JP2003007882A - 光半導体気密封止容器及びそれを用いた光半導体モジュール - Google Patents

光半導体気密封止容器及びそれを用いた光半導体モジュール

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JP2003007882A
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伸好 田遠
Koji Nishi
康二 西
Masaya Nishina
真哉 仁科
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 セラミックス端子部材に設けられた
メタライズ配線層の発熱を小さくし、消費電力も小さく
抑えつつ従来以上の大電流が流せ、その出力も安定した
光半導体気密封止容器およびそれを用いた光半導体モジ
ュールを提供する。 【解決手段】 セラミックス端子部材に設けられた
第1の電極層と、第1の電極層の上方に向かって第1の
電極層と垂直に接続される第2の電極層と、第2の電極
層と垂直に接続される1層以上の第3の電極層とを備え
たことを特徴とする光半導体用気密封止容器。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、光半導体素子を収
納するための容器に関するものである。より詳しくは、
電極端子部に流す電流値が従来の2倍以上必要な光素子
や半導体ICを搭載する光ファイバー増幅器や励起用光
源を収納する容器とモジュールに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、図6に示すように、光半導体素子
を収納するための光半導体気密封止容器は、中央上面に
光半導体素子が載置されるエリアを有する銅−タングス
テン合金から成る金属基板1と、前記光半導体素子載置
エリアを囲繞する鉄−ニッケル−コバルト系合金から成
る側枠部材2が金属基板上に鑞付けされ、前枠部に光フ
ァイバーを固定する手段と、鉄―ニッケル−コバルト合
金の外部リード線が接続されるメタライズ配線層を有す
るセラミックス端子部材3が側枠部材に嵌装され、上部
には光半導体素子を気密に封止する金属枠体となるシー
ルリング5を鑞付けして構成されている。
【0003】そして、金属基板の光半導体素子載置エリ
アに光半導体素子やペルチェ素子を接着固定すると共
に、光半導体素子の各電極をボンディングワイヤを介し
て外部リード線が接続されているメタライズ配線層に結
線し、次に前枠部の光ファイバー固定リングにレーザー
光線の照射によるYAG熔接によって光ファイバーを接
合させ、最後にシールリングの上面にカバーを被せて密
封し、ユニットとしての光半導体モジュールとして完成
するのが一般的である。
【0004】前記セラミックス端子部材は、2層以上の
セラミックスプリフォームを焼成して形成される。各プ
リフォームの表面にあらかじめメタライズ配線層を印刷
しておくことで、光半導体気密封止容器の内側と外側と
の電気的導通を取ることができる。メタライズは、タン
グステン、モリブデン、マンガン等の高融点金属が使用
される。
【0005】光半導体気密封止容器として要求される主
要な機能は、光信号と電気信号とを相互に変換する際の
発熱量を効率的に放熱することと、該容器の熱歪みによ
り光ファイバーと光半導体素子の光軸がずれないような
容器構造とすることである。発熱量を効率的に放熱する
ためには、光半導体素子の直下に電子冷却素子であるペ
ルチェ素子を配置したり、容器の構成部材に熱伝導率の
高い材料を採用することは周知の技術である。
【0006】このような光半導体気密封止容器として
は、例えば、特開平11−145317号公報に、該容
器を、金属基板と光ファイバーを接続する手段が設けら
れた前枠部を含む側枠部材にて形成して、側枠部材の一
部をメタライズ配線が施された2層以上のセラミックス
端子部材にて構成し、前記セラミックス端子部材の下面
を側枠部材に、上面を金属製のシールリングに、長手方
向の一部を前枠部に、それぞれ当接させ、他端は自由端
とすることで、該容器の熱歪みの発生を抑えた光半導体
気密封止容器と光半導体モジュールが提案されている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】前述のように、光半導
体気密封止容器の放熱特性は、構成材料などの工夫によ
っていた。従来のパッケージの構造では、セラミックス
端子部材のメタライズ配線層の電気抵抗が比較的高いた
め、電流を流すと発熱していたが、その発熱量は少なく
大きな問題ではなかった。ところが、近年の光ファイバ
ー増幅器や励起用光源に用いられるレーザーダイオード
(LD)の高出力化に伴い、LD素子を冷却するペルチ
ェ素子の駆動電流が、従来の2倍以上の大電流を必要と
するようになってきた。従来は、流す電流が、2A以下
程度であったので、前記発熱は、無視できる程度であっ
たが、流す電流が2倍以上になると、その発熱量は無視
できなくなってきた。すなわち、消費電力もさることな
がら、メタライズ配線層の温度上昇も無視できなくなっ
てきた。該温度上昇により、メタライズ配線層の電気抵
抗がさらに増加することになり、ペルチェ素子の駆動制
御が困難になったり、配線層部の信頼性が低下したり、
LD素子へ、熱が回り込んで、光出力が低下する等の問
題が発生するようになってきた。
【0008】セラミックス内部に形成した配線層の電気
抵抗を低下させるには、タングステン等の高融点金属よ
りも電気伝導率の良い金属の使用が考えられるが、この
方法では、セラミックスとの熱膨張係数の差が大きくな
るため、セラミックスに亀裂が発生する。また、配線層
の厚みを厚くして電気抵抗を下げることも考えられる
が、この方法では、プリフォームの焼成時にセラミック
スの間に隙間が出来てしまい気密封止ができない。さら
には、セラミックス表面とセラミックス内部に形成され
た配線層の横幅を同時に太くすれば、電気抵抗を低下さ
せることができるが、横隣の配線層と干渉したり、端子
数が減少する等の問題から十分に広げることはできなか
った。
【0009】
【課題を解決するための手段】そこで本発明の目的は、
上記課題を克服するため、セラミックス端子部材に設け
られたメタライズ配線層の電気抵抗値を下げて、配線部
の発熱を小さくし、消費電力も小さく抑えつつ、従来以
上の大電流が流せ、その出力も安定した光半導体気密封
止容器及びそれを用いた光半導体モジュールを提供する
ことである。
【0010】すなわち本発明は、光半導体気密封止容器
であって、前記セラミックス端子部を貫通する第1の電
極層と、第1の電極層の上方に向かって第1の電極と垂
直に接続される第2の電極層と、第2の電極層と垂直に
接続される1層以上の第3の電極層とを備える。
【0011】本発明では、外部接続用のリードの厚み
が、前記第1の電極層と第3の電極層との間の距離より
も厚いことを特徴とする。あるいは、外部接続用のリー
ドが、屈曲部を有するL字形であって、該屈曲部の長さ
が、前記第1の電極層と第3の電極層との間の距離より
も長いことを特徴とする。
【0012】また、光半導体気密封止容器の内部に屈曲
部を有する金属体を備え、該屈曲部の長さが、前記第1
の電極層と第3の電極層との間の距離よりも長いことを
特徴とする。
【0013】さらに、前記外部リードあるいは屈曲部を
有する金属体が、無酸素銅、アルミナを分散させた銅、
銅を鉄―ニッケル―コバルト合金で挟んだ材料のいずれ
かであり、これらの光半導体気密封止容器を用いた光半
導体モジュールも含まれる。
【0014】
【発明の実施の形態】図1は、従来の気密封止容器のセ
ラミックス端子部材の配線層のパターン及び構造を示
す。図1において、セラミック第1層3bの上に複数の
配線パターン3dが施されており、この配線パターン3
dを介して光半導体気密封止容器の内部と外部が電気的
に導通する。図2に、本発明の実施形態の一例を示す。
セラミック第1層の上に施された配線パターン3d(第
1の電極層)は従来の気密封止容器と同じである。該配
線パターンは、セラミック第2層の側面に施された配線
パターン3e(第2の電極層)に接続され、さらにセラ
ミック第2層の上に施された配線パターン3f(第3の
電極層)に接続される。
【0015】図2においては、第3の電極層は1層のみ
記載しているが、多層積層してもよい。このような構成
とすることにより、従来気密封止容器の内部と外部とを
電気的に導通させているのは、セラミック第1層の上に
施された配線パターンのみであったものが、第1の電極
層と、1層または複数の第3の電極層との複数並列の配
線パターンとなるので、配線抵抗を、全体としては従来
のものより低下させることができるので、大電流を流し
た場合でも、発熱量を抑えることができる。
【0016】前記第2の電極層の電気抵抗も大電流を流
す場合は、問題となる。そこで、第2の電極層の電気抵
抗を低下させるために、図3に示すように第3の電極層
まで外部リード4の厚さを厚くすることが好ましい。あ
るいは、外部リード4を図4に示すようにL字形にして
屈曲部を第3の電極層まで届くようにしてもよい。ま
た、気密封止容器の内側は、図5に示すように第1の電
極層から第3の電極層まで届くようなL字形の金属体を
備えることが好ましい。
【0017】本発明の気密封止容器では、各部材に熱伝
導性に優れしかもお互いの熱膨張係数の差を小さくする
材料を用いる。その一例として、以下その実施形態の一
つを説明する。
【0018】光半導体を搭載する基板には、例えば、銅
―タングステン合金や銅―モリブデン合金を使用し、光
半導体素子載置エリアを囲繞する側枠部材には例えば鉄
−ニッケル−コバルト系合金を使用する。
【0019】また、セラミックス端子部材のセラミック
スは、窒化アルミニウムや酸化アルミニウムを使用す
る。さらに、各電極層の配線パターンは、例えばタング
ステン、モリブデン、マンガン等の粉末に有機溶剤を添
加混合して得た高融点金属を含むペーストを周知のスク
リーン印刷法にて被着させる。また、第2の電極層は、
セラミックスシートに所定の貫通穴を設け、該貫通穴に
前記高融点金属を含むペーストを充填した後、前記貫通
穴の中央を分割するようにシートを切断することによっ
て作製することができる。このようにして、必要なセラ
ミックス層を用意した後、各セラミックス層を積層して
加圧し一体化し、高融点金属からなる配線パターンとと
もに焼成・焼結してセラミックス端子部材を作成する。
【0020】セラミックス端子部材3の上面と前枠部を
含む側枠部材2の上面の揃う所に、鉄―ニッケル―コバ
ルト合金のシールリング5を用意する。また、セラミッ
クス端子の内側には、L字形の金属体8を用意し、外側
には、厚さの厚いリードかもしくはL字形をしたリード
4を用意する。これらを銀鑞付けにより組み立てて光半
導体気密封止容器を得る。なお、前記L字形の金属体な
らびに外部リードの材質は、無酸素銅、アルミナを分散
した銅あるいは銅を鉄−ニッケル−コバルト合金で挟ん
だいわゆるクラッド材の何れかを用いるのが好ましい。
【0021】このように構成した気密封止容器の内部
に、少なくとも光半導体素子と光ファイバーを搭載接合
した後、封止カバーにて密封すれば光半導体モジュール
として完成する。
【0022】以上のような方法で、種々の構成の気密封
止容器を作製し、セラミックス端子の配線パターンの容
器内外間の電気抵抗を測定した。図1に示した従来の構
成では、電気抵抗値は、10.7mΩであった。なお、
図1において、一つの配線パターンの幅は、1.5mm
であり、タングステンペーストを用いて、焼成後の厚さ
10μmに形成した。
【0023】これに対して、図2のように、第2の電極
層3eと第3の電極層3fを1層形成した本件発明の実
施例では、電気抵抗値は、6.8mΩであった。なお、
配線パターンはタングステンペーストを用いて厚さ10
μmに形成した。また、第2の電極層を形成した第2の
セラミックスの厚みは、0.5mmとした。
【0024】また、図3に示すように第3の電極層が1
層であり、幅1.5mm、厚さ1mmの無酸素銅からな
る外部リード4を銀ロー付けにより取りつけた場合、電
気抵抗値は、5.3mΩまで低減できた。
【0025】さらに、図4に示すように、第3の電極層
を3層とし、厚さ300μmのL字型の無酸素銅の外部
リード4を取りつけた場合は、電気抵抗値は3.2mΩ
と従来の構造の約3分の1まで低減できた。さらに、図
5に示すように、容器の内部側にL字型の無酸素銅製厚
さ300μmの金属体6を取りつけると、電気抵抗値
は、2.1mΩと従来の構造の約5分の1まで抵抗値を
下げることができた。
【0026】本実施例では、第3の電極層が、1層の場
合と3層の場合を示したが、第3の電極層の層数は、目
的とする電気抵抗値と組立工数の観点から適宜決めれば
よい。
【0027】L字型の外部リードや金属体は、折り曲げ
部をハーフエッチングで折り目を付けた後、折り曲げる
ことにより、作製した。外部リードは、無酸素銅を用い
たが、外部リードを配線パターンに銀ロー付けした時、
銅が粒成長して強度が低下することがあるので、このよ
うな恐れのある場合には、アルミナ分散銅や銅を鉄−ニ
ッケル−コバルト合金で挟み込んだクラッド材を用い
た。この場合、無酸素銅を用いた場合よりは、電気抵抗
値の低減効果が少なくなり、例えば、アルミナ分散銅を
用いて、図3の構成にしたときには、電気抵抗値は5.
4mΩと、無酸素銅の場合の5.3mΩよりは高くなっ
たが、図1の従来の構成の10.7mΩよりは、低減で
きた。
【0028】このようにして得た光半導体気密封止容器
の内部に、少なくとも光半導体素子と光ファイバーを搭
載した後、封止カバーにて密閉すれば光半導体モジュー
ルとして完成する。
【0029】
【発明の効果】セラミックス端子部材に設けられた配線
パターンの電気抵抗値を下げることにより配線パターン
部での発熱が小さく、消費電力も抑えられた光半導体気
密封止容器と光出力の安定した光半導体モジュールを提
供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のセラミックス端子部材の展開図である。
【図2】本発明の一つの実施形態であるセラミックス端
子部材の展開図である。
【図3】本発明の一つの実施形態であるセラミックス端
子部材と外部リードを示す斜視図である。
【図4】本発明の一つの実施形態であるセラミックス端
子部材と外部リードを示す斜視図である。
【図5】本発明の一つの実施形態であるセラミックス端
子部材とその内側を示す斜視図である。
【図6】従来の光半導体気密封止容器の立体図である。
【符号の説明】
1:基板 2:側枠部材 3:セラミックス端子部材 4:外部端子 5:シールリング 6:金属体
フロントページの続き (72)発明者 仁科 真哉 兵庫県伊丹市昆陽北一丁目1番1号 住友 電気工業株式会社伊丹製作所内 Fターム(参考) 5F073 FA06 FA28 FA30

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 光半導体素子を搭載する基板と、セラミ
    ックス端子部材を支持し光ファイバーを接続する手段を
    有する側枠部材と、封止カバーとから成る光半導体素子
    を収納する気密封止容器であって、前記セラミックス端
    子部を貫通する第1の電極層と、第1の電極層の上方に
    向かって第1の電極層と垂直に接続される第2の電極層
    と、第2の電極層と垂直に接続される1層以上の第3の
    電極層とを備えたことを特徴とする光半導体気密封止容
    器。
  2. 【請求項2】 外部接続用のリードの厚みが、前記第1
    の電極層と第3の電極層との間の距離よりも厚いことを
    特徴とする請求項1に記載の光半導体気密封止容器。
  3. 【請求項3】 外部接続用のリードが、屈曲部を有する
    L字形であって、該屈曲部の長さが、前記第1の電極層
    と第3の電極層との間の距離よりも長いことを特徴とす
    る請求項1に記載の光半導体気密封止容器。
  4. 【請求項4】 光半導体気密封止容器の内部に屈曲部を
    有する金属体を備え、該屈曲部の長さが、前記第1の電
    極層と第3の電極層との間の距離よりも長いことを特徴
    とする請求項1乃至3のいずれかに記載の光半導体気密
    封止容器。
  5. 【請求項5】 前記外部リードあるいは屈曲部を有する
    金属体が、無酸素銅、アルミナを分散させた銅、銅を鉄
    ―ニッケル―コバルト合金で挟んだ材料のいずれかであ
    ることを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載の
    光半導体気密封止容器。
  6. 【請求項6】 請求項1乃至5に記載される光半導体気
    密封止容器を用いた光半導体モジュール。
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