JP2003043690A5 - - Google Patents
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- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001236460A JP4149148B2 (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | ポジ型レジスト組成物 |
| TW91116877A TW574626B (en) | 2001-08-03 | 2002-07-29 | Positive resist composition |
| KR1020020045513A KR100900468B1 (ko) | 2001-08-03 | 2002-08-01 | ArF엑시머레이저 노광용 포지티브 레지스트 조성물 및 이를 이용한 패턴형성방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001236460A JP4149148B2 (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | ポジ型レジスト組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003043690A JP2003043690A (ja) | 2003-02-13 |
| JP2003043690A5 true JP2003043690A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2006-01-19 |
| JP4149148B2 JP4149148B2 (ja) | 2008-09-10 |
Family
ID=19067723
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001236460A Expired - Fee Related JP4149148B2 (ja) | 2001-08-03 | 2001-08-03 | ポジ型レジスト組成物 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4149148B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
| KR (1) | KR100900468B1 (enrdf_load_stackoverflow) |
| TW (1) | TW574626B (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3895224B2 (ja) | 2001-12-03 | 2007-03-22 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 |
| AU2003280710A1 (en) * | 2002-11-05 | 2004-06-07 | Jsr Corporation | Acrylic copolymer and radiation-sensitive resin composition |
| JP4225817B2 (ja) | 2003-03-31 | 2009-02-18 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物 |
| JP2005031233A (ja) | 2003-07-09 | 2005-02-03 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | レジスト組成物、積層体、及びレジストパターン形成方法 |
| ATE418570T1 (de) * | 2003-08-05 | 2009-01-15 | Jsr Corp | Acrylpolymere und strahlungsempfindliche harzzusammensetzung |
| JP2011026608A (ja) * | 2004-04-23 | 2011-02-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 化学増幅型ポジ型レジスト組成物及び(メタ)アクリル酸誘導体とその製法 |
| US7122291B2 (en) * | 2004-08-02 | 2006-10-17 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Photoresist compositions |
| JP4485913B2 (ja) | 2004-11-05 | 2010-06-23 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物の製造方法およびレジスト組成物 |
| JP4682069B2 (ja) * | 2006-03-17 | 2011-05-11 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP4783657B2 (ja) * | 2006-03-27 | 2011-09-28 | 富士フイルム株式会社 | ポジ型レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 |
| JP6100986B2 (ja) * | 2006-10-30 | 2017-03-22 | 三菱レイヨン株式会社 | 重合体の製造方法、レジスト組成物の製造方法、およびパターンが形成された基板の製造方法 |
| WO2008081822A1 (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-10 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | レジスト用重合体、レジスト組成物、および微細パターンが形成された基板の製造方法 |
| JP5151586B2 (ja) * | 2007-03-23 | 2013-02-27 | 住友化学株式会社 | フォトレジスト組成物 |
| KR100933984B1 (ko) * | 2007-11-26 | 2009-12-28 | 제일모직주식회사 | 신규 공중합체 및 이를 포함하는 레지스트 조성물 |
| JP5620627B2 (ja) * | 2008-01-23 | 2014-11-05 | 三菱レイヨン株式会社 | レジスト用重合体の製造方法、レジスト組成物、および微細パターンが形成された基板の製造方法 |
| JP5500795B2 (ja) * | 2008-07-03 | 2014-05-21 | 三菱レイヨン株式会社 | レジスト材料、レジスト組成物、および微細パターンが形成された基板の製造方法 |
| CN104159937B (zh) * | 2012-03-05 | 2016-05-18 | 三菱丽阳株式会社 | 光刻用共聚物及其制造方法、抗蚀剂组合物以及基板的制造方法 |
| JP5737242B2 (ja) * | 2012-08-10 | 2015-06-17 | 信越化学工業株式会社 | 単量体、高分子化合物、レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| WO2015033960A1 (ja) * | 2013-09-03 | 2015-03-12 | 三菱レイヨン株式会社 | 半導体リソグラフィー用共重合体、レジスト組成物、及び、基板の製造方法 |
| JP7198069B2 (ja) * | 2017-12-22 | 2022-12-28 | 住友化学株式会社 | 樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6048661A (en) * | 1997-03-05 | 2000-04-11 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Polymeric compounds, chemically amplified positive type resist materials and process for pattern formation |
| JP3237605B2 (ja) * | 1998-04-06 | 2001-12-10 | 日本電気株式会社 | 1,2−ジオール構造を有する脂環式(メタ)アクリレート誘導体、およびその重合体 |
| JP3042618B2 (ja) * | 1998-07-03 | 2000-05-15 | 日本電気株式会社 | ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法 |
| JP3963602B2 (ja) * | 1999-01-27 | 2007-08-22 | 富士フイルム株式会社 | 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物 |
| US6596458B1 (en) * | 1999-05-07 | 2003-07-22 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positive-working photoresist composition |
| JP4336925B2 (ja) * | 1999-08-16 | 2009-09-30 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料及びパターン形成方法 |
-
2001
- 2001-08-03 JP JP2001236460A patent/JP4149148B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2002
- 2002-07-29 TW TW91116877A patent/TW574626B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-08-01 KR KR1020020045513A patent/KR100900468B1/ko not_active Ceased