JP2002536529A - 液晶性物質混合物 - Google Patents
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Abstract
Description
および式Ib Z3 −Y5 −A3 −Y7 −M2 −P Ib 〔式中、変数はたがいに独立して以下のものを表わす、 Pは、水素、C1 〜C15−アルキルまたは基Y8 −A4 −Y6 −Z4 で
あり、 Z1 〜Z4 は、重合可能な基であり、 Y1 〜Y8 は、結合基であり、 A1 〜A4 は、スペーサーであり、 M1 およびM2 は、メソゲン基である〕 の化合物から成る群から選ばれる、少なくとも1種の化合物を含む液晶性混合物
、 B)場合により b1)光開始剤 b2)反応性希釈剤および b3)希釈剤 から成る群から選ばれる別の添加剤、 C)場合により c1)消泡剤および脱泡剤 c2)滑剤およびレベリング剤 c3)熱硬化性または放射線硬化性助剤 c4)基体湿潤助剤 c5)湿潤助剤および分散助剤 c6)疎水化剤 c7)粘着剤および c8)耐引っかき性改善のための助剤 から成る群から選ばれる別の添加剤、 D)場合により d1)染料および d2)顔料 から成る群から選ばれる別の添加剤、 および E)場合により光安定剤、熱安定剤および/または抗酸化剤から成る群から選ば
れる別の添加剤 を含む液晶性物質混合物に関する。
細な定義は、以下の記載から読み取れる。
部品中、対象物の偽造の恐れがない標識材料のためおよび周波数範囲250〜1
300nm内で選択的に光を反射するフィルムまたは被覆の製造のためのこのよ
うな液晶性物質混合物の使用に関する。
または重合したフィルム、および光学フィルター、偏光材料、装飾材料、偽造の
恐れがない標識材料および周波数範囲250〜1300nm内の放射の選択的な
反射のための反射媒体としてのこのような重合フィルムの使用にも関する。
被覆のための方法にも関する。
たは重合したフィルムが上に適用され、または本発明による方法により印刷また
は被覆された基体にも関する。
または印刷の方法であって、その際、後者は液晶性で重合可能なモノマーを含む
ものが記載されている。その際、被覆剤または印刷剤は、重合によりポリマー結
合剤に誘導できるキラル液晶性モノマーまたはアキラル液晶性モノマーおよび非
液晶性化合物ならびにポリマー結合剤および/またはモノマー化合物を含む。
技術、例えば吹付またはオフセット印刷を利用して種々の基体上に適用できかつ
ここで硬化、例えばUV光を用いる照射により固定され、かつ外部からの影響に
対して抵抗する層を形成する。
示さない。さらに、記載された被覆剤または印刷剤は、なかでも例外なく高いそ
の粘度のために、殊にスクリーン印刷、平板印刷および凸版印刷における印刷に
最適には適していない。
き、かつ高い色堅牢度、光沢および明度を有する印刷の達成ならびに均質で平滑
な液晶性層およびフィルムの製造を可能とする液晶性物質混合物の提供である。
ことを発見し、これは、場合により存在する成分B)〜E)の他に、成分として
、 A)式Ia Z1 −Y1 −A1 −Y3 −M1 −Y4 −A2 −Y2 −Z2 I
a および式Ib Z3 −Y5 −A3 −Y7 −M2 −P Ib 〔式中、変数はたがいに独立して下記のものを表す。
O−CO−O−、−CO−NR−、−NR−CO−、−O−CO−NR−、−N
R−CO−O−または−NR−CO−NR−であり、 Rは、水素またはC1 〜C4 −アルキルであり、 A1 〜A4 は、炭素原子1〜30個を有するスペーサー(その中で、炭素鎖は
エーテル官能基中の酸素、チオエーテル官能基中の硫黄によりまたは非隣接のイ
ミノ基またはC1 〜C4 −アルキルイミノ基により中断されていることができ
る)であり、 Pは、水素、C1 〜C15−アルキル(これは1個またはそれ以上のメチル、
フッ素、塩素または臭素により置換されていることができ、かつこの中で非隣接
CH2 −基は酸素、硫黄、−CO−、−O−CO−、−CO−O−または−O
−CO−O−により置換されていることができる)または基Y8 −A4 −Y6 −Z4 (式中、変数は以上に記載のものを表す)であり、 M1 は、式Ic −T1 −Y9 −T1′− Ic のメソゲン基、および M2 は、式Id (−T2 −Y10)r −T2 − Id のメソゲン基であり、 (ここで、式IcおよびId中の変数はたがいに独立して以下のものを表す。
であり、 Y9 およびY10は、Y1 〜Y8 の定義による架橋成分または−CH2 −O
−、−O−CH2 −、−CH=N−、−N=CH−または−N=N−であり、 rは0、1、2または3の値であり、 その際、rが0とは異なる場合の基T2 およびY10は、同じかまたは異なっ
ていてもよい)〕 の化合物から成る群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含む液晶性混合物を
含む。
Ibの純粋の液晶性化合物を含む液晶性混合物も追加してさらに非液晶性混合物
成分も含むが、しかし全体としては液晶性を有する混合物も含む。このような非
液晶性混合物成分は、通常、液晶性化合物の合成または液晶性化合物の混合物の
合成の際に生成する副産物である。
、成分A)は、有利にはさらに、自体は必ずしも液晶性を有していなくてもよい
少なくとも1種のキラル化合物を含む。このようなキラル化合物の存在は、少な
くとも一定の温度範囲内で、キラル−ネマティック(コレステリック)相の形成
に導き、これらは多くは興味ある光学性を有する。
)は、必ずしもこのようなキラル化合物を含まなければならないわけではないこ
とも指摘する。
ば
硫黄、−O−CO−、−CO−O−、−O−CO−O−、−CO−NR−、−N
R−CO−、−O−CO−NR−、−NR−CO−O−または−NR−CO−N
R−を表し、かつRは、水素またはC1 〜C4 −アルキル、すなわちメチル、
エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、sec−ブチ
ルおよびt−ブチルであり、またY’は化学的単結合を表す(以下では、重合可
能な基Z1 〜Z4 は架橋成分Y1 〜Y8 と関連して、重合可能な単位として
ならびにZ−Yおよび/またはZ−Y’として表す)]が該当する。
化できる。マレインイミド基は、殊に、スチリル基を重合可能な基として有する
式Iaおよび/またはIbの液晶性化合物とラジカル共重合のために適する。
シアナート基を有する式Iaおよび/またはIbの化合物は、重合のために、相
補的反応性単位を有する別の化合物を必要とする。すなわち例えば、適当なイソ
シアナートは、アルコールと一緒にウレタンに、またアミンと一緒では尿素誘導
体に重合できる。同様なことは、相当するチイランおよびアジリジンにも該当す
る。
bの類似の液晶性化合物から構成される液晶性化合物中に含まれることができる
。しかし、基Z1 −Y1 −、Z2 −Y2 −、Z3 −Y5 −および/または
Z4 −Y6 −の代わりに、これらの化合物は、例えばヒドロキシル基、メルカ
プト基またはNHR基を含み、ここで最後者のRは水素または例えばC1 〜C
4 −アルキルの意味を有する。さらに、相補的反応性単位は、液晶性物質混合
物内に持ち込まれる補助化合物内に含まれることもできる。
含むかどうかに従い、また場合によりこれらの化合物の割合に関連し、かつなか
でも重合可能な単位を有する液晶性化合物と、相補的単位を有する液晶性化合物
との量比率、ならびに重合可能な単位を有する液晶性化合物と、相補的単位を有
する補助化合物との量比率に関連して、種々の程度に架橋し従ってそれぞれの要
求に相応して適合したポリマー製品が得られる。
個を有し、主として線状脂肪族基から成る。さらに炭素鎖は、1個またはそれ以
上のメチル、フッ素、塩素または臭素で置換されるかおよび/またはエーテル官
能基内の酸素、チオエーテル官能基内の硫黄によりまたは非隣接のイミノ基また
はC1 〜C4 −アルキルイミノ基で中断されることができる。C1 〜C4 −
アルキル基として、後者に対してメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル
、n−ブチル、i−ブチル、sec−ブチルおよびt−ブチルが該当する。
1または12、かつmは1〜14の整数、有利には1、2または3をとる〕であ
る。
例えばメチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシ
ル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル、n−ウンデシル、
n−ドデシル、n−トリデシル、n−テトラデシルまたはn−ペンタデシルが該
当する。
でのメチル、フッ素、塩素または臭素で置換されていることができる。従って例
えば、Pは、i−プロピル(「1−メチルエチル」)、sec−ブチル(「1−
メチルプロピル」)、i−ブチル(「2−メチルプロピル」)、t−ブチル(「
1,1−ジメチルエチル」)、1−メチルブチル、2−メチルブチル、3−メチ
ルブチル、2,2−ジメチルプロピル、1,1−ジメチルプロピル、1,2−ジ
メチルプロピル、1−メチルペンチル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチ
ル、4−メチルペンチル、1,1−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、
1,3−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、2,3−ジメチルブチル、
3,3−ジメチルブチル、1,1,2−トリメチルプロピル、1,2,2−トリ
メチルプロピルまたは一回、二回または三回メチル基で置換された基n−ヘキシ
ル、n−ヘプチル、n−オクチル、n−ノニル、n−デシル、n−ウンデシル、
n−ドデシル、n−トリデシル、n−テトラデシルまたはn−ペンタデシルおよ
びこれらの異性体である。例示として記載した基内のメチル基のフッ素、塩素ま
たは臭素の形式的な置換により、相当するハロゲン置換C1 〜C15−アルキ
ル基が得られる。
O−CO−、−CO−O−または−O−CO−O−により置換することができる
。
黄により置換する。
する。
C15−アルキルとして、Pに対して、例えば2−メトキシエチル、2−エトキ
シエチル、2−プロポキシエチル、2−ブトキシエチル、3−メトキシプロピル
、3−エトキシプロピル、3−ブトキシプロピル、4−メトキシブチル、4−エ
トキシブチル、4−ブトキシブチル、3,6−ジオキサヘプチル、3,6−ジオ
キサオクチル、4,8−ジオキサノニル、3,7−ジオキサオクチル、3,7−
ジオキサノニル、4,7−ジオキサオクチル、4,7−ジオキサノニル、4,8
−ジオキサデシル、3,6,8−トリオキサデシル、3,6,9−トリオキサウ
ンデシル、3,6,9,12−テトラオキサトリデシル、3,6,9,12−テ
トラオキサテトラデシルおよび相当する硫黄類似体が該当する。
る)も表すことができる。
、 Y9 およびY10は、Y1 〜Y8 の定義による架橋成分または−CH2 −O
−、−O−CH2 −、−CH=N−、−N=CH−または−N=N−、および
rは0、1、2または3の値、 その際、rが1、2または3となる場合には、基T2 およびY10は、同じか
または異なっていてもよい。
「二核式」、「三核式」または「四核式」であり、しかし有利には「二核式」ま
たは「三核式」単位である。
、C1 〜C20−アルコキシ、C1 〜C20−アルコキシカルボニル、C1
〜C20−モノアルキルアミノカルボニル、C1 〜C20−アルキルカルボニ
ル、C1 〜C20−アルキルアミノカルボニルオキシ、C1 〜C20−アルキ
ルカルボニルアミノ、ホルミル、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシまたはニトロか
ら成る群から選ばれる3個までの同じかまたは異なる置換を有することができる
。しかし、置換基T1 および/またはT1'および/またはT2 の場合には、
一回置換が有利である。
ルキル、C1 〜C20−アルコキシ、C1 〜C20−アルコキシカルボニル、
C1 〜C20−モノアルキルアミノカルボニル、C1 〜C20−アルキルカル
ボニル、C1 〜C20−アルキルカルボニルオキシ、C1 〜C20−アルキル
カルボニルアミノ、ホルミル、ハロゲン、シアノ、ヒドロキシまたはニトロから
成る群から選ばれる3個までの同じかまたは異なる置換を有することができる。
およびヒドロキシの他に、なかでも短鎖脂肪族基、例えばメチル、エチル、n−
プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチルならびにこれら
のアルキル基を含むアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルカルボニ
ル基、アルキルカルボニルオキシ基、アルキルカルボニルアミノ基およびモノア
ルキルアミノカルボニル基である。
Zは、有利には下記の置換パターンを有するか、
OCOCH3 またはCNを用いて同様に置換されており、その際置換基も混合
して存在することができる。さらに構造
13、14または15をとる。
びY10ならびに場合によりY6 およびY8 は、たがいに独立して酸素、−O
−CO−、−CO−O−または−O−CO−O−を表す。
の化合物および上記の式Ibの少なくとも1種の化合物を含む液晶性混合物を含
む。
Z1 −Y1 −、Z2 −Y2 −、Z3 −Y5 −および場合によりZ4 −Y
6 −が、メタクリロイルオキシ、アクリロイルオキシおよびビニルオキシから
成る群から選ばれる式Iaおよび/またはIbの化合物を含む。
ような本発明による液晶性物質混合物およびこれらの有利な実施態様形である。
ダイナミック スペクトロメーター(Rheometrics Dynamic Spectrometer)」を
用いて行うことができる。
いることができるその他の液晶性化合物は、WO97/00600号明細書およ
びWO98/47979号明細書ならびに先願のドイツ特許出願第197358
29.3号中に記載されている。
式Iaおよび/またはIbの化合物を成分A)の全量に対して40〜99.5質
量%の割合で含む。
には一般式Ie、If、IgおよびIhに相当し、
サー、かつMはメソゲン基を表し、かつこれらは、式IaおよびIb(ならびに
Mについては式IcおよびId)中の変数Z1 〜Z4 、Y1 〜Y8 、A1
〜A4 およびM1 およびM2 と同じ一般的意味を有する。nは、1、2、3
、4、5または6の値を表し、またXはn−価キラル基である。その際、キラル
基Xに結合した基におけるnは、同じかまたは異なっていることができる。
ハロゲン、殊にはフッ素、塩素または臭素、またRはC1 〜C4 −アルキル、
例えばメチル、エチル、n−プロピル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル
、t−ブチルを表す〕である。
5/16007号明細書、ドイツ特許出願公開(DE−A)第19520660
号明細書、ドイツ特許出願公開(DE−A)第19520704号明細書および
先願のドイツ特許出願第19843704.2号明細書中に記載されている。
を含むことができる。
、さらに、少なくとも1種の光開始剤(b1))、光重合可能な基を有する少な
くとも1種の反応性希釈剤(b2))、および場合により希釈剤(b3))を含
む成分B)、ならびに場合によりさらに成分C)、D)およびE)から成る群か
ら選ばれる別の添加剤も含む。
な物の他に、さらに、成分C)ならびに場合によりさらに成分B)、D)および
E)から成る群から選ばれる別の添加剤も含む。
に、さらに、少なくとも1種の光開始剤(b1))、光重合可能な基を有する少
なくとも1種の反応性希釈剤(b2))、および場合により希釈剤(b3))を
含む成分B)、および成分C)ならびに場合によりさらにD)およびE)から成
る群から選ばれる別の添加剤も含む。
キュア(Irgacure)(R) およびダロキュア(Darocure)(R) として市場で入手
できる物質が該当する。有利には、開始剤のルシリン(R) TPO、イルガキ
ュア(R) 184、イルガキュア(R) 369、イルガキュア(R) 907
、およびダロキュア(R) 1173が使用される。
の割合で使用される。
物質(群b2.1)だけでなく、1個またはそれ以上の相補性反応性単位、例え
ばヒドロキシル基またはアミノ基を有し、これを介して液晶性化合物の重合性単
位との反応を行うことができる上記の補助化合物も使用される(群b2.2))
。
レフィン性二重結合を有する単官能性、二官能性または多官能性化合物が挙げら
れる。その例は、カルボン酸、例えばラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸
またはステアリン酸、またはジカルボン酸、例えばコハク酸およびアジピン酸の
ビニルエステル、一価アルコール、例えばラウリルアルコール、ミリスチルアル
コール、パルミチルアルコールまたはステアリルアルコールのアリルエーテルま
たはビニルエーテルまたはメタクリル酸エステルまたはアクリル酸エステル、ま
たは二価アルコール、例えばエチレングリコールおよびブタン−1,4−ジオー
ルのジアリルエーテルまたはジビニルエーテルである。
テル、殊にはヒドロキシル基の他には別の官能基または少なくともエーテル基を
含まないものが該当する。このようなアルコールの例は、例えば二価アルコール
、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、およびこれらの高級縮合
物、例えばジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリ
コール、トリプロピレングリコールなど、ブタンジオール、ペンタンジオール、
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、アルコキシル化フェノール系化合
物、例えばエトキシリル化ならびにプロポキシル化ビスフェノール、シクロヘキ
サンジメタノール、三官能性および多官能性アルコール、例えばグリセリン、ト
リメチロールプロパン、ブタントリオール、トリメチロールエタン、ペンタエリ
トリトール、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリトリトール、ソルビトー
ル、マンニトールおよび相当するアルコキシル化、殊にはエトキシル化およびプ
ロポキシル化アルコールである。
トが該当し、その際、これはポリエステロール(Polyesterol) の(メタ)アクリ
ル酸エステルである。
、ポリオール、有利にはジオールとのエステル化により製造できるものが該当す
る。このようなヒドロキシル基を有するポリエステルの出発物質は、当業者に知
られている。ジカルボン酸として、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシ
ン酸、o−フタル酸またはこれらの異性体および水素化生成物、ならびにエステ
ル化可能またはエステル交換可能な上記の酸の誘導体、例えば無水酸またはジア
ルキルエステルが使用できる。ポリオールとしては、上記のアルコール、有利に
はエチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレング
リコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチル
グリコール、シクロヘキサンジメタノール、ならびにエチレングリコールおよび
プロピレングリコールの形式のポリグリコールが該当する。
アリルシアヌラート、下記の式
シクロペンタジエニルアクリレートとしても公知のもの、ならびにアクリル酸、
メタクリル酸およびシアノアクリル酸のアリルエステルが該当する。
利な物質混合物を考慮して、光重合可能な基を有するものが使用される。
ール、プロピレングリコール、およびこれらの高級縮合物、例えばジエチレング
リコール、トリエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレン
グリコールなど、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、ネオ
ペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、トリメチロー
ルプロパン、ブタントリオール、トリメチロールエタン、ペンタエリトリトール
、ジトリメチロールプロパン、ジペンタエリトリトール、ソルビトール、マンニ
トールおよび相当するアルコキシル化、殊にはエトキシリル化およびプロポキシ
ル化アルコールが属する。
エトキシリル化またはプロポキシル化ビスフェノールも属する。
レタン(メタ)アクリレートであることができる。
シジルエーテルならびにジグリシジルエーテル、例えばビスフェノール−A−ジ
グリシジルエーテルと、(メタ)アクリル酸との、当業者に知られている反応に
より得られる。
リレートとポリイソシアナートならびにジイソシアナートとの同様に当業者に知
られている反応生成物である。
ートは、群b2.1)およびb2.2)として記載の化合物の「混合型」と解釈
される。
ような所望の作用、例えば本発明による物質混合物の所望の色に達し、他方では
液晶性物質混合物の相挙動に強すぎる影響を与えないように適合させなければな
らない。低架橋性(高架橋性)液晶性物質混合物の製造のために、例えば比較的
低い(高い)数の反応性単位を分子あたりに有する適当な反応性希釈剤を使用す
ることができる。
0重量%の割合で使用される。
は代替性)の液晶性混合物(成分A))も使用でき、これは比較的高い(低い)
式Ibの化合物の割合を重合が不可能な基Pと一緒に含むことも指摘する。
、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、sec−ブタノールならび
に殊にはC5 〜C12−アルコール、n−ペンタノール、n−ヘキサノール、
n−ヘプタノール、n−オクタノール、n−ノナノール、n−デカノール、n−
ウンデカノールおよびn−ドデカノールおよびこれらの異性体、 グリコール、例えば1,2−エチレングリコール、1,2−プロピレングリコー
ル、1,3−プロピレングリコール、1,2−ブチレングリコール、2,3−ブ
チレングリコールまたは1,4−ブチレングリコール、ジエチレングリコールま
たはトリエチレングリコールまたはジプロピレングリコールまたはトリプロピレ
ングリコール、 エーテル、例えばメチル−t−ブチルエーテル、1,2−エチレングリコールモ
ノメチルエーテルまたは1,2−エチレングリコールジエチルエーテル、1,2
−エチレングリコールモノエチルエーテルまたは1,2−エチレングリコールジ
エチルエーテル、3−メトキシプロパノール、3−イソプロポキシプロパノール
、テトラヒドロフランまたはジオキサン、 ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、また
はジアセトンアルコール(4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン) C1 〜C5 −アルキルエステル、例えば酢酸メチルエステル、酢酸エチルエス
テル、酢酸プロピルエステル、酢酸ブチルエステルまたは酢酸アミルエステル、
脂肪族または芳香族炭化水素、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン
、イソオクタン、石油エーテル、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、テトラ
リン、デカリン、ジメチルナフタレン、ソルベントナフサ、シュルソル(Shellso
l)(R) またはソルヴェッソ(Solvesso) (R)、 鉱油、例えばベンジン、灯油、ジーゼル油または燃料油、 さらに天然油、例えばオリーブ油、ダイズ油、ナタネ油、アマニ油またはヒマワ
リ油。
該当する。
できる。その際、例えばC1 〜C4 −アルコール、例えばメタノール、エタノ
ール、n−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノールまた
はsec−ブタノール、グリコール、例えば1,2−エチレングリコール、1,
2−プロピレングリコールまたは1,3−プロピレングリコール、1,2−ブチ
レングリコール、2,3−ブチレングリコールまたは1,4−ブチレングリコー
ル、ジエチレングリコールまたはトリエチレングリコールまたはジプロピレング
リコールまたはトリプロピレングリコール、エーテル、例えばテトラヒドロフラ
ンまたはジオキサン、ケトン、例えばアセトン、メチルエチルケトンまたはジア
セトンアルコール(4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン)、またはC1 〜C4 −アルキルエステル、例えば酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステ
ル、酢酸プロピルエステルまたは酢酸ブチルエステルが該当する。
は芳香族炭化水素、鉱油または天然油と限られた混合性を有し、従ってこのため
に水、水と少なくとも部分的には混合可能のものおよび水と非混合性のものから
成る三元(または疑三元)希釈剤が製造および使用できる。
%、有利には約1.0〜5.0質量%の割合で使用される。
剤(c2))、熱硬化性または放射線硬化性助剤(c3))、基体湿潤助剤(c
4))、湿潤助剤および分散助剤(c5))、疎水化剤(c6))、粘着剤(c
7))、および耐引っかき性改善のための助剤(c8))は、その作用に関して
多くはたがいに厳密には境界はない。すなわち、滑剤およびレベリング剤は、し
ばしば追加して消泡剤および/または脱泡剤としておよび/または耐引っかき性
改善のための助剤として作用する。放射線硬化性助剤は、他方では滑剤およびレ
ベリング剤としておよび/または脱泡剤としておよび/または基体湿潤助剤とし
ても作用できる。個々の場合に、これらの助剤の多くは、粘着剤(c8))の機
能も満足する。
)〜c8)に帰属できる。
ケイ素を含むポリマーは、例えば、非変性または変性したポリジアルキルシロキ
サンまたはポリジアルキルシロキサン単位およびポリエーテル単位から成る分枝
状コポリマー、クシ状コポリマーまたはブロックコポリマーであり、その際後者
はエチレンオキシドまたプロピレンオキシドから得られる。
アクリレート、ジアルキルポリシロキサン、殊にはジメチルポリシロキサン、有
機変性ポリシロキサン、例えばアリールアルキル変性ポリシロキサンまたはフル
オロシリコーンなども属する。
壊することにある。脱泡剤は、実質的に、微細に分散した気泡ならびに空気泡の
さらに大きい泡への凝集を、脱泡しようとする媒体、例えば本発明による物質混
合物内で促進し、かつこれにより気体(空気)の逃げ去りを促進するように作用
する。しばしば消泡剤も脱泡剤として使用でき、逆も可能なので、これらの添加
剤を一緒に群c1)として纏めた。
ーメックス840、テゴ(R) フォーメックス842、テゴ(R) フォーメッ
クス1435、テゴ(R) フォーメックス1488、テゴ(R) フォーメック
ス1495、テゴ(R) フォーメックス3062、テゴ(R) フォーメックス
7447、テゴ(R) フォーメックス8020、テゴ(R) フォーメックスN
、テゴ(R) フォーメックスK3、テゴ(R) アンチフォーム(Antifoam)2−
18、テゴ(R) アンチフォーム2−18、テゴ(R) アンチフォーム2−5
7、テゴ(R) アンチフォーム2−80、テゴ(R) アンチフォーム2−82
、テゴ(R) アンチフォーム2−89、テゴ(R) アンチフォーム2−92、
テゴ(R) アンチフォーム14、テゴ(R) アンチフォーム28、テゴ(R) アンチフォーム81、テゴ(R) アンチフォームD90、テゴ(R) アンチ
フォーム93、テゴ(R) アンチフォーム200、テゴ(R) アンチフォーム
201、テゴ(R) アンチフォーム202、テゴ(R) アンチフォーム793
、テゴ(R) アンチフォーム1488、テゴ(R) アンチフォーム3062、
テゴプレン(TEGOPREN)(R) 5803、テゴプレン(R) 5852、テゴプレ
ン(R) 5863、テゴプレン(R) 7008、テゴ(R) アンチフォーム
1−60、テゴ(R) アンチフォーム1−62、テゴ(R) アンチフォーム1
−85、テゴ(R) アンチフォーム2−67、テゴ(R) アンチフォームWM
20、テゴ(R) アンチフォーム50、テゴ(R) アンチフォーム105、テ
ゴ(R) アンチフォーム730、テゴ(R) アンチフォームMR1015、テ
ゴ(R) アンチフォームMR1016、テゴ(R) アンチフォーム1435、
テゴ(R) アンチフォームN、テゴ(R) アンチフォームKS6、テゴ(R) アンチフォームKS10、テゴ(R) アンチフォームKS53、テゴ(R)
アンチフォームKS95、テゴ(R) アンチフォームKS100、テゴ(R)
アンチフォームKE600、テゴ(R) アンチフォームKS911、テゴ(R
) アンチフォームMR1000、テゴ(R) アンチフォームKS1100、テ
ゴ(R) エーレックス(Airex) 900、テゴ(R) エーレックス910、テゴ(R) エーレックス931、テゴ(R) エーレックス935、テゴ(R) エ
ーレックス960、テゴ(R) エーレックス970、テゴ(R) エーレックス
980、テゴ(R) エーレックス985、およびBYK社からはBYK(R)
−110、BYK(R) −019、BYK(R) −020、BYK(R) −
021、BYK(R) −022、BYK(R) −023、BYK(R) −0
24、BYK(R) −025、BYK(R) −027、BYK(R) −03
1、BYK(R) −032、BYK(R) −033、BYK(R) −034
、BYK(R) −035、BYK(R) −036、BYK(R) −037、
BYK(R) −045、BYK(R) −051、BYK(R) −052、B
YK(R) −053、BYK(R) −055、BYK(R) −057、BY
K(R) −065、BYK(R) −066、BYK(R) −070、BYK
(R) −080、BYK(R) −088、BYK(R) −141およびBY
K(R) −A530が入手できる。
.0質量%、有利には約0.5〜2.0質量%の割合で使用される。
イ素含有ポリマー、例えばポリアクリレートまたは変性、低分子量ポリジアルキ
ルシロキサンが属する。変性は、アクリル基の一部分が種々の有機基により置換
されていることから成る。有機基は、例えばポリエーテル、ポリエステルまたは
長鎖アルキル基であり、その際、最初のものが最も頻繁に使用される。
ンオキシド単位および/またはプロピレンオキシド単位を介して構成される。変
性ポリシロキサン中のこれらのアルキレンオキシド単位の割合が高いほど、通常
、得られた生成物はさらに親水性となる。
、テゴ(R) グライドZG400、テゴ(R) グライド406、テゴ(R)
グライド410、テゴ(R) グライド411、テゴ(R) グライド415、テ
ゴ(R) グライド420、テゴ(R) グライド435、テゴ(R) グライド
440、テゴ(R) グライド450、テゴ(R) グライドA115、テゴ(R ) グライドB1484(消泡剤および脱泡剤としても使用できる)、テゴ(R
) フロー(Flow)ATF、テゴ(R) フロー300、テゴ(R) フロー460
、テゴ(R) フロー425およびテゴ(R) フローZFS460として市販さ
れている。さらに耐引っかき性改善にも役立つ放射線硬化性助剤、滑剤およびレ
ベリング剤として、同様にテゴ社から入手できる製品テゴ(R) ラッド(Rad)
2100、テゴ(R) ラッド2200、テゴ(R) ラッド2500、テゴ(R ) ラッド2600およびテゴ(R) ラッド2700が使用できる。
(R) −306、BYK(R) −307、BYK(R) −310、BYK(
R) −320、BYK(R) −333、BYK(R) −341、BYK(R
) −354およびBYK(R) −361として入手できる。
.0質量%、有利には約0.5〜2.0質量%の割合で使用される。
の成分である末端二重結合を有するポリシロキサンが属する。このような助剤は
、光化学作用または電子線放射により架橋させることができる。これらの助剤は
、通常複数の性質がその中に一緒になっている。これらは、非架橋状態で消泡剤
、脱泡剤、滑剤およびレベリング剤および/または基体湿潤剤として作用し、架
橋した状態では、これらはなかでも例えば本発明による物質混合物を用いて製造
できる被覆またはフィルムの耐引っかき性の上昇に役立つことができる。その際
、例えば同様の被覆またはフィルムの光沢性の改善は、実質的にこれらの助剤の
消泡剤、脱泡剤および/または滑剤およびレベリング剤(架橋状態において)と
しての作用の結果と考えられる。
2100、テゴ(R) ラッド2200、テゴ(R) ラッド2500、テゴ(R ) ラッド2600およびテゴ(R) ラッド2700およびBYK社から入手で
きる製品BYK(R) −371が使用できる。
きる例えば第一級OH基を含む。
る。
0質量%、有利には約0.1〜3.0質量%の割合で使用される。
本発明による混合物により印刷または被覆されるべき基体の湿潤性の上昇に役立
つ。これらにより通常もたらされるこのような印刷インクまたは被覆剤の滑りお
よびレベリング挙動の改善は、完成(例えば架橋した)印刷ならびに完成(例え
ば架橋した)層の外観に作用する。
L245、テゴ(R) ウエット250、テゴ(R) ウエット260およびテゴ(R) ウエットZFS453として、またBYK社からはBYK(R) −30
6、BYK(R) −307、BYK(R) −310、BYK(R) −333
、BYK(R) −344、BYK(R) −345、BYK(R) −346お
よびBYK(R) −348として市場で入手できる。
.0質量%、有利には約0.1〜1.5質量%の割合で使用される。
に顔料の析出の防止に役立ち、従って必要な限り、なかでも顔料使用の本発明に
よる物質混合物の場合が該当する。
び/または立体障害により安定化し、その際後者の場合には、助剤と周囲の媒体
(例えば結合剤)との相互作用が大きい役割を果たす。
での使用は慣用の方法であるので、場合によれば、このような好適な助剤の選択
は、専門家には通常困難ではない。
ィスパース705、テゴ(R) ディスパース710、テゴ(R) ディスパース
720W、テゴ(R) ディスパース725W、テゴ(R) ディスパース730
W、テゴ(R) ディスパース735Wおよびテゴ(R) ディスパース740W
として、ならびにBYK社からはディスパービク(Disperbyk) (R) 、ディス
パービク(R) −107、ディスパービク(R) −108、ディスパービク( R) −110、ディスパービク(R) −111、ディスパービク(R) −1
15、ディスパービク(R) −130、ディスパービク(R) −160、ディ
スパービク(R) −161、ディスパービク(R) −162、ディスパービク(R) −163、ディスパービク(R) −164、ディスパービク(R) −
165、ディスパービク(R) −166、ディスパービク(R) −167、デ
ィスパービク(R) −170、ディスパービク(R) −174、ディスパービ
ク(R) −180、ディスパービク(R) −181、ディスパービク(R)
−182、ディスパービク(R) −183、ディスパービク(R) −184、
ディスパービク(R) −185、ディスパービク(R) −190、アンチ−テ
ラ(Anti-Terra)(R) U、アンチ−テラ(R) −U 80、アンチ−テラ(R ) −P、アンチ−テラ(R) −203、アンチ−テラ(R) −204、アン
チ−テラ(R) 206、BYK(R) −151、BYK(R) −154、B
YK(R) −155、BYK(R) −P104S、BYK(R) −P105
、ラクチモン(Lactimon)(R) 、ラクチモン(R) −WSおよびビクメン(Byk
umen) (R) として提供される。
分子量に依存する。
全質量に対して、約0.5〜2.0質量%で考える。高分子量助剤の場合には、
割合は約1.0〜30質量%に増加する。
質量に対して、約1.0〜5.0質量%の割合で使用される。高分子量助剤の場
合には、割合は約10.0〜90質量%に増加する。
。
または被覆が撥水性を得るように考えて使用できる。これにより水取り込みによ
る膨潤およびこのような例えば印刷または被覆の光学的性質の変化を不可能とす
るかまたは少なくとも大幅に抑制する。さらに、例えばオフセット印刷の印刷イ
ンクとしての物質混合物の使用の場合に、その吸水性を妨げまたは少なくとも大
幅に低下させる。
F、テゴ(R) フォーブ1000、テゴ(R) フォーブ1000S、テゴ(R ) フォーブ1010、テゴ(R) フォーブ1030、テゴ(R) フォーブ1
010、テゴ(R) フォーブ1010、テゴ(R) フォーブ1030、テゴ( R) フォーブ1040、テゴ(R) フォーブ1050、テゴ(R) フォーブ
1200、テゴ(R) フォーブ1300、テゴ(R) フォーブ1310および
テゴ(R) フォーブ1400のような疎水化剤である。
.0質量%、有利には約0.1〜3.0質量%の割合で使用される。
立つ。これには、一方、他方または両方の境界面に存在する粘着剤の部分だけで
実質的に有効であることが直ちに分かる。固体基体上に、例えば液状またはペー
スト状の印刷インク、被覆剤または塗料を適用する場合に、これは、通常、後者
に粘着剤を直接加えるか、または基体を粘着剤を用いて前処理をしなければなら
ない(プライミングとも呼ばれる)ことを意味し、すなわち、この基体に変化し
た化学的および/または物理的表面性質を与える。
ずれかの下塗り塗料、他方は印刷インクならびに被覆剤または塗料のいずれかで
あることを意味する。従って、この場合に、基体と下塗り塗料との粘着性だけで
なく、下塗り塗料と印刷インクならびに被覆剤または塗料との間の粘着性が、基
体上の全結合物の接着に役立つ。
れるが、しかしこれら通常は同様の粘着性能力を有していない。
塗料の種々の物理的および化学的性質を考えると、粘着剤が多数あることは驚く
にあたらない。
−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピル−メチルジエトキシ
シラン、N−アミノエチル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−アミ
ノエチル−3−アミノプロピル−メチルジメトキシシラン、N−メチル−3−ア
ミノプロピル−トリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン
、3−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルオキ
シプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、
3−クロロプロピルトリメトキシシランまたはビニルトリメトキシシランである
。これらおよびその他のシランは、例えば商標ダイナシラン(DYNASILAN) (R) としてヒュルス社(Firma Huels) から入手できる。
ウムビスアセチルアセトナートに基づく粘着剤は、例えば次式
る。このような化合物の例は、例えばテトラ−i−ブチルチタナート、テトラ−
n−ブチルチタナート、チタン−ビス(アセチルアセトナート)−ジイソプロパ
ノラート、チタン−ビス(アセチルアセトナート)−ジブタノラート、またはチ
タン−ビス(アセチルアセトナート)−モノブタノラート−モノイソプロパノラ
ートまたはチタン−ビス(アセチルアセトナート)−モノエタノラート−モノイ
ソプロパノラートである。
ブチルポリチタナート、イソプロピルトリイソステアロイルチタナート、イソプ
ロピル−トリス(N−エチルアミノエチルアミノ)チタナートおよびジルコニウ
ム−ビス(ジエチルシトラート)−ジイソプロパノラートである。
TYZOR(R) (デュポン社(Firma DuPont))、ケン−レアクト(Ken-React)
(R) (ケンリッチ・ペトロケミカル社(Kenrich Petrochemical Inc.))およ
びティルコム(Tilcom)(R) (タイオキサイド・ケミカル社(Firma Tioxide Ch
emical))から入手できる。
マンケム(Manchem) (R) (ローンプーラン社(Firma Rhone-Poulenc) )とし
て入手できる。
レフィン(例えばイーストマン・ケミカル社(Firma Eastman Chemical)およびト
ーヨー・カセイ社(Firma Toyo Kasei)より入手できる)、ポリエステル(例えば
ヒュルス社、BASF株式会社、ボルヘルス兄弟株式会社(Gebr. Borchers AG)
、プリュス−スタウファー株式会社(Pluess-Staufer AG) 、ヘキスト株式会社(H
oechst AG)およびヴォレー(Worlee)から入手できる)、サッカロースに基づく化
合物、例えば安息香酸スクロースまたはスクロースアセトイソブチラート(後者
は、例えばイーストマン・ケミカル社から入手できる)、リン酸エステル(例え
ばザ・ルブリゾール社(Firma The Lubrizol Company)およびヘキスト株式会社か
ら入手できる)およびポリエチレンイミン(例えばBASF株式会社から入手で
きる)および例えばフレキソ印刷、シート印刷および包装印刷のための印刷イン
ク内の粘着性添加剤として、コロホニウムエステル(例えばロバート・クレーマ
ー有限会社(Firma Robert Kreamer GmbH) から入手できる)が該当する。
これらの添加剤をプライマーとして使用する。
知ることができるか、または当業者は適当な予備試験によりこれらの情報を簡単
に得ることができる。
える場合に、その割合は、液晶性物質混合物の全質量に対して通常、0.05〜
5.0質量%に相当する。これらの濃度の記載は、目安としてのみ役立つのみで
、個々の場合の添加剤の量および種類は、基体および印刷剤/被覆剤の性質に従
って決定される。通常、これらの添加剤の製造者からこれらの場合に相応する技
術情報が提供されるか、または当業者は適当な予備試験により簡単に入手できる
。
、すでに以上に記載したテゴ(R) ラッド2100、テゴ(R) ラッド220
0、テゴ(R) ラッド2500、テゴ(R) ラッド2600およびテゴ(R) ラッド2700が使用できる。
ち、これらの添加剤は、通常、液晶性物質混合物の全質量に対して約0.1〜5
.0質量%、有利には約0.1〜3.0質量%の割合で使用される。
ンカルボン酸またはペリレンテトラカルボン酸の誘導体、チオインジゴ誘導体、
アゾメチン誘導体、キナクリドン、ジオキサジン、ピラゾロキナゾロンおよび塩
基性染料、例えばトリアリールメタン染料およびこれらの塩の系統の染料が属す
る。
または蛍光性染料ならびにこれらの性質の組み合わせを有する染料も加えること
ができる。蛍光染料の中には、代表的な蛍光染料の他に蛍光増白剤も考える。
が属し、式
2 はC1 〜C4 −アルキル、殊にはメチルにより一回または二回置換される
ことができるベンゾオキサゾール−2−イル、Q3 はC1 〜C4 −アルコキ
シカルボニルまたは3−(C1 〜C4 −アルキル)−1,2,4−オキサジア
ゾール−3−イルを表わす〕を有する。
ピラゾール−1−イルを表す〕を有する。
する。
、例えばウルマンの化学工業百科事典(Ullmann's Encyclopedia of Industrial
Chemistry)第5版、A18巻、156−161ページに記載されており、または
ここに記載の方法により得ることができる。
スチリルベンゼンの系統からの1種またはそれ以上の蛍光増白剤を使用する。
。
04、ウルトラフォール(R) SF MO、ウルトラフォール(R) SF M
Pおよびウルトラフォール(R) SF POとしてBASF社から販売されて
いる。
開(DE)第3235526号、第3400991号、第3434059号およ
び第3545004号、欧州特許出願第0033079号および欧州特許第00
55363号の各明細書に記載されている。
R) オレンジ240、ルモゲン(R) レッド300、ルモゲン(R) バイオ
レット570およびテルモプラスト(Thermoplast) (R) Fイエロー084と
してBASF社から販売されている。
物内に使用できる無機着色用顔料の概観には、H.エンドリス(H. Endriss)の本
「実際の無機着色用顔料」("Aktuelle anorganisce Bunt-Pigmente" (Herausgeb
er U. Zorll, Curt -R. Vincentz-Verlag Hannover (1997))がある。さらに、上
記の本に記載されていない別の原料として、またピグメントブラック6およびピ
グメントブラック7(カーボンブラック)、ピグメントブラック11(酸化鉄黒
、Fe3 O4 )、ピグメントホワイト4(酸化亜鉛、ZnO)、ピグメントホ
ワイト5(リトポン、ZnS/BaSO4 )、ピグメントホワイト6(酸化チ
タン、TiO2 )およびピグメントホワイト7(硫化亜鉛、ZnS)も該当す
る。
ヘルプスト(W. Herbst) とK.フンゲル(K. Hunger) の本「工業用有機顔料−製
造、性質、応用」("Industrielle organische Pigmente - Herstellung, Eigens
chaften, Anwendung" (VCH-Verlag, Weinheim, New York, Basel, Cambridge, T
okyo, zweite Auflage (1995))が提供する。
ロミズム性または蛍光性顔料ならびにこれらの性質を組み合わせて有する顔料も
加えることができる。
790(BASF株式会社)の他に、また無機のドーピング(dotieren)またはド
ーピングしていない化合物が該当し、これらは実質的に、アルカリ土類金属酸化
物、アルカリ土類金属/遷移金属酸化物、アルカリ土類金属/アルミニウム酸化
物、アルカリ土類金属/ケイ素酸化物またはアルカリ土類金属/リン酸化物、ア
ルカリ土類金属ハロゲン化物、Zn/ケイ素酸化物、Zn/アルカリ土類金属ハ
ロゲン化物、希土類金属酸化物、希土類金属/遷移金属酸化物、希土類金属/ア
ルミニウム酸化物、希土類金属/ケイ素酸化物または希土類金属/リン酸化物、
希土類金属酸化物硫化物または希土類金属酸化物ハロゲン化物、酸化亜鉛、硫化
亜鉛またはセレン化亜鉛、酸化カドミウム、硫化カドミウムまたはセレン化カド
ミウムまたは亜鉛/カドミウム酸化物、亜鉛/カドミウム硫化物または亜鉛/カ
ドミウムセレン化物に基づき、その際、カドミウム含有化合物はその毒性および
環境的な関心から意味を失っている。
モン、希土類金属例えばセリウム、ユーロピウムまたはテルビウム、遷移金属、
例えばマンガン、銅、銀または亜鉛またはこれらの元素の組み合わせも使用され
る。
は、記載した化合物に適当な元素(単独または複数)をドーピングすることであ
ると当業者に示すものである。さらに、例えば「(P,V)」の記載方法は、顔
料の固体構造中の相当する格子点が、ランダムにリンおよびバナジウムにより占
められていることを意味する。
l):Sb,Mn、(SrMg)2 P2 O7 :Eu、SrMg2 P2 O7
:Sn、BaFCl:Eu、Zn2 SiO4 :Mn、(Zn,Mg)F2 :
Mn、Y2 O3 :Eu、YVO4 :Eu、Y(P,V)O4 :Eu、Y2
SiO5 ;Ce,Tb、Y2 O2 S:Eu、Y2 O2 S:Tb、La2 O2 S:Tb、Gd2 O2 S:Tb、LaOBr:Tb、ZnO:Zn、Zn
S:Mn、ZnS:Ag、ZnS/CdS:Ag、ZnS:Cu,Al、ZnS
e:Mn、ZnSe:AgおよびZnSe:Cuである。
挙げられる。
ール、2−t−ブチル−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル
−4−エチルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−n−ブチルフェノール
、2,6−ジ−t−ブチル−4−イソブチルフェノール、2,6−ジシクロペン
チル−4−メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘキシル)−4,6−ジ
メチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−4−メチルフェノール、2,4,
6−トリシクロヘキシルフェノール、2,6−ジ−t−ブチル−4−メトキシメ
チルフェノール、線状または分枝状側鎖を有するノニルフェノール、例えば2,
6−ジ−ノニル−4−メチルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチ
ルウンデカ−1’−イル)−フェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチ
ルヘプタデカ−1’−イル)−フェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メ
チルトリデカ−1’−イル)−フェノールおよびこれらの化合物の混合物、アル
キルチオメチルフェノール、例えば2,4−ジオクチルチオメチル−6−t−ブ
チルフェノール、2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチルフェノール、2,
4−ジオクチルチオメチル−6−エチルフェノールおよび2,6−ジ−ドデシル
チオメチル−4−ノニルフェノール、 ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロキノン、例えば2,6−ジ−t−ブチル−
4−メトキシフェノール、2,5−ジ−t−ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−
t−アミルヒドロキノン、2,6−ジフェノール−4−オクタデシルオキシフェ
ノール、2,6−ジ−t−ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシアニソール、
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルステアラートおよびビス−(
3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アジパート、 トコフェロール、例えばα−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフ
ェロール、δ−トコフェロールおよびこれらの化合物の混合物、ならびにトコフ
ェロール誘導体、例えば酢酸トコフェロール、コハク酸トコフェロール、ニコチ
ン酸トコフェロールおよびポリオキシエチレンコハク酸トコフェロール(「トコ
フェルソラート(Tocofersolat)」)、 ヒドロキシル化ジフェニルチオエーテル、例えば2,2’−チオビス(6−t−
ブチル−4−メチルフェノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェノー
ル)、4,4’−チオビス(6−t−ブチル−3−メチルフェノール)、4,4
’−チオビス(6−t−ブチル−2−メチルフェノール)、4,4’−チオビス
−(3,6−ジ−sec−アミルフェノール)および4,4’−ビス−(2,6
−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスルフィド、 アルキリデンビスフェノール、例えば2,2’−メチレンビス(6−t−ブチル
−4−メチルフェノール)、2,2’−メチレンビス−(6−t−ブチル−4−
エチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−(α−メチル
シクロヘキシル)フェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−シ
クロヘキシルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−ノニル−4−メチル
フェノール)、2,2’−メチレンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)
、2,2−エチリデンビス(4,6−ジ−t−ブチルフェノール)、2,2’−
エチリデンビス(6−t−ブチル−4−イソブチルフェノール)、2,2’−メ
チレンビス〔6−(α−メチルベンジル)−4−ノニルフェノール〕、2,2’
−メチレンビス〔6−(α,α−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール〕
、4,4’−メチレンビス(2,6−ジ−t−ブチルフェノール)、4,4’−
メチレンビス−(6−t−ブチル−2−メチルフェノール)、1,1−ビス(5
−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6−ビス(
3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシベンジル)−4−メチルフェノー
ル、1,1,3−トリス(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニ
ル)ブタン、1,1−ビス(5−t−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチル−フ
ェニル)−3−n−ドデシルメルカプトブタン、エチレングリコールビス〔3,
3−ビス(3’−t−ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)ブチラート〕、ビス
(3−t−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチル−フェニル)ジシクロペンタジ
エン、ビス〔2−(3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチルベンジ
ル)−6−t−ブチル−4−メチルフェニル〕−テレフタラート、1,1−ビス
(3,5−ジメチル−2−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパン、2,2−ビス(5−t
−ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプ
トブタンおよび1,1,5,5−テトラキス−(5−t−ブチル−4−ヒドロキ
シ−2−メチルフェニル)ペンタン、 O−ベンジル化合物、N−ベンジル化合物およびS−ベンジル化合物、例えば
3,5,3’,5’−テトラ−t−ブチル−4,4’−ジヒドロキシジベンジル
エーテル、オクタデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプ
トアセタート、トリデシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルベンジル
メルカプトアセタート、トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベン
ジル)−アミン、ビス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベ
ンジル)チオテレフタラート、ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
ベンジル)スルフィドおよびイソオクチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルメルカプトアセタート、 芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例えば1,3,5−トリス−(3,5−ジ−
t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベンゼン、1
,4−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−2,3,5
,6−テトラメチルベンゼンおよび2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール、 トリアジン化合物、例えば2,4−ビス(オクチルメルカプト)−6−(3,5
−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−
オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ
アニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,3,5−トリア
ジン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェノキ
シ)−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌラート、1,3,5−トリス(4−t−
ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌラート、2,
4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−
1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−
ヒドロキシフェニルプロピオニル)−ヘキサヒドロ−1,3,5−トリアジン、
1,3,5−トリス(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)−
イソシアヌラートおよび1,3,5−トリス(2−ヒドロキシエチル)イソシア
ヌラート、 ベンジルホスホナート、例えばジメチル−2,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルホスホナート、ジエチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキ
シベンジルホスホナート、ジオクタデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒド
ロキシベンジルホスホナートおよびジオクタデシル−5−t−ブチル−4−ヒド
ロキシ−3−メチルベンジルホスホナート、 アシルアミノフェノール、例えば4−ヒドロキシラウロイルアニリド、4−ヒド
ロキシステアロイルアニリドおよびオクチル−N−(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)カルバマート、 例えば一価または多価アルコール、例えばメタノール、エタノール、n−オクタ
ノール、i−オクタノール、オクタデカノール、1,6ヘキサンジオール、1,
9−ノナンジオール、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、ネオペ
ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシ
アヌラート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサミド、3−チアウンデ
カノール、3−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチ
ロールプロパンおよび4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリ
オキサビシクロ〔2.2.2〕−オクタンのプロピオン酸エステルおよび酢酸エ
ステル、 アミン誘導体に基づくプロピオン酸アミド、例えばN,N’−ビス(3,5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン
、N,N’−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオ
ニル)トリメチレンジアミンおよびN,N’−ビス(3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヒドラジン、 アスコルビン酸(ビタミンC)およびアスコルビン酸誘導体、例えばパルミチン
酸アスコルビル、ラウリン酸アスコルビルおよびステアリン酸アスコルビルなら
びに硫酸アスコルビルおよびリン酸アスコルビル、 アミン化合物に基づく抗酸化剤、例えばN,N’−ジ−イソプロピル−p−フェ
ニレンジアミン、N,N’−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、N
,N’−ビス(1,4−ジメチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,N
’−ビス(1−エチル−3−メチルペンチル)−p−フェニレンジアミン、N,
N’−ビス(1−メチルヘプチル)−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジシ
クロヘキシル−p−フェニレンジアミン、N,N’−ジフェニル−p−フェニレ
ンジアミン、N,N’−ビス−(2−ナフチル)−p−フェニレンジアミン、N
−イソプロピル−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1,3−ジ
メチルブチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−(1−メチル
ヘプチル)−N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、N−シクロヘキシル−
N’−フェニル−p−フェニレンジアミン、4−(p−トルエンスルファモイル
)−ジフェニルアミン、N,N’−ジメチル−N,N’−ジ−sec−ブチル−
p−フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、N−アリルジフェニルアミン、4
−イソプロポキシジフェニルアミン、N−フェニル−1−ナフチルアミン、N−
(4−t−オクチルフェニル)−1−ナフチルアミン、N−フェニル−2−ナフ
チルアミン、オクチル置換したジフェニルアミン、例えばp,p’−ジ−t−オ
クチルジフェニルアミン、4−n−ブチルアミノフェノール、4−ブチリルアミ
ノフェノール、4−ノナノイルアミノフェノール、4−ドデカノイルアミノフェ
ノール、4−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス〔4−メトキシフェニル
)アミン、2,6−ジ−t−ブチル−4−ジメチルアミノエチルフェノール、2
,4−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,
N,N’,N’−テトラメチル−4,4’−ジ−アミニジフェニルメタン、1,
2−ビス〔(2−メチルフェニル)−アミノ〕エタン、1,2−ビス(フェニル
アミノ)プロパン、(o−トリル)ビグアニド、ビス〔4−(1’,3’−ジメ
チルブチル)フェニル〕アミン、t−オクチル置換したN−フェニル−1−ナフ
チルアミン、モノアルキル化およびジアルキル化したt−ブチル/t−オクチル
ジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化したノニルジフ
ェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化したドデシルジフェ
ニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化したイソプロピル/イ
ソヘキシルジフェニルアミンの混合物、モノアルキル化およびジアルキル化した
t−ブチルジフェニルアミンの混合物、2,3−ジヒドロ−3,3−ジメチル−
4H−1,4−ベンゾチアジン、フェノチアジン、モノアルキル化およびジアル
キル化したt−ブチル/t−オクチルフェノチアジンの混合物、モノアルキル化
およびジアルキル化したt−オクチルフェノチアジンの混合物、N−アリルフェ
ノチアジン、N,N,N’,N’−テトラフェニル−1,4−ジアミノブト−2
−エン、N,N−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−ピペリジン−4−イル
)−ヘキサメチレンジアミン、ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)−セバカート、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オ
ンおよび2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−オール、 ホスファイトおよびホスホナイト、例えばトリフェニルホスファイト、ジフェニ
ルアルキルホスファイト、フェニルジアルキルホスファイト、トリス(ノニルフ
ェニル)ホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリオクタデシルホスファ
イト、ジステアリルペンタエリトリトールジホスファイト、トリス(2,4−ジ
−t−ブチルフェニル)ホスファイト、ジイソデシルペンタエリトリトールジホ
スファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)ペンタエリトリトールジ
ホスファイト、ビス(2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエ
リトリトールジホスファイト、ジイソデシルオキシペンタエリトリトールジホス
ファイト、ビス(2,4−ジ−t−ブチル−6−メチルフェニル)ペンタエリト
リトールジホスファイト、ビス(2,4,6−トリス(t−ブチルフェニル))
ペンタエリトリトールジホスファイト、トリステアリルソルビトールトリホスフ
ァイト、テトラキス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)−4,4’−ビフェニ
レンジホスホナイト、6−イソオクチルオキシ−2,4,8,10−テトラ−t
−ブチル−12H−ジベンズ−〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホスホシン、
6−フルオロ−2,4,8,10−テトラ−t−ブチル−12−メチル−ジベン
ズ〔d,g〕−1,3,2−ジオキサホスホシン、ビス(2,4−ジ−t−ブチ
ル−6−メチルフェニル)メチルホスファイトおよびビス(2,4−ジ−t−ブ
チル−6−メチルフェニル)エチルホスファイト、 2−(2’−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリアゾール、例えば2−(2’−
ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’
−ジ−t−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(
5’−t−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2
’−ヒドロキシ−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェニル)ベ
ンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−t−ブチル−2’−ヒドロキシフェ
ニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−t−ブチル−2’−ヒ
ドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(
3’−sec−ブチル−5’−t−ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−ベン
ゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフェニル)−
ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−t−アミル−2’−ヒドロキシフ
ェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ビス−(α、α−ジメチル
ベンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)−ベンゾトリアゾール;2−(3’−
t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル
)フェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−t−ブチル−5
’−〔2−(2−エトキシヘキシルオキシ)−カルボニルエチル〕−2’−ヒド
ロキシフェニル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−t−ブチル
−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−5
−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−
5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニル)−ベンゾトリアゾール、2
−(3’−t−ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボ
ニルエチル)フェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3’−t−ブチル−5’
−〔2−(2−エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル〕−2’−ヒドロキシ
フェニル)−ベンゾトリアゾール、2−(3’−ドデシル−2’−ヒドロキシ−
5’−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾールおよび2−(3’−t−ブチル−
2’−ヒドロキシ−5’−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチルフェニル
)−ベンゾトリアゾールの混合物、2,2’−メチレン−ビス〔4−(1,1,
3,3−テトラメチルブチル)−6−ベンゾトリアゾール−2−イルフェノール
〕;2−〔3’−t−ブチル−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)−2’
−ヒドロキシフェニル〕−2H−ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール
300との完全エステル化生成物;〔R−CH2 CH2 −COO(CH2 )
3 〕2 (式中、R=3’−t−ブチル−4’−ヒドロキシ−5’−2H−ベン
ゾトリアゾール−2−イルフェニル〕、 硫黄含有過酸化物捕そく剤ならびに硫黄含有抗酸化剤、例えば3,3’−チオジ
プロピオン酸のエステル、例えばラウリルエステル、ステアリルエステル、ミリ
スチルエステルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾールまた
は2−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜
鉛、ジオクタデシルジスルフィドおよびペンタエリトリトールテトラキス(β−
ドデシルメルカプト)プロピオナート2−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば4
−ヒドロキシ誘導体、4−メトキシ誘導体、4−オクチルオキシ誘導体、4−デ
シルオキシ誘導体、4−ドデシルオキシ誘導体、4−ベンジルオキシ誘導体、4
,2’,4’−トリヒドロキシ誘導体および2’ヒドロキシ−4,4’−ジメト
キシ誘導体、 非置換または置換された安息香酸のエステル、例えば4−t−ブチルフェニルサ
リチラート、フェニルサリチラート、オクチルフェニルサリチラート、ジベンゾ
イルレソルシノール、ビス(4−t−ブチルベンゾイル)レソルシノール、ベン
ゾイルレソルシノール、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3,5−ジ−t−ブ
チル−4−ヒドロキシベンゾアート、ヘキサデキル−3,5−ジ−t−ブチル−
4−ヒドロキシベンゾアート、オクタデシル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒ
ドロキシベンゾアートおよび2−メチル−4,6−ジ−t−ブチルフェニル−3
,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンゾアート、 アクリレート、例えばエチル−α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリラート、
イソオクチル−α−シアノ−β、β−ジフェニルアクリラート、メチル−α−メ
トキシカルボニルシンナマート、メチル−α−シアノ−β−メチル−p−メトキ
シシンナマート、ブチル−α−シアノ−β−メチル−p−メトキシ−シンナマー
ト、およびメチル−α−メトキシカルボニル−p−メトキシ−シンナマート、 立体障害アミン、例えばビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4
−イル)セバカート、(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
スクシナート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル
)セバカート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペ
リジン−4−イル)セバカート、ビス(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジン−4−イル)−n−ブチル−3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジルマロナート、1−(2−ヒドロキシエチル)−2,2,6,6−テトラメ
チル−4−ヒドロキシピペリジンとコハク酸からの縮合生成物、N,N’−ビス
(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)ヘキサメチレンジアミ
ンと4−t−オクチルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンから
の縮合生成物、トリス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)
ニトリロトリアセタート、テトラキス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン−4−イル)−1,2,3,4−ブタン−テトラカルボキシラート、1,1’
−(1,2−エチレン)−ビス(3,3,5,5−テトラメチルピペラジノン)
、4−ベンゾイル−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、4−ステアリル
オキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン、ビス(1,2,2,6,6
−ペンタメチルピペリジン−4−イル)−2−n−ブチル−2−(2−ヒドロキ
シ−3,5−ジ−t−ブチルベンジル)マロナート、3−n−オクチル−7,7
,9,9−テトラメチル−1,3,8−トリアザスピロ〔4,5〕デカン−2,
4−ジオン、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−4−イル)セバカート、ビス(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン−4−イル)スクシナート、N,N’−ビス−(2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)ヘキサメチレンジアミンと4−モ
ルホリノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンからの縮合生成物、2−
クロロ−4,6−ビス(4−n−ブチルアミノ−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)−1,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノ
プロピルアミノ)エタンからの縮合生成物、2−クロロ−4,6−ジ(4−n−
ブチルアミノ−1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4−イル)−1
,3,5−トリアジンと1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタンから
の縮合生成物、8−アセチル−3−ドデシル−7,7,9,9−テトラメチル−
1,3,8−トリアザスピロ〔4,5〕−デカン−2,4−ジオン、3−ドデシ
ル−1−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−イル)ピロリジン−
2,5−ジオン、3−ドデシル−1−(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペ
リジン−4−イル)ピロリジン−2,5−ジオン、4−ヘキサデシルオキシ−2
,2,6,6−テトラメチルピペリジンと4−ステアリルオキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジンから成る混合物、N,N’−ビス−(2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン−4−イル)ヘキサメチレンジアミンと4−シクロ
ヘキシルアミノ−2,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジンからの縮合生成物
、1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)−エタンと2,4,6−トリクロ
ロ−1,3,5−トリアジンからの縮合生成物、4−ブチルアミノ−2,2,6
,6−テトラメチルピペリジン、N−(2,2,6,6−テトラメチルピペリジ
ン−4−イル)−n−ドデシル−スクシンイミド、N−(1,2,2,6,6−
ペンタメチルピペリジン−4−イル)−n−ドデシルスクシンイミド、2−ウン
デシル−7,7,9,9−テトラメチル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オ
キソスピロ〔4,5〕−デカン、7,7,9,9−テトラメチル−2−シクロウ
ンデシル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソスピロ−〔4,5〕デカン
とエピクロロヒドリンからの縮合生成物、4−アミノ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジンとテトラメチロールアセチレン二尿素からの縮合生成物および
ポリ(メトキシプロピル−3−オキシ)−〔4(2,2,6,6−テトラメチル
)ピペリジニル〕−シロキサン、 オキサミド、例えば4,4’−ジオクチルオキシオキサニリド、2,2’−ジ
エトキシオキサニリド、2,2’−ジオクチルオキシ−5,5’−ジ−t−ブト
キサニリド、2,2’−ジドデシルオキシ−5,5’−ジ−t−ブトキサニリド
、2−エトキシ−2’−エチルオキサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルア
ミノプロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−t−ブチル−2’−エトキサニ
リドおよびこれらと2−エトキシ−2’−5,4’−ジ−t−ブチル−ブトキサ
ニリドとの混合物ならびにオルト−、パラ−メトキシ−二置換されたオキサニリ
ドの混合物およびオルト−、パラ−エトキシ−二置換されたオキサニリドの混合
物、および 2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、例えば2,4,6
−トリス−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチル−オキシフェニル)−4,6−
ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4−
ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3
,5−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニ
ル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−4,6−ビス(4−メチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ドデシルオキシ
フェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリア
ジン、2−(2−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェニル)−4,6−ビス
(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロキ
シ−4−(2−ヒドロキシ−3−ブチルオキシ−プロポキシ)−フェニル〕−4
,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、2−〔2−ヒドロ
キシ−4−(2−ヒドロキシ−3−オクチルオキシ−プロポキシ)フェニル〕−
4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリアジン、2−〔4−(ド
デシルオキシ/トリデシルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−2−ヒドロキ
シ−フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−〔2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ
−プロポキシ)−フェニル〕−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1
,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)
−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−1,3,5−トリアジン、2,4,
6−トリス〔2−ヒドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシ−プロポキ
シ)フェニル〕−1,3,5−トリアジンおよび2−(2−ヒドロキシフェニル
)−4−(4−メトキシフェニル)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン。
態様形の、印刷インクとしての使用を特許請求する。有利には、その際、スクリ
ーン印刷、平板印刷および凸版印刷が該当する。
およびステンシル印刷、平板印刷では殊にはオフセット印刷、また凸版印刷では
殊にはフレキソ印刷および活版印刷が挙げられる。
様形の、基体の印刷または被覆への使用である。
外分野、スポーツ分野およびレジャー分野、美容分野、繊維分野、皮革分野、趣
味分野、装飾材料分野、贈答品分野、筆記具分野、包装材料分野、建設および家
庭用品分野、印刷製品分野、化粧品および医薬品分野が該当する。
、ラベル、プラスチックシート、各種車両、例えばベビーカー、自転車、二輪車
、乗用車および貨物自動車、旅客用航空機および貨物用航空機および相当する車
両部品/航空機部品および車両付属品/航空機付属品、娯楽用電子製品およびデ
ータ処理の装置、殊にはこれらの装置のハウジング、ローラースケート靴、スケ
ート靴、スキー、(ウインド)サーフィン板、凧、医療器具および眼鏡縁がある
。
施態様形の電気光学部品での使用を請求する。その際、例えば低架橋性また低架
橋した本発明による物質混合物を液晶マトリックスとして液晶表示装置および液
晶ディスプレーに使用できる。さらに、本発明による混合物は、このような装置
およびディスプレーの配向層として該当する。
実施態様形の、対象物の偽造ができない標識への使用を請求する。
はクレジッットカード、証明書、さらに、高価な嗜好品、入場券、有価クーポン
および奢侈品の包装またはこれらの奢侈品自体である。後者の趣旨は、市場乗っ
取りの防止または少なくともこれを困難にすることにある。
施態様形の、波長範囲250〜1300nmの範囲内で選択的に光を反射するフ
ィルムまたは被覆の製造のための使用を請求する。スペクトルの可視範囲内での
(選択的)反射の他に、赤外および紫外光の反射も関係する。これは例えば熱お
よびUV照射に対するこのようなフィルムまたは被覆を施した基体の保護のため
に役立つ。
態様形の重合により得られる重合体または重合したフィルムである。
ィルターおよびノッチフィルター、すなわち狭いバンドの干渉フィルターとして
、殊には液晶表示装置および液晶ディスプレーに対する偏光体、殊には張り合わ
せるための装飾材料として、殊には小切手またはクレジットカードならびに証明
書のための偽造できない標識、および波長範囲250〜1300nmの範囲内で
の放射の選択的な反射のための反射媒体としての使用を請求する。
しかつ場合により基体上の液晶性物質混合物の配向を引き起し、 ii)場合により少なくとも1種の別の非液晶性印刷または少なくとも1種の非
液晶性層を適用し、 または工程i)およびii)を逆の順序で行い、 iii)場合により少なくとも1種の吸収層および/または保護層および/また
は場合により熱的に活性化可能な接着層を適用し、かつ iv)工程i)および場合によりii)および/またはiii)において製造さ
れた印刷および/または層を硬化し、その際、硬化は、工程i)および場合によ
りii)および/またはiii)のそれぞれ個々の印刷またはそれぞれ個々の層
の適用の直後または同時に行うことができる ことを特徴とする、基体の印刷または被覆のための方法である。
には透過性である基体の印刷または被覆のための上記に類似する方法である。
と呼ぶ。さらに本発明による方法は、すべての工程i)および場合によりii)
において印刷のみまたは被覆のみに適用されるだけでなく、印刷または被覆を交
互または任意の順番および回数で基体上に適用できると考える。
の方法は結合体の製造を外観または透過性に、すなわち適応する基体は波長範囲
250〜1300nmの範囲内で部分的に透過するように適応させる。
いで場合によりこれに引き続いて少なくとも1種の別の非液晶性印刷または少な
くとも1種の別の非液晶性被覆を適用するか、または後者を最初に基体上に適用
し、次いで液晶性物質混合物で被覆または印刷することができる。
、張り合わせた製品中で、(少なくとも部分的に光透過性の)結合体の基体自体
は、最外層となり、これは保護層(工程iii)の適用を必ずしも必要としない
。
も部分的に透過性の基体と液晶性物質混合物との間に剥離層を入れ、これを結合
体の適用の後、基体の反対側に別の基体を適用した後に、最初の基体(いまでは
外側)を剥離することができる。これは例えばホットスタンピング法の範囲内で
可能となる。
より剥離層の適用を省略できる。この(第一の)基体は、この場合に適用の後に
別の基体上から直接取り去ることができる。
ために、吸収層を適用できる。この結合体が例えば暗い色の対象物に使用される
場合には、保護層の適用のみでなく、適当な吸収層(工程iii))も省略でき
る。
の適用に直接続いて、または(好適な手段、例えば印刷インク/被覆剤の乾燥開
始/乾燥または種々の混合性および/または粘度により、印刷層の混合を妨害で
きる限り)、同時に、すなわち硬化工程(工程iii))内で行うことができる
。
きる。
湿潤性および/または配向性を改善できる。
剤が該当する(基体のプライミング)。
応して前処理でき、また、例示的にすでに群c4)の添加剤として記載してある
。
る形を行うことができる。これに関係して、なかでも種々の気体プラズマによる
基体表面の活性化が指摘される。
向性の改善は(工程i)を最初に行う場合に対して)、例えば基体表面の機械的
または化学的変性、例えば延伸、研磨、溶解、腐食またはプラズマ処理を行うこ
とができる。
ある。
モクロミズム性または蛍光性であるかまたはこれらの性質の組み合わせを有する
基体を印刷または被覆することができる。
バルク」性質)。しかし、これらの性質は、相応する物質(例えば磁性、導電性
、ホトクロミズム性、サーモクロミズム性または蛍光性の顔料またはホトクロミ
ズム性、サーモクロミズム性または蛍光性の染料)の混入(例えばドーピング)
によって、または相応する印刷インク、被覆材料、蒸着材料を用いる被覆、印刷
または蒸着によりこれらに与えることができる。
たは蛍光性顔料を用いて本体に着色)は、追加してさらに磁性または電導性の印
刷インクまたは印刷ペーストを用いて印刷するかまたは金属層を蒸着できる。
び/または湿潤性および/または配向性を改善されまたは被覆、印刷または蒸着
によりこれに磁性、導電性、ホトクロミズム性、サーモクロミズム性または蛍光
性質が与えられている限り、これらの予備処理は、基体に属するものであり、か
つ、これらが工程i)の前に実施される限り、工程ii)の範囲内とは考えない
。
施方法に従って印刷インクまたは被覆材料を用いて行われる。その際、この印刷
インクまたは被覆材料は、慣用の結合剤および溶剤に基づき、また慣用の別の(
効果がある)染料および/または顔料、例えば上記の群d1)およびd2)にす
でに記載した物質を含むものである。
用できる。これは同様に関連する方法に従って相応する被覆材料を用いて行われ
る。これらの被覆材料は、この場合にも慣用の結合剤および溶剤に基づき、また
通常吸収性染料および/または顔料を含み、かつ大部分はさらに、吸収層および
/または保護層に、例えば高い耐引っかき性(例えば上記の群c8)記載の添加
剤参照)または光および/または酸化による分解に対してこの層を耐性とする(
例えば同様にすでに成分E)として記載のもの)を含む。
いて着色および光化学的に重合可能な本発明による液晶性物質混合物を基体(例
えばポリエチレンテレフタレートから成る合成樹脂シート)に適用し、UV光を
用いて重合させ、工程ii)において、例えばIR範囲またはUV範囲を吸収す
るかまたは蛍光性の染料または顔料を含む印刷または被覆を適用し、次いで(場
合によりこれらの印刷または被覆の硬化の後)遮断性吸収層を適用して製造でき
る。
被覆方法の他に、当然ながら全色調(Vollton) 印刷法、例えばフレキソ、スクリ
ーンまたはオフセット印刷も適用できることのみをここで述べる。
する色感覚のみを示す。IRランプまたはUVランプおよび場合により相当する
観察装置(例えばIRカメラ)を用いて、はじめて結合体内に隠れていた追加の
標識が現れる。
態様形またはそれから得られた重合体または重合したフィルムを適用してあるか
または本発明による方法に従って被覆してある基体である。
らびにドーピング物質としてキラル化合物を製造した。
’−ヒドロキシベンゾイルオキシ〕−2−メチルベンゼンと、4−アクリロイル
オキシブチルオキシクロロホルマートとブチルオキシクロロホルマートとの混合
物(モル比1:1)との反応により、化合物
’−ヒドロキシベンゾイルオキシ〕−2−メチルベンゼンと、4−アクリロイル
オキシブチルクロリドとブチルオキシクロリドとの混合物(モル比1:1)との
反応により、化合物
例18に従って4−(4’−ヒドロキシベンゾイルオキシ)−フェノールと4−
アクリロイルオキシブチルクロロホルマートとの反応により製造した化合物
−ヒドロキシベンゾイルオキシ〕−2−メチルベンゼンと、4−アクリロイルオ
キシブチルクロロホルマートとの反応により、化合物
ビス〔4’−ヒドロキシベンゾイル〕−1,4:3,6−ジアンヒドロソルビト
ールと4−アクリロイルオキシブチルオキシカルボニルオキシベンゾイルクロリ
ドとの反応によりキラル化合物
でSGと省略)を製造した。下記の表中で、百分率の記載は質量%、また比率の
記載は質量比と考える。
7、反応性希釈剤(b2))として、ヘキサンジオールジアクリレート(ラロマ
ー(Laromer) (R) HDDA、BASF株式会社)またはエトキシエトキシエ
チルアクリレートおよび希釈剤(b3))として、ソルベッソ(R) 100/
L33およびキシレンを使用した。
レックス900および滑剤およびレベリング剤(c2))として、BYK(R) 361を使用した。
スクリーン印刷で印刷できる。
くスクリーン印刷で印刷できる。
なくかつ液晶性物質混合物の良好な配向を有して印刷できた。印刷物のフィルム
化(Verfilmung)は良好でありまた色の変化は明確であった。
ィルム(厚さ12μm、テイジン社)を用い、これを表3記載の本発明による物
質混合物16を用い、先願のドイツ特許出願第19738369.6号明細書に
記載の方法に従って、希釈剤としてテトラヒドロフランを用いて被覆した。
ベントナフサ20質量%およびラロフレックス(Laroflex)(R) MP45(P
VC−ベースの架橋剤、BASF株式会社)10質量%を混合した。
式会社)25質量%、n−ヘキシルジグリコール15質量%およびメトキシプロ
ピルアセタート5質量%を混合した。この混合物に対して、ウヴィヌル(Uvinul)(R) 3039(光保護剤/抗酸化剤、BASF株式会社)0.2質量%を加
えた。
20質量%およびBM1 80質量%の混合物を混合比1:39でBM2と、全
混合物中のウルトラフォール(R) SF MO含有量が0.5質量%となるよ
うに希釈した。このようにして得られた印刷インクを用いて、合成樹脂フィルム
の液晶性物質混合物で被覆した側の上に、微細スクリーン(180T)を用いる
平板スクリーン印刷により画像を印刷した。乾燥の後、この画像の上に、粗いス
クリーン目(120T)で黒色全色調スクリーン印刷した。
a. Degussa) )20質量%をBM1 80質量%中に分散させ、BM2を質量比
1:1で、全混合物中のカーボンブラック含有量10質量%となるまで希釈して
製造した。
れた。観察者には、外観でも透視によっても結合体内に隠れた画像が認められな
かった。しかしUVランプ(カマグ社(Fa. Camag) 、発生波長366nm)照射
により、画像(UV−青色)が視認できた。
%の分散液を、BM2を質量比1:9で、全混合物中のカーボンブラック含有量
2質量%となるまで希釈した。この印刷インクを用いて、合成樹脂フィルムの液
晶性物質混合物で被覆した側の上に、微細スクリーン(180T)を用いる平板
スクリーン印刷により画像を印刷した。乾燥の後、この画像の上に、粗いスクリ
ーン目(120T)で黒色全色調スクリーン印刷した。
6(BASF社)20質量%をBM1 80質量%中に分散させ、BM2を用い
て質量比1:1で、全混合物中のパリオゲン黒L0086含有量10質量%とな
るまで希釈して製造した。
認められた。IR写真(EMO−エレクトロニク有限会社(Fa. EMO-Elektronik
GmbH) )によってのみ画像が視認可能であり、その黒色全色調印刷は反射しなか
った。
ぞれ7.5質量%およびBM1 85質量%の分散液を質量比1:9でBM2と
、全混合物中のウルトラフォール(R) SF MOならびにカーボンブラック
(CK3)の量がそれぞれ0.75質量%となるように希釈した。この印刷イン
クを合成樹脂フィルムの液晶性物質混合物で被覆した側の上に、微細スクリーン
(180T)を用いる平板スクリーン印刷により画像を印刷した。乾燥の後、こ
の画像の上に、粗いスクリーン目(120T)で黒色全色調スクリーン印刷した
。
れた。観察者には、外観でも透視によっても結合体内に隠れた画像は認められな
かった。しかし、UVランプ照射でもIR写真によってでも、画像が視認できた
。
層に適用できる。
Claims (18)
- 【請求項1】 成分として、 A)式Ia Z1 −Y1 −A1 −Y3 −M1 −Y4 −A2 −Y2 −Z2 Ia
および式Ib Z3 −Y5 −A3 −Y7 −M2 −P Ib 〔式中、変数はたがいに独立して下記のものを表す。 Pは、水素、C1 〜C15−アルキル(これは1個またはそれ以上のメチル、
フッ素、塩素または臭素により置換されていることができ、かつこの中で非隣接
CH2 −基は酸素、硫黄、−CO−、−O−CO−、−CO−O−または−O
−CO−O−により置換されることができる)または基Y8 −A4 −Y6 −
Z4 (式中、変数は以下に記載のものを表す)であり、 Z1 〜Z4 は、重合可能な基であり、 Y1 〜Y8 は、化学的単結合、酸素、硫黄、−O−CO−、−CO−O−、−
O−CO−O−、−CO−NR−、−NR−CO−、−O−CO−NR−、−N
R−CO−O−または−NR−CO−NR−であり、 Rは、水素またはC1 〜C4 −アルキルであり、 A1 〜A4 は、炭素原子1〜30個を有するスペーサー(その中で、炭素鎖は
1個またはそれ以上のメチル、フッ素、塩素または臭素により置換されているこ
とができ、および/またはエーテル官能基中の酸素、チオエーテル官能基中の硫
黄によりまたは非隣接のイミノ基またはC1 〜C4 −アルキルイミノ基により
中断されていることができる)であり、 M1 は、式Ic −T1 −Y9 −T1'− Ic のメソゲン基、および M2 は、式Id (−T2 −Y10)r −T2 − Id のメソゲン基であり、 (ここで、式IcおよびId中の変数はたがいに独立して以下のものを表す。 T1 、T1′およびT2 は、二価飽和または不飽和炭素環式または複素環式基
であり、Y9 およびY10は、Y1 〜Y8 の定義による架橋成分または−C
H2 −O−、−O−CH2 −、−CH=N−、−N=CH−または−N=N−
であり、rは0、1、2または3の値であり、 その際、rが0とは異なる場合の基T2 およびY10は、同じかまたは異なっ
ていてもよい)〕 の化合物から成る群から選ばれる、少なくとも1種の化合物を含む液晶性混合物
、 B)場合により b1)光開始剤 b2)反応性希釈剤および b3)希釈剤 から成る群から選ばれる別の添加剤、 C)場合により c1)消泡剤および脱泡剤 c2)滑剤およびレベリング剤 c3)熱硬化性または放射線硬化性助剤 c4)基体湿潤助剤 c5)湿潤助剤および分散助剤 c6)疎水化剤 c7)粘着剤および c8)耐引っかき性改善のための助剤 から成る群から選ばれる別の添加剤、 D)場合により d1)染料および d2)顔料 から成る群から選ばれる別の添加剤、および E)場合により光安定剤、熱安定剤および/または抗酸化剤から成る群から選ば
れる別の添加剤 を含む、液晶性物質混合物。 - 【請求項2】 成分A)として、 式Ia Z1 −Y1 −A1 −Y3 −M1 −Y4 −A2 −Y2 −Z2 I
a の少なくとも1種の化合物および式Ib Z3 −Y5 −A3 −Y7 −M2 −P Ib 〔式中、変数は請求項1記載の意味を有する〕の少なくとも1種の化合物を含む
液晶性混合物 を含む、請求項1記載の液晶性物質混合物。 - 【請求項3】 別の添加剤として、成分B)中に b1)少なくとも1種の光開始剤 b2)光重合可能な基を有する少なくとも1種の反応性希釈剤、および場合
により b3)希釈剤 および場合により成分C)、D)およびE)から成る群から選ばれる別の添加剤
を含む、請求項1または2記載の液晶性物質混合物。 - 【請求項4】 成分C)および場合により成分B)、D)およびE)から成
る群から選ばれる別の添加剤を含む、請求項1または2に記載の液晶性物質混合
物。 - 【請求項5】 成分B)として b1)少なくとも1種の光開始剤 b2)光重合可能な基を有する少なくとも1種の反応性希釈剤、および場合
により b3)希釈剤、 成分C)および場合によりD)およびE)から成る群から選ばれる別の添加剤を
含む、請求項1または2記載の液晶性物質混合物。 - 【請求項6】 成分A)中において、式Iaおよび/または式Ibの化合物
の割合が、成分A)の全量に対して40〜99.5質量%である、請求項1から
5のいずれかに記載の液晶性物質混合物。 - 【請求項7】 Z1 −Y1 −、Z2 −Y2 −、Z3 −Y5 −および場
合によりZ4 −Y6 −が、メタクリロイルオキシ、アクリロイルオキシおよび
ビニルオキシから成る群から選ばれる、請求項1から6のいずれかに記載の液晶
性物質混合物。 - 【請求項8】 20℃における粘度0.5〜10.0Pasを有する、請求
項1から7のいずれかに記載の液晶性物質混合物。 - 【請求項9】 印刷インクとしての、請求項1から8のいずれかに記載の液
晶性物質混合物の使用。 - 【請求項10】 基体の印刷または被覆のための、請求項1から8のいずれ
かに記載の液晶性物質混合物の使用。 - 【請求項11】 電気光学部品内への、請求項1から8のいずれかに記載の
液晶性物質混合物の使用。 - 【請求項12】 対象物の偽造の恐れがない標識材料のための、請求項1か
ら8のいずれかに記載の液晶性物質混合物の使用。 - 【請求項13】 波長範囲250〜1300nm内で選択的に光を反射する
フィルムまたは被覆の製造のための、請求項1から8のいずれかに記載の液晶性
物質混合物の使用。 - 【請求項14】 請求項1から8のいずれかに記載の液晶性物質混合物の重
合により得られる、重合体または重合したフィルム。 - 【請求項15】 波長範囲250〜1300nm内の放射の選択的な反射の
ための光学フィルター、偏光材料、装飾材料、偽造の恐れがない標識および反射
媒体としての請求項14に記載の重合したフィルムの使用。 - 【請求項16】 i)請求項1から8のいずれかに記載の液晶性物質混合物
を基体上に適用し、かつ場合により基体上の液晶性物質混合物の配向を引き起し
、 ii)場合により少なくとも1種の別の非液晶性印刷または少なくとも1種の非
液晶性層を適用し、 または工程i)およびii)を逆の順序で行い、 iii)場合により少なくとも1種の吸収層および/または保護層および/また
は場合により熱的に活性化可能な接着層を適用し、かつ iv)工程i)および場合によりii)および/またはiii)において製造さ
れた印刷および/または層を硬化し、その際、硬化は、工程i)および場合によ
りii)および/またはiii)のそれぞれ個々の印刷またはそれぞれ個々の層
の適用の直後または同時に行うことができる ことを特徴とする、基体の印刷または被覆のための方法。 - 【請求項17】 i)請求項1から8のいずれかに記載の液晶性物質混合物
を基体上に適用し、かつ場合により基体上の液晶性物質混合物の配向を引き起し
、 ii)場合により少なくとも1種の別の非液晶性印刷または少なくとも1種の非
液晶性層を適用し、 または工程i)およびii)を逆の順序で行い、 iii)場合により少なくとも1種の吸収層および/または保護層および/また
は場合により熱的に活性化可能な接着層を適用し、かつ iv)工程i)および場合によりii)および/またはiii)において製造さ
れた印刷および/または層を硬化し、その際、硬化は、工程i)および場合によ
りii)および/またはiii)のそれぞれ個々の印刷またはそれぞれ個々の層
の適用の直後または同時に行うことができる ことを特徴とする、250〜1300nmの波長範囲内で少なくとも部分的に透
過性である、基体の印刷または被覆のための方法。 - 【請求項18】 請求項1から8のいずれかに記載の液晶性物質混合物また
は請求項14に記載の重合体または重合したフィルムを上に適用されているかま
たは請求項16または17に記載の方法により印刷または被覆されている基体。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19905394.4 | 1999-02-10 | ||
DE19905394A DE19905394A1 (de) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | Flüssigkristalline Stoffgemenge |
PCT/EP2000/000915 WO2000047694A1 (de) | 1999-02-10 | 2000-02-05 | Flüssigkristalline stoffgemenge |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002536529A true JP2002536529A (ja) | 2002-10-29 |
Family
ID=7896973
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000598595A Pending JP2002536529A (ja) | 1999-02-10 | 2000-02-05 | 液晶性物質混合物 |
Country Status (11)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6733689B1 (ja) |
EP (1) | EP1155098B1 (ja) |
JP (1) | JP2002536529A (ja) |
KR (1) | KR20010102025A (ja) |
AT (1) | ATE267861T1 (ja) |
AU (1) | AU2670200A (ja) |
BR (1) | BR0008117A (ja) |
CA (1) | CA2359729A1 (ja) |
DE (2) | DE19905394A1 (ja) |
ES (1) | ES2220401T3 (ja) |
WO (1) | WO2000047694A1 (ja) |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002069450A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-08 | Dainippon Ink & Chem Inc | 重合性液晶組成物 |
JP2007332195A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Sony Corp | 重合性液晶組成物、光学素子、光学素子の製造方法、および液晶表示装置 |
WO2008155813A1 (ja) * | 2007-06-19 | 2008-12-24 | Itakura, Masako | 樹脂成型物 |
JP2010520828A (ja) * | 2007-03-13 | 2010-06-17 | テヒニッシェ ウニヴェルシテート アイントホーフェン | 複数の認証機能を備えたセキュリティデバイス |
US7831619B2 (en) | 2007-05-30 | 2010-11-09 | International Business Machines Corporation | Method of and system for maximizing the return rate of dynamic inquiries into a population |
JP2011526321A (ja) * | 2008-06-27 | 2011-10-06 | トランジションズ オプティカル, インコーポレイテッド | メソゲン含有化合物を含む液晶組成物 |
JP2011526296A (ja) * | 2008-06-27 | 2011-10-06 | トランジションズ オプティカル, インコーポレイテッド | メソゲン含有化合物 |
WO2013035733A1 (ja) | 2011-09-08 | 2013-03-14 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶化合物、重合性組成物、高分子材料、及びフィルム |
JP2013514396A (ja) * | 2009-12-17 | 2013-04-25 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 液晶混合物 |
WO2013146923A1 (ja) | 2012-03-28 | 2013-10-03 | 富士フイルム株式会社 | コレステリック液晶性混合物、フィルム、赤外反射板、積層体および合わせガラス |
TWI425080B (zh) * | 2004-12-17 | 2014-02-01 | Merck Patent Gmbh | 液晶系統及液晶顯示器 |
WO2014050427A1 (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶化合物、液晶組成物、高分子材料とその製造方法およびフィルム |
JP2014231560A (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-11 | Dic株式会社 | 重合性組成物溶液、および、それを用いた光学異方体 |
JP2015510529A (ja) * | 2012-01-17 | 2015-04-09 | エルジー・ケム・リミテッド | 液晶組成物 |
KR20150043865A (ko) * | 2013-10-15 | 2015-04-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 |
WO2015093093A1 (ja) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | 横浜ゴム株式会社 | 紫外線硬化型樹脂組成物および積層体 |
US9481830B2 (en) | 2011-09-12 | 2016-11-01 | Fujifilm Corporation | Cholesteric liquid crystal mixture, film, selective reflective plate, laminate, laminated glass |
WO2018207843A1 (ja) * | 2017-05-11 | 2018-11-15 | 日本化薬株式会社 | ブルーライトカットフィルム用紫外線硬化型樹脂組成物及びこれを用いたブルーライトカットフィルム |
Families Citing this family (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TW373100B (en) * | 1996-07-01 | 1999-11-01 | Merck Patent Gmbh | Compensation film and liquid crystal display device containing the same |
DE10013507A1 (de) | 2000-03-20 | 2001-09-27 | Basf Ag | Chirale 1,3-Dioxanverbindungen |
DE10025782A1 (de) | 2000-05-26 | 2001-12-06 | Basf Ag | Flüssigkristalline Stoffgemenge |
DE10061625A1 (de) | 2000-12-11 | 2002-06-13 | Basf Ag | Verwendung von chiralen, ungeladenen Metallverbindungen als Dotierstoffe für flüssigkristalline Materialien |
DE10111116A1 (de) * | 2001-03-08 | 2002-09-19 | Giesecke & Devrient Gmbh | Wertdokument |
CA2445082A1 (en) * | 2001-04-24 | 2002-10-31 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschraenkter Haftung | Liquid crystal device exhibiting optical properties which are changeable after assembly |
JP2003207644A (ja) * | 2001-11-09 | 2003-07-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 光学素子の製造方法 |
DE10219462A1 (de) * | 2002-04-30 | 2003-11-20 | Basf Ag | Mehrschichtmaterialien zum Herstellen von Verpackungen |
DE10229530A1 (de) | 2002-07-01 | 2004-01-15 | Basf Ag | Chirale 3,4-Dihydro-2H-pyranverbindungen |
DE60324799D1 (de) * | 2002-07-06 | 2009-01-02 | Merck Patent Gmbh | Em material bestehende schuppen |
EP1422283B1 (en) | 2002-11-02 | 2014-03-05 | Merck Patent GmbH | Printable liquid crystal material |
JP4476930B2 (ja) * | 2002-11-04 | 2010-06-09 | アドバンスト・ポリメリック・プロプライエタリー・リミテッド | フォトクロミック組成物および光透過性物品 |
US7758911B2 (en) * | 2003-05-08 | 2010-07-20 | Honeywell International Inc. | Microelectronic security coatings |
US7632540B2 (en) | 2003-07-01 | 2009-12-15 | Transitions Optical, Inc. | Alignment facilities for optical dyes |
WO2005005573A1 (en) * | 2003-07-12 | 2005-01-20 | Merck Patent Gmbh | Polymerised liquid crystal film with improved adhesion |
US7744002B2 (en) * | 2004-03-11 | 2010-06-29 | L-1 Secure Credentialing, Inc. | Tamper evident adhesive and identification document including same |
US20060279865A1 (en) * | 2005-02-08 | 2006-12-14 | Norihito Ito | Optical element, retardation plate using same, optical laminated body,and display apparatus |
WO2007046384A1 (ja) * | 2005-10-18 | 2007-04-26 | Asahi Glass Company, Limited | 液晶光変調素子および光ヘッド装置 |
WO2007052979A1 (en) * | 2005-11-07 | 2007-05-10 | Lg Chem. Ltd. | Copolymer for liquid crystal alignment, liquid crystal aligning layer including copolymer for liquid crystal alignment, and liquid crystal display including liquid crystal aligning layer |
WO2008012292A1 (de) * | 2006-07-24 | 2008-01-31 | Basf Se | Flüssigkristallines gemisch |
US20080107479A1 (en) * | 2006-11-07 | 2008-05-08 | Inventec Corporation | Fan fixing apparatus |
US8574454B2 (en) * | 2006-12-22 | 2013-11-05 | Rolic Ag | Patternable liquid crystal polymer comprising thio-ether units |
EP2203903B1 (en) | 2007-10-09 | 2015-06-10 | Sicpa Holding Sa | Security marking authentication device |
ES2397568T3 (es) | 2008-03-11 | 2013-03-07 | Rolic Ltd. | Elemento de seguridad biométrica óptico |
CN102046391B (zh) * | 2008-04-02 | 2013-05-15 | 锡克拜控股有限公司 | 含有液晶材料的标记、物品及其应用以及利用该标记的识别和鉴定 |
CN102066382A (zh) | 2008-06-17 | 2011-05-18 | 巴斯夫欧洲公司 | 含有2,6-萘基及异甘露糖醇单元的可聚合手性化合物及其作为手性掺杂剂的用途 |
US8349210B2 (en) | 2008-06-27 | 2013-01-08 | Transitions Optical, Inc. | Mesogenic stabilizers |
AU2013200704B2 (en) * | 2008-06-27 | 2015-06-18 | Transitions Optical, Inc. | Mesogen containing compounds |
US8431039B2 (en) | 2008-06-27 | 2013-04-30 | Transitions Optical, Inc. | Mesogenic stabilizers |
US8628685B2 (en) * | 2008-06-27 | 2014-01-14 | Transitions Optical, Inc | Mesogen-containing compounds |
US8613868B2 (en) | 2008-06-27 | 2013-12-24 | Transitions Optical, Inc | Mesogenic stabilizers |
US8623238B2 (en) | 2008-06-27 | 2014-01-07 | Transitions Optical, Inc. | Mesogenic stabilizers |
PE20100769A1 (es) | 2009-04-02 | 2010-11-25 | Sicpa Holding Sa | Identificacion y autenticacion usando marcados de material de cristal liquido polimerico |
CN101555394B (zh) * | 2009-05-19 | 2011-09-14 | 无锡市儒兴科技开发有限公司 | 硅太阳能电池铝浆用有机粘合剂及其制备方法 |
AP2012006114A0 (en) | 2009-07-28 | 2012-02-29 | Sicpa Holding Sa | Transfer foil comprising optically variable magnetic pigment, method of making, use of transfer foil, and article or document comprising such. |
KR20130092985A (ko) * | 2010-04-20 | 2013-08-21 | 바스프 에스이 | 선 조직 또는 지문 조직을 갖는 중합 필름 |
US9222024B2 (en) | 2010-04-20 | 2015-12-29 | Basf Se | Polymerized films with line texture or fingerprint texture |
WO2012028882A1 (en) * | 2010-09-01 | 2012-03-08 | Sun Chemical B.V. | An adhesion promoting compound |
UY33771A (es) | 2010-12-07 | 2012-06-29 | Sicpa Holding Sa | Marcado compuesto a base de precursores de cristales líquidos quirales |
BR112013013792A2 (pt) | 2010-12-07 | 2016-09-13 | Sicpa Holding Sa | controle simplificado das propriedades de mudança de cor de polímero líquido cristalino quiral |
TW201520216A (zh) | 2013-10-21 | 2015-06-01 | Sicpa Holding Sa | 對掌性摻雜物與使用聚合性液晶材料標記之識別法及鑑別法 |
KR101497925B1 (ko) * | 2013-11-28 | 2015-03-03 | 우진산업주식회사 | 잉크정착제, 이의 제조방법 및 이를 사용하여 제조된 잉크젯기록용지 |
EP3155556B1 (en) * | 2014-06-10 | 2019-12-18 | Sicpa Holding SA | Substrate with a fragmented marking thereon |
US9902861B2 (en) * | 2014-06-21 | 2018-02-27 | Klt Technologies | Single color reversible temperature indicator |
DE102017117478A1 (de) * | 2017-08-02 | 2019-02-07 | Joanneum Research Forschungsgesellschaft Mbh | Sensormaterial mit temperaturabhängiger Färbung |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995024454A1 (de) * | 1994-03-11 | 1995-09-14 | Basf Aktiengesellschaft | Neue polymerisierbare flüssigkristalline verbindungen |
WO1997000600A2 (de) * | 1995-09-01 | 1997-01-09 | Basf Aktiengesellschaft | Polymerisierbare flüssigkristalline verbindungen |
WO1997034862A1 (en) * | 1996-03-19 | 1997-09-25 | Merck Patent Gmbh | Reactive liquid crystal compounds |
WO1998000475A1 (en) * | 1996-07-01 | 1998-01-08 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystal display device |
JPH10508882A (ja) * | 1994-11-23 | 1998-09-02 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 支持体を被覆及び印刷する方法 |
WO1998047979A1 (de) * | 1997-04-22 | 1998-10-29 | Basf Aktiengesellschaft | Verfahren zur herstellung polymerisierbarer flüssigkristalliner verbindungen |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2329636B (en) * | 1996-07-01 | 2000-07-19 | Merck Patent Gmbh | Chiral dopants |
KR20010005543A (ko) * | 1997-03-21 | 2001-01-15 | 슈틀러 | 안료 플레이크 |
DE19835730A1 (de) | 1997-08-18 | 1999-02-25 | Basf Ag | Flüssigkristalline Verbindungen |
DE19738369A1 (de) * | 1997-09-02 | 1999-03-25 | Basf Ag | Cholesterische Effektpigmente und Verfahren zu deren Herstellung |
DE19841343A1 (de) * | 1997-09-17 | 1999-03-18 | Merck Patent Gmbh | Polymerfilm |
-
1999
- 1999-02-10 DE DE19905394A patent/DE19905394A1/de not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-02-05 CA CA002359729A patent/CA2359729A1/en not_active Abandoned
- 2000-02-05 AU AU26702/00A patent/AU2670200A/en not_active Abandoned
- 2000-02-05 WO PCT/EP2000/000915 patent/WO2000047694A1/de active IP Right Grant
- 2000-02-05 EP EP00905026A patent/EP1155098B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-05 ES ES00905026T patent/ES2220401T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-05 KR KR1020017010099A patent/KR20010102025A/ko active IP Right Grant
- 2000-02-05 DE DE50006596T patent/DE50006596D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-05 US US09/890,282 patent/US6733689B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-02-05 AT AT00905026T patent/ATE267861T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-02-05 JP JP2000598595A patent/JP2002536529A/ja active Pending
- 2000-02-05 BR BR0008117-5A patent/BR0008117A/pt active Pending
-
2003
- 2003-12-24 US US10/744,015 patent/US6899824B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995024454A1 (de) * | 1994-03-11 | 1995-09-14 | Basf Aktiengesellschaft | Neue polymerisierbare flüssigkristalline verbindungen |
JPH10508882A (ja) * | 1994-11-23 | 1998-09-02 | ビーエーエスエフ アクチェンゲゼルシャフト | 支持体を被覆及び印刷する方法 |
WO1997000600A2 (de) * | 1995-09-01 | 1997-01-09 | Basf Aktiengesellschaft | Polymerisierbare flüssigkristalline verbindungen |
WO1997034862A1 (en) * | 1996-03-19 | 1997-09-25 | Merck Patent Gmbh | Reactive liquid crystal compounds |
WO1998000475A1 (en) * | 1996-07-01 | 1998-01-08 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystal display device |
WO1998047979A1 (de) * | 1997-04-22 | 1998-10-29 | Basf Aktiengesellschaft | Verfahren zur herstellung polymerisierbarer flüssigkristalliner verbindungen |
Cited By (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002069450A (ja) * | 2000-08-29 | 2002-03-08 | Dainippon Ink & Chem Inc | 重合性液晶組成物 |
TWI425080B (zh) * | 2004-12-17 | 2014-02-01 | Merck Patent Gmbh | 液晶系統及液晶顯示器 |
JP2007332195A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Sony Corp | 重合性液晶組成物、光学素子、光学素子の製造方法、および液晶表示装置 |
US7824571B2 (en) | 2006-06-13 | 2010-11-02 | Sony Corporation | Polymerizable liquid crystal composition, optical device, method of manufacturing optical device, and liquid crystal display |
JP4720634B2 (ja) * | 2006-06-13 | 2011-07-13 | ソニー株式会社 | 重合性液晶組成物、光学素子、光学素子の製造方法、および液晶表示装置 |
JP2010520828A (ja) * | 2007-03-13 | 2010-06-17 | テヒニッシェ ウニヴェルシテート アイントホーフェン | 複数の認証機能を備えたセキュリティデバイス |
US7831619B2 (en) | 2007-05-30 | 2010-11-09 | International Business Machines Corporation | Method of and system for maximizing the return rate of dynamic inquiries into a population |
WO2008155813A1 (ja) * | 2007-06-19 | 2008-12-24 | Itakura, Masako | 樹脂成型物 |
JP2011526321A (ja) * | 2008-06-27 | 2011-10-06 | トランジションズ オプティカル, インコーポレイテッド | メソゲン含有化合物を含む液晶組成物 |
JP2011526296A (ja) * | 2008-06-27 | 2011-10-06 | トランジションズ オプティカル, インコーポレイテッド | メソゲン含有化合物 |
JP2013514396A (ja) * | 2009-12-17 | 2013-04-25 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | 液晶混合物 |
KR20140058683A (ko) | 2011-09-08 | 2014-05-14 | 후지필름 가부시키가이샤 | 중합성 액정 화합물, 중합성 조성물, 고분자 재료, 및 필름 |
WO2013035733A1 (ja) | 2011-09-08 | 2013-03-14 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶化合物、重合性組成物、高分子材料、及びフィルム |
US9493705B2 (en) | 2011-09-08 | 2016-11-15 | Fujifilm Corporation | Polymerizable liquid crystal compound, polymerizable composition, polymer material, and film |
US9481830B2 (en) | 2011-09-12 | 2016-11-01 | Fujifilm Corporation | Cholesteric liquid crystal mixture, film, selective reflective plate, laminate, laminated glass |
JP2015510529A (ja) * | 2012-01-17 | 2015-04-09 | エルジー・ケム・リミテッド | 液晶組成物 |
WO2013146923A1 (ja) | 2012-03-28 | 2013-10-03 | 富士フイルム株式会社 | コレステリック液晶性混合物、フィルム、赤外反射板、積層体および合わせガラス |
US9534727B2 (en) | 2012-03-28 | 2017-01-03 | Fujifilm Corporation | Cholesteric liquid crystal mixture, film, IR reflection plate, laminate, and laminated glass |
WO2014050427A1 (ja) * | 2012-09-25 | 2014-04-03 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶化合物、液晶組成物、高分子材料とその製造方法およびフィルム |
JP2014198815A (ja) * | 2012-09-25 | 2014-10-23 | 富士フイルム株式会社 | 重合性液晶化合物、液晶組成物、高分子材料の製造方法とその製造方法およびフィルム |
JP2014231560A (ja) * | 2013-05-29 | 2014-12-11 | Dic株式会社 | 重合性組成物溶液、および、それを用いた光学異方体 |
KR20150043865A (ko) * | 2013-10-15 | 2015-04-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 |
KR102071633B1 (ko) | 2013-10-15 | 2020-01-31 | 삼성디스플레이 주식회사 | 액정 표시 장치 |
WO2015093093A1 (ja) * | 2013-12-18 | 2015-06-25 | 横浜ゴム株式会社 | 紫外線硬化型樹脂組成物および積層体 |
JP6026550B2 (ja) * | 2013-12-18 | 2016-11-16 | 横浜ゴム株式会社 | 積層体 |
JPWO2015093093A1 (ja) * | 2013-12-18 | 2017-03-16 | 横浜ゴム株式会社 | 積層体 |
WO2018207843A1 (ja) * | 2017-05-11 | 2018-11-15 | 日本化薬株式会社 | ブルーライトカットフィルム用紫外線硬化型樹脂組成物及びこれを用いたブルーライトカットフィルム |
CN110582709A (zh) * | 2017-05-11 | 2019-12-17 | 日本化药株式会社 | 滤蓝光膜用紫外线硬化型树脂组合物及使用此组合物的滤蓝光膜 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE19905394A1 (de) | 2000-08-17 |
US6733689B1 (en) | 2004-05-11 |
CA2359729A1 (en) | 2000-08-17 |
ATE267861T1 (de) | 2004-06-15 |
KR20010102025A (ko) | 2001-11-15 |
BR0008117A (pt) | 2001-11-13 |
EP1155098B1 (de) | 2004-05-26 |
AU2670200A (en) | 2000-08-29 |
WO2000047694A1 (de) | 2000-08-17 |
US20040140451A1 (en) | 2004-07-22 |
US6899824B2 (en) | 2005-05-31 |
EP1155098A1 (de) | 2001-11-21 |
ES2220401T3 (es) | 2004-12-16 |
DE50006596D1 (de) | 2004-07-01 |
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A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
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