JP2003010770A - 薬液塗布方法及びその塗布装置 - Google Patents
薬液塗布方法及びその塗布装置Info
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- Materials For Photolithography (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】液晶用ガラス基板のような大型サイズの基板に
薬液を塗布する際に、基板上に流動して広がる薬液の液
止めを十分に行うことのできる液止め手段を設けること
によって、塗布された薬液に発生する塗布ムラをなく
す。 【解決手段】薬液処理槽１内に、基板６を搬送する搬送
ローラ５と、搬送中の基板６上に薬液を滴下する滴下ノ
ズル７と、基板６上に滴下された薬液の塗布ムラを抑え
るための液止めを行うエアーナイフ８とを有し、基板６
の進行方向に対しエアーナイフ８、滴下ノズル７の順に
配置されている薬液処理装置において、滴下ノズル７と
エアーナイフ８との間で、かつエアーナイフ８に近接さ
せてエアーナイフ８と平行に液止めローラ１０を設け、
エアーナイフ８に液止めローラ１０を組み合わせてなる
液止め手段を備えたことを特徴とする。
薬液を塗布する際に、基板上に流動して広がる薬液の液
止めを十分に行うことのできる液止め手段を設けること
によって、塗布された薬液に発生する塗布ムラをなく
す。 【解決手段】薬液処理槽１内に、基板６を搬送する搬送
ローラ５と、搬送中の基板６上に薬液を滴下する滴下ノ
ズル７と、基板６上に滴下された薬液の塗布ムラを抑え
るための液止めを行うエアーナイフ８とを有し、基板６
の進行方向に対しエアーナイフ８、滴下ノズル７の順に
配置されている薬液処理装置において、滴下ノズル７と
エアーナイフ８との間で、かつエアーナイフ８に近接さ
せてエアーナイフ８と平行に液止めローラ１０を設け、
エアーナイフ８に液止めローラ１０を組み合わせてなる
液止め手段を備えたことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶用ガラ
ス基板に薬液を塗布する際に、塗布した薬液に塗布ムラ
が発生しないように薬液の広がりを均一に整えるための
液止めを効率よく行うことができる薬液塗布方法及びそ
の塗布装置に関する。
ス基板に薬液を塗布する際に、塗布した薬液に塗布ムラ
が発生しないように薬液の広がりを均一に整えるための
液止めを効率よく行うことができる薬液塗布方法及びそ
の塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の薬液塗布装置について、図面を用
いて説明する。図５は、従来の薬液塗布装置の概略構成
図である。図５に示すように、従来の薬液塗布装置は、
液晶用ガラス基板などの大型サイズの基板６上に薬液塗
布を行う薬液処理槽１と、薬液処理槽１の内部に設けら
れ基板６の搬送を行う搬送ローラ５と、薬液処理槽１の
底部に設置された薬液の貯液タンク２と、基板６上に薬
液を滴下する滴下ノズル７と、滴下された薬液の広がり
を整えるための角度調整可能なエアーナイフ８とを備
え、滴下ノズル７はポンプ３、フィルター４を介して貯
液タンク２と配管接続され、また、エアーナイフ８はエ
アー発生源９に配管接続されている。
いて説明する。図５は、従来の薬液塗布装置の概略構成
図である。図５に示すように、従来の薬液塗布装置は、
液晶用ガラス基板などの大型サイズの基板６上に薬液塗
布を行う薬液処理槽１と、薬液処理槽１の内部に設けら
れ基板６の搬送を行う搬送ローラ５と、薬液処理槽１の
底部に設置された薬液の貯液タンク２と、基板６上に薬
液を滴下する滴下ノズル７と、滴下された薬液の広がり
を整えるための角度調整可能なエアーナイフ８とを備
え、滴下ノズル７はポンプ３、フィルター４を介して貯
液タンク２と配管接続され、また、エアーナイフ８はエ
アー発生源９に配管接続されている。
【０００３】そして、基板６の進行方向に対しエアーナ
イフ８、滴下ノズル７の順に配置されている。また、エ
アーナイフ８は、基板６の幅よりやや長目の寸法を有す
るとともにエアー吹出し口を基板６の進行方向と直交す
る方向に向けて設置され、基板６上に所定の角度で高圧
エアーを吹出すようになっている。また、貯液タンク２
は処理済みの薬液を回収し循環させる機能も備えてい
る。
イフ８、滴下ノズル７の順に配置されている。また、エ
アーナイフ８は、基板６の幅よりやや長目の寸法を有す
るとともにエアー吹出し口を基板６の進行方向と直交す
る方向に向けて設置され、基板６上に所定の角度で高圧
エアーを吹出すようになっている。また、貯液タンク２
は処理済みの薬液を回収し循環させる機能も備えてい
る。
【０００４】このような従来構造の薬液塗布装置を使用
して、基板上に薬液塗布を行う方法について図６を用い
て説明する。図６は図１の部分拡大図である。まず、基
板６を薬液処理槽に搬入する。搬入された基板６は、搬
送ローラ５によって基板進行方向（矢印で示す）に移動
して行く。エアーナイフ８からは常に高圧エアー１２が
基板６の面上に向けて所定の角度で吹き出しており、こ
のエアーナイフ８の下を通過した基板６は滴下ノズル７
の下に到達する。基板６の先端が到達した時点で滴下ノ
ズル７から薬液１１の滴下を開始し、進行する基板６上
に薬液１１が流動して広がって行く。基板６の後方に広
がってきた薬液１１は、基板進行方向に直交するエアー
ナイフ８から吹出す高圧エアー１２によって、薬液１１
の広がりの先端が基板幅方向にほぼ一直線状に抑えられ
る（以下、この状態を液止めと称する）。この液止めさ
れた状態で基板６の進行につれて、薬液１１の広がりの
先端が基板６の後端までほぼ一直線状を維持しながら流
動して行くため、基板６上には塗布ムラのない均一な液
盛りができるようになっている。
して、基板上に薬液塗布を行う方法について図６を用い
て説明する。図６は図１の部分拡大図である。まず、基
板６を薬液処理槽に搬入する。搬入された基板６は、搬
送ローラ５によって基板進行方向（矢印で示す）に移動
して行く。エアーナイフ８からは常に高圧エアー１２が
基板６の面上に向けて所定の角度で吹き出しており、こ
のエアーナイフ８の下を通過した基板６は滴下ノズル７
の下に到達する。基板６の先端が到達した時点で滴下ノ
ズル７から薬液１１の滴下を開始し、進行する基板６上
に薬液１１が流動して広がって行く。基板６の後方に広
がってきた薬液１１は、基板進行方向に直交するエアー
ナイフ８から吹出す高圧エアー１２によって、薬液１１
の広がりの先端が基板幅方向にほぼ一直線状に抑えられ
る（以下、この状態を液止めと称する）。この液止めさ
れた状態で基板６の進行につれて、薬液１１の広がりの
先端が基板６の後端までほぼ一直線状を維持しながら流
動して行くため、基板６上には塗布ムラのない均一な液
盛りができるようになっている。
【０００５】なお、エアナイフを用いたこの種の関連技
術として、特開２００１−８７７０２号公報があるが、
これは基板上に塗布された余剰の液を除去するために用
いられるものであって、上記したように、塗布ムラをな
くすために滴下ノズルの手前に設置して液止め手段とし
てエアーナイフを使用する方法については述べられてい
ない。
術として、特開２００１−８７７０２号公報があるが、
これは基板上に塗布された余剰の液を除去するために用
いられるものであって、上記したように、塗布ムラをな
くすために滴下ノズルの手前に設置して液止め手段とし
てエアーナイフを使用する方法については述べられてい
ない。
【０００６】しかし、上述した従来の塗布方法では、図
７の説明図に示すように、エアーナイフ８から吹き出す
エアーの流れを均一にするためには、エアー吹出し口１
３の隙間の調整を行う必要がある。調整はネジ止め１６
（図８に示す）により行っているが、調整が悪いとどう
しても場所によって隙間に差ができてしまう。そのた
め、エアー吹出し口１３から吹出す高圧エアー１２ａ，
１２ｂ，１２ｃのように吹出し方向がばらついて高圧エ
アーの流れが集中しなくなり、エアーナイフ８の角度調
整を行ったりしてもこのばらつきは解消されていない。
７の説明図に示すように、エアーナイフ８から吹き出す
エアーの流れを均一にするためには、エアー吹出し口１
３の隙間の調整を行う必要がある。調整はネジ止め１６
（図８に示す）により行っているが、調整が悪いとどう
しても場所によって隙間に差ができてしまう。そのた
め、エアー吹出し口１３から吹出す高圧エアー１２ａ，
１２ｂ，１２ｃのように吹出し方向がばらついて高圧エ
アーの流れが集中しなくなり、エアーナイフ８の角度調
整を行ったりしてもこのばらつきは解消されていない。
【０００７】特に、液晶用ガラス基板のように基板サイ
ズが大きい場合には、基板上に均一に薬液が広がりにく
いこともあり、基板進行方向と直交する方向への薬液の
広がりが均等になるように塗布することは困難であり、
その結果、図８の上面図に示すように、基板６上に流動
して広がる薬液１１の液止めをエアーナイフ８だけでは
十分に行うことができず、塗布された薬液１１に塗布ム
ラ１５が発生し、基板６の塗布が完了した後もこの塗布
ムラ１５の影響が残ったまま基板６は次工程へと搬送さ
れてしまう。この塗布ムラ１５の影響が残った部分は薬
液の塗布厚も不均一となっており、次工程へ悪影響を与
えかねない。
ズが大きい場合には、基板上に均一に薬液が広がりにく
いこともあり、基板進行方向と直交する方向への薬液の
広がりが均等になるように塗布することは困難であり、
その結果、図８の上面図に示すように、基板６上に流動
して広がる薬液１１の液止めをエアーナイフ８だけでは
十分に行うことができず、塗布された薬液１１に塗布ム
ラ１５が発生し、基板６の塗布が完了した後もこの塗布
ムラ１５の影響が残ったまま基板６は次工程へと搬送さ
れてしまう。この塗布ムラ１５の影響が残った部分は薬
液の塗布厚も不均一となっており、次工程へ悪影響を与
えかねない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】このように、従来の薬
液塗布方法及び装置においては、エアーナイフだけでは
液止めが不十分なため塗布ムラが発生し、この塗布ムラ
による影響が残った状態で基板が次工程に搬送されてし
まう。例えば、薬液塗布工程が洗浄液塗布工程であると
すれば、次工程の洗浄液除去工程においても塗布ムラの
影響が除去しきれずに残ってしまい、洗浄不良の原因と
なっている。
液塗布方法及び装置においては、エアーナイフだけでは
液止めが不十分なため塗布ムラが発生し、この塗布ムラ
による影響が残った状態で基板が次工程に搬送されてし
まう。例えば、薬液塗布工程が洗浄液塗布工程であると
すれば、次工程の洗浄液除去工程においても塗布ムラの
影響が除去しきれずに残ってしまい、洗浄不良の原因と
なっている。
【０００９】そこで本発明は、液晶用ガラス基板のよう
な大型サイズの基板に薬液を塗布する際に、基板上に流
動して広がる薬液の液止めを十分に行うことのできる液
止め手段を設けることによって、塗布された薬液に発生
する塗布ムラをなくし、かつ次工程への影響を減らすこ
とによって、製品歩留りの向上を図ることを目的とした
薬液塗布方法及びその塗布装置を提供する。
な大型サイズの基板に薬液を塗布する際に、基板上に流
動して広がる薬液の液止めを十分に行うことのできる液
止め手段を設けることによって、塗布された薬液に発生
する塗布ムラをなくし、かつ次工程への影響を減らすこ
とによって、製品歩留りの向上を図ることを目的とした
薬液塗布方法及びその塗布装置を提供する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明は、基板を薬液処
理槽内に搬送し、搬送中の基板上に滴下ノズルから薬液
を滴下して塗布し、塗布の際に発生する薬液の塗布ムラ
を抑えるための液止めをエアーナイフを用いて行い、基
板の移動方向に対しエアーナイフ、滴下ノズルの順に配
置されている塗布装置を用いて薬液塗布を行う薬液塗布
方法において、滴下ノズルとエアーナイフとの間で、か
つエアーナイフに近接させてエアーナイフと平行に液止
めローラを設置し、エアーナイフに液止めローラを組み
合わせることによって、液止めローラによる液止めとエ
アーナイフによる液止めとの二段階で液止めを行う薬液
塗布方法である。
理槽内に搬送し、搬送中の基板上に滴下ノズルから薬液
を滴下して塗布し、塗布の際に発生する薬液の塗布ムラ
を抑えるための液止めをエアーナイフを用いて行い、基
板の移動方向に対しエアーナイフ、滴下ノズルの順に配
置されている塗布装置を用いて薬液塗布を行う薬液塗布
方法において、滴下ノズルとエアーナイフとの間で、か
つエアーナイフに近接させてエアーナイフと平行に液止
めローラを設置し、エアーナイフに液止めローラを組み
合わせることによって、液止めローラによる液止めとエ
アーナイフによる液止めとの二段階で液止めを行う薬液
塗布方法である。
【００１１】また、本発明は、一段階目の液止めは液止
めローラで行い、液止めローラと基板との間に所望の隙
間を設け、隙間によって塗布薬液の厚さを均一に整えつ
つ粗液止めを行う薬液塗布方法であり、二段階目の液止
めはエアーナイフで行い、エアーナイフから吹出すエア
ーを液止めローラに当ててエアーの方向を変化させ、ば
らつきのあるエアー吹出し方向をそれぞれ基板上のほぼ
一直線上に集中させ、液止めローラによって粗液止めさ
れて基板との間の隙間を通った均一な厚さの薬液に対し
第２の液止めを行う薬液塗布方法である。
めローラで行い、液止めローラと基板との間に所望の隙
間を設け、隙間によって塗布薬液の厚さを均一に整えつ
つ粗液止めを行う薬液塗布方法であり、二段階目の液止
めはエアーナイフで行い、エアーナイフから吹出すエア
ーを液止めローラに当ててエアーの方向を変化させ、ば
らつきのあるエアー吹出し方向をそれぞれ基板上のほぼ
一直線上に集中させ、液止めローラによって粗液止めさ
れて基板との間の隙間を通った均一な厚さの薬液に対し
第２の液止めを行う薬液塗布方法である。
【００１２】また、本発明は、薬液処理槽内に、基板を
搬送する搬送ローラと、搬送中の基板上に薬液を滴下す
る滴下ノズルと、基板上に滴下された薬液の塗布ムラを
抑えるための液止めを行うエアーナイフとを有し、基板
の移動方向に対しエアーナイフ、滴下ノズルの順に配置
されている薬液処理装置において、滴下ノズルとエアー
ナイフとの間で、かつエアーナイフに近接させてエアー
ナイフと平行に液止めローラを設け、エアーナイフに液
止めローラを組み合わせてなる液止め手段を備えた薬液
処理装置である。
搬送する搬送ローラと、搬送中の基板上に薬液を滴下す
る滴下ノズルと、基板上に滴下された薬液の塗布ムラを
抑えるための液止めを行うエアーナイフとを有し、基板
の移動方向に対しエアーナイフ、滴下ノズルの順に配置
されている薬液処理装置において、滴下ノズルとエアー
ナイフとの間で、かつエアーナイフに近接させてエアー
ナイフと平行に液止めローラを設け、エアーナイフに液
止めローラを組み合わせてなる液止め手段を備えた薬液
処理装置である。
【００１３】また、本発明は、液止めローラがローラ本
体とその両端に取り付けられたフランジ部とからなり、
移動する基板の両端部に両フランジ部が接触して基板に
上乗りする位置に液止めローラが設置されている薬液処
理装置であり、また、液止めローラはフランジ部をロー
ラ本体に対し交換可能とし、所望のフランジ部を装着す
ることによってローラ本体と基板との隙間を調整可能と
した薬液処理装置であり、また、フランジ部は摩耗しに
くい樹脂材で構成されている薬液処理装置であり、ま
た、エアーナイフの角度を調整して吹出したエアーを液
止めローラに当ててエアーの方向を変化させ、吹出し方
向にばらつきのあるエアーを基板上のほぼ一直線上に集
中させることができるように液止めローラを設置した薬
液処理装置である。
体とその両端に取り付けられたフランジ部とからなり、
移動する基板の両端部に両フランジ部が接触して基板に
上乗りする位置に液止めローラが設置されている薬液処
理装置であり、また、液止めローラはフランジ部をロー
ラ本体に対し交換可能とし、所望のフランジ部を装着す
ることによってローラ本体と基板との隙間を調整可能と
した薬液処理装置であり、また、フランジ部は摩耗しに
くい樹脂材で構成されている薬液処理装置であり、ま
た、エアーナイフの角度を調整して吹出したエアーを液
止めローラに当ててエアーの方向を変化させ、吹出し方
向にばらつきのあるエアーを基板上のほぼ一直線上に集
中させることができるように液止めローラを設置した薬
液処理装置である。
【００１４】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。図１は本発明に使用する
薬液塗布装置の概略構成図である。なお、従来装置と同
じ部分は、同じ符号を用いて説明する。
て、図面を参照して説明する。図１は本発明に使用する
薬液塗布装置の概略構成図である。なお、従来装置と同
じ部分は、同じ符号を用いて説明する。
【００１５】図１に示すように、本発明の薬液塗布装置
は、液晶用ガラス基板などの大型サイズの基板６上に薬
液塗布を行う薬液処理槽１と、薬液処理槽１内に設けら
れ基板６の搬送を行う搬送ローラ５と、薬液処理槽１の
底部に設置された薬液の貯液タンク２と、基板６上に薬
液を滴下する滴下ノズル７と、滴下された薬液の液止め
を行うエアーナイフ８とを備え、滴下ノズル７はポンプ
３、フィルター４を介して貯液タンク２と配管接続さ
れ、また、エアーナイフ８はエアー発生源９に配管接続
されている。
は、液晶用ガラス基板などの大型サイズの基板６上に薬
液塗布を行う薬液処理槽１と、薬液処理槽１内に設けら
れ基板６の搬送を行う搬送ローラ５と、薬液処理槽１の
底部に設置された薬液の貯液タンク２と、基板６上に薬
液を滴下する滴下ノズル７と、滴下された薬液の液止め
を行うエアーナイフ８とを備え、滴下ノズル７はポンプ
３、フィルター４を介して貯液タンク２と配管接続さ
れ、また、エアーナイフ８はエアー発生源９に配管接続
されている。
【００１６】そして、基板６の進行方向に対しエアーナ
イフ８、滴下ノズル７の順に配置されている。また、エ
アーナイフ８は、基板６の幅よりやや長目の寸法を有す
るとともにエアー吹出し口を基板６の搬送方向と直交す
る方向に向けて設置され、基板６上に所定の角度で高圧
エアーを吹出すようになっている。また、貯液タンク２
は処理済みの薬液を回収し循環させる機能も備えてい
る。
イフ８、滴下ノズル７の順に配置されている。また、エ
アーナイフ８は、基板６の幅よりやや長目の寸法を有す
るとともにエアー吹出し口を基板６の搬送方向と直交す
る方向に向けて設置され、基板６上に所定の角度で高圧
エアーを吹出すようになっている。また、貯液タンク２
は処理済みの薬液を回収し循環させる機能も備えてい
る。
【００１７】このような構成に加えて、本発明は次のよ
うな特徴を備えている。すなわち、エアーナイフ８と滴
下ノズル７との間に、エアーナイフ８に近接させて液止
めローラ１０を設置したことにある。液止めローラ１０
はエアーナイフ８と平行に設置され、図４の側面図に示
すように、基板６の幅とほぼ同じ長さを有し、ローラ本
体１０ａの両端にはフランジ部１４が着脱自在に取り付
けられ、フランジ部１４は基板６の幅方向の端部に接触
して上乗せローラの役目をしている。このフランジ部１
４の出っ張りの高さが基板６とローラ本体１０ａとの隙
間ｔを規制する寸法となり、この隙間ｔによって塗布さ
れる薬液の厚さを規制するとともに、液止めローラの長
手方向に沿って薬液の粗液止めを行うことができる。
うな特徴を備えている。すなわち、エアーナイフ８と滴
下ノズル７との間に、エアーナイフ８に近接させて液止
めローラ１０を設置したことにある。液止めローラ１０
はエアーナイフ８と平行に設置され、図４の側面図に示
すように、基板６の幅とほぼ同じ長さを有し、ローラ本
体１０ａの両端にはフランジ部１４が着脱自在に取り付
けられ、フランジ部１４は基板６の幅方向の端部に接触
して上乗せローラの役目をしている。このフランジ部１
４の出っ張りの高さが基板６とローラ本体１０ａとの隙
間ｔを規制する寸法となり、この隙間ｔによって塗布さ
れる薬液の厚さを規制するとともに、液止めローラの長
手方向に沿って薬液の粗液止めを行うことができる。
【００１８】フランジ部１４は直径の異なる何種類かを
あらかじめ準備しておき、薬液の種類に応じて所望の塗
布厚が得られるように、フランジ部１４を交換すること
によって隙間ｔの寸法調整が可能である。例えば、液晶
用ガラス基板を洗浄する場合には、ｔの値は０．５ｍｍ
程度に設定するのが好ましい。また、フランジ部は交換
の着脱をネジ込み等によって行い、材質はｔの値が変化
しないよう摩耗しにくい樹脂材が好ましい。また、液止
めローラを基板に上乗せしたことによって基板が押さえ
られ、基板搬送時の振動を抑えることができる。
あらかじめ準備しておき、薬液の種類に応じて所望の塗
布厚が得られるように、フランジ部１４を交換すること
によって隙間ｔの寸法調整が可能である。例えば、液晶
用ガラス基板を洗浄する場合には、ｔの値は０．５ｍｍ
程度に設定するのが好ましい。また、フランジ部は交換
の着脱をネジ込み等によって行い、材質はｔの値が変化
しないよう摩耗しにくい樹脂材が好ましい。また、液止
めローラを基板に上乗せしたことによって基板が押さえ
られ、基板搬送時の振動を抑えることができる。
【００１９】次に、この液止めローラ１０とエアナイフ
８との関係について、図３の機能説明図を用いて説明す
る。エアーナイフ８から吹出した高圧エアーは、エアー
吹出し口１３の隙間の調整の如何によっては高圧エアー
１２ａ，１２ｂ，１２ｃのように吹出し方向がばらつい
た状態となる。しかし、エアーナイフ８の取り付け角
度、及び液止めローラ１０とエアーナイフ８との距離な
どの位置関係を調整することによって、ばらついた高圧
エアー１２ａ〜１２ｃを液止めローラ１０のローラ本体
面で反射させて吹出し方向を変化させ、できるだけ基板
幅方向の一直線Ｐ上に集中させるようにすることができ
る。
８との関係について、図３の機能説明図を用いて説明す
る。エアーナイフ８から吹出した高圧エアーは、エアー
吹出し口１３の隙間の調整の如何によっては高圧エアー
１２ａ，１２ｂ，１２ｃのように吹出し方向がばらつい
た状態となる。しかし、エアーナイフ８の取り付け角
度、及び液止めローラ１０とエアーナイフ８との距離な
どの位置関係を調整することによって、ばらついた高圧
エアー１２ａ〜１２ｃを液止めローラ１０のローラ本体
面で反射させて吹出し方向を変化させ、できるだけ基板
幅方向の一直線Ｐ上に集中させるようにすることができ
る。
【００２０】このように、本発明の薬液塗布装置では、
エアーナイフに液止めローラを組み合わせたことによっ
て、基板上を流動してくる塗布液の厚さを均一に規制し
つつ液止めローラの長手方向に沿って薬液の粗液止めを
行うことができ、同時にエアーナイフから吹出す高圧エ
アーの先端がほぼ一直線に揃うので粗液止めされた塗布
液に対しさらに良好な第２の液止めが可能となり、塗布
ムラの発生を抑えることができる。
エアーナイフに液止めローラを組み合わせたことによっ
て、基板上を流動してくる塗布液の厚さを均一に規制し
つつ液止めローラの長手方向に沿って薬液の粗液止めを
行うことができ、同時にエアーナイフから吹出す高圧エ
アーの先端がほぼ一直線に揃うので粗液止めされた塗布
液に対しさらに良好な第２の液止めが可能となり、塗布
ムラの発生を抑えることができる。
【００２１】次に、本発明の薬液塗布装置を使用して、
基板上に薬液塗布を行う方法について、図２を用いて説
明する。図２は図１の部分拡大図である。まず、基板６
を薬液処理槽に搬入する。搬入された基板６は、搬送ロ
ーラ５によって基板進行方向（矢印で示す）に移動して
行く。エアーナイフ８からは常に高圧エアー１０が基板
６の面上に向けて所定の角度で吹き出しており、このエ
アーナイフ８の下を通過した基板６は液止めローラ１０
に接触してその下に入り込み、搬送ローラ５と液止めロ
ーラ１０とで挟まれた状態で滴下ノズル７の下に到達す
る。
基板上に薬液塗布を行う方法について、図２を用いて説
明する。図２は図１の部分拡大図である。まず、基板６
を薬液処理槽に搬入する。搬入された基板６は、搬送ロ
ーラ５によって基板進行方向（矢印で示す）に移動して
行く。エアーナイフ８からは常に高圧エアー１０が基板
６の面上に向けて所定の角度で吹き出しており、このエ
アーナイフ８の下を通過した基板６は液止めローラ１０
に接触してその下に入り込み、搬送ローラ５と液止めロ
ーラ１０とで挟まれた状態で滴下ノズル７の下に到達す
る。
【００２２】基板６の先端が滴下ノズル７に到達した時
点で滴下ノズル７から薬液１１の滴下を開始し、移動す
る基板６上に薬液１１が流動して広がって行く。基板６
の後方に広がってきた薬液１１は、まず液止めローラ１
０によって粗液止めされて、広がりの先端がほぼ一直線
に整えられる。同時に、液止めローラ１０と基板６とに
よって形成される隙間ｔによって薬液１１の塗布厚も均
一な厚さｔに整えられる。整えられた薬液１１は、液止
めローラ１０の下を通り抜けたところでエアーナイフ８
から吹出す高圧エアー１２によって再び液止めされる。
高圧エアー１２は、図３で示したように、液止めローラ
１０によって高圧エアー１２ａ〜１２ｃのばらつきがほ
ぼ一直線Ｐ上に整えられているため、基板６上に広がる
薬液の先端の流れがさらに良好に液止めされることにな
り、この第２の液止めによって基板６上には塗布ムラの
ない均一な液盛りができるようになる。
点で滴下ノズル７から薬液１１の滴下を開始し、移動す
る基板６上に薬液１１が流動して広がって行く。基板６
の後方に広がってきた薬液１１は、まず液止めローラ１
０によって粗液止めされて、広がりの先端がほぼ一直線
に整えられる。同時に、液止めローラ１０と基板６とに
よって形成される隙間ｔによって薬液１１の塗布厚も均
一な厚さｔに整えられる。整えられた薬液１１は、液止
めローラ１０の下を通り抜けたところでエアーナイフ８
から吹出す高圧エアー１２によって再び液止めされる。
高圧エアー１２は、図３で示したように、液止めローラ
１０によって高圧エアー１２ａ〜１２ｃのばらつきがほ
ぼ一直線Ｐ上に整えられているため、基板６上に広がる
薬液の先端の流れがさらに良好に液止めされることにな
り、この第２の液止めによって基板６上には塗布ムラの
ない均一な液盛りができるようになる。
【００２３】
【発明の効果】従来の薬液塗布方法及び塗布装置では、
液晶用ガラス基板のような大型サイズの基板に薬液を塗
布する際に、エアーナイフだけでは液止めが不十分なた
め塗布ムラが発生し、この塗布ムラによる影響が残った
状態で基板が次工程に搬送されてしまうという問題があ
った。
液晶用ガラス基板のような大型サイズの基板に薬液を塗
布する際に、エアーナイフだけでは液止めが不十分なた
め塗布ムラが発生し、この塗布ムラによる影響が残った
状態で基板が次工程に搬送されてしまうという問題があ
った。
【００２４】そこで本発明は、基板に薬液を塗布する際
に、基板上に流動して広がる薬液の液止めを十分に行う
ことのできる液止め手段として、エアーナイフに液止め
ローラを組み合わせた液止め手段を設けることによっ
て、液止めローラによる粗液止めとエアーナイフによる
第２の液止めとの二段階で液止めを行うようにしたもの
である。
に、基板上に流動して広がる薬液の液止めを十分に行う
ことのできる液止め手段として、エアーナイフに液止め
ローラを組み合わせた液止め手段を設けることによっ
て、液止めローラによる粗液止めとエアーナイフによる
第２の液止めとの二段階で液止めを行うようにしたもの
である。
【００２５】このように、本発明によれば、エアーナイ
フに液止めローラを組み合わせた液止め手段を設けたこ
とによって、液止めローラは薬液の塗布厚を整えるだけ
でなく、ばらついていたエアーの吹出し方向をほぼ一直
線上に揃えるという機能も同時に果たすことができる。
その結果、塗布された薬液に発生する塗布ムラの問題が
なくなり、かつ次工程への影響が低減されたことによっ
て、製品歩留りの向上を図ることができる。
フに液止めローラを組み合わせた液止め手段を設けたこ
とによって、液止めローラは薬液の塗布厚を整えるだけ
でなく、ばらついていたエアーの吹出し方向をほぼ一直
線上に揃えるという機能も同時に果たすことができる。
その結果、塗布された薬液に発生する塗布ムラの問題が
なくなり、かつ次工程への影響が低減されたことによっ
て、製品歩留りの向上を図ることができる。
【図１】本発明に用いる薬液塗布装置の概略構成図であ
る。
る。
【図２】図１の部分拡大図である。
【図３】本発明装置の機能を説明する図である。
【図４】液止めローラ部の側面図である。
【図５】従来の薬液処理装置の概略構成図である。
【図６】図５の部分拡大図である。
【図７】従来装置の機能を説明する図である。
【図８】従来の塗布ムラを示す上面図である。
【符号の説明】
１ 薬液処理槽
２ 貯液タンク
３ ポンプ
４ フィルター
５ 搬送ローラ
６ 基板
７ 滴下ノズル
８ エアーナイフ
９ エアー発生源
１０ 液止めローラ
１０ａ ローラ本体
１１ 薬液
１２，１２ａ，１２ｂ，１２ｃ 高圧エアー
１３ エアー吹出し口
１４ フランジ部
１５ 塗布ムラ
１６ ネジ止め
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｚ ５Ｆ０４６
Ｆターム(参考） 2H025 AA18 AB14 EA04
4D075 AB04 AB32 AB43 AB52 AC06
AC12 AC54 AC60 AC72 AC77
AC92 AC93 CA48 DA06 DB13
DC24 EA07
4F040 AA02 AA14 AB13 AC01 BA35
CC14 CC19 CC20 DA13 DB27
4F041 AA02 AA05 AB02 BA07 BA56
4F042 AA02 AA10 DD02 DD09 DD17
DD27 DD34 DD35 DD45 DF19
5F046 JA01 JA19
Claims (8)
- 【請求項１】 基板を薬液処理槽内に搬送し、搬送中の
基板上に滴下ノズルから薬液を滴下して塗布し、塗布の
際に発生する薬液の塗布ムラを抑えるための液止めをエ
アーナイフを用いて行い、基板の移動方向に対しエアー
ナイフ、滴下ノズルの順に配置されている塗布装置を用
いて薬液塗布を行う薬液塗布方法において、滴下ノズル
とエアーナイフとの間で、かつエアーナイフに近接させ
てエアーナイフと平行に液止めローラを設置し、エアー
ナイフに液止めローラを組み合わせることによって、液
止めローラによる液止めとエアーナイフによる液止めと
の二段階で液止めを行うことを特徴とする薬液塗布方
法。 - 【請求項２】 一段階目の液止めは液止めローラで行
い、液止めローラと基板との間に所望の隙間を設け、隙
間によって塗布薬液の厚さを均一に整えつつ粗液止めを
行うことを特徴とする請求項１記載の薬液塗布方法。 - 【請求項３】 二段階目の液止めはエアーナイフで行
い、エアーナイフから吹出すエアーを液止めローラに当
ててエアーの方向を変化させ、ばらつきのあるエアー吹
出し方向をそれぞれ基板上のほぼ一直線上に集中させ、
液止めローラによって粗液止めされて基板との間の隙間
を通った均一な厚さの薬液に対し第２の液止めを行うこ
とを特徴とする請求項１記載の薬液塗布方法。 - 【請求項４】 薬液処理槽内に、基板を搬送する搬送ロ
ーラと、搬送中の基板上に薬液を滴下する滴下ノズル
と、基板上に滴下された薬液の塗布ムラを抑えるための
液止めを行うエアーナイフとを有し、基板の移動方向に
対しエアーナイフ、滴下ノズルの順に配置されている薬
液処理装置において、滴下ノズルとエアーナイフとの間
で、かつエアーナイフに近接させてエアーナイフと平行
に液止めローラを設け、エアーナイフに液止めローラを
組み合わせてなる液止め手段を備えたことを特徴とする
薬液処理装置。 - 【請求項５】 液止めローラはローラ本体とその両端に
取り付けられたフランジ部とからなり、移動する基板の
両端部に両フランジ部が接触して基板に上乗りする位置
に液止めローラは設置されていることを特徴とする請求
項４記載の薬液処理装置。 - 【請求項６】 液止めローラはフランジ部をローラ本体
に対し交換可能とし、所望のフランジ部を装着すること
によってローラ本体と基板との隙間を調整可能としたこ
とを特徴とする請求項４記載の薬液処理装置。 - 【請求項７】 エアーナイフの角度を調整して吹出した
エアーを液止めローラに当ててエアーの方向を変化さ
せ、吹出し方向にばらつきのあるエアーを基板上のほぼ
一直線上に集中させることができるように液止めローラ
を設置したことを特徴とする請求項４記載の薬液処理装
置。 - 【請求項８】 フランジ部は摩耗しにくい樹脂材で構成
されていることを特徴とする請求項５記載の薬液処理装
置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001205033A JP4382306B2 (ja) | 2001-07-05 | 2001-07-05 | 薬液塗布方法及びその塗布装置 |
| TW091113780A TW577775B (en) | 2001-07-05 | 2002-06-24 | Liquid medicine application method and its coating applicator |
| KR10-2002-0038357A KR100486127B1 (ko) | 2001-07-05 | 2002-07-03 | 약액도포방법 및 그 도포장치 |
| CNB021412804A CN1330432C (zh) | 2001-07-05 | 2002-07-05 | 药液涂敷方法及其涂敷装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001205033A JP4382306B2 (ja) | 2001-07-05 | 2001-07-05 | 薬液塗布方法及びその塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003010770A true JP2003010770A (ja) | 2003-01-14 |
| JP4382306B2 JP4382306B2 (ja) | 2009-12-09 |
Family
ID=19041411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001205033A Expired - Lifetime JP4382306B2 (ja) | 2001-07-05 | 2001-07-05 | 薬液塗布方法及びその塗布装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4382306B2 (ja) |
| KR (1) | KR100486127B1 (ja) |
| CN (1) | CN1330432C (ja) |
| TW (1) | TW577775B (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006011137A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Seiko Epson Corp | トナーの製造方法 |
| CN104267579A (zh) * | 2014-09-17 | 2015-01-07 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 米级光栅玻璃光刻胶精密涂覆方法 |
| CN113636761A (zh) * | 2021-05-18 | 2021-11-12 | 中建材（内江）玻璃高新技术有限公司 | 一种镀膜玻璃生产的预加热系统及方法 |
| JP2022163524A (ja) * | 2021-04-14 | 2022-10-26 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 液体またはスラリーの塗布装置、液体またはスラリーの塗布方法および塗装金属帯の製造方法 |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8545159B2 (en) * | 2003-10-01 | 2013-10-01 | Jusung Engineering Co., Ltd. | Apparatus having conveyor and method of transferring substrate using the same |
| TW201505198A (zh) * | 2013-07-19 | 2015-02-01 | Screen Holdings Co Ltd | 圖案形成裝置及圖案形成方法 |
| KR101691060B1 (ko) * | 2015-01-23 | 2016-12-29 | 최규종 | 판넬 자동도장장치 |
| JP6209572B2 (ja) * | 2015-01-28 | 2017-10-04 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 基板処理装置 |
| CN105170389A (zh) * | 2015-10-16 | 2015-12-23 | 武夷山市美华实业有限公司 | 风刀气吹式线条喷涂机及其生产工艺 |
| KR102010329B1 (ko) * | 2017-08-04 | 2019-10-15 | 주식회사 디엠에스 | 기판처리장치 및 이를 이용한 인라인 기판처리시스템 |
| KR102616417B1 (ko) | 2018-06-15 | 2023-12-26 | 삼성전자주식회사 | 디스플레이를 구비한 전자 장치 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58170837U (ja) * | 1982-05-10 | 1983-11-15 | 沖電気工業株式会社 | ウエハアライメント装置 |
| US4527510A (en) * | 1983-05-13 | 1985-07-09 | Mactron, Inc. | Apparatus for applying a coating to a moving surface |
| JPH05131165A (ja) * | 1991-11-11 | 1993-05-28 | Toyo Tire & Rubber Co Ltd | 機械部品の浸漬式接着剤塗布装置 |
| JPH07256184A (ja) * | 1994-03-17 | 1995-10-09 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | 塗工装置 |
| FI101092B (fi) * | 1996-02-07 | 1998-04-15 | Valmet Corp | Menetelmä filminsiirtopäällystyksessä ja menetelmän toteuttamiseen tar koitettu laitteisto |
| US5916393A (en) * | 1997-06-24 | 1999-06-29 | Owens Corning Fiberglas Technology, Inc. | Method for applying adhesive on a porous substrate |
| JPH11300251A (ja) * | 1998-04-17 | 1999-11-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 硬基板塗布装置 |
| JP4017793B2 (ja) * | 1999-09-24 | 2007-12-05 | クボタ松下電工外装株式会社 | 無機質板のシーラー処理方法 |
-
2001
- 2001-07-05 JP JP2001205033A patent/JP4382306B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2002
- 2002-06-24 TW TW091113780A patent/TW577775B/zh not_active IP Right Cessation
- 2002-07-03 KR KR10-2002-0038357A patent/KR100486127B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2002-07-05 CN CNB021412804A patent/CN1330432C/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006011137A (ja) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Seiko Epson Corp | トナーの製造方法 |
| CN104267579A (zh) * | 2014-09-17 | 2015-01-07 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 米级光栅玻璃光刻胶精密涂覆方法 |
| JP2022163524A (ja) * | 2021-04-14 | 2022-10-26 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 液体またはスラリーの塗布装置、液体またはスラリーの塗布方法および塗装金属帯の製造方法 |
| JP7384188B2 (ja) | 2021-04-14 | 2023-11-21 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 液体またはスラリーの塗布装置、液体またはスラリーの塗布方法および塗装金属帯の製造方法 |
| CN113636761A (zh) * | 2021-05-18 | 2021-11-12 | 中建材（内江）玻璃高新技术有限公司 | 一种镀膜玻璃生产的预加热系统及方法 |
| CN113636761B (zh) * | 2021-05-18 | 2022-12-06 | 中建材（内江）玻璃高新技术有限公司 | 一种镀膜玻璃生产的预加热系统及方法 |
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|---|---|
| TW577775B (en) | 2004-03-01 |
| CN1396007A (zh) | 2003-02-12 |
| CN1330432C (zh) | 2007-08-08 |
| JP4382306B2 (ja) | 2009-12-09 |
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| KR100486127B1 (ko) | 2005-04-29 |
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