JP2003010645A - 脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法および装置ならびにそれらに使用するアンモニア注入量補正装置 - Google Patents
脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法および装置ならびにそれらに使用するアンモニア注入量補正装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 過脱硝やリークＮＨ3 を防止し、ＮＨ3 注入
量不足による出口ＮＯｘ濃度の規制値からの逸脱を回避
できる脱硝装置へのＮＨ3 注入量制御方法を提供する。 【解決手段】 被処理排ガス量と入口ＮＯｘ濃度から入
口ＮＯｘ量を求める工程と、入口ＮＯｘ濃度と出口ＮＯ
ｘ濃度の設定値および測定値に基づきＮＯｘ量に対する
必要ＮＨ3 モル比を求める工程と、入口ＮＯｘ量と必要
ＮＨ3 モル比から必要ＮＨ3 流量を求める工程と、注入
ＮＨ3 流量と被処理排ガス量と入口および出口ＮＯｘ濃
度および装置からのリークＮＨ3 流量とに基づき触媒残
存ＮＨ3 吸着量補正バイアス信号を求める工程と、補正
バイアス信号により必要ＮＨ3 流量信号を補正する工程
と、補正された必要ＮＨ3 流量信号と実測ＮＨ3 流量信
号の偏差に基づいてＮＨ3 流量制御装置を操作する工程
とを備えたこと。
量不足による出口ＮＯｘ濃度の規制値からの逸脱を回避
できる脱硝装置へのＮＨ3 注入量制御方法を提供する。 【解決手段】 被処理排ガス量と入口ＮＯｘ濃度から入
口ＮＯｘ量を求める工程と、入口ＮＯｘ濃度と出口ＮＯ
ｘ濃度の設定値および測定値に基づきＮＯｘ量に対する
必要ＮＨ3 モル比を求める工程と、入口ＮＯｘ量と必要
ＮＨ3 モル比から必要ＮＨ3 流量を求める工程と、注入
ＮＨ3 流量と被処理排ガス量と入口および出口ＮＯｘ濃
度および装置からのリークＮＨ3 流量とに基づき触媒残
存ＮＨ3 吸着量補正バイアス信号を求める工程と、補正
バイアス信号により必要ＮＨ3 流量信号を補正する工程
と、補正された必要ＮＨ3 流量信号と実測ＮＨ3 流量信
号の偏差に基づいてＮＨ3 流量制御装置を操作する工程
とを備えたこと。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、脱硝装置へのアン
モニア注入量制御方法および装置ならびにそれらに使用
するアンモニア注入量補正装置に係り、特にボイラなど
の燃焼装置から排出される排ガス中の窒素酸化物（ＮＯ
ｘ）をアンモニア（ＮＨ3 ）の注入によって還元・除去
する脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法および装置
ならびにこれらに使用するアンモニア注入量補正装置で
あって、触媒に吸着されるＮＨ3 量を考慮し、かつ出口
ＮＯｘ濃度制御偏差を適切に解消するためのアンモニア
注入量補正装置と、該装置を備えた脱硝装置へのアンモ
ニア注入量制御方法および装置に関する。
モニア注入量制御方法および装置ならびにそれらに使用
するアンモニア注入量補正装置に係り、特にボイラなど
の燃焼装置から排出される排ガス中の窒素酸化物（ＮＯ
ｘ）をアンモニア（ＮＨ3 ）の注入によって還元・除去
する脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法および装置
ならびにこれらに使用するアンモニア注入量補正装置で
あって、触媒に吸着されるＮＨ3 量を考慮し、かつ出口
ＮＯｘ濃度制御偏差を適切に解消するためのアンモニア
注入量補正装置と、該装置を備えた脱硝装置へのアンモ
ニア注入量制御方法および装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】排ガス用脱硝装置ではＮＯｘ還元剤とし
て一般にＮＨ3 を使用し、これを排ガス中に注入し、装
置内に設置した触媒層上で注入したＮＨ3 と排ガス中の
ＮＯｘを反応させて窒素と水にする。すなわち、
て一般にＮＨ3 を使用し、これを排ガス中に注入し、装
置内に設置した触媒層上で注入したＮＨ3 と排ガス中の
ＮＯｘを反応させて窒素と水にする。すなわち、
【０００３】
【数１】
ＮＨ3 ＋ＮＯ＋１／４Ｏ2 →Ｎ2 ＋３／２・Ｈ2 Ｏ
排ガス中のＮＯｘは注入するＮＨ3 と上式で示す反応を
して窒素と水になるので、基本的には注入するＮＨ3 量
は処理すべきＮＯｘ量に見合った量を注入することにな
る。
して窒素と水になるので、基本的には注入するＮＨ3 量
は処理すべきＮＯｘ量に見合った量を注入することにな
る。
【０００４】注入したＮＨ3 はＮＯｘとの反応に使用さ
れる以外に、触媒表面に吸着し得るだけ吸着する。した
がって、それを超えて注入するとリークアンモニアとし
て脱硝装置から流出し問題となる。一方、注入するＮＨ
3 量が処理すべきＮＯｘ量に対して不足するとＮＯｘを
処理しきれなくなり、出口処理ガス中のＮＯｘ濃度を規
定値以下にすることができなくなる。
れる以外に、触媒表面に吸着し得るだけ吸着する。した
がって、それを超えて注入するとリークアンモニアとし
て脱硝装置から流出し問題となる。一方、注入するＮＨ
3 量が処理すべきＮＯｘ量に対して不足するとＮＯｘを
処理しきれなくなり、出口処理ガス中のＮＯｘ濃度を規
定値以下にすることができなくなる。
【０００５】脱硝装置のアンモニア注入量制御方法につ
いての従来技術を図３に示す。被処理ガス中のＮＯｘ量
に見合ったＮＨ3 注入量を算出する注入量算出器９は、
脱硝装置の入口ＮＯｘ濃度、出口ＮＯｘ濃度設定値、出
口ＮＯｘ濃度および被処理ガス量などからＮＨ3 注入量
を算出するものである。
いての従来技術を図３に示す。被処理ガス中のＮＯｘ量
に見合ったＮＨ3 注入量を算出する注入量算出器９は、
脱硝装置の入口ＮＯｘ濃度、出口ＮＯｘ濃度設定値、出
口ＮＯｘ濃度および被処理ガス量などからＮＨ3 注入量
を算出するものである。
【０００６】すなわち、脱硝装置の入口ＮＯｘ分析計１
２で検出された入口ＮＯｘ濃度信号１３と被処理ガス量
２８の被処理ガス流量信号２９とを乗算器３１で乗算
し、総ＮＯｘ量信号３０を算出する。一方、入口ＮＯｘ
濃度信号１３と脱硝装置の出口ＮＯｘ濃度設定器１５で
設定された設定ＮＯｘ濃度信号１６との減算を行う減算
器１９を有する必要モル比演算器１８で必要モル比（Ｎ
Ｈ3 モル／ＮＯｘモル）信号２０を算出し、比例積分演
算器２５を介して加算器２６に入力する。
２で検出された入口ＮＯｘ濃度信号１３と被処理ガス量
２８の被処理ガス流量信号２９とを乗算器３１で乗算
し、総ＮＯｘ量信号３０を算出する。一方、入口ＮＯｘ
濃度信号１３と脱硝装置の出口ＮＯｘ濃度設定器１５で
設定された設定ＮＯｘ濃度信号１６との減算を行う減算
器１９を有する必要モル比演算器１８で必要モル比（Ｎ
Ｈ3 モル／ＮＯｘモル）信号２０を算出し、比例積分演
算器２５を介して加算器２６に入力する。
【０００７】一方、出口ＮＯｘ濃度分析計２２で検出さ
れた出口ＮＯｘ濃度検出信号２３と設定ＮＯｘ濃度信号
１６との偏差を減算器２４により算出し、比例積分演算
器２５を介して加算器２６に入力して前記必要モル比信
号２０の補正を行う。補正後の必要モル比信号２７と先
に述べた総ＮＯｘ量信号３０とを乗算器３２で乗算し必
要ＮＨ3 流量信号３３を算出する。
れた出口ＮＯｘ濃度検出信号２３と設定ＮＯｘ濃度信号
１６との偏差を減算器２４により算出し、比例積分演算
器２５を介して加算器２６に入力して前記必要モル比信
号２０の補正を行う。補正後の必要モル比信号２７と先
に述べた総ＮＯｘ量信号３０とを乗算器３２で乗算し必
要ＮＨ3 流量信号３３を算出する。
【０００８】この必要ＮＨ3 流量信号３３とＮＨ3 流量
計３８で検出されたＮＨ3 流量検出信号３９を減算器４
０で減算してＮＨ3 流量偏差信号４１を算出し、これを
比例積分演算器４２で弁開度信号４３に変換して、電空
変換器４４により制御信号４５に変換し、ＮＨ3 配管５
の途中に設けられたＮＨ3 流量調節弁１０を開閉して脱
硝装置へのＮＨ3 注入量を適正量に制御する。
計３８で検出されたＮＨ3 流量検出信号３９を減算器４
０で減算してＮＨ3 流量偏差信号４１を算出し、これを
比例積分演算器４２で弁開度信号４３に変換して、電空
変換器４４により制御信号４５に変換し、ＮＨ3 配管５
の途中に設けられたＮＨ3 流量調節弁１０を開閉して脱
硝装置へのＮＨ3 注入量を適正量に制御する。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従来技術に係る比例積
分演算器２５によるフィードバック制御装置では、出口
ＮＯｘ濃度を設定値に漸近させることを目的とするが、
制御にやや時間を要するとともに、触媒上のＮＨ3 吸着
量を考慮したＮＨ3 注入量制御を行っていないので、
（１）多量の吸着ＮＨ3 が触媒上に残存していて、しか
も負荷が降下するときにはＮＯｘの過剰除去による出口
ＮＯｘ濃度の設定範囲からの下方への逸脱、（２）過剰
なＮＨ3 注入によるリークＮＨ3 量の増大、（３）ＮＨ
3 の過剰使用による不経済等の問題が生じていた。
分演算器２５によるフィードバック制御装置では、出口
ＮＯｘ濃度を設定値に漸近させることを目的とするが、
制御にやや時間を要するとともに、触媒上のＮＨ3 吸着
量を考慮したＮＨ3 注入量制御を行っていないので、
（１）多量の吸着ＮＨ3 が触媒上に残存していて、しか
も負荷が降下するときにはＮＯｘの過剰除去による出口
ＮＯｘ濃度の設定範囲からの下方への逸脱、（２）過剰
なＮＨ3 注入によるリークＮＨ3 量の増大、（３）ＮＨ
3 の過剰使用による不経済等の問題が生じていた。
【００１０】本発明の課題は、上記従来技術の問題点を
解決し、触媒に吸着されるＮＨ3 量や装置からのリーク
ＮＨ3 量を正確に把握してＮＨ3 注入量操作にフィード
バックさせるとともに、出口ＮＯｘ濃度の設定値と測定
値の偏差に基づくＮＨ3 注入量操作へのフィードバック
を迅速かつ調節容易とし、負荷に対応した適切なＮＨ 3
注入を行い、これにより過剰注入による過脱硝や、リー
クＮＨ3 の増大を防止し、またはＮＨ3 注入量不足によ
る出口ＮＯｘ濃度の規制値からの逸脱を防止することが
できる脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法および装
置ならびにそれらに使用するアンモニア注入量補正装置
を提供することにある。
解決し、触媒に吸着されるＮＨ3 量や装置からのリーク
ＮＨ3 量を正確に把握してＮＨ3 注入量操作にフィード
バックさせるとともに、出口ＮＯｘ濃度の設定値と測定
値の偏差に基づくＮＨ3 注入量操作へのフィードバック
を迅速かつ調節容易とし、負荷に対応した適切なＮＨ 3
注入を行い、これにより過剰注入による過脱硝や、リー
クＮＨ3 の増大を防止し、またはＮＨ3 注入量不足によ
る出口ＮＯｘ濃度の規制値からの逸脱を防止することが
できる脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法および装
置ならびにそれらに使用するアンモニア注入量補正装置
を提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本願で特許請求する発明は以下のとおりである。 （１）装置入口から窒素酸化物（ＮＯｘ）を含有する排
ガスを導入するとともに該排ガス中にアンモニア（ＮＨ
3 ）を注入して装置内に設けた脱硝触媒層により前記Ｎ
Ｏｘを接触還元したのち、装置出口から排出する脱硝装
置へ前期アンモニアを注入する、アンモニア注入量制御
方法において、前記装置入口から導入した被処理排ガス
流量と入口ＮＯｘ濃度から入口ＮＯｘ量を求める工程
と、入口ＮＯｘ濃度と出口ＮＯｘ濃度の設定値および測
定値に基づきＮＯｘ量に対する必要アンモニアモル比を
求める工程と、前記入口ＮＯｘ量と必要アンモニアモル
比から必要アンモニア流量を求める工程と、注入アンモ
ニア流量と被処理排ガス量と入口および出口のＮＯｘ濃
度および装置からのリークアンモニア流量とに基づき触
媒残存アンモニア吸着量補正バイアス信号を求める工程
と、該補正バイアス信号により前記必要アンモニア流量
信号を補正する工程と、補正された必要アンモニア流量
信号と実測アンモニア流量信号の偏差に基づいてアンモ
ニア流量制御装置を操作する工程とを備えたことを特徴
とする脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法。
め、本願で特許請求する発明は以下のとおりである。 （１）装置入口から窒素酸化物（ＮＯｘ）を含有する排
ガスを導入するとともに該排ガス中にアンモニア（ＮＨ
3 ）を注入して装置内に設けた脱硝触媒層により前記Ｎ
Ｏｘを接触還元したのち、装置出口から排出する脱硝装
置へ前期アンモニアを注入する、アンモニア注入量制御
方法において、前記装置入口から導入した被処理排ガス
流量と入口ＮＯｘ濃度から入口ＮＯｘ量を求める工程
と、入口ＮＯｘ濃度と出口ＮＯｘ濃度の設定値および測
定値に基づきＮＯｘ量に対する必要アンモニアモル比を
求める工程と、前記入口ＮＯｘ量と必要アンモニアモル
比から必要アンモニア流量を求める工程と、注入アンモ
ニア流量と被処理排ガス量と入口および出口のＮＯｘ濃
度および装置からのリークアンモニア流量とに基づき触
媒残存アンモニア吸着量補正バイアス信号を求める工程
と、該補正バイアス信号により前記必要アンモニア流量
信号を補正する工程と、補正された必要アンモニア流量
信号と実測アンモニア流量信号の偏差に基づいてアンモ
ニア流量制御装置を操作する工程とを備えたことを特徴
とする脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法。
【００１２】（２）装置入口からＮＯｘを含有する排ガ
スを導入するとともに該排ガス中にＮＨ3 を注入して装
置内に設けた脱硝触媒層によって前記ＮＯｘを接触還元
したのち装置出口から排出する脱硝装置へ前記アンモニ
アを注入するアンモニア注入量制御方法において、前記
装置入口から導入した被処理排ガス中のＮＯｘ量を求め
る工程と、入口ＮＯｘ濃度と出口ＮＯｘ濃度の設定値お
よび測定値に基づきＮＯｘ量に対する必要アンモニアモ
ル比を求める工程と、前記入口ＮＯｘ量と必要アンモニ
アモル比から必要アンモニア流量を求める工程と、装置
出口のＮＯｘ濃度の設定値と測定値の制御偏差量に対応
して、かつその偏差がマイナスのときはマイナス、プラ
スのときはプラスの値として出口ＮＯｘ濃度偏差補正バ
イアス信号を求める工程と、該補正バイアス信号により
前記必要アンモニア流量信号を補正する工程と、補正さ
れた必要アンモニア流量信号と実測アンモニア流量信号
との偏差に基づいてアンモニア流量制御装置を操作する
工程とを有することを特徴とする脱硝装置へのアンモニ
ア注入量制御方法。
スを導入するとともに該排ガス中にＮＨ3 を注入して装
置内に設けた脱硝触媒層によって前記ＮＯｘを接触還元
したのち装置出口から排出する脱硝装置へ前記アンモニ
アを注入するアンモニア注入量制御方法において、前記
装置入口から導入した被処理排ガス中のＮＯｘ量を求め
る工程と、入口ＮＯｘ濃度と出口ＮＯｘ濃度の設定値お
よび測定値に基づきＮＯｘ量に対する必要アンモニアモ
ル比を求める工程と、前記入口ＮＯｘ量と必要アンモニ
アモル比から必要アンモニア流量を求める工程と、装置
出口のＮＯｘ濃度の設定値と測定値の制御偏差量に対応
して、かつその偏差がマイナスのときはマイナス、プラ
スのときはプラスの値として出口ＮＯｘ濃度偏差補正バ
イアス信号を求める工程と、該補正バイアス信号により
前記必要アンモニア流量信号を補正する工程と、補正さ
れた必要アンモニア流量信号と実測アンモニア流量信号
との偏差に基づいてアンモニア流量制御装置を操作する
工程とを有することを特徴とする脱硝装置へのアンモニ
ア注入量制御方法。
【００１３】（３）（１）または（２）において、前記
装置出口のＮＯｘ濃度の設定値と測定値の偏差に応じて
それに見合った出口ＮＯｘ濃度偏差補正ゲイン値を算出
する工程と、この濃度偏差補正ゲイン値を前記触媒残存
アンモニア吸着量補正バイアス信号または出口ＮＯｘ濃
度偏差補正バイアス信号に乗算して、それぞれの補正バ
イアス信号をゲイン値倍とする工程とを備えたことを特
徴とする脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法。
装置出口のＮＯｘ濃度の設定値と測定値の偏差に応じて
それに見合った出口ＮＯｘ濃度偏差補正ゲイン値を算出
する工程と、この濃度偏差補正ゲイン値を前記触媒残存
アンモニア吸着量補正バイアス信号または出口ＮＯｘ濃
度偏差補正バイアス信号に乗算して、それぞれの補正バ
イアス信号をゲイン値倍とする工程とを備えたことを特
徴とする脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法。
【００１４】（４）装置入口からＮＯｘを含有する排ガ
スを導入するとともに該排ガス中にＮＨ3 を注入して装
置内に設けた脱硝触媒層により前記ＮＯｘを接触還元し
たのち装置出口から排出する脱硝装置へ前記ＮＨ3 を注
入するＮＨ3 注入量制御装置において、前記装置入口か
ら導入した被処理排ガスのＮＯｘ量を求める手段と、入
口ＮＯｘ濃度と出口ＮＯｘ濃度の設定値および測定値に
基づきＮＯｘ量に対する必要ＮＨ3 モル比を算出する手
段と、前記入口ＮＯｘ量と必要ＮＨ3 モル比から必要ア
ンモニア流量を求める手段と、被処理ガス量と入口およ
び出口ＮＯｘ濃度から脱硝反応に消費したＮＨ3 量を求
める手段と、求めた消費ＮＨ3 量と装置からのリークＮ
Ｈ3 量とを注入ＮＨ3 量から減算して触媒残存ＮＨ3 吸
着量補正バイアス信号を求める手段と、装置出口ＮＯｘ
濃度の設定値と測定値の制御偏差量に応じ、かつその偏
差がマイナス時はマイナス、プラス時はプラスの値とし
て脱硝出口ＮＯｘ偏差補正バイアス信号を求める手段
と、前記２つの補正バイアス信号を加算する手段と、装
置出口ＮＯｘ濃度の設定値と測定値の偏差に基づき出口
ＮＯｘ偏差補正ゲイン値を算出する手段と、前記加算し
た補正バイアス信号に上記出口ＮＯｘ偏差補正ゲイン値
を乗算してＮＨ3 注入量補正信号を求める手段と、該Ｎ
Ｈ3 注入量補正信号を前記必要ＮＨ3 流量に加算して補
正後必要ＮＨ3流量を算出する手段と、この補正後必要
ＮＨ3 流量と実測ＮＨ3 流量との偏差に基づきＮＨ3 流
量調節手段を操作する手段とを設けたことを特徴とする
脱硝装置へのアンモニア注入量制御装置。
スを導入するとともに該排ガス中にＮＨ3 を注入して装
置内に設けた脱硝触媒層により前記ＮＯｘを接触還元し
たのち装置出口から排出する脱硝装置へ前記ＮＨ3 を注
入するＮＨ3 注入量制御装置において、前記装置入口か
ら導入した被処理排ガスのＮＯｘ量を求める手段と、入
口ＮＯｘ濃度と出口ＮＯｘ濃度の設定値および測定値に
基づきＮＯｘ量に対する必要ＮＨ3 モル比を算出する手
段と、前記入口ＮＯｘ量と必要ＮＨ3 モル比から必要ア
ンモニア流量を求める手段と、被処理ガス量と入口およ
び出口ＮＯｘ濃度から脱硝反応に消費したＮＨ3 量を求
める手段と、求めた消費ＮＨ3 量と装置からのリークＮ
Ｈ3 量とを注入ＮＨ3 量から減算して触媒残存ＮＨ3 吸
着量補正バイアス信号を求める手段と、装置出口ＮＯｘ
濃度の設定値と測定値の制御偏差量に応じ、かつその偏
差がマイナス時はマイナス、プラス時はプラスの値とし
て脱硝出口ＮＯｘ偏差補正バイアス信号を求める手段
と、前記２つの補正バイアス信号を加算する手段と、装
置出口ＮＯｘ濃度の設定値と測定値の偏差に基づき出口
ＮＯｘ偏差補正ゲイン値を算出する手段と、前記加算し
た補正バイアス信号に上記出口ＮＯｘ偏差補正ゲイン値
を乗算してＮＨ3 注入量補正信号を求める手段と、該Ｎ
Ｈ3 注入量補正信号を前記必要ＮＨ3 流量に加算して補
正後必要ＮＨ3流量を算出する手段と、この補正後必要
ＮＨ3 流量と実測ＮＨ3 流量との偏差に基づきＮＨ3 流
量調節手段を操作する手段とを設けたことを特徴とする
脱硝装置へのアンモニア注入量制御装置。
【００１５】（５）装置入口からＮＯｘを含有する排ガ
スを導入するとともに該排ガス中にＮＨ3 を注入して装
置内に設けた触媒層によって前記ＮＯｘを還元したのち
装置出口から排出する脱硝装置へのＮＨ3 注入量を制御
するに際し、前記触媒層に吸着されるＮＨ3 量と出口Ｎ
Ｏｘ濃度の設定値と測定値の偏差に基づき上記ＮＨ3注
入量を補正する装置であって、前記脱硝装置に導入され
る被処理ガス量と入口および出口ＮＯｘ濃度から脱硝反
応に消費したＮＨ3 量を求める手段と、求めた消費ＮＨ
3 量と装置からのリークＮＨ3 量を注入ＮＨ3 量から減
算して触媒残存ＮＨ3 吸着量補正バイアス信号を求める
手段と、装置出口のＮＯｘ濃度の設定値と測定値の偏差
量に基づき、かつその偏差がマイナス時はマイナス、プ
ラス時はプラスの値として脱硝出口ＮＯｘ偏差補正バイ
アス信号を算出する手段と、前記２つの補正バイアス信
号を加算する手段と、装置出口ＮＯｘ濃度の設定値と測
定値の偏差量に基づき出口ＮＯｘ偏差補正ゲイン値を算
出する手段と、前記加算した補正バイアス信号にこの出
口ＮＯｘ偏差補正ゲイン値を乗算してＮＨ3 注入量補正
信号を求める手段と、該ＮＨ3 注入量補正信号を脱硝装
置へのＮＨ3 注入量制御部に入力する手段とを備えてな
る脱硝装置へのアンモニア注入量補正装置。
スを導入するとともに該排ガス中にＮＨ3 を注入して装
置内に設けた触媒層によって前記ＮＯｘを還元したのち
装置出口から排出する脱硝装置へのＮＨ3 注入量を制御
するに際し、前記触媒層に吸着されるＮＨ3 量と出口Ｎ
Ｏｘ濃度の設定値と測定値の偏差に基づき上記ＮＨ3注
入量を補正する装置であって、前記脱硝装置に導入され
る被処理ガス量と入口および出口ＮＯｘ濃度から脱硝反
応に消費したＮＨ3 量を求める手段と、求めた消費ＮＨ
3 量と装置からのリークＮＨ3 量を注入ＮＨ3 量から減
算して触媒残存ＮＨ3 吸着量補正バイアス信号を求める
手段と、装置出口のＮＯｘ濃度の設定値と測定値の偏差
量に基づき、かつその偏差がマイナス時はマイナス、プ
ラス時はプラスの値として脱硝出口ＮＯｘ偏差補正バイ
アス信号を算出する手段と、前記２つの補正バイアス信
号を加算する手段と、装置出口ＮＯｘ濃度の設定値と測
定値の偏差量に基づき出口ＮＯｘ偏差補正ゲイン値を算
出する手段と、前記加算した補正バイアス信号にこの出
口ＮＯｘ偏差補正ゲイン値を乗算してＮＨ3 注入量補正
信号を求める手段と、該ＮＨ3 注入量補正信号を脱硝装
置へのＮＨ3 注入量制御部に入力する手段とを備えてな
る脱硝装置へのアンモニア注入量補正装置。
【００１６】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面を用い
て以下、説明する。図２は、脱硝反応器の概略図であ
る。脱硝反応器１は、例えば被処理ガスＧの発生源であ
るボイラからの排ガス（被処理ガスＧ）を入口ダクト２
から導入し、ＮＨ3 の注入によって脱硝処理してから出
口ダクト３に排出し、さらに図示していない煙突により
屋外に排出する。この際、被処理ガスＧ中のＮＯｘは入
口ダクト２に設けられたＮＨ3 注入器４によって被処理
ガスＧ中のＮＯｘ量に見合ったＮＨ3 がアンモニア流量
計３８およびアンモニア流量調節弁１０を介して注入さ
れ、脱硝反応器１の内部に充填された図示していない脱
硝触媒のはたらきによって無害な水蒸気と窒素ガスに分
解、除去される。通常、脱硝反応器１の運用は被処理ガ
スＧの発生源、例えばボイラ等の負荷変化時においても
脱硝反応器１の出口ＮＯｘ濃度が規定値以下になるよう
に制御される。ここで被処理ガスＧ中の入口ＮＯｘ濃度
は入口ＮＯｘ分析計１２で、出口ＮＯｘ濃度は出口ＮＯ
ｘ分析計２２で計測される。
て以下、説明する。図２は、脱硝反応器の概略図であ
る。脱硝反応器１は、例えば被処理ガスＧの発生源であ
るボイラからの排ガス（被処理ガスＧ）を入口ダクト２
から導入し、ＮＨ3 の注入によって脱硝処理してから出
口ダクト３に排出し、さらに図示していない煙突により
屋外に排出する。この際、被処理ガスＧ中のＮＯｘは入
口ダクト２に設けられたＮＨ3 注入器４によって被処理
ガスＧ中のＮＯｘ量に見合ったＮＨ3 がアンモニア流量
計３８およびアンモニア流量調節弁１０を介して注入さ
れ、脱硝反応器１の内部に充填された図示していない脱
硝触媒のはたらきによって無害な水蒸気と窒素ガスに分
解、除去される。通常、脱硝反応器１の運用は被処理ガ
スＧの発生源、例えばボイラ等の負荷変化時においても
脱硝反応器１の出口ＮＯｘ濃度が規定値以下になるよう
に制御される。ここで被処理ガスＧ中の入口ＮＯｘ濃度
は入口ＮＯｘ分析計１２で、出口ＮＯｘ濃度は出口ＮＯ
ｘ分析計２２で計測される。
【００１７】以下、本発明の実施形態である制御回路の
全体構造を図１を用いて説明する。図１は、上記脱硝反
応器１に備えられた脱硝制御装置７の実施の形態を示す
制御回路である。この脱硝制御装置７は、アンモニアの
注入量を算出する注入量算出器９（従来回路）で使用し
ている一部の信号を流用し、従来回路の代替回路として
補正ＮＨ3 流量算出器５０（本発明回路）を設置したも
のである。
全体構造を図１を用いて説明する。図１は、上記脱硝反
応器１に備えられた脱硝制御装置７の実施の形態を示す
制御回路である。この脱硝制御装置７は、アンモニアの
注入量を算出する注入量算出器９（従来回路）で使用し
ている一部の信号を流用し、従来回路の代替回路として
補正ＮＨ3 流量算出器５０（本発明回路）を設置したも
のである。
【００１８】補正アンモニア流量算出器５０では、入口
ＮＯｘ濃度信号１３と出口ＮＯｘ濃度信号２３の差分を
減算器５７により求め、このＮＯｘ濃度差分信号を乗算
器５８にて被処理ガス量２８と乗算する。これは脱硝装
置１で還元処理されたＮＯｘ量に相当する。この処理Ｎ
Ｏｘ量に必要モル比を乗算すればＮＯｘ還元反応に直接
使用されたＮＨ3 量が得られる。これを信号５８ａで示
す。
ＮＯｘ濃度信号１３と出口ＮＯｘ濃度信号２３の差分を
減算器５７により求め、このＮＯｘ濃度差分信号を乗算
器５８にて被処理ガス量２８と乗算する。これは脱硝装
置１で還元処理されたＮＯｘ量に相当する。この処理Ｎ
Ｏｘ量に必要モル比を乗算すればＮＯｘ還元反応に直接
使用されたＮＨ3 量が得られる。これを信号５８ａで示
す。
【００１９】アンモニア流量計３８による実測ＮＨ3 流
量信号３９と上記信号５８ａの差分を減算器５６で求め
５６ａを得る。５６ａは脱硝装置に注入されたアンモニ
ア量のうち、排ガスとの還元反応にはかかわらなかった
アンモニア量に相当する。このアンモニア量５６ａか
ら、リークＮＨ3 流量検出器５９による脱硝装置からの
流出アンモニア流量５９ａを減算器６０にて減算すると
触媒に吸着されるＮＨ3 量、すなわちＮＨ3 吸着量補正
バイアス信号６５を得る。この信号６５はＮＨ3 補正出
力信号６６として図１の加算器５１に入力する。
量信号３９と上記信号５８ａの差分を減算器５６で求め
５６ａを得る。５６ａは脱硝装置に注入されたアンモニ
ア量のうち、排ガスとの還元反応にはかかわらなかった
アンモニア量に相当する。このアンモニア量５６ａか
ら、リークＮＨ3 流量検出器５９による脱硝装置からの
流出アンモニア流量５９ａを減算器６０にて減算すると
触媒に吸着されるＮＨ3 量、すなわちＮＨ3 吸着量補正
バイアス信号６５を得る。この信号６５はＮＨ3 補正出
力信号６６として図１の加算器５１に入力する。
【００２０】一方、出口ＮＯｘ濃度設定値１５の出力信
号１６と出口ＮＯｘ濃度分析計２２の出力信号２３との
偏差信号６７を関数発生器５４に入力し、変化率制御器
５５を経て出口ＮＯｘ偏差補正バイアス信号６４を得
る。この信号６４は加算器６１、乗算器６２を経てＮＨ
3 注入補正信号６６として加算器５１に加算される。
号１６と出口ＮＯｘ濃度分析計２２の出力信号２３との
偏差信号６７を関数発生器５４に入力し、変化率制御器
５５を経て出口ＮＯｘ偏差補正バイアス信号６４を得
る。この信号６４は加算器６１、乗算器６２を経てＮＨ
3 注入補正信号６６として加算器５１に加算される。
【００２１】なお、出口ＮＯｘ偏差補正バイアス信号６
４は、前記偏差信号６７の値がプラスの場合、すなわち
信号２３が信号１６より大きい場合はプラスの出力、信
号６７がマイナスの場合はマイナスとなる。すなわち出
口ＮＯｘ濃度信号２３が設定値１６より大きい場合は信
号６４はプラス、信号２３が信号１６より小さい場合は
信号６４はマイナスとする。また、この信号６４と前記
したＮＨ3 吸着量補正バイアス信号６５を加算器６１に
て加算し、この加算された補正信号６１ａをＮＨ3 注入
補正信号６６として加算器５１に入力する。
４は、前記偏差信号６７の値がプラスの場合、すなわち
信号２３が信号１６より大きい場合はプラスの出力、信
号６７がマイナスの場合はマイナスとなる。すなわち出
口ＮＯｘ濃度信号２３が設定値１６より大きい場合は信
号６４はプラス、信号２３が信号１６より小さい場合は
信号６４はマイナスとする。また、この信号６４と前記
したＮＨ3 吸着量補正バイアス信号６５を加算器６１に
て加算し、この加算された補正信号６１ａをＮＨ3 注入
補正信号６６として加算器５１に入力する。
【００２２】なお、関数発生器５４は脱硝装置の構造、
内蔵された脱硝触媒の構造、成分、性能、排ガス発生源
の特性等により規定されるものであり、ボイラ等の試運
転時に関数関係が調整される。変化率制御器５５は、前
記した信号６４の変化率を制御するものであり、その目
的は脱硝装置へのアンモニア注入量に極度の変化を与え
ることを抑制するものである。
内蔵された脱硝触媒の構造、成分、性能、排ガス発生源
の特性等により規定されるものであり、ボイラ等の試運
転時に関数関係が調整される。変化率制御器５５は、前
記した信号６４の変化率を制御するものであり、その目
的は脱硝装置へのアンモニア注入量に極度の変化を与え
ることを抑制するものである。
【００２３】また、出口ＮＯｘ濃度偏差信号６７は関数
発生器５２に入力され信号５２ａを出力する。この信号
５２ａは１次遅れ要素５３を介して信号６４に対して１
次遅れ形式の出口ＮＯｘ偏差補正ゲイン信号６３として
出力され、乗算器６２に入力される。この結果、乗算器
６２に入力される前記信号６５、または６５もしくは信
号６４と６５を加算した信号に信号６３が乗算され、ゲ
イン倍された出力信号６６を得る。このゲイン値は０〜
Ｘの範囲で調整される。
発生器５２に入力され信号５２ａを出力する。この信号
５２ａは１次遅れ要素５３を介して信号６４に対して１
次遅れ形式の出口ＮＯｘ偏差補正ゲイン信号６３として
出力され、乗算器６２に入力される。この結果、乗算器
６２に入力される前記信号６５、または６５もしくは信
号６４と６５を加算した信号に信号６３が乗算され、ゲ
イン倍された出力信号６６を得る。このゲイン値は０〜
Ｘの範囲で調整される。
【００２４】脱硝出口ＮＯｘ制御偏差からの必要ＮＨ3
補正ゲイン信号６３は、出口ＮＯｘ制御偏差に見合った
値を関数発生器５２により可変出力する。例えば制御偏
差（減算器２４出力）がプラス方向の場合は、ＮＨ3 補
正流量をプラスゲイン倍とし加算器６１出力を増加さ
せ、脱硝出口ＮＯｘ濃度のピークを抑える方向へと動作
する。逆に、出口制御偏差（減算器２４出力）がマイナ
ス側の場合は、関数発生器５２よりマイナスゲイン倍と
し、脱硝出口ＮＯｘの沈み込みを防止する方向へ動作す
る。当然出口ＮＯｘ制御性向上のため関数発生器５２に
はデットバンドを設けてあり、制御偏差０付近はＮＨ3
流量補正バイアスを変化させない工夫もしてある。
補正ゲイン信号６３は、出口ＮＯｘ制御偏差に見合った
値を関数発生器５２により可変出力する。例えば制御偏
差（減算器２４出力）がプラス方向の場合は、ＮＨ3 補
正流量をプラスゲイン倍とし加算器６１出力を増加さ
せ、脱硝出口ＮＯｘ濃度のピークを抑える方向へと動作
する。逆に、出口制御偏差（減算器２４出力）がマイナ
ス側の場合は、関数発生器５２よりマイナスゲイン倍と
し、脱硝出口ＮＯｘの沈み込みを防止する方向へ動作す
る。当然出口ＮＯｘ制御性向上のため関数発生器５２に
はデットバンドを設けてあり、制御偏差０付近はＮＨ3
流量補正バイアスを変化させない工夫もしてある。
【００２５】上記した実施の形態の動作により、脱硝装
置出口ＮＯｘのピーク／ボトムを抑えることができるの
で、その結果、脱硝装置出口ＮＯｘ値を制御管理値範囲
内に維持することが可能である。
置出口ＮＯｘのピーク／ボトムを抑えることができるの
で、その結果、脱硝装置出口ＮＯｘ値を制御管理値範囲
内に維持することが可能である。
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、触媒に吸着されるアン
モニア量を考慮し、かつ装置出口のＮＯｘ濃度偏差を早
急・適切に解消するためのアンモニア注入量補正手段を
設けたので、（１）脱硝装置出口ＮＯｘ濃度制御偏差の
縮小、（２）リークＮＨ3 量の低減、（３）ＮＨ3 消費
量の低減といった効果がある。
モニア量を考慮し、かつ装置出口のＮＯｘ濃度偏差を早
急・適切に解消するためのアンモニア注入量補正手段を
設けたので、（１）脱硝装置出口ＮＯｘ濃度制御偏差の
縮小、（２）リークＮＨ3 量の低減、（３）ＮＨ3 消費
量の低減といった効果がある。
【図１】本発明の一実施例である脱硝装置へのアンモニ
ア注入量制御方法の装置系統を示す図。
ア注入量制御方法の装置系統を示す図。
【図２】脱硝装置の概略図。
【図３】従来技術に係る脱硝装置へのアンモニア注入量
制御方法の装置系統を示す図。
制御方法の装置系統を示す図。
５…ＮＨ3 配管、８…従来脱硝制御装置、９…注入量算
出器、１０…ＮＨ3 流量調整弁、１２…入口ＮＯｘ濃度
分析計、１３…入口ＮＯｘ濃度信号、１５…出口ＮＯｘ
濃度設定器、１６…設定ＮＯｘ濃度信号、１８…必要モ
ル比演算部、１９…減算器、２０…必要モル比信号、２
２…出口ＮＯｘ濃度分析計、２３…出口ＮＯｘ濃度信
号、２４…減算器、２５…比例積分演算器、２６…加算
器、２７…必要モル比信号（補正後）、２８…被処理ガ
ス量、２９…被処理ガス流量信号、３０…総ＮＯｘ量信
号、３１…乗算器、３２…乗算器、３３…必要ＮＨ3 流
量信号、３８…必要ＮＨ3 流量計、３９…実測ＮＨ3 流
量信号、４０…減算器、４１…ＮＨ3 流量偏差信号、４
２…比例積分器、４３…弁開度信号、４４…電空変換
器、４５…制御信号、５０…補正ＮＨ3 流量算出器、５
１…加算器、５２…関数発生器、５３…１次遅れ、５４
…関数発生器、５５…変化率制御器、５６…減算器、５
７…減算器、５８…乗算器、５９…リークＮＨ3 流量検
出器、６０…減算器、６１…加算器、６２…乗算器、６
３…出口ＮＯｘ偏差補正ゲイン信号、６４…出口ＮＯｘ
偏差補正バイアス信号、６５…ＮＨ3 吸着量補正バイア
ス信号、６６…ＮＨ3 注入補正信号、６７…脱硝出口Ｎ
Ｏｘ制御偏差、６８…補正後必要ＮＨ3 流量信号。
出器、１０…ＮＨ3 流量調整弁、１２…入口ＮＯｘ濃度
分析計、１３…入口ＮＯｘ濃度信号、１５…出口ＮＯｘ
濃度設定器、１６…設定ＮＯｘ濃度信号、１８…必要モ
ル比演算部、１９…減算器、２０…必要モル比信号、２
２…出口ＮＯｘ濃度分析計、２３…出口ＮＯｘ濃度信
号、２４…減算器、２５…比例積分演算器、２６…加算
器、２７…必要モル比信号（補正後）、２８…被処理ガ
ス量、２９…被処理ガス流量信号、３０…総ＮＯｘ量信
号、３１…乗算器、３２…乗算器、３３…必要ＮＨ3 流
量信号、３８…必要ＮＨ3 流量計、３９…実測ＮＨ3 流
量信号、４０…減算器、４１…ＮＨ3 流量偏差信号、４
２…比例積分器、４３…弁開度信号、４４…電空変換
器、４５…制御信号、５０…補正ＮＨ3 流量算出器、５
１…加算器、５２…関数発生器、５３…１次遅れ、５４
…関数発生器、５５…変化率制御器、５６…減算器、５
７…減算器、５８…乗算器、５９…リークＮＨ3 流量検
出器、６０…減算器、６１…加算器、６２…乗算器、６
３…出口ＮＯｘ偏差補正ゲイン信号、６４…出口ＮＯｘ
偏差補正バイアス信号、６５…ＮＨ3 吸着量補正バイア
ス信号、６６…ＮＨ3 注入補正信号、６７…脱硝出口Ｎ
Ｏｘ制御偏差、６８…補正後必要ＮＨ3 流量信号。
フロントページの続き
Ｆターム(参考） 4D002 AA12 AB01 BA06 DA07
4D048 AA06 AB02 AC04 CC61 DA01
DA02 DA05 DA08 DA10
Claims (5)
- 【請求項１】 装置入口から窒素酸化物（ＮＯｘ）を含
有する排ガスを導入するとともに該排ガス中にアンモニ
ア（ＮＨ3 ）を注入して装置内に設けた脱硝触媒層によ
り前記ＮＯｘを接触還元したのち、装置出口から排出す
る脱硝装置へ前期アンモニアを注入する、アンモニア注
入量制御方法において、前記装置入口から導入した被処
理排ガス流量と入口ＮＯｘ濃度から入口ＮＯｘ量を求め
る工程と、入口ＮＯｘ濃度と出口ＮＯｘ濃度の設定値お
よび測定値に基づきＮＯｘ量に対する必要アンモニアモ
ル比を求める工程と、前記入口ＮＯｘ量と必要アンモニ
アモル比から必要アンモニア流量を求める工程と、注入
アンモニア流量と被処理排ガス量と入口および出口のＮ
Ｏｘ濃度および装置からのリークアンモニア流量とに基
づき触媒残存アンモニア吸着量補正バイアス信号を求め
る工程と、該補正バイアス信号により前記必要アンモニ
ア流量信号を補正する工程と、補正された必要アンモニ
ア流量信号と実測アンモニア流量信号の偏差に基づいて
アンモニア流量制御装置を操作する工程とを備えたこと
を特徴とする脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法。 - 【請求項２】 装置入口からＮＯｘを含有する排ガスを
導入するとともに該排ガス中にＮＨ3 を注入して装置内
に設けた脱硝触媒層によって前記ＮＯｘを接触還元した
のち装置出口から排出する脱硝装置へ前記アンモニアを
注入するアンモニア注入量制御方法において、前記装置
入口から導入した被処理排ガス中のＮＯｘ量を求める工
程と、入口ＮＯｘ濃度と出口ＮＯｘ濃度の設定値および
測定値に基づきＮＯｘ量に対する必要アンモニアモル比
を求める工程と、前記入口ＮＯｘ量と必要アンモニアモ
ル比から必要アンモニア流量を求める工程と、装置出口
のＮＯｘ濃度の設定値と測定値の制御偏差量に対応し
て、かつその偏差がマイナスのときはマイナス、プラス
のときはプラスの値として出口ＮＯｘ濃度偏差補正バイ
アス信号を求める工程と、該補正バイアス信号により前
記必要アンモニア流量信号を補正する工程と、補正され
た必要アンモニア流量信号と実測アンモニア流量信号と
の偏差に基づいてアンモニア流量制御装置を操作する工
程とを有することを特徴とする脱硝装置へのアンモニア
注入量制御方法。 - 【請求項３】 請求項１または２において、前記装置出
口のＮＯｘ濃度の設定値と測定値の偏差に応じてそれに
見合った出口ＮＯｘ濃度偏差補正ゲイン値を算出する工
程と、この濃度偏差補正ゲイン値を前記触媒残存アンモ
ニア吸着量補正バイアス信号または出口ＮＯｘ濃度偏差
補正バイアス信号に乗算して、それぞれの補正バイアス
信号をゲイン値倍とする工程とを備えたことを特徴とす
る脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法。 - 【請求項４】 装置入口からＮＯｘを含有する排ガスを
導入するとともに該排ガス中にＮＨ3 を注入して装置内
に設けた脱硝触媒層により前記ＮＯｘを接触還元したの
ち装置出口から排出する脱硝装置へ前記ＮＨ3 を注入す
るＮＨ3 注入量制御装置において、前記装置入口から導
入した被処理排ガスのＮＯｘ量を求める手段と、入口Ｎ
Ｏｘ濃度と出口ＮＯｘ濃度の設定値および測定値に基づ
きＮＯｘ量に対する必要ＮＨ3 モル比を算出する手段
と、前記入口ＮＯｘ量と必要ＮＨ 3 モル比から必要アン
モニア流量を求める手段と、被処理ガス量と入口および
出口ＮＯｘ濃度から脱硝反応に消費したＮＨ3 量を求め
る手段と、求めた消費ＮＨ 3 量と装置からのリークＮＨ
3 量とを注入ＮＨ3 量から減算して触媒残存ＮＨ3吸着
量補正バイアス信号を求める手段と、装置出口ＮＯｘ濃
度の設定値と測定値の制御偏差量に応じ、かつその偏差
がマイナス時はマイナス、プラス時はプラスの値として
脱硝出口ＮＯｘ偏差補正バイアス信号を求める手段と、
前記２つの補正バイアス信号を加算する手段と、装置出
口ＮＯｘ濃度の設定値と測定値の偏差に基づき出口ＮＯ
ｘ偏差補正ゲイン値を算出する手段と、前記加算した補
正バイアス信号に上記出口ＮＯｘ偏差補正ゲイン値を乗
算してＮＨ3 注入量補正信号を求める手段と、該ＮＨ3
注入量補正信号を前記必要ＮＨ3 流量に加算して補正後
必要ＮＨ3 流量を算出する手段と、この補正後必要ＮＨ
3 流量と実測ＮＨ3 流量との偏差に基づきＮＨ3 流量調
節手段を操作する手段とを設けたことを特徴とする脱硝
装置へのアンモニア注入量制御装置。 - 【請求項５】 装置入口からＮＯｘを含有する排ガスを
導入するとともに該排ガス中にＮＨ3 を注入して装置内
に設けた触媒層によって前記ＮＯｘを還元したのち装置
出口から排出する脱硝装置へのＮＨ3 注入量を制御する
に際し、前記触媒層に吸着されるＮＨ3 量と出口ＮＯｘ
濃度の設定値と測定値の偏差に基づき上記ＮＨ3 注入量
を補正する装置であって、前記脱硝装置に導入される被
処理ガス量と入口および出口ＮＯｘ濃度から脱硝反応に
消費したＮＨ3 量を求める手段と、求めた消費ＮＨ3 量
と装置からのリークＮＨ3 量を注入ＮＨ3 量から減算し
て触媒残存ＮＨ3 吸着量補正バイアス信号を求める手段
と、装置出口のＮＯｘ濃度の設定値と測定値の偏差量に
基づき、かつその偏差がマイナス時はマイナス、プラス
時はプラスの値として脱硝出口ＮＯｘ偏差補正バイアス
信号を算出する手段と、前記２つの補正バイアス信号を
加算する手段と、装置出口ＮＯｘ濃度の設定値と測定値
の偏差量に基づき出口ＮＯｘ偏差補正ゲイン値を算出す
る手段と、前記加算した補正バイアス信号にこの出口Ｎ
Ｏｘ偏差補正ゲイン値を乗算してＮＨ3 注入量補正信号
を求める手段と、該ＮＨ3 注入量補正信号を脱硝装置へ
のＮＨ3 注入量制御部に入力する手段とを備えてなる脱
硝装置へのアンモニア注入量補正装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001201849A JP4627611B2 (ja) | 2001-07-03 | 2001-07-03 | 脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法および装置ならびにそれらに使用するアンモニア注入量補正装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001201849A JP4627611B2 (ja) | 2001-07-03 | 2001-07-03 | 脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法および装置ならびにそれらに使用するアンモニア注入量補正装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003010645A true JP2003010645A (ja) | 2003-01-14 |
| JP4627611B2 JP4627611B2 (ja) | 2011-02-09 |
Family
ID=19038748
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001201849A Expired - Fee Related JP4627611B2 (ja) | 2001-07-03 | 2001-07-03 | 脱硝装置へのアンモニア注入量制御方法および装置ならびにそれらに使用するアンモニア注入量補正装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4627611B2 (ja) |
Cited By (4)
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| JP2006017115A (ja) * | 2004-06-30 | 2006-01-19 | Robert Bosch Gmbh | 内燃機関の排気ガスを浄化するために使用される触媒の作動方法およびその方法を実施する装置 |
| JP2017207068A (ja) * | 2017-07-10 | 2017-11-24 | ボッシュ株式会社 | 制御装置、内燃機関の排気浄化装置、及び排気浄化装置の制御方法 |
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-
2001
- 2001-07-03 JP JP2001201849A patent/JP4627611B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
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