JP2002500208A - ネオペンチルグリコールの調製プロセス - Google Patents
ネオペンチルグリコールの調製プロセスInfo
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
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- C07C29/132—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group
- C07C29/136—Preparation of compounds having hydroxy or O-metal groups bound to a carbon atom not belonging to a six-membered aromatic ring by reduction of an oxygen containing functional group of >C=O containing groups, e.g. —COOH
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Abstract
(57)【要約】
この発明は、昇温状態で、水素と水素添加触媒の存在のもとにヒドロキシピバルアルデヒド（ＨＰＡ）によりネオペンチル グリコールを調製するプロセスに関するものである。この発明によれば、ヒドロキシピバルアルデヒドは、ニッケルを含む触媒の存在のもとに１００℃以下の温度の液相で水素添加され、この液相は、溶媒が１〜７０重量％の量で、水が１５重量％以下の量である。脂肪族アルコール又はエーテル又はこれらの混合物が溶媒として使用される。
Description
【０００１】
この発明は、ネオペンチル グリコールの調製プロセスに関する。さらに詳
しくは、この発明は、ヒドロキシピバルアルデヒドを昇温した温度で水素添加触
媒で水素添加して調製するプロセスに関するものである。
しくは、この発明は、ヒドロキシピバルアルデヒドを昇温した温度で水素添加触
媒で水素添加して調製するプロセスに関するものである。
【０００２】 ネオペンチル グリコール及び他の相当するアルコール類は、例えば、アク
リル樹脂類、ポリエステル樹脂類、ポリウレタン樹脂類、アルキッド樹脂類及び
ポリラーボネート樹脂類のような種々の樹脂類の製造における重要な中間生成物
である。これらのアルコール類は、また、可塑剤、合成潤滑剤、界面活性剤など
の調製にも使用される。
リル樹脂類、ポリエステル樹脂類、ポリウレタン樹脂類、アルキッド樹脂類及び
ポリラーボネート樹脂類のような種々の樹脂類の製造における重要な中間生成物
である。これらのアルコール類は、また、可塑剤、合成潤滑剤、界面活性剤など
の調製にも使用される。
【０００３】
ネオペンチル グリコール及び他の相当するアルコール類は、従来は、二つ
のプロセスにより調製されている。一方のプロセスにおいては、フォルムアルデ
ヒド及びアルデヒドを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化カルシウム
のような強アルカリ性触媒と反応させて、ネオペンチル グリコールのようなア
ルコールを作るようにしている。しかしながら、このプロセスの不利な点は、大
量の蟻酸塩ナトリウムが副産物として形成される点である。したがって、このプ
ロセスは、このような蟻酸塩に経済的に効果的な使用が見いだせない限り、商業
的プロセスには向かないものである。
のプロセスにより調製されている。一方のプロセスにおいては、フォルムアルデ
ヒド及びアルデヒドを水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又は水酸化カルシウム
のような強アルカリ性触媒と反応させて、ネオペンチル グリコールのようなア
ルコールを作るようにしている。しかしながら、このプロセスの不利な点は、大
量の蟻酸塩ナトリウムが副産物として形成される点である。したがって、このプ
ロセスは、このような蟻酸塩に経済的に効果的な使用が見いだせない限り、商業
的プロセスには向かないものである。
【０００４】 他方のプロセスにおいては、フォルムアルデヒドとアルデヒドとのアルドー
ル化反応をアミン触媒の存在、特に、トリエチルアミンの存在のもとに行われる
ものである。ネオペンチル グリコールは、例えば、トリエチルアミンの存在の
もとにフォルムアルデヒドとイソブチルアルデヒドを反応させて得られ、主たる
製品としてヒドロキシピバルアルデヒドが形成される。これは、さらに水素添加
されて、これによって、最終製品としての所望のネオペンチル グリコールを得
る。前記アルドール化反応は、触媒として、アニオン交換樹脂を使用することに
よっても行われる。
ル化反応をアミン触媒の存在、特に、トリエチルアミンの存在のもとに行われる
ものである。ネオペンチル グリコールは、例えば、トリエチルアミンの存在の
もとにフォルムアルデヒドとイソブチルアルデヒドを反応させて得られ、主たる
製品としてヒドロキシピバルアルデヒドが形成される。これは、さらに水素添加
されて、これによって、最終製品としての所望のネオペンチル グリコールを得
る。前記アルドール化反応は、触媒として、アニオン交換樹脂を使用することに
よっても行われる。
【０００５】 多くのタイプの触媒が水素添加触媒として提案されている。米国特許４，２５
０，３３７は、触媒としてプロモータとしてバリウムを含む亜クロム酸銅を提案
している。米国特許４，８５５，５１５においては、酸化銅と亜クロム酸銅との
混合物を触媒として使用し、酸化マンガンをプロモータとしている。ＥＰ特許３
４３４７５においては、プラチナ、ルテニウム及びタングステンから作った混合
触媒を前記触媒として使用している。
０，３３７は、触媒としてプロモータとしてバリウムを含む亜クロム酸銅を提案
している。米国特許４，８５５，５１５においては、酸化銅と亜クロム酸銅との
混合物を触媒として使用し、酸化マンガンをプロモータとしている。ＥＰ特許３
４３４７５においては、プラチナ、ルテニウム及びタングステンから作った混合
触媒を前記触媒として使用している。
【０００６】 特にニッケル触媒は１００℃以下の比較的低い温度では満足に機能しないこ
とが分かっている。得られるヒドロキシピバルアルデヒド転化率及びＮＰＧ転化
率は、商業目的に適したレベルには達し得ないものである。ある種の貴金属触媒
によってのみしか好結果が得られない。したがって、かくしてＥＰ特許３４３４
７５によれば、プラチナ、ルテニウム及びタングステンを含む触媒が８０℃の温
度でも使用される。溶媒としては、水又は水とアルコールとの混合物が使用され
ている。
とが分かっている。得られるヒドロキシピバルアルデヒド転化率及びＮＰＧ転化
率は、商業目的に適したレベルには達し得ないものである。ある種の貴金属触媒
によってのみしか好結果が得られない。したがって、かくしてＥＰ特許３４３４
７５によれば、プラチナ、ルテニウム及びタングステンを含む触媒が８０℃の温
度でも使用される。溶媒としては、水又は水とアルコールとの混合物が使用され
ている。
【０００７】
ニッケル触媒を使用するとき、高温の水素添加温度によって、副産物、特に
ネオペンチル グリコール−モノイソブチレート及びヒドロキシピバリル ヒド
ロキシピバレートの量が激しく増えてしまう。これら有害な副産物は、所望のネ
オペンチル グリコール、特にネオペンチル グリコール モノイソブチレート
から分離することが困難である。さらに、副産物の量の増加により、製造プロセ
スの適合性が選択率の減少として低下する。さらにまた、低温の反応温度を使用
するとき、極めて大量の触媒が必要になり、この結果、処理ヴォリュウム（プロ
セスヴォリュウム）が増え、さらにまた、反応時間が著しく長くなり、これらの
要因により、前記プロセスは、産業規模的にそぐわないものになってしまう。
ネオペンチル グリコール−モノイソブチレート及びヒドロキシピバリル ヒド
ロキシピバレートの量が激しく増えてしまう。これら有害な副産物は、所望のネ
オペンチル グリコール、特にネオペンチル グリコール モノイソブチレート
から分離することが困難である。さらに、副産物の量の増加により、製造プロセ
スの適合性が選択率の減少として低下する。さらにまた、低温の反応温度を使用
するとき、極めて大量の触媒が必要になり、この結果、処理ヴォリュウム（プロ
セスヴォリュウム）が増え、さらにまた、反応時間が著しく長くなり、これらの
要因により、前記プロセスは、産業規模的にそぐわないものになってしまう。
【０００８】 ヒドロキシピバルアルデヒドの水素添加は、通常、溶媒相で行われ、使用さ
れる溶媒は、通例、水である。前記水素添加反応においては、水により選択率が
減ってしまう。さらに、水コンテントが高いことで、ニッケル触媒の粒子構造が
破壊されて、ニッケル触媒の寿命が著しく短命になる。
れる溶媒は、通例、水である。前記水素添加反応においては、水により選択率が
減ってしまう。さらに、水コンテントが高いことで、ニッケル触媒の粒子構造が
破壊されて、ニッケル触媒の寿命が著しく短命になる。
【０００９】 かくして、市場で入手できるニッケル触媒を用いての低温度におけるヒドロ
キシピバルアルデヒドの水素添加により、不純物が極めて少ないレベルのネオペ
ンチル グリコールを調製するための優れた選択率をもつ改良されたプロセスが
渇望されている。
キシピバルアルデヒドの水素添加により、不純物が極めて少ないレベルのネオペ
ンチル グリコールを調製するための優れた選択率をもつ改良されたプロセスが
渇望されている。
【００１０】
この発明は、ニッケル触媒を用いてヒドロキシピバルアルデヒド（ＨＰＡ）
を水素添加することにより、ネオペンチル グリコールを調製するプロセスに関
するもので、このプロセスにおいては、副産物の量が極めて少ない。この発明の
他の実施例は、ＨＰＡの転化率が高く、ＮＰＧの選択率が高くなるネオペンチル グリコール（ＮＰＧ）の製造プロセスである。
を水素添加することにより、ネオペンチル グリコールを調製するプロセスに関
するもので、このプロセスにおいては、副産物の量が極めて少ない。この発明の
他の実施例は、ＨＰＡの転化率が高く、ＮＰＧの選択率が高くなるネオペンチル グリコール（ＮＰＧ）の製造プロセスである。
【００１１】 この発明によれば、驚くことに、前記の目的が１００℃以下の低温度でヒド
ロキシピバルアルデヒドを水素添加し、溶媒としてアルコール又はエーテル又は
これらの混合物を使用し、前記水素添加溶媒に存在する水の量を１５重量％以下
に限定することにより達成できることが分かった。
ロキシピバルアルデヒドを水素添加し、溶媒としてアルコール又はエーテル又は
これらの混合物を使用し、前記水素添加溶媒に存在する水の量を１５重量％以下
に限定することにより達成できることが分かった。
【００１２】 この発明によるプロセスにおいては、フィードマテリアルとして使用のヒド
ロキシピバルアルデヒドを、適用可能な方法であればどのような方法であっても
調製できる。ヒドロキシピバルアルデヒド調製のコンベンショナルのプロセスは
、アルドール化反応を行うもので、この反応においては、アミン触媒、特にトリ
エチルアミンの存在のもとに所謂アルドール化反応でフォルムアルデヒドとアル
デヒドを反応させるようにしている。他の、より推奨できるプロセスであっても
、アルドール化触媒として作用する弱アニオン交換樹脂と反応する相当するアル
ドール化反応を行うようになっている。
ロキシピバルアルデヒドを、適用可能な方法であればどのような方法であっても
調製できる。ヒドロキシピバルアルデヒド調製のコンベンショナルのプロセスは
、アルドール化反応を行うもので、この反応においては、アミン触媒、特にトリ
エチルアミンの存在のもとに所謂アルドール化反応でフォルムアルデヒドとアル
デヒドを反応させるようにしている。他の、より推奨できるプロセスであっても
、アルドール化触媒として作用する弱アニオン交換樹脂と反応する相当するアル
ドール化反応を行うようになっている。
【００１３】
アルドール化工程において、フォルムアルデヒドとアルデヒドとは、モル比
率１０：１〜１：１０、好ましくは、５：１〜１：５でアニオン交換樹脂と接触
する。この反応は、１５〜１００℃の温度で行うことができる。アニオン交換樹
脂を使用するとき、温度の上限は、使用されるアニオン交換樹脂の熱抵抗によっ
て定まる。前記アルドール化反応は、バッチプロセス又はセミバッチプロセス又
は好ましくは連続プロセスで行うことができる。
率１０：１〜１：１０、好ましくは、５：１〜１：５でアニオン交換樹脂と接触
する。この反応は、１５〜１００℃の温度で行うことができる。アニオン交換樹
脂を使用するとき、温度の上限は、使用されるアニオン交換樹脂の熱抵抗によっ
て定まる。前記アルドール化反応は、バッチプロセス又はセミバッチプロセス又
は好ましくは連続プロセスで行うことができる。
【００１４】 触媒として、弱アニオン交換樹脂が使用されるもので、この交換樹脂におい
ては、官能基は、第１級アミン（−ＮＨ２ ），第２級アミン（−ＮＨＲ，ここ でＲは、アルキル又はアリル）又は第３級アミン（−ＮＲ２，ここでＲは、上記
のもの）又はこれらの混合物である。使用される樹脂マトリックスは、例えば、
アミン又はアンモニアをもつエピクロロヒドリン、フェノール樹脂、アクリル樹
脂、又は、クロロメチル化されたスチレン−ジビニルベンゼン共重合体のような
スチレン共重合体の濃縮物である。
ては、官能基は、第１級アミン（−ＮＨ２ ），第２級アミン（−ＮＨＲ，ここ でＲは、アルキル又はアリル）又は第３級アミン（−ＮＲ２，ここでＲは、上記
のもの）又はこれらの混合物である。使用される樹脂マトリックスは、例えば、
アミン又はアンモニアをもつエピクロロヒドリン、フェノール樹脂、アクリル樹
脂、又は、クロロメチル化されたスチレン−ジビニルベンゼン共重合体のような
スチレン共重合体の濃縮物である。
【００１５】 前記アルドール化反応は、溶媒を用いて行うこともできる。適当な溶媒には
、取り分け水及びメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノー
ル、ｎ−ブタノール及びイソブタノール又は、これらの混合物であり、これらの
反応溶液における量は、０〜５０重量％、好ましくは、０〜３０重量％の範囲内
で種々変わるものである。
、取り分け水及びメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノー
ル、ｎ−ブタノール及びイソブタノール又は、これらの混合物であり、これらの
反応溶液における量は、０〜５０重量％、好ましくは、０〜３０重量％の範囲内
で種々変わるものである。
【００１６】 前記アルドール化工程の後、必要に応じて、アルドール化触媒の分離後、反
応混合物をさらになんら分離することなしに直接水素添加処理する。この発明に
よれば、ニッケルを含む触媒を水素添加触媒として使用する。該触媒におけるニ
ッケルの量は、６０〜９０重量％である。この触媒は、又、クロミウムを含み、
クロミウムの量は、１〜４０重量％である。この触媒は、又、シリカのような無
機酸化物でよい適当な担体と組み合わされる。前記触媒は、市場で手軽に入手で
きるもので、特別な触媒を必要としない。
応混合物をさらになんら分離することなしに直接水素添加処理する。この発明に
よれば、ニッケルを含む触媒を水素添加触媒として使用する。該触媒におけるニ
ッケルの量は、６０〜９０重量％である。この触媒は、又、クロミウムを含み、
クロミウムの量は、１〜４０重量％である。この触媒は、又、シリカのような無
機酸化物でよい適当な担体と組み合わされる。前記触媒は、市場で手軽に入手で
きるもので、特別な触媒を必要としない。
【００１７】 この発明によれば、前記水素添加は、溶媒の存在のもとで低温度で行われる
ものである。溶媒としてアルコール類又はエーテル類又はこれらの混合物が使用
される。適当なアルコール類には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール、ヘキサノール、オクタノール、ネオペンチル グリコール及
びブチルエーテル又はジオキサンが含まれる。該溶媒の量は、１〜７０重量％、
好ましくは、１０〜５０重量％の範囲内で変わる。前記溶媒の目的は、ＨＰＡが
低温度では溶解性が乏しくなるから、液相におけるヒドロキシピバルアルデヒド
の溶解性を高め、反応溶液に析出される。このことは、前記アルドール化工程の
間の転化が良好で、したがって、前記反応混合物における前記ＨＰＡ濃度が高い
ときに特に生じる。
ものである。溶媒としてアルコール類又はエーテル類又はこれらの混合物が使用
される。適当なアルコール類には、例えば、メタノール、エタノール、プロパノ
ール、ブタノール、ヘキサノール、オクタノール、ネオペンチル グリコール及
びブチルエーテル又はジオキサンが含まれる。該溶媒の量は、１〜７０重量％、
好ましくは、１０〜５０重量％の範囲内で変わる。前記溶媒の目的は、ＨＰＡが
低温度では溶解性が乏しくなるから、液相におけるヒドロキシピバルアルデヒド
の溶解性を高め、反応溶液に析出される。このことは、前記アルドール化工程の
間の転化が良好で、したがって、前記反応混合物における前記ＨＰＡ濃度が高い
ときに特に生じる。
【００１８】 この発明によれば、前記水素添加は、１００℃以下、好ましくは６０〜９０
℃の温度で行われる。水素添加圧力は、１〜２００バール、好ましくは、１０〜
８０バールの範囲内で種々変わる。前記水素添加反応の選択率は、低温の操作温
度を使用することにより、少なくとも９８％である。実際にエステル不純物が付
加的に生成されず、逆アルドール化反応が回避されて、前記プロセスの収率が高
まる。前記アルドール化反応をアルドール化触媒として弱アニオン交換樹脂を使
用する場合においては、エイドフリーのフィードが得られ、前記水素添加工程に
おける操作条件は、マイルドのものが適しているもので、これは、エステル不純
物とアセタール類が生成されず、高温度におけるエステル不純物の水素化分解が
不要であるからである。前記水素添加は、バッチプロセス又はセミバッチプロセ
ス又は好ましくは連続プロセスとして行うことができる。
℃の温度で行われる。水素添加圧力は、１〜２００バール、好ましくは、１０〜
８０バールの範囲内で種々変わる。前記水素添加反応の選択率は、低温の操作温
度を使用することにより、少なくとも９８％である。実際にエステル不純物が付
加的に生成されず、逆アルドール化反応が回避されて、前記プロセスの収率が高
まる。前記アルドール化反応をアルドール化触媒として弱アニオン交換樹脂を使
用する場合においては、エイドフリーのフィードが得られ、前記水素添加工程に
おける操作条件は、マイルドのものが適しているもので、これは、エステル不純
物とアセタール類が生成されず、高温度におけるエステル不純物の水素化分解が
不要であるからである。前記水素添加は、バッチプロセス又はセミバッチプロセ
ス又は好ましくは連続プロセスとして行うことができる。
【００１９】 前記水素添加において重要なことは、前記フィード溶液には、できる限り水
が含まれていないことである。かくして、水素添加されるべき溶液における水の
量は、最高で１５重量％、好ましくは、これ以下であるか、又は、水素添加され
るべき反応混合物には、水が全く含まれていない。余剰の水により、副産物の量
が増え、ネオペンチル グリコールの生成の選択率及び転化率が低下する。
が含まれていないことである。かくして、水素添加されるべき溶液における水の
量は、最高で１５重量％、好ましくは、これ以下であるか、又は、水素添加され
るべき反応混合物には、水が全く含まれていない。余剰の水により、副産物の量
が増え、ネオペンチル グリコールの生成の選択率及び転化率が低下する。
【００２０】 前記水素添加反応の後、所望のアルコール、即ち、ネオペンチル グリコー
ルが適宜の方法、例えば蒸留により分離され、前記溶媒類は、前記水素添加工程
及び／又はアルドール化工程へリサイクルされる。
ルが適宜の方法、例えば蒸留により分離され、前記溶媒類は、前記水素添加工程
及び／又はアルドール化工程へリサイクルされる。
【００２１】 ニッケルを含む触媒の存在のもとに低温度でヒドロキシピバルアルデヒドを
水素添加することは、選択率の改善と良好な転化率の点で、大規模な工業規模に
好適である。ニッケルを含む触媒は、驚くほどに少量で済み、この結果、反応ヴ
ォリュウムがより少ないものとなり、前記プロセスは、より一層経済的なものに
なる。
水素添加することは、選択率の改善と良好な転化率の点で、大規模な工業規模に
好適である。ニッケルを含む触媒は、驚くほどに少量で済み、この結果、反応ヴ
ォリュウムがより少ないものとなり、前記プロセスは、より一層経済的なものに
なる。
【００２２】 以下に、この発明を添付の実施例を参照しながら詳細に記載するが、これら
実施例は、この発明を限定するものではない。
実施例は、この発明を限定するものではない。
【００２３】 ［実施例 １］ ヒドロキシピバルアルデヒド（ＨＰＡ）をＮｉ／Ｃｒ触媒の存在のもとに容
積３００ｍｌのパー反応器内で水素添加した。触媒のニッケルのコンテントは、
約６９重量％であり、クロミウムのコンテントは、約１３重量％であった。シリ
カを前記触媒の担体として使用した。フィード溶液は、弱アニオン交換樹脂によ
り触媒作用を受けたアルドール化反応により得られた１６０ｇの量の精製されて
いないヒドロキシピバルアルデヒドを含むものであった。 温度７０℃、圧力７
０バールで、溶媒としてメタノールを使用して水素添加を行った。水素添加時間
は、２４０分であった。
積３００ｍｌのパー反応器内で水素添加した。触媒のニッケルのコンテントは、
約６９重量％であり、クロミウムのコンテントは、約１３重量％であった。シリ
カを前記触媒の担体として使用した。フィード溶液は、弱アニオン交換樹脂によ
り触媒作用を受けたアルドール化反応により得られた１６０ｇの量の精製されて
いないヒドロキシピバルアルデヒドを含むものであった。 温度７０℃、圧力７
０バールで、溶媒としてメタノールを使用して水素添加を行った。水素添加時間
は、２４０分であった。
【００２４】 前記フィード溶液と作られた反応混合物の特性を以下の表１に示す。
【００２５】
【表１】 ＨＰＡ＝ヒドロキシピバルアルデヒド， ＮＰＧ＝ネオペンチル グリコール
， ＨＰＨＰ＝ヒドロキシピバリル ヒドロキシピバルアルデヒド， ＮＰＧ−ｍｉｎｂｕｔ＝ＮＰＧ−モノイソブチレート， ＩＢＡＬ＝イソブチラルアルデヒド， ＭｅＯＨ＝メタノール， ＩＢＵＯＨ＝イソブタノール， ＨＣＯＯＨ＝蟻酸、 その他＝フォルムアルデヒド及び特定されない組成物
， ＨＰＨＰ＝ヒドロキシピバリル ヒドロキシピバルアルデヒド， ＮＰＧ−ｍｉｎｂｕｔ＝ＮＰＧ−モノイソブチレート， ＩＢＡＬ＝イソブチラルアルデヒド， ＭｅＯＨ＝メタノール， ＩＢＵＯＨ＝イソブタノール， ＨＣＯＯＨ＝蟻酸、 その他＝フォルムアルデヒド及び特定されない組成物
【００２６】 ＮＰＧ選択率は、プロダクト分析から計算して９８．５％であった。ＨＰＡ
転化率は、プロダクト分析から計算して９１％であった。
転化率は、プロダクト分析から計算して９１％であった。
【００２７】 前記実施例は、ニッケル触媒を触媒として使用し、溶媒としてアルコールを
使用するとき、及び、水の量が前記フィード溶液の１５重量％以下であるとき、
７０℃の温度ですら良好な収率で水素添加を行うことができることを示している
ものである。
使用するとき、及び、水の量が前記フィード溶液の１５重量％以下であるとき、
７０℃の温度ですら良好な収率で水素添加を行うことができることを示している
ものである。
【００２８】 ［実施例 ２］ ＨＰＡの水素添加を連続トリクルベッド（細流流動床）リアクターに行った
もので、実験アレンジメントを以下に記載する： リアクター： 直径１６ｍｍ，長さ４００ｍｍのチューブリアクター 触 媒： シリカを担体とするＮｉ／Ｃｒ、ニッケルのトータル のコンテントは、６９重量％（Ｎｉ，ＮｉＯ）、 Ｃｒのトータルのコンテントは、１３重量％、該触媒を クラッシュして平均粒径１ｍｍとした フィード： 精製操作なしのアルドール化反応からのクルードＨＰＡ アルドール化反応は、弱アニオン交換樹脂で触媒作用を 受けた 溶 媒： メタノール 触媒の量： ６ｇのシリコン カーバイドを不活性希釈マテリアルと して、実際の触媒床の上下に使用した 液体フィードレート： １２ｇ／ｈ 温度： 床の平均温度７０℃、温度は、前記触媒床にそった３つ の異なる点で測定 圧力： ７０バール（絶対） 空間速度： ＷＨＳＶ＝２ 操作モード： 前記フィードを前記リアクター内を連続圧送し、冷却し たプロダクトドラムに集め、余剰の水素を用い、前記プ ロダクトドラムからの気体の出口からの流れにおいてガ スフローメーターで測定した。前記リアクター温度は、 前記リアクターのシェル周りの電気ヒータを用いてコン トロールした
もので、実験アレンジメントを以下に記載する： リアクター： 直径１６ｍｍ，長さ４００ｍｍのチューブリアクター 触 媒： シリカを担体とするＮｉ／Ｃｒ、ニッケルのトータル のコンテントは、６９重量％（Ｎｉ，ＮｉＯ）、 Ｃｒのトータルのコンテントは、１３重量％、該触媒を クラッシュして平均粒径１ｍｍとした フィード： 精製操作なしのアルドール化反応からのクルードＨＰＡ アルドール化反応は、弱アニオン交換樹脂で触媒作用を 受けた 溶 媒： メタノール 触媒の量： ６ｇのシリコン カーバイドを不活性希釈マテリアルと して、実際の触媒床の上下に使用した 液体フィードレート： １２ｇ／ｈ 温度： 床の平均温度７０℃、温度は、前記触媒床にそった３つ の異なる点で測定 圧力： ７０バール（絶対） 空間速度： ＷＨＳＶ＝２ 操作モード： 前記フィードを前記リアクター内を連続圧送し、冷却し たプロダクトドラムに集め、余剰の水素を用い、前記プ ロダクトドラムからの気体の出口からの流れにおいてガ スフローメーターで測定した。前記リアクター温度は、 前記リアクターのシェル周りの電気ヒータを用いてコン トロールした
【００２９】 定常状態における前記フィードストリーム組成物及びプロダクトストリーム
組成物の特性を以下の表２に示す。
組成物の特性を以下の表２に示す。
【００３０】
【表２】
【００３１】 ＮＰＧ選択率は、前記プロダクト分析から計算して９９．７％であった。 ＨＰＡの転化率は、９３．２％であって、れは、前記フィードレートを遅く
し、したがって、前記スペース速度ＷＨＳＶを遅くすることにより増加できる。
し、したがって、前記スペース速度ＷＨＳＶを遅くすることにより増加できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ) ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ， ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，Ｄ Ｋ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ， ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，Ｌ Ｔ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ， ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，Ｕ Ａ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＷ
Claims (10)
- 【請求項１】昇温状態で、水素と水素添加触媒の存在のもとにヒドロキシピ
バルアルデヒド（ＨＰＡ）によりネオペンチル グリコールを調製するプロセス
であり、このプロセスは、ヒドロキシピバルアルデヒドの水素添加をニッケルを
含む触媒の存在のもとに１００℃以下の温度で液相が行われ、この液相は、溶媒
が１〜７０重量％の量で、水が１５重量％以下の量であることを特徴とするもの
である。 - 【請求項２】前記溶媒は、脂肪族アルコール又はエーテル又はこれらの混合
物であることを特徴とする請求項１によるプロセス。 - 【請求項３】前記溶媒は、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イ
ソプロパナール、ｎ−ブタノール又はイソブタノール又はこれらの混合物である
ことを特徴とする請求項１によるプロセス。 - 【請求項４】前記溶媒は、水素添加が行われる反応混合物の１０〜５０重量
％の量で使用されることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかによるプ
ロセス。 - 【請求項５】使用される前記水素添加触媒は、ニッケルとクロミウムとを含
む触媒であることを特徴とする前記請求項のいずれかによるプロセス。 - 【請求項６】前記水素添加触媒は、クロミウムを１〜４０重量％含むことを
特徴とする請求項５によるプロセス。 - 【請求項７】無機酸化物、好ましくは、シリカが前記触媒の担体として使用
されることを特徴とする請求項５又は請求項６によるプロセス。 - 【請求項８】ヒドロキシピバルアルデヒドは、フォルムアルデヒド及びイソ
ブチルアルデヒドのアルドール化により得られることを特徴とする前記請求項の
いずれかによるプロセス。 - 【請求項９】アルドール化触媒反応は、触媒として作用する弱塩基アニオン
交換樹脂で行われることを特徴とする請求項８によるプロセス。 - 【請求項１０】前記アルドール化触媒は、弱塩基アニオン交換樹脂であり、
この交換樹脂における官能基は、第１級アミン（−ＮＨ２），第２級アミン（−
ＮＨＲ，ここでＲは、アルキル又はアリル）又は第３級アミン（−ＮＲ２，ここ
でＲは、上記のもの）又はこれらの混合物であることを特徴とする請求項８又は
請求項９によるプロセス。
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|---|---|---|---|
| FI974638A FI108029B (fi) | 1997-12-30 | 1997-12-30 | Menetelmä neopentyyliglykolin valmistamiseksi |
| FI974638 | 1997-12-30 | ||
| PCT/FI1998/001031 WO1999035112A1 (en) | 1997-12-30 | 1998-12-30 | Process for the preparation of neopentyl glycol |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002500208A true JP2002500208A (ja) | 2002-01-08 |
Family
ID=8550230
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000527516A Pending JP2002500208A (ja) | 1997-12-30 | 1998-12-30 | ネオペンチルグリコールの調製プロセス |
Country Status (11)
| Country | Link |
|---|---|
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| EP (1) | EP1051378B1 (ja) |
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| KR (1) | KR100584707B1 (ja) |
| CN (1) | CN1134389C (ja) |
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| AU (1) | AU1879499A (ja) |
| DE (1) | DE69813901T2 (ja) |
| ES (1) | ES2198783T3 (ja) |
| FI (1) | FI108029B (ja) |
| WO (1) | WO1999035112A1 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011526261A (ja) * | 2008-07-02 | 2011-10-06 | オクセア・ゲゼルシャフト・ミト・べシュレンクテル・ハフツング | ネオペンチルグリコールの製造方法 |
| JP2011213598A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Kuraray Co Ltd | イソアミルアルコールの製造方法 |
| JP2016535089A (ja) * | 2014-09-25 | 2016-11-10 | エルジー・ケム・リミテッド | 高効率のネオペンチルグリコールの製造方法及びその製造装置 |
| JP2017510543A (ja) * | 2014-01-28 | 2017-04-13 | オクセア・ゲゼルシャフト・ミト・べシュレンクテル・ハフツング | ネオペンチルグリコールの製造方法 |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8457314B2 (en) * | 2004-09-23 | 2013-06-04 | Smartvue Corporation | Wireless video surveillance system and method for self-configuring network |
| CN101993351A (zh) * | 2010-11-03 | 2011-03-30 | 江苏扬农化工股份有限公司 | 一种新戊二醇的生产工艺 |
| WO2014087184A1 (en) * | 2012-12-03 | 2014-06-12 | Metabolic Explorer | Neopentyl glycol fermentative production by a recombinant microorganism |
| US8710278B1 (en) | 2013-01-31 | 2014-04-29 | Eastman Chemical Company | Process for producing polyols |
| US9056824B2 (en) | 2013-01-31 | 2015-06-16 | Eastman Chemical Company | Preparation of hydroxy aldehydes |
| CN103962141A (zh) * | 2014-05-18 | 2014-08-06 | 华东理工大学 | 一种由羟基新戊醛加氢合成新戊二醇的催化剂 |
| WO2016047957A1 (ko) * | 2014-09-25 | 2016-03-31 | (주) 엘지화학 | 고효율의 네오펜틸 글리콜의 제조방법 및 이의 제조장치 |
| CN109232177B (zh) * | 2018-10-24 | 2021-05-07 | 江苏开磷瑞阳化工股份有限公司 | 一种催化加氢制备新戊二醇的方法 |
| KR102690122B1 (ko) * | 2019-09-27 | 2024-07-30 | 주식회사 엘지화학 | 네오펜틸글리콜의 제조방법 |
| KR102680195B1 (ko) * | 2020-10-16 | 2024-06-28 | 주식회사 엘지화학 | 네오펜틸 글리콜의 제조방법 |
| CN113200816A (zh) * | 2021-05-15 | 2021-08-03 | 公主岭市恒昌科技有限公司 | 一种羟基特戊醛加氢工艺 |
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| DE2653096C2 (de) * | 1976-11-23 | 1985-04-11 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Verfahren zur Herstellung von 2,2-disubstituierten Propan-1,3-diolen |
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| US5395989A (en) * | 1990-11-06 | 1995-03-07 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for producing neopentyl glycol |
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Cited By (4)
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|---|---|---|---|---|
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| JP2011213598A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Kuraray Co Ltd | イソアミルアルコールの製造方法 |
| JP2017510543A (ja) * | 2014-01-28 | 2017-04-13 | オクセア・ゲゼルシャフト・ミト・べシュレンクテル・ハフツング | ネオペンチルグリコールの製造方法 |
| JP2016535089A (ja) * | 2014-09-25 | 2016-11-10 | エルジー・ケム・リミテッド | 高効率のネオペンチルグリコールの製造方法及びその製造装置 |
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