JP2003030818A - 磁気記録媒体用支持体及び磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体用支持体及び磁気記録媒体Info
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- JP2003030818A JP2003030818A JP2002124194A JP2002124194A JP2003030818A JP 2003030818 A JP2003030818 A JP 2003030818A JP 2002124194 A JP2002124194 A JP 2002124194A JP 2002124194 A JP2002124194 A JP 2002124194A JP 2003030818 A JP2003030818 A JP 2003030818A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 磁気テープなどの磁気記録媒体に用いられる
寸法安定性、剛性に優れた支持体であって、特に磁気記
録媒体とした際に、高温高湿下で長時間保管してもトラ
ックずれが少なく、走行耐久性、寸法安定性に優れ、良
好な電磁変換性を示す高密磁気記録媒体とすることがで
きる支持体を提供する。 【解決手段】 ポリエステルとポリイミドを含有するポ
リマーからなり、フィルム厚みが2〜6.5μm、一方
のフィルム表面Aの表面粗さRaが1.5〜20nm、
かつ、他方のフィルム表面Bの表面粗さRaが5〜50
nmである二軸延伸ポリエステルフィルムの、少なくと
も表面B上に、金属、半金属及び合金並びにこれらの酸
化物及び複合物から選ばれる一種以上の金属材料からな
る強化膜が形成されてなることを特徴とする磁気記録媒
体用支持体。ポリエステルとポリイミドを含有してなる
二軸延伸ポリエステルフィルムである。
寸法安定性、剛性に優れた支持体であって、特に磁気記
録媒体とした際に、高温高湿下で長時間保管してもトラ
ックずれが少なく、走行耐久性、寸法安定性に優れ、良
好な電磁変換性を示す高密磁気記録媒体とすることがで
きる支持体を提供する。 【解決手段】 ポリエステルとポリイミドを含有するポ
リマーからなり、フィルム厚みが2〜6.5μm、一方
のフィルム表面Aの表面粗さRaが1.5〜20nm、
かつ、他方のフィルム表面Bの表面粗さRaが5〜50
nmである二軸延伸ポリエステルフィルムの、少なくと
も表面B上に、金属、半金属及び合金並びにこれらの酸
化物及び複合物から選ばれる一種以上の金属材料からな
る強化膜が形成されてなることを特徴とする磁気記録媒
体用支持体。ポリエステルとポリイミドを含有してなる
二軸延伸ポリエステルフィルムである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気テープなどの
磁気記録媒体に用いられる支持体と、該支持体を用いて
なる磁性層を有する磁気記録媒体に関する。
磁気記録媒体に用いられる支持体と、該支持体を用いて
なる磁性層を有する磁気記録媒体に関する。
【0002】
【従来の技術】二軸延伸ポリエステルフィルムはその優
れた熱特性、寸法安定性、機械特性および表面形態の制
御のし易さから各種用途に使用されており、特に磁気記
録媒体用などの支持体としての有用性は周知である。近
年、磁気テープは機材の軽量化、小型化、長時間記録化
のため高密度化が要求されている。高密度記録化のため
には、記録波長を短くし、記録信号を小型化することが
有用である。しかしながら、記録信号を小型化すると、
磁気テープの走行時における熱やテープ保存時の熱変形
により、記録トラックのずれが起こりやすくなるという
問題点がある。したがって、テープ使用環境での熱寸法
安定性および保存安定性といった特性の改善に対する要
求がますます強まっている。また、記録信号を小型化す
るためには、磁性層の一層の薄膜化が必要となるが、こ
れに伴い、機械的強度が不充分となるため、フィルムの
腰が弱くなったり伸びやすくなり、例えば、テープダメ
ージを受けやすくなったり、ヘッドタッチが悪化し電磁
変換特性が低下するといった問題が生じやすくなる。
れた熱特性、寸法安定性、機械特性および表面形態の制
御のし易さから各種用途に使用されており、特に磁気記
録媒体用などの支持体としての有用性は周知である。近
年、磁気テープは機材の軽量化、小型化、長時間記録化
のため高密度化が要求されている。高密度記録化のため
には、記録波長を短くし、記録信号を小型化することが
有用である。しかしながら、記録信号を小型化すると、
磁気テープの走行時における熱やテープ保存時の熱変形
により、記録トラックのずれが起こりやすくなるという
問題点がある。したがって、テープ使用環境での熱寸法
安定性および保存安定性といった特性の改善に対する要
求がますます強まっている。また、記録信号を小型化す
るためには、磁性層の一層の薄膜化が必要となるが、こ
れに伴い、機械的強度が不充分となるため、フィルムの
腰が弱くなったり伸びやすくなり、例えば、テープダメ
ージを受けやすくなったり、ヘッドタッチが悪化し電磁
変換特性が低下するといった問題が生じやすくなる。
【0003】そこで、薄膜化されたテープとする場合に
は、上記寸法安定性の要求に応え、従来の厚いテープと
の互換性(ヘッドの当たりや走行性など)を得ることが
望まれ、この観点から、支持体には、強度、寸法安定性
の点から剛性の高い芳香族ポリアミドが用いられてい
る。しかしながら、この芳香族ポリアミドフィルムは現
在市販されている量が従来のポリエステルフィルムと比
べて格段に少なく、芳香族ポリアミドフィルムによる金
属薄膜型磁気記録媒体の量的拡大には制約が多い。
は、上記寸法安定性の要求に応え、従来の厚いテープと
の互換性(ヘッドの当たりや走行性など)を得ることが
望まれ、この観点から、支持体には、強度、寸法安定性
の点から剛性の高い芳香族ポリアミドが用いられてい
る。しかしながら、この芳香族ポリアミドフィルムは現
在市販されている量が従来のポリエステルフィルムと比
べて格段に少なく、芳香族ポリアミドフィルムによる金
属薄膜型磁気記録媒体の量的拡大には制約が多い。
【0004】一方、ポリエチレンテレフタレート(以
下、PETという)やポリエチレンナフタレート(以
下、PENという)は、そのままでは剛性が低いため、
二軸延伸ポリエステルフィルムの高強度化のための技術
として、縦、横二方向に延伸したフィルムを再度縦方向
に延伸して、縦方向に高強度化する方法(例えば、特公
昭42−9270号公報、特公昭43−3040号公
報、特公昭46−1119号公報、特公昭46−112
0号公報、特開昭50−133276号公報、特開昭5
5−22915号公報等)が知られている。しかしなが
ら、使用時にテープが切断する、幅方向の剛性不足によ
りエッジダメージが発生する、応力伸び変形あるいは環
境条件によって寸法変化し、記録トラックにずれが生じ
記録再生時にエラーが発生する、強度が不充分で薄膜対
応が困難となり所望の電磁変換特性が得られない等の問
題が生じ易かった。
下、PETという)やポリエチレンナフタレート(以
下、PENという)は、そのままでは剛性が低いため、
二軸延伸ポリエステルフィルムの高強度化のための技術
として、縦、横二方向に延伸したフィルムを再度縦方向
に延伸して、縦方向に高強度化する方法(例えば、特公
昭42−9270号公報、特公昭43−3040号公
報、特公昭46−1119号公報、特公昭46−112
0号公報、特開昭50−133276号公報、特開昭5
5−22915号公報等)が知られている。しかしなが
ら、使用時にテープが切断する、幅方向の剛性不足によ
りエッジダメージが発生する、応力伸び変形あるいは環
境条件によって寸法変化し、記録トラックにずれが生じ
記録再生時にエラーが発生する、強度が不充分で薄膜対
応が困難となり所望の電磁変換特性が得られない等の問
題が生じ易かった。
【0005】さらに、フィルム表面に金属系の強化膜を
形成することで二軸延伸ポリエステルフィルムを高強度
化させるという方法(特開平12−11376号公報、
特開平11−33925号公報等)が知られているが、
高密度記録化のための厳しい要求の全てを満たすことは
未だ困難である。
形成することで二軸延伸ポリエステルフィルムを高強度
化させるという方法(特開平12−11376号公報、
特開平11−33925号公報等)が知られているが、
高密度記録化のための厳しい要求の全てを満たすことは
未だ困難である。
【0006】また、高い生産性を有する二軸配向ポリエ
ステルフィルムの寸法安定性を改善する技術としては、
ポリエチレンテレフタレートとポリエーテルイミドから
なる二軸配向ポリエステルフィルム(例えば、特開平1
2−141475号公報)が知られている。しかしなが
ら、該二軸配向ポリエステルフィルムでも、磁気記録媒
体としての環境条件下においては湿度膨張係数や温度膨
張係数が未だ十分ではなく、高密度記録媒体として好ま
しい表面形態に精密に記録することに課題も多い。
ステルフィルムの寸法安定性を改善する技術としては、
ポリエチレンテレフタレートとポリエーテルイミドから
なる二軸配向ポリエステルフィルム(例えば、特開平1
2−141475号公報)が知られている。しかしなが
ら、該二軸配向ポリエステルフィルムでも、磁気記録媒
体としての環境条件下においては湿度膨張係数や温度膨
張係数が未だ十分ではなく、高密度記録媒体として好ま
しい表面形態に精密に記録することに課題も多い。
【0007】上述したように、従来の支持体の場合、大
容量の高密度記録媒体への適用に際して、多くの課題が
残されている。
容量の高密度記録媒体への適用に際して、多くの課題が
残されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
の問題を解決し、寸法安定性、剛性に優れた支持体であ
って、特に磁気記録媒体とした際に、高温高湿下で長時
間保管してもトラックずれが少なく、走行耐久性、寸法
安定性に優れ、良好な電磁変換性を示す高密磁気記録媒
体とすることができる支持体を提供することにある。
の問題を解決し、寸法安定性、剛性に優れた支持体であ
って、特に磁気記録媒体とした際に、高温高湿下で長時
間保管してもトラックずれが少なく、走行耐久性、寸法
安定性に優れ、良好な電磁変換性を示す高密磁気記録媒
体とすることができる支持体を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、ポリエステル
とポリイミドを含有するポリマーからなり、フィルム厚
みが2〜6.5μm、一方のフィルム表面Aの表面粗さ
Raが1.5〜20nm、かつ、他方のフィルム表面B
の表面粗さRaが5〜50nmである二軸延伸ポリエス
テルフィルムの、少なくとも表面B上に、金属、半金属
及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれる
一種以上の金属材料からなる強化膜が形成されてなる磁
気記録媒体用支持体である。
とポリイミドを含有するポリマーからなり、フィルム厚
みが2〜6.5μm、一方のフィルム表面Aの表面粗さ
Raが1.5〜20nm、かつ、他方のフィルム表面B
の表面粗さRaが5〜50nmである二軸延伸ポリエス
テルフィルムの、少なくとも表面B上に、金属、半金属
及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれる
一種以上の金属材料からなる強化膜が形成されてなる磁
気記録媒体用支持体である。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明に用いられるポリエステル
は、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸または脂
肪族ジカルボン酸とジオールを主たる構成成分とするポ
リエステルである。芳香族ジカルボン酸としては、例え
ば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4−
ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボ
ン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−ジ
フェニルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルエーテル
ジカルボン酸、4,4’−ジフェニルスルホンジカルボ
ン酸等を用いることができ、なかでも好ましくは、テレ
フタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸
を用いることができる。脂環族ジカルボン酸としては例
えば、シクロヘキサンジカルボン酸などを用いることが
できる。脂肪族ジカルボン酸としては例えば、アジピン
酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を用
いることができる。これらの酸成分は一種のみ用いても
よく、二種以上併用してもよく、さらには、ヒドロキシ
エトキシ安息香酸などのオキシ酸等を一部共重合しても
よい。
は、芳香族ジカルボン酸、脂環族ジカルボン酸または脂
肪族ジカルボン酸とジオールを主たる構成成分とするポ
リエステルである。芳香族ジカルボン酸としては、例え
ば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4−
ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボ
ン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−ジ
フェニルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルエーテル
ジカルボン酸、4,4’−ジフェニルスルホンジカルボ
ン酸等を用いることができ、なかでも好ましくは、テレ
フタル酸、フタル酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸
を用いることができる。脂環族ジカルボン酸としては例
えば、シクロヘキサンジカルボン酸などを用いることが
できる。脂肪族ジカルボン酸としては例えば、アジピン
酸、スベリン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等を用
いることができる。これらの酸成分は一種のみ用いても
よく、二種以上併用してもよく、さらには、ヒドロキシ
エトキシ安息香酸などのオキシ酸等を一部共重合しても
よい。
【0011】また、ジオール成分としては、例えば、エ
チレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、1,3
−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−
ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2
−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサ
ンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリアルキレングリコール、2,2’−ビス(4’−β
ーヒドロキシエトキシフェニル)プロパン等を用いるこ
とができ、なかでも好ましくは、エチレングリコール、
1,4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメ
タノール、ジエチレングリコール等、特に好ましくは、
エチレングリコールを用いることができる。これらのジ
オール成分は一種のみ用いてもよく、二種以上併用して
もよい。
チレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、1,3
−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−
ペンタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、1,2
−シクロヘキサンジメタノール、1,3−シクロヘキサ
ンジメタノール、1,4−シクロヘキサンジメタノー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ポリアルキレングリコール、2,2’−ビス(4’−β
ーヒドロキシエトキシフェニル)プロパン等を用いるこ
とができ、なかでも好ましくは、エチレングリコール、
1,4−ブタンジオール、1,4−シクロヘキサンジメ
タノール、ジエチレングリコール等、特に好ましくは、
エチレングリコールを用いることができる。これらのジ
オール成分は一種のみ用いてもよく、二種以上併用して
もよい。
【0012】なかでも、エチレンテレフタレート単位を
主たる構成成分とするポリエチレンテレフタレートが好
ましい。
主たる構成成分とするポリエチレンテレフタレートが好
ましい。
【0013】また、このポリエステルには、トリメリッ
ト酸、ピロメリット酸、グリセロール、ペンタエリスリ
トール、2,4−ジオキシ安息香酸、ラウリルアルコー
ル、イソシアン酸フェニル等の多官能化合物等の他の化
合物を、ポリマーが実質的に線状である範囲内で共重合
させてもよい。
ト酸、ピロメリット酸、グリセロール、ペンタエリスリ
トール、2,4−ジオキシ安息香酸、ラウリルアルコー
ル、イソシアン酸フェニル等の多官能化合物等の他の化
合物を、ポリマーが実質的に線状である範囲内で共重合
させてもよい。
【0014】本発明に用いられるポリエステルの固有粘
度は、製膜安定性とポリイミドとの混練のしやすさの観
点から、好ましくは0.55〜2.0dl/g、より好
ましくは0.6〜1.4dl/gである。
度は、製膜安定性とポリイミドとの混練のしやすさの観
点から、好ましくは0.55〜2.0dl/g、より好
ましくは0.6〜1.4dl/gである。
【0015】本発明に用いられるポリイミドとしては、
特に限定されないが、溶融成形性であれば良いが、例え
ば、下記一般式で示されるような構造単体を含有するも
のが好ましい。
特に限定されないが、溶融成形性であれば良いが、例え
ば、下記一般式で示されるような構造単体を含有するも
のが好ましい。
【0016】
【化1】
ただし、式中のR1 は、
【0017】
【化2】
【0018】
【化3】
などの脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、芳香族炭
化水素基から選ばれた一種もしくは二種以上の基を表し
て、また、式中のR2 は、
化水素基から選ばれた一種もしくは二種以上の基を表し
て、また、式中のR2 は、
【0019】
【化4】
などの脂肪族炭化水素基、脂環族炭化水素基、芳香族炭
化水素基から選ばれた一種もしくは二種以上の基を表
す。
化水素基から選ばれた一種もしくは二種以上の基を表
す。
【0020】かかるポリイミドは、テトラカルボン酸お
よび/またはその酸無水物と、脂肪族一級モノアミン、
芳香族一級モノアミン、脂肪族一級ジアミンおよび芳香
族一級ジアミンよりなる群から選ばれる一種もしくは二
種以上の化合物を脱水縮合することにより得ることがで
きる。
よび/またはその酸無水物と、脂肪族一級モノアミン、
芳香族一級モノアミン、脂肪族一級ジアミンおよび芳香
族一級ジアミンよりなる群から選ばれる一種もしくは二
種以上の化合物を脱水縮合することにより得ることがで
きる。
【0021】テトラカルボン酸および/またはその酸無
水物としては、例えば、エチレンテトラカルボン酸、
1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタ
ンテトラカルボン酸、ピロメリット酸、1,2,3,4−
ベンゼンテトラカルボン酸、3,3',4,4'−ビフェニ
ルテトラカルボン酸、2,2',3,3'−ビフェニルテト
ラカルボン酸、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸、2,2',3,3'−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタ
ン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン、1,
1'−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン、
2,2'−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン、2,2'−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プ
ロパン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
ル、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル、
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン、ビス
(2,3−ジカルボキシフェニル)スルホン、2,3,6,
7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,4,5,8−ナフ
タレンテトラカルボン酸、1,2,5,6−ナフタレンテ
トラカルボン酸、2,3,6,7−アントラセンテトラカ
ルボン酸、1,2,7,8−フェナントレンテトラカルボ
ン酸、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸、4,
4'−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸、4,4'
−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸、2,2'−ビ
ス[(2,3−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロ
パン等、および/またはそれらの酸無水物等が用いられ
る。
水物としては、例えば、エチレンテトラカルボン酸、
1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、シクロペンタ
ンテトラカルボン酸、ピロメリット酸、1,2,3,4−
ベンゼンテトラカルボン酸、3,3',4,4'−ビフェニ
ルテトラカルボン酸、2,2',3,3'−ビフェニルテト
ラカルボン酸、3,3',4,4'−ベンゾフェノンテトラ
カルボン酸、2,2',3,3'−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)メタ
ン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)メタン、1,
1'−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エタン、
2,2'−ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)プロパ
ン、2,2'−ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)プ
ロパン、ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)エーテ
ル、ビス(2,3−ジカルボキシフェニル)エーテル、
ビス(3,4−ジカルボキシフェニル)スルホン、ビス
(2,3−ジカルボキシフェニル)スルホン、2,3,6,
7−ナフタレンテトラカルボン酸、1,4,5,8−ナフ
タレンテトラカルボン酸、1,2,5,6−ナフタレンテ
トラカルボン酸、2,3,6,7−アントラセンテトラカ
ルボン酸、1,2,7,8−フェナントレンテトラカルボ
ン酸、3,4,9,10−ペリレンテトラカルボン酸、4,
4'−(p−フェニレンジオキシ)ジフタル酸、4,4'
−(m−フェニレンジオキシ)ジフタル酸、2,2'−ビ
ス[(2,3−ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロ
パン等、および/またはそれらの酸無水物等が用いられ
る。
【0022】脂肪族一級モノアミンとしては、例えば、
炭素数2〜22の飽和または不飽和の直鎖、分岐または
脂環系のモノアミンが用いられ、具体的には、エチルア
ミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミ
ン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、
デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、ト
リデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルア
ミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オク
タデシルアミン、ノナデシルアミン、エイコシルアミ
ン、ヘネイコシルアミン、ドコシルアミン、シクロヘキ
シルアミン、メチルシクロヘキシルアミン、ジメチルシ
クロヘキシルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミンお
よびこれらの構造異性体などが用いられる。
炭素数2〜22の飽和または不飽和の直鎖、分岐または
脂環系のモノアミンが用いられ、具体的には、エチルア
ミン、ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミ
ン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、
デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、ト
リデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルア
ミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オク
タデシルアミン、ノナデシルアミン、エイコシルアミ
ン、ヘネイコシルアミン、ドコシルアミン、シクロヘキ
シルアミン、メチルシクロヘキシルアミン、ジメチルシ
クロヘキシルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミンお
よびこれらの構造異性体などが用いられる。
【0023】芳香族一級モノアミンとしては、例えば、
非置換あるいは炭素数1〜22のアルキル置換の一級ア
ニリンが用いられ、具体的には、アニリン、トルイジ
ン、エチルアニリン、プロピルアニリン、ブチルアニリ
ン、ペンチルアニリン、ヘキシルアニリン、ヘプチルア
ニリン、オクチルアニリン、ノニルアニリン、デシルア
ニリン、ウンデシルアニリン、ドデシルアニリン、トリ
デシルアニリン、テトラデシルアニリン、ペンタデシル
アニリン、ヘキサデシルアニリン、ヘプタデシルアニリ
ン、オクタデシルアニリン、ノナデシルアニリン、エイ
コシルアニリン、ヘネイコシルアニリン、ドコシルアニ
リン、およびこれらの構造異性体等が用いられる。
非置換あるいは炭素数1〜22のアルキル置換の一級ア
ニリンが用いられ、具体的には、アニリン、トルイジ
ン、エチルアニリン、プロピルアニリン、ブチルアニリ
ン、ペンチルアニリン、ヘキシルアニリン、ヘプチルア
ニリン、オクチルアニリン、ノニルアニリン、デシルア
ニリン、ウンデシルアニリン、ドデシルアニリン、トリ
デシルアニリン、テトラデシルアニリン、ペンタデシル
アニリン、ヘキサデシルアニリン、ヘプタデシルアニリ
ン、オクタデシルアニリン、ノナデシルアニリン、エイ
コシルアニリン、ヘネイコシルアニリン、ドコシルアニ
リン、およびこれらの構造異性体等が用いられる。
【0024】脂肪族一級ジアミンとしては、例えば、炭
素数1〜12のメチレン基で結合された一級ジアミンや
脂環基を有するジアミンが用いられ、具体的には、エチ
レンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレン
ジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジ
アミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジア
ミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、
ウンデカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、
1,3−ビスアミノシクロヘキサン、ジアミノジシクロ
ヘキシルメタン、m−キシレンジアミン、およびこれら
の構造異性体などが用いられる。
素数1〜12のメチレン基で結合された一級ジアミンや
脂環基を有するジアミンが用いられ、具体的には、エチ
レンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレン
ジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジ
アミン、ヘプタメチレンジアミン、オクタメチレンジア
ミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、
ウンデカメチレンジアミン、ドデカメチレンジアミン、
1,3−ビスアミノシクロヘキサン、ジアミノジシクロ
ヘキシルメタン、m−キシレンジアミン、およびこれら
の構造異性体などが用いられる。
【0025】芳香族一級ジアミンとしては、例えば、ベ
ンジジン、ジメチルベンジジン、ジアミノジフェニルメ
タン、ジアミノジトリルメタン、ジアミノジフェニルエ
タン、ジアミノジフェニルプロパン、ジアミノジフェニ
ルブタン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジフ
ェニルスルホン、ジアミノジフェニルベンゾフェノン、
o,m,p−フェニレンジアミン、トリレンジアミン、キ
シレンジアミン等およびこれらの例示した芳香族一級ジ
アミンの炭化水素基を構造単位に有する芳香族一級ジア
ミン等が用いられる。
ンジジン、ジメチルベンジジン、ジアミノジフェニルメ
タン、ジアミノジトリルメタン、ジアミノジフェニルエ
タン、ジアミノジフェニルプロパン、ジアミノジフェニ
ルブタン、ジアミノジフェニルエーテル、ジアミノジフ
ェニルスルホン、ジアミノジフェニルベンゾフェノン、
o,m,p−フェニレンジアミン、トリレンジアミン、キ
シレンジアミン等およびこれらの例示した芳香族一級ジ
アミンの炭化水素基を構造単位に有する芳香族一級ジア
ミン等が用いられる。
【0026】本発明で用いるポリイミドは、ポリエステ
ルと相溶し得るポリイミドであれば特に限定されない
が、ポリエステルとの溶融成形性や取り扱い性などの点
から、例えば、下記一般式で示されるように、ポリイミ
ド構成成分にエーテル結合を含有するポリエーテルイミ
ドが好ましい。
ルと相溶し得るポリイミドであれば特に限定されない
が、ポリエステルとの溶融成形性や取り扱い性などの点
から、例えば、下記一般式で示されるように、ポリイミ
ド構成成分にエーテル結合を含有するポリエーテルイミ
ドが好ましい。
【0027】
【化5】
(ただし、上記式中、R3 は、6〜30個の炭素原子を
有する2価の芳香族または脂肪族残基;R4 は6〜30
個の炭素原子を有する2価の芳香族残基、2〜20個の
炭素原子を有するアルキレン基、2〜20個の炭素原子
を有するシクロアルキレン基、及び2〜8個の炭素原子
を有するアルキレン基で連鎖停止されたポリジオルガノ
シロキサン基からなる群より選択された2価の有機基で
ある。)
有する2価の芳香族または脂肪族残基;R4 は6〜30
個の炭素原子を有する2価の芳香族残基、2〜20個の
炭素原子を有するアルキレン基、2〜20個の炭素原子
を有するシクロアルキレン基、及び2〜8個の炭素原子
を有するアルキレン基で連鎖停止されたポリジオルガノ
シロキサン基からなる群より選択された2価の有機基で
ある。)
【0028】上記R3 、R4 としては、例えば、下記式
群に示される芳香族残基を挙げることができる。
群に示される芳香族残基を挙げることができる。
【化6】
(nは1〜5の整数)
【0029】本発明では、ポリエステルとの相溶性、コ
スト、溶融成形性等の観点から、下記式で示される構造
単位を有する、2,2−ビス[4−(2,3−ジカルボ
キシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物とm−フ
ェニレンジアミン、またはp−フェニレンジアミンとの
縮合物が好ましい。このポリエーテルイミド(以下PE
Iという)は、“ウルテム”(登録商標)の商標名で、
ジーイープラスチックス社より入手可能である。
スト、溶融成形性等の観点から、下記式で示される構造
単位を有する、2,2−ビス[4−(2,3−ジカルボ
キシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物とm−フ
ェニレンジアミン、またはp−フェニレンジアミンとの
縮合物が好ましい。このポリエーテルイミド(以下PE
Iという)は、“ウルテム”(登録商標)の商標名で、
ジーイープラスチックス社より入手可能である。
【0030】
【化7】
または
【化8】
(nは2以上の整数、好ましくは20〜50の整数)
【0031】ここでいう相溶とは、ブレンドして得られ
たチップのガラス転移温度(Tg)が単一であることに
より判断できる。また、得られたチップのTgとは、ポ
リエステルのペレットのTgとポリイミドのペレットの
Tgの間に存在するものを指し、さらに、熱流束のギャ
ップが、ポリエステルの熱流束のギャップの1/10以
下のものは含まない。さらに必要に応じて相溶化剤を用
いることは分散系を制御できるため好ましいことであ
る。この際、相溶化剤の種類はポリマーの種類によって
異なるが、添加量は0.01〜10重量%が好ましい。
たチップのガラス転移温度(Tg)が単一であることに
より判断できる。また、得られたチップのTgとは、ポ
リエステルのペレットのTgとポリイミドのペレットの
Tgの間に存在するものを指し、さらに、熱流束のギャ
ップが、ポリエステルの熱流束のギャップの1/10以
下のものは含まない。さらに必要に応じて相溶化剤を用
いることは分散系を制御できるため好ましいことであ
る。この際、相溶化剤の種類はポリマーの種類によって
異なるが、添加量は0.01〜10重量%が好ましい。
【0032】本発明において、ポリイミドをポリエステ
ルに添加する時期は、特に限定されないが、ポリエステ
ルの重合前、例えば、エステル化反応前に添加してもよ
いし、重合後に溶融押出前に添加してもよい。また、溶
融押出前に、ポリエステルとポリイミドをペレタイズし
てもよい。
ルに添加する時期は、特に限定されないが、ポリエステ
ルの重合前、例えば、エステル化反応前に添加してもよ
いし、重合後に溶融押出前に添加してもよい。また、溶
融押出前に、ポリエステルとポリイミドをペレタイズし
てもよい。
【0033】本発明における二軸配向ポリエステルフィ
ルムは、不活性粒子を含有することが好ましい。不活性
粒子としては、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、
炭酸カルシウム、カオリン、タルク、湿式または乾式シ
リカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリ
ウム、ケイ酸アルミニウム、アルミナおよびジルコニア
等の無機粒子、アクリル酸、スチレン等を構成成分とす
る有機粒子、ポリエステル重合反応時に添加する触媒等
によって析出する、いわゆる内部粒子等を挙げることが
できる。この中でも、高分子架橋粒子、アルミナ、球状
シリカ、ケイ酸アルミニウムが特に好ましい。
ルムは、不活性粒子を含有することが好ましい。不活性
粒子としては、例えば、クレー、マイカ、酸化チタン、
炭酸カルシウム、カオリン、タルク、湿式または乾式シ
リカ、コロイド状シリカ、リン酸カルシウム、硫酸バリ
ウム、ケイ酸アルミニウム、アルミナおよびジルコニア
等の無機粒子、アクリル酸、スチレン等を構成成分とす
る有機粒子、ポリエステル重合反応時に添加する触媒等
によって析出する、いわゆる内部粒子等を挙げることが
できる。この中でも、高分子架橋粒子、アルミナ、球状
シリカ、ケイ酸アルミニウムが特に好ましい。
【0034】本発明における二軸配向ポリエステルフィ
ルムは、本発明の効果を阻害しない範囲内で、その他の
各種添加剤、例えば熱安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料、染料、脂肪酸エステ
ル、ワックスなどの有機滑剤などを添加することもでき
る。
ルムは、本発明の効果を阻害しない範囲内で、その他の
各種添加剤、例えば熱安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤、帯電防止剤、難燃剤、顔料、染料、脂肪酸エステ
ル、ワックスなどの有機滑剤などを添加することもでき
る。
【0035】また、本発明の二軸配向ポリエステルフィ
ルムは、フィルム厚みが2〜6.5μmであり、好まし
くは3.5〜6μmである。厚みが6.5μmを超える
と、強化膜による曲げ剛性の効果が少なくなる。一般に
フィルムの曲げ剛性は厚さの3乗に比例することから、
フィルムの厚みが増えるとフィルムの剛性そのものが向
上し、強化膜による剛性の向上率が相対的に減少するか
らである。また、厚みが2μm未満であると、基本的に
フィルム自体の曲げ剛性が低すぎるため、強化膜の向上
が加味されても十分な剛性が発現するには至らない。本
発明の強化膜の向上効果は厚み2〜6.5μmにおいて
特に顕著である。
ルムは、フィルム厚みが2〜6.5μmであり、好まし
くは3.5〜6μmである。厚みが6.5μmを超える
と、強化膜による曲げ剛性の効果が少なくなる。一般に
フィルムの曲げ剛性は厚さの3乗に比例することから、
フィルムの厚みが増えるとフィルムの剛性そのものが向
上し、強化膜による剛性の向上率が相対的に減少するか
らである。また、厚みが2μm未満であると、基本的に
フィルム自体の曲げ剛性が低すぎるため、強化膜の向上
が加味されても十分な剛性が発現するには至らない。本
発明の強化膜の向上効果は厚み2〜6.5μmにおいて
特に顕著である。
【0036】本発明に用いられる二軸延伸ポリエステル
フィルムのフィルム表面Aの表面粗さRaは1.5〜2
0nmであり、好ましくは3〜15nm、さらに好まし
くは4〜8nmである。表面AのRaが上記範囲未満で
あると、フィルム表面A上に形成される磁性層が平滑す
ぎて、デジタルリニアテープ(DLT)、リニアテープ
オープン(LTO)、クオーターインチカセット(QI
C)、デジタルビデオカセット(DVC)等のデータ記
録装置での磁気記録・再生時に磁気ヘッドにより磁性層
が摩耗してしまう。また、表面AのRaが上記範囲を超
えると、該磁性層が粗面すぎて、磁気テープの電磁変換
特性が低下してしまう。つまり、表面AのRaを上記範
囲内とすることで、磁性層の記録・再生時の磁気ヘッド
による摩耗を極力少なくし、及び磁気記録テープの電磁
変換特性を良好に保つことが可能となる。
フィルムのフィルム表面Aの表面粗さRaは1.5〜2
0nmであり、好ましくは3〜15nm、さらに好まし
くは4〜8nmである。表面AのRaが上記範囲未満で
あると、フィルム表面A上に形成される磁性層が平滑す
ぎて、デジタルリニアテープ(DLT)、リニアテープ
オープン(LTO)、クオーターインチカセット(QI
C)、デジタルビデオカセット(DVC)等のデータ記
録装置での磁気記録・再生時に磁気ヘッドにより磁性層
が摩耗してしまう。また、表面AのRaが上記範囲を超
えると、該磁性層が粗面すぎて、磁気テープの電磁変換
特性が低下してしまう。つまり、表面AのRaを上記範
囲内とすることで、磁性層の記録・再生時の磁気ヘッド
による摩耗を極力少なくし、及び磁気記録テープの電磁
変換特性を良好に保つことが可能となる。
【0037】本発明に用いられる二軸延伸ポリエステル
フィルムのフィルム表面Aとは反対側のフィルム表面B
の表面粗さRaは5〜50nmであり、好ましくは6〜
30nm、さらに好ましくは7〜10nmである。表面
BのRaを上記範囲内とすることにより、フィルムを製
膜した後、フィルムを所定の幅にスリットする際、巻姿
の良い製品を採取しやすく、支持体のフィルム表面A上
に磁性層を設けた後にロール状に巻き取った状態におい
て、支持体のフィルム表面Bの粗さが表面A側に転写さ
れ磁性層にうねり状の変形が起きるのを最小限とするこ
とが可能となる。
フィルムのフィルム表面Aとは反対側のフィルム表面B
の表面粗さRaは5〜50nmであり、好ましくは6〜
30nm、さらに好ましくは7〜10nmである。表面
BのRaを上記範囲内とすることにより、フィルムを製
膜した後、フィルムを所定の幅にスリットする際、巻姿
の良い製品を採取しやすく、支持体のフィルム表面A上
に磁性層を設けた後にロール状に巻き取った状態におい
て、支持体のフィルム表面Bの粗さが表面A側に転写さ
れ磁性層にうねり状の変形が起きるのを最小限とするこ
とが可能となる。
【0038】本発明に用いられる二軸延伸ポリエステル
フィルムに含有される不活性粒子の平均粒径は0.00
1〜2μmが好ましく、より好ましくは0.005〜1
μm、さらに好ましくは0.01〜0.5μmである。
不活性粒子の平均粒径が上記範囲未満であると、フィル
ム表面突起としての役割を果たさないため好ましくな
い。また、上記範囲を超えると、粗大突起となって脱落
しやすくなるため好ましくない。
フィルムに含有される不活性粒子の平均粒径は0.00
1〜2μmが好ましく、より好ましくは0.005〜1
μm、さらに好ましくは0.01〜0.5μmである。
不活性粒子の平均粒径が上記範囲未満であると、フィル
ム表面突起としての役割を果たさないため好ましくな
い。また、上記範囲を超えると、粗大突起となって脱落
しやすくなるため好ましくない。
【0039】また、本発明に用いられる二軸延伸ポリエ
ステルフィルムに含有される不活性粒子の含有量は、
0.01〜3重量%が好ましく、より好ましくは0.0
2〜1重量%、さらに好ましくは0.05〜0.5重量
%である。不活性粒子の含有量が上記範囲未満である
と、フィルムの走行特性等に有効でないので好ましくな
い。また、上記範囲を超えると凝集して粗大突起となり
脱落しやすくなるため好ましくない。
ステルフィルムに含有される不活性粒子の含有量は、
0.01〜3重量%が好ましく、より好ましくは0.0
2〜1重量%、さらに好ましくは0.05〜0.5重量
%である。不活性粒子の含有量が上記範囲未満である
と、フィルムの走行特性等に有効でないので好ましくな
い。また、上記範囲を超えると凝集して粗大突起となり
脱落しやすくなるため好ましくない。
【0040】本発明に用いられる二軸配向ポリエステル
フィルムは、ポリエステルとポリイミドを含有するポリ
マーからなる単層フィルムであってもよいし、また、ポ
リエステルとポリイミドを含有するポリマからなる層
を、少なくとも一層有する積層フィルムであってもよ
い。
フィルムは、ポリエステルとポリイミドを含有するポリ
マーからなる単層フィルムであってもよいし、また、ポ
リエステルとポリイミドを含有するポリマからなる層
を、少なくとも一層有する積層フィルムであってもよ
い。
【0041】また、本発明の支持体に用いる二軸配向ポ
リエステルフィルムは、ポリイミドを5〜30重量%含
有することが好ましい。より好ましくは10〜25重量
%である。なお、積層フィルムにおけるポリイミド含有
量は、ポリイミドを含有してなる層におけるポリイミド
の含有量のことである。上記範囲内のポリイミド含有量
は、寸法安定性あるいは延伸による強度を実用に耐え得
る水準とするために好ましい。特にポリイミドの含有量
が30重量%以下である場合は、フィルムの結晶性が大
きくなるので好ましい。
リエステルフィルムは、ポリイミドを5〜30重量%含
有することが好ましい。より好ましくは10〜25重量
%である。なお、積層フィルムにおけるポリイミド含有
量は、ポリイミドを含有してなる層におけるポリイミド
の含有量のことである。上記範囲内のポリイミド含有量
は、寸法安定性あるいは延伸による強度を実用に耐え得
る水準とするために好ましい。特にポリイミドの含有量
が30重量%以下である場合は、フィルムの結晶性が大
きくなるので好ましい。
【0042】また、本発明では、フィルムの基層部の片
側にフィルムの走行性やハンドリング性を良化させる役
割を担うフィルム層を薄膜積層した2層構造をとるもの
が特に好ましい。なお、基層部とは、層厚みにおいて、
最も厚みの厚い層のことであり、それ以外が積層部であ
る。磁気材料用途で重要とされる弾性率や寸法安定性等
の物性は、主に基層部の物性によって決定される。ま
た、本発明のフィルム層の積層部は、不活性粒子の平均
粒径d(nm)と積層厚さt(nm)との関係が、0.
2d≦t≦10dである場合、均一な高さの突起が得ら
れるため好ましい。
側にフィルムの走行性やハンドリング性を良化させる役
割を担うフィルム層を薄膜積層した2層構造をとるもの
が特に好ましい。なお、基層部とは、層厚みにおいて、
最も厚みの厚い層のことであり、それ以外が積層部であ
る。磁気材料用途で重要とされる弾性率や寸法安定性等
の物性は、主に基層部の物性によって決定される。ま
た、本発明のフィルム層の積層部は、不活性粒子の平均
粒径d(nm)と積層厚さt(nm)との関係が、0.
2d≦t≦10dである場合、均一な高さの突起が得ら
れるため好ましい。
【0043】また、本発明の支持体では、上記ポリエス
テルとポリイミドを含有してなる二軸延伸ポリエステル
フィルムの少なくともフィルム表面B上に、金属、半金
属及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれ
る一種以上の金属材料からなる強化膜が形成されている
必要がある。
テルとポリイミドを含有してなる二軸延伸ポリエステル
フィルムの少なくともフィルム表面B上に、金属、半金
属及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれ
る一種以上の金属材料からなる強化膜が形成されている
必要がある。
【0044】少なくともフィルム表面B上に形成される
強化膜は、具体的の材料としては、Al、Cu、Zn、
Sn、Ni、Ag、Co、Fe、Mnなどの金属、S
i、Ge、As、Sc、Sbなどの半金属が挙げられ、
これらの金属及び半金属の合金としては、Fe−Co、
Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−C
u、Co−Cu、Co−Au、Co−Y、Co−La、
Co−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、N
i−Cu、Mn−Bi、Mn−Sb、Mn−Al、Fe
−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、
Ni−Co−Cr等が挙げられる。また、これらの金
属、半金属及び合金の酸化物は、例えば蒸着時に酸素ガ
スを導入することで容易に得られる。また、これらの金
属、半金属及び合金の複合物としては、Fe−Si−
O、Si−C、Si−N、Cu−Al−O、Si−N−
O、Si−C−Oなどが挙げられる。
強化膜は、具体的の材料としては、Al、Cu、Zn、
Sn、Ni、Ag、Co、Fe、Mnなどの金属、S
i、Ge、As、Sc、Sbなどの半金属が挙げられ、
これらの金属及び半金属の合金としては、Fe−Co、
Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−C
u、Co−Cu、Co−Au、Co−Y、Co−La、
Co−Pr、Co−Gd、Co−Sm、Co−Pt、N
i−Cu、Mn−Bi、Mn−Sb、Mn−Al、Fe
−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、
Ni−Co−Cr等が挙げられる。また、これらの金
属、半金属及び合金の酸化物は、例えば蒸着時に酸素ガ
スを導入することで容易に得られる。また、これらの金
属、半金属及び合金の複合物としては、Fe−Si−
O、Si−C、Si−N、Cu−Al−O、Si−N−
O、Si−C−Oなどが挙げられる。
【0045】強化膜の形成方法は問わないが、真空蒸着
法が一般的であり、その他にもスパッタリング法やイオ
ンプレーティング法などを用いることができる。特に強
化膜をなす金属材料としては、アルミニウム、またはコ
バルトを主体とする強磁性金属とその酸化物が好適であ
り、この場合、真空中の斜め蒸着により、強化膜を形成
することが好ましい。強化膜の厚さは、20〜500n
mが好ましく、より好ましくは50〜300nmであ
る。この強化膜はフィルム表面B上に設けられるが、さ
らに、フィルム表面A上にも強化膜が設けられてもよ
い。なお、フィルム表面A上にも強化膜を設ける場合に
は、磁性層形成よりも先に表面A上に強化膜が設けられ
る。
法が一般的であり、その他にもスパッタリング法やイオ
ンプレーティング法などを用いることができる。特に強
化膜をなす金属材料としては、アルミニウム、またはコ
バルトを主体とする強磁性金属とその酸化物が好適であ
り、この場合、真空中の斜め蒸着により、強化膜を形成
することが好ましい。強化膜の厚さは、20〜500n
mが好ましく、より好ましくは50〜300nmであ
る。この強化膜はフィルム表面B上に設けられるが、さ
らに、フィルム表面A上にも強化膜が設けられてもよ
い。なお、フィルム表面A上にも強化膜を設ける場合に
は、磁性層形成よりも先に表面A上に強化膜が設けられ
る。
【0046】本発明では、特に、強化膜が、金属、半金
属及び合金から選ばれた金属材料の酸化物を含み、該強
化膜中における酸素濃度の分布が該強化膜中の表面近傍
で大きいことが好ましく、更に、強化膜中の酸素濃度の
分布が該強化膜の表面近傍と該強化膜と前記フィルムの
界面近傍とにおいて大きいことが、フィルムの剛性の面
から好ましい。このような酸素分布を有する強化膜は、
成膜時又は成膜後、表面を酸化性ガスで強制的に酸化処
理することにより作製することができる。また強化膜中
の酸素濃度の分布の測定は、オージェ電子分光分析の深
さ方向の分析により行うことができる。但し、強化膜の
表面付近やフィルムとの界面付近は異物の混入などの影
響により、オージェプロファイルの形状を正確に求める
ことは困難であり、本発明においてこれらの部分の酸素
濃度の変化は排除される。
属及び合金から選ばれた金属材料の酸化物を含み、該強
化膜中における酸素濃度の分布が該強化膜中の表面近傍
で大きいことが好ましく、更に、強化膜中の酸素濃度の
分布が該強化膜の表面近傍と該強化膜と前記フィルムの
界面近傍とにおいて大きいことが、フィルムの剛性の面
から好ましい。このような酸素分布を有する強化膜は、
成膜時又は成膜後、表面を酸化性ガスで強制的に酸化処
理することにより作製することができる。また強化膜中
の酸素濃度の分布の測定は、オージェ電子分光分析の深
さ方向の分析により行うことができる。但し、強化膜の
表面付近やフィルムとの界面付近は異物の混入などの影
響により、オージェプロファイルの形状を正確に求める
ことは困難であり、本発明においてこれらの部分の酸素
濃度の変化は排除される。
【0047】ここで、「酸素濃度が大きい」とは、相対
的に、その他の部分よりも酸素濃度が大きいことであ
り、特に酸素濃度の変動が10原子%以上ある場合が好
ましい。
的に、その他の部分よりも酸素濃度が大きいことであ
り、特に酸素濃度の変動が10原子%以上ある場合が好
ましい。
【0048】また、本発明において、二軸延伸ポリエス
テルのフィルムの両面に強化膜を形成する場合は、両面
とも同一の金属材料で形成することが生産性の面から望
ましい。
テルのフィルムの両面に強化膜を形成する場合は、両面
とも同一の金属材料で形成することが生産性の面から望
ましい。
【0049】上述したように、ポリエステルとポリイミ
ドを含有してなる二軸延伸ポリエステルフィルムの少な
くともフィルム表面B上に、金属、半金属及び合金並び
にこれらの酸化物及び複合物から選ばれる一種以上の金
属材料からなる強化膜を形成することにより、該二軸延
伸ポリエステルフィルムと該強化膜との界面の密着性が
高まるため、二軸延伸ポリエステルフィルムの潜在的な
剛性や寸法安定性等といった磁気記録媒体に要求される
フィルムの物性が著しく向上する。それにより、高温高
湿度下で長時間保管した後でもデジタル記録信号が良好
に再生できる。また、磁気記録テープの走行面側から侵
入しベースフィルムを通過する水分や酸素の量を減少さ
せることができる。さらに、フィルムの剛性不足による
磁気ヘッドとの接触力不足、走行時のテープ切れ、磁気
記録媒体製造時の工程通過性の問題等を解決することが
でき、磁気記録媒体用に使用すると優れた結果を得るこ
とができ好適となるのである。
ドを含有してなる二軸延伸ポリエステルフィルムの少な
くともフィルム表面B上に、金属、半金属及び合金並び
にこれらの酸化物及び複合物から選ばれる一種以上の金
属材料からなる強化膜を形成することにより、該二軸延
伸ポリエステルフィルムと該強化膜との界面の密着性が
高まるため、二軸延伸ポリエステルフィルムの潜在的な
剛性や寸法安定性等といった磁気記録媒体に要求される
フィルムの物性が著しく向上する。それにより、高温高
湿度下で長時間保管した後でもデジタル記録信号が良好
に再生できる。また、磁気記録テープの走行面側から侵
入しベースフィルムを通過する水分や酸素の量を減少さ
せることができる。さらに、フィルムの剛性不足による
磁気ヘッドとの接触力不足、走行時のテープ切れ、磁気
記録媒体製造時の工程通過性の問題等を解決することが
でき、磁気記録媒体用に使用すると優れた結果を得るこ
とができ好適となるのである。
【0050】本発明の支持体の長手方向の弾性率は7〜
15GPa、かつ、長手方向と幅方向の弾性率の和が1
1〜30GPaであることが好ましい。より好ましくは
長手方向の弾性率は7.5〜14.5GPa、最も好ま
しくは8〜14GPaの範囲であり、長手方向と幅方向
の弾性率の和は12〜27GPaがより好ましく、さら
に好ましくは13〜24GPaである。長手方向の弾性
率が上記範囲未満であると、テープドライブ内での長手
方向への張力によって長手方向に伸び、この伸び変形に
より幅方向に収縮して、記録トラックがずれるという問
題が発生し易い。さらにドロップアウトの多発により、
データの保存安定性が悪化したり、電磁変換特性が悪化
し易い。一方、長手方向の弾性率が上記範囲を超える
と、テープ破断が起きやすくなったり、幅方向のヤング
率が不足し、エッジダメージの原因となる。また、長手
方向と幅方向の弾性率の和が上記範囲であることは、走
行耐久性、保存性、オフラックの観点から好ましい。
15GPa、かつ、長手方向と幅方向の弾性率の和が1
1〜30GPaであることが好ましい。より好ましくは
長手方向の弾性率は7.5〜14.5GPa、最も好ま
しくは8〜14GPaの範囲であり、長手方向と幅方向
の弾性率の和は12〜27GPaがより好ましく、さら
に好ましくは13〜24GPaである。長手方向の弾性
率が上記範囲未満であると、テープドライブ内での長手
方向への張力によって長手方向に伸び、この伸び変形に
より幅方向に収縮して、記録トラックがずれるという問
題が発生し易い。さらにドロップアウトの多発により、
データの保存安定性が悪化したり、電磁変換特性が悪化
し易い。一方、長手方向の弾性率が上記範囲を超える
と、テープ破断が起きやすくなったり、幅方向のヤング
率が不足し、エッジダメージの原因となる。また、長手
方向と幅方向の弾性率の和が上記範囲であることは、走
行耐久性、保存性、オフラックの観点から好ましい。
【0051】本発明の支持体は、幅方向の湿度膨張係数
が0〜10ppm/%RHであることが好ましく、より
好ましくは、1〜9ppm/%RHであり、さらに好ま
しくは2〜8ppm/%RHである。また、特に限定さ
れないが、長手方向の湿度膨張係数も0〜10ppm/
%RHであることが好ましく、より好ましくは1〜9p
pm/%RHであり、さらに好ましくは2〜8ppm/
%RHである。湿度膨張係数が上記範囲であることは、
磁気記録媒体への加工工程や、磁気記録媒体の記録再生
時の高湿条件下での寸法安定性の観点から好ましい。
が0〜10ppm/%RHであることが好ましく、より
好ましくは、1〜9ppm/%RHであり、さらに好ま
しくは2〜8ppm/%RHである。また、特に限定さ
れないが、長手方向の湿度膨張係数も0〜10ppm/
%RHであることが好ましく、より好ましくは1〜9p
pm/%RHであり、さらに好ましくは2〜8ppm/
%RHである。湿度膨張係数が上記範囲であることは、
磁気記録媒体への加工工程や、磁気記録媒体の記録再生
時の高湿条件下での寸法安定性の観点から好ましい。
【0052】さらに、本発明の支持体は、特には限定さ
れないが、温度膨張係数が長手方向で−10〜5ppm
/℃、幅方向で0〜10ppm/℃であることが好まし
い。長手方向はより好ましくは−8〜4ppm/℃であ
り、さらに好ましくは−6〜3ppm/℃であり、幅方
向はより好ましくは1〜8ppmであり、さらに好まし
くは2〜6ppmである。ここで、マイナス(−)は収
縮することを示している。温度膨張係数が上記範囲であ
ることは、磁気記録媒体への加工工程や、磁気記録媒体
の記録再生時の高温条件下での寸法安定性の観点から好
ましいことである。
れないが、温度膨張係数が長手方向で−10〜5ppm
/℃、幅方向で0〜10ppm/℃であることが好まし
い。長手方向はより好ましくは−8〜4ppm/℃であ
り、さらに好ましくは−6〜3ppm/℃であり、幅方
向はより好ましくは1〜8ppmであり、さらに好まし
くは2〜6ppmである。ここで、マイナス(−)は収
縮することを示している。温度膨張係数が上記範囲であ
ることは、磁気記録媒体への加工工程や、磁気記録媒体
の記録再生時の高温条件下での寸法安定性の観点から好
ましいことである。
【0053】本発明の支持体は、60℃、80%RHの
条件下、長手方向に26MPaの荷重を掛けた状態で7
2時間放置した場合における幅方向の寸法変化率が−
0.4〜0%の範囲であることが好ましい。この寸法変
化率が上記範囲を超えるとテープ加工時に皺が発生する
ため好ましくない。また、上記範囲未満であると、テー
プ加工時に幅方向の収縮が起こり、寸法安定性が悪化し
たり、テープの走行耐久性の悪化、ドロップアウトの多
発などデータの保存性が悪化するため好ましくない。
条件下、長手方向に26MPaの荷重を掛けた状態で7
2時間放置した場合における幅方向の寸法変化率が−
0.4〜0%の範囲であることが好ましい。この寸法変
化率が上記範囲を超えるとテープ加工時に皺が発生する
ため好ましくない。また、上記範囲未満であると、テー
プ加工時に幅方向の収縮が起こり、寸法安定性が悪化し
たり、テープの走行耐久性の悪化、ドロップアウトの多
発などデータの保存性が悪化するため好ましくない。
【0054】また、本発明の支持体に用いる二軸配向ポ
リエステルフィルムは、特に限定されないが、温度50
℃、荷重28MPaの条件下で30分経時後のクリープ
コンプライアンスが、0.11〜0.45GPa-1であ
ることが好ましい。クリープコンプライアンスが上記範
囲を超えると、テープの走行時あるいは保存時の張力に
よって起こるテープの伸び変形抑制や、記録再生時のト
ラックずれ抑制の観点から好ましくない。また、上記範
囲未満であると、テープ破断抑制の観点から好ましくな
い。クリープコンプライアンスは、さらに好ましくは
0.13〜0.37GPa-1、最も好ましくは0.15
〜0.30GPa-1の範囲である。ここで、クリープコ
ンプライアンスは、「高分子化学序論(第2版)」
((株)化学同人発行)p150に記載されたものであ
る。
リエステルフィルムは、特に限定されないが、温度50
℃、荷重28MPaの条件下で30分経時後のクリープ
コンプライアンスが、0.11〜0.45GPa-1であ
ることが好ましい。クリープコンプライアンスが上記範
囲を超えると、テープの走行時あるいは保存時の張力に
よって起こるテープの伸び変形抑制や、記録再生時のト
ラックずれ抑制の観点から好ましくない。また、上記範
囲未満であると、テープ破断抑制の観点から好ましくな
い。クリープコンプライアンスは、さらに好ましくは
0.13〜0.37GPa-1、最も好ましくは0.15
〜0.30GPa-1の範囲である。ここで、クリープコ
ンプライアンスは、「高分子化学序論(第2版)」
((株)化学同人発行)p150に記載されたものであ
る。
【0055】本発明の支持体は、特に限定されないが、
1/2インチ幅の磁気記録媒体に加工し、温湿度、張力
負荷条件下で走行させた際の幅方向のオフトラックは、
テープの巻き姿、ドロップアウト抑制の観点から、0〜
1μmの範囲であることが好ましい。さらに好ましくは
0〜0.8μm、最も好ましくは0〜0.5μmの範囲
である。
1/2インチ幅の磁気記録媒体に加工し、温湿度、張力
負荷条件下で走行させた際の幅方向のオフトラックは、
テープの巻き姿、ドロップアウト抑制の観点から、0〜
1μmの範囲であることが好ましい。さらに好ましくは
0〜0.8μm、最も好ましくは0〜0.5μmの範囲
である。
【0056】本発明の磁気記録媒体用支持体の表面A側
に磁性層を設けることにより、磁気記録媒体を作成する
ことができる。
に磁性層を設けることにより、磁気記録媒体を作成する
ことができる。
【0057】磁性層としては、強磁性金属薄膜や強磁性
金属微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層や金属酸化
物塗布による磁性層などが好適な例として挙げられる。
強磁性金属薄膜としては、鉄、コバルト、ニッケルやそ
の他の合金等が好ましい。また、強磁性金属微粉末とし
ては、強磁性六方晶フェライト微粉末や、鉄、コバル
ト、ニッケルやその他の合金等が好ましい。結合剤とし
ては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂や、こ
れらの混合物などが好ましい。
金属微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層や金属酸化
物塗布による磁性層などが好適な例として挙げられる。
強磁性金属薄膜としては、鉄、コバルト、ニッケルやそ
の他の合金等が好ましい。また、強磁性金属微粉末とし
ては、強磁性六方晶フェライト微粉末や、鉄、コバル
ト、ニッケルやその他の合金等が好ましい。結合剤とし
ては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂や、こ
れらの混合物などが好ましい。
【0058】磁性層の形成法は、磁性粉を、熱可塑性、
熱硬化性あるいは放射線硬化性などの高分子(結合剤)
と混練し、塗布、乾燥を行う塗布法、金属または合金
を、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレコーティン
グ法などにより、基材フィルム上に磁性金属薄膜層を直
接形成する乾式法のいずれの方式も採用できる。
熱硬化性あるいは放射線硬化性などの高分子(結合剤)
と混練し、塗布、乾燥を行う塗布法、金属または合金
を、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレコーティン
グ法などにより、基材フィルム上に磁性金属薄膜層を直
接形成する乾式法のいずれの方式も採用できる。
【0059】本発明の磁気記録媒体においては、強磁性
金属薄膜上に保護膜が設けられていてもよい。この保護
膜によって、さらに走行耐久性、耐食性を改善すること
ができる。保護膜としては、シリカ、アルミナ、チタニ
ア、ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルなどの酸
化物保護膜、窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素など
の窒化物保護膜、炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素
等の炭化物保護膜、グラファイト、無定型カーボン等の
炭素からなる炭素保護膜があげられる。
金属薄膜上に保護膜が設けられていてもよい。この保護
膜によって、さらに走行耐久性、耐食性を改善すること
ができる。保護膜としては、シリカ、アルミナ、チタニ
ア、ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルなどの酸
化物保護膜、窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素など
の窒化物保護膜、炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素
等の炭化物保護膜、グラファイト、無定型カーボン等の
炭素からなる炭素保護膜があげられる。
【0060】前記炭素保護膜は、プラズマCVD法、ス
パッタリング法等で作成したアモルファス構造、グラフ
ァイト構造、ダイヤモンド構造、もしくはこれらの混合
物からなるカーボン膜であり、特に好ましくは一般にダ
イヤモンドライクカーボンと呼ばれる硬質カーボン膜で
ある。
パッタリング法等で作成したアモルファス構造、グラフ
ァイト構造、ダイヤモンド構造、もしくはこれらの混合
物からなるカーボン膜であり、特に好ましくは一般にダ
イヤモンドライクカーボンと呼ばれる硬質カーボン膜で
ある。
【0061】また、この硬質炭素保護膜上に付与する潤
滑剤との密着性をさらに向上させる目的で、硬質炭素保
護膜表面を酸化性もしくは不活性気体のプラズマによっ
て表面処理してもよい。
滑剤との密着性をさらに向上させる目的で、硬質炭素保
護膜表面を酸化性もしくは不活性気体のプラズマによっ
て表面処理してもよい。
【0062】本発明では、磁気記録媒体の走行耐久性お
よび耐食性を改善するため、上記磁性膜もしくは保護膜
上に、潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。
よび耐食性を改善するため、上記磁性膜もしくは保護膜
上に、潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。
【0063】次に本発明の支持体の製造法について具体
的に説明するが、かかる例に限定されるものではない。
本発明の支持体で用いるポリエステルフィルムは、ポリ
エステル樹脂を溶融成形したシートを、長手方向と幅方
向に逐次二軸延伸および/または同時二軸延伸すること
により延伸配向させたフィルムであり、二軸延伸を多段
階の温度で順次延伸を重ねて、高度に配向させることに
より得られる。
的に説明するが、かかる例に限定されるものではない。
本発明の支持体で用いるポリエステルフィルムは、ポリ
エステル樹脂を溶融成形したシートを、長手方向と幅方
向に逐次二軸延伸および/または同時二軸延伸すること
により延伸配向させたフィルムであり、二軸延伸を多段
階の温度で順次延伸を重ねて、高度に配向させることに
より得られる。
【0064】以下では、好ましい製造方法として、PE
Tとポリエーテルイミド(PEI)とからなるフィルム
を逐次二軸延伸法により製造する例について説明する。
まず、本発明で使用する高分子量ポリエチレンテレフタ
レートは通常の方法により、即ち、次のいずれかのプロ
セスで製造される。
Tとポリエーテルイミド(PEI)とからなるフィルム
を逐次二軸延伸法により製造する例について説明する。
まず、本発明で使用する高分子量ポリエチレンテレフタ
レートは通常の方法により、即ち、次のいずれかのプロ
セスで製造される。
【0065】すなわち、(1)テレフタル酸とエチレン
グリコールを原料とし、直接エステル化反応によって低
分子量のポリエチレンテレフタレートまたはオリゴマー
を得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物
を触媒に用いた重縮合反応によって高分子量ポリマを得
るプロセス、(2)ジメチルテレフタレートとエチレン
グリコールを原料とし、エステル交換反応によって低分
子量体を得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン
化合物を触媒に用いた重縮合反応によって高分子量ポリ
マーを得るプロセス(DMT法)である。ここで、エス
テル化は無触媒でも反応は進行するが、エステル交換反
応においては、通常、マンガン、カルシウム、マグネシ
ウム、亜鉛、リチウム、チタン等の化合物を触媒に用い
て進行させ、またエステル交換反応が実質的に完結した
後に、該反応に用いた触媒を不活性化する目的で、リン
化合物を添加する場合もある。
グリコールを原料とし、直接エステル化反応によって低
分子量のポリエチレンテレフタレートまたはオリゴマー
を得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン化合物
を触媒に用いた重縮合反応によって高分子量ポリマを得
るプロセス、(2)ジメチルテレフタレートとエチレン
グリコールを原料とし、エステル交換反応によって低分
子量体を得、さらにその後の三酸化アンチモンやチタン
化合物を触媒に用いた重縮合反応によって高分子量ポリ
マーを得るプロセス(DMT法)である。ここで、エス
テル化は無触媒でも反応は進行するが、エステル交換反
応においては、通常、マンガン、カルシウム、マグネシ
ウム、亜鉛、リチウム、チタン等の化合物を触媒に用い
て進行させ、またエステル交換反応が実質的に完結した
後に、該反応に用いた触媒を不活性化する目的で、リン
化合物を添加する場合もある。
【0066】上記方法により得られたPETのペレット
と、PEIのペレットを、一定の割合で混練して、27
0〜300℃に加熱されたベント式の二軸混練押出機に
供給して溶融押出する。このときの剪断速度は50〜3
00sec-1が好ましく、より好ましくは100〜20
0sec-1、滞留時間は0.5〜10分が好ましく、よ
り好ましくは1〜5分の条件である。得られたPEI含
有PETチップを、180℃で3時間以上、真空乾燥し
た後、280〜320℃で溶融押出し、繊維焼結ステン
レス金属フィルター内を通過させた後、Tダイよりシー
ト状に吐出する。この溶融押出されたシートを、表面温
度25〜30℃に冷却されたドラム上に静電気力で密着
させて冷却固化し、実質的に無配向状態の未延伸ポリエ
ステルフィルムを得る。このとき、静電印加法では、通
常直径0.15mmワイヤー電極を用いるが、厚みむら
低減の観点から、好ましくは直径0.10mmワイヤー
電極、さらに好ましくは断面が矩形で、長手方向に一様
な形態を持つテープ状の電極を用いるとよい。
と、PEIのペレットを、一定の割合で混練して、27
0〜300℃に加熱されたベント式の二軸混練押出機に
供給して溶融押出する。このときの剪断速度は50〜3
00sec-1が好ましく、より好ましくは100〜20
0sec-1、滞留時間は0.5〜10分が好ましく、よ
り好ましくは1〜5分の条件である。得られたPEI含
有PETチップを、180℃で3時間以上、真空乾燥し
た後、280〜320℃で溶融押出し、繊維焼結ステン
レス金属フィルター内を通過させた後、Tダイよりシー
ト状に吐出する。この溶融押出されたシートを、表面温
度25〜30℃に冷却されたドラム上に静電気力で密着
させて冷却固化し、実質的に無配向状態の未延伸ポリエ
ステルフィルムを得る。このとき、静電印加法では、通
常直径0.15mmワイヤー電極を用いるが、厚みむら
低減の観点から、好ましくは直径0.10mmワイヤー
電極、さらに好ましくは断面が矩形で、長手方向に一様
な形態を持つテープ状の電極を用いるとよい。
【0067】次に、この未延伸フィルムを二軸延伸し、
二軸配向させる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができるが、ここで
は、最初長手方向、次に幅方向の延伸を行う逐次二軸延
伸法について説明する。
二軸配向させる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができるが、ここで
は、最初長手方向、次に幅方向の延伸を行う逐次二軸延
伸法について説明する。
【0068】まず、未延伸フィルムを70〜170℃の
範囲の加熱ロール群で加熱し、長手方向に1段もしくは
多段で3〜8倍に延伸(再縦延伸を行う場合は1段目の
延伸は2.5〜4倍)し、20〜50℃の冷却ロール群
で冷却する。この際、長手方向の延伸速度は5000〜
20000%/分で行うのが好ましい。続いて、幅方向
の延伸を行う。幅方向の延伸方法としては、例えば、ス
テンターを用いる方法が一般的である。幅方向の延伸温
度は95〜160℃、倍率は3〜8倍(再縦延伸を行う
場合は1段目の延伸は3〜4.5倍)、延伸速度は20
00〜10000%/分の範囲で行うのが好ましい。さ
らに必要に応じて再縦延伸および/または再横延伸を行
う。この場合の延伸条件としては、長手方向の延伸は温
度80〜180℃の加熱ロール群で、延伸倍率は1.2
〜1.8倍の範囲で延伸を行うことが好ましい。幅方向
の延伸方法としては、テンターを用いる方法が好まし
く、温度は110〜210℃、延伸倍率は1.2〜2.
0倍の範囲で行うのが好ましい。続いて、この延伸フィ
ルムを緊張下または幅方向に弛緩しながら熱処理する。
この場合の熱処理温度は200〜230℃で、好ましく
は210〜220℃で、処理時間0.2〜10秒の範囲
で行うのが好ましい。
範囲の加熱ロール群で加熱し、長手方向に1段もしくは
多段で3〜8倍に延伸(再縦延伸を行う場合は1段目の
延伸は2.5〜4倍)し、20〜50℃の冷却ロール群
で冷却する。この際、長手方向の延伸速度は5000〜
20000%/分で行うのが好ましい。続いて、幅方向
の延伸を行う。幅方向の延伸方法としては、例えば、ス
テンターを用いる方法が一般的である。幅方向の延伸温
度は95〜160℃、倍率は3〜8倍(再縦延伸を行う
場合は1段目の延伸は3〜4.5倍)、延伸速度は20
00〜10000%/分の範囲で行うのが好ましい。さ
らに必要に応じて再縦延伸および/または再横延伸を行
う。この場合の延伸条件としては、長手方向の延伸は温
度80〜180℃の加熱ロール群で、延伸倍率は1.2
〜1.8倍の範囲で延伸を行うことが好ましい。幅方向
の延伸方法としては、テンターを用いる方法が好まし
く、温度は110〜210℃、延伸倍率は1.2〜2.
0倍の範囲で行うのが好ましい。続いて、この延伸フィ
ルムを緊張下または幅方向に弛緩しながら熱処理する。
この場合の熱処理温度は200〜230℃で、好ましく
は210〜220℃で、処理時間0.2〜10秒の範囲
で行うのが好ましい。
【0069】次に、このようにして得られた二軸延伸フ
ィルムの少なくともフィルム表面B側に、金属、半金属
及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれる
一種以上の金属材料からなる強化膜を形成する。強化膜
の形成方法は特には限定しないが、真空蒸着法が一般的
である。少なくともフィルム表面B上に上述した強化膜
を形成することにより、寸法安定性、剛性に優れた磁気
記録媒体用の支持体が得られ、また、磁気記録媒体製造
時に発生する問題等を解決でき、磁気記録媒体用として
最適な支持体が得られる。
ィルムの少なくともフィルム表面B側に、金属、半金属
及び合金並びにこれらの酸化物及び複合物から選ばれる
一種以上の金属材料からなる強化膜を形成する。強化膜
の形成方法は特には限定しないが、真空蒸着法が一般的
である。少なくともフィルム表面B上に上述した強化膜
を形成することにより、寸法安定性、剛性に優れた磁気
記録媒体用の支持体が得られ、また、磁気記録媒体製造
時に発生する問題等を解決でき、磁気記録媒体用として
最適な支持体が得られる。
【0070】[物性の測定方法ならびに効果の評価方
法]特性値の測定方法ならびに効果の評価方法は次の通
りである。なお、支持体の弾性率、湿度膨張係数などを
測定する際の長手方向(MD)、幅方向(TD)は、支
持体を構成するフィルムの長手方向、幅方向と同じであ
る。
法]特性値の測定方法ならびに効果の評価方法は次の通
りである。なお、支持体の弾性率、湿度膨張係数などを
測定する際の長手方向(MD)、幅方向(TD)は、支
持体を構成するフィルムの長手方向、幅方向と同じであ
る。
【0071】(1)フィルム厚み、及び積層厚み
透過型電子顕微鏡(日立(株)製H−600型)を用い
て、加速電圧100kVで、フィルム断面を、超薄切片
(RuO4染色)で観察する。その界面の観察結果か
ら、フィルム厚み、及び積層厚みを求める。倍率は判定
したいフィルムの全厚み、積層厚みによって適宜倍率に
設定すればよいが、一般的には、フィルム厚み測定には
1千倍、積層厚み測定には1万〜10万倍が適当であ
る。
て、加速電圧100kVで、フィルム断面を、超薄切片
(RuO4染色)で観察する。その界面の観察結果か
ら、フィルム厚み、及び積層厚みを求める。倍率は判定
したいフィルムの全厚み、積層厚みによって適宜倍率に
設定すればよいが、一般的には、フィルム厚み測定には
1千倍、積層厚み測定には1万〜10万倍が適当であ
る。
【0072】また、2次イオン質量分析装置(SIM
S)を用いて積層厚みを測定することもできる。表層か
ら深さ3000nmの範囲のフィルム中の不活性粒子の
内もっとも高濃度の粒子(あるいはPEI)に起因する
元素(M+)と、ポリエステルの炭素元素との濃度比
(M+/C+)を、表面から深さ3000nmまで厚さ方
向にSIMSで分析する。表層では不活性粒子(あるい
はPEI)に起因する元素濃度は低く、表面から遠ざか
るにつれて不活性粒子(あるいはPEI)に起因する元
素濃度は高くなる。本発明のフィルムの場合は、一旦極
大値となった不活性粒子(あるいはPEI)に起因する
元素濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線におい
て、不活性粒子(あるいはPEI)に起因する元素濃度
が極大値の1/2まで減少した深さを積層厚みとする。
条件は次の通りである。
S)を用いて積層厚みを測定することもできる。表層か
ら深さ3000nmの範囲のフィルム中の不活性粒子の
内もっとも高濃度の粒子(あるいはPEI)に起因する
元素(M+)と、ポリエステルの炭素元素との濃度比
(M+/C+)を、表面から深さ3000nmまで厚さ方
向にSIMSで分析する。表層では不活性粒子(あるい
はPEI)に起因する元素濃度は低く、表面から遠ざか
るにつれて不活性粒子(あるいはPEI)に起因する元
素濃度は高くなる。本発明のフィルムの場合は、一旦極
大値となった不活性粒子(あるいはPEI)に起因する
元素濃度がまた減少し始める。この濃度分布曲線におい
て、不活性粒子(あるいはPEI)に起因する元素濃度
が極大値の1/2まで減少した深さを積層厚みとする。
条件は次の通りである。
【0073】1)測定装置
2次元イオン質量分析装置(SIMS)
西独、ATOMIKA社製 A−DIDA3000
2)測定条件
1次イオン種 :O2 +
1次イオン加速電圧:12KV
1次イオン電流 :200nA
ラスター領域 :400μm□
分析領域 :ゲート30%
測定真空度 :5.0×10-9Torr
E−GUN :0.5KV−3.0A
なお、表層から深さ3000nmの範囲に最も多く含有
する不活性粒子が有機高分子粒子の場合はSIMSでは
測定し難いので、表面からエッチングしながらXPS
(X線光電子分光法)、IR(赤外分光法)などで上記
同様のデプスプロファイルを測定し積層厚みを求めるこ
ともできる。
する不活性粒子が有機高分子粒子の場合はSIMSでは
測定し難いので、表面からエッチングしながらXPS
(X線光電子分光法)、IR(赤外分光法)などで上記
同様のデプスプロファイルを測定し積層厚みを求めるこ
ともできる。
【0074】(2)表面粗さRa
小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ET−10を用い
て、触針先端半径0.5m、触針荷重5mg、測定長1
mm、カットオフ値0.08mmでの中心線平均粗さR
aを、フィルム幅方向に走査して、20回測定を行った
平均値とした。
て、触針先端半径0.5m、触針荷重5mg、測定長1
mm、カットオフ値0.08mmでの中心線平均粗さR
aを、フィルム幅方向に走査して、20回測定を行った
平均値とした。
【0075】(3)支持体の弾性率
ASTM−D882に規定された方法に従って、オリエ
ンテック(株)製フイルム強伸度自動測定装置“テンシ
ロンAMF/RTA−100”を用いて、幅10mm、
試長100mmのサンプルを、温度23℃、湿度65%
RH、引張り速度10mm/分の条件で、5回測定を行
い、その平均値をとった。
ンテック(株)製フイルム強伸度自動測定装置“テンシ
ロンAMF/RTA−100”を用いて、幅10mm、
試長100mmのサンプルを、温度23℃、湿度65%
RH、引張り速度10mm/分の条件で、5回測定を行
い、その平均値をとった。
【0076】(4)支持体の湿度膨張係数
フィルムを幅10mmにサンプリングし、試長200m
mになるように、大倉インダストリー製のテープ伸び試
験器にセットし、温度30℃で、湿度を40%RHから
80%RHまで変化させ、変位量(ΔL mm)を測定
し、次式: 湿度膨張係数(/%RH)=(ΔL/200)/(80
−40) から湿度膨張係数(/%RH)を算出し、ppm/%R
Hでの値に換算した。
mになるように、大倉インダストリー製のテープ伸び試
験器にセットし、温度30℃で、湿度を40%RHから
80%RHまで変化させ、変位量(ΔL mm)を測定
し、次式: 湿度膨張係数(/%RH)=(ΔL/200)/(80
−40) から湿度膨張係数(/%RH)を算出し、ppm/%R
Hでの値に換算した。
【0077】(5)支持体の寸法変化率(A)(%)
サンプルサイズ:長手方向 100mm、幅方向 30
mm 上記サンプルを、23℃、65%RHの条件下にて、2
4時間調湿調温した後、大日本印刷(株)製クロムマス
ク上に、サンプルを張り付け、光学顕微鏡を用いて、幅
方向の長さ(L0)を測定する。その後、60℃、80
%RH、長手方向に26MPaの荷重をかけた状態で、
72時間放置する。72時間放置後、荷重を解放し、2
3℃、65%RHの条件下にて24時間調湿調温後、幅
方向の長さ(L1)を測定する。幅方向の寸法変化率は
下記式により求めた。 寸法変化率(%)=[(L1−L0)/L0]×100
mm 上記サンプルを、23℃、65%RHの条件下にて、2
4時間調湿調温した後、大日本印刷(株)製クロムマス
ク上に、サンプルを張り付け、光学顕微鏡を用いて、幅
方向の長さ(L0)を測定する。その後、60℃、80
%RH、長手方向に26MPaの荷重をかけた状態で、
72時間放置する。72時間放置後、荷重を解放し、2
3℃、65%RHの条件下にて24時間調湿調温後、幅
方向の長さ(L1)を測定する。幅方向の寸法変化率は
下記式により求めた。 寸法変化率(%)=[(L1−L0)/L0]×100
【0078】(6)支持体の温度膨張係数
フィルムを幅4mmにサンプリングし、試長15mmに
なるように、真空理工(株)製TMA TM−3000
および加熱制御部TA−1500にセットした。15%
RHの条件下、0.5gの荷重をフィルムにかけて、温
度を室温(23℃)から50℃まで上昇させた後、一
旦、室温まで温度を戻した。その後、再度温度を室温か
ら50℃まで上昇させた。その時の、30℃から40℃
までのフィルムの変位量(ΔL μm)を測定し、次
式: 温度膨張係数(/℃)={ΔL/(15×1000)}
/(40−30) から温度膨張係数(/℃)を算出し、ppm/℃での値
に換算した。
なるように、真空理工(株)製TMA TM−3000
および加熱制御部TA−1500にセットした。15%
RHの条件下、0.5gの荷重をフィルムにかけて、温
度を室温(23℃)から50℃まで上昇させた後、一
旦、室温まで温度を戻した。その後、再度温度を室温か
ら50℃まで上昇させた。その時の、30℃から40℃
までのフィルムの変位量(ΔL μm)を測定し、次
式: 温度膨張係数(/℃)={ΔL/(15×1000)}
/(40−30) から温度膨張係数(/℃)を算出し、ppm/℃での値
に換算した。
【0079】(7)支持体のクリープコンプライアンス
フィルムを幅4mmにサンプリングし、試長15mmに
なるように、真空理工(株)製TMA TM−3000
および加熱制御部TA−1500にセットし、50℃、
65%RHの条件に合わせた。その時のフィルムの長さ
をL0 (μm)とした。その後28MPaの荷重をフ
ィルムにかけて、30分間保持した時のフィルムの長さ
をL1(μm)とした。フィルム伸縮量の経時変化を測
定し、次式 クリープコンプライアンス(GPa-1)={(L1−L
0)/L0}/0.028 より、クリープコンプライアンスを算出した。ここで、
クリープとは一定応力のもとで歪みが時間と共に増大す
る現象のことであり、クリープコンプライアンスとはこ
の歪みと一定応力の比であり、「高分子化学序論(第2
版)」((株)化学同人発行)p150に記載されたも
のである。
なるように、真空理工(株)製TMA TM−3000
および加熱制御部TA−1500にセットし、50℃、
65%RHの条件に合わせた。その時のフィルムの長さ
をL0 (μm)とした。その後28MPaの荷重をフ
ィルムにかけて、30分間保持した時のフィルムの長さ
をL1(μm)とした。フィルム伸縮量の経時変化を測
定し、次式 クリープコンプライアンス(GPa-1)={(L1−L
0)/L0}/0.028 より、クリープコンプライアンスを算出した。ここで、
クリープとは一定応力のもとで歪みが時間と共に増大す
る現象のことであり、クリープコンプライアンスとはこ
の歪みと一定応力の比であり、「高分子化学序論(第2
版)」((株)化学同人発行)p150に記載されたも
のである。
【0080】(8)トラックずれ
支持体の表面A側に、下記組成の磁性塗料と非磁性下層
塗料とをエクストルージョンコーターにより重層塗布
(上層は磁性塗料で、塗布厚0.1μm、非磁性下層の
厚みは適宜変化させた。)し、磁気配向させ、乾燥させ
る。次いで反対面に、下記組成のバックコート層を形成
した後、小型テストカレンダー装置(スチール/ナイロ
ンロール、5段)で、温度85℃、線圧200kg/c
mでカレンダー処理した後、60℃で、48時間キュア
リングする。上記テープ原反を1/2インチ幅にスリッ
トし、磁気テープとして、長さ670m分を、カセット
に組み込んでカセットテープとした。
塗料とをエクストルージョンコーターにより重層塗布
(上層は磁性塗料で、塗布厚0.1μm、非磁性下層の
厚みは適宜変化させた。)し、磁気配向させ、乾燥させ
る。次いで反対面に、下記組成のバックコート層を形成
した後、小型テストカレンダー装置(スチール/ナイロ
ンロール、5段)で、温度85℃、線圧200kg/c
mでカレンダー処理した後、60℃で、48時間キュア
リングする。上記テープ原反を1/2インチ幅にスリッ
トし、磁気テープとして、長さ670m分を、カセット
に組み込んでカセットテープとした。
【0081】
(磁性塗料の組成)
・強磁性金属粉末 :100重量部
・変成塩化ビニル共重合体 : 10重量部
・変成ポリウレタン : 10重量部
・ポリイソシアネート : 5重量部
・ステアリン酸 : 1.5重量部
・オレイン酸 : 1重量部
・カーボンブラック : 1重量部
・アルミナ : 10重量部
・メチルエチルケトン : 75重量部
・シクロヘキサノン : 75重量部
・トルエン : 75重量部
(バックコートの組成)
・カーボンブラック(平均粒径20nm) : 95重量部
・カーボンブラック(平均粒径280nm): 10重量部
・αアルミナ : 0.1重量部
・変成ポリウレタン : 20重量部
・変成塩化ビニル共重合体 : 30重量部
・シクロヘキサノン :200重量部
・メチルエチルケトン :300重量部
・トルエン :100重量部
【0082】作成したカセットテープを、25℃、65
%RHの雰囲気中に24時間保存した後、テープ走行試
験器を用いて下記の1〜5の条件で順番に走行させ、そ
の走行時の幅方向の寸法変化をレーザー寸法測定器で常
時読み取り、下記のとおり走行前後でのテープ幅変化を
求め、「トラックずれ」とした。条件1の温度、湿度、
張力下で走行させる前のテープ幅の初期値をL0(μ
m)、下記条件5で走行させた後のテープ幅をL1(μ
m)として、以下の式より「トラックずれ」を算出し
た。 条件1:20℃、50%RH、張力85g、 走行回数 3回 条件2:20℃、50%RH、張力140g、走行回数 3回 条件3:40℃、60%RH、張力140g、走行回数 100回 条件4:20℃、50%RH、張力140g、走行回数 3回 条件5:20℃、50%RH、張力85g、 走行回数 3回 トラックずれ=|L0−L1| このトラックずれが0.5μm以下であり、高密度記録
磁気テープ用途として、使用可能なレベルであるものを
(○)と判断し、トラックずれが0.5μmを超えて大
きく、高密度記録磁気テープ用途として、不充分なレベ
ルであるものを(×)と判断した。
%RHの雰囲気中に24時間保存した後、テープ走行試
験器を用いて下記の1〜5の条件で順番に走行させ、そ
の走行時の幅方向の寸法変化をレーザー寸法測定器で常
時読み取り、下記のとおり走行前後でのテープ幅変化を
求め、「トラックずれ」とした。条件1の温度、湿度、
張力下で走行させる前のテープ幅の初期値をL0(μ
m)、下記条件5で走行させた後のテープ幅をL1(μ
m)として、以下の式より「トラックずれ」を算出し
た。 条件1:20℃、50%RH、張力85g、 走行回数 3回 条件2:20℃、50%RH、張力140g、走行回数 3回 条件3:40℃、60%RH、張力140g、走行回数 100回 条件4:20℃、50%RH、張力140g、走行回数 3回 条件5:20℃、50%RH、張力85g、 走行回数 3回 トラックずれ=|L0−L1| このトラックずれが0.5μm以下であり、高密度記録
磁気テープ用途として、使用可能なレベルであるものを
(○)と判断し、トラックずれが0.5μmを超えて大
きく、高密度記録磁気テープ用途として、不充分なレベ
ルであるものを(×)と判断した。
【0083】(9)磁気テープの走行耐久性および保存
安定性 上記(8)で作製したカセットテープを、Quantu
m社製DLT(IV) Driveを用い、150時間走行
させ、次の基準でテープの走行耐久性を評価した。 ○:テープ端面の伸び、折れ曲がりがなく、削れ跡が見
られないもの。 △:テープ端面の伸び、折れ曲がりはないが、一部削れ
跡が見られるもの。 ×:テープ端面の一部が伸び、ワカメ状の変形が見ら
れ、削れ跡が見られるもの。
安定性 上記(8)で作製したカセットテープを、Quantu
m社製DLT(IV) Driveを用い、150時間走行
させ、次の基準でテープの走行耐久性を評価した。 ○:テープ端面の伸び、折れ曲がりがなく、削れ跡が見
られないもの。 △:テープ端面の伸び、折れ曲がりはないが、一部削れ
跡が見られるもの。 ×:テープ端面の一部が伸び、ワカメ状の変形が見ら
れ、削れ跡が見られるもの。
【0084】また、上記作成したカセットテープをQu
antum社製DLT(IV) Driveを用い、データ
を読み込んだ後、カセットテープを60℃、80%RH
の雰囲気中に100時間保存した後、データを再生して
次の基準で、テープの保存安定性を評価した。 ○:テープ幅に異常がなく、トラックずれも無く、正常
に再生したもの。 △:テープ幅に異常が無いが、一部に読みとり不可が見
られるもの。 ×:テープ幅に変化があり、読みとり不可が見られるも
の。
antum社製DLT(IV) Driveを用い、データ
を読み込んだ後、カセットテープを60℃、80%RH
の雰囲気中に100時間保存した後、データを再生して
次の基準で、テープの保存安定性を評価した。 ○:テープ幅に異常がなく、トラックずれも無く、正常
に再生したもの。 △:テープ幅に異常が無いが、一部に読みとり不可が見
られるもの。 ×:テープ幅に変化があり、読みとり不可が見られるも
の。
【0085】(10)電磁変換特性(C/N)
上記(8)で得られたテープ原反を8mm幅にスリット
し、パンケーキを作成した。次いで、このパンケーキか
ら長さ200m分をカセットに組み込んで、カセットテ
ープとした。
し、パンケーキを作成した。次いで、このパンケーキか
ら長さ200m分をカセットに組み込んで、カセットテ
ープとした。
【0086】該テープを市販のHi8用VTR(SON
Y社製EV−BS3000)を用いて、7MHz±1M
HzのC/Nの測定を行った。このC/Nを市販されて
いるHi8用MPビデオテープと比較して、次の通りラ
ンク付けした。 ○:+3dB以上のもの △:+1dB以上、+3dB未満のもの ×:+1dB未満のもの
Y社製EV−BS3000)を用いて、7MHz±1M
HzのC/Nの測定を行った。このC/Nを市販されて
いるHi8用MPビデオテープと比較して、次の通りラ
ンク付けした。 ○:+3dB以上のもの △:+1dB以上、+3dB未満のもの ×:+1dB未満のもの
【0087】
【実施例】実施例1
通常のDMT法によりポリエチレンテレフタレートを製
造した。即ち、テレフタル酸ジメチル194重量部とエ
チレングリコール124重量部に、酢酸マグネシウム4
水塩0.1重量部を加え、140〜230℃でメタノー
ルを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リ
ン酸トリメチル0.05重量部のエチレングリコール溶
液、および三酸化アンチモン0.05重量部を加えて5
分間撹拌した後、低重合体を30rpmで攪拌しなが
ら、反応系を230℃から290℃まで徐々に昇温する
とともに、圧力を0.1kPaまで下げた。最終温度、
最終圧力到達までの時間はともに60分とした。3時間
重合反応させ所定の攪拌トルクとなった時点で反応系を
窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水に
ストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度
0.85のポリエチレンテレフタレート(PET)のペ
レットを得た。
造した。即ち、テレフタル酸ジメチル194重量部とエ
チレングリコール124重量部に、酢酸マグネシウム4
水塩0.1重量部を加え、140〜230℃でメタノー
ルを留出しつつエステル交換反応を行った。次いで、リ
ン酸トリメチル0.05重量部のエチレングリコール溶
液、および三酸化アンチモン0.05重量部を加えて5
分間撹拌した後、低重合体を30rpmで攪拌しなが
ら、反応系を230℃から290℃まで徐々に昇温する
とともに、圧力を0.1kPaまで下げた。最終温度、
最終圧力到達までの時間はともに60分とした。3時間
重合反応させ所定の攪拌トルクとなった時点で反応系を
窒素パージし常圧に戻して重縮合反応を停止し、冷水に
ストランド状に吐出、直ちにカッティングして固有粘度
0.85のポリエチレンテレフタレート(PET)のペ
レットを得た。
【0088】上記方法により得られた固有粘度0.85
のポリエチレンテレフタレート(PET)のペレット
(Tg80℃)50重量%と、General Ele
ctric(GE)社製の固有粘度0.68のポリエー
テルイミド(PEI)”ウルテム”1010(Tg21
6℃)50重量%とを、290℃に加熱された同方向回
転タイプのベント式2軸混練押出機に供給して、PEI
を50重量%含有したブレンドチップ(I)を作成し
た。
のポリエチレンテレフタレート(PET)のペレット
(Tg80℃)50重量%と、General Ele
ctric(GE)社製の固有粘度0.68のポリエー
テルイミド(PEI)”ウルテム”1010(Tg21
6℃)50重量%とを、290℃に加熱された同方向回
転タイプのベント式2軸混練押出機に供給して、PEI
を50重量%含有したブレンドチップ(I)を作成し
た。
【0089】次いで、押出機2台(A、B)を用いて、
次の方法で製膜を行った。295℃に加熱された押出機
Aには実質的に不活性粒子を含有しない固有粘度0.6
2のポリエチレンテレフタレート(PET)と平均粒径
0.09μmのシリカを0.05重量%含有したペレッ
ト(II)と、PEIを含有したブレンドチップ(I)と
を8:2の比でドライブレンドした混合原料(A1)を
180℃で3時間真空乾燥した後に供給した。また、2
95℃に加熱した押出機Bには、実質的に不活性粒子を
含有しない固有粘度0.62のポリエチレンテレフタレ
ート(PET)と平均粒径0.3μmの炭酸カルシウム
を0.5重量%含有したペレット(III)と、PEIを
含有したブレンドチップ(I)とを8:2の比でドライ
ブレンドした混合原料(B1)を180℃で3時間真空
乾燥した後に供給した。
次の方法で製膜を行った。295℃に加熱された押出機
Aには実質的に不活性粒子を含有しない固有粘度0.6
2のポリエチレンテレフタレート(PET)と平均粒径
0.09μmのシリカを0.05重量%含有したペレッ
ト(II)と、PEIを含有したブレンドチップ(I)と
を8:2の比でドライブレンドした混合原料(A1)を
180℃で3時間真空乾燥した後に供給した。また、2
95℃に加熱した押出機Bには、実質的に不活性粒子を
含有しない固有粘度0.62のポリエチレンテレフタレ
ート(PET)と平均粒径0.3μmの炭酸カルシウム
を0.5重量%含有したペレット(III)と、PEIを
含有したブレンドチップ(I)とを8:2の比でドライ
ブレンドした混合原料(B1)を180℃で3時間真空
乾燥した後に供給した。
【0090】続いて、(A1)をサンドフィルター、
1.2μmカットの繊維焼結ステンレス金属フィルター
および0.8μmカットの繊維焼結ステンレス金属フィ
ルターの順に3段階に濾過し、(B1)をサンドフィル
ター、3μmカットの繊維焼結ステンレス金属フィルタ
ーの順に2段階で濾過した後、Tダイ中で合流させ、表
面温度25℃のキャストドラム上に静電荷を印加させな
がら密着冷却固化し、2層積層した未延伸フィルム(積
層厚み比A1/B1=5/1)を作成した。
1.2μmカットの繊維焼結ステンレス金属フィルター
および0.8μmカットの繊維焼結ステンレス金属フィ
ルターの順に3段階に濾過し、(B1)をサンドフィル
ター、3μmカットの繊維焼結ステンレス金属フィルタ
ーの順に2段階で濾過した後、Tダイ中で合流させ、表
面温度25℃のキャストドラム上に静電荷を印加させな
がら密着冷却固化し、2層積層した未延伸フィルム(積
層厚み比A1/B1=5/1)を作成した。
【0091】この得られた未延伸フィルムをロール式延
伸機にて、まず、ロールの周速差を利用して長手方向に
110℃、3.1倍に延伸し、続いて、ステンターによ
り幅方向に100℃、3.3倍に延伸し、さらにロール
縦延伸機を用いて150℃、1.7倍に再縦延伸を行っ
た後、テンターにおいて200℃で1.3倍に再横延伸
を行った。その後、205℃で熱処理を行った後、15
0℃の冷却ゾーンで幅方向に5%の弛緩率で弛緩処理を
行い、さらに100℃のゾーンで幅方向に1%の弛緩率
で弛緩処理を行い、フィルムを室温まで徐冷して巻き取
り、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得た。なお、フィ
ルム厚みは、押出量の調節により所望水準とした。
伸機にて、まず、ロールの周速差を利用して長手方向に
110℃、3.1倍に延伸し、続いて、ステンターによ
り幅方向に100℃、3.3倍に延伸し、さらにロール
縦延伸機を用いて150℃、1.7倍に再縦延伸を行っ
た後、テンターにおいて200℃で1.3倍に再横延伸
を行った。その後、205℃で熱処理を行った後、15
0℃の冷却ゾーンで幅方向に5%の弛緩率で弛緩処理を
行い、さらに100℃のゾーンで幅方向に1%の弛緩率
で弛緩処理を行い、フィルムを室温まで徐冷して巻き取
り、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得た。なお、フィ
ルム厚みは、押出量の調節により所望水準とした。
【0092】得られた二軸延伸ポリエステルフィルムの
フィルム表面Bに真空蒸着により厚さ150nmのアル
ミ強化膜を形成し、強化膜を形成した磁気記録媒体用支
持体とした。
フィルム表面Bに真空蒸着により厚さ150nmのアル
ミ強化膜を形成し、強化膜を形成した磁気記録媒体用支
持体とした。
【0093】表1に得られた二軸延伸フィルムの表面粗
さ、及び、強化膜形成後の支持体の物性を示す。また、
表2に、得られた支持体の効果として、この支持体から
得られた磁気テープのトラックずれ、走行耐久性、保存
安定性などを示す。表1、2に示したとおり、得られた
支持体は、クリープコンプライアンス等に優れ、トラッ
クずれが小さく、走行耐久性、保存安定性等に優れた磁
気テープとすることができた。
さ、及び、強化膜形成後の支持体の物性を示す。また、
表2に、得られた支持体の効果として、この支持体から
得られた磁気テープのトラックずれ、走行耐久性、保存
安定性などを示す。表1、2に示したとおり、得られた
支持体は、クリープコンプライアンス等に優れ、トラッ
クずれが小さく、走行耐久性、保存安定性等に優れた磁
気テープとすることができた。
【0094】実施例2
実施例1での混合原料(B1)にPEIを混合しなかっ
た以外は実施例1と同様にして、2層積層未延伸フィル
ム(積層厚み比A1/B1=5/1)を作成し、実施例
1と同様にして厚み4μmの二軸延伸フィルム、強化膜
を形成した磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2
に示すように、得られた支持体は、クリープコンプライ
アンス等に優れ、トラックずれが小さく、走行耐久性、
保存安定性等に優れた磁気テープとすることができた。
た以外は実施例1と同様にして、2層積層未延伸フィル
ム(積層厚み比A1/B1=5/1)を作成し、実施例
1と同様にして厚み4μmの二軸延伸フィルム、強化膜
を形成した磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2
に示すように、得られた支持体は、クリープコンプライ
アンス等に優れ、トラックずれが小さく、走行耐久性、
保存安定性等に優れた磁気テープとすることができた。
【0095】実施例3
実施例1での混合原料(A1)にPEIを混合しなかっ
た以外は実施例1と同様にして、2層積層未延伸フィル
ム(積層厚み比A1/B1=5/1)を作成した。
た以外は実施例1と同様にして、2層積層未延伸フィル
ム(積層厚み比A1/B1=5/1)を作成した。
【0096】得られた未延伸フィルムをロール式延伸機
にて、まず、ロールの周速差を利用して長手方向に10
0℃、3.0倍に延伸し、続いて、ステンターにより幅
方向に105℃、3.3倍に延伸し、さらにロール縦延
伸機を用いて135℃、1.4倍に再縦延伸を行った
後、テンターにおいて150℃で1.3倍に再横延伸を
行った。その後、210℃で熱処理を行った後、150
℃の冷却ゾーンで幅方向に4%の弛緩率で弛緩処理を行
い、さらに100℃のゾーンで幅方向に1%の弛緩率で
弛緩処理を行い、フィルムを室温まで徐冷して巻き取
り、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得た。
にて、まず、ロールの周速差を利用して長手方向に10
0℃、3.0倍に延伸し、続いて、ステンターにより幅
方向に105℃、3.3倍に延伸し、さらにロール縦延
伸機を用いて135℃、1.4倍に再縦延伸を行った
後、テンターにおいて150℃で1.3倍に再横延伸を
行った。その後、210℃で熱処理を行った後、150
℃の冷却ゾーンで幅方向に4%の弛緩率で弛緩処理を行
い、さらに100℃のゾーンで幅方向に1%の弛緩率で
弛緩処理を行い、フィルムを室温まで徐冷して巻き取
り、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得た。
【0097】次に、実施例1と同様にして得られた二軸
延伸ポリエステルフィルムのフィルム表面Bに厚さ15
0nmのアルミ強化膜を形成し、強化膜を形成した磁気
記録媒体用支持体を作成した。表1、2に示すように、
得られた支持体は、クリープコンプライアンス等に優
れ、トラックずれが小さく、走行耐久性、保存安定性等
に優れた磁気テープとすることができた。
延伸ポリエステルフィルムのフィルム表面Bに厚さ15
0nmのアルミ強化膜を形成し、強化膜を形成した磁気
記録媒体用支持体を作成した。表1、2に示すように、
得られた支持体は、クリープコンプライアンス等に優
れ、トラックずれが小さく、走行耐久性、保存安定性等
に優れた磁気テープとすることができた。
【0098】実施例4
押出機Aのみを用いて、原料を、実質的に不活性粒子を
含有しない固有粘度0.62のポリエチレンテレフタレ
ート(PET)に、平均粒径0.09μmのシリカ0.
05重量%と平均粒径0.3μmの炭酸カルシウム0.
5重量%とを含有させたペレット(II)と、PEIを含
有したブレンドチップ(I)とを8:2の比でドライブ
レンドした混合原料(A1)のみとし、単層フィルムと
した以外は実施例1と同様にして、単膜の未延伸フィル
ムを作成し、実施例1と同様にして厚み4μmの二軸延
伸フィルム、強化膜を形成した磁気記録媒体用支持体を
作成した。
含有しない固有粘度0.62のポリエチレンテレフタレ
ート(PET)に、平均粒径0.09μmのシリカ0.
05重量%と平均粒径0.3μmの炭酸カルシウム0.
5重量%とを含有させたペレット(II)と、PEIを含
有したブレンドチップ(I)とを8:2の比でドライブ
レンドした混合原料(A1)のみとし、単層フィルムと
した以外は実施例1と同様にして、単膜の未延伸フィル
ムを作成し、実施例1と同様にして厚み4μmの二軸延
伸フィルム、強化膜を形成した磁気記録媒体用支持体を
作成した。
【0099】表1、2に示すように、得られた支持体
は、クリープコンプライアンス等に優れ、トラックずれ
が小さく、走行耐久性、保存安定性等に優れた磁気テー
プとすることができた。
は、クリープコンプライアンス等に優れ、トラックずれ
が小さく、走行耐久性、保存安定性等に優れた磁気テー
プとすることができた。
【0100】比較例1
実施例1での混合原料(A1)と混合原料(B1)にお
けるPEI含有量をどちらも40%に変更し、混合原料
(A1)のペレット(II)中、及び混合原料(B1)の
ペレット(III)中に含有される粒子を平均粒径1.2
μmのシリカに変更した以外は実施例1と同様にして、
2層積層未延伸フィルム(積層厚み比A1/B1=5/
1)を作成した。
けるPEI含有量をどちらも40%に変更し、混合原料
(A1)のペレット(II)中、及び混合原料(B1)の
ペレット(III)中に含有される粒子を平均粒径1.2
μmのシリカに変更した以外は実施例1と同様にして、
2層積層未延伸フィルム(積層厚み比A1/B1=5/
1)を作成した。
【0101】この得られた未延伸フィルムをロール式延
伸機にて、まず、ロールの周速差を利用して長手方向に
180℃、3.4倍に延伸し、続いて、ステンターによ
り幅方向に180℃、4.5倍に延伸した。その後、2
50℃で熱処理を行った後、125℃の冷却ゾーンで幅
方向に2%の弛緩率で弛緩処理を行い、さらに100℃
のゾーンで幅方向に0.5%の弛緩率で弛緩処理を行
い、フィルムを室温まで徐冷して巻き取り、厚み4μm
の二軸延伸フィルムを得た。
伸機にて、まず、ロールの周速差を利用して長手方向に
180℃、3.4倍に延伸し、続いて、ステンターによ
り幅方向に180℃、4.5倍に延伸した。その後、2
50℃で熱処理を行った後、125℃の冷却ゾーンで幅
方向に2%の弛緩率で弛緩処理を行い、さらに100℃
のゾーンで幅方向に0.5%の弛緩率で弛緩処理を行
い、フィルムを室温まで徐冷して巻き取り、厚み4μm
の二軸延伸フィルムを得た。
【0102】次に、得られた二軸延伸ポリエステルフィ
ルムのフィルム表面Bに厚さ150nmのアルミ強化膜
を形成し、強化膜を形成した磁気記録媒体用支持体とし
た。表1、2に示すように、実施例1で得られた支持
体、及び磁気テープと比較して、トラックずれも大き
く、走行耐久性、保存安定性、電磁変換特性が劣ったも
のであった。
ルムのフィルム表面Bに厚さ150nmのアルミ強化膜
を形成し、強化膜を形成した磁気記録媒体用支持体とし
た。表1、2に示すように、実施例1で得られた支持
体、及び磁気テープと比較して、トラックずれも大き
く、走行耐久性、保存安定性、電磁変換特性が劣ったも
のであった。
【0103】比較例2
押出機Aのみを用いて、原料にPEIを混合せず、平均
粒径0.09μmのシリカを0.05重量%と平均粒径
0.3μmの炭酸カルシウムを0.5重量%含有したP
ETのみからなる原料とした以外は実施例1と同様にし
て、単膜の未延伸フィルムを作成した。
粒径0.09μmのシリカを0.05重量%と平均粒径
0.3μmの炭酸カルシウムを0.5重量%含有したP
ETのみからなる原料とした以外は実施例1と同様にし
て、単膜の未延伸フィルムを作成した。
【0104】得られた未延伸フィルムをロール式延伸機
にて、まず、ロールの周速差を利用して長手方向に10
0℃、3.0倍に延伸し、続いて、ステンターにより幅
方向に105℃、3.3倍に延伸し、さらにロール縦延
伸機を用いて135℃、1.4倍に再縦延伸を行った
後、テンターにおいて150℃で1.3倍に再横延伸を
行った。その後、210℃で熱処理を行った後、150
℃の冷却ゾーンで幅方向に4%の弛緩率で弛緩処理を行
い、さらに100℃のゾーンで幅方向に1%の弛緩率で
弛緩処理を行い、フィルムを室温まで徐冷して巻き取
り、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得た。
にて、まず、ロールの周速差を利用して長手方向に10
0℃、3.0倍に延伸し、続いて、ステンターにより幅
方向に105℃、3.3倍に延伸し、さらにロール縦延
伸機を用いて135℃、1.4倍に再縦延伸を行った
後、テンターにおいて150℃で1.3倍に再横延伸を
行った。その後、210℃で熱処理を行った後、150
℃の冷却ゾーンで幅方向に4%の弛緩率で弛緩処理を行
い、さらに100℃のゾーンで幅方向に1%の弛緩率で
弛緩処理を行い、フィルムを室温まで徐冷して巻き取
り、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得た。
【0105】次に、得られた二軸延伸ポリエステルフィ
ルムのフィルム表面Bに厚さ150nmのアルミ強化膜
を形成し、強化膜を形成した磁気記録媒体用支持体とし
た。表1、2に示すように、実施例1で得られた支持
体、及び磁気テープと比較して弾性率が低く、寸法安定
性に劣るため、電磁変換特性が若干悪く、走行耐久性、
保存安定性が劣ったものであった。
ルムのフィルム表面Bに厚さ150nmのアルミ強化膜
を形成し、強化膜を形成した磁気記録媒体用支持体とし
た。表1、2に示すように、実施例1で得られた支持
体、及び磁気テープと比較して弾性率が低く、寸法安定
性に劣るため、電磁変換特性が若干悪く、走行耐久性、
保存安定性が劣ったものであった。
【0106】比較例3
実施例1での混合原料(B1)のペレット(III)の粒
子を平均粒径0.04μmのシリカとした以外は実施例
1と同様にして、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得、
フィルム表面Bに厚さ150nmのアルミ強化膜を形成
した磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2に示す
ように、電磁変換特性が若干悪く、走行耐久性が劣った
ものとなった。
子を平均粒径0.04μmのシリカとした以外は実施例
1と同様にして、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得、
フィルム表面Bに厚さ150nmのアルミ強化膜を形成
した磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2に示す
ように、電磁変換特性が若干悪く、走行耐久性が劣った
ものとなった。
【0107】比較例4
実施例1での混合原料(A1)のペレット(II)の粒子
を平均粒径0.04μmのシリカとした以外は実施例1
と同様にして、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得、フ
ィルム表面Bに厚さ150nmのアルミ強化膜を形成し
た磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2に示すよ
うに、電磁変換特性が若干悪く、走行耐久性が劣ったも
のとなった。
を平均粒径0.04μmのシリカとした以外は実施例1
と同様にして、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得、フ
ィルム表面Bに厚さ150nmのアルミ強化膜を形成し
た磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2に示すよ
うに、電磁変換特性が若干悪く、走行耐久性が劣ったも
のとなった。
【0108】比較例5
実施例1での混合原料(A1)のペレット(II)の粒子
を平均粒径1.2μmのシリカとした以外は実施例1と
同様にして、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得、フィ
ルム表面Bに厚さ150nmのアルミ強化膜を形成した
磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2に示すよう
に、走行耐久性が若干悪く、電磁変換特性が劣ったもの
となった。
を平均粒径1.2μmのシリカとした以外は実施例1と
同様にして、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得、フィ
ルム表面Bに厚さ150nmのアルミ強化膜を形成した
磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2に示すよう
に、走行耐久性が若干悪く、電磁変換特性が劣ったもの
となった。
【0109】比較例6
実施例1での混合原料(B1)のペレット(III)の粒
子を平均粒径2.4μmの炭酸カルシウムとした以外は
実施例1と同様にして、厚み4μmの二軸延伸フィルム
を得、フィルム表面Bに厚さ150nmのアルミ強化膜
を形成した磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2
に示すように、走行耐久性、電磁変換特性が劣ったもの
となった。
子を平均粒径2.4μmの炭酸カルシウムとした以外は
実施例1と同様にして、厚み4μmの二軸延伸フィルム
を得、フィルム表面Bに厚さ150nmのアルミ強化膜
を形成した磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2
に示すように、走行耐久性、電磁変換特性が劣ったもの
となった。
【0110】比較例7
実施例1と同様にして厚み4μmの二軸延伸フィルムを
得た後、得られた二軸延伸ポリエステルフィルムの表面
に強化膜を形成しなかったこと以外は実施例1と同様に
して、磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2に示
すように、実施例1と比較して、弾性率が低く、湿度膨
張係数、温度膨張係数、クリープコンプライアンスが大
きいため、トラックずれが若干大きく、走行耐久性が若
干悪く、保存安定性が劣ったものとなった。
得た後、得られた二軸延伸ポリエステルフィルムの表面
に強化膜を形成しなかったこと以外は実施例1と同様に
して、磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2に示
すように、実施例1と比較して、弾性率が低く、湿度膨
張係数、温度膨張係数、クリープコンプライアンスが大
きいため、トラックずれが若干大きく、走行耐久性が若
干悪く、保存安定性が劣ったものとなった。
【0111】実施例5
実施例1と同様にして厚み4μmの二軸延伸フィルムを
得た後、得られた二軸延伸ポリエステルフィルムのフィ
ルム表面Bに真空蒸着により厚さ40nmのアルミ強化
膜を形成した以外は、実施例1と同様にして、強化膜を
形成した磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2に
示すように、得られた支持体からは、トラックずれも小
さく、走行耐久性、保存安定性などに優れた磁気テープ
が得られた。
得た後、得られた二軸延伸ポリエステルフィルムのフィ
ルム表面Bに真空蒸着により厚さ40nmのアルミ強化
膜を形成した以外は、実施例1と同様にして、強化膜を
形成した磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2に
示すように、得られた支持体からは、トラックずれも小
さく、走行耐久性、保存安定性などに優れた磁気テープ
が得られた。
【0112】実施例6
実施例1と同様にして厚み4μmの二軸延伸フィルムを
得た後、得られた二軸延伸ポリエステルフィルムのフィ
ルム表面Bに真空蒸着により厚さ100nmのCo強化
膜を形成した以外は、実施例1と同様にして、強化膜を
形成した磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2に
示すように、得られた支持体からは、トラックずれも小
さく、走行耐久性、保存安定性などに優れた磁気テープ
が得られた。
得た後、得られた二軸延伸ポリエステルフィルムのフィ
ルム表面Bに真空蒸着により厚さ100nmのCo強化
膜を形成した以外は、実施例1と同様にして、強化膜を
形成した磁気記録媒体用支持体を作成した。表1、2に
示すように、得られた支持体からは、トラックずれも小
さく、走行耐久性、保存安定性などに優れた磁気テープ
が得られた。
【0113】実施例7
実施例1と同様にして厚み4μmの二軸延伸フィルムを
得た後、得られた二軸延伸ポリエステルフィルムのフィ
ルム表面Bに真空蒸着により厚さ150nmの酸化アル
ミ強化膜を形成した以外は、実施例1と同様にして、強
化膜を形成した磁気記録媒体用支持体を作成した。表
1、2に示すように、得られた支持体からは、トラック
ずれも小さく、走行耐久性、保存安定性などに優れた磁
気テープが得られた。
得た後、得られた二軸延伸ポリエステルフィルムのフィ
ルム表面Bに真空蒸着により厚さ150nmの酸化アル
ミ強化膜を形成した以外は、実施例1と同様にして、強
化膜を形成した磁気記録媒体用支持体を作成した。表
1、2に示すように、得られた支持体からは、トラック
ずれも小さく、走行耐久性、保存安定性などに優れた磁
気テープが得られた。
【0114】実施例8
実施例1と同様にして厚み4μmの二軸延伸フィルムを
得た後、得られた二軸延伸ポリエステルフィルムのフィ
ルム表面Aにも、フィルム表面Bにも、真空蒸着により
厚さ450nmのアルミ強化膜を形成した以外は、実施
例1と同様にして、強化膜を形成した磁気記録媒体用支
持体を作成した。表1、2に示すように、得られた支持
体からは、トラックずれも小さく、走行耐久性、保存安
定性などに優れた磁気テープが得られた。
得た後、得られた二軸延伸ポリエステルフィルムのフィ
ルム表面Aにも、フィルム表面Bにも、真空蒸着により
厚さ450nmのアルミ強化膜を形成した以外は、実施
例1と同様にして、強化膜を形成した磁気記録媒体用支
持体を作成した。表1、2に示すように、得られた支持
体からは、トラックずれも小さく、走行耐久性、保存安
定性などに優れた磁気テープが得られた。
【0115】実施例9
実施例1と同様にして未延伸フィルムを得た後、得られ
た未延伸フィルムを同時二軸延伸テンターを用いて、延
伸温度110℃で長手方向に3.0倍、横方向に3.0
倍の同時二軸延伸を行った。引き続き、該フィルムをロ
ール縦延伸機を用いて140℃で長手方向に1.5倍の
再縦延伸を行った後、テンターにおいて180℃で長手
方向に1.2倍に再横延伸を行った。その後、210℃
で熱処理を行った後、150℃の冷却ゾーンで幅方向に
2.1%の弛緩率で弛緩処理を行い、さらに100℃の
ゾーンで幅方向に1.5%の弛緩率で弛緩処理を行う以
外は、実施例1と同様にしてフィルムを室温まで徐冷し
て巻き取り、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得た。得
られたフィルムの表面Bに実施例1と同様にして強化膜
を形成し、支持体とした。
た未延伸フィルムを同時二軸延伸テンターを用いて、延
伸温度110℃で長手方向に3.0倍、横方向に3.0
倍の同時二軸延伸を行った。引き続き、該フィルムをロ
ール縦延伸機を用いて140℃で長手方向に1.5倍の
再縦延伸を行った後、テンターにおいて180℃で長手
方向に1.2倍に再横延伸を行った。その後、210℃
で熱処理を行った後、150℃の冷却ゾーンで幅方向に
2.1%の弛緩率で弛緩処理を行い、さらに100℃の
ゾーンで幅方向に1.5%の弛緩率で弛緩処理を行う以
外は、実施例1と同様にしてフィルムを室温まで徐冷し
て巻き取り、厚み4μmの二軸延伸フィルムを得た。得
られたフィルムの表面Bに実施例1と同様にして強化膜
を形成し、支持体とした。
【0116】表1、2に示すように、得られた支持体か
ら得られた磁気テープは、若干保存安定に劣るが、トラ
ックずれも小さく、走行耐久性などに優れていた。
ら得られた磁気テープは、若干保存安定に劣るが、トラ
ックずれも小さく、走行耐久性などに優れていた。
【0117】
【表1】
【0118】
【表2】
【0119】
【発明の効果】本発明による磁気記録媒体用支持体は、
寸法安定性、剛性に優れた支持体であり、特に磁気記録
媒体とした際に、高温高湿下で長時間保管してもトラッ
クずれが少なく、走行耐久性、寸法安定性に優れ、良好
な電磁変換性を示す高密磁気記録媒体とすることができ
るので、磁気記録媒体用に好適なものである。
寸法安定性、剛性に優れた支持体であり、特に磁気記録
媒体とした際に、高温高湿下で長時間保管してもトラッ
クずれが少なく、走行耐久性、寸法安定性に優れ、良好
な電磁変換性を示す高密磁気記録媒体とすることができ
るので、磁気記録媒体用に好適なものである。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
Fターム(参考) 4F006 AA35 AA39 AB73 BA06 CA02
DA01
5D006 CB01 CB02 CB07 CC01 FA00
FA02 FA05 FA09
Claims (11)
- 【請求項1】 ポリエステルとポリイミドを含有するポ
リマーからなり、フィルム厚みが2〜6.5μm、一方
のフィルム表面Aの表面粗さRaが1.5〜20nm、
かつ、他方のフィルム表面Bの表面粗さRaが5〜50
nmである二軸延伸ポリエステルフィルムの、少なくと
も表面B上に、金属、半金属及び合金並びにこれらの酸
化物及び複合物から選ばれる一種以上の金属材料からな
る強化膜が形成されてなることを特徴とする磁気記録媒
体用支持体。 - 【請求項2】 長手方向の弾性率が7〜15GPaであ
り、かつ、長手方向と幅方向の弾性率の和が11〜30
GPaであることを特徴とする請求項1に記載の磁気記
録媒体用支持体。 - 【請求項3】 幅方向の湿度膨張係数が0〜10ppm
/%RHであることを特徴とする請求項1または2に記
載の磁気記録媒体用支持体。 - 【請求項4】 60℃、80%RHの条件下、長手方向
に26MPaの荷重を掛けた状態で72時間放置した場
合における幅方向の寸法変化率が−0.4〜0%の範囲
であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載
の磁気記録媒体用支持体。 - 【請求項5】 ポリイミドがポリエーテルイミドである
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の磁気
記録媒体用支持体。 - 【請求項6】 ポリエステルフィルムが、ポリエステル
とポリイミドを含有するポリマーからなる層を少なくと
も1層有するポリエステル積層フィルム、または、ポリ
エステルとポリイミドを含有するポリマーからなる単層
フィルムであることを特徴とする請求項1〜5のいずれ
かに記載の磁気記録媒体用支持体。 - 【請求項7】 ポリエステルとポリイミドを含有するポ
リマーからなる層、または、ポリエステルとポリイミド
を含有するポリマーからなる単層フィルムにおけるポリ
イミド含有量が5〜30重量%であることを特徴とする
請求項6に記載の磁気記録媒体用支持体。 - 【請求項8】 ポリエステルが、エチレンテレフタレー
ト単位を主たる構成成分とするポリエチレンテレフタレ
ートであることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに
記載の磁気記録媒体用支持体。 - 【請求項9】 請求項1〜8のいずれかに記載の磁気記
録媒体用支持体の表面A側に磁性層を設けてなる磁気記
録媒体。 - 【請求項10】 磁性層が強磁性金属薄膜である請求項
9に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項11】 磁性層が強磁性金属微粉末を結合剤中
に分散してなる層である請求項9に記載の磁気記録媒
体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002124194A JP2003030818A (ja) | 2001-05-10 | 2002-04-25 | 磁気記録媒体用支持体及び磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001-139647 | 2001-05-10 | ||
JP2001139647 | 2001-05-10 | ||
JP2002124194A JP2003030818A (ja) | 2001-05-10 | 2002-04-25 | 磁気記録媒体用支持体及び磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003030818A true JP2003030818A (ja) | 2003-01-31 |
Family
ID=26614865
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002124194A Pending JP2003030818A (ja) | 2001-05-10 | 2002-04-25 | 磁気記録媒体用支持体及び磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003030818A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005196944A (ja) * | 2003-12-08 | 2005-07-21 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用支持体および磁気記録媒体 |
JP2006127602A (ja) * | 2004-10-27 | 2006-05-18 | Sony Corp | 磁気テープ媒体 |
JP2006216194A (ja) * | 2005-02-07 | 2006-08-17 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体支持体およびその製造方法 |
JP2007226943A (ja) * | 2006-01-24 | 2007-09-06 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用支持体および磁気記録媒体 |
JP2009099245A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-05-07 | Toray Ind Inc | 磁気記録媒体用支持体および磁気記録媒体 |
JP2009196235A (ja) * | 2008-02-22 | 2009-09-03 | Toray Ind Inc | 二軸配向ポリエステルフィルムおよび金属蒸着ポリエステルフィルム |
JP2010264683A (ja) * | 2009-05-15 | 2010-11-25 | Teijin Ltd | 支持体 |
JP2011070714A (ja) * | 2009-09-24 | 2011-04-07 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 磁気記録媒体用支持体および磁気記録媒体 |
JP2011150744A (ja) * | 2010-01-19 | 2011-08-04 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 磁気記録媒体用支持体およびそれを用いたデータストレージ用テープ |
WO2020054452A1 (ja) * | 2018-09-14 | 2020-03-19 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
-
2002
- 2002-04-25 JP JP2002124194A patent/JP2003030818A/ja active Pending
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JP2010264683A (ja) * | 2009-05-15 | 2010-11-25 | Teijin Ltd | 支持体 |
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WO2020054452A1 (ja) * | 2018-09-14 | 2020-03-19 | ソニー株式会社 | 磁気記録媒体 |
JPWO2020054452A1 (ja) * | 2018-09-14 | 2021-08-30 | ソニーグループ株式会社 | 磁気記録媒体 |
US11468910B2 (en) | 2018-09-14 | 2022-10-11 | Sony Corporation | Magnetic recording medium having reinforced substrate |
JP7367685B2 (ja) | 2018-09-14 | 2023-10-24 | ソニーグループ株式会社 | 磁気記録媒体 |
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