するきれいなガスの条件
（低残存塩素負荷、高水蒸気含量、約３００℃）下にＳ
ＣＲ触媒で接触される塩素ディ−コン反応に従って明ら
かに実質的にＨＣｌへ戻る反応を受けるから、きれいな
ガス中における遊離のハロゲンの突出はＳＣＲ触媒床の
上流で測定しなければならない。しかしながら、これは
遊離の臭素（臭素ディ−コン反応）及びヨウ素（ヨウ素
ディ−コン反応）には当てはまらない。
時に遊離の塩素がそこに存在するきれいなガスの条件
（低残存塩素負荷、高水蒸気含量、約３００℃）下にＳ
ＣＲ触媒で接触される塩素ディ−コン反応に従って明ら
かに実質的にＨＣｌへ戻る反応を受けるから、きれいな
ガス中における遊離のハロゲンの突出はＳＣＲ触媒床の
上流で測定しなければならない。しかしながら、これは
遊離の臭素（臭素ディ−コン反応）及びヨウ素（ヨウ素
ディ−コン反応）には当てはまらない。
【００４１】ＳＯ2 の供与の適当性を、例えばアルカリ
性スクラバ−の廃水中の次亜ハロゲン酸塩を測定するこ
とにより更に監視することも可能である。
性スクラバ−の廃水中の次亜ハロゲン酸塩を測定するこ
とにより更に監視することも可能である。
【００４２】高ハロゲン化廃棄物の処理量の急激な増加
の場合、酸性スクラバ−の廃水中のハライド負荷は、説
明したように、酸性スクラバ−回路／スクラバ−底部相
における酸性廃水の滞留時間のために、煙道ガスに存在
する全ハロゲン負荷に遅れて起こる。
の場合、酸性スクラバ−の廃水中のハライド負荷は、説
明したように、酸性スクラバ−回路／スクラバ−底部相
における酸性廃水の滞留時間のために、煙道ガスに存在
する全ハロゲン負荷に遅れて起こる。
【００４３】そのような負荷の急激な増加の場合、設定
点ＳＯ2 含量（これが計算によって得られたボイラ−の
上流の煙道ガス中の設定点ＳＯ2 であるか、伝導度の測
定及び廃水の秤量により直接得られたクエンチの上流の
汚れたボイラ−ガス中の設定点残存ＳＯ2 であるかのい
ずれか）は、１次制御回路を経る制御器の介在にかかわ
らず、存在する全ハロゲン負荷に対して十分迅速に適応
せず、従って一時的にＳＯ2 の欠乏が起こり、それゆえ
に例えば遊離のＣｌ2 またはＢｒ2 の、アルカリ性スク
ラバ−の下流のきれいなガスへの望ましくない侵入が起
こりうる。
点ＳＯ2 含量（これが計算によって得られたボイラ−の
上流の煙道ガス中の設定点ＳＯ2 であるか、伝導度の測
定及び廃水の秤量により直接得られたクエンチの上流の
汚れたボイラ−ガス中の設定点残存ＳＯ2 であるかのい
ずれか）は、１次制御回路を経る制御器の介在にかかわ
らず、存在する全ハロゲン負荷に対して十分迅速に適応
せず、従って一時的にＳＯ2 の欠乏が起こり、それゆえ
に例えば遊離のＣｌ2 またはＢｒ2 の、アルカリ性スク
ラバ−の下流のきれいなガスへの望ましくない侵入が起
こりうる。
【００４４】負荷の急激な増加によるそのような侵入を
完全に防ぐために、硫黄の転化量をすぐに増加させねば
ならず、しばらくの間、１次制御回路で必要とされる硫
黄の量がＸ2 の抑制及びＮａＯＸの還元に対して再び十
分になるまで、例えば５−１００％、好ましくは１０−
５０％過剰で供給される。
完全に防ぐために、硫黄の転化量をすぐに増加させねば
ならず、しばらくの間、１次制御回路で必要とされる硫
黄の量がＸ2 の抑制及びＮａＯＸの還元に対して再び十
分になるまで、例えば５−１００％、好ましくは１０−
５０％過剰で供給される。
【００４５】この増加を実行するために、「拡張された
制御回路」を介して、例えば塩素の場合きれいなガス中
のＣｌ2 含量≧０．５ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry から且
つ更にきれいなガスで測定されるＣｌ2 含量の程度を用
いて、クエンチの上流の汚れたボイラ−ガス中の設定点
ＳＯ2 含量を、ＳＯ2 １０００ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）
dry まで増加させる。これはクエンチの上流における汚
れたボイラ−ガス中の塩素負荷の急激な増加の場合でさ
え、十分なＳＯ2 過剰量が常に存在することを保証す
る。
制御回路」を介して、例えば塩素の場合きれいなガス中
のＣｌ2 含量≧０．５ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry から且
つ更にきれいなガスで測定されるＣｌ2 含量の程度を用
いて、クエンチの上流の汚れたボイラ−ガス中の設定点
ＳＯ2 含量を、ＳＯ2 １０００ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）
dry まで増加させる。これはクエンチの上流における汚
れたボイラ−ガス中の塩素負荷の急激な増加の場合でさ
え、十分なＳＯ2 過剰量が常に存在することを保証す
る。
【００４６】他に、硫黄の割合は、好ましくは伝導度の
観察される上昇速度に比例して、（起こる全ハロゲン負
荷の急激な増加の指数としての）酸性廃水中のハライド
負荷の対応する最初の増加時に、増大させてもよい。
観察される上昇速度に比例して、（起こる全ハロゲン負
荷の急激な増加の指数としての）酸性廃水中のハライド
負荷の対応する最初の増加時に、増大させてもよい。
【００４７】煙道ガススクラバ−の下流のきれいなガス
中の遊離のハロゲンの濃度に基づく可能な処置、及び酸
性廃水中のハライド負荷の急激な増加に基づく可能な処
置という両方の手段は、「拡張された制御回路」におい
て一緒にまたは別々に使用することができる。
中の遊離のハロゲンの濃度に基づく可能な処置、及び酸
性廃水中のハライド負荷の急激な増加に基づく可能な処
置という両方の手段は、「拡張された制御回路」におい
て一緒にまたは別々に使用することができる。
【００４８】遊離のハロゲンを制御して抑制する本発明
の方法は、廃棄物の回分式供給でも対応して使用するこ
とができる（「パッケ−ジ法」）。この場合、硫黄及び
／または硫黄担体の添加は、パッケ−ジ供給物に連動し
ていなければならない。即ち周期的に、更に正確には関
連する硫黄添加の量、時点及び期間に関し、パッケージ
のハロゲンまたはハライド含量に依存して増量しなけれ
ばならない。
の方法は、廃棄物の回分式供給でも対応して使用するこ
とができる（「パッケ−ジ法」）。この場合、硫黄及び
／または硫黄担体の添加は、パッケ−ジ供給物に連動し
ていなければならない。即ち周期的に、更に正確には関
連する硫黄添加の量、時点及び期間に関し、パッケージ
のハロゲンまたはハライド含量に依存して増量しなけれ
ばならない。
【００４９】量、時点及び期間に関し、供給物サイクル
に拘束される、またパッケージの大きさに適合する硫黄
及び／または硫黄担体の添加は、各パッケージの加熱
値、ハロゲン種及びハロゲン量について自動的に読み込
んだ個々のバーコードが利用できる。
に拘束される、またパッケージの大きさに適合する硫黄
及び／または硫黄担体の添加は、各パッケージの加熱
値、ハロゲン種及びハロゲン量について自動的に読み込
んだ個々のバーコードが利用できる。
【００５０】硫黄粒状物を添加する場合、添加装置は、
この時も好ましくは続く１次燃焼室への空気圧輸送部分
を有する秤量スクリューである。
この時も好ましくは続く１次燃焼室への空気圧輸送部分
を有する秤量スクリューである。
【００５１】廃硫酸を添加する場合、硫黄の添加装置
は、好ましくはこれを１次または２次燃焼室へ噴霧注入
するノズルまたはノズル連結部を有する秤量ポンプであ
る。
は、好ましくはこれを１次または２次燃焼室へ噴霧注入
するノズルまたはノズル連結部を有する秤量ポンプであ
る。
【００５２】本発明の方法は、燃焼工場の２点において
等しく硫黄または硫黄担体を燃焼室へ制御して添加する
ことにより、更に正確には第一に廃熱ボイラ−における
ほど早く（ＳＯ2 との直接気相反応）及び第二にアルカ
リ性スクラバ−において（化学吸着されたＳＯ2 から生
成した二硫化物による次亜ハロゲン酸塩の還元）遊離の
ハロゲン、例えばＣｌ2 及び／またはＢｒ2 を除去する
という利点を有する。変化する全ハロゲン負荷に比例し
た硫黄の制御された添加（１次制御回路）及び遊離のハ
ロゲンのきれいなガスへの侵入時に硫黄の割合が一時的
に過剰になる供給物先駆け制御（ｆｅｅｄ−ｆｏｒｗａ
ｒｄ ｃｏｎｔｒｏｌ）（供給物に先駆けた制御を含む
拡張された制御回路）は、第一に最小の硫黄必要量が達
成され、第二に酸性及びアルカリ性スクラバ−における
酸化された硫黄化合物、例えばＳＯ3 ／ＳＯ4 2-（酸性
スクラバ−）またはＳＯ2 （アルカリ性スクラバ−）に
よる不必要な付加がないことを保証する。それゆえに不
必要に高い硫黄の消費がなく、従ってアルカリ性スクラ
バ−（ＮａＯＨ消費）においてまたは下流の廃水処理／
重金属の沈殿（例えばＣｓ（ＯＨ）2 の消費）において
不必要に高いアルカリの消費がなく、最後に埋め立てす
べき残渣、例えば硫酸カルシウム２水和物ＣａＳＯ4 ・
２Ｈ2 Ｏの不必要に高い生成もない。
等しく硫黄または硫黄担体を燃焼室へ制御して添加する
ことにより、更に正確には第一に廃熱ボイラ−における
ほど早く（ＳＯ2 との直接気相反応）及び第二にアルカ
リ性スクラバ−において（化学吸着されたＳＯ2 から生
成した二硫化物による次亜ハロゲン酸塩の還元）遊離の
ハロゲン、例えばＣｌ2 及び／またはＢｒ2 を除去する
という利点を有する。変化する全ハロゲン負荷に比例し
た硫黄の制御された添加（１次制御回路）及び遊離のハ
ロゲンのきれいなガスへの侵入時に硫黄の割合が一時的
に過剰になる供給物先駆け制御（ｆｅｅｄ−ｆｏｒｗａ
ｒｄ ｃｏｎｔｒｏｌ）（供給物に先駆けた制御を含む
拡張された制御回路）は、第一に最小の硫黄必要量が達
成され、第二に酸性及びアルカリ性スクラバ−における
酸化された硫黄化合物、例えばＳＯ3 ／ＳＯ4 2-（酸性
スクラバ−）またはＳＯ2 （アルカリ性スクラバ−）に
よる不必要な付加がないことを保証する。それゆえに不
必要に高い硫黄の消費がなく、従ってアルカリ性スクラ
バ−（ＮａＯＨ消費）においてまたは下流の廃水処理／
重金属の沈殿（例えばＣｓ（ＯＨ）2 の消費）において
不必要に高いアルカリの消費がなく、最後に埋め立てす
べき残渣、例えば硫酸カルシウム２水和物ＣａＳＯ4 ・
２Ｈ2 Ｏの不必要に高い生成もない。
【００５３】
【参考文献】［１］Ｈ．Ｗ．ファビアン（Ｆａｂｉａ
ｎ）、Ｐ．レ−ア−（Ｒｅｈｅｒ）、及びＭ．シェ−ン
（Ｓｃｈｏｅｎ）、「バイエルはどのように廃棄物を焼
却するか」、ハイドロカ−ボン・プロセッシング（Ｈｙ
ｄｒｏｃａｒｂｏｎ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）、１９７
９年４月、１８３ページ。 ［２］Ｒ．Ｄ．グリフィン（Ｇｒｉｆｆｉｎ）、「都市
の固体廃棄物の燃焼における新しいダイオキシン生成理
論」、ケモスフェア（Ｃｈｅｍｏｓｐｈｅｒｅ）、１５
巻、１９８７−１９９０ページ（１９８６年）。 ［３］Ｔ．ガイガ−（Ｇｅｉｇｅｒ）、Ｈ．ハゲマイナ
−（Ｈａｇｅｍｅｉｎｅｒｅ）、Ｅ．ハ−トマン（Ｈａ
ｒｔｍａｎｎ）、Ｒ．レマ−（Ｒｏｅｍｅｒ）、Ｈ．ザ
イフェルト（Ｓｅｉｆｅｒｔ）、「スラッジの焼却にお
けるダイオキシン及びフラン類の生成に及ぼす硫黄の影
響」、ＶＧＢクラフトベルクステクニク（Ｋｒａｆｔｗ
ｅｒｋｓｔｅｃｈｎｉｋ）、７２巻、１５９−１６５ペ
ージ（１９９２年）。 ［４］Ｐ．サマラス（Ｓａｍａｒａｓ）、ブルメンスト
ック（Ｂｌｕｍｅｎｎｓｔｏｃｋ）、Ｄ．ルノア−ル
（Ｌｅｎｏｉｒ）、Ｋ．Ｗ．シュラム（Ｓｃｈｒａｍ
ｍ）、Ａ．ケットトラップ（Ｋｅｔｔｔｒｕｐ）、「新
規な添加剤によるＰＣＤＤ／Ｆ防止：燃焼前の燃料への
無機Ｓ−及びＮ−化合物の添加」、エンバイロン・サイ
・テクノル（Ｅｎｖｉｒｏｎ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏ
ｌ．）、３４巻、５０９２−５０９６（２０００年）。 ［５］Ｄ．Ａ．オベラッカ−（Ｏｂｅｒａｃｋｅｒ）、
Ｄ．Ｒ．レック（Ｒｏｅｃｋ）、Ｒ．ブルゼジンスキ−
（Ｂｒｚｅｚｉｎｓｋｉ）、「殺虫剤二臭化エチレン
（ＥＤＢ）の燃焼；フィールド規模での試験燃焼、環境
性の評価」、レポ−トＲＰＡ／６００／Ｄ−８８／１９
８、オ−ダ−番号ＰＢ８９−１１８２４３（１９８８
年）。 ［６］ヨーロッパ特許第０４０６７１０号。 ［７］Ｗ．オッペンハイマ−（Ｏｐｐｅｎｈｅｉｍｅ
ｒ）、Ｋ．マ−セク（Ｍａｒｃｅｋ）、「工業廃棄物の
熱廃棄」、エントソルグングス−プラキシス（Ｅｎｔｓ
ｏｒｇｕｎｇｓ−Ｐｒａｘｉｓ）、６巻、２９−３３ペ
ージ（２０００年）。 ［８］ドレガ−・ジヒャ−ハイツテクニク（Ｄｒａｅｇ
ｅｒ Ｓｉｃｈｅｒｈｅｉｔｓｔｅｃｈｎｉｋ）：ドレ
ガ−センサーＣｌ2 ６８０９７２５の製品スペック。 図面と実施例 図１は典型的な廃棄物焼却工場を示す（これはバイエル
社のレベルク−センベリッヒ（Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ−
Ｂｕｅｒｒｉｇ）廃棄センター）。この工場は、固体廃
棄物及びパッケージ１及び液体廃棄物２に対する供給装
置、ロ−タリ−キルン３、後燃焼室４、廃熱ボイラ−
５、クエンチ（ｑｕｅｎｃｈ）６、酸性ロータリー噴霧
スクラバ−７、アルカリ性ロータリー噴霧スクラバ−
８、凝縮ＥＧＲ９、ファン１０、下流ＳＣＲ脱硝装置１
１、及び煙突１２を含む。
ｎ）、Ｐ．レ−ア−（Ｒｅｈｅｒ）、及びＭ．シェ−ン
（Ｓｃｈｏｅｎ）、「バイエルはどのように廃棄物を焼
却するか」、ハイドロカ−ボン・プロセッシング（Ｈｙ
ｄｒｏｃａｒｂｏｎ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）、１９７
９年４月、１８３ページ。 ［２］Ｒ．Ｄ．グリフィン（Ｇｒｉｆｆｉｎ）、「都市
の固体廃棄物の燃焼における新しいダイオキシン生成理
論」、ケモスフェア（Ｃｈｅｍｏｓｐｈｅｒｅ）、１５
巻、１９８７−１９９０ページ（１９８６年）。 ［３］Ｔ．ガイガ−（Ｇｅｉｇｅｒ）、Ｈ．ハゲマイナ
−（Ｈａｇｅｍｅｉｎｅｒｅ）、Ｅ．ハ−トマン（Ｈａ
ｒｔｍａｎｎ）、Ｒ．レマ−（Ｒｏｅｍｅｒ）、Ｈ．ザ
イフェルト（Ｓｅｉｆｅｒｔ）、「スラッジの焼却にお
けるダイオキシン及びフラン類の生成に及ぼす硫黄の影
響」、ＶＧＢクラフトベルクステクニク（Ｋｒａｆｔｗ
ｅｒｋｓｔｅｃｈｎｉｋ）、７２巻、１５９−１６５ペ
ージ（１９９２年）。 ［４］Ｐ．サマラス（Ｓａｍａｒａｓ）、ブルメンスト
ック（Ｂｌｕｍｅｎｎｓｔｏｃｋ）、Ｄ．ルノア−ル
（Ｌｅｎｏｉｒ）、Ｋ．Ｗ．シュラム（Ｓｃｈｒａｍ
ｍ）、Ａ．ケットトラップ（Ｋｅｔｔｔｒｕｐ）、「新
規な添加剤によるＰＣＤＤ／Ｆ防止：燃焼前の燃料への
無機Ｓ−及びＮ−化合物の添加」、エンバイロン・サイ
・テクノル（Ｅｎｖｉｒｏｎ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏ
ｌ．）、３４巻、５０９２−５０９６（２０００年）。 ［５］Ｄ．Ａ．オベラッカ−（Ｏｂｅｒａｃｋｅｒ）、
Ｄ．Ｒ．レック（Ｒｏｅｃｋ）、Ｒ．ブルゼジンスキ−
（Ｂｒｚｅｚｉｎｓｋｉ）、「殺虫剤二臭化エチレン
（ＥＤＢ）の燃焼；フィールド規模での試験燃焼、環境
性の評価」、レポ−トＲＰＡ／６００／Ｄ−８８／１９
８、オ−ダ−番号ＰＢ８９−１１８２４３（１９８８
年）。 ［６］ヨーロッパ特許第０４０６７１０号。 ［７］Ｗ．オッペンハイマ−（Ｏｐｐｅｎｈｅｉｍｅ
ｒ）、Ｋ．マ−セク（Ｍａｒｃｅｋ）、「工業廃棄物の
熱廃棄」、エントソルグングス−プラキシス（Ｅｎｔｓ
ｏｒｇｕｎｇｓ−Ｐｒａｘｉｓ）、６巻、２９−３３ペ
ージ（２０００年）。 ［８］ドレガ−・ジヒャ−ハイツテクニク（Ｄｒａｅｇ
ｅｒ Ｓｉｃｈｅｒｈｅｉｔｓｔｅｃｈｎｉｋ）：ドレ
ガ−センサーＣｌ2 ６８０９７２５の製品スペック。 図面と実施例 図１は典型的な廃棄物焼却工場を示す（これはバイエル
社のレベルク−センベリッヒ（Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ−
Ｂｕｅｒｒｉｇ）廃棄センター）。この工場は、固体廃
棄物及びパッケージ１及び液体廃棄物２に対する供給装
置、ロ−タリ−キルン３、後燃焼室４、廃熱ボイラ−
５、クエンチ（ｑｕｅｎｃｈ）６、酸性ロータリー噴霧
スクラバ−７、アルカリ性ロータリー噴霧スクラバ−
８、凝縮ＥＧＲ９、ファン１０、下流ＳＣＲ脱硝装置１
１、及び煙突１２を含む。
【００５４】図２は、塩素の場合を例にして、高塩素化
廃棄物の焼却に対する「炉、ボイラ−、及び酸性スクラ
バ−を網羅する閉系硫黄バランス」を示す。この図は、
ボイラ−において、全塩素負荷の約３％がボイラ−中の
中間体塩素としてＳＯ2 と後反応してＨＣｌ及びＳＯ3
を生成する。得られるＳＯ3 は酸性クエンチ廃水中にＳ
Ｏ4 2-として回収される。図２に対する運転実験は、一
定の高硫黄供給で、全塩素負荷を段階的に増量しながら
行った。図のｘ軸は乾燥煙道ガス容量流速に基づく全塩
素量であり、したがってＣｌtot ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）
dry として記述される。図のｙ軸は、煙道ガス側のＳＯ
2 中及び廃水側のＳＯ4 2-中に存在する、それぞれの場
合にここで研究する工場において約４０００ｍ3 （ＳＴ
Ｐ）dry／時の乾燥煙道ガス容量流速（Ｃｌtot ｍｇ／
ｍ3 （ＳＴＰ）dry ）に基づく「質量での硫黄流速」で
ある。更に図２は、予期されるように汚れたガス側のＳ
Ｏ 2 （ボイラ−の下流／クエンチの上流）が酸性スクラ
バ−を通過することを実証するために、酸性スクラバ−
下流の、即ちアルカリ性スクラバ−の上流の酸で洗浄し
たきれいなガスの測定ＳＯ2 値をいくつか示す。
廃棄物の焼却に対する「炉、ボイラ−、及び酸性スクラ
バ−を網羅する閉系硫黄バランス」を示す。この図は、
ボイラ−において、全塩素負荷の約３％がボイラ−中の
中間体塩素としてＳＯ2 と後反応してＨＣｌ及びＳＯ3
を生成する。得られるＳＯ3 は酸性クエンチ廃水中にＳ
Ｏ4 2-として回収される。図２に対する運転実験は、一
定の高硫黄供給で、全塩素負荷を段階的に増量しながら
行った。図のｘ軸は乾燥煙道ガス容量流速に基づく全塩
素量であり、したがってＣｌtot ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）
dry として記述される。図のｙ軸は、煙道ガス側のＳＯ
2 中及び廃水側のＳＯ4 2-中に存在する、それぞれの場
合にここで研究する工場において約４０００ｍ3 （ＳＴ
Ｐ）dry／時の乾燥煙道ガス容量流速（Ｃｌtot ｍｇ／
ｍ3 （ＳＴＰ）dry ）に基づく「質量での硫黄流速」で
ある。更に図２は、予期されるように汚れたガス側のＳ
Ｏ 2 （ボイラ−の下流／クエンチの上流）が酸性スクラ
バ−を通過することを実証するために、酸性スクラバ−
下流の、即ちアルカリ性スクラバ−の上流の酸で洗浄し
たきれいなガスの測定ＳＯ2 値をいくつか示す。
【００５５】図３は、硫黄の供給が十分な時、全塩素負
荷の９９％がＨＣｌとして酸性スクラバ−を通り、全塩
素負荷の１％だけがＣｌ2 としてアルカリ性スクラバ−
に入り、そこで最終的に（クエンチの上流の汚れたボイ
ラ−ガス中の残存ＳＯ2 により）安定な塩素に還元され
ることを例で実証するために、アルカリ性スクラバ−
（アルカリ性ロータリー噴霧スクラバ−）を含む地点で
の関連塩素バランスを示す。
荷の９９％がＨＣｌとして酸性スクラバ−を通り、全塩
素負荷の１％だけがＣｌ2 としてアルカリ性スクラバ−
に入り、そこで最終的に（クエンチの上流の汚れたボイ
ラ−ガス中の残存ＳＯ2 により）安定な塩素に還元され
ることを例で実証するために、アルカリ性スクラバ−
（アルカリ性ロータリー噴霧スクラバ−）を含む地点で
の関連塩素バランスを示す。
【００５６】図４は、塩素の場合を例にして、塩素に特
異的な硫黄添加ランプ１３を、クエンチの廃水中のハラ
イド負荷に基づくクエンチの上流の汚れたボイラ−ガス
１４中の残存ＳＯ2 設定点値１４ａと共に用いる１次制
御回路を示す。この後者は廃水の容量流速１７（磁気誘
導流計で測定）を乗じることにより、廃水中のＨＣｌ含
量（温度補正した伝導度の測定１６で決定）から決定さ
れる。必要とされる硫黄粒状物１８の質量割合は、秤量
スクリュー１９及び空気圧輸送導管２０を介して１次燃
焼室（ロータリーキルン）３の上部へ添加される。ここ
で制御される可変数は、容量スクリュー装置２１の回転
数である。この回転速度はＰ−Ｉ制御装置Ｒ３３３２
（２２）を介して変化させうる。この制御装置２２は、
硫黄添加ランプ１３にしたがって必要とされる設定点残
存ＳＯ2 値２３と共に、廃熱ボイラ−５の下流で測定さ
れる実際のＳＯ2 値１４ａに連続的に適合している。
異的な硫黄添加ランプ１３を、クエンチの廃水中のハラ
イド負荷に基づくクエンチの上流の汚れたボイラ−ガス
１４中の残存ＳＯ2 設定点値１４ａと共に用いる１次制
御回路を示す。この後者は廃水の容量流速１７（磁気誘
導流計で測定）を乗じることにより、廃水中のＨＣｌ含
量（温度補正した伝導度の測定１６で決定）から決定さ
れる。必要とされる硫黄粒状物１８の質量割合は、秤量
スクリュー１９及び空気圧輸送導管２０を介して１次燃
焼室（ロータリーキルン）３の上部へ添加される。ここ
で制御される可変数は、容量スクリュー装置２１の回転
数である。この回転速度はＰ−Ｉ制御装置Ｒ３３３２
（２２）を介して変化させうる。この制御装置２２は、
硫黄添加ランプ１３にしたがって必要とされる設定点残
存ＳＯ2 値２３と共に、廃熱ボイラ−５の下流で測定さ
れる実際のＳＯ2 値１４ａに連続的に適合している。
【００５７】図５は、再び塩素の場合を例にして、１次
制御回路（図４）で使用される且つ運転的に予め決定さ
れる塩素に特異的な硫黄添加ランプを例示する。その決
定に対しては、異なる全負荷において６回の実験を行っ
た。これらの運転実験の主な変数を表１に示す。運転実
験のそれぞれにおいては、ジクロロプロパンＤＣＰと塩
素化炭化水素の高塩素化液体廃棄物（それぞれ塩素含量
は既知）の処理量を一定に保った。各塩素負荷（約４０
００ｍ3 （ＳＴＰ）dry ／時の乾燥煙道ガス容量流速に
基づく）を、図５のｘ軸において読み取りうる。図５の
ｙ軸は、乾燥煙道ガス容量流速に基づくクエンチの上流
の汚れたボイラ−ガス中の必要とされる設定点残存ＳＯ
2 値（最小残存ＳＯ2 含量）を示す。
制御回路（図４）で使用される且つ運転的に予め決定さ
れる塩素に特異的な硫黄添加ランプを例示する。その決
定に対しては、異なる全負荷において６回の実験を行っ
た。これらの運転実験の主な変数を表１に示す。運転実
験のそれぞれにおいては、ジクロロプロパンＤＣＰと塩
素化炭化水素の高塩素化液体廃棄物（それぞれ塩素含量
は既知）の処理量を一定に保った。各塩素負荷（約４０
００ｍ3 （ＳＴＰ）dry ／時の乾燥煙道ガス容量流速に
基づく）を、図５のｘ軸において読み取りうる。図５の
ｙ軸は、乾燥煙道ガス容量流速に基づくクエンチの上流
の汚れたボイラ−ガス中の必要とされる設定点残存ＳＯ
2 値（最小残存ＳＯ2 含量）を示す。
【００５８】
【表１】
【００５９】図６は、表１の実験４について、硫黄添加
ランプの１点を決定するための方法を例示する。図は汚
れたボイラ−ガス中の残存ＳＯ2 （左のｙ軸）の及び実
験の時間の関数としてファンの下流で測定されるアルカ
リ性スクラバ−の下流のきれいなガス中の遊離の塩素の
含量（右のｙ軸）を示す。高残存ＳＯ2 含量を、汚れた
ボイラ−ガスにおいて最初に予め選択した。これは実験
の開始からゆっくりと減少した。クエンチの上流の汚れ
たボイラ−ガスにおけるＳＯ2 約１４００ｍｇ／ｍ3
（ＳＴＰ）dry の残存ＳＯ2 含量から、ＳＣＲの上流の
きれいなガス中のＣｌ2 濃度は、１２：３０後に残存Ｓ
Ｏ2 約５００ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry において著しい
遊離の塩素の上昇（Ｃｌ2 の突出）が起こるまで僅かに
上昇し始める。きれいなガス中のＣｌ2 濃度が非常に増
加する時点の残存ＳＯ2 含量及び関連する煙道ガス中の
Ｃｌtot 濃度（ここでは約Ｃｌtot ３６ｇ／ｍ3 （ＳＴ
Ｐ） dry ）は、硫黄添加ランプ上の１点を確立する。更
なる実験は、硫黄添加ランプが実際直線であることを証
明する。
ランプの１点を決定するための方法を例示する。図は汚
れたボイラ−ガス中の残存ＳＯ2 （左のｙ軸）の及び実
験の時間の関数としてファンの下流で測定されるアルカ
リ性スクラバ−の下流のきれいなガス中の遊離の塩素の
含量（右のｙ軸）を示す。高残存ＳＯ2 含量を、汚れた
ボイラ−ガスにおいて最初に予め選択した。これは実験
の開始からゆっくりと減少した。クエンチの上流の汚れ
たボイラ−ガスにおけるＳＯ2 約１４００ｍｇ／ｍ3
（ＳＴＰ）dry の残存ＳＯ2 含量から、ＳＣＲの上流の
きれいなガス中のＣｌ2 濃度は、１２：３０後に残存Ｓ
Ｏ2 約５００ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry において著しい
遊離の塩素の上昇（Ｃｌ2 の突出）が起こるまで僅かに
上昇し始める。きれいなガス中のＣｌ2 濃度が非常に増
加する時点の残存ＳＯ2 含量及び関連する煙道ガス中の
Ｃｌtot 濃度（ここでは約Ｃｌtot ３６ｇ／ｍ3 （ＳＴ
Ｐ） dry ）は、硫黄添加ランプ上の１点を確立する。更
なる実験は、硫黄添加ランプが実際直線であることを証
明する。
【００６０】図７は、再び塩素を例にして目標としたハ
ロゲン処理量の急激な増加を示すが、酸性スクラバ−流
出物で間接的に決定されるハライド負荷はスクラバ−の
底部相の寸法に起因する遅れをもって煙道ガス中の存在
する全ハロゲン負荷に追随することを示す。
ロゲン処理量の急激な増加を示すが、酸性スクラバ−流
出物で間接的に決定されるハライド負荷はスクラバ−の
底部相の寸法に起因する遅れをもって煙道ガス中の存在
する全ハロゲン負荷に追随することを示す。
【００６１】図８は、存在する全ハロゲン負荷の検出に
おける時間差による負荷の急激な上昇の場合の、遅れに
よるＳＯ2 の欠乏、及び１次制御回路の単独運転の場合
の、アルカリ性スクラバ−の下流のきれいなガスで観察
されるＣｌ2 の突出を示す。１次制御回路を１３：４５
に始動した後、１次制御回路は、汚れたボイラ−ガス中
の残存ＳＯ2 含量を、最初の設定点値から硫黄の添加ラ
ンプに従ってその場で実際に必要とされる値へ制御す
る。１４：３５に、塩素負荷が目標とするように９００
ｋｇ／時から１４００ｋｇ／時まで急に増加する（参照
図７）。急に上昇する存在する全塩素負荷の検出の遅
れ、即ち残存ＳＯ2 含量の追随の遅れの結果として、き
れいなガス中のＣｌ2 濃度は４５分後（１５：２０）に
増加し、最後にきれいなガス中において＞＞Ｃｌ2 ５ｍ
ｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry の値までのＣｌ2 突出に至る。
残存ＳＯ2 含量が最終的に必要とされる最終値に達する
と、Ｃｌ2 の突出も終了する。
おける時間差による負荷の急激な上昇の場合の、遅れに
よるＳＯ2 の欠乏、及び１次制御回路の単独運転の場合
の、アルカリ性スクラバ−の下流のきれいなガスで観察
されるＣｌ2 の突出を示す。１次制御回路を１３：４５
に始動した後、１次制御回路は、汚れたボイラ−ガス中
の残存ＳＯ2 含量を、最初の設定点値から硫黄の添加ラ
ンプに従ってその場で実際に必要とされる値へ制御す
る。１４：３５に、塩素負荷が目標とするように９００
ｋｇ／時から１４００ｋｇ／時まで急に増加する（参照
図７）。急に上昇する存在する全塩素負荷の検出の遅
れ、即ち残存ＳＯ2 含量の追随の遅れの結果として、き
れいなガス中のＣｌ2 濃度は４５分後（１５：２０）に
増加し、最後にきれいなガス中において＞＞Ｃｌ2 ５ｍ
ｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry の値までのＣｌ2 突出に至る。
残存ＳＯ2 含量が最終的に必要とされる最終値に達する
と、Ｃｌ2 の突出も終了する。
【００６２】そのような種類のＣｌ2 の突出は図９に示
され且つ１次制御回路と比べて拡張された「供給物先駆
け制御を有する制御回路」で防ぐことができる。この拡
張された制御の概念によれば、クエンチの上流の汚れた
ボイラ−ガス１４における残存ＳＯ2 設定点値１４ａ
は、酸性廃水の遅れ塩素負荷に従う硫黄添加ランプ１３
だけを介して誘導されず、添加される硫黄量１８を徐々
に増加する。むしろクエンチの上流の汚れたボイラ−ガ
ス１４における残存ＳＯ2 設定点値１４ａは、アルカリ
性スクラバ−の下流／ファン１０の下流（但し続くＳＣ
Ｒ触媒床の上流であることに注意）のきれいなガス中に
おいて塩素の増大が測定しうるや否や、目標とするよう
に一時的に過剰にとられる。遊離の塩素の測定に対し
て、好ましくはドレガ−・ジッヒャ−ハイツテクニクか
らのケモセンサ−２５を使用する。試験ガスを連続的に
煙道ガス導管から採取し、乾燥し、分析する。遊離の塩
素はケモセンサ−２５の測定セルにおいて、濃度に転換
される電位の変化を誘導する。センサー２５はＳＣＲ上
流のきれいなガス中に存在するＮＯx ２６への高いクロ
ス感度を有するために、センサー２５からの１次Ｃｌ2
測定値を、装置に特有の補正係数２７を用いてＮＯx に
よる見掛けの読みを補正する（見掛けの読み２８の計
算、１次Ｃｌ2 測定値２９から見掛けの読みを差し引
く）。
され且つ１次制御回路と比べて拡張された「供給物先駆
け制御を有する制御回路」で防ぐことができる。この拡
張された制御の概念によれば、クエンチの上流の汚れた
ボイラ−ガス１４における残存ＳＯ2 設定点値１４ａ
は、酸性廃水の遅れ塩素負荷に従う硫黄添加ランプ１３
だけを介して誘導されず、添加される硫黄量１８を徐々
に増加する。むしろクエンチの上流の汚れたボイラ−ガ
ス１４における残存ＳＯ2 設定点値１４ａは、アルカリ
性スクラバ−の下流／ファン１０の下流（但し続くＳＣ
Ｒ触媒床の上流であることに注意）のきれいなガス中に
おいて塩素の増大が測定しうるや否や、目標とするよう
に一時的に過剰にとられる。遊離の塩素の測定に対し
て、好ましくはドレガ−・ジッヒャ−ハイツテクニクか
らのケモセンサ−２５を使用する。試験ガスを連続的に
煙道ガス導管から採取し、乾燥し、分析する。遊離の塩
素はケモセンサ−２５の測定セルにおいて、濃度に転換
される電位の変化を誘導する。センサー２５はＳＣＲ上
流のきれいなガス中に存在するＮＯx ２６への高いクロ
ス感度を有するために、センサー２５からの１次Ｃｌ2
測定値を、装置に特有の補正係数２７を用いてＮＯx に
よる見掛けの読みを補正する（見掛けの読み２８の計
算、１次Ｃｌ2 測定値２９から見掛けの読みを差し引
く）。
【００６３】設置したドレガ−の測定セル２５のＮＯx
クロス感度による見掛けの塩素の読みΔＣｌ2（２８）
は、例えばΔＣｌ2 ／ｐｐｍ＝ａ＊ＮＯx ／（ｍｇ／ｍ
3 （ＳＴＰ）dry ）の形の簡単な装置特有の補正方程式
に従う。ＳＣＲの上流のきれいなガス中において時に高
いＮＯx 含量がある場合、Ｃｌ2 に対する低限界値を考
慮して、ΔＣｌ2 ／ｐｐｍ＝ａ´＊［（ＮＯx ／（ｍｇ
／ｍ3 （ＳＴＰ）dry））2 −ｂ´＊ＮＯx ／（ｍｇ／
ｍ3 （ＳＴＰ）dry ）］の形の補正式が使用され、この
補正式の係数ａ´及びｂ´を適当な随意の測定で実証す
ることが得策である。この測定は、例えばＮＯx に富む
が、塩素を含まない工程（図１０に測定結果）の運転煙
道ガスを用いて直接行うことができる。
クロス感度による見掛けの塩素の読みΔＣｌ2（２８）
は、例えばΔＣｌ2 ／ｐｐｍ＝ａ＊ＮＯx ／（ｍｇ／ｍ
3 （ＳＴＰ）dry ）の形の簡単な装置特有の補正方程式
に従う。ＳＣＲの上流のきれいなガス中において時に高
いＮＯx 含量がある場合、Ｃｌ2 に対する低限界値を考
慮して、ΔＣｌ2 ／ｐｐｍ＝ａ´＊［（ＮＯx ／（ｍｇ
／ｍ3 （ＳＴＰ）dry））2 −ｂ´＊ＮＯx ／（ｍｇ／
ｍ3 （ＳＴＰ）dry ）］の形の補正式が使用され、この
補正式の係数ａ´及びｂ´を適当な随意の測定で実証す
ることが得策である。この測定は、例えばＮＯx に富む
が、塩素を含まない工程（図１０に測定結果）の運転煙
道ガスを用いて直接行うことができる。
【００６４】更に図９が示すように、きれいなガスにお
ける、例えばＣｌ2 ０．５ｍｇ／ｍ 3 （ＳＴＰ）dry の
設定点にしうるＣｌ2 含量３０からＮＯx の補正された
Ｃｌ 2 測定値は、制御装置Ｒ３４０１（３１）によって
追加のＳＯ2 必要量に転換され、これにより設定点にし
うる増幅係数３３、例えば１０だけ増幅器で増大せしめ
られる。この追加のＳＯ2 必要量は、「ディスタ−バン
ス可変（ｄｉｓｔｕｒｂａｎｃｅ ｖａｒｉａｂｌｅ）
添加装置３４」において、１次制御回路部分でのＳＯ2
必要量まで添加される。即ちＳＯ2 設定点値２３は、例
えばＳＯ2 １０００ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry だけ増加
する。制御装置２２は、廃熱ボイラ−５の下流で測定さ
れる実際の残存ＳＯ2 値１４ａを、連続的に記述した供
給物先駆け制御に従って増加させた残存ＳＯ2 設定点値
２３に適応させる。
ける、例えばＣｌ2 ０．５ｍｇ／ｍ 3 （ＳＴＰ）dry の
設定点にしうるＣｌ2 含量３０からＮＯx の補正された
Ｃｌ 2 測定値は、制御装置Ｒ３４０１（３１）によって
追加のＳＯ2 必要量に転換され、これにより設定点にし
うる増幅係数３３、例えば１０だけ増幅器で増大せしめ
られる。この追加のＳＯ2 必要量は、「ディスタ−バン
ス可変（ｄｉｓｔｕｒｂａｎｃｅ ｖａｒｉａｂｌｅ）
添加装置３４」において、１次制御回路部分でのＳＯ2
必要量まで添加される。即ちＳＯ2 設定点値２３は、例
えばＳＯ2 １０００ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry だけ増加
する。制御装置２２は、廃熱ボイラ−５の下流で測定さ
れる実際の残存ＳＯ2 値１４ａを、連続的に記述した供
給物先駆け制御に従って増加させた残存ＳＯ2 設定点値
２３に適応させる。
【００６５】これは塩素負荷の急激な増加の場合、常に
十分な多量のＳＯ2 が供給されることを保証する。
十分な多量のＳＯ2 が供給されることを保証する。
【００６６】Ｃｌ2 突出に対する余分な安全手段とし
て、クエンチ廃水中の塩素負荷の経時的増加は、例えば
急激な増加の場合にここからも残存ＳＯ2 設定点値２３
をすぐに増大させうるために、例えば微分制御装置モジ
ュールＤＩＦ（経時的増加の微分２４）を介して、デ−
タ解析に含ませることができる。
て、クエンチ廃水中の塩素負荷の経時的増加は、例えば
急激な増加の場合にここからも残存ＳＯ2 設定点値２３
をすぐに増大させうるために、例えば微分制御装置モジ
ュールＤＩＦ（経時的増加の微分２４）を介して、デ−
タ解析に含ませることができる。
【００６７】遅れの硫黄添加ランプ１３だけで要求され
る残存ＳＯ2 設定点値以上の一時的な残存ＳＯ2 設定点
値２３の増加のためのすべての測定値は、一緒に（ディ
スタ−バンス可変添加装置３４での添加）または別々に
使用することができる。
る残存ＳＯ2 設定点値以上の一時的な残存ＳＯ2 設定点
値２３の増加のためのすべての測定値は、一緒に（ディ
スタ−バンス可変添加装置３４での添加）または別々に
使用することができる。
【００６８】更なる運転装置において供給物先駆け制御
を含む拡張された制御回路の作用を示すために、全塩素
負荷の更に大きい変動を特に誘導した。参照、図１１。
図１１で示される負荷の大きな且つ急激な変化にもかか
わらず、拡張された制御回路（図９）は図１２に示す際
だった結果を与えた。即ち拡張された制御回路を１２：
４０に始動した時、残存ＳＯ2 含量は、最初凡そＳＯ2
１２００ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry の硫黄添加ランプに
従う全塩素負荷に相当する値まで低下する。塩素負荷が
１３：１０の１５００ｋｇ／時から１１００ｋｇ／時へ
低下した後、汚れたボイラ−ガス中の残存ＳＯ2 含量は
更に減少する。次いで１４：３０に、塩素負荷が急激に
増加する。きれいなガス中において遊離の塩素＞０．５
ｍｇ／ｍ 3 （ＳＴＰ）dry が起こったため、制御機Ｒ３
４０１（図９）を介して残存ＳＯ 2 設定点値の上昇を作
動させ、かくしてクエンチの上流の汚れたボイラ−ガス
中の実際の残存ＳＯ2 含量を、約１０００ｍｇ／ｍ3
（ＳＴＰ）dry だけ急激に増加させる。従ってＣｌ2 の
突出は起こらなくて、むしろきれいなガス中のＣｌ2含
量は＜０．５ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry の値まで低下す
る。注記：１６：１０において、硫黄秤量スクリューに
短時間の誤りがあり、従って残存ＳＯ2 含量は短時間低
値まで下降し、かくしてきれいなガスにおいて再び遊離
塩素の小さいピークが見られた（１６：１５）。それゆ
えに１次制御回路（参照、図４）だけと対比して、対比
しうる大きな負荷の増大に対する拡張された制御回路の
応答として、＜＜５ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry の濃度範
囲の非常に小さいＣｌ2 ピークだけが観察される。
を含む拡張された制御回路の作用を示すために、全塩素
負荷の更に大きい変動を特に誘導した。参照、図１１。
図１１で示される負荷の大きな且つ急激な変化にもかか
わらず、拡張された制御回路（図９）は図１２に示す際
だった結果を与えた。即ち拡張された制御回路を１２：
４０に始動した時、残存ＳＯ2 含量は、最初凡そＳＯ2
１２００ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry の硫黄添加ランプに
従う全塩素負荷に相当する値まで低下する。塩素負荷が
１３：１０の１５００ｋｇ／時から１１００ｋｇ／時へ
低下した後、汚れたボイラ−ガス中の残存ＳＯ2 含量は
更に減少する。次いで１４：３０に、塩素負荷が急激に
増加する。きれいなガス中において遊離の塩素＞０．５
ｍｇ／ｍ 3 （ＳＴＰ）dry が起こったため、制御機Ｒ３
４０１（図９）を介して残存ＳＯ 2 設定点値の上昇を作
動させ、かくしてクエンチの上流の汚れたボイラ−ガス
中の実際の残存ＳＯ2 含量を、約１０００ｍｇ／ｍ3
（ＳＴＰ）dry だけ急激に増加させる。従ってＣｌ2 の
突出は起こらなくて、むしろきれいなガス中のＣｌ2含
量は＜０．５ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry の値まで低下す
る。注記：１６：１０において、硫黄秤量スクリューに
短時間の誤りがあり、従って残存ＳＯ2 含量は短時間低
値まで下降し、かくしてきれいなガスにおいて再び遊離
塩素の小さいピークが見られた（１６：１５）。それゆ
えに１次制御回路（参照、図４）だけと対比して、対比
しうる大きな負荷の増大に対する拡張された制御回路の
応答として、＜＜５ｍｇ／ｍ3 （ＳＴＰ）dry の濃度範
囲の非常に小さいＣｌ2 ピークだけが観察される。
【００６９】上述した実施例は本質的に塩素含有廃棄物
の燃焼に限定される。しかしながら、図１３における臭
素に対する閉系硫黄バランス及び図１４における臭素バ
ランスが示すように、塩素を例にして先に以前に決定し
た関係は、他のハロゲン、例えば非常に高い遊離のハロ
ゲン含量が含まれるが、更なる例として考えられる臭素
にも関係する。
の燃焼に限定される。しかしながら、図１３における臭
素に対する閉系硫黄バランス及び図１４における臭素バ
ランスが示すように、塩素を例にして先に以前に決定し
た関係は、他のハロゲン、例えば非常に高い遊離のハロ
ゲン含量が含まれるが、更なる例として考えられる臭素
にも関係する。
【００７０】塩素場合に対する図２と同様に、臭素の場
合の図１３は、ボイラ−において全臭素負荷の平均約６
１％のＢｒ2 部分が（塩素の場合の３％の代わりに）転
化されることを示す。注記：実験で燃焼した高臭素液体
廃棄物は２５％の臭素の他に約３％の塩素も含んでなっ
た。図１３ではこの塩素を考慮した。即ち示した評価の
結果は「塩素の除去」である。
合の図１３は、ボイラ−において全臭素負荷の平均約６
１％のＢｒ2 部分が（塩素の場合の３％の代わりに）転
化されることを示す。注記：実験で燃焼した高臭素液体
廃棄物は２５％の臭素の他に約３％の塩素も含んでなっ
た。図１３ではこの塩素を考慮した。即ち示した評価の
結果は「塩素の除去」である。
【００７１】塩素場合に対する図３と同様に、臭素の場
合の図１４は、ここでも全負荷の約１％だけがアルカリ
性スクラバ−に入り、即ち全臭素負荷の遊離の臭素の割
合がかなり高いにもかかわらず、適当に硫黄を供給する
ならば、全臭素負荷の９９％が酸性スクラバ−で除去さ
れることを示す。
合の図１４は、ここでも全負荷の約１％だけがアルカリ
性スクラバ−に入り、即ち全臭素負荷の遊離の臭素の割
合がかなり高いにもかかわらず、適当に硫黄を供給する
ならば、全臭素負荷の９９％が酸性スクラバ−で除去さ
れることを示す。
【００７２】最後に、図１５は水性ＨＣｌ及びＨＢｒ溶
液の伝導度（２０℃に温度補正）の比較を示す。同一の
伝導度において、質量による臭素含量は、塩素含量に比
べて、モル質量比ＨＢｒ／ＨＣｌ＝８０．９４８／３
６．４６５＝２．２２に従い、２倍より幾分高い。
液の伝導度（２０℃に温度補正）の比較を示す。同一の
伝導度において、質量による臭素含量は、塩素含量に比
べて、モル質量比ＨＢｒ／ＨＣｌ＝８０．９４８／３
６．４６５＝２．２２に従い、２倍より幾分高い。
【００７３】多くの高塩素化液体廃棄物は、臭素を全然
または少ししか含まない。これに対し、多くの高臭素化
液体廃棄物は臭素の他にかなりの量の塩素も含む。その
ような臭素に富む且つ同時に塩素に富む廃棄物の場合に
伝導度の測定を評価する時には、続く硫黄必要量の計算
においても臭素を基準として用いる、即ちＨＢｒの関連
するモル質量を用いるならば、後の硫黄必要量の計算に
おいて重大な誤差をもたらさないで臭素（主ハロゲンと
して）だけに基づく、即ち水性臭素溶液の曲線だけを基
準として使用することが可能である。このようにして、
存在する塩素量の代わりに伝導度の測定を評価する場
合、硫黄必要量に関して「ブロマイド当量」が決定され
る。
または少ししか含まない。これに対し、多くの高臭素化
液体廃棄物は臭素の他にかなりの量の塩素も含む。その
ような臭素に富む且つ同時に塩素に富む廃棄物の場合に
伝導度の測定を評価する時には、続く硫黄必要量の計算
においても臭素を基準として用いる、即ちＨＢｒの関連
するモル質量を用いるならば、後の硫黄必要量の計算に
おいて重大な誤差をもたらさないで臭素（主ハロゲンと
して）だけに基づく、即ち水性臭素溶液の曲線だけを基
準として使用することが可能である。このようにして、
存在する塩素量の代わりに伝導度の測定を評価する場
合、硫黄必要量に関して「ブロマイド当量」が決定され
る。
【００７４】最後に図１６は、金属酸化物に富むＳＣＲ
触媒の存在下に接触されるディ−コン反応に従って、き
れいなガスが下流のきれいなガスＳＣＲを通過する時に
遊離の塩素がそこに存在するきれいなガス条件（低残存
塩素負荷、高水蒸気含量、約３００℃）下にＨＣｌに戻
るという上で繰返し記述した事実を証明する。
触媒の存在下に接触されるディ−コン反応に従って、き
れいなガスが下流のきれいなガスＳＣＲを通過する時に
遊離の塩素がそこに存在するきれいなガス条件（低残存
塩素負荷、高水蒸気含量、約３００℃）下にＨＣｌに戻
るという上で繰返し記述した事実を証明する。
【００７５】なお本発明の特徴と態様は以下の通りであ
る。
る。
【００７６】１、少なくとも１つの燃焼室（３）、廃熱
ボイラ−（５）、酸スクラバ−（７）および塩基スクラ
バ−（８）からなる多段煙道ガススクラバ−を有する廃
棄物燃焼工場における高度ハロゲン化液体廃棄物の低腐
食性および低放出性同時焼却に際して、硫黄または適当
な硫黄担体を、全ハロゲン負荷量およびハロゲン種に依
存して、制御下に燃焼室（３）に添加する、該低腐食性
および低放出性同時焼却法。
ボイラ−（５）、酸スクラバ−（７）および塩基スクラ
バ−（８）からなる多段煙道ガススクラバ−を有する廃
棄物燃焼工場における高度ハロゲン化液体廃棄物の低腐
食性および低放出性同時焼却に際して、硫黄または適当
な硫黄担体を、全ハロゲン負荷量およびハロゲン種に依
存して、制御下に燃焼室（３）に添加する、該低腐食性
および低放出性同時焼却法。
【００７７】２、廃棄物中に存在する全塩素、臭素、ま
たはヨウ素負荷量に比例する硫黄量を制御下に添加す
る、上記１の方法。
たはヨウ素負荷量に比例する硫黄量を制御下に添加す
る、上記１の方法。
【００７８】３、それぞれの場合に高塩素、高臭素、ま
たは高ヨウ素廃棄物に対し、存在する全ハロゲン負荷に
おいて必要とされるボイラ−の下流（クエンチの上流）
の汚れたガス中のＳＯ2 含量を要求する操作的に決定さ
れる硫黄添加ランプに従い、その硫黄量を添加する、上
記１および２の方法。
たは高ヨウ素廃棄物に対し、存在する全ハロゲン負荷に
おいて必要とされるボイラ−の下流（クエンチの上流）
の汚れたガス中のＳＯ2 含量を要求する操作的に決定さ
れる硫黄添加ランプに従い、その硫黄量を添加する、上
記１および２の方法。
【００７９】４、廃棄物中の少なくとも１つのより多い
塩素、臭素、またはヨウ素負荷に対して、定常的運転で
煙道ガススクラバ−の下流のきれいなガス中に遊離の塩
素、臭素、またはヨウ素が全然または設定限界値以下の
量でしか検出できない汚れたボイラ−ガス中のＳＯ2 含
量を決定することにより、それぞれの場合に運転的に高
塩素、高臭素、または高ヨウ素廃棄物に対して直線的硫
黄添加ランプを決定する、上記１−３の方法。
塩素、臭素、またはヨウ素負荷に対して、定常的運転で
煙道ガススクラバ−の下流のきれいなガス中に遊離の塩
素、臭素、またはヨウ素が全然または設定限界値以下の
量でしか検出できない汚れたボイラ−ガス中のＳＯ2 含
量を決定することにより、それぞれの場合に運転的に高
塩素、高臭素、または高ヨウ素廃棄物に対して直線的硫
黄添加ランプを決定する、上記１−３の方法。
【００８０】５、存在する煙道ガス側の全ハロゲン負荷
を、およそ酸性ガススクラバ−流出物のハライド負荷と
して、即ちハライド濃度および流出物容量流速の積とし
て連続的に決定する、上記１−４の方法。
を、およそ酸性ガススクラバ−流出物のハライド負荷と
して、即ちハライド濃度および流出物容量流速の積とし
て連続的に決定する、上記１−４の方法。
【００８１】６、存在する煙道ガス側の全ハロゲン負荷
を、クエンチの上流（ボイラ−の下流）の汚れたボイラ
−ガス中におけるハロゲンおよびハロゲン化水素種およ
び乾燥煙道ガス体積の流速またはボイラ−の水蒸気放出
物のような煙道ガス容量流速に比例する因子を測定して
連続的的に決定する、上記１−４の１つの方法。
を、クエンチの上流（ボイラ−の下流）の汚れたボイラ
−ガス中におけるハロゲンおよびハロゲン化水素種およ
び乾燥煙道ガス体積の流速またはボイラ−の水蒸気放出
物のような煙道ガス容量流速に比例する因子を測定して
連続的的に決定する、上記１−４の１つの方法。
【００８２】７、煙道ガススクラバ−の下流であるが、
存在する続くＳＣＲ触媒床の上流のきれいなガス中に遊
離の塩素、臭素、またはヨウ素が測定されるや否や、煙
道ガス中の全ハロゲン負荷または硫黄添加ランプに従う
酸性スクラバ−流出物のハライド負荷に相当する硫黄量
を、短期間５−１００％、好ましくは１０−５０％だけ
増加させる、上記１−６の１つの方法。
存在する続くＳＣＲ触媒床の上流のきれいなガス中に遊
離の塩素、臭素、またはヨウ素が測定されるや否や、煙
道ガス中の全ハロゲン負荷または硫黄添加ランプに従う
酸性スクラバ−流出物のハライド負荷に相当する硫黄量
を、短期間５−１００％、好ましくは１０−５０％だけ
増加させる、上記１−６の１つの方法。
【００８３】８、酸性スクラバ−流出物のハライド濃度
の急激な上昇が測定されるや否や、煙道ガス中の全ハロ
ゲン負荷または硫黄添加ランプに従う酸性スクラバ−流
出物のハライド負荷に相当する硫黄量を、短期間５−１
００％、好ましくは１０−５０％だけ増加させる、上記
１−６の１つの方法。
の急激な上昇が測定されるや否や、煙道ガス中の全ハロ
ゲン負荷または硫黄添加ランプに従う酸性スクラバ−流
出物のハライド負荷に相当する硫黄量を、短期間５−１
００％、好ましくは１０−５０％だけ増加させる、上記
１−６の１つの方法。
【００８４】９、硫黄を固体の硫黄、液体の硫黄、また
は廃硫酸の形で添加する、上記１−８の１つの方法。
は廃硫酸の形で添加する、上記１−８の１つの方法。
【００８５】１０、固体の硫黄を、調節できる秤量具を
介して、ペレットまたは粒状形で添加する、上記１−９
の１つの方法。
介して、ペレットまたは粒状形で添加する、上記１−９
の１つの方法。
【００８６】１１、固体の硫黄を空気圧輸送により１次
燃焼室へ供給する、上記１−１０の１つの方法。
燃焼室へ供給する、上記１−１０の１つの方法。
【００８７】１２、廃硫酸を、調節できる秤量ポンプを
介して１次または２次燃焼室へ添加する、上記１−９の
１つの方法。
介して１次または２次燃焼室へ添加する、上記１−９の
１つの方法。
【００８８】１３、廃硫酸を、噴霧ノズルまたは対応す
るジェット付属具を通して１次または２次燃焼室へ供給
する、上記１−９または１２の１つの方法。
るジェット付属具を通して１次または２次燃焼室へ供給
する、上記１−９または１２の１つの方法。
【００８９】１４、高ハロゲンの各パッケージの時間を
見計らった供給の結果として煙道ガス中の全ハロゲンが
周期的に変化する場合、硫黄および／または他の硫黄担
体を、供給物のタイミングに合わせた、また高さ、時点
および期間に関してパッケージの寸法にあわせた量で添
加する、上記１−１３の１つの方法。
見計らった供給の結果として煙道ガス中の全ハロゲンが
周期的に変化する場合、硫黄および／または他の硫黄担
体を、供給物のタイミングに合わせた、また高さ、時点
および期間に関してパッケージの寸法にあわせた量で添
加する、上記１−１３の１つの方法。
【００９０】１５、供給のタイミングに拘束される且つ
高さ、時点、及び期間に関してパッケージの寸法に適合
される硫黄の添加に、パッケージの加熱値、ハロゲン
種、及びハロゲン量に対して自動的に読み込まれる個々
のバーコードを利用する、上記１４の方法。
高さ、時点、及び期間に関してパッケージの寸法に適合
される硫黄の添加に、パッケージの加熱値、ハロゲン
種、及びハロゲン量に対して自動的に読み込まれる個々
のバーコードを利用する、上記１４の方法。
【００９１】１６、アルカリ性スクラバ−における次亜
ハロゲン酸還元が、汚れたボイラ−ガスの残存ＳＯ2 か
ら工程中に内部で生成する二硫化物を介して及び同時に
または単独で外部から添加される還元剤、例えばチオ硫
酸塩を介して進行する、上記１−１５の１つの方法。
ハロゲン酸還元が、汚れたボイラ−ガスの残存ＳＯ2 か
ら工程中に内部で生成する二硫化物を介して及び同時に
または単独で外部から添加される還元剤、例えばチオ硫
酸塩を介して進行する、上記１−１５の１つの方法。
【００９２】１７、純粋な塩素含有廃棄物に対して運転
的に決定される硫黄添加ランプを、塩素の他に他のハロ
ゲンを含んでなるハロゲン混合物の燃焼にも使用する、
上記３−１６の１つの方法。
的に決定される硫黄添加ランプを、塩素の他に他のハロ
ゲンを含んでなるハロゲン混合物の燃焼にも使用する、
上記３−１６の１つの方法。
【００９３】１８、燃焼室（３）、廃熱ボイラ−
（５）、酸性スクラバ−（７）およびアルカリ性スクラ
バ−（８）からなる多段煙道ガススクラバ−を有する廃
棄物焼却工場であって、廃棄物焼却工場が硫黄および／
または他の硫黄担体を１次または２次燃焼室（３）、
（４）へ制御して添加する制御装置を含んでなる、該廃
棄物焼却工場。
（５）、酸性スクラバ−（７）およびアルカリ性スクラ
バ−（８）からなる多段煙道ガススクラバ−を有する廃
棄物焼却工場であって、廃棄物焼却工場が硫黄および／
または他の硫黄担体を１次または２次燃焼室（３）、
（４）へ制御して添加する制御装置を含んでなる、該廃
棄物焼却工場。
【００９４】１９、硫黄または他の硫黄担体を１次また
は２次燃焼室（３）、（４）へ制御して添加するための
秤量系および輸送系を含んでなる、上記１８の廃棄物焼
却工場。
は２次燃焼室（３）、（４）へ制御して添加するための
秤量系および輸送系を含んでなる、上記１８の廃棄物焼
却工場。
【００９５】２０、硫黄または他の硫黄担体の制御され
た添加系が、調節しうる輸送系、例えば振動シュートま
たは秤量スクリュー（１９）である、上記１９の廃棄物
焼却工場。
た添加系が、調節しうる輸送系、例えば振動シュートま
たは秤量スクリュー（１９）である、上記１９の廃棄物
焼却工場。
【００９６】２１、廃硫酸の制御された添加系が調節し
うる秤量ポンプであり、廃硫酸をノズル及び／またはジ
ェット付属具から１次または２次燃焼室（３）、（４）
へ注入する、上記２０の廃棄物焼却工場。
うる秤量ポンプであり、廃硫酸をノズル及び／またはジ
ェット付属具から１次または２次燃焼室（３）、（４）
へ注入する、上記２０の廃棄物焼却工場。
【００９７】２２、制御装置が、クエンチの上流の汚れ
たボイラ−ガスにおいて連続的に測定される残存ＳＯ2
の設定値制御を有する１次制御回路、または更なる供給
物先駆け制御を有する対応する拡張された制御回路にあ
り、１次制御回路が煙道ガス中の存在する全ハロゲン負
荷にまたは酸性流出物のハライド負荷に比例した硫黄添
加ランプに従って硫黄の添加を制御する、上記１８また
は２１の廃棄物焼却工場。
たボイラ−ガスにおいて連続的に測定される残存ＳＯ2
の設定値制御を有する１次制御回路、または更なる供給
物先駆け制御を有する対応する拡張された制御回路にあ
り、１次制御回路が煙道ガス中の存在する全ハロゲン負
荷にまたは酸性流出物のハライド負荷に比例した硫黄添
加ランプに従って硫黄の添加を制御する、上記１８また
は２１の廃棄物焼却工場。
【００９８】２３、制御装置が、オンラインで計算され
たボイラ−の上流における煙道ガス中のＳＯ2 含量の設
定値制御を有する１次制御回路、または更なる供給物先
駆け制御を有する対応する延長された制御回路にあり、
１次制御回路が煙道ガス中の存在する全ハロゲン負荷に
または酸性流出物のハライド負荷に比例して、秤量系の
輸送特性を考慮した秤量系の回転速度を介し、連続的な
ハロゲンに特異的な変換率計算値に基づいて硫黄の添加
を制御する、上記１９−２１の１つの廃棄物燃焼工場。
たボイラ−の上流における煙道ガス中のＳＯ2 含量の設
定値制御を有する１次制御回路、または更なる供給物先
駆け制御を有する対応する延長された制御回路にあり、
１次制御回路が煙道ガス中の存在する全ハロゲン負荷に
または酸性流出物のハライド負荷に比例して、秤量系の
輸送特性を考慮した秤量系の回転速度を介し、連続的な
ハロゲンに特異的な変換率計算値に基づいて硫黄の添加
を制御する、上記１９−２１の１つの廃棄物燃焼工場。
【００９９】２４、きれいなガスへのＣｌ2 の突出の始
まりにおいて及び／または酸性流出流のハライド含量の
急な上昇の場合に、対応する拡張された制御回路が一時
的に硫黄の添加を上昇させる（供給物先駆け制御）、上
記２２または２３の廃棄物燃焼工場。
まりにおいて及び／または酸性流出流のハライド含量の
急な上昇の場合に、対応する拡張された制御回路が一時
的に硫黄の添加を上昇させる（供給物先駆け制御）、上
記２２または２３の廃棄物燃焼工場。
【０１００】２５、上記４による硫黄添加ランプを制御
回路に用いる、上記２２−２４の１つの廃棄物燃焼工
場。
回路に用いる、上記２２−２４の１つの廃棄物燃焼工
場。
【０１０１】２６、存在するハロゲン負荷を上記５また
は６に従って決定する、上記２２−２５の１つの廃棄物
燃焼工場。
は６に従って決定する、上記２２−２５の１つの廃棄物
燃焼工場。
【図１】図１は、廃棄物焼却工場（バイエルのレ−ベル
クセン−ブルティッヒ（Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ−Ｂｒｕ
ｅｔｉｇ）廃棄センターにおける特別な廃棄物焼却工場
ＶＡ１）の系統図を示す。
クセン−ブルティッヒ（Ｌｅｖｅｒｋｕｓｅｎ−Ｂｒｕ
ｅｔｉｇ）廃棄センターにおける特別な廃棄物焼却工場
ＶＡ１）の系統図を示す。
【図２】図２は、高塩素化廃棄物の焼却のための炉、ボ
イラ−及び酸性スクラバ−を網羅する閉系硫黄バランス
を示す。
イラ−及び酸性スクラバ−を網羅する閉系硫黄バランス
を示す。
【図３】図３は、塩素バランス（酸性スクラバ−の廃水
によるＨＣｌ放出及びアルカリ性スクラバ−の廃水によ
るＮａＣｌ放出）を示す。
によるＨＣｌ放出及びアルカリ性スクラバ−の廃水によ
るＮａＣｌ放出）を示す。
【図４】図４は、１次制御回路を示す。
【図５】図５は、高塩素化廃棄物の焼却のための硫黄添
加ランプを示す。
加ランプを示す。
【図６】図６は、直線的硫黄添加ランプによる点の決定
を示す。
を示す。
【図７】図７は、煙道ガス中の全ハロゲン負荷の急激な
上昇とこれに対比した酸性廃水中のハライド負荷の遅れ
の上昇を示す。
上昇とこれに対比した酸性廃水中のハライド負荷の遅れ
の上昇を示す。
【図８】図８は、１次制御回路を単独で用いる負荷の急
激な上昇の場合のＣｌ2 侵入の例を示す。
激な上昇の場合のＣｌ2 侵入の例を示す。
【図９】図９は、供給物先駆け制御を含む拡張された制
御回路を示す。
御回路を示す。
【図１０】図１０は、ＳＣＲの上流のきれいなガスにお
けるＣｌ2 測定装置の、ＮＯx クロス感度による、見掛
けのＣｌ2 の読みの補正を示す。
けるＣｌ2 測定装置の、ＮＯx クロス感度による、見掛
けのＣｌ2 の読みの補正を示す。
【図１１】図１１は、次の図１２に示す実験に対する、
拡張された制御回路を用いる付加された塩素負荷ジャン
プを示す。
拡張された制御回路を用いる付加された塩素負荷ジャン
プを示す。
【図１２】図１２は、供給物先駆け制御を含む拡張され
た制御回路を使用する場合、負荷の急激な上昇にもかか
わらず、Ｃｌ2 の侵入が観察されないことを示す。
た制御回路を使用する場合、負荷の急激な上昇にもかか
わらず、Ｃｌ2 の侵入が観察されないことを示す。
【図１３】図１３は、高臭素化廃棄物の焼却のための
炉、ボイラ−及び酸性スクラバ−を網羅する閉系硫黄バ
ランスを示す。
炉、ボイラ−及び酸性スクラバ−を網羅する閉系硫黄バ
ランスを示す。
【図１４】図１４は、臭素バランス（酸性スクラバ−の
廃水によるＨＢｒ放出及びアルカリ性スクラバ−の廃水
によるＮａＢｒ放出）を示す。
廃水によるＨＢｒ放出及びアルカリ性スクラバ−の廃水
によるＮａＢｒ放出）を示す。
【図１５】図１５は、水性ＨＣｌ及びＨＢｒ溶液の伝導
度の比較を示す。
度の比較を示す。
【図１６】図１６は、きれいなガスが下流ＳＣＲを通過
する時のＣｌ2 のＨＣｌへの逆転化を示す。
する時のＣｌ2 のＨＣｌへの逆転化を示す。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 ヨアヒム・バイエル
ドイツ51515キユルテン・オツフアーマン
シヤイダーシユトラーセ32
(72)発明者 ペーター・クリツプナー
ドイツ51371レーフエルクーゼン・アンデ
アデインクバンク32
Ｆターム(参考） 3K062 AA07 AB01 AC20 BB01 DA07
DA25 DA26 DA40 DB02
3K078 AA04 AA10 BA03 CA02 CA21
Claims (16)
- 【請求項１】 少なくとも１つの燃焼室（３）、廃熱ボ
イラ−（５）、酸性スクラバ−（７）および塩基性スク
ラバ−（８）からなる多段煙道ガススクラバ−を有する
廃棄物燃焼工場における高度ハロゲン化液体廃棄物の低
腐食性および低放出性同時焼却に際して、硫黄または適
当な硫黄担体を、全ハロゲン負荷およびハロゲン種に依
存して、制御下に燃焼室（３）に添加する、該低腐食性
および低放出性同時焼却法。 - 【請求項２】 廃棄物中に存在する全塩素、臭素、また
はヨウ素負荷に比例する硫黄量を制御下に添加する、請
求項１の方法。 - 【請求項３】 それぞれの場合に高塩素、高臭素、また
は高ヨウ素廃棄物に対し、存在する全ハロゲン負荷にお
いて必要とされるボイラ−の下流（クエンチの上流）の
汚れたガス中の残存ＳＯ2 含量を要求する運転的に決定
された硫黄添加ランプに従い、その硫黄量を添加する、
請求項１または２の方法。 - 【請求項４】 廃棄物中の少なくとも１つのより多い塩
素、臭素、またはヨウ素負荷に対して、定常的運転で煙
道ガススクラバ−の下流のきれいなガス中に遊離の塩
素、臭素、またはヨウ素が全然または設定点限界値以下
の量でしか検出できない汚れたボイラ−ガス中のそれぞ
れ最小に必要とされるＳＯ2 含量を決定することによ
り、それぞれの場合に運転的に高塩素、高臭素、または
高ヨウ素廃棄物に対して直線的硫黄添加ランプを決定す
る、請求項１−３の１つの方法。 - 【請求項５】 存在する煙道ガス側の全ハロゲン負荷
を、およそ酸性ガススクラバ−流出物のハライド負荷と
して、即ちハライド濃度および流出物容量流速の積とし
て連続的に決定する、請求項１−４の１つの方法。 - 【請求項６】 存在する煙道ガス側の全ハロゲン負荷
を、クエンチの上流（ボイラ−の下流）の汚れたボイラ
−ガス中におけるハロゲンおよびハロゲン化水素種およ
び乾燥煙道ガス容量流速またはボイラ−の水蒸気放出物
のような煙道ガス容量流速に比例する因子を測定して連
続的的に決定する、請求項１−４の１つの方法。 - 【請求項７】 煙道ガススクラバ−の下流であるが、存
在する続くＳＣＲ触媒床の上流のきれいなガス中に遊離
の塩素、臭素、またはヨウ素が測定されるや否や、煙道
ガス中の全ハロゲン負荷または硫黄添加ランプに従う酸
性スクラバ−流出物のハライド負荷に相当する硫黄量
を、短時間５−１００％、好ましくは１０−５０％だけ
増加させる、請求項１−６の１つの方法。 - 【請求項８】 酸性スクラバ−流出物のハライド濃度の
急激な上昇が測定されるや否や、煙道ガス中の全ハロゲ
ン負荷または硫黄添加ランプに従う酸性スクラバ−流出
物のハライド負荷に相当する硫黄量を、短時間５−１０
０％、好ましくは１０−５０％だけ増加させる、請求項
１−６の１つの方法。 - 【請求項９】 高ハロゲンの各パッケージの時間を見計
らった供給の結果として煙道ガス中の全ハロゲンが周期
的に変化する場合、硫黄及び／または他の硫黄担体を、
供給物タイミングに合わせた、また高さ、時点および期
間に関してパッケージの寸法にあわせた量で添加する、
請求項１−８の１つの方法 - 【請求項１０】 燃焼室（３）、廃熱ボイラ−（５）、
酸性スクラバ−（７）及びアルカリ性スクラバ−（８）
からなる多段煙道ガススクラバ−を有する廃棄物焼却工
場であって、廃棄物焼却工場が硫黄および／または他の
硫黄担体を１次または２次燃焼室（３）、（４）へ制御
して添加する制御装置を含んでなる、該廃棄物焼却工
場。 - 【請求項１１】 硫黄または他の硫黄担体を１次または
２次燃焼室（３）、（４）へ制御して添加するための秤
量系および輸送系を含んでなる、請求項１０の廃棄物焼
却工場。 - 【請求項１２】 制御装置が、クエンチの上流の汚れた
ボイラ−ガスにおいて連続的に測定される残存ＳＯ2 の
設定点値制御を有する１次制御回路、または更なる供給
物先駆け制御を有する対応する拡張された制御回路にあ
り、１次制御回路が煙道ガス中に存在する全ハロゲン負
荷にまたは酸性流出物のハライド負荷に比例した硫黄添
加ランプに従って硫黄の添加を制御する、請求項１０ま
たは１１の廃棄物焼却工場。 - 【請求項１３】 制御装置が、オンラインで計算された
ボイラ−の上流における煙道ガス中のＳＯ2 含量の設定
転値制御を有する１次制御回路、または更なる供給物先
駆け制御を有する対応する拡張された制御回路にあり、
１次制御回路が煙道ガス中の存在する全ハロゲン負荷に
または酸性流出物のハライド負荷に比例して、秤量系の
輸送特性を考慮した秤量系の回転速度を介し、連続的な
ハロゲンに特異的な変換率計算に基づいて硫黄の添加を
制御する、請求項１１の廃棄物燃焼工場。 - 【請求項１４】 きれいなガスへのＣｌ2 突出の始まり
において及び／または酸性流出物のハライド含量の急な
上昇の場合に、対応する拡張された制御回路が一時的に
硫黄の添加を上昇させる（供給物先駆け制御）、請求項
１２または１３の廃棄物燃焼工場。 - 【請求項１５】 請求項４による硫黄添加ランプを制御
回路に用いる、請求項１２−１４の１つの廃棄物燃焼工
場。 - 【請求項１６】 存在するハロゲン負荷を請求項５また
は６に従って決定する、請求項１２−１５の１つの廃棄
物燃焼工場。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10131464A DE10131464B4 (de) | 2001-06-29 | 2001-06-29 | Verfahren zur korrosions- und emissionsarmen Mitverbrennung hochhalogenierter Abfälle in Abfallverbrennungsanlagen |
| DE10131464.7 | 2001-06-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003065522A true JP2003065522A (ja) | 2003-03-05 |
| JP4221194B2 JP4221194B2 (ja) | 2009-02-12 |
Family
ID=7689955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002177172A Expired - Fee Related JP4221194B2 (ja) | 2001-06-29 | 2002-06-18 | 廃棄物焼却工場における高度ハロゲン化廃棄物の低腐食性および低放出性同時焼却法 |
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|---|---|
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| EP (1) | EP1271053B1 (ja) |
| JP (1) | JP4221194B2 (ja) |
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| DE (2) | DE10131464B4 (ja) |
| DK (1) | DK1271053T3 (ja) |
| ES (1) | ES2295258T3 (ja) |
| HU (1) | HU228684B1 (ja) |
| PL (1) | PL199924B1 (ja) |
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