JP2003031642A - 基板搬送装置、それを用いたペースト塗布装置、及びペースト塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 製造工程ラインで搬送される基板の位置ずれ
傾向から、ペースト塗布作業前に行われる基板の位置決
め制御の効率化を図る。 【解決手段】 先に受け渡された基板２の位置ずれ（角
度α）に対応して、基板２を吸着保持するステージ４１
の向きをその位置ずれ方向に変えて、次の基板２を搬送
ロボット３から受け取る。その受け取り後に、制御器４
６はＸ−Ｙ−θ移動機構４３を制御して、ステージ４１
をＹ軸方向に位置合わせを行う。その結果、位置ずれ傾
向を有する基板２に対し、位置決め用のマーク２１，２
２は、固定して設けられたＣＣＤカメラ４２１ａ，４２
２ａの視野領域４２１ａ，４２２ａ内に収まる確率が向
上し、ペースト塗布前における位置決め作業の効率化が
図れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、搬送ロボット等を
介して基板をステージ上に受け渡す基板搬送装置、それ
を用いたペースト塗布装置、及びペースト塗布方法の改
良に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示パネル等の製造では、液晶を挟
む２枚のガラス基板の貼り合わせが行われるが、その貼
り合わせのために一方のガラス基板の対向面に、接着剤
であるペーストが塗布される。

【０００３】図９は、搬送ロボットにより搬送されてく
るガラス製の基板を受け取り、基板面にペーストを塗布
描画する従来のペースト塗布装置の構成配置図で、図１
０（ａ）は図９に示したペースト塗布装置の要部正面
図、図１０（ｂ）は図１０（ａ）のＡ−Ａ矢視要部平面
図である。

【０００４】すなわち、図９に示すように、供給台１上
に順次搬送供給されてくる基板２は、搬送ロボット３に
吸着保持され、製造効率向上のために対向配置された２
台のペースト塗布装置４，４に交互に搬送供給される。
搬送ロボット３は、図示Ｘ−Ｙ軸面で伸縮自在なアーム
３ａを有し、角度θ方向に旋回可能に構成されている。

【０００５】ペースト塗布装置４，４は、ステージ４１
とヘッド機構４２とを備え、ステージ４１は、吸着盤と
上下（紙面に鉛直なＺ軸方向）動可能な複数個のピンと
を有して、上昇したピンが搬送ロボット３から基板２を
受け取って降下し、その降下した基板２を吸着盤が吸着
保持するように構成されている。

【０００６】また、ステージ４１は、Ｘ−Ｙ−θ移動機
構４３上に搭載されており、そのＸ−Ｙ−θ移動機構４
３はヘッド機構４２とともにテーブル（架台）４４上に
設置されている。従って、ステージ４１上の基板２は、
Ｘ−Ｙ−θ移動機構４３の駆動により、直交するＸ−Ｙ
軸方向及びそのＸ−Ｙ面に直交するＺ軸を中心としたθ
（旋回）方向にその位置や向きを変えることができる。

【０００７】ヘッド機構４２には、接着剤であるペース
トを収納した一組のシリンジ４２１，４２２が図示Ｘ軸
方向に移動して任意の位置決め可能に組み込まれてい
て、そのシリンジ４２１，４２２の下方先端部のノズル
から吐出したペーストが、基板２面上にペーストパター
ンを形成する。

【０００８】ヘッド機構４２は、テーブル４４上に予め
定められたペースト塗布作業位置に固定されていて、Ｘ
−Ｙ−θ移動機構４３のＹ軸移動軸４３ａに搭載された
ステージ４１が、図９に示した搬送ロボット３側に近い
基板の受け渡し位置と、基板の受け渡し位置を離れて、
ペースト塗布作業位置との間をＹ１方向に往復するよう
に構成される。

【０００９】一方、ヘッド機構４２の２個の各シリンジ
４２１，４２２には、図１０（ａ）にも示すように、そ
れぞれＣＣＤカメラ４２１ａ，４２２ａが一体に取り付
けられている。

【００１０】ＣＣＤカメラ４２１ａ，４２２ａは、図１
０（ｂ）に示したように、基板２面の左右２か所に形成
された十字状の位置決め（アライメント）用のマーク２
１，２２を撮影して、その映像パターンを図１に示す制
御器４６に供給する。

【００１１】マーク２１，２２の映像パターンの供給を
受けた制御器４６は、画像認識により基板２の予め設定
された位置との間の位置ずれを検出し、そのずれが零と
なるようＸ−Ｙ−θ移動機構４３を制御する。

【００１２】なお、搬送されてきて、ステージ４１に吸
着保持された基板２が、予め設定された位置との間で何
等位置ずれがない状態では、図１０（ｂ）に矢印で示す
ように、基板２の向きＹｋは、ステージ４１の向きＹｓ
及びＸ−Ｙ−θ移動機構４３のＹ軸移動方向Ｙに一致す
る。

【００１３】ペーストパターンは、Ｘ軸方向に固定され
た各シリンジ４２１，４２２と基板２との間のプログラ
ム制御による相対位置変化により形成されるから、ステ
ージ４１上の基板２は予め設定された基準位置にあっ
て、その向きＹｋがＹ軸移動方向Ｙに一致することが条
件となる。

【００１４】従って、ステージ４１上において基板２の
位置や向きＹｋがずれていたとき、制御器４６は、ペー
スト塗布制御に先立ち、Ｘ−Ｙ−θ移動機構４３を制御
し、基板２位置が予め設定された位置に一致するよう位
置決め補正を行う。

【００１５】なお、図９に示すように、制御器４６に
は、モニタディスプレイ４７及びキ−ボ−ド４８が接続
されていて、作業員は、モニタディスプレイ４７の表示
を見ながら、キーボート４８の操作により、基板２の上
記位置決め作業、及び基板２へのペースト塗布作業を調
整制御することができる。

【００１６】位置決め作業を経た基板２には、プログラ
ム制御によるペースト塗布が行われるが、ペーストパタ
ーンが形成された後の基板２は、前進移動して搬送ロボ
ット３に引き渡される。その際、制御器４６は、Ｘ−Ｙ
−θ移動機構４３を制御し、ステージ４１の向きＹｓを
Ｙ軸方向Ｙに一致させ、先に、搬送ロボット３から受け
渡されたときの基板位置の状態に戻した後に基板２の引
き渡しを行う。

【００１７】従って、図９に示したように、もしも供給
台１において角度αの位置ずれ状態にあった基板２が、
搬送ロボット３を介してステージ４１に受け渡され、ペ
ースト塗布された後も、同じくその角度αの位置ずれ状
態が維持されて搬送ロボット３を介して搬出台５に供給
される。

【００１８】搬送ロボット３による基板２の搬出台５へ
の受け渡し操作において、もしも新たな位置ずれを引き
起こしてしまい、それが図９に示したように、ずれ量
（角度α）がさらに拡大する方向にずれてしまうと、基
板２は、図示のようにずれ量が角度β（β＞α）となっ
て順次、後方の導電ペースト塗布工程、検査工程、及び
貼り合わせ工程等へと搬送移動される。

【００１９】なお、Ｘ−Ｙ−θ移動機構４３全体が、制
御器４６の制御を受け、矢印Ｙ１方向へ往復移動するこ
とで、ステージ４１を、基板の受け渡し位置とペースト
塗布作業位置との間をＹ１方向に往復するように構成す
ることもある。

【００２０】図１１（ａ）及び図１１（ｂ）は、制御器
４６がＸ−Ｙ−θ移動機構４３を駆動制御し、基板２の
位置ずれ補正を行う状況を説明するものである。

【００２１】図１１（ａ）は、基板２が搬送ロボット３
からステージ４１に受け渡されたときの位置ずれ状態
が、一方のマーク２１の中心は、ＣＣＤカメラ４２１ａ
の視野領域４２１ｂの中心に一致していても、角度Δθ
のずれで、他方のマーク２２の中心がＣＣＤカメラ４２
２ｂの視野中心からずれていることを示している。

【００２２】この場合、制御器４６は、各ＣＣＤカメラ
４２１ａ，４２２ａの撮像画像に基づいて公知のパター
ン認識手法を用いてそれぞれのマーク２１，２２の位置
ずれを求め、両マーク２１，２２の位置ずれから基板の
Ｘ，Ｙ，θ方向の位置ずれを演算により求め、この位置
ずれが零となるようにＸ−Ｙ−θ移動機構４３を制御す
る。

【００２３】一方、図１１（ｂ）は、基板２が搬送ロボ
ット３からステージ４１に受け渡されたときの位置ずれ
状態が、一方のマーク２１の中心はＣＣＤカメラ４２１
ａの視野領域４２１ｂの中心に一致していても、角度Δ
θ２のずれで、他方のマーク２２の中心がＣＣＤカメラ
４２２ａの視野領域４２２ｂから大きくはみ出している
ことを示している。

【００２４】この場合、制御装置４６は、公知のパター
ン認識手法によりマーク２２を検出することができず、
エラー信号を出力し、作業員に対して異常を報知すると
ともに、装置の動作を停止させる。

【００２５】このような場合、作業員は、手動操作によ
りステージ４１上から基板２を取り除いた後、装置を再
起動させ、ステージ４１上に新たな基板２を供給するよ
うにしている。

【００２６】特に最近では、高精細な表示画面を得るた
めにペースト塗布作業でも高精度な位置決め作業が要求
されるようになってきており、撮像倍率の高いＣＣＤカ
メラ４２１ａ，４２２ａでは、マーク２１，２２が視野
領域４２１ｂ，４２２ｂからとかくはずれやすい傾向に
ある。

【００２７】

【発明が解決しようとする課題】上記のように、液晶表
示パネルの高精細化のもとでは、ペースト塗布装置に限
らず他の製造工程においても、基板に対し高度な位置決
めが要求される。また同時に、製造効率の向上が求めら
れるので、各工程間における基板の受け渡し速度の高速
化も要求される。

【００２８】製造ラインにおける基板２の受け渡し速度
のスピートアップは、供給台１や搬出台５において、基
板２の位置ずれ量を拡大させる要因の一つとなる。

【００２９】供給台１上の基板２は、供給台１の面と面
接触を行って停止するが、ガラス製の基板面は、微細に
観察すると厳密には平坦ではなく、僅かな凹凸や部分的
傾斜面を有する。またその凹凸や傾斜は一連の製造ロッ
ト（ｌｏｔ）の基板２において同じ傾向を示すことが多
い。

【００３０】従って、順次搬送供給される一連の基板２
はそのずれ量の大きさに差異は有していても、同じ方向
にずれることが多い。

【００３１】このような状況のもとで、基板２のマーク
２１，２２は、ＣＣＤカメラ４２１ａ，４２２ａの視野
領域４２１ｂ，４２２ｂから連続してはみ出すことが多
くなり、それが作業員の負担を大きくし、また製造効率
を低下させたので改善が要望されていた。

【００３２】もっとも、供給台１や搬出台５において、
基板２の位置ずれを補正したり、あるいはそのずれ量を
小さく押さえるために、高精度なゲージング機構を組み
込み、基板２授受の都度、位置補正を行うことも考えら
れるが、構成が複雑になるという新たな問題が発生す
る。

【００３３】そこで本発明は、同じ製造ロットの基板が
搬送されてきたとき、供給台上において同じ位置ずれ傾
向を示すことに鑑みてなされたもので、位置ずれ補正が
適正かつ容易に行われ、作業員の負担を軽減し得る基板
搬送装置、それを用いたペースト塗布装置、及びペース
ト塗布方法を提供することを目的とする。

【００３４】

【課題を解決するための手段】第１の発明は、搬送ロボ
ットから受け渡された基板の向きを予め設定された向き
に一致するように補正を行い、前記基板を加工位置に位
置付け、加工後の前記基板を前記搬送ロボットに引き渡
すステージを有する基板搬送装置において、前記ステー
ジの移動調整により補正された基板の向きの補正量を記
憶する記憶手段と、この記憶手段に記憶された前記補正
量を相殺するように前記ステージ位置を予め調整する調
整手段とを具備し、前記調整手段により予め位置調整さ
れた前記ステージが、前記基板に続いて搬送されてくる
他の基板を前記搬送ロボットから受け取り保持すること
を特徴とする。

【００３５】このように第１の発明は、基板搬送装置に
おいて、調整手段により予め位置調整されたステージ
が、次に搬送されてくる他の基板を搬送ロボットから受
け取り保持するので、最初のノズル位置の補正位置が、
次に搬送されてくる他の基板のずれ方向に対応し、他の
基板の位置決め用のマーク位置を撮像カメラの視野領域
内に確率高く収めることができ、基板の加工作業に先立
つ位置決め操作を円滑に行うことができる。

【００３６】第２の発明は、搬送ロボットから順次ステ
ージに受け渡された基板の向きを、前記ステージの位置
調整により予め設定された向きに一致するように補正を
行い、その補正後の基板面にペーストを塗布して前記搬
送ロボットに基板を引き渡すように構成された基板搬送
装置を用いたペースト塗布装置において、前記ステージ
の移動調整により補正された基板の向きの補正量を記憶
する記憶手段と、この記憶手段に記憶された前記補正量
を相殺するように前記ステージ位置を予め調整する調整
手段とを具備し、前記調整手段により予め位置調整され
た前記ステージが、前記基板に続いて搬送されてくる他
の基板を前記搬送ロボットから受け取り保持することを
特徴とする。

【００３７】第３の発明は、ペースト塗布方法におい
て、ステージが搬送ロボットから供給された基板を受け
取り保持する工程と、この工程の後に、前記ステージの
位置調整により、ステージに保持された前記基板の向き
が予め設定された向きに一致するように補正する補正工
程と、この補正工程における前記基板の補正量を予めメ
モリに記憶する記憶工程と、前記補正工程により向きが
補正された前記基板面にペーストを塗布する塗布工程
と、この塗布工程によりペーストが塗布された前記基板
を、前記搬送ロボットに引き渡す工程と、この工程の後
に、前記記憶工程において記憶された前記補正量を相殺
する方向に前記ステージの位置を調整する調整工程と、
この調整工程により位置を調整された前記ステージが、
前記搬送ロボットから前記基板に続いて搬送されてくる
他の基板を受け取り保持する工程とからなることを特徴
とする。

【００３８】このように、上記第２及び第３の発明によ
れば、ペースト塗布作業に先立ち、ステージに保持され
た基板の位置補正量を予めメモリに記憶し、同じ位置ず
れ傾向を示す次の基板の受け取りに際し、ステージの位
置をその位置ずれ量を相殺する方向に基準位置から予め
偏移させるので、制御器による制御により、位置決め用
のマークを撮像カメラの視野領域内に高い確率で容易に
捕らえることができる。

【００３９】また、第４の発明は、搬送ロボットから順
次ステージに受け渡された基板に対し、ペーストを塗布
して前記搬送ロボットに基板を引き渡すように構成され
た基板搬送装置を用いたペースト塗布装置において、複
数のノズルと、複数のノズルのうち少なくとも基準とな
るノズルを除く他のノズルを基板面に平行な面で移動さ
せる移動手段と、前記基板の向きに応じて前記移動手段
を制御し、複数のノズルの配置方向を前記基板の向きに
倣わせる制御装置とを有することを特徴とする。

【００４０】このように、第４の発明は、基板搬送装置
を用いたペースト塗布装置において、複数のノズルのう
ち少なくとも基準となるノズルを除く他のノズルを基板
面に平行な面で移動させることができるように構成され
ている。

【００４１】従って、搬送されてくる基板のずれに対し
て行った最初のノズル位置の補正位置は、そのまま次に
搬送されてくる基板のずれ方向に対応するので、基板の
位置決め用のマーク位置は撮像カメラの視野領域内に確
率高く収まり、ペースト塗布作業に先立つ位置決め操作
を円滑に行うことができる。

【００４２】

【発明の実施の形態】以下、本発明による基板搬送装
置、それを用いたペースト塗布装置、及びペースト塗布
方法の一実施の形態を図１ないし図８を参照して詳細に
説明する。なお、図９ないし図１１に示した従来のペー
スト塗布装置と同一構成には同一符号を付して詳細な説
明は省略する。

【００４３】図１は本発明による基板搬送装置、及びそ
れを用いたペースト塗布装置の一実施の形態を示した平
面図、図２は図１のペースト塗布装置の要部斜視図であ
る。

【００４４】図１に示したペースト塗布装置は、図９に
示した従来のペースト塗布装置と同様に、搬送されてき
た基板２が供給台１において角度αの傾きずれを生じ、
搬送ロボット３は、その角度αの傾きずれを有する基板
２をステージ４１上に受け渡し、保持された状態を示し
ている。なお、本明細書では、基板２ステージ４１に受
け渡す手段を搬送ロボットと総称することとする。

【００４５】また、ステージ４１は、図１及び図２に示
したように、Ｘ−Ｙ−θ移動機構４３のＹ軸移動軸４３
ａに搭載され、そのＸ−Ｙ−θ移動機構４３は移動自在
なテーブル（架台）４４に装着されている。

【００４６】テーブル４４上に立設されたヘッド機構４
２は、不図示のボールねじ機構が組み込まれていて、ペ
ーストを収納した一組のシリンジ４２１，４２２が支持
枠４２３の長手方向、すなわちＸ軸方向に移動して任意
に位置決め可能に構成されている。

【００４７】そこで、この実施の形態においても、図３
に示したように、基板２の向きＹｋと、ステージ４１の
向きＹｓとの間に角度αのずれを生じていて、図１１
（ａ）に示したのと同様に、基板２のマーク２２がＣＣ
Ｄカメラ４２２ａの視野領域４２２ｂの視野中心から外
れていたとすると、従来と同様に、制御器４６によるパ
ターン認識に基づく位置決め制御が行われる。その結
果、図４に示すように、ステージ４１の向きＹｓとＹ軸
方向Ｙとの間に角度αを有して、位置決めされた基板２
の向きＹｋはＹ軸方向Ｙと一致する。

【００４８】このように、はじめに搬送されてきた基板
２のマーク２２が視野領域４２２ｂの視野中心から外れ
ていたときは、位置ずれ補正が行われるが、このとき制
御器４６は、この位置ずれ補正において操作されたＸ−
Ｙ−θ移動機構４３の動作データ、すなわち直交するＸ
−Ｙ座標位置での補正量データ（Δｘ，Δｙ，Δθ）を
ステージ４１の補正基準データとして、内蔵したメモリ
（ＲＡＭ）に記憶する。 この基板２の位置決め操作が
終了し、補正基準データがメモリに記憶された後は、従
来と同様に、制御器４６によるプログラム制御によりペ
ースト塗布作業が実行される。

【００４９】ペースト塗布終了したとき、制御器４６
は、Ｘ−Ｙ−θ移動機構４３を制御して、ステージ４１
を既定量だけ搬送ロボット３側に向けて移動させ、ステ
ージ上の基板２を受け渡し位置に位置付ける。

【００５０】このとき、受け渡し位置に位置付けられた
ステージ４１の向きＹｓとＹ軸方向Ｙとは角度α分ずれ
た状態となるが、ステージ４１上の基板２は、図４及び
図５に示すように、角度αが補正され、基板２の向きＹ
ｋがＹ軸方向Ｙと一致して位置ずれのない状態となっ
て、搬送ロボット３に引き渡される。

【００５１】従って、図５に示すように、搬出台５の上
で仮に新たな位置ずれ（角度γ）が発生したとしても、
そのずれ量は小さく押さえることができる。

【００５２】続いてペースト塗布装置４，４は、図６に
示すように、角度αの位置ずれ状態で、供給台１上に供
給載置された次の基板２を受け取りペースト塗布を行う
ものとする。

【００５３】そのとき、この実施の形態では、制御器４
６は、先にメモリに記憶した補正基準データ（Δｘ，Δ
ｙ，Δθ）を読み出し、基準位置（受け渡し位置におけ
るステージ４１の正規の位置で、ステージ４１の向きＹ
ｓとＹ軸方向Ｙも一致）を中心にして、その読み出した
補正基準データを相殺する位置データを生成してＸ−Ｙ
−θ移動機構４３を制御する。

【００５４】すなわち、図６に示した供給台１に供給さ
れる基板２のずれが、一連の製造ロットにおいては、ず
れ量にばらつきがあっても同じ方向にずれる傾向があ
る。この場合、図６に示すように、読み出された補正基
準データの相殺する位置データによるＸ−Ｙ−θ移動機
構４３の制御により、ステージ４１は、図６に示した供
給台１上の基板２の位置ずれ（角度α）と同じ方向に傾
斜した状態となり、破線で示す位置に基板２を吸着保持
する。

【００５５】すなわち、図６に示した状態の基板２は、
図７（ａ）に拡大して示したように、その基板２の向き
Ｙｋはステージ４１の向きＹｓとほぼ一致する。従っ
て、制御器４６はＸ−Ｙ−θ移動機構４３を制御し、ス
テージ４１の向きＹｓを単にＹ軸方向Ｙに一致させるこ
とで、図７（ｂ）に示すように、基板２のマーク２１，
２２が、ＣＣＤカメラ４２１ａ，４２２ａの各視野領域
４２１ｂ，４２２ｂの中に収まり、しかも視野中心付近
に位置付けることができる。

【００５６】従って、従来のように、たとえ同じように
角度α前後のずれを生じて搬送ロボット３からステージ
４１上に次の基板２が引き渡されたとき、この実施の形
態によれば、基板２のマーク２１，２２がＣＣＤカメラ
４２１ａ，４２２ａの各視野領域４２１ｂ，４２２ｂの
中に収まるので、基板２のマーク２１，２２を認識でき
ずに装置が停止するのを防止できる。

【００５７】なお説明上、上記のように、基板２が搬送
ロボット３からステージ４１上に供給され保持されたと
き、基板２のマーク２１，２２のうちの一方（マーク２
１）の中心がＣＣＤカメラ４２１ａの視野領域４２１ｂ
の中心位置に一致しているものとしたが、双方のマーク
（２１，２２）が同時に位置ずれしていたとしても、同
様に作用して目的を達成させることができる。

【００５８】このように、制御器４６のＸ−Ｙ−θ移動
機構４３制御により、次の基板２の位置ずれ傾向に対処
したステージ４１の位置調整により、位置決め用のマー
ク２１，２２を円滑にＣＣＤカメラ４２１ａ，４２２ａ
の視野領域４２１ｂ，４２２ｂ内に捕らえ得るので、基
板２への一連のペースト塗布作業の効率向上を実現する
ことができる。

【００５９】なお、上記説明のように、基板２の位置決
め操作は、要するにステージ４１上における基板２のＸ
−Ｙ座標軸と、シリンジ４２１，４２２のＸ−Ｙ座標軸
との軸合わせを行うことにほかならないから、ステージ
４１側の位置調整を行うことなく、シリンジ４２１，４
２２側の位置調整を行うようにしても同様な効果を得る
ことができる。

【００６０】図８は、本発明による基板搬送装置を用い
たペースト塗布装置の他の実施の形態に適用したヘッド
機構４２の平面図で、基板２の向きＹｋのずれに対応し
てシリンジ４２１，４２２とＣＣＤカメラ４２１ａ，４
２２ａとを一体で位置調整できるように構成したもので
ある。

【００６１】すなわち、サーボモータ及びボールねじ機
構により、Ｘ軸方向に移動調整可能に取り付けられシリ
ンジ４２１，４２２及びＣＣＤカメラ４２１ａ，４２２
ａのうち、一方のシリンジ４２２とＣＣＤカメラ４２２
ａは、図８に示すように、さらにＹ軸方向のボールねじ
４２２ｃに組み込まれ、サーボモータ４２２ｄの駆動に
よりＹ軸方向にも一体で移動調整できるように構成され
ている。

【００６２】この構成により、二つのシリンジ４２１，
４２２における各ノズルの相対位置をＸ−Ｙ−θ方向の
２次元面において移動調整できるので、基板２を保持し
た他方のテーブル４１側を固定した状態で、ノズル位置
調整を行い、基板２のずれ傾向に対応した位置決め制御
を行うことができる。

【００６３】以上説明の他の実施の形態においても、ペ
ーストを塗布するノズル位置と撮像カメラ位置を、基板
２のずれ傾向に対応してＸ−Ｙ軸方向に移動するので、
次に搬送されてくる基板２の位置決め用のマークを撮像
カメラの視野領域内に捕らえ得る確率を高めることがで
き、ペースト塗布作業に先立つ位置決め操作を円滑に行
うことができる。

【００６４】いずれにしても、本発明による基板搬送装
置、それを用いたペースト塗布装置、及びペースト塗布
方法によれば、ペースト塗布作業に際し、順次搬送供給
される基板の位置ずれに対して、記憶された補正基準デ
ータに基づくステージ４１の位置決めが行われるので、
後続する基板の同様な位置ずれに対応してその位置決め
用のマーク位置を撮像カメラの視野領域内に確率高く捕
らえることができ、ペースト塗布作業の効率向上を実現
することができる。

【００６５】なお、上記実施の形態において、今回の基
板２の位置ずれ（Δｘ，Δｙ，Δθ）を次の基板２を受
け取る際のステージ４１に対する補正基準データとして
記憶するようにした例で説明したが、例えば今回の製造
ロットの供給開始から所定枚数の基板２の位置ずれデー
タを連続して蓄積し、これらの位置ずれデータの平均値
を取るなどして統計的に処理した結果を補正基準データ
として記憶し、同一製造ロットの基板２を供給する間
は、その記憶した補正基準データ全ての基板２に共通し
て使用するようにしても良い。

【００６６】また、メモリ（ＲＡＭ）に記憶された補正
基準データに基づいてＸ−Ｙ−θ移動機構４３を制御し
て、ステージ４１の位置調整をする例で示したが、ステ
ージ４１は従来技術と同様に、搬送ロボット３からの所
定の基板受け取り位置（基準位置）に移動させ、ステー
ジ４１上に基板２を受け渡す搬送ロボット３のアーム３
ａの受け渡し位置を補正基準データに基づいて位置調整
するようにしても良い。

【００６７】具体的には、例えば、補正基準データを
（Δｘ，Δｙ，Δθ）とした場合、アーム３ａを所定の
受け渡し位置に対して（Δｘ，Δｙ，Δθ）を相殺する
位置に位置付けるように搬送ロボット３を制御する。こ
のような構成は、ステージ４１を移動させる移動機構が
θ方向の移動機構を持たない場合に特に有効である。

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
同じ傾向の位置ずれを引き起こして搬送されてくる基板
に対し効率良く作業を行うことができ、たとえば液晶表
示パネルの製造に適用して実用上大きな効果を得ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による基板搬送装置及びそれを用いたペ
ースト塗布装置の一実施の形態を説明する平面図であ
る。

【図２】図１に示したペースト塗布装置の要部斜視図で
ある。

【図３】図２に示した装置のステージに載置された基板
の要部拡大平面図である。

【図４】図３に示した基板が位置補正された状態を示す
要部拡大平面図である。

【図５】図３に示した基板が、図１に示したペースト塗
布装置によりペースト塗布された後、搬送ロボットに引
き渡される状態を示した平面図である。

【図６】図５に示したペースト塗布装置が次の基板を受
け取るときの状態を示した平面図である。

【図７】図７（ａ）は、図６に示したペースト塗布装置
に受け渡された基板の要部拡大平面図、図７（ｂ）は、
図７（ａ）に示した基板が位置補正された状態を示す基
板の要部拡大平面図である。

【図８】本発明によるペースト塗布装置の他の実施の形
態に適用されるヘッド機構の平面図である。

【図９】従来のペースト塗布装置の一実施の形態を説明
する平面図である。

【図１０】図１０（ａ）は図９に示すペースト塗布装置
の要部正面図、図１０（ｂ）は図１０（ａ）のＡ−Ａ矢
視平面図である。

【図１１】図１１（ａ）は、図９に示したペースト塗布
装置に受け渡された基板の要部拡大平面図、図１１
（ｂ）は、図１１（ａ）に示した基板が位置補正された
状態を示す基板の要部拡大平面図である。

【符号の説明】

１ 供給台 ２ 基板 ２１，２２ （位置決め用の）マーク ３ 搬送ロボット ４ ペースト塗布装置（基板搬送装置） ４１ ステージ ４２ ヘッド機構 ４２１，４２２ シリンジ ４２１ａ，４２２ａ ＣＣＤカメラ ４２１ｂ，４２２ｂ 視野領域 ４２２ｃ サーボモータ ４２２ｄ ボールねじ ４３ Ｘ−Ｙ−θ移動機構 ４３ａ Ｙ軸移動軸 ４４ テーブル ４５ レール ４６ 制御器 ５ 搬出台

【手続補正書】

【提出日】平成１３年９月１０日（２００１．９．１
０）

【手続補正１】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図３

【補正方法】変更

【補正内容】

【図３】

【手続補正２】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図５

【補正方法】変更

【補正内容】

【図５】

フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H088 FA03 FA16 FA17 FA25 FA30 HA01 MA20 2H089 NA38 NA42 NA60 QA12 TA01 TA06 5F031 CA05 FA02 FA07 FA12 GA08 GA24 GA43 GA47 HA13 HA33 HA53 HA60 JA04 JA13 JA14 JA17 JA27 JA38 JA51 KA05 KA11 KA12 KA15 LA12 MA03 MA21

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 搬送ロボットから受け渡された基板の向
   きを予め設定された向きに一致するように補正を行い、
   前記基板を加工位置に位置付け、加工後の前記基板を前
   記搬送ロボットに引き渡すステージを有する基板搬送装
   置において、 前記ステージの移動調整により補正された基板の向きの
   補正量を記憶する記憶手段と、 この記憶手段に記憶された前記補正量を相殺するように
   前記ステージ位置を予め調整する調整手段とを具備し、
   前記調整手段により予め位置調整された前記ステージ
   が、前記基板に続いて搬送されてくる他の基板を前記搬
   送ロボットから受け取り保持することを特徴とする基板
   搬送装置。
2. 【請求項２】 搬送ロボットから順次ステージに受け渡
   された基板の向きを、前記ステージの位置調整により予
   め設定された向きに一致するように補正を行い、その補
   正後の基板面にペーストを塗布して前記搬送ロボットに
   基板を引き渡すように構成された基板搬送装置を用いた
   ペースト塗布装置において、 前記ステージの移動調整により補正された基板の向きの
   補正量を記憶する記憶手段と、 この記憶手段に記憶された前記補正量を相殺するように
   前記ステージ位置を予め調整する調整手段とを具備し、
   前記調整手段により予め位置調整された前記ステージ
   が、前記基板に続いて搬送されてくる他の基板を前記搬
   送ロボットから受け取り保持することを特徴とする基板
   搬送装置を用いたペースト塗布装置。
3. 【請求項３】 ステージが搬送ロボットから供給された
   基板を受け取り保持する工程と、 この工程の後に、前記ステージの位置調整により、ステ
   ージに保持された前記基板の向きが予め設定された向き
   に一致するように補正する補正工程と、 この補正工程における前記基板の補正量を予めメモリに
   記憶する記憶工程と、 前記補正工程により向きが補正された前記基板面にペー
   ストを塗布する塗布工程と、 この塗布工程によりペーストが塗布された前記基板を、
   前記搬送ロボットに引き渡す工程と、 この工程の後に、前記記憶工程において記憶された前記
   補正量を相殺する方向に前記ステージの位置を調整する
   調整工程と、 この調整工程により位置を調整された前記ステージが、
   前記搬送ロボットから前記基板に続いて搬送されてくる
   他の基板を受け取り保持する工程とからなることを特徴
   とするペースト塗布方法。
4. 【請求項４】 搬送ロボットから順次ステージに受け渡
   された基板に対し、ペーストを塗布して前記搬送ロボッ
   トに基板を引き渡すように構成された基板搬送装置を用
   いたペースト塗布装置において、 複数のノズルと、複数のノズルのうち少なくとも基準と
   なるノズルを除く他のノズルを基板面に平行な面で移動
   させる移動手段と、前記基板の向きに応じて前記移動手
   段を制御し、複数のノズルの配置方向を前記基板の向き
   に倣わせる制御装置とを有することを特徴とする基板搬
   送装置を用いたペースト塗布装置。