CN104267579A - 米级光栅玻璃光刻胶精密涂覆方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种米级光栅玻璃高均匀性光刻胶精密涂覆方法，包括步骤：准备好光刻胶→将光刻胶投入压力罐→利用压缩空气将压力罐内的光刻胶从喷枪喷嘴中喷出→往复喷涂在米级光栅玻璃上形成湿膜→旋转米级光栅玻璃进行甩胶→进烘箱烘干。本发明能在米级光栅玻璃上进行光刻胶高均匀性精密涂覆。

Description

米级光栅玻璃光刻胶精密涂覆方法

技术领域

本发明涉及玻璃光刻胶涂膜工艺，特别是米级大尺寸光学玻璃光刻胶的高均匀性精密涂覆方法。 

背景技术

现有的在玻璃上进行光刻胶涂覆工艺，通常采用旋涂、辊涂，对玻璃尺寸大小和形状有要求。一般需要玻璃为圆形或者正方形或长方形，且尺寸无法达到米级大尺寸。采用旋涂法对米级玻璃进行光刻胶涂覆，不规则形状玻璃会有边缘效应且在米级光栅玻璃上无法高均匀性精密涂覆，粗糙度大。采用辊涂法，光刻胶的厚度均匀性达不到米级光栅的精密度要求(膜厚500-700nm，±3％) 

发明内容

为了克服上述现有技术的不足，本发明提供一种米级光栅玻璃高均匀性光刻胶精密涂覆方法，该工艺简单，易操作。 

本发明的技术解决方案如下： 

一种米级光栅玻璃光刻胶精密涂覆方法，其特征在于，该方法包括如下步骤： 

①准备光刻胶，并将其投入压力罐； 

②利用压缩空气将压力罐内的光刻胶从喷枪喷嘴中喷出，往复喷涂在米级光栅玻璃上形成湿膜； 

③旋转米级光栅玻璃进行甩胶； 

④送进烘箱烘干。 

与现有技术相比，本发明的有益效果是：提高了玻璃光刻胶涂覆在米级尺度的高均匀性、同时保证精密涂覆。 

具体实施方式

下面结合实施例对本发明做详细的说明，本实施例在以本发明技术方案为前提下进行实施，给出了详细的实施方式和具体的操作过程，但本发明的保护范围不限于下述的实施例。 

本发明采用的涂覆工艺为：准备好光刻胶→将光刻胶投入压力罐→利用压缩空气将压力罐内的光刻胶从喷枪喷嘴中喷出→往复喷涂在米级光栅玻璃上形成湿膜→旋转米级光栅玻璃进行甩胶→进烘箱烘干。本发明能在米级光栅玻璃上进行光刻胶高均匀性精密涂覆。 

用压缩空气将光刻胶从喷枪喷嘴中喷出，往复喷涂在米级玻璃上形成一层湿膜。平板玻璃上喷涂要获得膜层均匀性低于±3％，需要加入特殊溶剂及各种流平剂、表面活性剂等助剂。但是光刻胶对溶剂要求高，大部分溶剂以引起不溶性颗粒等并且对光刻胶性能产生影响。喷涂工序完成后在对米级玻璃进行旋涂甩胶，达到湿膜流平的目的。 

因测试设备对尺寸有限制，用此方法涂覆光刻胶的Φ219mm防溅射板上四边及中央各处取8个不同位置，擦除光刻胶形成1cm直径左右的空洞，用台阶仪测试出的膜厚数据详见表1。表1数据显示：8个测试数据最大值512nm，最小值501nm，中间厚度505nm，厚度均匀性达到±1.33％。 

表1 Φ219mm防溅射板涂覆光刻胶膜厚 

测试点	膜厚/nm
		1	505
2	506
		3	506
4	503
		5	501
6	501
		7	512
8	508

Claims (1)

1.一种米级光栅玻璃光刻胶精密涂覆方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

①准备光刻胶，并将其投入压力罐；

②利用压缩空气将压力罐内的光刻胶从喷枪喷嘴中喷出，往复喷涂在米级光栅玻璃上形成湿膜；

③旋转米级光栅玻璃进行甩胶；

④送进烘箱烘干。