JP2004126013A5 - - Google Patents
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- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 3
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 claims 1
- 150000007514 bases Chemical class 0.000 claims 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 claims 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 claims 1
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002287391A JP3995575B2 (ja) | 2002-09-30 | 2002-09-30 | ポジ型レジスト組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002287391A JP3995575B2 (ja) | 2002-09-30 | 2002-09-30 | ポジ型レジスト組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2004126013A JP2004126013A (ja) | 2004-04-22 |
| JP2004126013A5 true JP2004126013A5 (enrdf_load_stackoverflow) | 2005-09-29 |
| JP3995575B2 JP3995575B2 (ja) | 2007-10-24 |
Family
ID=32280214
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002287391A Expired - Fee Related JP3995575B2 (ja) | 2002-09-30 | 2002-09-30 | ポジ型レジスト組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3995575B2 (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4754265B2 (ja) * | 2005-05-17 | 2011-08-24 | 東京応化工業株式会社 | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| JP2007079552A (ja) * | 2005-08-17 | 2007-03-29 | Jsr Corp | 感放射線性樹脂組成物 |
| JP5588706B2 (ja) * | 2010-03-12 | 2014-09-10 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、これを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 |
| JP5246220B2 (ja) | 2010-08-23 | 2013-07-24 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩、レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP5609815B2 (ja) | 2010-08-26 | 2014-10-22 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型化学増幅レジスト材料及びパターン形成方法 |
| US8597869B2 (en) | 2010-10-25 | 2013-12-03 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Sulfonium salt, resist composition, and patterning process |
| JP5454458B2 (ja) | 2010-11-25 | 2014-03-26 | 信越化学工業株式会社 | ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP5440515B2 (ja) | 2011-01-14 | 2014-03-12 | 信越化学工業株式会社 | レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP5561184B2 (ja) * | 2011-01-26 | 2014-07-30 | 信越化学工業株式会社 | スルホニウム塩 |
| JP5723648B2 (ja) * | 2011-03-25 | 2015-05-27 | 東京応化工業株式会社 | レジスト組成物、レジストパターン形成方法 |
| JP5668710B2 (ja) | 2012-02-27 | 2015-02-12 | 信越化学工業株式会社 | 高分子化合物及びそれを含んだレジスト材料並びにパターン形成方法、該高分子化合物の製造方法 |
| JP5815575B2 (ja) | 2013-01-11 | 2015-11-17 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法 |
| JP6137046B2 (ja) | 2014-05-09 | 2017-05-31 | 信越化学工業株式会社 | 単量体、高分子化合物、レジスト材料及びパターン形成方法 |
| JP6384424B2 (ja) | 2014-09-04 | 2018-09-05 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物及びパターン形成方法 |
| EP3035121B1 (en) | 2014-12-18 | 2019-03-13 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Monomer, polymer, resist composition, and patterning process |
| JP6451599B2 (ja) | 2015-11-10 | 2019-01-16 | 信越化学工業株式会社 | 重合性単量体、高分子化合物、レジスト材料、及びパターン形成方法 |
| JP7223765B2 (ja) * | 2018-09-05 | 2023-02-16 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法 |
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