JP2002373751A - 微細穴への微粒子の配置方法、導電性微粒子配置薄層素子、及び、導電積層構造体。 - Google Patents

微細穴への微粒子の配置方法、導電性微粒子配置薄層素子、及び、導電積層構造体。

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JP2002373751A JP2001180311A JP2001180311A JP2002373751A JP 2002373751 A JP2002373751 A JP 2002373751A JP 2001180311 A JP2001180311 A JP 2001180311A JP 2001180311 A JP2001180311 A JP 2001180311A JP 2002373751 A JP2002373751 A JP 2002373751A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 効率よく、容易に、過不足なく安定的に微粒
子をフィルムの微細穴に配置することができる微細穴へ
の微粒子の配置方法、その方法を用いてなる3次元実装
等に用いる導電薄層素子、及び、導電積層構造体を提供
する。 【解決手段】 微粒子をフィルムに形成された微細穴に
配置する方法であって、少なくともフィルムの微細穴の
数より多数の微粒子を並べた面に、微細穴が形成された
フィルムを押し付けることにより、フィルムの微細穴に
微粒子を配置する微細穴への微粒子の配置方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、効率よく、容易
に、過不足なく安定的にフィルムの微細穴に微粒子を配
置することができる微細穴への微粒子の配置方法、その
方法を用いてなる3次元実装等に用いる導電性微粒子配
置薄層素子、及び、導電積層構造体に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶ディスプレー、パーソナルコンピュ
ータ、携帯通信機器等のエレクトロニクス製品におい
て、半導体素子等の小型部品を基板に電気的に接続した
り、基板同士を電気的に接続する方法のうち、微細な電
極を対向させて接続する方法としては、金属バンプ等を
用いハンダや導電ペーストで接続したり、金属バンプ等
を直接圧着したりする方法が用いられている。
【0003】近年、このような半導体素子等の更なる高
密度化の要望から、ICやLSIは薄層化され積層され
るようになってきた。このような薄層素子を積層する技
術は幾つか考えられているが、より高密度に積層するた
めにはICやLSIに微細な貫通穴を開け、その穴を電
極として用いICやLSIの電極を対向させて電気的に
接続する方法が優れている。しかしながら、このような
穴電極にはバンプを形成することが困難であるという問
題がある。そこで、穴電極の微細穴に導電性微粒子を配
置し、この導電性微粒子を介して導電接続をする方法が
考えられる。
【0004】従来、フィルムの微細穴に微粒子を配置す
る方法としては、個々の微粒子を機械的に置いていく方
法、微粒子を跳ね飛ばしながらフィルムの微細穴から吸
引する方法、フィルムの微細穴の位置に接着剤等を塗布
しその上に微粒子を散布して付着させる方法等が用いら
れてきた。
【0005】しかし、これらの方法は、微粒子や微細穴
の大きさが一定以下になると、配置する効率が悪かった
り、工程が煩雑であったり、微粒子が必要量以上に多量
に配置されたり、逆に必要な部分に微粒子が配置されて
いない等の不具合があった。特に、微粒子が粒径50μ
m以下になると、微小であるが故の取り扱い難さに加
え、静電気等の影響を受けるようになり配置はよりいっ
そう困難となり、粒径30μm以下の微粒子を効率的に
配置する方法は実質的に存在していなかった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記現状に
鑑み、効率よく、容易に、過不足なく安定的に微粒子を
フィルムの微細穴に配置することができる微細穴への微
粒子の配置方法、その方法を用いてなる3次元実装等に
用いる導電性微粒子配置薄層素子、及び、導電積層構造
体を提供することを目的とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、微粒子をフィ
ルムに形成された微細穴に配置する方法であって、少な
くともフィルムの微細穴の数より多数の微粒子を並べた
面に、微細穴が形成されたフィルムを押し付けることに
より、又は、微粒子を含んだ液体を微細穴に吸い込ませ
ることにより、フィルムの微細穴に微粒子を配置する微
細穴への微粒子の配置方法である。以下に本発明を詳述
する。
【0008】本発明は、微粒子をフィルムに形成された
微細穴に配置する方法である。本発明において、微粒子
をフィルムの微細穴に配置するには、少なくともフィル
ムの微細穴の数より多数の微粒子を並べた面に、微細穴
が形成されたフィルムを押し付ける方法(以下、乾式法
ともいう)と、微粒子を含んだ液体を微細穴に吸い込ま
せる方法(以下、湿式法ともいう)とがある。上記微粒
子としては特に限定されず、例えば、高分子量体;シリ
カ、アルミナ、金属、カーボン等の無機物や低分子量化
合物等からなるものが挙げられるが、適度な弾性や柔軟
性、回復性を有し球状のものが得やすいという点から高
分子量体をコアとする微粒子が好適に用いられる。上記
高分子量体としては、例えば、フェノール樹脂、アミノ
樹脂、アクリル樹脂、エチレン−酢酸ビニル樹脂、スチ
レン−ブタジエンブロック共重合体、ポリエステル樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、ポリイミ
ド樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱可塑性樹
脂;硬化性樹脂、架橋樹脂、有機無機ハイブリッド重合
体等が挙げられる。これらのうち、耐熱性の点から架橋
樹脂が好ましい。また、必要に応じて充填物を含んでい
てもよい。
【0009】上記微粒子の平均粒径は2〜100μmで
あることが好ましい。2μm未満であると、微粒子が静
電引力等で付着、凝集等を起こすため実質的に微粒子を
微細穴に配置できないことがあり、100μmを超える
と、吸引法等の他の方法でも配置することができる。な
お、上記平均粒径とは、任意の微粒子100個の粒径を
顕微鏡下で測定して得た値を平均して得た値である。
【0010】上記微粒子は、粒子の平均長径を平均短径
で割った値であるアスペクト比が1.1未満であること
が好ましい。1.1以上であると、微粒子の形状が不揃
いとなるため、微粒子がフィルムの微細穴からずれた
り、多数の微粒子が同一の微細穴に詰まったりすること
がある。微粒子は製造法にもよるが、通常アスペクト比
が大きいものが多いため、本発明で用いる微粒子は変形
可能な状態で表面脹力を利用する方法等で球形化処理を
して球状にしておくことが好ましい。
【0011】上記微粒子は、CV値が5%以下であるこ
とが好ましい。5%を超えると、粒径が不揃いとなるた
め、フィルムの微細穴に入らない微粒子があったり、多
数の微粒子が同一の微細穴に詰まったりすることがあ
る。なお、 上記CV値は、下記式により求められる。
CV値(%)=(σ/Dn)×100式中、σは粒径の
標準偏差を表し、Dnは数平均粒径を表す。通常の微粒
子はCV値が大きいため、本発明で用いるような微粒子
は分級等により粒径を揃える必要がある。特に平均粒径
が50μm以下の微粒子は精度良く分級するのが困難で
あるため、湿式分級と篩等を組み合わせることが好まし
い。
【0012】上記フィルムとしては特に限定されず、例
えば、高分子量体及びその複合物;セラミック、金属、
カーボン等の無機物や低分子量化合物等からなるものが
挙げられる。上記高分子量体としては特に限定されず、
例えば、フェノール樹脂、アミノ樹脂、アクリル樹脂、
エチレン−酢酸ビニル樹脂、スチレン−ブタジエンブロ
ック共重合体、ポリエステル樹脂、尿素樹脂、メラミン
樹脂、アルキド樹脂、マレイミド樹脂、ポリエーテル樹
脂、シリコン樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、エ
ポキシ樹脂等の熱可塑性樹脂;硬化性樹脂、架橋樹脂、
有機無機ハイブリッド重合体等が挙げられる。これら
は、必要に応じてガラス繊維やアルミナ粒子等の無機充
填物を含んでいてもよい。
【0013】上記フィルムの厚さとしては特に限定され
ないが、20〜100μmが好ましい。20μm未満で
あると、一般に強度不足になりがちであり、100μm
を超えると、導電積層構造体として高密度に積層させに
くくなる。
【0014】上記微細穴の平均穴径は、乾式法により微
粒子を微細穴に配置する場合には、微粒子の平均粒径の
1/2〜3/2倍であることが好ましい。1/2倍未満
であると、微細穴に微粒子の一部がうまく入り込まず配
置することができないことがあり、3/2倍を超える
と、微粒子が過剰に微細穴に入り込むことがある。より
好ましくは2/3〜1.05倍であり、更に好ましくは
3/4〜0.95倍である。湿式法により微粒子を微細
穴に配置する場合には、上記微細穴の平均穴径は、微粒
子の平均粒径の1/2〜1倍であることが好ましい。1
/2倍未満であると、微細穴に微粒子の一部がうまく入
り込まず配置することができないことがあり、1倍を超
えると、微粒子が穴を通り抜けてしまうことがある。よ
り好ましくは3/4〜0.95倍である。
【0015】上記微細穴は、微粒子をより安定的に配置
するためにフィルムの厚さ方向の内側にテーパー状又は
階段状になっていることが好ましい。また、本発明の微
細穴に微粒子を配置する方法においては、補助的に微細
穴の反対側から吸引を行い、微粒子をより配置しやすい
状態にしてもかまわない。
【0016】乾式法により微粒子を微細穴に配置する場
合には、微細穴の近傍に充分量の微粒子が存在するよう
に、微粒子の数は微細穴の数の十倍以上であることが好
ましい。微粒子の数が、微粒子を並べた面が多層に重な
った微粒子で覆い尽くされているほどの数であることが
より好ましい。上記フィルムを押し付ける力は、微粒子
やフィルムが傷まないよう10N/cm2以下であること
が好ましい。また、より微粒子が微細穴に入り込みやす
くするために、フィルムを押し付けながら面に対して水
平方向にフィルムを移動させることが好ましい。移動方
向は一方向でも、往復方向でも、回転方向でもかまわな
い。更に、より微粒子が配置し易いように、微細穴周辺
に粘接着成分を付着させておいてもよいし、フィルム裏
面に粘接着テープを貼りつけても良い。
【0017】湿式法により微粒子を微細穴に配置する場
合には、液体の穴への吸入作用により微粒子を配置する
が、あまり多量の液体を用いるとうまく穴に液体が吸入
されないことから、上記液体の量は1μL以下であるこ
とが好ましい。また、液中の微粒子の濃度が高過ぎると
余剰微粒子が付着するため、上記液体中の微粒子の濃度
は微細穴に吸収される液量中に1個程度であることが好
ましい。上記液体にはより微粒子を配置しやすくする目
的で、微量の粘接着成分を加えてもかまわない。
【0018】本発明の微細穴への微粒子の配置方法を用
いることにより、穴電極が形成された薄層素子の穴電極
の位置に導電性微粒子を効率よく、容易に、過不足なく
安定的に配置することができる。本発明の微細穴への微
粒子の配置方法を用いて、穴電極が形成された薄層素子
の穴電極の位置に、導電性微粒子が配置された導電性微
粒子配置薄層素子もまた、本発明の1つである。
【0019】上記導電性微粒子としては、ハンダのよう
に融点が350℃以下の低融点金属や金のように延転性
の高い金属、又は、高分子量体からなるコアに導電層と
して金属からなる被覆層を設けたもの等が好適に用いら
れる。上記高分子量体としては、上記微粒子が高分子量
体からなるものである場合に例示したものと同様のもの
が挙げられる。上記金属としては特に限定されないが、
電極との接触抵抗や導電性及び酸化劣化を起こさないと
いう点から、金が好適に用いられる。上記高分子量体か
らなるコアに導電層として金属からなる被覆層を付けた
導電性微粒子の場合、金属被覆層の厚さは、金属被覆層
が充分な強度を保てるように0.4μm以上であること
が好ましく、コアである高分子量体の特性が失われない
よう微粒子の直径の1/5以下であることが好ましい。
【0020】上記導電性微粒子の平均粒径は5〜50μ
mであることが好ましい。5μm未満であると、素子の
電極の平滑性の精度の問題から導電性微粒子が電極と接
触せず導通不良を発生することがあり、50μmを超え
ると、導電性微粒子配置薄層素子を積層した際に素子が
大きく変形し故障の原因となったり、微細ピッチの電極
に対応できなくなったりすることがある。より好ましく
は、10〜30μmである。
【0021】上記導電性微粒子は、アスペクト比が1.
1未満であることが好ましい。1.1以上であると、本
発明の導電性微粒子配置薄層素子を導電性微粒子を介し
て導電接続する場合に、接続不良の原因ともなる。より
好ましくは、1.05未満である。
【0022】上記導電性微粒子は、CV値が5%以下で
あることが好ましい。5%を超えると、本発明の導電性
微粒子配置薄層素子を導電性微粒子を介して導電接続す
る場合に、接続不良の原因ともなる。より好ましくは2
%以下であり、更に好ましくは1%以下である。
【0023】上記導電性微粒子の導電抵抗は、平均粒径
の10%圧縮した場合、単粒子の導電抵抗、即ち、抵抗
値が0.5Ω以下であることが好ましい。0.5Ωを超
えると、導電性微粒子を介して導電接続をした場合に、
充分な電流値を確保できなかったり、大きな電圧に耐え
られず素子が正常に作動しなくなることがある。より好
ましくは0.05Ω以下である。0.05Ω以下である
と、電流駆動型の素子でも高い信頼性を保ったまま対応
が可能になる等の効果が得られる。
【0024】上記導電性微粒子は、機械的特性が要求さ
れることから、K値が500〜1万N/mm2であるこ
とが好ましい。500N/mm2未満であると、導電性
微粒子が小さな負荷でも破壊されやすく、1万N/mm
2を超えると、対向電極で挟み込んだ際に電極に局部的
に過度の圧力がかかり素子が破壊されることがある。よ
り好ましくは2000〜6000N/mm2である。な
お、K値とは下記式により求められる値である。 K値(N/mm2)=(3/√2)・F・S-3/2・R
-1/2 式中、Fは20℃、10%圧縮変形における荷重値
(N)を表し、Sは圧縮変位(mm)を表し、Rは半径
(mm)を表す。
【0025】上記導電性微粒子は、20℃、10%圧縮
変形における回復率が10%以上であることが好まし
い。10%未満であると、負荷がかかった際に塑性変形
し易く、電気的接続が不安定になることがある。より好
ましくは30%以上である。
【0026】上記薄層素子としては特に限定されず、例
えば、裏研磨されたIC、LSI、センサー;ポリイミ
ド、ポリアミド、ポリエステル、ポリエーテル、マレイ
ミド等の樹脂系の配線基板、アルミナ等のセラミック基
板、シリコン基板等が挙げられる。なお、上記IC、L
SIとしては、ロジック、メモリー等のデバイスが挙げ
られる。
【0027】上記穴電極の平均穴径は、導電性微粒子の
平均粒径の1/2〜1倍であることが好ましい。1/2
倍未満であると、穴電極に導電性微粒子の一部がうまく
入り込まず配置することができないことがあり、1倍を
超えると、導電性微粒子が穴電極を通り抜けてしまうこ
とがある。
【0028】本発明の導電性微粒子配置薄層素子は、穴
電極に配置されている導電性微粒子と対向する穴電極を
有する素子と穴電極の位置を合わせ押圧することにより
容易に導電接続することが可能である。押圧には、フリ
ップチップボンダー等のボンディングマシーンを用いる
ことができる。対向素子は、導電接続した状態で通常の
封止樹脂等を用いて固定することにより、信頼性の高い
接続状態を保つことができる。本発明の導電性微粒子配
置薄層素子が、穴電極の位置に配置された導電性微粒子
を介して、対向する穴電極を有する素子と穴電極の位置
を合わせて導電接続している導電積層構造体もまた、本
発明の1つである。本発明の導電積層構造体は、面積及
び高さを従来の構造体より大幅に小さくすることができ
る。
【0029】
【実施例】以下に実施例を掲げて本発明を更に詳しく説
明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるもの
ではない。
【0030】(実施例1)シード重合により得られたジ
ビニルベンゼン系共重合体を篩と湿式分級により分級し
平均粒径24μmの微粒子を得た。この微粒子に、無電
解メッキにより厚さ0.2μmのニッケル層を形成さ
せ、更に電気メッキにより厚さ0.3μmの金層を形成
させた。メッキを施した微粒子を分級し、平均粒径25
μm、アスペクト比1.03、CV値1%、K値400
0N/mm2、回復率60%、抵抗値0.03Ωの導電
性微粒子を得た。一方、パターニングしたシリコーンウ
エハーの裏面を研磨して50μmの厚さとした後、電極
の位置に貫通穴を空け、無電解メッキにより貫通穴内を
メッキし20μm径の上下の電極が繋がる穴電極とし
た。このような、20μm径の穴電極が約100μmピ
ッチで並んだ4mm角のICチップを作製した。
【0031】得られた導電性微粒子数万個を密集させて
並べた面に、作製したICチップを2N/cm2の力で
押し付けながら面に対して水平方向に移動させ、導電性
微粒子が穴電極に配置された状態にした。この後、IC
チップを裏側から吸引しながら持ち上げ、エアーパージ
により余剰の導電性微粒子を取り除いた。その状態で、
同じ位置に同じ大きさの穴電極を有するICチップと、
導電性微粒子と穴電極の位置を合わせて5N/cm2
力で押圧することにより導電積層構造体を作製し、その
隙間にエポキシ樹脂を入れて硬化させた。更に、この導
電積層構造体を同様な穴電極を有する配線されたシリコ
ン基板に積層し、作動を確認したところ通常通り作動し
た。また、−40〜125℃の熱サイクルテストを10
00回行ったが、低温時でも高温時でも作動に異常は認
められなかった。
【0032】(実施例2)メチルメタクリル系架橋共重
合体の微粒子に、無電解メッキにより厚さ0.1μmの
ニッケル層を形成させ、更に電気メッキにより厚さ3μ
mのハンダ層を形成させた。メッキを施した微粒子を分
級し、平均粒径30μm、アスペクト比1.05、CV
値3%、K値2000N/mm2、回復率20%、抵抗
値0.01Ωの導電性微粒子を得た。次いで、エタノー
ルに、この導電性微粒子0.5%とフラックス0.01
%とを分散させたエタノール溶液を調製した。一方、貫
通穴をメッキし上下の電極が繋がるようにした25μm
径の穴電極を有する厚さ90μmのガラス−エポキシ配
線フィルムを作製した。
【0033】上記ガラス−エポキシ配線フィルムの穴電
極の位置に、調製したエタノール溶液をインクジェット
方式により10pL飛ばし、穴電極に溶液を吸い込ませ
ながらエタノールを揮発させ、穴電極に導電性微粒子を
配置させた。その状態で、同じ位置に同じ大きさの穴電
極を有するICチップと、導電性微粒子と穴電極の位置
を合わせて5N/cm2の力で押圧することにより導電
積層構造体を作製し、その隙間にエポキシ樹脂を入れ硬
化させて封止した。この導電積層構造体の作動を確認し
たところ通常通り作動した。また、−40〜125℃の
熱サイクルテストを1000回行ったが、低温時でも高
温時でも作動に異常は認められなかった。
【0034】(実施例3)シード重合により得られたア
クリル系共重合体を篩と湿式分級により分級し平均粒径
18μm、アスペクト比1.03、CV値1%、K値6
000N/mm2、回復率80%の微粒子を得た。一
方、厚さ20μmのポリイミドフィルムにYAGレーザ
ーを用い20μm径の貫通穴を100μmピッチで正方
状に12穴開け、裏側から、10μm厚の粘着剤の着い
た25μmのPETフィルムを貼り付けた積層フィルム
を作製した。帯電除去を行いながら微粒子数万個を密集
させて並べた面に、積層フィルムのポリイミド面を8N
/cm2の力で押し付けながら面に対して水平方向に回
転させ、微粒子がポリイミドフィルムの穴に配置された
状態にした。この後、ブラシにより余剰微粒子を取り除
いた。積層フィルムの微細穴には微粒子が過不足なく配
置され、ポリイミド面に余剰微粒子はみられなかった。
【0035】(比較例1)実施例3で作製した微粒子及
び積層フィルムを用い、積層フィルムをポリイミド面を
上にして傾けた状態で、多数の微粒子を上から転がした
が、静電気等による凝集の影響もあって、微粒子が微細
穴に入ることはなかった。
【0036】(比較例2)実施例1で作製した導電性微
粒子及びICチップを用い、微粒子を跳躍させながらI
Cチップの裏面より吸引を行い、微細穴に微粒子を配置
させようとしたが、ごく一部の微粒子は吸着配置された
ものの、ほとんどの微粒子は微細穴には配置されなかっ
た。更に、静電気により不要な部分に多数の微粒子が付
着し、それらはエアーブローによってもなかなか除去す
ることができなかった。
【0037】(比較例3)実施例1で作製したICチッ
プの穴電極の位置にフォトリソによりバンプを作製し
た。このICチップを用いて実施例1と同様の方法でI
Cチップを積層しようとしたが、穴電極上のバンプは高
さや形状が一定でないためうまく積層することができな
かった。何とか積層できたものについても導通の安定性
がとれず、初期から作動不良が発生した。
【0038】
【発明の効果】本発明によれば、効率よく、容易に、過
不足なく安定的にフィルムの微細穴に微粒子を配置する
ことができる微細穴への微粒子の配置方法、その方法を
用いてなる3次元実装等に用いる導電性微粒子配置薄層
素子、及び、導電積層構造体を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01B 5/16 H01B 5/16 13/00 503 13/00 503A H01L 21/28 H01L 21/28 Z 21/60 H01R 11/01 501C H01R 11/01 501 H01L 21/92 604F Fターム(参考) 4F100 AB01A AB01B AB16 AB25A AB25B AK01A AK01B AK12 AK52 AK53 AT00A BA02 DC11A DE01A DE01B DE04A DE04B EH71 EH711 GB41 JG01A JG01B JG04A JG04B YY00A YY00B 4M104 AA01 AA10 BB05 DD52 DD53 FF02 5E051 CA03 5G301 DA02 DA05 DA33 DA42 DA45 DA51 DA53 DA55 DA57 DA59 DA60 5G307 AA02 HB03 HC01 HC04

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 微粒子をフィルムに形成された微細穴に
    配置する方法であって、少なくともフィルムの微細穴の
    数より多数の微粒子を並べた面に、微細穴が形成された
    フィルムを押し付けることにより、フィルムの微細穴に
    微粒子を配置することを特徴とする微細穴への微粒子の
    配置方法。
  2. 【請求項2】 微細穴が形成されたフィルムを押し付け
    ながら面に対して水平方向にフィルムを移動することに
    より、フィルムの微細穴に微粒子を配置することを特徴
    とする請求項1記載の微細穴への微粒子の配置方法。
  3. 【請求項3】 微粒子は、平均粒径が2〜100μm、
    アスペクト比が1.1未満、CV値が5%以下であり、
    微細穴は、平均穴径が微粒子の平均粒径の1/2〜3/
    2倍であることを特徴とする請求項1又は2記載の微細
    穴への微粒子の配置方法。
  4. 【請求項4】 微粒子をフィルムに形成された微細穴に
    配置する方法であって、微粒子を含んだ液体を微細穴に
    吸い込ませることにより、フィルムの微細穴に微粒子を
    配置することを特徴とする微細穴への微粒子の配置方
    法。
  5. 【請求項5】 微粒子は、平均粒径が2〜100μm、
    アスペクト比が1.1未満、CV値が5%以下であり、
    微細穴は、平均穴径が微粒子の平均粒径の1/2〜1倍
    であることを特徴とする請求項4記載の微細穴への微粒
    子の配置方法。
  6. 【請求項6】 穴電極が形成された薄層素子の穴電極の
    位置に、導電性微粒子が配置されたことを特徴とする導
    電性微粒子配置薄層素子。
  7. 【請求項7】 請求項1、2、3、4又は5記載の微細
    穴への微粒子の配置方法を用いて、穴電極が形成された
    薄層素子の穴電極の位置に、導電性微粒子が配置された
    ことを特徴とする導電性微粒子配置薄層素子。
  8. 【請求項8】 導電性微粒子は、平均粒径が5〜50μ
    m、アスペクト比が1.1未満、CV値が5%以下であ
    り、穴電極は、平均穴径が前記導電性微粒子の平均粒径
    の1/2〜1倍であることを特徴とする請求項6又は7
    記載の導電性微粒子配置薄層素子。
  9. 【請求項9】 導電性微粒子は、高分子量体からなるコ
    アと金属からなる被覆層とからなり、抵抗値が0.5Ω
    以下であることを特徴とする請求項6、7又は8記載の
    導電性微粒子配置薄層素子。
  10. 【請求項10】 導電性微粒子は、平均粒径が10〜3
    0μm、アスペクト比が1.05未満、CV値が2%以
    下であって、金属からなる被覆層の厚さが0.4μm以
    上であり、最外層の金属が金であり、かつ、抵抗値が
    0.05Ω以下であることを特徴とする請求項9記載の
    導電性微粒子配置薄層素子。
  11. 【請求項11】 請求項6、7、8、9又は10記載の
    導電性微粒子配置薄層素子が、穴電極の位置に配置され
    た導電性微粒子を介して、対向する穴電極を有する素子
    と穴電極の位置を合わせて導電接続していることを特徴
    とする導電積層構造体。
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