JP2003031453A - 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム - Google Patents
基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムInfo
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- JP2003031453A JP2003031453A JP2001214730A JP2001214730A JP2003031453A JP 2003031453 A JP2003031453 A JP 2003031453A JP 2001214730 A JP2001214730 A JP 2001214730A JP 2001214730 A JP2001214730 A JP 2001214730A JP 2003031453 A JP2003031453 A JP 2003031453A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Abstract
(57)【要約】
【課題】 搬送機構同士が実際に干渉する空間を考慮し
つつ処理の開始前に予めスケジューリングすることによ
って過剰処理を防止することができるとともに、他ロッ
トの流れを妨げることを防止できる。 【解決手段】 実際に処理を開始する前にスケジュール
を予め作成するとともに、第３搬送機構１５のリソース
として第１移載領域ＩＬ１を定義し、第２ロットが第３
搬送機構１５を使用する場合には、そのリソースと第１
移載領域ＩＬ１のリソースとを使用し、第１ロットが第
１副搬送機構２５を使用する場合には、第１副搬送機構
２５のリソースの使用タイミングを、第１移載領域ＩＬ
１のリソースの使用を終了するタイミングにまで早め
る。
つつ処理の開始前に予めスケジューリングすることによ
って過剰処理を防止することができるとともに、他ロッ
トの流れを妨げることを防止できる。 【解決手段】 実際に処理を開始する前にスケジュール
を予め作成するとともに、第３搬送機構１５のリソース
として第１移載領域ＩＬ１を定義し、第２ロットが第３
搬送機構１５を使用する場合には、そのリソースと第１
移載領域ＩＬ１のリソースとを使用し、第１ロットが第
１副搬送機構２５を使用する場合には、第１副搬送機構
２５のリソースの使用タイミングを、第１移載領域ＩＬ
１のリソースの使用を終了するタイミングにまで早め
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハや
液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称す
る）に所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール作
成方法及びそのプログラムに係り、特に各ロットを順次
に処理する際に各リソースを使用するタイミングを決定
する技術に関する。
液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称す
る）に所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール作
成方法及びそのプログラムに係り、特に各ロットを順次
に処理する際に各リソースを使用するタイミングを決定
する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】薬液処理部と純水洗浄処理部と複数個の
搬送ロボットとを備え、一方の搬送ロボットと他方の搬
送ロボットとが干渉する領域を有する基板処理装置の従
来からのスケジュール作成方法としては、以下の方法が
挙げられる。
搬送ロボットとを備え、一方の搬送ロボットと他方の搬
送ロボットとが干渉する領域を有する基板処理装置の従
来からのスケジュール作成方法としては、以下の方法が
挙げられる。
【０００３】第１の方法は、一方の搬送ロボットと他方
の搬送ロボットを含む複数個の搬送ロボットのうち、先
に動作を始めたものが動作完了するのを待って、次の搬
送ロボットが動作を開始するというものである。このよ
うに複数個の搬送ロボットが同時に動作しないようにす
ることにより、それらが干渉することを防止している。
の搬送ロボットを含む複数個の搬送ロボットのうち、先
に動作を始めたものが動作完了するのを待って、次の搬
送ロボットが動作を開始するというものである。このよ
うに複数個の搬送ロボットが同時に動作しないようにす
ることにより、それらが干渉することを防止している。
【０００４】第２の方法は、搬送の前に行なわれている
処理において、その処理が完了する時点の一定時間前よ
り、例えば、薬液処理部から純水洗浄処理部に基板を搬
送する処理を優先させるために、一方の搬送ロボットの
動作を停止させておき、他方の搬送ロボットを優先的に
動作させるというものである。
処理において、その処理が完了する時点の一定時間前よ
り、例えば、薬液処理部から純水洗浄処理部に基板を搬
送する処理を優先させるために、一方の搬送ロボットの
動作を停止させておき、他方の搬送ロボットを優先的に
動作させるというものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、第１の方法は、例えば、薬液処理部か
ら純水洗浄処理部に基板を搬送する時点において、それ
を行なう他方の搬送ロボットよりも先に一方の搬送ロボ
ットが動作し始めていた場合には、薬液処理部から基板
を搬送させることができず、その基板に対して薬液処理
が過剰に行なわれてしまうという問題が生じる。
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、第１の方法は、例えば、薬液処理部か
ら純水洗浄処理部に基板を搬送する時点において、それ
を行なう他方の搬送ロボットよりも先に一方の搬送ロボ
ットが動作し始めていた場合には、薬液処理部から基板
を搬送させることができず、その基板に対して薬液処理
が過剰に行なわれてしまうという問題が生じる。
【０００６】また、第２の方法は、第１の方法により発
生する上記の問題を防止することができる一方、薬液処
理部にある基板の処理を優先するあまり、他のロットの
流れを妨げることがあるという問題がある。
生する上記の問題を防止することができる一方、薬液処
理部にある基板の処理を優先するあまり、他のロットの
流れを妨げることがあるという問題がある。
【０００７】この発明は、このような事情に鑑みてなさ
れたものであって、搬送機構同士が実際に干渉する空間
を考慮しつつ処理の開始前に予めスケジューリングする
ことによって過剰処理を防止することができるととも
に、他ロットの流れを妨げることを防止できる基板処理
装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供
することを目的とする。
れたものであって、搬送機構同士が実際に干渉する空間
を考慮しつつ処理の開始前に予めスケジューリングする
ことによって過剰処理を防止することができるととも
に、他ロットの流れを妨げることを防止できる基板処理
装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供
することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この発明は、このような
目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板に処理を施す処理部
と基板を搬送する複数個の搬送機構とを備え、一方の搬
送機構が他方の搬送機構と干渉する領域を有する基板処
理装置により、前記処理部と前記各搬送機構のリソース
を使用しながら複数のロットを処理する際に、各リソー
スの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュ
ール作成方法において、実際に処理を開始する前に各リ
ソースの使用タイミングを予め作成するとともに、一方
の搬送機構と他方の搬送機構とが干渉する領域に相当す
るリソースとして干渉空間を定義し、あるロットが一方
の搬送機構を使用する場合には、一方の搬送機構のリソ
ースと前記干渉空間のリソースとを使用し、次なるロッ
トが他方の搬送機構を使用する場合には、他方の搬送機
構のリソースの使用タイミングを、前記干渉空間のリソ
ースの使用を終了するタイミングにまで早めることを特
徴とするものである。
目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の発明は、基板に処理を施す処理部
と基板を搬送する複数個の搬送機構とを備え、一方の搬
送機構が他方の搬送機構と干渉する領域を有する基板処
理装置により、前記処理部と前記各搬送機構のリソース
を使用しながら複数のロットを処理する際に、各リソー
スの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュ
ール作成方法において、実際に処理を開始する前に各リ
ソースの使用タイミングを予め作成するとともに、一方
の搬送機構と他方の搬送機構とが干渉する領域に相当す
るリソースとして干渉空間を定義し、あるロットが一方
の搬送機構を使用する場合には、一方の搬送機構のリソ
ースと前記干渉空間のリソースとを使用し、次なるロッ
トが他方の搬送機構を使用する場合には、他方の搬送機
構のリソースの使用タイミングを、前記干渉空間のリソ
ースの使用を終了するタイミングにまで早めることを特
徴とするものである。
【０００９】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記
一方の搬送機構のリソースは、一方の搬送機構が基板を
受け取る動作に要する第１の空間と、一方の搬送機構が
他方の搬送機構の近傍を通って移動先に向かう移動に要
する第２の空間と、一方の搬送機構が基板を渡す動作に
要する第３の空間とを含み、前記干渉空間のリソース
は、前記第２の空間に相当することを特徴とするもので
ある。
の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記
一方の搬送機構のリソースは、一方の搬送機構が基板を
受け取る動作に要する第１の空間と、一方の搬送機構が
他方の搬送機構の近傍を通って移動先に向かう移動に要
する第２の空間と、一方の搬送機構が基板を渡す動作に
要する第３の空間とを含み、前記干渉空間のリソース
は、前記第２の空間に相当することを特徴とするもので
ある。
【００１０】請求項３に記載の発明は、請求項１または
２に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法におい
て、前記他方の搬送機構のリソースを使用する時間と同
じだけ前記干渉空間のリソースを使用することを特徴と
するものである。
２に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法におい
て、前記他方の搬送機構のリソースを使用する時間と同
じだけ前記干渉空間のリソースを使用することを特徴と
するものである。
【００１１】請求項４に記載の発明は、請求項１ないし
３のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成
方法において、前記処理部は、純水洗浄処理部と薬液処
理部を備えていることを特徴とするものである。
３のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成
方法において、前記処理部は、純水洗浄処理部と薬液処
理部を備えていることを特徴とするものである。
【００１２】請求項５に記載の発明は、請求項１ないし
４のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成
方法において、前記複数個の搬送機構は、待機位置と処
理部との間を移動して、この間で基板を搬送する主搬送
機構と、前記処理部に付設され、前記主搬送機構との間
で基板を受け渡しするとともに、前記処理部にて基板を
処理する処理位置と非処理位置の間で基板を搬送する副
搬送機構と、を備えていることを特徴とするものであ
る。
４のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成
方法において、前記複数個の搬送機構は、待機位置と処
理部との間を移動して、この間で基板を搬送する主搬送
機構と、前記処理部に付設され、前記主搬送機構との間
で基板を受け渡しするとともに、前記処理部にて基板を
処理する処理位置と非処理位置の間で基板を搬送する副
搬送機構と、を備えていることを特徴とするものであ
る。
【００１３】請求項６に記載の発明は、請求項４に記載
の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記
複数個の搬送機構は、待機位置と処理部との間を移動し
て、この間で基板を搬送する主搬送機構と、前記処理部
に付設され、前記主搬送機構との間で基板を受け渡しす
るとともに、前記薬液処理部と前記純水洗浄処理部との
間で基板を移動させ、かつ前記薬液処理部と前記純水洗
浄処理部とにおいて基板を処理する処理位置と非処理位
置とにわたって昇降させる副搬送機構と、を備えている
ことを特徴とするものである。
の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記
複数個の搬送機構は、待機位置と処理部との間を移動し
て、この間で基板を搬送する主搬送機構と、前記処理部
に付設され、前記主搬送機構との間で基板を受け渡しす
るとともに、前記薬液処理部と前記純水洗浄処理部との
間で基板を移動させ、かつ前記薬液処理部と前記純水洗
浄処理部とにおいて基板を処理する処理位置と非処理位
置とにわたって昇降させる副搬送機構と、を備えている
ことを特徴とするものである。
【００１４】請求項７に記載の発明は、請求項４ないし
６のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成
方法において、各リソースの使用タイミングの決定は、
各ロットのレシピに基づいて行なわれ、前記レシピは、
前記薬液処理部での薬液処理の後に前記純水洗浄処理部
での水洗処理を施す処理を含むことを特徴とするもので
ある。
６のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成
方法において、各リソースの使用タイミングの決定は、
各ロットのレシピに基づいて行なわれ、前記レシピは、
前記薬液処理部での薬液処理の後に前記純水洗浄処理部
での水洗処理を施す処理を含むことを特徴とするもので
ある。
【００１５】請求項８に記載の発明は、基板に処理を施
す処理部と基板を搬送する複数個の搬送機構とを備え、
一方の搬送機構が他方の搬送機構と干渉する領域を有す
る基板処理装置により、前記処理部と前記各搬送機構の
リソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、
各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置の
スケジュール作成プログラムにおいて、実際に処理を開
始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成する
とともに、一方の搬送機構と他方の搬送機構とが干渉す
る領域に相当するリソースとして干渉空間を定義し、あ
るロットが一方の搬送機構を使用する場合には、一方の
搬送機構のリソースと前記干渉空間のリソースとを使用
し、次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合に
は、他方の搬送機構のリソースの使用タイミングを、前
記干渉空間のリソースの使用を終了するタイミングにま
で早めることを特徴とするものである。
す処理部と基板を搬送する複数個の搬送機構とを備え、
一方の搬送機構が他方の搬送機構と干渉する領域を有す
る基板処理装置により、前記処理部と前記各搬送機構の
リソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、
各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置の
スケジュール作成プログラムにおいて、実際に処理を開
始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成する
とともに、一方の搬送機構と他方の搬送機構とが干渉す
る領域に相当するリソースとして干渉空間を定義し、あ
るロットが一方の搬送機構を使用する場合には、一方の
搬送機構のリソースと前記干渉空間のリソースとを使用
し、次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合に
は、他方の搬送機構のリソースの使用タイミングを、前
記干渉空間のリソースの使用を終了するタイミングにま
で早めることを特徴とするものである。
【００１６】
【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。すなわち、あるロットが一方の搬送機構を使用する
場合には、他方の搬送機構と干渉する領域に相当する干
渉空間のリソースを使用する。次なるロットが他方の搬
送機構を使用する場合には、一方の搬送機構が干渉空間
のリソースの使用を終了するタイミングにまで早めてそ
のリソースを使用するようにスケジューリングする。し
たがって、他方の搬送機構は、一方の搬送機構がそのリ
ソースを使用完了するまで動作開始を待つ必要がなく、
干渉空間のリソースの使用が終わった時点で動作開始さ
せることができる。また、実際の処理の前に予め各リソ
ースの使用タイミングを作成するので、基板の処理が正
常に行なわれるようにできる。
る。すなわち、あるロットが一方の搬送機構を使用する
場合には、他方の搬送機構と干渉する領域に相当する干
渉空間のリソースを使用する。次なるロットが他方の搬
送機構を使用する場合には、一方の搬送機構が干渉空間
のリソースの使用を終了するタイミングにまで早めてそ
のリソースを使用するようにスケジューリングする。し
たがって、他方の搬送機構は、一方の搬送機構がそのリ
ソースを使用完了するまで動作開始を待つ必要がなく、
干渉空間のリソースの使用が終わった時点で動作開始さ
せることができる。また、実際の処理の前に予め各リソ
ースの使用タイミングを作成するので、基板の処理が正
常に行なわれるようにできる。
【００１７】なお、本願発明における「リソース」(res
ource)とは、純水洗浄処理部、薬液処理部、乾燥処理
部、塗布処理部、メッキ処理部、エッチング処理部など
の処理部や、基板の搬送に係る搬送機構などのことを示
す。
ource)とは、純水洗浄処理部、薬液処理部、乾燥処理
部、塗布処理部、メッキ処理部、エッチング処理部など
の処理部や、基板の搬送に係る搬送機構などのことを示
す。
【００１８】請求項２に記載の発明によれば、一方の搬
送機構リソースは、基板を受け取るのに要する第１の空
間と、他方の搬送機構近傍を通過して移動先に向かうの
に要する第２の空間と、基板を渡すのに要する第３の空
間とを含むものであり、干渉空間とはそのうちの第２の
空間に相当するものである。
送機構リソースは、基板を受け取るのに要する第１の空
間と、他方の搬送機構近傍を通過して移動先に向かうの
に要する第２の空間と、基板を渡すのに要する第３の空
間とを含むものであり、干渉空間とはそのうちの第２の
空間に相当するものである。
【００１９】請求項３に記載の発明によれば、他方の搬
送機構が動作する際には、一方の搬送機構と干渉する領
域を使用するので、干渉空間のリソースを使用するもの
としてスケジュール作成を行なう。
送機構が動作する際には、一方の搬送機構と干渉する領
域を使用するので、干渉空間のリソースを使用するもの
としてスケジュール作成を行なう。
【００２０】請求項４に記載の発明によれば、処理部と
して純水洗浄処理部と薬液処理部を有する基板処理装置
で上記のようなスケジュール作成を行なう。
して純水洗浄処理部と薬液処理部を有する基板処理装置
で上記のようなスケジュール作成を行なう。
【００２１】請求項５に記載の発明によれば、主搬送機
構と副搬送機構とを備えた複数個の搬送機構を有する基
板処理装置にて上記のようなスケジュール作成を行な
う。
構と副搬送機構とを備えた複数個の搬送機構を有する基
板処理装置にて上記のようなスケジュール作成を行な
う。
【００２２】請求項６に記載の発明によれば、処理部と
して純水洗浄処理部と薬液処理部とを備えるとともに、
主搬送機構と、処理部に付設された副搬送機構を備えた
複数個の搬送機構を有する基板処理装置にて上記のよう
なスケジュール作成を行なう。
して純水洗浄処理部と薬液処理部とを備えるとともに、
主搬送機構と、処理部に付設された副搬送機構を備えた
複数個の搬送機構を有する基板処理装置にて上記のよう
なスケジュール作成を行なう。
【００２３】請求項７に記載の発明によれば、薬液処理
を行なった後に水洗処理を行なう処理を対象にして上記
のようなスケジュール作成を行なう。
を行なった後に水洗処理を行なう処理を対象にして上記
のようなスケジュール作成を行なう。
【００２４】請求項８に記載の発明によれば、あるロッ
トが一方の搬送機構を使用する場合には、他方の搬送機
構と干渉する領域に相当する干渉空間のリソースを使用
する。次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合に
は、一方の搬送機構が干渉空間のリソースの使用を終了
するタイミングにまで早めてそのリソースを使用する。
したがって、他方の搬送機構は、一方の搬送機構がその
リソースを使用完了するまで動作開始を待つ必要がな
く、干渉空間のリソースの使用が終わった時点で動作さ
せ始めることができる。
トが一方の搬送機構を使用する場合には、他方の搬送機
構と干渉する領域に相当する干渉空間のリソースを使用
する。次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合に
は、一方の搬送機構が干渉空間のリソースの使用を終了
するタイミングにまで早めてそのリソースを使用する。
したがって、他方の搬送機構は、一方の搬送機構がその
リソースを使用完了するまで動作開始を待つ必要がな
く、干渉空間のリソースの使用が終わった時点で動作さ
せ始めることができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
一実施例を説明する。図１及び図２は本発明の一実施例
に係り、図１は実施例に係る基板処理装置の概略構成を
示した平面図であり、図２はそのブロック図である。
一実施例を説明する。図１及び図２は本発明の一実施例
に係り、図１は実施例に係る基板処理装置の概略構成を
示した平面図であり、図２はそのブロック図である。
【００２６】この基板処理装置は、例えば、基板Ｗに対
して薬液処理及び純水洗浄処理及び乾燥処理を施すため
の装置である。基板Ｗは複数枚（例えば２５枚）がカセ
ット１に対して起立姿勢で収納されている。未処理の基
板Ｗを収納したカセット１は、投入部３に載置される。
投入部３は、カセット１を載置される載置台５を二つ備
えている。基板処理装置の中央部を挟んだ投入部３の反
対側には、払出部７が配備されている。この払出部７
は、処理済みの基板Ｗをカセット１に収納してカセット
１ごと払い出す。このように機能する払出部７は、投入
部３と同様に、カセット１を載置するための二つの載置
台９を備えている。
して薬液処理及び純水洗浄処理及び乾燥処理を施すため
の装置である。基板Ｗは複数枚（例えば２５枚）がカセ
ット１に対して起立姿勢で収納されている。未処理の基
板Ｗを収納したカセット１は、投入部３に載置される。
投入部３は、カセット１を載置される載置台５を二つ備
えている。基板処理装置の中央部を挟んだ投入部３の反
対側には、払出部７が配備されている。この払出部７
は、処理済みの基板Ｗをカセット１に収納してカセット
１ごと払い出す。このように機能する払出部７は、投入
部３と同様に、カセット１を載置するための二つの載置
台９を備えている。
【００２７】投入部３と払出部７に沿う位置には、これ
らの間を移動可能に構成された第１搬送機構１１が配置
されている。第１搬送機構１１は、投入部３に載置され
たカセット１ごと複数枚の基板Ｗを第２搬送機構１３に
対して搬送する。
らの間を移動可能に構成された第１搬送機構１１が配置
されている。第１搬送機構１１は、投入部３に載置され
たカセット１ごと複数枚の基板Ｗを第２搬送機構１３に
対して搬送する。
【００２８】第２搬送機構１３は、収納されている全て
の基板Ｗをカセット１から取り出した後、第３搬送機構
１５に対して全ての基板Ｗを搬送する。また、第３搬送
機構１５から処理済みの基板Ｗを受け取った後に、基板
Ｗをカセット１に収容して第１搬送機構１１に搬送す
る。
の基板Ｗをカセット１から取り出した後、第３搬送機構
１５に対して全ての基板Ｗを搬送する。また、第３搬送
機構１５から処理済みの基板Ｗを受け取った後に、基板
Ｗをカセット１に収容して第１搬送機構１１に搬送す
る。
【００２９】第３搬送機構１５は、基板処理装置の長手
方向に向けて移動可能に構成されている。その第２搬送
機構１３側には、突出した２本の支持アーム１５ａが配
備されている。上述したように第２搬送機構１３との間
で基板Ｗを受け渡しする際には、その支持アーム１５ａ
を介して行なう。なお、第３搬送機構１５は、通常、図
１に示す待機位置に移動している。
方向に向けて移動可能に構成されている。その第２搬送
機構１３側には、突出した２本の支持アーム１５ａが配
備されている。上述したように第２搬送機構１３との間
で基板Ｗを受け渡しする際には、その支持アーム１５ａ
を介して行なう。なお、第３搬送機構１５は、通常、図
１に示す待機位置に移動している。
【００３０】上記第３搬送機構１５の移動方向における
最も手前側には、複数枚の基板Ｗを低圧のチャンバ内に
収納して乾燥させるための乾燥処理部１７が配備されて
いる。
最も手前側には、複数枚の基板Ｗを低圧のチャンバ内に
収納して乾燥させるための乾燥処理部１７が配備されて
いる。
【００３１】第３搬送機構１５の移動方向であって上記
乾燥処理部１７に隣接する位置には、第１処理部１９が
配備されている。この第１処理部１９は、複数枚の基板
Ｗに対して純水洗浄処理を施すための純水洗浄処理部２
１を備えているとともに、複数枚の基板Ｗに対して薬液
処理を施すための薬液処理部２３を備えている。また、
これらの間で基板Ｗを搬送する第１副搬送機構２５を備
えている。
乾燥処理部１７に隣接する位置には、第１処理部１９が
配備されている。この第１処理部１９は、複数枚の基板
Ｗに対して純水洗浄処理を施すための純水洗浄処理部２
１を備えているとともに、複数枚の基板Ｗに対して薬液
処理を施すための薬液処理部２３を備えている。また、
これらの間で基板Ｗを搬送する第１副搬送機構２５を備
えている。
【００３２】第１副搬送機構２５は、縦断面形状がＬの
字状で、基板Ｗを起立姿勢で保持する保持アーム２５ａ
を備えている。第１副搬送機構２５は、第１処理部１９
内での基板搬送の他に、第３搬送機構１５との間で基板
Ｗを受け渡しする。第１副搬送機構２５は、純水洗浄処
理部２１の上方に位置する「非処理位置」では、第３搬
送機構１５との間で基板Ｗを受け取ったり渡す動作が行
なわれる一方、薬液処理部２３の上方に位置する「非処
理位置」では、基板Ｗの受け渡しは行なわれない。ま
た、基板Ｗを処理する際には、第１副搬送機構２５は、
純水洗浄処理部２１や薬液処理部２３の槽内に位置する
「処理位置」にまで下降する。
字状で、基板Ｗを起立姿勢で保持する保持アーム２５ａ
を備えている。第１副搬送機構２５は、第１処理部１９
内での基板搬送の他に、第３搬送機構１５との間で基板
Ｗを受け渡しする。第１副搬送機構２５は、純水洗浄処
理部２１の上方に位置する「非処理位置」では、第３搬
送機構１５との間で基板Ｗを受け取ったり渡す動作が行
なわれる一方、薬液処理部２３の上方に位置する「非処
理位置」では、基板Ｗの受け渡しは行なわれない。ま
た、基板Ｗを処理する際には、第１副搬送機構２５は、
純水洗浄処理部２１や薬液処理部２３の槽内に位置する
「処理位置」にまで下降する。
【００３３】なお、保持アーム２５ａが純水洗浄処理部
２１や薬液処理部２３の「非処理位置」にある場合にお
いては、上記の第３搬送機構１５の支持アーム１５ａと
干渉する場合がある。つまり、第１副搬送機構２５は、
第３搬送機構１５との間で基板Ｗの受け渡しをする際な
どには、第３搬送機構１５が第１移載領域ＩＬ１に移動
するが、このときに保持アーム２５ａが非処理位置にあ
ると、第３搬送機構１５の支持アーム１５ａが干渉す
る。
２１や薬液処理部２３の「非処理位置」にある場合にお
いては、上記の第３搬送機構１５の支持アーム１５ａと
干渉する場合がある。つまり、第１副搬送機構２５は、
第３搬送機構１５との間で基板Ｗの受け渡しをする際な
どには、第３搬送機構１５が第１移載領域ＩＬ１に移動
するが、このときに保持アーム２５ａが非処理位置にあ
ると、第３搬送機構１５の支持アーム１５ａが干渉す
る。
【００３４】第１処理部１９に隣接して第２処理部２７
が配備されている。この第２処理部２７は、第１処理部
１９と同じ構成であり、純水洗浄処理部２９と、薬液処
理部３１と、保持アーム３３ａを備えた第２副搬送機構
３３とを備えている。なお、第２副搬送機構３３の保持
アーム３３ａが「非処理位置」あり、第３搬送機構１５
が第２移載領域ＩＬ２に位置している場合には、第３搬
送機構１５の支持アーム１５ａが干渉する。
が配備されている。この第２処理部２７は、第１処理部
１９と同じ構成であり、純水洗浄処理部２９と、薬液処
理部３１と、保持アーム３３ａを備えた第２副搬送機構
３３とを備えている。なお、第２副搬送機構３３の保持
アーム３３ａが「非処理位置」あり、第３搬送機構１５
が第２移載領域ＩＬ２に位置している場合には、第３搬
送機構１５の支持アーム１５ａが干渉する。
【００３５】第２搬送機構１３に付設されているカセッ
ト洗浄部３５は、上述した第２搬送機構１３が全ての基
板Ｗを取り出した後、空になったカセット１を洗浄する
機能を有する。
ト洗浄部３５は、上述した第２搬送機構１３が全ての基
板Ｗを取り出した後、空になったカセット１を洗浄する
機能を有する。
【００３６】なお、上述した第３搬送機構１５が本発明
における一方の搬送機構及び主搬送機構に相当し、第１
副搬送機２５と第２副搬送機構３３とが本発明における
他方の搬送機構に相当する。また、純水洗浄処理部２１
及び薬液処理部２３と純水洗浄処理部２９及び薬液処理
部３１とが本発明における処理部に相当する。
における一方の搬送機構及び主搬送機構に相当し、第１
副搬送機２５と第２副搬送機構３３とが本発明における
他方の搬送機構に相当する。また、純水洗浄処理部２１
及び薬液処理部２３と純水洗浄処理部２９及び薬液処理
部３１とが本発明における処理部に相当する。
【００３７】上記のように構成されている基板処理装置
は、図２のブロック図に示すように制御部３７によって
統括的に制御される。
は、図２のブロック図に示すように制御部３７によって
統括的に制御される。
【００３８】制御部３７は、ＣＰＵなどから構成されて
おり、以下に説明するスケジュール作成プログラムに相
当する手順に基づき、レシピに応じて上述した各構成の
リソースの使用タイミングを実際に処理を開始する前に
予め決定する。その後、実際に基板Ｗを処理するにあた
り、作成されたスケジュールに基づき各リソースを使用
してレシピに応じた処理を基板Ｗに対して施す。
おり、以下に説明するスケジュール作成プログラムに相
当する手順に基づき、レシピに応じて上述した各構成の
リソースの使用タイミングを実際に処理を開始する前に
予め決定する。その後、実際に基板Ｗを処理するにあた
り、作成されたスケジュールに基づき各リソースを使用
してレシピに応じた処理を基板Ｗに対して施す。
【００３９】記憶部３９には、この基板処理装置のユー
ザによって予め作成され、基板Ｗをどのようにして処理
するかを規定した複数種類のレシピと、スケジュール作
成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する処
理プログラム等が予め格納されている。また、第１搬送
機構１１等の各リソースに関する情報が予め記憶されて
おり、さらに作成されたスケジュールも記憶される。
ザによって予め作成され、基板Ｗをどのようにして処理
するかを規定した複数種類のレシピと、スケジュール作
成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する処
理プログラム等が予め格納されている。また、第１搬送
機構１１等の各リソースに関する情報が予め記憶されて
おり、さらに作成されたスケジュールも記憶される。
【００４０】上述した第１移載領域ＩＬ１及び第２移載
領域ＩＬ２は、基板処理装置における第１搬送機構１１
などのリソースとは性質が異なるものであるが、第３搬
送機構１５が、第１副搬送機構２５及び第２副搬送機構
３３との間で干渉する可能性のある干渉空間としての、
純水洗浄処理部２１及び薬液処理部２３の近傍である第
１移載領域ＩＬ１と、純水洗浄処理部２９及び薬液処理
部３１の近傍である第２移載領域ＩＬ２とについても干
渉空間のリソースとして定義している。つまり、制御部
３７は、スケジュールを作成するために第３搬送機構１
５等のリソースをどのようなタイミングで制御するかを
決定するが、第３搬送機構１５を使用する際には、それ
自身を使用するのはもちろんのこと、第１移載領域ＩＬ
１と第２移載領域ＩＬ２のリソースをも使用することが
特徴的になっている。
領域ＩＬ２は、基板処理装置における第１搬送機構１１
などのリソースとは性質が異なるものであるが、第３搬
送機構１５が、第１副搬送機構２５及び第２副搬送機構
３３との間で干渉する可能性のある干渉空間としての、
純水洗浄処理部２１及び薬液処理部２３の近傍である第
１移載領域ＩＬ１と、純水洗浄処理部２９及び薬液処理
部３１の近傍である第２移載領域ＩＬ２とについても干
渉空間のリソースとして定義している。つまり、制御部
３７は、スケジュールを作成するために第３搬送機構１
５等のリソースをどのようなタイミングで制御するかを
決定するが、第３搬送機構１５を使用する際には、それ
自身を使用するのはもちろんのこと、第１移載領域ＩＬ
１と第２移載領域ＩＬ２のリソースをも使用することが
特徴的になっている。
【００４１】なお、本発明における干渉空間に相当する
第１移動領域ＩＬ１は、純水洗浄処理部２１に隣接する
乾燥処理部１７の空間を含めて定義してもよい。
第１移動領域ＩＬ１は、純水洗浄処理部２１に隣接する
乾燥処理部１７の空間を含めて定義してもよい。
【００４２】なお、図３に示すタイムチャートを参照し
ながらスケジュール作成プログラムに相当する手順につ
いて説明するが、理解を容易にするためにレシピのうち
の一部だけを例に採って説明する。この例では、同じレ
シピで二つのロットが並行して処理されてゆく場合につ
いて説明する。
ながらスケジュール作成プログラムに相当する手順につ
いて説明するが、理解を容易にするためにレシピのうち
の一部だけを例に採って説明する。この例では、同じレ
シピで二つのロットが並行して処理されてゆく場合につ
いて説明する。
【００４３】具体的に処理を説明すると、第１ロット
（図３中に白色矩形で示す）の基板Ｗが薬液処理部２３
で薬液処理され、続いて第１副搬送機構２５を介して純
水洗浄処理部２１に搬送された後に純水洗浄処理される
というものである。これと並行して、第２ロット（図３
中にハッチングした矩形で示す）の基板Ｗが第２搬送機
構１３から第３搬送機構１５に搬送され、純水洗浄処理
部２９にて純水洗浄処理が施される。
（図３中に白色矩形で示す）の基板Ｗが薬液処理部２３
で薬液処理され、続いて第１副搬送機構２５を介して純
水洗浄処理部２１に搬送された後に純水洗浄処理される
というものである。これと並行して、第２ロット（図３
中にハッチングした矩形で示す）の基板Ｗが第２搬送機
構１３から第３搬送機構１５に搬送され、純水洗浄処理
部２９にて純水洗浄処理が施される。
【００４４】なお、第１ロットが本発明における「次な
るロット」に相当し、第２ロットが「あるロット」に相
当する。
るロット」に相当し、第２ロットが「あるロット」に相
当する。
【００４５】上記の処理動作について詳細に説明する。
時間ｔ０〜ｔ３にわたり、第１ロットの基板Ｗが薬液処
理部２３のリソースをレシピに応じた時間だけステップ
Ｓ１０で使用する。これにより第１ロットの基板Ｗに対
して薬液処理が行なわれる。
時間ｔ０〜ｔ３にわたり、第１ロットの基板Ｗが薬液処
理部２３のリソースをレシピに応じた時間だけステップ
Ｓ１０で使用する。これにより第１ロットの基板Ｗに対
して薬液処理が行なわれる。
【００４６】これに並行して、第２ロットの基板Ｗが、
第２搬送機構１３のリソースをステップＳ２０で時間ｔ
０〜ｔ１にわたり使用した後、第３搬送機構１５のリソ
ースをステップＳ２２で時間ｔ１〜ｔ４にわたり使用す
る。つまり、図１に示す待機位置にある第３搬送機構１
５が第２搬送機構１３から第２ロットの基板Ｗを受け取
り（時間ｔ１）、移動先に移動した後、純水洗浄処理部
２９に対して第２ロットの基板Ｗを移載する（時間ｔ
４）。このとき第２ロットは、第３搬送機構１５のリソ
ースを使用するとともに、第３搬送機構１５が第１移載
領域ＩＬ１と第２移載領域ＩＬ２を通るので、これらの
リソースも時間ｔ２〜ｔ３にわたってステップＳ２２ａ
で使用する。
第２搬送機構１３のリソースをステップＳ２０で時間ｔ
０〜ｔ１にわたり使用した後、第３搬送機構１５のリソ
ースをステップＳ２２で時間ｔ１〜ｔ４にわたり使用す
る。つまり、図１に示す待機位置にある第３搬送機構１
５が第２搬送機構１３から第２ロットの基板Ｗを受け取
り（時間ｔ１）、移動先に移動した後、純水洗浄処理部
２９に対して第２ロットの基板Ｗを移載する（時間ｔ
４）。このとき第２ロットは、第３搬送機構１５のリソ
ースを使用するとともに、第３搬送機構１５が第１移載
領域ＩＬ１と第２移載領域ＩＬ２を通るので、これらの
リソースも時間ｔ２〜ｔ３にわたってステップＳ２２ａ
で使用する。
【００４７】なお、厳密には、第１処理部１９と第２処
理部２７の近傍を通過するタイミングが異なるので、第
１移載領域ＩＬ１と第２移載領域ＩＬ２のリソースを使
用するタイミングもずれる。つまり、時間ｔ２〜ｔ３の
前半で第１移載領域ＩＬ１のリソースを使用し、後半で
第２移載領域ＩＬ２を使用することになる。しかし、こ
のように厳密に分けるとスケジュール作成の負荷が大き
くなる割には効率化が図れないので、この例では同じタ
イミングで両リソースを使用している。
理部２７の近傍を通過するタイミングが異なるので、第
１移載領域ＩＬ１と第２移載領域ＩＬ２のリソースを使
用するタイミングもずれる。つまり、時間ｔ２〜ｔ３の
前半で第１移載領域ＩＬ１のリソースを使用し、後半で
第２移載領域ＩＬ２を使用することになる。しかし、こ
のように厳密に分けるとスケジュール作成の負荷が大き
くなる割には効率化が図れないので、この例では同じタ
イミングで両リソースを使用している。
【００４８】なお、上記のステップＳ２２のうち時間ｔ
１〜ｔ２にわたる時間Ｔ１は、第３搬送機構１５が第２
搬送機構１３から第２ロットの基板Ｗを受け取る動作に
要する、待機位置に相当する第１の空間における動作時
間に相当し、時間ｔ２〜ｔ３にわたる時間Ｔ２は、第３
搬送機構１５が第１処理部１９と第２処理部２７の前を
通って純水洗浄処理部２９の前に移動するのに要する第
２の空間における動作時間に相当する。また、時間ｔ３
〜ｔ４にわたる時間Ｔ３は、第３搬送機構１５が第２ロ
ットの基板Ｗを第２副搬送機構３３に対して渡す動作に
要する第３の空間における動作時間に相当する。
１〜ｔ２にわたる時間Ｔ１は、第３搬送機構１５が第２
搬送機構１３から第２ロットの基板Ｗを受け取る動作に
要する、待機位置に相当する第１の空間における動作時
間に相当し、時間ｔ２〜ｔ３にわたる時間Ｔ２は、第３
搬送機構１５が第１処理部１９と第２処理部２７の前を
通って純水洗浄処理部２９の前に移動するのに要する第
２の空間における動作時間に相当する。また、時間ｔ３
〜ｔ４にわたる時間Ｔ３は、第３搬送機構１５が第２ロ
ットの基板Ｗを第２副搬送機構３３に対して渡す動作に
要する第３の空間における動作時間に相当する。
【００４９】ステップＳ２２の途中である時間ｔ３にお
いて、第１ロットの基板Ｗの薬液処理であるステップＳ
１０が規定時間に達する。すると、第１ロットは、第２
ロットのために使用されている第３搬送機構１５が終了
する時間ｔ４まで待つことなく、第１移載領域ＩＬ１と
第２移載領域のリソースが使用を終えるタイミングに合
わせて、第１副搬送機構２５のリソース使用開始時期を
時間ｔ３に早め、時間ｔ５までステップＳ１２で使用す
る。これにより、第１ロットの基板Ｗが薬液処理部２３
から純水洗浄処理部２１に移動される（時間ｔ３〜ｔ
５）。なお、このとき第１副搬送機構２５の保持アーム
２５ａが非処理位置にあるので、第１副搬送機構２５の
リソースを使用するとともに、同じ時間ｔ３〜ｔ５にわ
たって第１移載領域ＩＬ１のリソースをステップＳ１２
ａで使用する。
いて、第１ロットの基板Ｗの薬液処理であるステップＳ
１０が規定時間に達する。すると、第１ロットは、第２
ロットのために使用されている第３搬送機構１５が終了
する時間ｔ４まで待つことなく、第１移載領域ＩＬ１と
第２移載領域のリソースが使用を終えるタイミングに合
わせて、第１副搬送機構２５のリソース使用開始時期を
時間ｔ３に早め、時間ｔ５までステップＳ１２で使用す
る。これにより、第１ロットの基板Ｗが薬液処理部２３
から純水洗浄処理部２１に移動される（時間ｔ３〜ｔ
５）。なお、このとき第１副搬送機構２５の保持アーム
２５ａが非処理位置にあるので、第１副搬送機構２５の
リソースを使用するとともに、同じ時間ｔ３〜ｔ５にわ
たって第１移載領域ＩＬ１のリソースをステップＳ１２
ａで使用する。
【００５０】その後、第２ロットは、時間ｔ４〜ｔ８に
わたり純水洗浄処理部２９のリソースをステップＳ２４
で使用する。また、時間ｔ６〜ｔ７にわたり、第１副搬
送機構２５に対向していた第３搬送機構１５が待機位置
に戻るために第３搬送機構１５のリソースがステップＳ
２６で使用されるとともに、第３搬送機構１５が第１移
載領域ＩＬ１と第２移載領域ＩＬ２を通るので、これら
リソースも時間ｔ６〜ｔ７にわたってステップＳ２６ａ
で使用される。なお、このときの第２副搬送機構３３の
動作については、説明の都合上省略してある。第１ロッ
トは、時間ｔ５〜ｔ９にわたり純水洗浄処理部２１のリ
ソースをステップＳ１４で使用する。
わたり純水洗浄処理部２９のリソースをステップＳ２４
で使用する。また、時間ｔ６〜ｔ７にわたり、第１副搬
送機構２５に対向していた第３搬送機構１５が待機位置
に戻るために第３搬送機構１５のリソースがステップＳ
２６で使用されるとともに、第３搬送機構１５が第１移
載領域ＩＬ１と第２移載領域ＩＬ２を通るので、これら
リソースも時間ｔ６〜ｔ７にわたってステップＳ２６ａ
で使用される。なお、このときの第２副搬送機構３３の
動作については、説明の都合上省略してある。第１ロッ
トは、時間ｔ５〜ｔ９にわたり純水洗浄処理部２１のリ
ソースをステップＳ１４で使用する。
【００５１】このようなスケジュールを予め作成してお
き、記憶部３９に記憶しておく。そして、実際にロット
の処理を開始する際に、そのスケジュールを処理プログ
ラムが実行して実際にロット単位の基板Ｗを処理してゆ
く。
き、記憶部３９に記憶しておく。そして、実際にロット
の処理を開始する際に、そのスケジュールを処理プログ
ラムが実行して実際にロット単位の基板Ｗを処理してゆ
く。
【００５２】上述したように、第２ロットが第３搬送機
構１５を使用する場合には第１移動領域ＩＬ１又は／及
び第２移動領域ＩＬ２を使用し、第１ロットが第１副搬
送機構２５又は第２副搬送機構３３を使用する場合に
は、第１移動領域ＩＬ１又は／及び第２移動領域ＩＬ２
の使用が終了するタイミングにまで早めてそのリソース
を使用するようにスケジューリングする。このように、
干渉する空間のリソースの使用が終わった時点で第１副
搬送機構２５又は第２副搬送機構３３の動作を始めるこ
とにより、効率的に搬送を行なうことができる。
構１５を使用する場合には第１移動領域ＩＬ１又は／及
び第２移動領域ＩＬ２を使用し、第１ロットが第１副搬
送機構２５又は第２副搬送機構３３を使用する場合に
は、第１移動領域ＩＬ１又は／及び第２移動領域ＩＬ２
の使用が終了するタイミングにまで早めてそのリソース
を使用するようにスケジューリングする。このように、
干渉する空間のリソースの使用が終わった時点で第１副
搬送機構２５又は第２副搬送機構３３の動作を始めるこ
とにより、効率的に搬送を行なうことができる。
【００５３】また、予め各リソースの使用タイミングを
作成するので、基板の処理が正常に行なわれるように制
御できる。そのため基板に対して過剰処理が施されるの
を防止できるとともに、他のロットの流れを妨げること
が防止できる。
作成するので、基板の処理が正常に行なわれるように制
御できる。そのため基板に対して過剰処理が施されるの
を防止できるとともに、他のロットの流れを妨げること
が防止できる。
【００５４】＜従来第１の方法との比較＞
【００５５】図４に示すタイムチャートは、本発明（図
４（ａ））と従来技術で説明した第１の方法（図４
（ｂ））とを比較したものである。このように従来技術
では、第３搬送機構１５の動作終了を待つ必要があるこ
とから待ち時間（図４（ｂ）の黒塗り部）が生じて、薬
液処理部２３における過剰処理が生じる恐れがある。一
方、本発明によると待ち時間が生じないので、過剰処理
が防止できるとともに、第１ロットの基板Ｗの純水洗浄
処理を開始するまでの時間をＴＡ時間早めることができ
る。
４（ａ））と従来技術で説明した第１の方法（図４
（ｂ））とを比較したものである。このように従来技術
では、第３搬送機構１５の動作終了を待つ必要があるこ
とから待ち時間（図４（ｂ）の黒塗り部）が生じて、薬
液処理部２３における過剰処理が生じる恐れがある。一
方、本発明によると待ち時間が生じないので、過剰処理
が防止できるとともに、第１ロットの基板Ｗの純水洗浄
処理を開始するまでの時間をＴＡ時間早めることができ
る。
【００５６】＜従来第２の方法との比較＞
【００５７】図５は、本発明（図５（ａ））と従来技術
で説明した第２の方法（図５（ｂ））とを比較するタイ
ムチャートである。従来技術では、薬液処理部２３から
の第１ロットの基板Ｗを第１副搬送機構２５で搬送する
のを優先するために、第１のロットが薬液処理部２３で
処理を終える予定時刻から所定時間までの範囲にわたっ
てインターロックをかけて第３搬送機構１５の動作を禁
止する。その結果、薬液処理部２３での過剰処理を防止
することができるものの、待ち時間（図５（ｂ）の黒塗
り部）が生じて他のロットの処理に悪影響を及ぼす。そ
の一方、本発明によると、待ち時間が生じないので、他
ロットへの影響を抑制でき、第２ロットの基板Ｗの純水
洗浄処理を開始するまでの時間をＴＢ時間早めることが
できる。
で説明した第２の方法（図５（ｂ））とを比較するタイ
ムチャートである。従来技術では、薬液処理部２３から
の第１ロットの基板Ｗを第１副搬送機構２５で搬送する
のを優先するために、第１のロットが薬液処理部２３で
処理を終える予定時刻から所定時間までの範囲にわたっ
てインターロックをかけて第３搬送機構１５の動作を禁
止する。その結果、薬液処理部２３での過剰処理を防止
することができるものの、待ち時間（図５（ｂ）の黒塗
り部）が生じて他のロットの処理に悪影響を及ぼす。そ
の一方、本発明によると、待ち時間が生じないので、他
ロットへの影響を抑制でき、第２ロットの基板Ｗの純水
洗浄処理を開始するまでの時間をＴＢ時間早めることが
できる。
【００５８】なお、上記の説明においては理解の容易の
ために、搬送に係るレシピの一部だけを例に採って説明
した。本発明は、予め処理の前にスケジュールを作成し
てから実際の処理を行なうのであれば適用可能である
が、そのなかでも次のようなスケジュール作成方法が好
適である。
ために、搬送に係るレシピの一部だけを例に採って説明
した。本発明は、予め処理の前にスケジュールを作成し
てから実際の処理を行なうのであれば適用可能である
が、そのなかでも次のようなスケジュール作成方法が好
適である。
【００５９】すなわち、基板に処理を施すための処理部
を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処
理するにあたり、複数の処理工程を含むレシピに基づい
て各々のロットを各処理部で順次に処理するために各ロ
ットの処理順序を決定する基板処理装置のスケジュール
作成方法において、いずれかのロットについて最初の処
理工程を配置した後、各ロットの次なる処理工程のう
ち、各々の前の処理工程における終了予定時刻が最も早
いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置す
るのである。
を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処
理するにあたり、複数の処理工程を含むレシピに基づい
て各々のロットを各処理部で順次に処理するために各ロ
ットの処理順序を決定する基板処理装置のスケジュール
作成方法において、いずれかのロットについて最初の処
理工程を配置した後、各ロットの次なる処理工程のう
ち、各々の前の処理工程における終了予定時刻が最も早
いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置す
るのである。
【００６０】この方法における処理工程とは、上述した
第１ロットの薬液処理部２３における処理と、第１副搬
送機構２５における処理と、純水洗浄処理部２１におけ
る処理とを含む工程であり、第２ロットの第２搬送機構
１３における処理と、第３搬送機構１５における処理
と、純水洗浄処理部２９における処理とを含む工程のこ
とである。
第１ロットの薬液処理部２３における処理と、第１副搬
送機構２５における処理と、純水洗浄処理部２１におけ
る処理とを含む工程であり、第２ロットの第２搬送機構
１３における処理と、第３搬送機構１５における処理
と、純水洗浄処理部２９における処理とを含む工程のこ
とである。
【００６１】この方法によれば、予めスケジュールする
ことで前の処理工程の後作業と、その後の処理工程の前
作業とを重複させて配置することができるとともに、配
置可能な処理工程のうち前の処理工程が早く終わるロッ
トの処理工程を次の処理工程として選択して配置するこ
とで、次の処理工程が終了するまでの時間を短縮するこ
とができる。したがって、基板処理装置の処理部を有効
利用することができるので、待機時間を抑制して稼働率
を向上することができる。
ことで前の処理工程の後作業と、その後の処理工程の前
作業とを重複させて配置することができるとともに、配
置可能な処理工程のうち前の処理工程が早く終わるロッ
トの処理工程を次の処理工程として選択して配置するこ
とで、次の処理工程が終了するまでの時間を短縮するこ
とができる。したがって、基板処理装置の処理部を有効
利用することができるので、待機時間を抑制して稼働率
を向上することができる。
【００６２】また、本発明は基板処理装置であればどの
ような処理を施す装置であっても適用することができ
る。例えば、基板に対してフォトレジスト被膜を被着す
る装置や、基板の表面に導電膜を被着するエッチング装
置などであってもよい。
ような処理を施す装置であっても適用することができ
る。例えば、基板に対してフォトレジスト被膜を被着す
る装置や、基板の表面に導電膜を被着するエッチング装
置などであってもよい。
【００６３】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、あるロットが一方の搬送機構
を使用する場合には干渉空間のリソースを使用し、次な
るロットが他方の搬送機構を使用する場合には、干渉空
間のリソースの使用を終了するタイミングにまで早めて
そのリソースを使用するようにスケジューリングする。
このように、干渉空間のリソースの使用が終わった時点
で他方の搬送機構の動作を始めることにより、効率的に
搬送を行なうことができる。
１に記載の発明によれば、あるロットが一方の搬送機構
を使用する場合には干渉空間のリソースを使用し、次な
るロットが他方の搬送機構を使用する場合には、干渉空
間のリソースの使用を終了するタイミングにまで早めて
そのリソースを使用するようにスケジューリングする。
このように、干渉空間のリソースの使用が終わった時点
で他方の搬送機構の動作を始めることにより、効率的に
搬送を行なうことができる。
【００６４】また、予め各リソースの使用タイミングを
作成するので、基板の処理が正常に行なわれるように制
御できる。そのため基板に対して過剰処理が施されるの
を防止できるとともに、他のロットの流れを妨げること
が防止できる。
作成するので、基板の処理が正常に行なわれるように制
御できる。そのため基板に対して過剰処理が施されるの
を防止できるとともに、他のロットの流れを妨げること
が防止できる。
【００６５】請求項２に記載の発明によれば、基板の受
け渡し動作時を除き、一方の搬送機構が他方の搬送機構
近傍を通過して移動先に向かう移動時間を干渉空間とし
てスケジュール作成時に考慮することで、他方の搬送機
構の動作開始時を早めることが可能である。
け渡し動作時を除き、一方の搬送機構が他方の搬送機構
近傍を通過して移動先に向かう移動時間を干渉空間とし
てスケジュール作成時に考慮することで、他方の搬送機
構の動作開始時を早めることが可能である。
【００６６】請求項３に記載の発明によれば、他方の搬
送機構が動作する際には、そのリソースに加えて干渉空
間のリソースを使用するようにスケジュールを作成する
ことができる。
送機構が動作する際には、そのリソースに加えて干渉空
間のリソースを使用するようにスケジュールを作成する
ことができる。
【００６７】請求項４に記載の発明によれば、処理部と
して純水洗浄処理部と薬液処理部を有する基板処理装置
で上記のようなスケジュール作成を行なうことにより、
基板に対して効率的に薬液処理を施すことができる。
して純水洗浄処理部と薬液処理部を有する基板処理装置
で上記のようなスケジュール作成を行なうことにより、
基板に対して効率的に薬液処理を施すことができる。
【００６８】請求項５に記載の発明によれば、主搬送機
構と副搬送機構とを備えた複数個の搬送機構を有する基
板処理装置にて、上記のようなスケジュール作成を行な
うことで効率的に基板を処理することができる。
構と副搬送機構とを備えた複数個の搬送機構を有する基
板処理装置にて、上記のようなスケジュール作成を行な
うことで効率的に基板を処理することができる。
【００６９】請求項６に記載の発明によれば、処理部と
して純水洗浄処理部と薬液処理部とを備えるとともに、
主搬送機構と副搬送機構を備えた複数個の搬送機構を有
する基板処理装置にて上記のようなスケジュール作成を
行なうことによって、効率的に基板を処理することがで
きる。
して純水洗浄処理部と薬液処理部とを備えるとともに、
主搬送機構と副搬送機構を備えた複数個の搬送機構を有
する基板処理装置にて上記のようなスケジュール作成を
行なうことによって、効率的に基板を処理することがで
きる。
【００７０】請求項７に記載の発明によれば、薬液処理
を行なった後に水洗処理を行なう処理を対象にして上記
のようなスケジューリングを行なうことにより、より適
切に処理を行なうことができる。
を行なった後に水洗処理を行なう処理を対象にして上記
のようなスケジューリングを行なうことにより、より適
切に処理を行なうことができる。
【００７１】請求項８に記載の発明によれば、プログラ
ムとして上記の請求項１と同様の効果を奏する。
ムとして上記の請求項１と同様の効果を奏する。
【図１】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した
平面図である。
平面図である。
【図２】実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した
ブロック図である。
ブロック図である。
【図３】スケジュール例の一部を示すタイムチャートで
ある。
ある。
【図４】本発明と従来例（第１の方法）を比較するタイ
ムチャートである。
ムチャートである。
【図５】本発明と従来例（第２の方法）を比較するタイ
ムチャートである。
ムチャートである。
１１ … 第１搬送機構
１３ … 第２搬送機構
１５ … 第３搬送機構（一方の搬送機構、主搬送機
構） １５ａ … 支持アーム １７ … 乾燥処理部 ２１ …純水洗浄処理部（処理部） ２３ … 薬液処理部（処理部） ２５ … 第１副搬送機構（他方の搬送機構） ２５ａ … 保持アーム ３３ … 第１副搬送機構（他方の搬送機構） ３３ａ … 保持アーム ＩＬ１ … 第１移載領域（干渉空間） ＩＬ２ … 第２移載領域（干渉空間） ３７ … 制御部
構） １５ａ … 支持アーム １７ … 乾燥処理部 ２１ …純水洗浄処理部（処理部） ２３ … 薬液処理部（処理部） ２５ … 第１副搬送機構（他方の搬送機構） ２５ａ … 保持アーム ３３ … 第１副搬送機構（他方の搬送機構） ３３ａ … 保持アーム ＩＬ１ … 第１移載領域（干渉空間） ＩＬ２ … 第２移載領域（干渉空間） ３７ … 制御部
─────────────────────────────────────────────────────
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(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０１Ｌ 21/306 Ｈ０１Ｌ 21/68
21/68 21/306 Ｚ
(72)発明者 河合 淳
京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神
北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株
式会社内
(72)発明者 赤尾 喜代志
京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神
北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株
式会社内
(72)発明者 堀口 修
京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神
北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株
式会社内
Ｆターム(参考） 3B201 AA02 AA03 AB01 BB92 BB93
CC11
3C100 AA05 AA47 BB21 EE06
5F031 CA02 CA05 DA01 FA01 FA02
FA03 FA09 FA11 FA14 FA18
GA05 GA48 HA45 HA73 MA23
PA02
5F043 BB27 EE35 EE36 EE40 GG10
Claims (8)
- 【請求項１】 基板に処理を施す処理部と基板を搬送す
る複数個の搬送機構とを備え、一方の搬送機構が他方の
搬送機構と干渉する領域を有する基板処理装置により、
前記処理部と前記各搬送機構のリソースを使用しながら
複数のロットを処理する際に、各リソースの使用タイミ
ングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法に
おいて、 実際に処理を開始する前に各リソースの使用タイミング
を予め作成するとともに、 一方の搬送機構と他方の搬送機構とが干渉する領域に相
当するリソースとして干渉空間を定義し、 あるロットが一方の搬送機構を使用する場合には、一方
の搬送機構のリソースと前記干渉空間のリソースとを使
用し、 次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合には、他
方の搬送機構のリソースの使用タイミングを、前記干渉
空間のリソースの使用を終了するタイミングにまで早め
ることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方
法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置のスケジ
ュール作成方法において、 前記一方の搬送機構のリソースは、一方の搬送機構が基
板を受け取る動作に要する第１の空間と、一方の搬送機
構が他方の搬送機構の近傍を通って移動先に向かう移動
に要する第２の空間と、一方の搬送機構が基板を渡す動
作に要する第３の空間とを含み、 前記干渉空間のリソースは、前記第２の空間に相当する
ことを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方
法。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の基板処理装置
のスケジュール作成方法において、 前記他方の搬送機構のリソースを使用する時間と同じだ
け前記干渉空間のリソースを使用することを特徴とする
基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の基
板処理装置のスケジュール作成方法において、 前記処理部は、純水洗浄処理部と薬液処理部を備えてい
ることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方
法。 - 【請求項５】 請求項１ないし４のいずれかに記載の基
板処理装置のスケジュール作成方法において、 前記複数個の搬送機構は、 待機位置と処理部との間を移動して、この間で基板を搬
送する主搬送機構と、 前記処理部に付設され、前記主搬送機構との間で基板を
受け渡しするとともに、前記処理部にて基板を処理する
処理位置と非処理位置の間で基板を搬送する副搬送機構
と、 を備えていることを特徴とする基板処理装置のスケジュ
ール作成方法。 - 【請求項６】 請求項４に記載の基板処理装置のスケジ
ュール作成方法において、 前記複数個の搬送機構は、 待機位置と処理部との間を移動して、この間で基板を搬
送する主搬送機構と、 前記処理部に付設され、前記主搬送機構との間で基板を
受け渡しするとともに、前記薬液処理部と前記純水洗浄
処理部との間で基板を移動させ、かつ前記薬液処理部と
前記純水洗浄処理部とにおいて基板を処理する処理位置
と非処理位置とにわたって昇降させる副搬送機構と、 を備えていることを特徴とする基板処理装置のスケジュ
ール作成方法。 - 【請求項７】 請求項４ないし６のいずれかに記載の基
板処理装置のスケジュール作成方法において、 各リソースの使用タイミングの決定は、各ロットのレシ
ピに基づいて行なわれ、 前記レシピは、前記薬液処理部での薬液処理の後に前記
純水洗浄処理部での水洗処理を施す処理を含むことを特
徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。 - 【請求項８】 基板に処理を施す処理部と基板を搬送す
る複数個の搬送機構とを備え、一方の搬送機構が他方の
搬送機構と干渉する領域を有する基板処理装置により、
前記処理部と前記各搬送機構のリソースを使用しながら
複数のロットを処理する際に、各リソースの使用タイミ
ングを決定する基板処理装置のスケジュール作成プログ
ラムにおいて、 実際に処理を開始する前に各リソースの使用タイミング
を予め作成するとともに、 一方の搬送機構と他方の搬送機構とが干渉する領域に相
当するリソースとして干渉空間を定義し、 あるロットが一方の搬送機構を使用する場合には、一方
の搬送機構のリソースと前記干渉空間のリソースとを使
用し、 次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合には、他
方の搬送機構のリソースの使用タイミングを、前記干渉
空間のリソースの使用を終了するタイミングにまで早め
ることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成プ
ログラム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001214730A JP3960761B2 (ja) | 2001-07-16 | 2001-07-16 | 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001214730A JP3960761B2 (ja) | 2001-07-16 | 2001-07-16 | 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003031453A true JP2003031453A (ja) | 2003-01-31 |
| JP3960761B2 JP3960761B2 (ja) | 2007-08-15 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001214730A Expired - Fee Related JP3960761B2 (ja) | 2001-07-16 | 2001-07-16 | 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3960761B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100338732C (zh) * | 2004-02-13 | 2007-09-19 | 大日本网目版制造株式会社 | 基板处理装置 |
| CN110352470A (zh) * | 2017-03-02 | 2019-10-18 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理系统、基板处理装置以及基板处理方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10199960A (ja) * | 1996-11-15 | 1998-07-31 | Kokusai Electric Co Ltd | 半導体製造装置の基板搬送制御方法 |
| JPH10256342A (ja) * | 1997-03-06 | 1998-09-25 | Kokusai Electric Co Ltd | 搬送制御方法 |
| JPH11163087A (ja) * | 1997-12-01 | 1999-06-18 | Toshiba Microelectronics Corp | 基板処理装置及び搬送スケジューリング方法 |
| JP2001102425A (ja) * | 1999-09-30 | 2001-04-13 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理装置のシミュレート装置並びにコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
-
2001
- 2001-07-16 JP JP2001214730A patent/JP3960761B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| CN110352470B (zh) * | 2017-03-02 | 2023-03-28 | 株式会社斯库林集团 | 基板处理系统、基板处理装置以及基板处理方法 |
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| JP3960761B2 (ja) | 2007-08-15 |
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