JP2003043250A - 光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置 - Google Patents

光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置

Info

Publication number
JP2003043250A
JP2003043250A JP2001226534A JP2001226534A JP2003043250A JP 2003043250 A JP2003043250 A JP 2003043250A JP 2001226534 A JP2001226534 A JP 2001226534A JP 2001226534 A JP2001226534 A JP 2001226534A JP 2003043250 A JP2003043250 A JP 2003043250A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
group
optical compensation
compensation sheet
liquid crystal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2001226534A
Other languages
English (en)
Inventor
Narikazu Hashimoto
斉和 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2001226534A priority Critical patent/JP2003043250A/ja
Publication of JP2003043250A publication Critical patent/JP2003043250A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 接着耐久性に優れる光学補償シートを提供す
ること。 【解決手段】 芳香族化合物を含むポリマーフイルムか
らなる光学補償シートであって、芳香族化合物のフイル
ムの厚み方向の分布において、芳香族化合物がフイルム
の表面に集中せず、そして芳香族化合物が長時間経過後
にもフイルムの表面に析出し難い光学補償シート。該光
学補償シートは、例えば、溶液流延法によるポリマーフ
イルムの形成において、有機溶媒ガス濃度が2乃至40
%の範囲にある雰囲気において、ポリマーと芳香族化合
物とを含む有機溶媒溶液を流延することで得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学補償シート、
およびそれを用いた偏光板と液晶表示装置とに関する。
【0002】
【発明が解決しようとする課題】光学フイルムには、様
々な素材のポリマーフイルムが使用されている。セルロ
ースアセテートフイルムは、他のポリマーフイルムと比
較して、光学的等方性が高い(レターデーション値が低
い)との特徴がある。従って、光学的等方性が要求され
る用途、例えば偏光板の保護フイルムには、セルロース
アセテートフイルムを用いることが普通である。液晶表
示装置の光学補償シート(位相差フイルム)には、逆に
高い光学的異方性(高いレターデーション値)が要求さ
れる。従って、光学補償シートには、ポリカーボネート
フイルムやポリスルホンフイルムのようなレターデーシ
ョン値が高い合成ポリマーフイルムを用いることが普通
である。このように、要求される光学的特性の違いによ
り、ポリマーフイルムを形成する素材を選定することが
一般的である。
【0003】ポリマーフイルムの素材によらず、ポリマ
ーフイルムの光学特性を、添加剤により調節することも
知られている。欧州特許0911656A2号明細書に
は、従来の一般的な原則を覆して、光学的異方性が要求
される用途にも使用できる高いレターデーション値を有
するセルロースアセテートフイルムが開示されている。
同明細書には、セルロースアセテートフイルムのレター
デーション値を調節するために、少なくとも二つの芳香
族環を有する芳香族化合物(レターデーション上昇剤)
をフイルムに添加している。このようなレターデーショ
ン上昇剤を用いることで、液晶表示装置の表示特性を改
善するための光学補償シートとして、様々な素材のポリ
マーフイルムを用いることができるようになる。そして
光学補償シートは、液晶セルなどと粘着剤(もしくは接
着剤)により貼り合わされて用いられる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】レターデーション上昇
剤の添加された光学補償シートを備えた液晶表示装置を
長時間使用した場合に、光学補償シートと液晶セルなど
との間に接着不良を生じる場合がある。本発明の目的
は、液晶セルなどとの接着耐久性に優れる光学補償シー
トを提供することにある。本発明の目的はまた、接着耐
久性に優れた光学補償シートを利用することで、耐久性
に優れる偏光板および液晶表示装置を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者の研究の結果、
液晶表示装置を長時間使用した時に生じる光学補償シー
トの接着不良は、光学補償シートとして用いるポリマー
フイルムの表面に、低分子量のレターデーション上昇剤
(芳香族化合物)が徐々に析出することが原因であるこ
とがわかった。そして、レターデーション上昇剤の、ポ
リマーフイルム厚み方向における存在量の分布を詳細に
調べた。その結果、フイルムの内部には、所定の光学特
性を実現するために必要な量のレターデーション上昇剤
がほぼ均一に存在しているが、フイルムの表面近傍にお
いては、レターデーション上昇剤が特に集中して存在し
ていることがわかった。そして、このようなフイルムの
表面近傍に集中したレターデーション上昇剤が、光学補
償シートの接着耐久性を低下させる原因となることが分
かった。そして、液晶表示装置を長時間使用した時に生
じる接着不良を防止するためには、ポリマーフイルムの
表面をメタノールに接触させるような過酷な加速試験を
した場合でも、レターデーション上昇剤がフイルムの表
面に析出しないことが必要であることがわかった。
【0006】本発明は、C、H、Oをポリマー骨格に含
むポリマー、および該ポリマーに対して0.5乃至15
質量%の範囲内において、少なくとも二つの芳香族環を
有する芳香族化合物(本明細書にて、単に芳香族化合物
ということもある)を含むポリマーフイルムからなり、
ポリマーフイルムの厚み方向のレターデーション値が、
70乃至400nmの範囲にあり、該ポリマーフイルム
について下記のように定義されるΔM(X)もしくはΔ
M(O)が、5%以下であることを特徴とする光学補償
シートにある。
【0007】(1)芳香族化合物が、C、H、O以外の
異種元素Xを含む場合 1)ΔM(X)=M(X)a−M(X)bである。 2)M(X)bは、次式で定義される。 M(X)b=100×A(X)/{A(C)×I(X)
×n(X)} [式中、A(X)は、ポリマーフイルム表面のXPS測
定で得られる異種元素Xに対応するピークの面積を表し
(但し、異種元素が二種以上存在する場合には、ピーク
面積が大きい方の異種元素を基準にする);A(C)
は、C1sに対応するピークの面積を表し;I(X)
は、異種元素Xのイオン化断面積を表し;そしてn
(X)は、上記芳香族化合物一分子に含まれる異種元素
Xの数を表す。]なお、各元素のイオン化断面積の値に
ついては、通常、XPS測定装置の取扱い説明書中に記
載があり、その値を用いることができる。イオン化断面
積の値としては、例えば、ESPAC760型ESCA
データ処理システム取扱い説明書中の表に記載の値を用
いることができる。 3)M(X)aは、M(X)bの測定に供したポリマー
フイルムと同一のポリマーフイルムの表面を、以下のよ
うに処理した後に、直ちにXPS測定すること以外は、
M(X)bと同様に定義される。 a)ポリマーフイルムを5cm角に切り出し、温度25
℃、相対湿度60%の環境において3時間以上調湿す
る。 b)直径3cm、高さ5cmのガラス瓶に、メタノール
を、液面の高さが5mmとなるように入れた後に蓋をし
て十分に攪拌し、ガラス瓶の内部にメタノール蒸気を充
満させる。なお、前記の、ガラス瓶の直径および高さ
は、内寸を意味する。また、液面の高さは、瓶の内部の
底から液面までの距離を意味する。 c)ガラス瓶の蓋を開けて、瓶の口の上に、切り出した
ポリマーフイルム、5cm角のガラス板、質量50gの
錘を順に置き、温度25℃の環境に5分間放置して、ポ
リマーフイルムの表面をメタノール蒸気に接触させる。 d)ポリマーフイルムを瓶から取り外してXPS測定用
のポリマーフイルムとする。
【0008】(2)芳香族化合物が、異種元素を含まな
い場合 4)ΔM(O)=M(O)a−M(O)bの絶対値であ
る。 5)M(O)bは、次式で定義される。 M(O)b=100×A(O)/{A(C)×I(O)
×n(O)} [式中、A(O)は、ポリマーフイルム表面のXPS測
定で得られるO1sに対応するピークの面積を表し;A
(C)は、C1sに対応するピークの面積を表し;I
(O)は、酸素のイオン化断面積を表し;そしてn
(O)は、ポリマーフイルムを形成する主成分のモノマ
ー残基に含まれる酸素原子の数を表す。] 6)M(O)aは、M(O)bの測定に供したポリマー
フイルムと同一のポリマーフイルムの表面を、前記の
a)〜d)と同様に処理した後に、直ちにXPS測定す
ること以外は、M(O)bと同様に定義される。
【0009】本発明はまた、ポリマー、および該ポリマ
ーに対して0.5乃至15質量%の範囲内において、少
なくとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を含むポ
リマーフイルムからなり、ポリマーフイルムの厚み方向
のレターデーション値が、70乃至400nmの範囲に
あり、そしてポリマーフイルムの表面における芳香族化
合物の存在量の、当該表面から20μmの位置における
芳香族化合物の存在量に対する比が、0.5乃至2.0
倍の範囲にあることを特徴とする光学補償シートにもあ
る。
【0010】上記のように規定される二つの本発明の光
学補償シートの好ましい態様は、以下の通りである。 (1)ポリマーフイルムの面内におけるレターデーショ
ン値が、20乃至70nmの範囲にある。 (2)ポリマーが、酢化度が59.0乃至61.5%の
範囲にあるセルロースアセテートである。 (3)芳香族化合物が、少なくとも一つの1,3,5−
トリアジン環を有する。
【0011】本発明はまた、ポリマー、および該ポリマ
ーに対して0.5乃至15質量%の範囲において、少な
くとも二つの芳香族環を有する芳香族化合物を含む有機
溶媒溶液を、有機溶媒のガス濃度が2乃至40%の範囲
にある雰囲気下において仮支持体上に流延して流延膜を
形成する工程を含む光学補償シートの製造方法にもあ
る。本発明の光学補償シートの製造方法の好ましい態様
は、下記の通りである。 (1)有機溶媒溶液を流延する工程に次いで、流延膜の
残留溶媒量が10乃至50質量%の範囲となるまで乾燥
した後に仮支持体から流延膜を剥ぎ取る工程、次いで流
延膜の温度を80乃至180℃の範囲にし、流延膜の幅
を10乃至40%の範囲で広げながら乾燥する工程を含
む。 (2)有機溶媒溶液に含有する水分が2質量%以下にあ
る。
【0012】本発明はまた、偏光膜およびその両側に配
置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透
明保護膜の一方が、前記の本発明の光学補償シートであ
り、さらに該光学補償シートが、光学補償シートの遅相
軸の平均方向と偏光膜の透過軸とのなす角度の絶対値が
3°以下になるように配置されていることを特徴とする
偏光板にもある。
【0013】本発明はまた、液晶セルおよびその両側に
配置された二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およ
びその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶
表示装置であって、液晶セルと偏光膜との間に配置され
る二枚の透明保護膜の一方が、前記の本発明の光学補償
シートであり、さらに該光学補償シートが、光学補償シ
ートの遅相軸の平均方向と、光学補償シートに隣接する
偏光膜の透過軸とのなす角度の絶対値が3°以下になる
ように配置されていることを特徴とする液晶表示装置に
もある。当該本発明の液晶表示装置においては、液晶セ
ルが、VAモード、TNモードまたはn−ASMモード
の液晶セルであることが好ましい。
【0014】本発明はまた、液晶セルおよびその両側に
配置された二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およ
びその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶
表示装置であって、液晶セルと偏光膜との間に配置され
る二枚の透明保護膜のそれぞれが、前記の本発明の光学
補償シートであり、さらに、それぞれの光学補償シート
が、光学補償シートの遅相軸の平均方向と、該光学補償
シートに隣接する偏光膜の透過軸とのなす角度の絶対値
の和が3°以下になるように配置されていることを特徴
とする液晶表示装置にもある。当該本発明の液晶表示装
置においては、液晶セルが、VAモード、TNモードま
たはn−ASMモードの液晶セルであることが好まし
い。
【0015】本発明はまた、前記の本発明の光学補償シ
ートの表面に、さらに配向状態にある円盤状化合物を含
む光学異方性層が設けられていることを特徴とする光学
補償シートにもある。さらに本発明はまた、偏光膜およ
びその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光
板であって、透明保護膜の一方が光学異方性層を有する
本発明の光学補償シートであることを特徴とする偏光板
にもある。さらにまた本発明は、ベンド配向モードの液
晶セルおよび液晶セルの両側に配置された一対の偏光板
からなる液晶表示装置であって、該偏光板のそれぞれ
が、光学異方性層を有する本発明の光学補償シートを用
いた偏光板であることを特徴とする液晶表示装置にもあ
る。
【0016】
【発明の効果】本発明の光学補償シートは、レターデー
ション上昇剤の添加されたポリマーフイルムからなる。
本発明の光学補償シートは、レターデーション上昇剤を
添加することにより、液晶セルを光学的に補償する優れ
た光学特性を有し、そしてフイルム表面近傍のレターデ
ーション上昇剤の分布を調節することにより、レターデ
ーション上昇剤の表面への析出が抑えられ、優れた接着
耐久性を有する。本発明の光学補償シートを用いること
により、耐久性に優れた偏光板および液晶表示装置を提
供することができる。
【0017】
【発明の実施の形態】光学補償シートとして用いるポリ
マーフイルムには、ポリマーフイルムを光学的に異方性
とするために、レターデーション上昇剤が添加される。
レターデーション上昇剤としては、少なくとも二つの芳
香族環を有する芳香族化合物を用いる。このようなレタ
ーデーション上昇剤は、低分子量の化合物であることが
普通である。本発明者は、ポリマーフイルムの内部に添
加されたレターデーション上昇剤の存在量の分布を詳細
に調べた。その結果、ポリマーフイルムの内部には、所
定の光学特性を実現するために必要な量のレターデーシ
ョン上昇剤がほぼ均一に存在しているが、フイルムの表
面近傍においては、レターデーション上昇剤が特に集中
して存在していることがわかった。このようにレターデ
ーション上昇剤がフイルムの表面に集中すると、時間の
経過とともに、レターデーション上昇剤がフイルムの表
面に析出し易いこともわかった。
【0018】ポリマーフイルムは、溶液流延法により形
成される。溶液流延法を用いる場合、ポリマーフイルム
は、ポリマーとレターデーション上昇剤を含む有機溶媒
溶液(一般に、ドープと呼ばれている)を仮支持体の上
に流延して流延膜を形成し、流延膜に含まれる有機溶媒
を乾燥することにより形成される。この流延膜を乾燥す
る工程において、有機溶媒は、流延膜の表面に向かって
移動して蒸発する。ドープにレターデーション上昇剤が
均一に溶解するように、レターデーション上昇剤には、
有機溶媒と相溶性(親和性)が高いものを選定すること
が一般的である。このため、流延膜を乾燥する工程にお
いて、レターデーション上昇剤は、有機溶媒とともに流
延膜の表面まで到達するが、蒸発することはできない。
このため、レターデーション上昇剤が、流延膜の乾燥工
程で表面近傍に集中して、ポリマーフイルムの表面近傍
におけるレターデーション上昇剤の存在量が多くなり易
い。そして液晶表示装置を長期間使用したり、高温下で
使用した場合に、ポリマーフイルム(光学補償シート)
の表面近傍に存在するレターデーション上昇剤が、時間
の経過とともにフイルムの表面に徐々に析出して接着不
良の原因となることがわかった。
【0019】通常、このような低分子化合物の析出を短
時間でシミュレートするために、ポリマーフイルムの表
面をエーテル蒸気に接触させて、低分子化合物を表面に
析出させる加速試験方法(以下、エーテル法と記載す
る)が用いられる。しかし、光学補償シートの接着耐久
性は、ポリマーフイルムの極々表面(数分子層)におけ
る、微量なレターデーション上昇剤の存在量に左右され
るため、エタノールを用いた加速試験方法では、光学補
償シートの接着耐久性の評価方法としては不十分であ
る。従って、光学補償シートの接着耐久性の評価には、
フイルムに含まれるレターデーション上昇剤を、さらに
強力に析出させる加速試験方法が必要である。
【0020】本発明では、ポリマーフイルム(光学補償
シート)の表面をメタノール蒸気に接触させる加速試験
方法(以下、メタノール蒸気抽出法と記載する)によ
り、光学補償シートの接着耐久性を評価する。このメタ
ノール蒸気抽出法により、ポリマーフイルムに含まれる
レターデーション上昇剤を、エーテル法に比べて10倍
程度の量で析出させることができる。即ち、光学補償シ
ートの接着耐久性を評価する方法としては、メタノール
蒸気抽出法は、エーテル法より10倍程度過酷な加速試
験方法であることがわかる。
【0021】以下に、メタノール蒸気抽出法による光学
補償シートの接着耐久性の評価方法を、順を追って説明
する。本発明においては、光学補償シート(ポリマーフ
イルム)に添加するレターデーション上昇剤(少なくと
も二つの芳香環を含む芳香族化合物)が、C、H、O以
外の異種元素を含む場合と、含まない場合とにおいて、
下記のように定義されるΔM(X)もしくはΔM(O)
の値を用いて光学補償シートの接着耐久性を評価する。
【0022】(1)レターデーション上昇剤が、C、
H、O以外の異種元素Xを含む場合 1)ΔM(X)=M(X)a−M(X)bである。ΔM
(X)の値は、光学補償シートの接着耐久性の良否を示
す。
【0023】2)M(X)bは、次式で定義される。 M(X)b=100×A(X)/{A(C)×I(X)
×n(X)} 式中、A(X)は、ポリマーフイルム表面のXPS測定
で得られる異種元素Xに対応するピークの面積を表し
(但し、異種元素が二種以上存在する場合には、ピーク
面積が大きい方の異種元素を基準にする);A(C)
は、C1sに対応するピークの面積を表し;I(X)
は、異種元素Xのイオン化断面積を表し;そしてn
(X)は、上記芳香族化合物一分子に含まれる異種元素
Xの数を表す。
【0024】なお、A(X)は、異種元素Xに対応する
ピークの両側の平坦部を結んだベースライン上に、ピー
クが形成する面積(単位:eV・cps)を意味する。
また、A(C)は、C1sに対応するピークについて、
A(X)と同様して求めたピークの面積を意味する。
【0025】3)M(X)aは、M(X)bの測定に供
したポリマーフイルムと同一のポリマーフイルムの表面
を、以下のように処理した後に、直ちにXPS測定する
こと以外は、M(X)bと同様に定義される。
【0026】a)ポリマーフイルム(光学補償シート)
を5cm角に切り出し、温度25℃、相対湿度60%の
環境において3時間以上調湿する。 b)直径3cm、高さ5cmのガラス瓶に、メタノール
を、液面の高さが5mmになるように入れた後に蓋をし
て十分撹拌し、ガラス瓶の内部にメタノール蒸気を充満
させる。 c)ガラス瓶の蓋をあけて、瓶の口の上に、切り出した
ポリマーフイルム、5cm角のガラス板、質量50gの
錘を順に置き、温度25℃の環境に5分間放置して、ポ
リマーフイルムの表面をメタノール蒸気に接触させる。 d)ポリマーフイルムをガラス瓶から取り外してXPS
測定用のポリマーフイルムとする。
【0027】ΔM(X)は、フイルム表面において、レ
ターデーション上昇剤の有する特異元素と炭素の存在量
の比が、フイルム表面をメタノール蒸気に接触させるこ
とで変化する量を意味する。即ち、ΔM(X)の値によ
り、フイルム表面におけるレターデーション上昇剤の存
在量の変化(接着耐久性の良否)を評価することができ
る。
【0028】(2)芳香族化合物が、異種元素を含まな
い場合 4)ΔM(O)=M(O)a−M(O)bの絶対値であ
る。 5)M(O)bは、次式で定義される。 M(O)b=100×A(O)/{A(C)×I(O)
×n(O)} 式中、A(O)は、ポリマーフイルム表面のXPS測定
で得られるO1sに対応するピークの面積を表し;A
(C)は、C1sに対応するピークの面積を表し;I
(O)は、酸素のイオン化断面積を表し;そしてn
(O)は、ポリマーフイルムを形成する主成分のモノマ
ー残基に含まれる酸素原子の数を表す。なお、A(O)
は、O1sに対応するピークの両側の平坦部を結んだベ
ースライン上に、ピークが形成する面積(単位:eV・
cps)を意味する。
【0029】6)M(O)aは、M(O)bの測定に供
したポリマーフイルムと同一のポリマーフイルムの表面
を、前記のa)〜d)と同様に処理した後に、直ちにX
PS測定すること以外は、M(O)bと同様に定義され
る。
【0030】ΔM(O)は、フイルム表面において、ポ
リマーフイルムの主要成分である酸素と炭素の存在量の
比が、フイルム表面をメタノール蒸気に接触させること
で変化する量を意味する。即ち、ΔM(O)の値によ
り、フイルム表面におけるレターデーション上昇剤の存
在量の変化(接着耐久性の良否)を評価することができ
る。
【0031】本明細書において、以下ΔM(X)および
ΔM(O)を、メタノール蒸気抽出量と記載する。本発
明のポリマーフイルムのメタノール蒸気抽出量は5%以
下であり、4%以下であることがより好ましく、3%以
下であることがさらに好ましい。
【0032】ポリマーフイルムにこのような特性を持た
せるには、ポリマーフイルムの表面近傍におけるレター
デーション上昇剤の存在量を調節することがポイントで
ある。本発明の光学補償シートを形成するポリマーフイ
ルムにおいて、表面におけるレターデーション上昇剤
(芳香族化合物)の存在量の、当該表面から20μmの
位置におけるレターデーション上昇剤の存在量に対する
比は、0.5乃至2.0倍の範囲にある。このレターデ
ーション上昇剤の存在量の比は、0.7乃至1.7倍の
範囲にあることがより好ましく、0.8乃至1.5倍の
範囲にあることがさらに好ましい。これは、ポリマーフ
イルムの表面から20μm程度までに存在するレターデ
ーション上昇剤が、光学補償シートの接着不良に影響を
及ぼすためである。
【0033】さらに、ポリマーフイルムは、以下の光学
的特性(Rth、Re)を満足する。下記式(I)により
定義されるポリマーフイルムの厚み方向のレターデーシ
ョン値(Rth)は、70乃至400nmの範囲にある。
Rthは、100乃至300nmの範囲にあることがより
好ましく、150乃至250nmの範囲にあることがさ
らに好ましい。 (I) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d [式中、nxは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率で
あり;nyは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であ
り;nzは、フイルムの厚み方向の屈折率であり;そし
て、dは、フイルムの厚さである。]
【0034】下記式(II)により定義されるポリマーフ
イルムの面内におけるレターデーション値(Re)は、
20乃至70nmの範囲にあることが好ましく、25乃
至60nmの範囲にあることがより好ましく、30乃至
55nmの範囲にあることがさらに好ましい。 (II) Re=(nx−ny)×d [(II)式中の、nx、ny、dは、(I)式と同じで
ある。]
【0035】以上のような特性を示す光学補償シートの
製造方法については、後に詳しく記載するが、光学補償
シートの接着耐久性を改善するポイントとなるのは、以
下の3点にある。光学補償シートの接着耐久性を改善す
るためには、下記の(1)、(2)の方法によっても十
分な効果が得られるが、さらに下記の(3)の方法を実
施するとより好ましい効果が得られる。
【0036】(1)ポリマーフイルムを溶液流延法によ
り形成する際、有機溶媒のガス濃度が2乃至40%の範
囲にある雰囲気下において、ドープ(ポリマーおよびレ
ターデーション上昇剤を含む有機溶媒溶液)を、仮支持
体(バンドもしくはドラム)に流延して流延膜を形成す
る。これにより、流延膜の表面近傍のみが急速に乾燥す
ることにより生じる、レターデーション上昇剤の表面へ
の集中を防止することができる。
【0037】(2)含有する水分が2質量%以下である
ドープを流延する。ドープから有機溶媒が蒸発する際
に、蒸気圧の小さい水分は蒸発し難く、流延膜の表面近
傍に集中する。そしてレターデーション上昇剤は水に溶
解しないため、流延膜の表面近傍に集中し易くなる。従
って、ドープに含まれる水分量を少なくすることで、ポ
リマーフイルムの表面にレターデーション上昇剤が集中
することを防止できる。
【0038】(3)ドープを流延する工程に次いで、流
延膜の残留溶媒量が10乃至50質量%の範囲となるま
で乾燥した後に仮支持体(バンドもしくはドラム)から
流延膜を剥ぎ取り、次いで流延膜の温度を80乃至18
0℃の範囲にし、流延膜の幅を10乃至40%の範囲で
広げながら乾燥する。流延膜を延伸することにより、
(流延膜の内部から)新たな表面が現れ、表面に集中し
たレターデーション上昇剤が拡散される。延伸の際に、
流延膜の残留溶媒量を上記のような高い値の範囲とする
ことで、延伸の際にレターデーション上昇剤を動き易く
する。さらに、新たな表面が現れることにより、流延膜
の乾燥時間を短くすることができ、ポリマーフイルムの
製膜速度を上げることができる。
【0039】[ポリマー]本発明のポリマーフイルムに
用いるポリマーは、C、H、Oをポリマー骨格に含んで
いる。ポリマーの例としては、セルロース系ポリマー、
ポリカーボネート系ポリマー、ノルボルネン系ポリマー
などが挙げられる。ポリマーとしては、セルロース系ポ
リマーおよびポリカーボネート系ポリマーが好ましい。
セルロース系ポリマーとしては、セルロースエステルが
好ましく、セルロースアセテートがより好ましい。
【0040】セルロースアセテートは、セルロースの有
する3つのOH基の一部あるいは全部をアセテート基で
エステル化(置換)したものである。セルロースアセテ
ートの置換度(アセチル化度)は、2.4乃至2.9の
範囲にあることが好ましく、2.5乃至2.85の範囲
にあることがより好ましく、2.6乃至2.8の範囲に
あることがさらに好ましい。セルロースアセテートは、
置換度の異なるものをブレンドして用いてもよく、この
場合、酢化度の混合比を掛け合わせた平均置換度が、上
記の規定範囲内にあればよい。
【0041】セルロースアセテートの酢化度は、59.
0乃至61.5%の範囲にあることが好ましい。酢化度
とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味す
る。酢化度は、ASTM:D−817−91(セルロー
スアセテート等の試験法)におけるアセチル化度の測定
および計算に従う。
【0042】セルロースアセテートの重合度(粘度平
均)は、200乃至700の範囲にあることが好まし
く、250乃至550の範囲にあることがより好まし
く、250乃至350の範囲にあることがさらに好まし
い。粘度平均重合度は、オストワルド粘度計で測定され
たセルロースアシレートの固有粘度[η]から、下記式
により求められる。 DP=[η]/Km (式中、DPは、粘度平均重合度、Kmは、定数6×1
-4を意味する。)
【0043】さらに、セルロースアセテートは、未使用
(バージン)フレークだけをもちいてもよいが、予め製
膜したセルロースアセテートフイルムの屑を、3乃至9
5質量%の範囲で、より好ましくは6乃至80質量%の
範囲で、さらに好ましくは10乃至70質量%の範囲で
混合して用いることが好ましい。
【0044】[レターデーション上昇剤]ポリマーフイ
ルムのレターデーション値(RthおよびRe)を調節す
るため、レターデーション上昇剤を添加する。レターデ
ーション上昇剤は、ポリマー100質量部に対して、
0.5乃至15質量部の範囲で使用することが好まし
く、1乃至12質量部の範囲で使用することがより好ま
しく、2乃至10質量部の範囲で使用することがさらに
好ましい。二種類以上のレターデーション上昇剤を併用
してもよい。
【0045】レターデーション上昇剤は、230乃至3
60nmの範囲の波長領域に最大吸収波長を有すること
が好ましい。また、レターデーション上昇剤は、可視領
域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。レタ
ーデーション上昇剤としては、少なくとも二つの「芳香
族環」を有する芳香族化合物を用いることが好ましい。
レターデーション上昇剤が有する芳香族環の数は、2乃
至20の範囲にあることが好ましく、2乃至12の範囲
にあることがより好ましく、2乃至6の範囲にあること
が最も好ましい。この「芳香族環」は、芳香族炭化水素
環に加えて芳香族性ヘテロ環を含む。
【0046】芳香族炭化水素環は、6員環(即ち、ベン
ゼン環)であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環
は、一般に不飽和ヘテロ環であり、5員環、6員環また
は7員環であることが好ましく、5員環または6員環で
あることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は、一般
に最多の二重結合を有する。ヘテロ環が有するヘテロ原
子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ま
しく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の例
には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾ
ール環、イソオキサゾール環、チアゾール環、イソチア
ゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン
環、トリアゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジ
ン環、ピリミジン環、ピラジン環および1,3,5−ト
リアジン環が含まれる。芳香族環としては、ベンゼン
環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾー
ル環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール
環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラジン環および1,
3,5−トリアジン環が好ましい。
【0047】このようなレターデーション上昇剤には、
下記の(イ)板状化合物、および(ロ)棒状化合物のい
ずれを用いても良い。これらは単独で用いても、混合し
て用いても良い。
【0048】(イ)板状化合物 板状化合物は、二つ以上の芳香族環を有するが、これら
の二つの芳香族環の結合関係は、(a)縮合環を形成す
る場合、(b)単結合で直結する場合、および(c)連
結基を介して結合する場合に分類できる(芳香族環のた
め、スピロ結合は形成できない)が、結合関係は(a)
〜(c)のいずれであってもよい。
【0049】(a)の縮合環(二つ以上の芳香族環の縮
合環)の例には、インデン環、ナフタレン環、アズレン
環、フルオレン環、フェナントレン環、アントラセン
環、アセナフチレン環、ビフェニレン環、ナフタセン
環、ピレン環、インドール環、イソインドール環、ベン
ゾフラン環、ベンゾチオフェン環、インドリジン環、ベ
ンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミ
ダゾール環、ベンゾトリアゾール環、プリン環、インダ
ゾール環、クロメン環、キノリン環、イソキノリン環、
キノリジン環、キナゾリン環、シンノリン環、キノキサ
リン環、フタラジン環、プテリジン環、カルバゾール
環、アクリジン環、フェナントリジン環、キサンテン
環、フェナジン環、フェノチアジン環、フェノキサチイ
ン環、フェノキサジン環およびチアントレン環が含まれ
る。ナフタレン環、アズレン環、インドール環、ベンゾ
オキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾイミダゾ
ール環、ベンゾトリアゾール環およびキノリン環が好ま
しい。
【0050】(b)の単結合は、二つの芳香族環の炭素
原子間の結合であることが好ましい。二以上の単結合で
二つの芳香族環を結合して、二つの芳香族環の間に脂肪
族環または非芳香族性複素環を形成してもよい。
【0051】(c)の連結基も、二つの芳香族環の炭素
原子と結合することが好ましい。連結基は、アルキレン
基、アルケニレン基、アルキニレン基、−CO−、−O
−、−NH−、−S−またはそれらの組み合わせである
ことが好ましい。組み合わせからなる連結基の例を以下
に示す。なお、以下の連結基の例の左右の関係は、逆に
なってもよい。
【0052】c1:−CO−O− c2:−CO−NH− c3:−アルキレン−O− c4:−NH−CO−NH− c5:−NH−CO−O− c6:−O−CO−O− c7:−O−アルキレン−O− c8:−CO−アルケニレン− c9:−CO−アルケニレン−NH− c10:−CO−アルケニレン−O− c11:−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−CO
−アルキレン− c12:−O−アルキレン−CO−O−アルキレン−O−
CO−アルキレン−O− c13:−O−CO−アルキレン−CO−O− c14:−NH−CO−アルケニレン− c15:−O−CO−アルケニレン−
【0053】芳香族環および連結基は、置換基を有して
いてもよい。置換基の例には、ハロゲン原子(F、C
l、Br、I)、ヒドロキシル基、カルボキシル基、シ
アノ基、アミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル
基、スルファモイル基、ウレイド基、アルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、脂肪族アシル基、脂肪族アシ
ルオキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、
アルコキシカルボニルアミノ基、アルキルチオ基、アル
キルスルホニル基、脂肪族アミド基、脂肪族スルホンア
ミド基、脂肪族置換アミノ基、脂肪族置換カルバモイル
基、脂肪族置換スルファモイル基、脂肪族置換ウレイド
基および非芳香族性複素環基が含まれる。
【0054】アルキル基の炭素原子数は、1乃至8の範
囲にあることが好ましい。環状アルキル基よりも鎖状ア
ルキル基の方が好ましく、直鎖状アルキル基が特に好ま
しい。アルキル基は、さらに置換基(例、ヒドロキシ、
カルボキシ、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基)を
有していてもよい。アルキル基の(置換アルキル基を含
む)例には、メチル基、エチル基、n−ブチル基、n−
ヘキシル基、2−ヒドロキシエチル基、4−カルボキシ
ブチル基、2−メトキシエチル基、および2−ジエチル
アミノエチル基が含まれる。
【0055】アルケニル基の炭素原子数は、2乃至8の
範囲にあることが好ましい。環状アルケニル基よりも鎖
状アルケニル基の方が好ましく、直鎖状アルケニル基が
特に好ましい。アルケニル基は、さらに置換基を有して
いてもよい。アルケニル基の例には、ビニル基、アリル
基、および1−ヘキセニル基が含まれる。
【0056】アルキニル基の炭素原子数は、2乃至8の
範囲にあることが好ましい。環状アルキケニル基よりも
鎖状アルキニル基の方が好ましく、直鎖状アルキニル基
が特に好ましい。アルキニル基は、さらに置換基を有し
ていてもよい。アルキニル基の例には、エチニル基、1
−ブチニル基、および1−ヘキシニル基が含まれる。
【0057】脂肪族アシル基の炭素原子数は、1乃至1
0の範囲にあることが好ましい。脂肪族アシル基の例に
は、アセチル基、プロパノイル基、およびブタノイル基
が含まれる。脂肪族アシルオキシ基の炭素原子数は、1
乃至10の範囲にあることが好ましい。脂肪族アシルオ
キシ基の例には、アセトキシ基が含まれる。
【0058】アルコキシ基の炭素原子数は、1乃至8の
範囲にあることが好ましい。アルコキシ基は、さらに置
換基(例、アルコキシ基)を有していてもよい。アルコ
キシ基の(置換アルコキシ基を含む)例には、メトキシ
基、エトキシ基、ブトキシ基、およびメトキシエトキシ
基が含まれる。アルコキシカルボニル基の炭素原子数
は、2乃至10の範囲にあることが好ましい。アルコキ
シカルボニル基の例には、メトキシカルボニル基および
エトキシカルボニル基が含まれる。アルコキシカルボニ
ルアミノ基の炭素原子数は、2乃至10の範囲にあるこ
とが好ましい。アルコキシカルボニルアミノ基の例に
は、メトキシカルボニルアミノ基およびエトキシカルボ
ニルアミノ基が含まれる。
【0059】アルキルチオ基の炭素原子数は、1乃至1
2の範囲にあることが好ましい。アルキルチオ基の例に
は、メチルチオ基、エチルチオ基、およびオクチルチオ
基が含まれる。アルキルスルホニル基の炭素原子数は、
1乃至8の範囲にあることが好ましい。アルキルスルホ
ニル基の例には、メタンスルホニル基およびエタンスル
ホニル基が含まれる。
【0060】脂肪族アミド基の炭素原子数は、1乃至1
0の範囲にあることが好ましい。脂肪族アミド基の例に
は、アセトアミド基が含まれる。脂肪族スルホンアミド
基の炭素原子数は、1乃至8の範囲にあることが好まし
い。脂肪族スルホンアミド基の例には、メタンスルホン
アミド基、ブタンスルホンアミド基、およびn−オクタ
ンスルホンアミド基が含まれる。脂肪族置換アミノ基の
炭素原子数は、1乃至10の範囲にあることが好まし
い。脂肪族置換アミノ基の例には、ジメチルアミノ基、
ジエチルアミノ基、および2−カルボキシエチルアミノ
基が含まれる。
【0061】脂肪族置換カルバモイル基の炭素原子数
は、2乃至10の範囲にあることが好ましい。脂肪族置
換カルバモイル基の例には、メチルカルバモイル基およ
びジエチルカルバモイル基が含まれる。脂肪族置換スル
ファモイル基の炭素原子数は、1乃至8の範囲にあるこ
とが好ましい。脂肪族置換スルファモイル基の例には、
メチルスルファモイル基およびジエチルスルファモイル
基が含まれる。脂肪族置換ウレイド基の炭素原子数は、
2乃至10の範囲にあることが好ましい。脂肪族置換ウ
レイド基の例には、メチルウレイド基が含まれる。非芳
香族性複素環基の例には、ピペリジノ基およびモルホリ
ノ基が含まれる。
【0062】レターデーション上昇剤の分子量は、30
0乃至800の範囲にあることが好ましい。レターデー
ション上昇剤の具体例は、特開2000−111914
号公報、同2000−275434号公報、PCT/J
P00/02619号明細書に記載されている。
【0063】(ロ)棒状化合物 本発明においては、溶液の紫外線吸収スペクトルにおい
て最大吸収波長(λmax)が250nmより短波長である
棒状化合物をレターデーション上昇剤として用いること
が好ましい。棒状化合物は、少なくとも二つの芳香族環
を有することが好ましい。レターデーション上昇剤が有
する芳香族環の数は、2乃至20の範囲にあることが好
ましく、2乃至12の範囲にあることがさらに好まし
い。
【0064】棒状化合物は、直線的な分子構造を有する
ことが好ましい。直線的な分子構造とは、熱力学的にも
っとも安定な構造において棒状化合物のの分子構造が直
線的であることを意味する。熱力学的に最も安定な構造
は、結晶構造解析または分子軌道計算によって求めるこ
とができる。例えば、分子軌道計算ソフト(例、WinMOP
AC2000、富士通(株)製)を用いて分子軌道計算を行
い、化合物の生成熱がもっとも小さくなるような分子の
構造を求めることができる。分子構造が直線的であると
は、上記のように計算して求められる熱力学的に最も安
定な構造において、分子構造の角度が140度以上であ
ることを意味する。このような構造の棒状化合物をレタ
ーデーション上昇剤として用いることが好ましい。
【0065】棒状化合物としては、下記式(A)で表さ
れる化合物が好ましい。 (A) Ar1 −L1 −X−L2 −Ar2 式(A)において、Ar1 とXとAr2 のなす角度は、
140度以上であることが好ましい。
【0066】式(A)において、Ar1 およびAr
2 は、それぞれ独立に、芳香族基を表す。本明細書にお
いて、芳香族基は、アリール基(芳香族性炭化水素
基)、置換アリール基、芳香族性ヘテロ環基、および置
換芳香族性ヘテロ環基を含む。アリール基および置換ア
リール基の方が、芳香族性ヘテロ環基および置換芳香族
性ヘテロ環基よりも好ましい。芳香族性ヘテロ環基のヘ
テロ環は、一般には不飽和である。芳香族性ヘテロ環
は、5員環、6員環または7員環であることが好まし
く、5員環、6員環であることがさらに好ましい。芳香
族性へテロ環は、一般に最多の二重結合を有する。ヘテ
ロ環が有するヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原
子、および硫黄原子が好ましく、窒素原子または硫黄原
子がさらに好ましい。
【0067】芳香族性へテロ環の例には、フラン環、チ
オフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサ
ゾール環、チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾ
ール環、ピラゾール環、フラザン環、トリアゾール環、
ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、
ピラジン環、および1,3,5−トリアジン環が含まれ
る。芳香族基の芳香族環としては、ベンゼン環、フラン
環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、チア
ゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン
環、ピリミジン環、およびピラジン環が好ましく、ベン
ゼン環が特に好ましいい。
【0068】置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ
環基の置換基の例には、ハロゲン原子(具体的にはF,
Cl,Br,I)、ヒドロキシ基、カルボキシル基、シ
アノ基、アミノ基(例えば、無置換のアミノ基、N−メ
チルアミノ基、N−エチルアミノ基、ブチルアミノ基、
N,N−ジメチルアミノ基など)、ニトロ基,スルホ
基、カルバモイル基(例えば、無置換のカルバモイル
基、N−メチルカルバモイル基、N−エチルカルバモイ
ル基、N,N−ジメチルカルバモイル基など)、スルフ
ァモイル基(例えば、無置換のスルファモイル基、N−
メチルスルファモイル基、N−エチルスルファモイル
基、N,N−ジメチルスルファモイル基など)、ウレイ
ド基(例えば、無置換のウレイド基、N−メチルウレイ
ド基、N,N−ジメチルウレイド基、N,N,N’−ト
リメチルウレイド基など)、アルキル基(例えば、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、
ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、s−ブチル
基、t−アミル基など)、アルケニル基(例えば、ビニ
ル基、アリル基、ヘキセニル基など)、アルキニル基
(例えば、エチニル基、ブチニル基など)、アシル基
(例えば、ホルミル基、アセチル基、ブチリル基、ヘキ
サノイル基、ラウリル基など)、アシルオキシ基(例え
ば、アセチルオキシ基、ブチリルオキシ基、ヘキサノイ
ルオキシ基、ラウリルオキシ基など)、アルコキシ基
(例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ
基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘプチルオキシ
基、オクチルオキシ基など)、アリールオキシ基(例え
ば、フェノキシ基など)、アルコキシカルボニル基(例
えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、
プロピルオキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、
ペンチルオキシカルボニル基、ヘプチルオキシカルボニ
ル基など)、アリールオキシカルボニル基(例えば、フ
ェノキシカルボニル基など)、アルコキシカルボニルア
ミノ基(例えば、ブトキシカルボニルアミノ基、ヘイシ
ルオキシカルボニルアミノ基など)、アルキルチオ基
(例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ
基、ブチルチオ基、ペンチルチオ基、ヘプチルチオ基、
オクチルチオ基など)、アリールチオ基(例えばフェニ
ルチオ基など)、アルキルスルホニル基(例えば、メチ
ルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロピルスルホ
ニル基、ブチルスルホニル基、ペンチルスルホニル基、
ヘプチルスルホニル基、オクチルスルホニル基など)、
アシルアミノ基(例えば、アセチルアミノ基、ブチリル
アミノ基、ヘキサノイルアミノ基、ラウリルアミノ基な
ど)、非芳香族環状炭化水素基(例えば、シクロヘキシ
ル基、シクロペンチル基など)、非芳香族性複素環基
(例えば、モルホリル基、ピラジニル基など)が挙げら
れる。
【0069】置換アリール基および置換芳香族性ヘテロ
環基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、カル
ボキシル基、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキルアミノ
基、アシル基、アシルオキシ基、アミド基、アシルアミ
ノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、アルキ
ルチオ基、およびアルキル基が好ましい。アルキルアミ
ノ基、アルコキシカルボニル基、アルコキシ基、および
アルキルチオ基のアルキル部分とアルキル基とは、さら
に置換基を有していてもよい。アルキル部分およびアル
キル基の置換基の例には、ハロゲン原子、ヒドロキシル
基、カルボキシル基、シアノ基、アミノ基、アルキルア
ミノ基、ニトロ基、スルホ基、カルバモイル基、アルキ
ルカルバモイル基、スルファモイル基、アルキルスルフ
ァモイル基、ウレイド基、アルキルウレイド基、アルケ
ニル基、アルキニル基、アシル基、アシルオキシ基、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキ
ルスルホニル基、アミド基および非芳香族性複素環基が
含まれる。アルキル部分およびアルキル基の置換基とし
ては、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アミノ基、アルキ
ルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ
基、アルコキシカルボニル基、およびアルコキシ基が好
ましい。
【0070】式(A)において、L1 およびL2 は、そ
れぞれ独立に、−OCO−、アルキレン基、およびアル
キレンオキシ基からなる群より選ばれる二価の連結基を
表す。アルキレン基の例としては、メチレン基、エチレ
ン基、トリメチレン基、およびプロピレン基などが挙げ
られる。アルキレンオキシ基の例としては、メチレンオ
キシ基、エチレンオキシ基、およびトリプロピレンオキ
シ基などが挙げられる。L1 およびL2 としては、アル
キレンオキシ基または−OCO−が好ましい。
【0071】式(A)において、Xは、単結合、エチレ
ン基、アセチレン基または1,4−シクロヘキシレン基
を表す。Xは、エチレン基、アセチレン基、および1,
4−シクロヘキシレン基であることが好ましく、アセチ
レン基、trans−1,4−シクロヘキシレン基であるこ
とがさらに好ましい。
【0072】一般式(A)において、L1−X−L2で
表される部分構造のうち、好ましくは、trans−1,4
−シクロヘキサンジカルボニルオキシ、trans−1,4
−シクロヘキサンジカルボン酸残基、アセチレンジカル
ボン酸残基である。
【0073】以下に、式(A)で表される化合物の具体
例を示す。
【0074】
【化1】
【0075】
【化2】
【0076】
【化3】
【0077】
【化4】
【0078】
【化5】
【0079】
【化6】
【0080】
【化7】
【0081】
【化8】
【0082】
【化9】
【0083】本発明のレターデーション上昇剤は、文献
記載の合成方法を参照して合成できる。合成方法につい
ては多数の文献(例えば、Mol.Cryst.Liq.Cryst., 53
巻,229頁(1979年)、同89巻,93頁(1982年)、同145巻,11
1頁(1987年)、同170巻, 43頁(1989年)、J.Am.Chem.So
c., 113巻, 1349頁(1991年)、同118巻,5346頁(1996
年)、同92巻,1582頁(1970年)、J.Org.Chem.,40巻,420頁
(1975年)、Tetrahedron,48巻16号,3437頁(1992年))に
記載がある。
【0084】レターデーション上昇剤は、単独で用いて
も、二種類以上の化合物を混合して用いてもよい。
【0085】[可塑剤]ポリマーフイルムには、機械的
物性を改良するため、または乾燥速度を向上するため
に、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、
リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられ
る。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェ
ート(TPP)およびトリクレジルホスフェート(TC
P)が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル
酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フ
タル酸エステルの例には、ジメチルフタレート(DM
P)、ジエチルフタレート(DEP)、ジブチルフタレ
ート(DBP)、ジオクチルフタレート(DOP)、ジ
フェニルフタレート(DPP)およびジエチルヘキシル
フタレート(DEHP)が含まれる。クエン酸エステル
の例には、O−アセチルクエン酸トリエチル(OACT
E)およびO−アセチルクエン酸トリブチル(OACT
B)が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例に
は、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、
セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが
含まれる。フタル酸エステル系可塑剤(DMP、DE
P、DBP、DOP、DPP、DEHP)が好ましく用
いられる。DEPおよびDPPが特に好ましい。
【0086】可塑剤の添加量は、ポリマーフイルムの光
学特性(波長分散)に影響を与える場合があるため、レ
ターデーション上昇剤の添加量とともに調整する必要が
ある。可塑剤の添加量は、ポリマーに対して0.1乃至
25質量%の範囲にあることが好ましく、1乃至20質
量%の範囲にあることがさらに好ましく、3乃至15質
量%の範囲にあることが最も好ましい。
【0087】[劣化防止剤]ポリマーフイルムには、劣
化防止剤(例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル
禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン)を添加し
てもよい。劣化防止剤については、特開平3−1992
01号、同5−1907073号、同5−194789
号、同5−271471号、および同6−107854
号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製
する溶液(ドープ)の0.01乃至1質量%の範囲にあ
ることが好ましく、0.01乃至0.2質量%の範囲に
あることがさらに好ましい。添加量が0.01質量%未
満であると、劣化防止剤の効果がほとんど認められな
い。添加量が1質量%を越えると、フイルム表面への劣
化防止剤のブリードアウト(滲み出し)が認められる場
合がある。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチ
ル化ヒドロキシトルエン(BHT)、トリベンジルアミ
ン(TBA)を挙げることができる。
【0088】[ドープの調製]ポリマーフイルムは、ソ
ルベントキャスト法(溶液流延法)により製造する。ソ
ルベントキャスト法では、ポリマーを有機溶媒に溶解し
た有機溶媒溶液(ドープ)を用いてフイルムを製造す
る。
【0089】本発明においては、ドープに含有する水分
を2質量%以下とすることが好ましい。ドープに含まれ
る水分の量は、1質量%以下とすることがより好まし
く、0.5質量%以下とすることがさらに好ましい。ド
ープ中の水分は、主に、ドープに用いるポリマーに吸着
した水分に由来する。ドープに含まれる水分量を少なく
するため、溶解前のポリマーを十分乾燥することが好ま
しい。ポリマーを乾燥する際、ポリマーの温度は、10
0乃至200℃の範囲にあることが好ましく、110乃
至170℃の範囲にあることがより好ましく、120乃
至150℃の範囲にあることがさらに好ましい。ポリマ
ーを乾燥する時間は、10分乃至30時間の範囲にある
ことが好ましく、20分乃至10時間の範囲にあること
がより好ましく、30分乃至5時間の範囲にあることが
さらに好ましい。ポリマーの乾燥は、空気中、真空中、
あるいは窒素等の不活性気体中で行うことができる。こ
のような乾燥をより効率的に実施するために、ポリマー
の表面積は大きい方が好ましく、顆粒状のポリマーを用
いることがより好ましい。乾燥後のポリマーの吸湿を防
ぐために、乾燥後のポリマーは直ちに有機溶媒に溶解す
ることが好ましい。
【0090】有機溶媒は、炭素原子数が3乃至12の範
囲にあるエーテル類、炭素原子数が3乃至12の範囲に
あるケトン類、炭素原子数が3乃至12の範囲にあるエ
ステル類、および炭素原子数が1乃至6の範囲にあるハ
ロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好まし
い。エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有
していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官
能基(すなわち、−O−、−CO−および−COO−)
のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として
用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基
のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の
官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、い
ずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよ
い。
【0091】炭素原子数が3乃至12の範囲にあるエー
テル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシ
メタン、ジメトキシエタン、1,4−ジオキサン、1,
3−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソール、
およびフェネトールが含まれる。炭素原子数が3乃至1
2の範囲にあるケトン類の例には、アセトン、メチルエ
チルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シ
クロヘキサノン、およびメチルシクロヘキサノンが含ま
れる。炭素原子数が3乃至12の範囲にあるエステル類
の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペ
ンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテー
ト、およびペンチルアセテートが含まれる。二種類以上
の官能基を有する有機溶媒の例には、2−エトキシエチ
ルアセテート、2−メトキシエタノール、および2−ブ
トキシエタノールが含まれる。
【0092】ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、1ま
たは2であることが好ましく、1であることが最も好ま
しい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であるこ
とが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロ
ゲンに置換されている割合は、25乃至75モル%の範
囲にあることが好ましく、30乃至70モル%の範囲に
あることがより好ましく、35乃至65モル%の範囲に
あることがさらに好ましく、40乃至60モル%の範囲
にあることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表
的なハロゲン化炭化水素である。二種類以上の有機溶媒
を混合して用いてもよい。
【0093】一般的な方法でドープを調製できる。一般
的な方法とは、0℃以上の温度(常温または高温)で処
理することを意味する。ドープの調製は、通常のソルベ
ントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を
用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場
合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素(特にジクロ
ロメタン)を用いることが好ましい。ポリマーの添加量
は、得られるドープ中に10乃至40質量%の範囲で含
まれるように調整する。ポリマーの添加量は、10乃至
30質量%の範囲にあることがさらに好ましい。有機溶
媒(主溶媒)中には、後述する任意の添加剤(レターデ
ーション上昇剤や可塑剤など)を添加しておいてもよ
い。ドープは、常温(0乃至40℃)でポリマーと有機
溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高
濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよ
い。具体的には、ポリマーと有機溶媒とを加圧容器に入
れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、か
つ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌す
る。加熱温度は、通常は40℃以上であり、60乃至2
00℃の範囲にあることが好ましく、80乃至110℃
の範囲にあることがさらに好ましい。
【0094】各成分は予め粗混合してから容器に入れて
もよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌
できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の
不活性気体を注入して容器を加圧することができる。ま
た、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。
あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加しても
よい。加熱する場合、容器の外部より加熱することが好
ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いる
ことができる。また、容器の外部にプレートヒーターを
設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を
加熱することもできる。容器内部に攪拌翼を設けて、こ
れを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の
壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端に
は、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けるこ
とが好ましい。容器には、圧力計、温度計等の計器類を
設置してもよい。容器内で各成分を溶媒中に溶解する。
調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるい
は、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。
【0095】冷却溶解法により、ドープを調製すること
もできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解さ
せることが困難な有機溶媒中にもポリマーを溶解させる
ことができる。なお、通常の溶解方法でポリマーを溶解
できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一
な溶液が得られるとの効果がある。
【0096】冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中
にポリマーを撹拌しながら徐々に添加する。ポリマーの
添加量は、この混合物中に10乃至40質量%の範囲で
含まれるように調整することが好ましい。ポリマーの添
加量は、10乃至30質量%の範囲にあることがさらに
好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤
(レターデーション上昇剤や可塑剤など)を添加してお
いてもよい。次に、混合物を−100乃至−10℃(好
ましくは−80乃至−10℃、さらに好ましくは−50
乃至−20℃、最も好ましくは−50乃至−30℃)に
冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール
浴(−75℃)や冷却したジエチレングリコール溶液
(−30乃至−20℃)中で実施できる。このように冷
却すると、ポリマーと有機溶媒の混合物は固化する。
【0097】冷却速度は、4℃/分以上であることが好
ましく、8℃/分以上であることがさらに好ましく、1
2℃/分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、
速いほど好ましいが、10000℃/秒が理論的な上限
であり、1000℃/秒が技術的な上限であり、そして
100℃/秒が実用的な上限である。なお、冷却速度
は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差
を、冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまで
の時間で割った値である。
【0098】さらに、これを0乃至200℃(好ましく
は0乃至150℃、さらに好ましくは0乃至120℃、
最も好ましくは0乃至50℃)に加温すると、有機溶媒
中にポリマーが溶解する。昇温は、室温中に放置するだ
けでもよし、温浴中で加温してもよい。
【0099】加温速度は、4℃/分以上であることが好
ましく、8℃/分以上であることがさらに好ましく、1
2℃/分以上であることが最も好ましい。加温速度は、
速いほど好ましいが、10000℃/秒が理論的な上限
であり、1000℃/秒が技術的な上限であり、そして
100℃/秒が実用的な上限である。なお、加温速度
は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差
を、加温を開始してから最終的な加温温度に達するまで
の時間で割った値である。
【0100】以上のようにして、ポリマーが溶媒中に均
一に溶解した溶液(ドープ)が得られる。なお、溶解が
不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよ
い。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外
観を観察するだけで判断することができる。冷却溶解法
においては、冷却時の結露による水分混入を避けるた
め、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温
操作において、冷却時に加圧し、加温時に減圧すると、
溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実
施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
【0101】[ポリマーフイルムの製造]調製したドー
プを用いて、ソルベントキャスト法(溶液流延法)によ
りポリマーフイルムを製造する。流延前のドープは、固
形分量が10乃至40%の範囲となるように濃度を調整
することが好ましい。溶解機(釜)から調製されたドー
プを貯蔵釜で一旦貯蔵し、脱泡し最終調製をする。ドー
プをドープ排出口から、例えば、回転数によって高精度
に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型
ダイに送る。次いで、ドープを、加圧型ダイの口金(ス
リット)から、エンドレスに走行している仮支持体(バ
ンドあるいはドラム)の上に均一に流延して流延膜を形
成する。仮支持体の表面は、鏡面状態に仕上げておくこ
とが好ましい。流延膜を乾燥して、流延膜に含まれる有
機溶媒を蒸発させることでポリマーフイルムを形成する
ことができる。
【0102】流延膜は、単一のドープを流延して単層の
構成としてもよく、二以上のドープを流延して複数層の
構成としてもよい。二以上のドープを流延する場合、仮
支持体の進行方向に沿って間隔をおいて配置した複数の
流延口のそれぞれからドープを流延し、流延した複数の
流延膜を積層してフイルムを形成することができる。こ
のような流延方法は、特開平1−122419号および
特開平11−198285号の各公報に記載がある。ま
た、二つの流延口からドープを流延することによってフ
イルムを形成することもできる。このような流延方法
は、例えば特公昭60−27562号、特開昭61−1
58413号、および特開平6−134933号の各公
報に記載がある。また、特開昭56−162617号公
報に記載の、高粘度のドープの流れを低粘度のドープで
包み込み、その高、低粘度のドープを同時に押出す流延
方法を用いてもよい。また、二つの流延口を用いて、第
一の流延口からドープを流延して仮支持体の上に形成し
たフイルムを剥ぎ取り、仮支持体に接していたフイルム
面に第二の流延口からドープを流延してフイルムを形成
することもできる。このような流延方法は、例えば、特
公昭44−20235号公報に記載がある。
【0103】二以上のドープを流延する場合、流延する
ドープの組成は、互いに同一でもよいし、互いに異なっ
ていてもよい。二以上の流延膜から形成されるポリマー
フイルムの各層に特定の機能を持たせるために、その機
能に応じたドープを、それぞれの流延口から流延すれば
よい。ポリマーフイルムの各層のうちのいずれかを、機
能性層(例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチ
ハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など)とするこ
とも好ましい。複数の流延膜から形成されるポリマーフ
イルムの層の数は、2乃至10層の範囲にあることが好
ましく、2乃至4層の範囲にあることがさらに好まし
い。
【0104】本発明においては、流延から乾燥までの工
程において、フイルム表面近傍でのレターデーション上
昇剤の分布を調節することを特徴としている。レターデ
ーション上昇剤は、流延膜を乾燥する工程において、有
機溶媒の揮発に伴って表面に集中しやすい。ドープを流
延し、次いで流延膜を乾燥をする際に、仮支持体(バン
ドもしくはドラム)上の雰囲気に含まれる有機溶媒ガス
濃度を、2乃至40%の範囲、より好ましくは5乃至3
5%の範囲に、さらに好ましくは10乃至35%の範囲
にすることで、流延膜の表面近傍のみが急速に乾燥する
ことにより生じるレターデーション上昇剤の流延膜表面
への集中を防止することができる。即ち、流延膜の乾燥
速度を遅くすることにより、乾燥中に表面近傍に集中し
たレターデーション上昇剤を、フイルム内部に再拡散さ
せる。
【0105】従来の流延法では、流延膜の乾燥を早める
ために、通常、新鮮風(有機溶媒濃度の低い空気)を給
気して乾燥する。従って、乾燥の際に、仮支持体の周囲
の有機溶媒ガス濃度は、1%以下の低濃度であることが
普通であり、本発明のように高有機溶媒ガス濃度の雰囲
気においてドープの流延をすることは無かった。
【0106】このような高い有機溶媒ガス濃度を実現す
る方法としては、仮支持体、あるいは仮支持体と流延機
の両者を容器(ケーシング)に収容し、ドープを流延、
乾燥した時にケーシングから排気される有機溶媒を含む
気体を、ケーシング内に再給気する方法、あるいは、ケ
ーシングへの給気を極力少なくし、極めてゆっくりとケ
ーシング内の気体を排気する方法が挙げられる。前者の
方法が好ましく、さらにケーシングの給排気の速度を大
きくすることにより、流延膜を乾燥する速度を速くする
ことができ、そしてケーシング内の有機溶媒ガス濃度が
高いために、流延膜の表面のみが急激に乾燥して、レタ
ーデーション上昇剤が表面に集中することも抑制するこ
とができる。
【0107】ケーシングの給排気風量は、毎分あたり、
ケーシング内の容積の0.1乃至10倍の範囲にあるこ
とが好ましく、0.3乃至8倍の範囲にあることがより
好ましく、0.7乃至5倍の範囲にあることがさらに好
ましい。仮支持体(バンドもしくはドラム)上の好まし
い流延時間は、1分乃至20分の範囲にあることが好ま
しく、2分乃至15分の範囲にあることがより好まし
く、3分乃至12分の範囲にあることがさらに好まし
い。なお、流延時間とは、ドープが、バンドもしくはド
ラム上に押し出されてから、剥ぎ取られる迄の時間を指
す。
【0108】また、ケーシングへの給気風を加熱するこ
とも好ましい。給気風の温度は、40乃至100℃の範
囲にあることが好ましく、45乃至90℃の範囲にある
ことがより好ましく、50乃至85℃の範囲にあること
がさらに好ましい。仮支持体の周囲の雰囲気が低有機溶
媒ガス濃度の場合には、給気風を加熱すると、流延膜の
表面が急速に乾燥して、レターデーション上昇剤が表面
に集中する。一方、高有機溶媒ガス濃度の場合には、給
気風を加熱すると、レターデーション上昇剤のフイルム
内部への再拡散が促進され、レターデーション上昇剤が
表面に集中することを抑制できる。
【0109】次いで、バンドまたはドラム(仮支持体)
がほぼ一周した剥離点で、生乾きの流延膜(ウェブとも
呼ぶ)を支持体から剥離する。本発明では、流延膜中の
残留溶媒量が10乃至50質量%の範囲、より好ましく
は15乃至40質量%の範囲、さらに好ましくは20乃
至35質量%の範囲にあるときに流延膜を仮支持体から
剥ぎ取ることが好ましい。そして剥ぎ取った流延膜の両
端をクリップで把持しながら乾燥する。乾燥時の流延膜
の温度は、80乃至180℃の範囲にあることが好まし
く、100乃至160℃の範囲にあることがより好まし
く、110乃至150℃の範囲にあることがさらに好ま
しい。
【0110】この乾燥中に、流延膜を、幅方向に10乃
至40%、より好ましくは15乃至35%、さらに好ま
しくは20乃至35%の範囲で延伸することが好まし
い。延伸することで流延膜の表面積が増大して、表面に
集中したレターデーション上昇剤を拡散することができ
る。延伸の際に、流延膜の残留溶媒量を10乃至50質
量%の範囲にすることで、流延膜の内部でレターデーシ
ョン上昇剤を動きやすくし、延伸の際のレターデーショ
ン上昇剤の拡散を促進することができる。さらに、流延
膜を延伸して表面積が増大すると、表面に微細なクラッ
クが形成され、そこから活発に溶媒が蒸発するため、流
延膜の乾燥に要する時間が短縮でき、ポリマーフイルム
の製膜速度を速くすることができる。
【0111】乾燥により流延膜の残留溶媒量を5質量%
以下とした後に、流延膜を乾燥装置のロール群で搬送し
て乾燥を終了させてポリマーフイルムが形成される。形
成されたポリマーフイルムは、巻き取り機で所定の長さ
に巻き取る。このようにして本発明の光学補償シート
(ポリマーフイルム)を製造することができる。
【0112】ポリマーフイルムの厚さは、40乃至20
0μmの範囲にあることが好ましく、50乃至160μ
mの範囲にあることがより好ましく、60乃至140μ
mの範囲にあることがさらに好ましい。
【0113】さらにこれらのフイルムの少なくとも片面
に機能層(例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アン
チハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など)を塗設
することも好ましい。また、製造時のハンドリング性向
上のために片面または両面にマット剤とポリマーを含有
するマット層を設けてもよい。マット剤およびポリマー
については特開平10−44327号公報に記載されて
いる素材を好適に用いることができる。
【0114】[ポリマーフイルムの表面処理]ポリマー
フイルムには、表面処理を施すことが好ましい。表面処
理の例としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火
炎処理、酸処理、アルカリ処理、および紫外線照射処理
が挙げられる。また、特開平7−333433号公報に
記載のように、下塗り層を設けることも好ましい。表面
処理後のポリマーフイルムの表面エネルギーは、55m
N/m以上であることが好ましく、60乃至75mN/
mの範囲にあることがさらに好ましい。
【0115】ポリマーフイルムとしてセルロースアセテ
ートフイルムを用いる場合には、表面処理は、酸処理ま
たはアルカリ処理、すなわちケン化処理であることが特
に好ましい。鹸化処理に用いるアルカリ溶液の例として
は、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げ
られる。アルカリ溶液の水酸化イオンの規定濃度は、
0.1乃至3.0Nの範囲にあることが好ましく、0.
5乃至2.0Nの範囲にあることがさらに好ましい。ア
ルカリ溶液の温度は、室温乃至90℃の範囲にあること
が好ましく、40乃至70℃の範囲にあることがさらに
好ましい。このような鹸化は、浸漬法(フイルムを酸あ
るいはアルカリ溶液に浸漬する)あるいは塗布法(フイ
ルム表面に酸あるいはアルカリ液を塗布する)のいずれ
で行っても良い。この後浸漬法あるいは塗布法により中
和、水洗することが好ましい。
【0116】[円盤状化合物を含む光学異方性層]上記
のように作製したポリマーの光学特性の調節のため、ポ
リマーフイルムの表面にさらに配向状態にある円盤状化
合物を含む光学異方性層を設けることもできる。円盤状
化合物を含む光学異方性層の光学特性は、Reレターデ
ーション値に加えて、Rthレターデーション値および円
盤状化合物の平均傾斜角βで表される。光学異方性層の
Reレターデーション値は、10乃至100nmの範囲
にあることが好ましい。光学異方性層のRthレターデー
ション値は、40乃至200nmの範囲にあることが好
ましい。また、円盤状化合物の平均傾斜角β(屈折率の
主値の最小値の方向とフイルム法線との角度)は、20
乃至50゜の範囲にあることが好ましい。
【0117】[偏光板]偏光板は、偏光膜およびその両
側に配置された二枚の透明保護膜からなる。偏光膜に
は、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜
やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料
系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを
用いて製造する。一般に、偏光板の保護膜としては、セ
ルロースアセテートフイルムが用いられる。このような
偏光板の一方の透明保護膜として、前記の光学補償シー
トを用いることにより、本発明の偏光板が得られる。
【0118】本発明の偏光板においては、光学補償シー
トとして用いるポリマーフイルムを、ポリマーフイルム
の遅相軸と偏光膜の透過軸のなす角度の絶対値が3°以
下、好ましくは2°以下、さらに好ましくは1°以下と
なるように配置する。本発明の偏光板を、液晶表示装置
の液晶セルの両側に配置された二枚の偏光板の両方に用
いる場合には、偏光板の、ポリマーフイルムの遅相軸
と、偏光膜の透過軸のなす角度の絶対値が、二枚の偏光
板の合計(和)で3℃以下となるように、それぞれの偏
光板を作製する。
【0119】[液晶表示装置]本発明の光学補償シー
ト、または光学補償シートを用いた偏光板は、液晶表示
装置、特に透過型液晶表示装置に有利に用いられる。透
過型液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置さ
れた二枚の偏光板からなる。液晶セルは、二枚の電極基
板の間に液晶を担持している。
【0120】液晶表示装置に本発明の光学補償シートを
用いる場合、光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光
板との間に一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の
偏光板との間に二枚配置する。液晶表示装置に本発明の
偏光板を用いる場合、液晶セルの両側に配置される二枚
の偏光板のうちの少なくとも一方として、本発明の偏光
板を配置すればよい。この場合、偏光板に備えられた光
学補償シートが液晶セル側となるように偏光板を配置す
る。このような液晶表示装置の構成は、液晶セルと偏光
膜との間に配置される透明保護膜の少なくと一方とし
て、本発明の光学補償シートを用いる構成と同じであ
る。以上のようにして本発明の液晶表示装置を得ること
ができる。
【0121】液晶セルは、VAモード、TNモード、n
−ASMモード、またはベンド配向モードの液晶セルで
あることが好ましい。VAモードの液晶セルでは、電圧
無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向してい
る。VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子
を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時
に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セ
ル(特開平2−176625および特公平7−6953
6号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、V
Aモードをマルチドメイン化した液晶セルが含まれる。
具体的には、MVA(SID97、Digest of tech.Papers
(予稿集)28(1997)845、SID99、Digestof tech. Pap
ers(予稿集)30(1999)206、および特開平11−25
8605号公報記載)、SURVAIVAL(月刊ディ
スプレイ、第6巻、第3号(1999)14記載)、PVA(As
ia Display98、Proc.of the 18th Inter. Display res.
Conf.(予稿集)(1998)383記載)、Para−A(L
CD/PDP International‘99で発表)、DDVA(SID9
8、Digest of tech.Papers(予稿集)29(1998)838記
載)、EOC(SID98、Digest of tech. Papers(予稿
集)29(1998)319記載)、PSHA(SID98、Digest o
f tech. Papers(予稿集)29(1998)1081記載)、RF
FMH(Asia Display98、Proc.of the 18th Inter. Di
splay res. Conf.(予稿集)(1998)375記載)、HMD
(SID98、Digest of tech. Papers(予稿集)29(199
8)702記載)が含まれる。その他に(3)棒状液晶性分
子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時
にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASM
モード)の液晶セル(IWD'98、Proc.of the 5th Inter.
Display Workshop.(予稿集)(1998)143記載))も
含まれる。
【0122】TNモードの液晶セルでは、電圧無印加時
に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さらに60乃
至120゜にねじれ配向している。TNモードの液晶セ
ルは、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用さ
れており、多数の文献に記載がある。
【0123】ベンド配向モードの液晶セルの場合、円盤
状化合物を含む光学異方性層の光学特性は、Reレター
デーション値に加えて、Rthレターデーション値および
円盤状化合物の平均傾斜角βで表される。光学異方性層
のReレターデーション値は、10乃至100nmの範
囲にあることが好ましい。光学異方性層のRthレターデ
ーション値は、40乃至200nmの範囲にあることが
好ましい。また、円盤状化合物の平均傾斜角β(屈折率
の主値の最小値の方向とフイルム法線との角度)が、2
0乃至50゜の範囲にあることが好ましい。
【0124】以下、本発明で用いた測定方法について述
べる。 1)メタノール蒸気抽出量(%) ポリマーフイルム表面のXPS測定を行い、先に記載し
た手順に従い、ポリマーフイルムのΔM(X)もしくは
ΔM(O)を求める。なお、実施例においては、ポリマ
ーフイルムの表と裏についてΔM(X)もしくはΔM
(O)の値を求め、表裏の平均値により評価をする。
【0125】2)Re、Rth ポリマーフイルムを、温度25℃、相対湿度60%の環
境において3時間以上調湿する。次いで、エリプソメー
ター(M−150、日本分光(株)製)を用いて、ポリ
マーフイルムの、波長550nmにおけるReレターデ
ーション値およびRthレターデーション値を測定する。
【0126】3)フイルム表面と、表面から20μmの
位置とにおける芳香族化合物(レターデーション上昇
剤)の存在比 ミクロトームを用いて、ポリマーフイルムの表面の法
線から70度の方向にガラスナイフを入れ、フイルムを
斜めに切削して薄片(切削面に対する厚み:2μm)を
得る。薄片の切削方向の長さは、フイルムを法線方向に
切削した場合の切削方向の長さ(ポリマーフイルムの厚
み)の3倍となる。
【0127】薄片をシリコンウエハ(表面に酸化皮膜
が形成されていないもの)の上にのせ、顕微IR分光器
(20μm×100μmの矩形アパーチャー)を用い
て、薄片のポリマーフイルム表面に相当する位置にアパ
ーチャーの長手方向を合わせて、IR測定をする。次
に、薄片のポリマーフイルム表面に相当する位置から、
薄片の切断方向に沿って60μm平行移動した位置(ポ
リマーフイルム表面から、厚み方向に20μm内部の位
置に相当する)において、IR測定をする。
【0128】IR測定は200回積算する。バックグ
ランドとして、薄片のすぐ横のシリコンウエハについて
IR測定をして、薄片のIR測定結果から、バックグラ
ンドについての測定結果を差し引いた。
【0129】得られたIR測定結果において、光学補
償シートの主成分の最大ピークに着目し、ピークの両側
の谷を結ぶベースラインを引く。ベースラインからのピ
ークの高さを吸光度Aaとする。例えば、光学補償シー
トのポリマーフイルムがセルロースアセテートフイルム
である場合、主成分の最大ピークは、波長が903±3
cm-1の位置に現れる。そして、レターデーション上昇
剤のIRピークとして、光学補償シートのIRピークと
重ならないピークの中で、最も強度の大きいピークに着
目し、ピークの両側の谷を結ぶベースラインを引く。ベ
ースラインからのピークの高さを吸光度Abとする。二
つの吸光度の比、Ab/AaをTとする。薄片のポリマ
ーフイルム表面に相当する位置における吸光度の比T
を、T0とする。薄片のポリマーフイルム表面に相当す
る位置から、薄片の切断方向に沿って60μm平行移動
した位置(ポリマーフイルム表面から、厚み方向に20
μm内部の位置に相当する)における吸光度の比Tを、
T20とする。T0/T20をフイルム表面と表面から
20μm位置とにおけるレターデーション上昇剤の存在
比とした。なお、実施例においては、ポリマーフイルム
の表と裏のそれぞれについて、レターデーション上昇剤
の存在比(T0/T20)の値を求め、表裏の平均値に
より評価する。
【0130】4)ドープ流延時における、雰囲気中の有
機溶媒ガス濃度(%) ドープを流延中に、下記(イ)(ロ)の二ヶ所におけ
る雰囲気(有機溶媒を含む気体)を、シリンジを用いて
200mlサンプリングする。 イ)バンドあるいはドラムの上部(ドープを上にして搬
送している部分)の流れ方向および幅方向の中央部。 ロ)バンドあるいはドラムの下部(ドープを下にして搬
送している部分)の流れ方向および幅方向の中央部。 サンプリングした雰囲気を10倍に希釈して測定サン
プルとする。ガス濃度計(INNOVA Airtech Instruments
社製、1312型 Photoacoustic Multi Gas Monitor)を用
いて、測定サンプルに含まれる、ドープから蒸発した有
機溶媒のガス濃度を測定する。そして、得られた測定値
を10倍して、雰囲気中の有機溶媒ガス濃度とする。ド
ープに二種類以上の有機溶媒を含む場合には、ドープか
ら蒸発したそれぞれの有機溶媒についてのガス濃度を測
定する。そして、それぞれの有機溶媒について得られた
測定値の和を10倍して、雰囲気中の有機溶媒ガス濃度
とする。有機溶媒ガス濃度の全体雰囲気における百分率
で表した。
【0131】5)流延膜の残留溶媒量(%) ドラム、バンドから剥ぎ取った直後の流延膜から、3
cm×10cmの大きさのサンプルを切断する。サンプ
ルを屏風状に折った後、質量A(g)のフタ着きガラス
瓶に入れて、直ちに質量を測定する(測定された質量
を、B(g)とする)。 ガラス瓶のフタを開けて、140℃の空気恒温槽中で
20分間加熱する。 恒温槽からガラス瓶を取り出し、フタを閉めた後に、
直ちに質量を測定する測定された質量を、C(g)とす
る)。 残留溶媒量を、下記の式に従って計算する。 残留溶媒量(%)=100×(B−C)/(B−A)
【0132】6)ドープに含有する水分量(%) ドープに含有する水分の大部分は、光学補償シートを形
成するポリマーに含有する水分である。従って、ドープ
の水分含有量を、ポリマーの水分含有量から以下のよう
に算出する。 ポリマーの水分含有量は、ポリマーを有機溶媒に溶解
してドープを調製する工程の直前に測定する。測定に
は、カールフィッシャー水分計(三菱化学(株)製、C
A−03)および気化装置(三菱化学(株)製、VA−
05型)を用いる。先ず、気化装置を用いて、150℃
においてポリマー中に残存する水分を蒸発させて、次い
でカールフィッシャー水分計を用いて滴定する。このよ
うにして、ポリマーの単位質量あたりの含有水分量W
(g/g)を測定する。 ドープに対するポリマーの添加量(ポリマーの質量
を、ポリマーと有機溶媒の質量の合計値で割った値)を
Vとする。100×W×Vを、ドープの水分含有量
(%)とする。
【0133】7)セルロースアセテートの酢化度(ポリ
マーフイルムがセルロースアセテートフイルムである場
合) 酢化度は、ASTM:D−817−91(セルロースア
セテート等の試験法)におけるアセチル化度の測定およ
び計算に従う
【0134】
【実施例】1.光学補償シートの作製 (1)セルロースアセテート(TAC)系ドープの調製 下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しなが
ら攪拌して各成分を溶解してセルロースアセテート溶液
を調製した。なお、実施例で用いるセルロースアセテー
トは、120℃の乾燥風に曝して乾燥処理したものを用
いた。
【0135】 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート溶液組成 ──────────────────────────────────── セルロースアセテート(酢化度(%)は、表1に記載) 100質量部 トリフェニルホスフェート(可塑剤) 7.8質量部 ビフェニルジフェニルホスフェート(可塑剤) 3.9質量部 メチレンクロライド(第1溶媒) 300質量部 メタノール(第2溶媒) 54質量部 ────────────────────────────────────
【0136】別のミキシングタンクに、表1に記載のレ
ターデーション上昇剤(棒状化合物もしくは板状化合
物)、メチレンクロライド80質量部、およびメタノー
ル20質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レター
デーション上昇剤溶液を調製した。なお、表1におい
て、レターデーション上昇剤の種類の欄に記載されてい
る「板状」とは、下記に記載の板状化合物を意味し、
「棒状」とは、下記に記載の棒状化合物を意味する。
【0137】
【化10】
【0138】
【化11】
【0139】セルロースアセテート溶液474質量部
に、レターデーション上昇剤溶液25質量部を混合し、
充分に攪拌してドープを調製した。なお、ドープにおけ
るレターデーション上昇剤の添加量(セルロースアセテ
ートに対するレターデーション上昇剤の量、質量%)
は、表1の「添加量」の欄に記載した。また、ドープの
水分含有量(%)を、表1に記載した。
【0140】(2)ポリカーボネート(PC)系ドープ
の調製 ポリカーボネート樹脂(2,2’−ビス(4−ヒドロキ
シフェニル)プロパンポリカーボネート:粘度平均分子
量=28000)を、ジクロロメタンに18質量%含ま
れるように溶解した。これに表1に記載のレターデーシ
ョン上昇剤を添加してポリカーボネート溶液(ドープ)
を得た。
【0141】(3)流延 得られたドープを、バンド流延機を用いて流延して流延
膜を形成した。バンド流延機は、ケーシング内に入れて
密封した。ケーシングに給気口と排気口を設置して互い
に接続した。吸気口と排気口の間に送風機を設置して、
ケーシング内の雰囲気を循環した。この送風機により、
風量比(1分間に循環させる風量/ケーシングの容積)
を調節した。また、ケーシング内における有機溶媒のガ
ス濃度は、この循環系の内部に設置したコンデンサーに
より調節した。ドープを流延した時の風量比およびガス
濃度を表1に記載した。
【0142】(4)乾燥 流延膜の残留溶媒量が、表1に記載の値となったところ
で、バンドから流延膜を剥ぎ取った。この流延膜をチャ
ックで把持しながら、表1に記載の乾燥条件(乾燥温
度、乾燥時間)で乾燥した。この時チャックを、流延膜
の拡幅率が表1に記載の値となるよう横方向に拡幅し
た。次いで流延膜をチャックで把持したまま、先の乾燥
温度〜先の乾燥温度より30℃低い温度に流延膜の温度
を保ちつつ、拡幅率を0〜10%小さくすることによ
り、幅方向の弛緩処理を行った。この処理により、製造
される光学補償シートにおける、Re、Rthレターデー
ションのシート幅方向の変動を抑えることができる。次
いで流延膜を150℃の乾燥ゾーンをロールにより搬送
し、残留溶媒を1.5%以下としてポリマーフイルム
(光学補償シート)を形成した。そして、フイルムの両
端にナーリング加工を施して3000mの長さを巻き取
った。巻取り時のフイルムの幅は、1.5mであった。
また、作製したフイルムの厚みは、本発明1〜4、1
5、16、比較例1および2が110μm、本発明5〜
9が70μm、本発明10〜14が140μmであっ
た。
【0143】
【表1】
【0144】(5)評価 作製した光学補償シートを評価した。評価結果を表1に
示す。レターデーション上昇剤のフイルム表面への析出
の評価については、下記のエーテル法についても実施し
た。エーテル法は、メタノール法よりもレターデーショ
ン上昇剤の析出量が少なく、光学補償シートの接着性の
加速試験としては緩い評価法である。エーテル法では、
実施例と比較例の評価結果の差が小さいが、メタノール
法で評価することにより、レターデーション上昇剤の表
面における存在量のわずかな差を評価できることがわか
る。従って、メタノール法は、液晶表示装置を長時間使
用後の光学補償シートの接着性を評価する好ましい加速
試験方法であることがわかる。
【0145】※エーテル法 光学補償シートを5cm角に切り出し、温度25℃、
相対湿度60%の環境において3時間以上調湿する。 直径3cm、高さ5cmのガラス瓶に、ジエチルエー
テルを、液面高さが5mmになるように入れた後に蓋を
する。そして瓶を振ってジエチルエーテルを十分撹拌
し、瓶内の蒸気を充満させる。 ガラス瓶の蓋をあけ、光学補償シートの片面を瓶の口
の上に置き、この上に5cm角のガラス板を置き、さら
に50gの荷重を置く。これを温度25℃の環境に置い
て20分間放置してエーテル蒸気に接触させる。 サンプルフイルムをガラス瓶から取り外し、直ちにヘ
ーズ測定する。この値と、エーテル蒸気に接触させる前
のサンプルフイルムのヘーズとの差を求める。フイルム
両面でこの測定を行い、大きい方の値を泣出し指数(フ
イルム表面におけるレターデーション上昇剤の存在量の
変化の程度を評価する指数)とする。
【0146】2.偏光板の作製 作製した光学補償シートを、下記の方法(塗布方式)に
より鹸化処理した。 (1)鹸化液:1.5規定のKOH溶液(イソプロパノ
ール:プロピレングリコール:水=75:13:12
(体積比))を、ワイヤーバーを用い、60℃に加熱し
た光学補償シートに5ml/m2 塗布する。 (2)塗布から10秒後に、光学補償シートにワイヤー
バーを用いて水を塗布することにより鹸化液を水洗す
る。 (3)水洗後の光学補償シートを、80℃で乾燥する。
【0147】鹸化処理をした光学補償シートの片側に、
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着
させて作製した偏光膜を、ポリビニルアルコール系接着
剤を用いて貼り付けた。光学補償シートの屈折率の大き
な方向(遅相軸)と偏光膜の長手方向(延伸方向)が平
行になる様に貼り付けた。光学補償シートの遅相軸と、
偏光膜の透過軸のなす角度は、0.5°であった。市販
のセルローストリアセテートフイルム(フジタックTD
80UF、富士写真フイルム(株)製)を鹸化処理し、
ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対
側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。
【0148】3.垂直配向型液晶表示装置の作製 垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置(VL−1
530S、富士通(株)製)に設けられている一対の偏
光板および一対の光学補償シートを剥がし、代わりに作
製した偏光板を、偏光板の光学補償シートが液晶セル側
となるように、液晶セルの観察者側およびバックライト
側に一枚ずつ粘着剤で貼り付けた。観察者側の偏光板の
透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板
の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置と
した。
【0149】作製した液晶表示装置について、測定機
(EZ−Contrast160D、ELDIM社製)を用いて上下左
右でコントラスト比10:1が得られる最小の視野角を
求めた。視野角の評価結果を、表2に示す。そして液晶
表示装置を、温度60℃、相対湿度85%の環境下にお
いて100時間保管した後に分解し、偏光板、光学補償
シートの接着不良に起因する気泡状の浮き上がりの発生
個数を目視で数えて接着性を評価した。評価結果を、表
2に示す。
【0150】
【表2】
【0151】4.TN型液晶表示装置の作製 TN型液晶セルを使用した液晶表示装置(6E−A3、
シャープ(株)製)に設けられている一対の偏光板を剥
がし、代わりに作製した偏光板を、光学補償シートが液
晶セル側となるように、液晶セルの観察者側およびバッ
クライト側に一枚ずつ粘着剤で貼り付けた。観察者側の
偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側
の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコ
ル配置とした。垂直配向型液晶表示装置の場合と同様に
して、視野角、接着不良を評価した。評価結果を、第2
表に示す。
【0152】5.楕円偏光板の作製 鹸化処理を行った光学補償シートの上に、下記の円盤状
(液晶性)化合物41.01質量部、エチレンオキサイ
ド変成トリメチロールプロパントリアクリレート(V#
360、大阪有機化学(株)製)4.06質量部、セル
ロースアセテートブチレート(CAB551−0.2、
イーストマンケミカル社製)0.90質量部、セルロー
スアセテートブチレート(CAB531−1、イースト
マンケミカル社製)0.23質量部、光重合開始剤(イ
ルガキュアー907、チバガイギー社製)1.35質量
部、増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)
製)0.45質量部を、102質量部のメチルエチルケ
トンに溶解した塗布液を、#3のワイヤーバーで塗布し
た。これを、130℃の恒温槽中で2分間加熱し、円盤
状化合物を配向させた。次に、130℃で120W/c
m高圧水銀灯を用いて、250mJ/cm2 のUV光を
照射し円盤状化合物を重合させた。その後、室温まで放
冷した。このようにして、光学異方性層を形成し、光学
補償シートを作製した。この光学補償シートの光学異方
性層のReレターデーションは34nm、βは35度、
Rthレターデーションは100nmであった。
【0153】
【化12】
【0154】延伸したポリビニルアルコールフイルムに
ヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。作製した光学補
償シートを、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、
偏光膜の片側に貼り付けた。光学補償シートと偏光膜の
長手方向が平行になる様に貼り付けた。光学補償シート
の支持体であるポリマーフイルムの遅相軸と、偏光膜の
透過軸とのなす角度は0.3°であった。市販のセルロ
ーストリアセテートフイルム(フジタックTD80U、
富士写真フイルム(株)製)を、前述の方法で鹸化処理
し、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の
反対側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製し
た。
【0155】6.ベンド配向液晶表示装置の作製 ITO電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜
として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた
二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向
かい合わせ、セルギャップを6μmに設定した。セルギ
ャップにΔnが0.1396の液晶性化合物(ZLI1
132、メルク社製)を注入し、ベンド配向液晶セルを
作製した。
【0156】ベンド配向セルを挟むように、作製した偏
光板を二枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基
板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する
光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配
置した。作製した液晶表示装置について、白表示電圧2
V、黒表示電圧6Vを印加し、測定機(EZ−Contrast16
0D、ELDIM社製)を用いて上下左右でコントラスト
比10:1が得られる最小の視野角を求めた。併せて、
前記の液晶表示装置の場合と同様に、接着不良を評価し
た。これらの評価結果を表2に示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) // B29L 7:00 B29L 7:00 C08L 1:00 C08L 1:00 Fターム(参考) 2H049 BA02 BA06 BA26 BA27 BA42 BB03 BB33 BB43 BC01 BC22 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FB02 FC07 FD06 GA16 HA06 HA07 HA09 LA02 LA16 4F073 AA14 BA03 BA26 BA34 BB01 DA08 EA04 EA21 HA04 4F205 AG01 AH73 GA07 GB02 GC02 GC07 GN22 GN24

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 C、H、Oをポリマー骨格に含むポリマ
    ー、および該ポリマーに対して0.5乃至15質量%の
    範囲内において、少なくとも二つの芳香族環を有する芳
    香族化合物を含むポリマーフイルムからなり、ポリマー
    フイルムの厚み方向のレターデーション値が、70乃至
    400nmの範囲にあり、該ポリマーフイルムについて
    下記のように定義されるΔM(X)もしくはΔM(O)
    が、5%以下であることを特徴とする光学補償シート: (1)芳香族化合物が、C、H、O以外の異種元素Xを
    含む場合; 1)ΔM(X)=M(X)a−M(X)bであり; 2)M(X)bは、次式で定義される; M(X)b=100×A(X)/{A(C)×I(X)
    ×n(X)} [式中、A(X)は、ポリマーフイルム表面のXPS測
    定で得られる異種元素Xに対応するピークの面積を表し
    (但し、異種元素が二種以上存在する場合には、ピーク
    面積が大きい方の異種元素を基準にする);A(C)
    は、C1sに対応するピークの面積を表し;I(X)
    は、異種元素Xのイオン化断面積を表し;そしてn
    (X)は、上記芳香族化合物一分子に含まれる異種元素
    Xの数を表す] 3)M(X)aは、M(X)bの測定に供したポリマー
    フイルムと同一のポリマーフイルムの表面を、以下のよ
    うに処理した後に、直ちにXPS測定すること以外は、
    M(X)bと同様に定義される; a)ポリマーフイルムを5cm角に切り出し、温度25
    ℃、相対湿度60%の環境において3時間以上調湿す
    る; b)直径3cm、高さ5cmであるガラス瓶に、メタノ
    ールを、液面の高さが5mmとなるように入れた後に蓋
    をして十分に攪拌し、ガラス瓶の内部にメタノール蒸気
    を充満させる; c)ガラス瓶の蓋を開けて、瓶の口の上に、切り出した
    ポリマーフイルム、5cm角のガラス板、質量50gの
    錘を順に置き、温度25℃の環境に5分間放置して、ポ
    リマーフイルムの表面をメタノール蒸気に接触させる; d)ポリマーフイルムを瓶から取り外してXPS測定用
    のポリマーフイルムとする; (2)芳香族化合物が、異種元素を含まない場合; 4)ΔM(O)=M(O)a−M(O)bの絶対値であ
    り; 5)M(O)bは、次式で定義される; M(O)b=100×A(O)/{A(C)×I(O)
    ×n(O)} [式中、A(O)は、ポリマーフイルム表面のXPS測
    定で得られるO1sに対応するピークの面積を表し;A
    (C)は、C1sに対応するピークの面積を表し;I
    (O)は、酸素のイオン化断面積を表し;そしてn
    (O)は、ポリマーフイルムを形成する主成分のモノマ
    ー残基に含まれる酸素原子の数を表す] 6)M(O)aは、M(O)bの測定に供したポリマー
    フイルムと同一のポリマーフイルムの表面を、前記の
    a)〜d)と同様に処理した後に、直ちにXPS測定す
    ること以外は、M(O)bと同様に定義される。
  2. 【請求項2】 ポリマー、および該ポリマーに対して
    0.5乃至15質量%の範囲内において、少なくとも二
    つの芳香族環を有する芳香族化合物を含むポリマーフイ
    ルムからなり、ポリマーフイルムの厚み方向のレターデ
    ーション値が、70乃至400nmの範囲にあり、そし
    てポリマーフイルムの表面における芳香族化合物の存在
    量の、当該表面から20μmの位置における芳香族化合
    物の存在量に対する比が、0.5乃至2.0倍の範囲に
    あることを特徴とする光学補償シート
  3. 【請求項3】 ポリマーフイルムの面内におけるレター
    デーション値が、20乃至70nmの範囲にあることを
    特徴とする請求項1もしくは2に記載の光学補償シー
    ト。
  4. 【請求項4】 ポリマーが、酢化度が59.0乃至6
    1.5%の範囲にあるセルロースアセテートであること
    を特徴とする請求項1もしくは2に記載の光学補償シー
    ト。
  5. 【請求項5】 芳香族化合物が、少なくとも一つの1,
    3,5−トリアジン環を有することを特徴とする請求項
    1もしくは2に記載の光学補償シート。
  6. 【請求項6】 ポリマー、および該ポリマーに対して
    0.5乃至15質量%の範囲において、少なくとも二つ
    の芳香族環を有する芳香族化合物を含む有機溶媒溶液
    を、有機溶媒のガス濃度が2乃至40%の範囲にある雰
    囲気下において仮支持体上に流延して流延膜を形成する
    工程を含む光学補償シートの製造方法。
  7. 【請求項7】 有機溶媒溶液を流延する工程に次いで、
    流延膜の残留溶媒量が10乃至50質量%の範囲となる
    まで乾燥した後に仮支持体から流延膜を剥ぎ取る工程、
    次いで流延膜の温度を80乃至180℃の範囲にし、流
    延膜の幅を10乃至40%の範囲で広げながら乾燥する
    工程を含む請求項6に記載の光学補償シートの製造法。
  8. 【請求項8】 有機溶媒溶液に含有する水分が2質量%
    以下にあることを特徴とする請求項6に記載の光学補償
    シートの製造法。
  9. 【請求項9】 偏光膜およびその両側に配置された二枚
    の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の一
    方が、請求項1乃至5のうちのいずれかの項に記載の光
    学補償シートであり、さらに該光学補償シートが、光学
    補償シートの遅相軸の平均方向と偏光膜の透過軸とのな
    す角度の絶対値が3°以下になるように配置されている
    ことを特徴とする偏光板。
  10. 【請求項10】 液晶セルおよびその両側に配置された
    二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその両側
    に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置で
    あって、液晶セルと偏光膜との間に配置される二枚の透
    明保護膜の一方が、請求項1乃至5のうちのいずれかの
    項に記載の光学補償シートであり、さらに該光学補償シ
    ートが、光学補償シートの遅相軸の平均方向と、光学補
    償シートに隣接する偏光膜の透過軸とのなす角度の絶対
    値が3°以下になるように配置されていることを特徴と
    する液晶表示装置。
  11. 【請求項11】 液晶セルが、VAモード、TNモード
    またはn−ASMモードの液晶セルである請求項10に
    記載の液晶表示装置。
  12. 【請求項12】 液晶セルおよびその両側に配置された
    二枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜およびその両側
    に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置で
    あって、液晶セルと偏光膜との間に配置される二枚の透
    明保護膜のそれぞれが、請求項1乃至5のうちのいずれ
    かの項に記載の光学補償シートであり、さらに、それぞ
    れの光学補償シートが、光学補償シートの遅相軸の平均
    方向と、該光学補償シートに隣接する偏光膜の透過軸と
    のなす角度の絶対値の和が3°以下になるように配置さ
    れていることを特徴とする液晶表示装置。
  13. 【請求項13】 液晶セルが、VAモード、TNモード
    またはn−ASMモードの液晶セルである請求項12に
    記載の液晶表示装置。
  14. 【請求項14】 請求項1乃至5のうちのいずれかの項
    に記載の光学補償シートの表面に、さらに配向状態にあ
    る円盤状化合物を含む光学異方性層が設けられているこ
    とを特徴とする光学補償シート。
  15. 【請求項15】 偏光膜およびその両側に配置された二
    枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の
    一方が請求項14に記載の光学補償シートであることを
    特徴とする偏光板。
  16. 【請求項16】 ベンド配向モードの液晶セルおよび液
    晶セルの両側に配置された一対の偏光板からなる液晶表
    示装置であって、該偏光板のそれぞれが、請求項15に
    記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
JP2001226534A 2001-07-26 2001-07-26 光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置 Withdrawn JP2003043250A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001226534A JP2003043250A (ja) 2001-07-26 2001-07-26 光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001226534A JP2003043250A (ja) 2001-07-26 2001-07-26 光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003043250A true JP2003043250A (ja) 2003-02-13

Family

ID=19059332

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001226534A Withdrawn JP2003043250A (ja) 2001-07-26 2001-07-26 光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003043250A (ja)

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005081642A2 (en) * 2004-02-26 2005-09-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical film, optical compensation sheet, polarizng plate, and liquid crystal display device
WO2006028217A1 (ja) * 2004-09-10 2006-03-16 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 位相差フィルムおよびその製造方法、光学機能フィルム、偏光フィルム、並びに、表示装置
WO2006030954A1 (en) * 2004-09-14 2006-03-23 Fujifilm Corporation Cellulose acylate film, polarizing plate and liquid crystal display
JP2006091246A (ja) * 2004-09-22 2006-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板
WO2006054603A1 (ja) * 2004-11-16 2006-05-26 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 位相差フィルム及びその製造方法、光学機能フィルム、偏光フィルム、並びに表示装置
WO2006093346A1 (en) * 2005-03-03 2006-09-08 Fujifilm Corporation Cellulose acylate film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2007501966A (ja) * 2003-05-16 2007-02-01 イーストマン コダック カンパニー Lcd用補償フィルム
JP2009119808A (ja) * 2007-11-19 2009-06-04 Fujifilm Corp セルロースアシレートフィルムとその製造方法、位相差フィルム、偏光板および液晶表示装置
JP5648680B2 (ja) * 2010-03-18 2015-01-07 コニカミノルタ株式会社 セルロースエステルフィルム、その製造方法、それを備えられた偏光板及び液晶表示装置

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007501966A (ja) * 2003-05-16 2007-02-01 イーストマン コダック カンパニー Lcd用補償フィルム
WO2005081642A3 (en) * 2004-02-26 2005-11-03 Fuji Photo Film Co Ltd Optical film, optical compensation sheet, polarizng plate, and liquid crystal display device
WO2005081642A2 (en) * 2004-02-26 2005-09-09 Fuji Photo Film Co., Ltd. Optical film, optical compensation sheet, polarizng plate, and liquid crystal display device
US7695780B2 (en) 2004-02-26 2010-04-13 Fujifilm Corporation Optical film, optical compensation sheet, polarizing plate, and liquid crystal display device
JP2012022339A (ja) * 2004-09-10 2012-02-02 Dainippon Printing Co Ltd 位相差フィルムおよびその製造方法、光学機能フィルム、偏光フィルム、並びに、表示装置
JP2012083761A (ja) * 2004-09-10 2012-04-26 Dainippon Printing Co Ltd 位相差フィルムおよびその製造方法、光学機能フィルム、偏光フィルム、並びに、表示装置
KR101271988B1 (ko) * 2004-09-10 2013-06-05 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 위상차 필름 및 그의 제조 방법, 광학 기능 필름, 편광 필름, 및 표시 장치
KR101144410B1 (ko) * 2004-09-10 2012-05-11 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 위상차 필름 및 그의 제조 방법, 광학 기능 필름, 편광필름, 및 표시 장치
WO2006028217A1 (ja) * 2004-09-10 2006-03-16 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 位相差フィルムおよびその製造方法、光学機能フィルム、偏光フィルム、並びに、表示装置
EP2237085A3 (en) * 2004-09-10 2011-04-20 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Retardation film and method for producing the same, optical functional film, polarizing film, and display device
JP2008282027A (ja) * 2004-09-10 2008-11-20 Dainippon Printing Co Ltd 位相差フィルムおよびその製造方法、光学機能フィルム、偏光フィルム、並びに、表示装置
WO2006030954A1 (en) * 2004-09-14 2006-03-23 Fujifilm Corporation Cellulose acylate film, polarizing plate and liquid crystal display
JP4546196B2 (ja) * 2004-09-22 2010-09-15 富士フイルム株式会社 位相差板
JP2006091246A (ja) * 2004-09-22 2006-04-06 Fuji Photo Film Co Ltd 位相差板
WO2006054603A1 (ja) * 2004-11-16 2006-05-26 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 位相差フィルム及びその製造方法、光学機能フィルム、偏光フィルム、並びに表示装置
JP2008282028A (ja) * 2004-11-16 2008-11-20 Dainippon Printing Co Ltd 位相差フィルム及びその製造方法、光学機能フィルム、偏光フィルム、並びに表示装置
EP2211209A1 (en) * 2004-11-16 2010-07-28 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical biaxial retardation film
US8124198B2 (en) 2004-11-16 2012-02-28 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Retardation film and method for producing the same, optical functional film, polarizing film, and display device
KR101302334B1 (ko) 2004-11-16 2013-08-30 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 위상차 필름 및 그 제조 방법, 광학 기능 필름, 편광 필름,및 표시 장치
JP4628140B2 (ja) * 2005-03-03 2011-02-09 富士フイルム株式会社 セルロースアシレートフィルム、偏光板および液晶表示装置
US7951430B2 (en) 2005-03-03 2011-05-31 Fujifilm Corporation Cellulose acylate film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2006241293A (ja) * 2005-03-03 2006-09-14 Fuji Photo Film Co Ltd セルロースアシレートフィルム、偏光板および液晶表示装置
WO2006093346A1 (en) * 2005-03-03 2006-09-08 Fujifilm Corporation Cellulose acylate film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2009119808A (ja) * 2007-11-19 2009-06-04 Fujifilm Corp セルロースアシレートフィルムとその製造方法、位相差フィルム、偏光板および液晶表示装置
JP5648680B2 (ja) * 2010-03-18 2015-01-07 コニカミノルタ株式会社 セルロースエステルフィルム、その製造方法、それを備えられた偏光板及び液晶表示装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI243264B (en) Optical compensating sheet and process for producing it, polarizing plate and liquid crystal display device
TWI296340B (en) Process for producing cellulose acylate film, cellulose acylate film, optical compensation sheet, polarizing plate, and image display device
TWI457377B (zh) 醯化纖維素薄膜、光學薄膜、偏光板及液晶顯示裝置
WO2011016279A1 (ja) セルロースアセテートフィルム、偏光板及び液晶表示装置
JP4074762B2 (ja) 光学補償フィルムおよびその製造方法、円偏光板、画像表示装置
WO2002033454A1 (fr) Pellicule d'acetate de cellulose ayant un retard optique et une epaisseur regules
TW201000539A (en) Cellulose ester film, retardation film, polarizing plate and liquid crystal display device
JP2002014230A (ja) 光学補償シート、偏光板および液晶表示装置
JP2002267840A (ja) 光学補償シート、偏光板、楕円偏光板および液晶表示装置
JP2002090536A (ja) 偏光板および液晶表示装置
JP2003043250A (ja) 光学補償シート、偏光板、および液晶表示装置
JP4460792B2 (ja) Vaモードの液晶表示装置用光学補償シートおよびvaモードの液晶表示装置
JP2002082226A (ja) 光学補償シート、偏光板および液晶表示装置
JP2008248208A (ja) セルロース体フィルム、位相差フィルム、光学補償フィルム、偏光板および画像表示装置
JP2007277523A (ja) 環状ポリオレフィンフィルム及びその製造方法、並びにそれを用いた偏光板、液晶表示装置
JP4596940B2 (ja) セルロースアシレートフィルムの製造方法
JP2003114330A (ja) 光学補償シート
JP4282247B2 (ja) 光学補償シートの製造方法
JP2002071949A (ja) 光学補償シート、偏光板およびそれを用いた液晶表示装置
JP5993290B2 (ja) セルロースアシレートフィルム、積層フィルム、偏光板、液晶表示装置およびセルロースアシレートフィルムの製造方法
JP2002127244A (ja) 熱可塑性フイルム、位相差板、円偏光板および液晶表示装置
JP4547115B2 (ja) 光学補償フィルムの製造方法
JP2002071955A (ja) 光学補償シート、偏光板および液晶表示装置
JP2002202411A (ja) 位相差板、偏光板およびそれを用いた反射型液晶表示素子
JP2008248030A (ja) セルロース体組成物、セルロース体フィルム、位相差フィルム、光学補償シート、偏光板および画像表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20081007