JP2002357551A - ガス中の窒素測定方法及び装置 - Google Patents
ガス中の窒素測定方法及び装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 連続的にかつ試料ガスを廃棄することなく、
窒素濃度を高感度に測定できるガス中の窒素の測定方法
及び装置を提供する。 【解決手段】 放電により生じた光の強度に応じて窒素
濃度を測定するための波長として、２１５±２ｎｍ，２
２６±２ｎｍ，２３８±２ｎｍ，２４２±２ｎｍ，２４
６±１ｎｍ，２５６±２ｎｍ，２６０±２ｎｍ，２６６
±２ｎｍ，２７１±１ｎｍ，２７６±４ｎｍ，２８５±
２ｎｍ，２９４±１ｎｍ，３００±２ｎｍのうちの少な
くとも一つを使用する。
窒素濃度を高感度に測定できるガス中の窒素の測定方法
及び装置を提供する。 【解決手段】 放電により生じた光の強度に応じて窒素
濃度を測定するための波長として、２１５±２ｎｍ，２
２６±２ｎｍ，２３８±２ｎｍ，２４２±２ｎｍ，２４
６±１ｎｍ，２５６±２ｎｍ，２６０±２ｎｍ，２６６
±２ｎｍ，２７１±１ｎｍ，２７６±４ｎｍ，２８５±
２ｎｍ，２９４±１ｎｍ，３００±２ｎｍのうちの少な
くとも一つを使用する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ガス中の窒素測定
方法及び装置に関し、特に、クリプトンガスやキセノン
ガス中に存在する微量窒素を連続的に測定する方法及び
装置に関する。
方法及び装置に関し、特に、クリプトンガスやキセノン
ガス中に存在する微量窒素を連続的に測定する方法及び
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】例え
ば、クリプトンガスやキセノンガスは、半導体製造分
野、電機部品製造分野等の様々な分野で利用されている
が、特に半導体製造分野では、大規模集積回路製造のた
め、高純度な希ガスの供給が要求されている。ガスの純
度は、半導体製造プロセスの歩留まりに大きな影響を与
えるため、連続的にそれらの純度を監視する必要があ
る。
ば、クリプトンガスやキセノンガスは、半導体製造分
野、電機部品製造分野等の様々な分野で利用されている
が、特に半導体製造分野では、大規模集積回路製造のた
め、高純度な希ガスの供給が要求されている。ガスの純
度は、半導体製造プロセスの歩留まりに大きな影響を与
えるため、連続的にそれらの純度を監視する必要があ
る。
【０００３】希ガスに存在する不純物の中でも、窒素は
特に配管のパージ等に使用され、不純物として混入しや
すく、さらに不活性であることから、精製器による除去
が最も困難で、除去能力を早く低下させる不純物として
知られている。
特に配管のパージ等に使用され、不純物として混入しや
すく、さらに不活性であることから、精製器による除去
が最も困難で、除去能力を早く低下させる不純物として
知られている。
【０００４】特にクリプトンガスやキセノンガスは高価
であるため、分析時のガス消費量が少ないもの、あるい
は排気することなく、含有する微量窒素濃度をリアルタ
イムで連続監視できるモニターの必要性が高まってい
る。
であるため、分析時のガス消費量が少ないもの、あるい
は排気することなく、含有する微量窒素濃度をリアルタ
イムで連続監視できるモニターの必要性が高まってい
る。
【０００５】従来、クリプトンガスやキセノンガス中の
微量窒素の測定には、ＧＣ−ＭＳ（ガスクロマトグラフ
ィー質量分析計）が用いられていたが、ＧＣ−ＭＳは高
価であるうえ、間欠的にしか測定できないため、窒素濃
度のリアルタイム連続監視には不向きであるという欠点
があった。
微量窒素の測定には、ＧＣ−ＭＳ（ガスクロマトグラフ
ィー質量分析計）が用いられていたが、ＧＣ−ＭＳは高
価であるうえ、間欠的にしか測定できないため、窒素濃
度のリアルタイム連続監視には不向きであるという欠点
があった。
【０００６】また、微量窒素の分析計として、ＧＣ―Ｔ
ＣＤ（熱伝導度検出器ガスクロマトグラフィー）やＧＣ
−ＰＩＤ（光イオン化検出器ガスクロマトグラフィー）
も利用されているが、これらも間欠的にしか測定ができ
ないため、リアルタイム連続監視には不向きであった。
ＣＤ（熱伝導度検出器ガスクロマトグラフィー）やＧＣ
−ＰＩＤ（光イオン化検出器ガスクロマトグラフィー）
も利用されているが、これらも間欠的にしか測定ができ
ないため、リアルタイム連続監視には不向きであった。
【０００７】さらに、上記各分析計は、試料ガスとＧＣ
（ガスクロマトグラフィー）に使用するキャリヤーガス
（例えばヘリウム等）とを混合してしまうため、測定の
終了したガスを廃棄する必要があり、測定対象となる試
料ガスがクリプトンガス、キセノンガス等の高価な希ガ
スである場合、ランニングコストが高くなるだけでな
く、回収したとしても試料ガスと他のガスとの分離を行
う際の精製コストが高くなるという欠点があった。
（ガスクロマトグラフィー）に使用するキャリヤーガス
（例えばヘリウム等）とを混合してしまうため、測定の
終了したガスを廃棄する必要があり、測定対象となる試
料ガスがクリプトンガス、キセノンガス等の高価な希ガ
スである場合、ランニングコストが高くなるだけでな
く、回収したとしても試料ガスと他のガスとの分離を行
う際の精製コストが高くなるという欠点があった。
【０００８】このようなＧＣを用いずに、大気圧下でガ
ス中の窒素を分析する方法として、グロー放電を利用し
た発光分析方法がある。この方法は、陽極及び陰極から
成る一対の金属電極を備えた放電管内の前記電極間に試
料ガスを供給しながら直流電圧を印加することによって
放電させ、これによって生じた窒素の発光を分離、検出
する方法である。しかしながら、グロー放電は、原理的
に気体の正イオンが陰極に衝突し、二次電子を放出させ
ると同時に、陰極表面を分解して金属粒子を放出するこ
とがあるため、ガスを汚染するおそれがあるだけでな
く、時間経過とともに電極が劣化してしまい、安定した
発光を得ることが困難であるという問題点があった。
ス中の窒素を分析する方法として、グロー放電を利用し
た発光分析方法がある。この方法は、陽極及び陰極から
成る一対の金属電極を備えた放電管内の前記電極間に試
料ガスを供給しながら直流電圧を印加することによって
放電させ、これによって生じた窒素の発光を分離、検出
する方法である。しかしながら、グロー放電は、原理的
に気体の正イオンが陰極に衝突し、二次電子を放出させ
ると同時に、陰極表面を分解して金属粒子を放出するこ
とがあるため、ガスを汚染するおそれがあるだけでな
く、時間経過とともに電極が劣化してしまい、安定した
発光を得ることが困難であるという問題点があった。
【０００９】上記問題を解決するため、金属電極をガラ
ス等の絶縁物質で覆い、ガスと金属電極とを接触させる
ことなく放電させる無声放電を利用した簡易型窒素分析
計が市販されている。この分析計は、大気圧下で放電を
維持するのに十分に高い交流電圧を電極に印加してい
る。試料ガスは、一定流量で放電管内に供給され、放電
管内において電子衝突等によりエネルギーを吸収するこ
とによって励起される。これは、気体分子が高いエネル
ギー準位から低いエネルギー準位に落下する際に、輻射
エネルギーの放出、つまり発光をもたらす。この発光波
長は、励起された気体成分に固有であるため、窒素の発
光波長のみを干渉フィルターで抽出して強度を検出する
ことにより、気体中の窒素濃度を測定することができ
る。特に、この簡易型窒素分析計で利用されるアルゴン
中の窒素濃度は、３３７±５ｎｍや３５７±５ｎｍの波
長の光を干渉フィルターで分離し、電気信号に変換する
ことにより測定している。
ス等の絶縁物質で覆い、ガスと金属電極とを接触させる
ことなく放電させる無声放電を利用した簡易型窒素分析
計が市販されている。この分析計は、大気圧下で放電を
維持するのに十分に高い交流電圧を電極に印加してい
る。試料ガスは、一定流量で放電管内に供給され、放電
管内において電子衝突等によりエネルギーを吸収するこ
とによって励起される。これは、気体分子が高いエネル
ギー準位から低いエネルギー準位に落下する際に、輻射
エネルギーの放出、つまり発光をもたらす。この発光波
長は、励起された気体成分に固有であるため、窒素の発
光波長のみを干渉フィルターで抽出して強度を検出する
ことにより、気体中の窒素濃度を測定することができ
る。特に、この簡易型窒素分析計で利用されるアルゴン
中の窒素濃度は、３３７±５ｎｍや３５７±５ｎｍの波
長の光を干渉フィルターで分離し、電気信号に変換する
ことにより測定している。
【００１０】しかしながら、特開平１１−３２６２１９
号公報にも記載されているように、前記のような簡易型
窒素分析計は、不純物気体より高いイオン化ポテンシャ
ルを有するベースガスを使用する必要があるため、クリ
プトンガスやキセノンガス中の窒素濃度を測定すること
が困難であり、アルゴンガスやヘリウムガスといった希
ガス中の窒素しか測定ができなかった。
号公報にも記載されているように、前記のような簡易型
窒素分析計は、不純物気体より高いイオン化ポテンシャ
ルを有するベースガスを使用する必要があるため、クリ
プトンガスやキセノンガス中の窒素濃度を測定すること
が困難であり、アルゴンガスやヘリウムガスといった希
ガス中の窒素しか測定ができなかった。
【００１１】したがって、従来の簡易型窒素分析計でク
リプトンガスやキセノンガス中の窒素濃度を測定するた
めには、前段にＧＣを取付けてクリプトンガスやキセノ
ンガス中の窒素をアルゴンガス又はヘリウムガス中の窒
素となるように濃縮変換して測定する必要があるため、
リアルタイムで窒素濃度を測定することができないばか
りでなく、装置コストが高くなるという問題点があっ
た。
リプトンガスやキセノンガス中の窒素濃度を測定するた
めには、前段にＧＣを取付けてクリプトンガスやキセノ
ンガス中の窒素をアルゴンガス又はヘリウムガス中の窒
素となるように濃縮変換して測定する必要があるため、
リアルタイムで窒素濃度を測定することができないばか
りでなく、装置コストが高くなるという問題点があっ
た。
【００１２】また、従来の簡易型窒素分析計は、試料ガ
ス中の窒素濃度を測定するとき、酸素や水分等の不純物
が試料ガスに含まれると、正確な窒素濃度が測定できな
いという共存影響の問題が知られている。このため、分
析計の試料ガス導入管にこれらの不純物を除去するため
の精製器を設けることが推奨されている。しかし、精製
器を設けると、それが破過する前に交換しなければなら
ないという問題がある。
ス中の窒素濃度を測定するとき、酸素や水分等の不純物
が試料ガスに含まれると、正確な窒素濃度が測定できな
いという共存影響の問題が知られている。このため、分
析計の試料ガス導入管にこれらの不純物を除去するため
の精製器を設けることが推奨されている。しかし、精製
器を設けると、それが破過する前に交換しなければなら
ないという問題がある。
【００１３】そこで本発明は、ＧＣ（ガスクロマトグラ
フィー）を用いず、連続的かつ試料ガスを廃棄すること
なく窒素濃度を正確かつ高感度に測定できるとともに、
共存影響を回避するための精製器を必要とせず、また、
分析計の連続稼動性を損なうことなく、共存影響の発生
やプラズマの異常発生を判定することもでき、未知不純
物の検知も可能なガス中の窒素測定方法及び装置を提供
することを目的としている
フィー）を用いず、連続的かつ試料ガスを廃棄すること
なく窒素濃度を正確かつ高感度に測定できるとともに、
共存影響を回避するための精製器を必要とせず、また、
分析計の連続稼動性を損なうことなく、共存影響の発生
やプラズマの異常発生を判定することもでき、未知不純
物の検知も可能なガス中の窒素測定方法及び装置を提供
することを目的としている
【００１４】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のガス中の窒素測定方法は、試料ガスを放電
管内に導入して、放電により生じた光を集光し、窒素に
特有の波長を抽出して検出器に導入し、検出された光の
強度に応じて窒素の濃度を連続的に測定する方法におい
て、窒素濃度を測定するための波長として、２１５±２
ｎｍ，２２６±２ｎｍ，２３８±２ｎｍ，２４２±２ｎ
ｍ，２４６±１ｎｍ，２５６±２ｎｍ，２６０±２ｎ
ｍ，２６６±２ｎｍ，２７１±１ｎｍ，２７６±４ｎ
ｍ，２８５±２ｎｍ，２９４±１ｎｍ，３００±２ｎｍ
のうちの少なくとも一つを使用することを特徴としてい
る。
め、本発明のガス中の窒素測定方法は、試料ガスを放電
管内に導入して、放電により生じた光を集光し、窒素に
特有の波長を抽出して検出器に導入し、検出された光の
強度に応じて窒素の濃度を連続的に測定する方法におい
て、窒素濃度を測定するための波長として、２１５±２
ｎｍ，２２６±２ｎｍ，２３８±２ｎｍ，２４２±２ｎ
ｍ，２４６±１ｎｍ，２５６±２ｎｍ，２６０±２ｎ
ｍ，２６６±２ｎｍ，２７１±１ｎｍ，２７６±４ｎ
ｍ，２８５±２ｎｍ，２９４±１ｎｍ，３００±２ｎｍ
のうちの少なくとも一つを使用することを特徴としてい
る。
【００１５】さらに、本発明方法は、前記ガス中の窒素
測定方法において、窒素の測定に共存影響を及ぼす不純
物を含まないガスにおける発光強度を基準発光強度とし
てあらかじめ測定し、前記試料ガスの発光強度を測定し
た測定発光強度と前記基準発光強度とを比較して測定発
光強度が基準発光強度より一定範囲を超えて小さくなっ
たときに、放電の異常又は負の共存影響を及ぼす不純
物、例えば酸素や水分の混入のいずれかが発生したと判
定することを特徴としている。
測定方法において、窒素の測定に共存影響を及ぼす不純
物を含まないガスにおける発光強度を基準発光強度とし
てあらかじめ測定し、前記試料ガスの発光強度を測定し
た測定発光強度と前記基準発光強度とを比較して測定発
光強度が基準発光強度より一定範囲を超えて小さくなっ
たときに、放電の異常又は負の共存影響を及ぼす不純
物、例えば酸素や水分の混入のいずれかが発生したと判
定することを特徴としている。
【００１６】また、本発明のガス中の窒素測定装置は、
試料ガスを放電管内に導入して、放電により生じた光を
集光し、窒素に特有の波長を抽出して検出器に導入し、
検出された光の強度に応じて窒素の濃度を連続的に測定
する装置において、前記検出器の前段に、２１５±２ｎ
ｍ，２２６±２ｎｍ，２３８±２ｎｍ，２４２±２ｎ
ｍ，２４６±１ｎｍ，２５６±２ｎｍ，２６０±２ｎ
ｍ，２６６±２ｎｍ，２７１±１ｎｍ，２７６±４ｎ
ｍ，２８５±２ｎｍ，２９４±１ｎｍ，３００±２ｎｍ
のうちの少なくとも一つを透過する干渉フィルター又は
分光器を設置したことを特徴としている。
試料ガスを放電管内に導入して、放電により生じた光を
集光し、窒素に特有の波長を抽出して検出器に導入し、
検出された光の強度に応じて窒素の濃度を連続的に測定
する装置において、前記検出器の前段に、２１５±２ｎ
ｍ，２２６±２ｎｍ，２３８±２ｎｍ，２４２±２ｎ
ｍ，２４６±１ｎｍ，２５６±２ｎｍ，２６０±２ｎ
ｍ，２６６±２ｎｍ，２７１±１ｎｍ，２７６±４ｎ
ｍ，２８５±２ｎｍ，２９４±１ｎｍ，３００±２ｎｍ
のうちの少なくとも一つを透過する干渉フィルター又は
分光器を設置したことを特徴としている。
【００１７】さらに、本発明装置は、窒素の測定に共存
影響を及ぼす不純物を含まないガスを測定したときの発
光強度を基準発光強度として記憶する手段と、試料ガス
を測定したときの測定発光強度を前記基準発光強度と比
較する手段と、測定発光強度が基準発光強度より一定範
囲を超えて小さくなったときに、放電の異常又は負の共
存影響を及ぼす酸素や水のような不純物の混入のいずれ
かが発生したと判定する手段とを備えていることを特徴
としている。
影響を及ぼす不純物を含まないガスを測定したときの発
光強度を基準発光強度として記憶する手段と、試料ガス
を測定したときの測定発光強度を前記基準発光強度と比
較する手段と、測定発光強度が基準発光強度より一定範
囲を超えて小さくなったときに、放電の異常又は負の共
存影響を及ぼす酸素や水のような不純物の混入のいずれ
かが発生したと判定する手段とを備えていることを特徴
としている。
【００１８】特に、本発明は、前記試料ガスが、希ガス
成分として、クリプトンガス、キセノンガス、クリプト
ンとキセノンとの混合ガス、アルゴン、ヘリウム、ネオ
ンのいずれか１つ以上とクリプトンとの混合ガス、アル
ゴン、ヘリウム、ネオンのいずれか１つ以上とキセノン
との混合ガス、アルゴン、ヘリウム、ネオンのいずれか
１つ以上とキセノンとクリプトンとの混合ガスのいずれ
かであることを特徴としている。
成分として、クリプトンガス、キセノンガス、クリプト
ンとキセノンとの混合ガス、アルゴン、ヘリウム、ネオ
ンのいずれか１つ以上とクリプトンとの混合ガス、アル
ゴン、ヘリウム、ネオンのいずれか１つ以上とキセノン
との混合ガス、アルゴン、ヘリウム、ネオンのいずれか
１つ以上とキセノンとクリプトンとの混合ガスのいずれ
かであることを特徴としている。
【００１９】
【発明の実施の形態】まず、図２は、内部電極をガラス
で覆った放電管を利用した分析計の一例を示す系統図で
あって、アルゴンガス中の窒素とクリプトンガス中の窒
素とにおける窒素の発光スペクトルの差異を確認するた
めに用いたものである。
で覆った放電管を利用した分析計の一例を示す系統図で
あって、アルゴンガス中の窒素とクリプトンガス中の窒
素とにおける窒素の発光スペクトルの差異を確認するた
めに用いたものである。
【００２０】この分析計の放電管１１は、内部にガラス
等で覆われた内部電極１２を、該内部電極１２の外周部
に外部電極１３をそれぞれ配置して交流電源１４に接続
し、一方の管端には石英窓１５を設けるとともに、管両
端部には試料ガス導入経路１６と試料ガス導出経路１７
とをそれぞれ設けている。
等で覆われた内部電極１２を、該内部電極１２の外周部
に外部電極１３をそれぞれ配置して交流電源１４に接続
し、一方の管端には石英窓１５を設けるとともに、管両
端部には試料ガス導入経路１６と試料ガス導出経路１７
とをそれぞれ設けている。
【００２１】分析対象となる試料ガスは、流量制御装置
２１からメインライン２２に供給される。メインライン
２２からは、試料ガスを放電管１１方向に分岐する分析
ライン２３が分岐しており、メインライン２２を流れる
試料ガスの一部が分析ライン２３に分岐し、圧力制御装
置２４及び流量制御装置２５を通り、所定圧力、所定流
量で試料ガス導入経路１６から放電管１１内に導入され
る。放電管１１から試料ガス導出経路１７に導出したガ
スは、圧力制御装置２６，タンク２７を通ってライン２
８から流出する。放電管１１内での放電により生じた光
は、石英窓１５を通ってレンズ１８で集光され、分光光
度計１９で強度が測定される。
２１からメインライン２２に供給される。メインライン
２２からは、試料ガスを放電管１１方向に分岐する分析
ライン２３が分岐しており、メインライン２２を流れる
試料ガスの一部が分析ライン２３に分岐し、圧力制御装
置２４及び流量制御装置２５を通り、所定圧力、所定流
量で試料ガス導入経路１６から放電管１１内に導入され
る。放電管１１から試料ガス導出経路１７に導出したガ
スは、圧力制御装置２６，タンク２７を通ってライン２
８から流出する。放電管１１内での放電により生じた光
は、石英窓１５を通ってレンズ１８で集光され、分光光
度計１９で強度が測定される。
【００２２】このような分析計を使用し、流量制御装置
２１から供給するガスとしてアルゴンガスとクリプトン
ガスとを使用し、これに、添加ガス用の流量制御器３１
からバルブ３２を経て窒素を含有するアルゴンガスとク
リプトンガスとをそれぞれ導入し、窒素を含有するアル
ゴンガスと、窒素を含有するクリプトンガスとにおける
それぞれの発光スペクトルを測定した。
２１から供給するガスとしてアルゴンガスとクリプトン
ガスとを使用し、これに、添加ガス用の流量制御器３１
からバルブ３２を経て窒素を含有するアルゴンガスとク
リプトンガスとをそれぞれ導入し、窒素を含有するアル
ゴンガスと、窒素を含有するクリプトンガスとにおける
それぞれの発光スペクトルを測定した。
【００２３】その結果、アルゴンガスの場合は、窒素を
含まないときの図３（Ａ）と、窒素を含むときの図３
（Ｂ）とから明らかなように、窒素が存在する場合には
３３７ｎｍ付近に大きなシグナルが得られるが、クリプ
トンガスの場合は、窒素を導入しないときの図４（Ａ）
と窒素を導入したときの図４（Ｂ）とに見られるよう
に、窒素が存在していても、３３７ｎｍ付近にはシグナ
ルを得ることができなかった。
含まないときの図３（Ａ）と、窒素を含むときの図３
（Ｂ）とから明らかなように、窒素が存在する場合には
３３７ｎｍ付近に大きなシグナルが得られるが、クリプ
トンガスの場合は、窒素を導入しないときの図４（Ａ）
と窒素を導入したときの図４（Ｂ）とに見られるよう
に、窒素が存在していても、３３７ｎｍ付近にはシグナ
ルを得ることができなかった。
【００２４】そして、窒素を含有するクリプトンガスの
場合は、図４（Ｂ）から、２１５±２ｎｍ，２２６±２
ｎｍ，２３８±２ｎｍ，２４２±２ｎｍ，２４６±１ｎ
ｍ，２５６±２ｎｍ，２６０±２ｎｍ，２６６±２ｎ
ｍ，２７１±１ｎｍ，２７６±４ｎｍ，２８５±２ｎ
ｍ，２９４±１ｎｍ，３００±２ｎｍを中心波長とする
シグナルが明確に得られていることが分かる。
場合は、図４（Ｂ）から、２１５±２ｎｍ，２２６±２
ｎｍ，２３８±２ｎｍ，２４２±２ｎｍ，２４６±１ｎ
ｍ，２５６±２ｎｍ，２６０±２ｎｍ，２６６±２ｎ
ｍ，２７１±１ｎｍ，２７６±４ｎｍ，２８５±２ｎ
ｍ，２９４±１ｎｍ，３００±２ｎｍを中心波長とする
シグナルが明確に得られていることが分かる。
【００２５】図１は本発明装置の一形態例を示す系統図
である。なお、以下の説明において、前記図２に示した
分析計の構成要素と同一の構成要素には同一の符号を付
して詳細な説明は省略する。
である。なお、以下の説明において、前記図２に示した
分析計の構成要素と同一の構成要素には同一の符号を付
して詳細な説明は省略する。
【００２６】この窒素測定装置において、試料ガスは、
流量制御装置２１を経てメインライン２２に流れ、試料
ガスの一部は、該メインライン２２の途中で放電管１１
に向かう分析ライン２３に分岐し、圧力制御装置２４及
び流量制御装置２５によって圧力及び流量が制御されて
放電管１１内に導入され、放電管１１内の圧力を安定化
させる圧力制御装置２６を経てタンク２７に回収され
る。タンク２７には昇圧手段２９が設けられており、タ
ンク内に回収したガスをライン２８からメインライン２
２に戻すことにより、試料ガスを廃棄せずに再利用しな
がら窒素不純物を連続測定することができるように形成
されている。
流量制御装置２１を経てメインライン２２に流れ、試料
ガスの一部は、該メインライン２２の途中で放電管１１
に向かう分析ライン２３に分岐し、圧力制御装置２４及
び流量制御装置２５によって圧力及び流量が制御されて
放電管１１内に導入され、放電管１１内の圧力を安定化
させる圧力制御装置２６を経てタンク２７に回収され
る。タンク２７には昇圧手段２９が設けられており、タ
ンク内に回収したガスをライン２８からメインライン２
２に戻すことにより、試料ガスを廃棄せずに再利用しな
がら窒素不純物を連続測定することができるように形成
されている。
【００２７】放電管１１の内部及び外部に存在する電極
１２，１３には、放電用高圧電源１４から高電圧の交流
が印加される。放電によって発生した光は、放電管１１
に設けられた石英窓１５からレンズ１８を通って集光さ
れ、干渉フィルター４１を通ることによって特定の波長
が選択され、選択された波長のみが検出器４２に導入さ
れ、発光強度に応じた電気信号に変換される。この電気
信号は、アンプ４３によって信号増幅され、表示部４４
に出力される。また、検出器４２には、駆動用電源とし
て検出器用高圧電源４５が設けられている。
１２，１３には、放電用高圧電源１４から高電圧の交流
が印加される。放電によって発生した光は、放電管１１
に設けられた石英窓１５からレンズ１８を通って集光さ
れ、干渉フィルター４１を通ることによって特定の波長
が選択され、選択された波長のみが検出器４２に導入さ
れ、発光強度に応じた電気信号に変換される。この電気
信号は、アンプ４３によって信号増幅され、表示部４４
に出力される。また、検出器４２には、駆動用電源とし
て検出器用高圧電源４５が設けられている。
【００２８】なお、タンク２７内に回収した試料ガスを
ライン２８からメインライン２２に戻す際に、メインラ
イン２２の圧力が放電管１１の内部圧力よりも低いとき
は、タンク２７に設けた昇圧手段２９を動作させなくて
もよく、また、圧力制御装置２６を昇圧装置としてもよ
い。さらに、測定する不純物は、窒素のみに限定される
ものではなく、その他、水分、メタン等を同時に測定す
ることが可能である。
ライン２８からメインライン２２に戻す際に、メインラ
イン２２の圧力が放電管１１の内部圧力よりも低いとき
は、タンク２７に設けた昇圧手段２９を動作させなくて
もよく、また、圧力制御装置２６を昇圧装置としてもよ
い。さらに、測定する不純物は、窒素のみに限定される
ものではなく、その他、水分、メタン等を同時に測定す
ることが可能である。
【００２９】前記干渉フィルター４１は、不純物に特有
の発光波長を選択的に透過するものが用いられるが、試
料ガス中に存在する他のガス成分からの発光に影響され
ず、かつ、不純物濃度測定のための干渉フィルターとし
て、窒素の場合は、透過する光の中心波長が、２１５±
２ｎｍ，２２６±２ｎｍ，２３８±２ｎｍ，２４２±２
ｎｍ，２４６±１ｎｍ，２５６±２ｎｍ，２６０±２ｎ
ｍ，２６６±２ｎｍ，２７１±１ｎｍ，２７６±４ｎ
ｍ，２８５±２ｎｍ，２９４±１ｎｍ，３００±２ｎｍ
のうち少なくとも一つを選択して用いる。
の発光波長を選択的に透過するものが用いられるが、試
料ガス中に存在する他のガス成分からの発光に影響され
ず、かつ、不純物濃度測定のための干渉フィルターとし
て、窒素の場合は、透過する光の中心波長が、２１５±
２ｎｍ，２２６±２ｎｍ，２３８±２ｎｍ，２４２±２
ｎｍ，２４６±１ｎｍ，２５６±２ｎｍ，２６０±２ｎ
ｍ，２６６±２ｎｍ，２７１±１ｎｍ，２７６±４ｎ
ｍ，２８５±２ｎｍ，２９４±１ｎｍ，３００±２ｎｍ
のうち少なくとも一つを選択して用いる。
【００３０】また、水分を同時に測定する場合は、３０
８±５ｎｍ又は２８０±５ｎｍを、メタンを同時に測定
する場合は、４３０±５ｎｍを中心波長とする光を透過
する干渉フィルター４１を用いればよい。これらの半値
幅は、一つの発光ピークのみを抽出する場合は、１〜５
ｎｍが好ましいが、複数の発光ピークをまとめて抽出し
たいときは、５〜３０ｎｍの広範囲の干渉フィルターを
利用してもよい。また、干渉フィルター４１の代わり
に、分光器等の他の特定波長抽出手段を利用してもよ
い。
８±５ｎｍ又は２８０±５ｎｍを、メタンを同時に測定
する場合は、４３０±５ｎｍを中心波長とする光を透過
する干渉フィルター４１を用いればよい。これらの半値
幅は、一つの発光ピークのみを抽出する場合は、１〜５
ｎｍが好ましいが、複数の発光ピークをまとめて抽出し
たいときは、５〜３０ｎｍの広範囲の干渉フィルターを
利用してもよい。また、干渉フィルター４１の代わり
に、分光器等の他の特定波長抽出手段を利用してもよ
い。
【００３１】試料ガス中の不純物濃度が非常に高い場
合、前記波長で測定を行うと発光強度が強すぎて検出器
４２を飽和させ、正確な測定結果が得られないことがあ
る。このような場合には、発光強度が弱くなるように放
電電圧を５０００Ｖ程度まで低下させたり、検出器４２
への入射光量を低減したり、低感度な波長（例えば窒素
の場合は、２６０±２ｎｍ）を選択して測定するなどの
方法を採用すればよい。
合、前記波長で測定を行うと発光強度が強すぎて検出器
４２を飽和させ、正確な測定結果が得られないことがあ
る。このような場合には、発光強度が弱くなるように放
電電圧を５０００Ｖ程度まで低下させたり、検出器４２
への入射光量を低減したり、低感度な波長（例えば窒素
の場合は、２６０±２ｎｍ）を選択して測定するなどの
方法を採用すればよい。
【００３２】流量制御装置２５によって所定流量に調節
されて放電管１１内に導入される試料ガスの管内での線
速度は、０．３ｃｍ／ｍｉｎ（２５℃、１ａｔｍ）以上
であればよいが、図５に示すように、線速度が６０〜１
００ｃｍ／ｍｉｎの範囲で検出器４２の出力差（ＰＭＴ
出力差）が大きくなるので、この範囲の線速度になるよ
うにガス流量を設定することが好ましい。
されて放電管１１内に導入される試料ガスの管内での線
速度は、０．３ｃｍ／ｍｉｎ（２５℃、１ａｔｍ）以上
であればよいが、図５に示すように、線速度が６０〜１
００ｃｍ／ｍｉｎの範囲で検出器４２の出力差（ＰＭＴ
出力差）が大きくなるので、この範囲の線速度になるよ
うにガス流量を設定することが好ましい。
【００３３】また、放電管１１内の圧力は、１〜３００
ｋＰａＧの範囲ならば任意に選択することができるが、
図６に示すように、圧力の高い方が検出器４２の出力差
（ＰＭＴ出力差）が大きくなるので、大気圧以上に設定
しておくことが好ましい。なお、電極１２，１３に印加
する電圧は、電極間の放電を維持する上で交流１０００
０Ｖが適当である。
ｋＰａＧの範囲ならば任意に選択することができるが、
図６に示すように、圧力の高い方が検出器４２の出力差
（ＰＭＴ出力差）が大きくなるので、大気圧以上に設定
しておくことが好ましい。なお、電極１２，１３に印加
する電圧は、電極間の放電を維持する上で交流１０００
０Ｖが適当である。
【００３４】試料ガス中の不純物濃度は、あらかじめ検
量線を作成しておき、同一条件で測定したときの発光強
度から算出することができる。不純物濃度を求める方法
は、表示部４４に演算装置を組込み、その演算機能によ
り濃度を算出して表示してもよいし、表示部４４の代わ
りにパソコンを用いて演算させてもよい。
量線を作成しておき、同一条件で測定したときの発光強
度から算出することができる。不純物濃度を求める方法
は、表示部４４に演算装置を組込み、その演算機能によ
り濃度を算出して表示してもよいし、表示部４４の代わ
りにパソコンを用いて演算させてもよい。
【００３５】前記検出器４２は、光電子増倍管であるこ
とが望ましいが、フォトダイオードやフォトダイオード
アレイを用いて光信号を電気信号に変換してもよい。ま
た、検出器４２と検出器用高圧電源４５、アンプ４３の
代わりに、これらが一体化した検出器モジュールを使用
してもよい。
とが望ましいが、フォトダイオードやフォトダイオード
アレイを用いて光信号を電気信号に変換してもよい。ま
た、検出器４２と検出器用高圧電源４５、アンプ４３の
代わりに、これらが一体化した検出器モジュールを使用
してもよい。
【００３６】さらに、放電管１１内での放電を安定させ
るため、放電管１１の試料ガス導出経路１７に圧力制御
装置２６を設けることが好ましいが、比較的ラフな濃度
測定や装置のコストダウンを図りたいときなどは、これ
を設置しなくても測定は可能である。
るため、放電管１１の試料ガス導出経路１７に圧力制御
装置２６を設けることが好ましいが、比較的ラフな濃度
測定や装置のコストダウンを図りたいときなどは、これ
を設置しなくても測定は可能である。
【００３７】また、窒素を分析する際の試料ガスのベー
スは、クリプトンガス、キセノンガスに限定されるもの
ではなく、アルゴン、ヘリウム、ネオン等の純ガス及び
これらの混合ガスであってもよい。
スは、クリプトンガス、キセノンガスに限定されるもの
ではなく、アルゴン、ヘリウム、ネオン等の純ガス及び
これらの混合ガスであってもよい。
【００３８】さらに、本発明は、ガス中の微量窒素を測
定可能とすることにより、高純度な希ガスの純度を連続
的に監視することを主目的とするものであり、主な用途
として、高純度希ガス供給装置の制御モニタリングが挙
げられる。このような高純度希ガス供給装置は、多種類
のガスを使用する半導体製造プロセス等に設置されるこ
とが多く、複数のガス種が同プロセスにおいて混入され
ることがある。このような場合には、不純物窒素だけで
なく、他の成分が混入したことを定性的にでも検知でき
るものであることが望ましい。
定可能とすることにより、高純度な希ガスの純度を連続
的に監視することを主目的とするものであり、主な用途
として、高純度希ガス供給装置の制御モニタリングが挙
げられる。このような高純度希ガス供給装置は、多種類
のガスを使用する半導体製造プロセス等に設置されるこ
とが多く、複数のガス種が同プロセスにおいて混入され
ることがある。このような場合には、不純物窒素だけで
なく、他の成分が混入したことを定性的にでも検知でき
るものであることが望ましい。
【００３９】また、大気圧プラズマを利用した分光分析
は、一般に共存物質の影響（共存影響）を受けやすいこ
とが知られている。本発明でも同様であって、成分によ
って度合いは異なるものの、感度やベースラインの変化
といった共存影響が観測される。この影響が大きい場合
には、測定対象成分の感度が著しく低下し、実際には測
定対象成分が共存影響のない場合に十分に検出できる量
で存在していても、測定対象成分を検出できずに存在し
ていないかのような情報を発信する可能性がある。ガス
の供給装置の制御モニターとしては、このような誤った
情報発信は、供給装置の誤作動を導くおそれがある。
は、一般に共存物質の影響（共存影響）を受けやすいこ
とが知られている。本発明でも同様であって、成分によ
って度合いは異なるものの、感度やベースラインの変化
といった共存影響が観測される。この影響が大きい場合
には、測定対象成分の感度が著しく低下し、実際には測
定対象成分が共存影響のない場合に十分に検出できる量
で存在していても、測定対象成分を検出できずに存在し
ていないかのような情報を発信する可能性がある。ガス
の供給装置の制御モニターとしては、このような誤った
情報発信は、供給装置の誤作動を導くおそれがある。
【００４０】そこで、窒素濃度測定時における共存影響
を及ぼす物質の濃度をあらかじめ測定しておき、該物質
の濃度に応じて窒素濃度を補正する方法が考えられる。
図７は、この共存影響を考慮した分析装置の一形態例を
示す系統図であってメインライン２２に不純物センサー
５１を設けたものである。なお、図７において、前記図
１に示した分析計の構成要素と同一の構成要素には同一
の符号を付して詳細な説明は省略する。
を及ぼす物質の濃度をあらかじめ測定しておき、該物質
の濃度に応じて窒素濃度を補正する方法が考えられる。
図７は、この共存影響を考慮した分析装置の一形態例を
示す系統図であってメインライン２２に不純物センサー
５１を設けたものである。なお、図７において、前記図
１に示した分析計の構成要素と同一の構成要素には同一
の符号を付して詳細な説明は省略する。
【００４１】前記不純物センサー５１は、通常は酸素セ
ンサーを用いるが、その他、水分、アルゴン、ヘリウム
等の試料ガス中に混入が予想される共存物質を検知する
ものを使用することができる。この分析計は、不純物セ
ンサー５１からの不純物濃度信号を受信して窒素濃度を
補正するものであり、試料ガス中の不純物量が変動して
も正確な窒素濃度を算出することが可能である。しか
し、このような分析計は、複数の分析計又はセンサーか
らの信号を送受信して演算するシステムになるため、分
析対象によっては、例えば単一のガスを利用するプロセ
スの管理には複雑で高コストとなる。
ンサーを用いるが、その他、水分、アルゴン、ヘリウム
等の試料ガス中に混入が予想される共存物質を検知する
ものを使用することができる。この分析計は、不純物セ
ンサー５１からの不純物濃度信号を受信して窒素濃度を
補正するものであり、試料ガス中の不純物量が変動して
も正確な窒素濃度を算出することが可能である。しか
し、このような分析計は、複数の分析計又はセンサーか
らの信号を送受信して演算するシステムになるため、分
析対象によっては、例えば単一のガスを利用するプロセ
スの管理には複雑で高コストとなる。
【００４２】一方、本発明者らは、前述のような共存影
響がある場合にはベースラインが変化することを知見
し、この現象を積極的に利用することによって他成分の
共存、すなわち、他成分の混入が発生したことを検知で
きることを見出した。例えば、アルゴンやヘリウムが試
料ガス中に共存すると、クリプトン中の窒素の発光にお
けるベースラインを上昇させる傾向にある。このような
場合には、実際に窒素濃度が増加した場合も有り得るの
で、このようなベースラインを上昇させる成分について
は、その混入を感知するのは困難である。
響がある場合にはベースラインが変化することを知見
し、この現象を積極的に利用することによって他成分の
共存、すなわち、他成分の混入が発生したことを検知で
きることを見出した。例えば、アルゴンやヘリウムが試
料ガス中に共存すると、クリプトン中の窒素の発光にお
けるベースラインを上昇させる傾向にある。このような
場合には、実際に窒素濃度が増加した場合も有り得るの
で、このようなベースラインを上昇させる成分について
は、その混入を感知するのは困難である。
【００４３】しかしながら、酸素は、ベースラインの強
度を著しく低下させる成分であり、マトリックスガスで
ある希ガスの種類によって度合いは異なるが、水分も同
様の影響を示すことを見出した。したがって、ベースラ
インが低下した場合には、分析計又は測定になんらかの
異常が発生したと考えてよい。酸素や水は空気の主成分
であり、ガス配管等の外部リークやガス分離プロセスの
異常等によって容易に混入する可能性のある成分である
から、これらの混入を感知できることは、実用上極めて
有用である。このように、ベースラインの低下を監視す
ることによって不純物成分の混入を感知することが可能
であり、さらに、なんらかの原因で放電が途絶えた場合
にもベースラインの低下が見られるので、放電の異常を
直ちに感知できる。
度を著しく低下させる成分であり、マトリックスガスで
ある希ガスの種類によって度合いは異なるが、水分も同
様の影響を示すことを見出した。したがって、ベースラ
インが低下した場合には、分析計又は測定になんらかの
異常が発生したと考えてよい。酸素や水は空気の主成分
であり、ガス配管等の外部リークやガス分離プロセスの
異常等によって容易に混入する可能性のある成分である
から、これらの混入を感知できることは、実用上極めて
有用である。このように、ベースラインの低下を監視す
ることによって不純物成分の混入を感知することが可能
であり、さらに、なんらかの原因で放電が途絶えた場合
にもベースラインの低下が見られるので、放電の異常を
直ちに感知できる。
【００４４】例えば、分析計の校正時に、測定対象成分
及び共存影響成分が十分に低い濃度である高純度ガスを
通気してあらかじめ発光強度を測定し、そのときの発光
強度（ベースレベル）を基準発光強度として記憶させて
おき、試料ガスを通気して測定した発光強度、即ち測定
発光強度と前記基準発光強度と比較し、測定発光強度が
基準発光強度より一定範囲を超えて小さくなったときに
は、共存影響を及ぼす成分の混入が発生したか、放電の
停止等の装置の異常が発生して正常な測定値を示すこと
ができなくなっているかとの判定を行い、警報等により
供給装置の運転者に伝えることが可能となる。
及び共存影響成分が十分に低い濃度である高純度ガスを
通気してあらかじめ発光強度を測定し、そのときの発光
強度（ベースレベル）を基準発光強度として記憶させて
おき、試料ガスを通気して測定した発光強度、即ち測定
発光強度と前記基準発光強度と比較し、測定発光強度が
基準発光強度より一定範囲を超えて小さくなったときに
は、共存影響を及ぼす成分の混入が発生したか、放電の
停止等の装置の異常が発生して正常な測定値を示すこと
ができなくなっているかとの判定を行い、警報等により
供給装置の運転者に伝えることが可能となる。
【００４５】前記基準発光強度を記憶する手段、測定発
光強度と基準発光強度とを比較する手段、比較結果に基
づく判定を行う手段は、記憶演算素子を有する装置を設
けることで容易に可能であり、例えば、あらかじめ分析
計の制御及び測定のために設けられた記憶演算装置をそ
のまま兼用すればよく、市販のパソコン等を用いること
ができる。異常発生の判定基準は、例えば基準発光強度
の再現性を求め、その変動幅の３倍の変化をしきい値と
し、このしきい値以下に測定発光強度が低下したときに
異常が発生したと判定することができるが、監視対象と
なるプロセスの特性に応じたしきい値を適宜設定すれば
よい。
光強度と基準発光強度とを比較する手段、比較結果に基
づく判定を行う手段は、記憶演算素子を有する装置を設
けることで容易に可能であり、例えば、あらかじめ分析
計の制御及び測定のために設けられた記憶演算装置をそ
のまま兼用すればよく、市販のパソコン等を用いること
ができる。異常発生の判定基準は、例えば基準発光強度
の再現性を求め、その変動幅の３倍の変化をしきい値と
し、このしきい値以下に測定発光強度が低下したときに
異常が発生したと判定することができるが、監視対象と
なるプロセスの特性に応じたしきい値を適宜設定すれば
よい。
【００４６】
【実施例】参考例１ 図２に示す装置を用いて、流量制御装置２１からはアル
ゴンガスを、流量制御装置３１からは窒素を含有するア
ルゴンガスをそれぞれ供給し、バルブ３２を開閉するこ
とにより、窒素を含まないアルゴンガスと窒素を含むア
ルゴンガスとを順次放電管１１内に流入させ、放電によ
って発生したそれぞれの発光スペクトルを分光光度計１
９で測定した。なお、放電電圧は交流１００００Ｖ、放
電管内圧力は大気圧、放電管に供給するガスの総流量は
５０ｃｃ／ｍｉｎ、アルゴンガス中の窒素濃度は０及び
０．４４％とした。
ゴンガスを、流量制御装置３１からは窒素を含有するア
ルゴンガスをそれぞれ供給し、バルブ３２を開閉するこ
とにより、窒素を含まないアルゴンガスと窒素を含むア
ルゴンガスとを順次放電管１１内に流入させ、放電によ
って発生したそれぞれの発光スペクトルを分光光度計１
９で測定した。なお、放電電圧は交流１００００Ｖ、放
電管内圧力は大気圧、放電管に供給するガスの総流量は
５０ｃｃ／ｍｉｎ、アルゴンガス中の窒素濃度は０及び
０．４４％とした。
【００４７】その結果得られたスペクトルを、図３
（Ａ），（Ｂ）に示す。図３（Ｂ）のスペクトルから、
アルゴンガス中の窒素は、３３７ｎｍや３５７ｎｍ付近
に強い発光シグナルが得られることがわかる。
（Ａ），（Ｂ）に示す。図３（Ｂ）のスペクトルから、
アルゴンガス中の窒素は、３３７ｎｍや３５７ｎｍ付近
に強い発光シグナルが得られることがわかる。
【００４８】参考例２ 図２に示す装置を用いて、流量制御装置２１からはクリ
プトンガスを、流量制御装置３１からは窒素を含有する
クリプトンガスをそれぞれ供給し、バルブ３２を開閉す
ることにより、窒素を含まないクリプトンガスと窒素を
含むクリプトンガスとを順次放電管１１内に流入させ、
それぞれの発光スペクトルを分光光度計１９で測定し
た。なお、ガス種を代えた以外、その他の測定条件は参
考例１と同じにした。
プトンガスを、流量制御装置３１からは窒素を含有する
クリプトンガスをそれぞれ供給し、バルブ３２を開閉す
ることにより、窒素を含まないクリプトンガスと窒素を
含むクリプトンガスとを順次放電管１１内に流入させ、
それぞれの発光スペクトルを分光光度計１９で測定し
た。なお、ガス種を代えた以外、その他の測定条件は参
考例１と同じにした。
【００４９】その結果得られたスペクトルを図４
（Ａ），（Ｂ）に示す。図４（Ｂ）のスペクトルから、
クリプトンガス中の窒素の発光は、アルゴンガス中の窒
素の場合とは全く異なり、３３７ｎｍや３５７ｎｍ付近
に発光シグナルは得られず、２３８ｎｍや２４８ｎｍ付
近に強い発光シグナルが得られることがわかる。
（Ａ），（Ｂ）に示す。図４（Ｂ）のスペクトルから、
クリプトンガス中の窒素の発光は、アルゴンガス中の窒
素の場合とは全く異なり、３３７ｎｍや３５７ｎｍ付近
に発光シグナルは得られず、２３８ｎｍや２４８ｎｍ付
近に強い発光シグナルが得られることがわかる。
【００５０】実施例１ 図１に示す装置を用いて、流量制御装置２１からはクリ
プトンガスを、流量制御装置３１からは窒素を含有する
クリプトンガスをそれぞれ供給し、流量制御装置３１に
よって窒素濃度を所望濃度に調節した。窒素を一定濃度
含むクリプトンガス及び窒素を含まないクリプトンガス
を放電管１１にそれぞれ供給し、ガスの総流量を、線速
度が１５〜２００ｃｍ／ｍｉｎの範囲で変化させて発光
強度を測定した。ここで用いた放電管は、図８及び図９
に示すように、放電管長さＬが２３０ｍｍで、放電管１
１の内径Ｒ１が２５ｍｍ、内部電極１２の外径Ｒ２が１
５ｍｍであり、流路断面積は３１４ｍｍ２である。測定
条件は、放電電圧：交流１００００Ｖ、放電管内圧力：
５０ｋＰａＧ、クリプトンガス中窒素濃度：０ｐｐｍ及
び１０ｐｐｍ、測定波長：２３８ｎｍとした。
プトンガスを、流量制御装置３１からは窒素を含有する
クリプトンガスをそれぞれ供給し、流量制御装置３１に
よって窒素濃度を所望濃度に調節した。窒素を一定濃度
含むクリプトンガス及び窒素を含まないクリプトンガス
を放電管１１にそれぞれ供給し、ガスの総流量を、線速
度が１５〜２００ｃｍ／ｍｉｎの範囲で変化させて発光
強度を測定した。ここで用いた放電管は、図８及び図９
に示すように、放電管長さＬが２３０ｍｍで、放電管１
１の内径Ｒ１が２５ｍｍ、内部電極１２の外径Ｒ２が１
５ｍｍであり、流路断面積は３１４ｍｍ２である。測定
条件は、放電電圧：交流１００００Ｖ、放電管内圧力：
５０ｋＰａＧ、クリプトンガス中窒素濃度：０ｐｐｍ及
び１０ｐｐｍ、測定波長：２３８ｎｍとした。
【００５１】線速度に対する発光強度の変化を図５に示
す。この結果から、最初は線速度の増加と共に窒素の発
光強度が増加していくが、線速度が８０ｃｍ／ｍｉｎを
越えると下降していく傾向にあり、流量条件としては６
０〜１００ｃｃ／ｍｉｎの線速度が好ましいことがわか
る。
す。この結果から、最初は線速度の増加と共に窒素の発
光強度が増加していくが、線速度が８０ｃｍ／ｍｉｎを
越えると下降していく傾向にあり、流量条件としては６
０〜１００ｃｃ／ｍｉｎの線速度が好ましいことがわか
る。
【００５２】実施例２ 放電管のガス流量を５０ｃｃ／ｍｉｎとし、放電管内の
圧力を０〜２００ｋＰａＧの範囲で変化させたときの発
光強度を測定した。その他の条件は実施例２と同じにし
た。その結果、図６に示すように、圧力が高くなるほど
感度が良くなる傾向にあることがわかる。
圧力を０〜２００ｋＰａＧの範囲で変化させたときの発
光強度を測定した。その他の条件は実施例２と同じにし
た。その結果、図６に示すように、圧力が高くなるほど
感度が良くなる傾向にあることがわかる。
【００５３】参考例３ 図２に示す装置を用いて、流量制御装置２１からはクリ
プトンガスとアルゴンガスとの混合ガスを、流量制御装
置３１からは窒素をそれぞれ供給し、バルブ３２を開閉
し、窒素を含まないクリプトンガスとアルゴンガスとの
混合ガスと、窒素を含むクリプトンガスとアルゴンガス
との混合ガスとを順次放電管１１内に流入させ、それぞ
れの発光スペクトルを分光光度計１９で測定した。測定
結果を図１０（Ａ），（Ｂ）に示す。
プトンガスとアルゴンガスとの混合ガスを、流量制御装
置３１からは窒素をそれぞれ供給し、バルブ３２を開閉
し、窒素を含まないクリプトンガスとアルゴンガスとの
混合ガスと、窒素を含むクリプトンガスとアルゴンガス
との混合ガスとを順次放電管１１内に流入させ、それぞ
れの発光スペクトルを分光光度計１９で測定した。測定
結果を図１０（Ａ），（Ｂ）に示す。
【００５４】測定条件は、放電電圧：交流１００００
Ｖ、放電管内圧力：大気圧、ガスの総流量：５０ｃｃ／
ｍｉｎ、クリプトンガス中のアルゴンガス濃度：２０
％、クリプトンガス＋アルゴンガス混合ガス中の窒素濃
度：２３６ｐｐｍとした。窒素を含まないときの図１０
（Ａ）と窒素を含むときの図１０（Ｂ）とから、クリプ
トンガスとアルゴンガスとからなる混合ガス中の窒素の
発光は、アルゴンガス中の窒素の場合とは全く異なり、
３３７ｎｍや３５７ｎｍ付近には発光シグナルは得られ
ず、２３８ｎｍや２４８ｎｍ付近に強い発光シグナルが
得られることがわかる。
Ｖ、放電管内圧力：大気圧、ガスの総流量：５０ｃｃ／
ｍｉｎ、クリプトンガス中のアルゴンガス濃度：２０
％、クリプトンガス＋アルゴンガス混合ガス中の窒素濃
度：２３６ｐｐｍとした。窒素を含まないときの図１０
（Ａ）と窒素を含むときの図１０（Ｂ）とから、クリプ
トンガスとアルゴンガスとからなる混合ガス中の窒素の
発光は、アルゴンガス中の窒素の場合とは全く異なり、
３３７ｎｍや３５７ｎｍ付近には発光シグナルは得られ
ず、２３８ｎｍや２４８ｎｍ付近に強い発光シグナルが
得られることがわかる。
【００５５】実施例３ 図１に示す装置を用いて、窒素含有量の異なる（０ｐｐ
ｍ、１１．１ｐｐｍ、２１．８ｐｐｍ、３２．０ｐｐ
ｍ、５１．５ｐｐｍ、６９．５ｐｐｍ）５種類のクリプ
トンガスガスを１５分間隔で切り換えて放電管１１に導
入した。測定条件は、放電電圧：交流１００００Ｖ、放
電管内圧力：大気圧、ガス総流量４９．５ｃｃ／ｍｉ
ｎ、測定波長：２３８ｎｍとした。窒素濃度に対する発
光強度の関係を図１１に、発光強度の時間経過ステップ
を図１２にそれぞれ示す。この結果から、窒素濃度と発
光強度との間には直線性があり、比例関係があることが
わかる。
ｍ、１１．１ｐｐｍ、２１．８ｐｐｍ、３２．０ｐｐ
ｍ、５１．５ｐｐｍ、６９．５ｐｐｍ）５種類のクリプ
トンガスガスを１５分間隔で切り換えて放電管１１に導
入した。測定条件は、放電電圧：交流１００００Ｖ、放
電管内圧力：大気圧、ガス総流量４９．５ｃｃ／ｍｉ
ｎ、測定波長：２３８ｎｍとした。窒素濃度に対する発
光強度の関係を図１１に、発光強度の時間経過ステップ
を図１２にそれぞれ示す。この結果から、窒素濃度と発
光強度との間には直線性があり、比例関係があることが
わかる。
【００５６】実施例４ 図１に示す装置を用いて、窒素含有量の異なる（０ｐｐ
ｍ、２９８ｐｐｍ、５９６ｐｐｍ）３種類のキセノンガ
スガスを放電管１１に導入したときの窒素の発光強度を
測定した。測定条件は、放電電圧：交流１００００Ｖ、
放電管内圧力：大気圧、ガス総流量４７．６ｃｃ／ｍｉ
ｎ、測定波長：２４６ｎｍとした。得られた窒素濃度と
発光強度との関係を図１３に示す。この結果から、両者
の関係には直線性があり、窒素濃度と発光強度とには比
例関係があることがわかる。
ｍ、２９８ｐｐｍ、５９６ｐｐｍ）３種類のキセノンガ
スガスを放電管１１に導入したときの窒素の発光強度を
測定した。測定条件は、放電電圧：交流１００００Ｖ、
放電管内圧力：大気圧、ガス総流量４７．６ｃｃ／ｍｉ
ｎ、測定波長：２４６ｎｍとした。得られた窒素濃度と
発光強度との関係を図１３に示す。この結果から、両者
の関係には直線性があり、窒素濃度と発光強度とには比
例関係があることがわかる。
【００５７】実施例５ 図１に示す装置を用いて、窒素含有量の異なる（０ｐｐ
ｍ、２ｐｐｍ、４ｐｐｍ、６ｐｐｍ、８ｐｐｍ、１０ｐ
ｐｍ）６種類のアルゴンガスガスを放電させたときの窒
素の発光強度を測定した。測定条件は、放電電圧：１０
０００ＶＡＣ、放電管内圧力：大気圧、ガス総流量４８
ｃｃ／ｍｉｎ、測定波長：２３８ｎｍとした。得られた
窒素濃度と発光強度との関係を図１４に示す。この結果
から、両者の関係には直線性があり、窒素濃度と発光強
度とには比例関係があることがわかる。
ｍ、２ｐｐｍ、４ｐｐｍ、６ｐｐｍ、８ｐｐｍ、１０ｐ
ｐｍ）６種類のアルゴンガスガスを放電させたときの窒
素の発光強度を測定した。測定条件は、放電電圧：１０
０００ＶＡＣ、放電管内圧力：大気圧、ガス総流量４８
ｃｃ／ｍｉｎ、測定波長：２３８ｎｍとした。得られた
窒素濃度と発光強度との関係を図１４に示す。この結果
から、両者の関係には直線性があり、窒素濃度と発光強
度とには比例関係があることがわかる。
【００５８】実施例６ 図１に示す装置を用いて、流量制御装置２１からはクリ
プトンガスを、流量制御装置３１からはアルゴンガスを
それぞれ供給し、流量制御装置３１を調節してアルゴン
ガス濃度を変化させ、アルゴンガス濃度による発光強度
の変化を測定した。測定条件は、放電電圧：交流１００
００Ｖ、放電管内圧力：大気圧、ガスの総流量：４７．
９ｃｃ／ｍｉｎ、アルゴンガス濃度：０〜１００％、測
定波長：２３８ｎｍとした。測定結果を図１５に示す。
プトンガスを、流量制御装置３１からはアルゴンガスを
それぞれ供給し、流量制御装置３１を調節してアルゴン
ガス濃度を変化させ、アルゴンガス濃度による発光強度
の変化を測定した。測定条件は、放電電圧：交流１００
００Ｖ、放電管内圧力：大気圧、ガスの総流量：４７．
９ｃｃ／ｍｉｎ、アルゴンガス濃度：０〜１００％、測
定波長：２３８ｎｍとした。測定結果を図１５に示す。
【００５９】この結果から、クリプトンガス中にアルゴ
ンガスが混入すると、クリプトンガスだけが放電してい
るときのベースラインよりも増加するため、アルゴン
（不純物）の混入を検出することが可能であることがわ
かる。また、アルゴンガスに代えてヘリウムガスを混入
した場合も同様であった。
ンガスが混入すると、クリプトンガスだけが放電してい
るときのベースラインよりも増加するため、アルゴン
（不純物）の混入を検出することが可能であることがわ
かる。また、アルゴンガスに代えてヘリウムガスを混入
した場合も同様であった。
【００６０】実施例７ 図１に示す装置を用いて、流量制御装置２１からはクリ
プトンガスを、流量制御装置３１からは酸素ガスをそれ
ぞれ供給し、バルブ３２を開閉することにより、酸素を
含むクリプトンガスと酸素を含まないクリプトンガスと
を交互に放電管１１内に流入させるようにし、それぞれ
の発光強度を測定した。ガス種及び濃度以外の条件は実
施例６と同じにした。測定結果を図１６に示す。
プトンガスを、流量制御装置３１からは酸素ガスをそれ
ぞれ供給し、バルブ３２を開閉することにより、酸素を
含むクリプトンガスと酸素を含まないクリプトンガスと
を交互に放電管１１内に流入させるようにし、それぞれ
の発光強度を測定した。ガス種及び濃度以外の条件は実
施例６と同じにした。測定結果を図１６に示す。
【００６１】この結果から、クリプトンガス中に酸素ガ
スが混入すると、ベースラインは、クリプトンガスだけ
が放電しているときよりも減少するため、酸素（不純
物）の混入を検出することが可能であることがわかる。
スが混入すると、ベースラインは、クリプトンガスだけ
が放電しているときよりも減少するため、酸素（不純
物）の混入を検出することが可能であることがわかる。
【００６２】実施例８ 図７に示す装置を用いて、流量制御装置２１からは純ク
リプトンガス及び窒素を２８ｐｐｍ含有するクリプトン
ガスを、流量制御装置３１からは酸素ガスをそれぞれ供
給し、流量制御装置３１を調節することにより、純クリ
プトンガス及び窒素を２８ｐｐｍ含有するクリプトンガ
スに酸素ガスを所定の濃度（０ｐｐｍ、２０ｐｐｍ、４
０ｐｐｍ、６０ｐｐｍ、８０ｐｐｍ）となるように添加
し、それぞれの発光強度を測定した。ガス種及び濃度以
外の条件は実施例７と同じにした。測定結果を図１７に
示す。この結果から、図１８に示すように、酸素が共存
すると窒素の発光強度が減少し、クリプトン中の窒素の
感度が悪くなることがわかる。
リプトンガス及び窒素を２８ｐｐｍ含有するクリプトン
ガスを、流量制御装置３１からは酸素ガスをそれぞれ供
給し、流量制御装置３１を調節することにより、純クリ
プトンガス及び窒素を２８ｐｐｍ含有するクリプトンガ
スに酸素ガスを所定の濃度（０ｐｐｍ、２０ｐｐｍ、４
０ｐｐｍ、６０ｐｐｍ、８０ｐｐｍ）となるように添加
し、それぞれの発光強度を測定した。ガス種及び濃度以
外の条件は実施例７と同じにした。測定結果を図１７に
示す。この結果から、図１８に示すように、酸素が共存
すると窒素の発光強度が減少し、クリプトン中の窒素の
感度が悪くなることがわかる。
【００６３】次に、酸素が共存するときのクリプトン中
の窒素濃度の補正方法を説明する。まず、図１８から、
酸素濃度（Ｘ［ｐｐｍ］）とクリプトン中の窒素の感度
（Ｙ［Ｖ／ｐｐｍ］）との間には、 Ｙ＝０．０００００５９１Ｘ２−０．０００９０５Ｘ＋
０．０５２７ という関係式が成り立ち、例えば、酸素濃度が０ｐｐｍ
のときのクリプトン中の窒素の感度は０．０５２７［Ｖ
／ｐｐｍ］であり、酸素濃度が４０ｐｐｍのときのクリ
プトン中の窒素の感度は０．０２５９［Ｖ／ｐｐｍ］で
あると算出できる。
の窒素濃度の補正方法を説明する。まず、図１８から、
酸素濃度（Ｘ［ｐｐｍ］）とクリプトン中の窒素の感度
（Ｙ［Ｖ／ｐｐｍ］）との間には、 Ｙ＝０．０００００５９１Ｘ２−０．０００９０５Ｘ＋
０．０５２７ という関係式が成り立ち、例えば、酸素濃度が０ｐｐｍ
のときのクリプトン中の窒素の感度は０．０５２７［Ｖ
／ｐｐｍ］であり、酸素濃度が４０ｐｐｍのときのクリ
プトン中の窒素の感度は０．０２５９［Ｖ／ｐｐｍ］で
あると算出できる。
【００６４】また、酸素濃度（Ｘ［ｐｐｍ］）と純クリ
プトンのベースライン（Ｚ［Ｖ］）との間には、 Ｚ＝０．００００３５１Ｘ２−０．００５１５Ｘ＋２．
６５ という関係式が成り立つことから、酸素濃度が０ｐｐｍ
のときの純クリプトンのベースラインは２．６５［Ｖ］
であり、酸素濃度が４０ｐｐｍのときの、純クリプトン
のベースラインは２．５１［Ｖ］であると算出できる。
プトンのベースライン（Ｚ［Ｖ］）との間には、 Ｚ＝０．００００３５１Ｘ２−０．００５１５Ｘ＋２．
６５ という関係式が成り立つことから、酸素濃度が０ｐｐｍ
のときの純クリプトンのベースラインは２．６５［Ｖ］
であり、酸素濃度が４０ｐｐｍのときの、純クリプトン
のベースラインは２．５１［Ｖ］であると算出できる。
【００６５】例えば、クリプトン中に酸素が４０ｐｐ
ｍ、窒素が２８ｐｐｍ含まれているときの出力は３．２
５Ｖとなるが、このとき電圧値から算出した補正前の窒
素濃度は、 （３．２５−２．６５）÷０．０５２７＝１１．４［ｐ
ｐｍ］ となり、実際の濃度（２８ｐｐｍ）より低く見えてしま
うことがわかる。
ｍ、窒素が２８ｐｐｍ含まれているときの出力は３．２
５Ｖとなるが、このとき電圧値から算出した補正前の窒
素濃度は、 （３．２５−２．６５）÷０．０５２７＝１１．４［ｐ
ｐｍ］ となり、実際の濃度（２８ｐｐｍ）より低く見えてしま
うことがわかる。
【００６６】ここで、補正式に従って電圧値から窒素濃
度を算出すると、 （３．２５−２．５１）÷０．０２５９＝２８．６［ｐ
ｐｍ］ となり、試料ガス中の酸素濃度を測定することにより、
窒素濃度を実際の数値に補正できることがわかる。
度を算出すると、 （３．２５−２．５１）÷０．０２５９＝２８．６［ｐ
ｐｍ］ となり、試料ガス中の酸素濃度を測定することにより、
窒素濃度を実際の数値に補正できることがわかる。
【００６７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
各種ガス中に微量に存在する窒素の濃度を高い精度で測
定することができ、しかも、連続的に安定した状態で測
定することができる。さらに、他のガスを添加せずに分
析できるため、分析コストの低減が図れるとともに、分
析後のガスをそのまま再利用することが可能であり、高
価なクリプトンガスやキセノンガスを廃棄することなく
再使用することで、これらのガスを使用する装置等にお
けるガスコストの低減も図れる。
各種ガス中に微量に存在する窒素の濃度を高い精度で測
定することができ、しかも、連続的に安定した状態で測
定することができる。さらに、他のガスを添加せずに分
析できるため、分析コストの低減が図れるとともに、分
析後のガスをそのまま再利用することが可能であり、高
価なクリプトンガスやキセノンガスを廃棄することなく
再使用することで、これらのガスを使用する装置等にお
けるガスコストの低減も図れる。
【図１】 本発明装置の一形態例を示す系統図である。
【図２】 内部電極をガラスで覆った放電管を利用した
分析計の一例を示す系統図である。
分析計の一例を示す系統図である。
【図３】 参考例１におけるアルゴンガス中の窒素の有
無による発光スペクトルを示す図である。
無による発光スペクトルを示す図である。
【図４】 参考例２におけるクリプトンガス中の窒素の
有無による発光スペクトルを示す図である。
有無による発光スペクトルを示す図である。
【図５】 実施例１における放電管内での試料ガスの線
速度と検出器の出力差との関係を示す図である。
速度と検出器の出力差との関係を示す図である。
【図６】 実施例２における放電管内での試料ガスの圧
力と検出器の出力差との関係を示す図である。
力と検出器の出力差との関係を示す図である。
【図７】 共存影響を考慮した分析装置の一形態例を示
す系統図である。
す系統図である。
【図８】 実施例１で使用した放電管の断面正面図であ
る。
る。
【図９】 実施例１で使用した放電管の断面側面図であ
る。
る。
【図１０】 参考例３におけるクリプトンガスとアルゴ
ンガスとの混合ガス中の窒素の有無による発光スペクト
ルを示す図である。
ンガスとの混合ガス中の窒素の有無による発光スペクト
ルを示す図である。
【図１１】 実施例３におけるクリプトンガス中の窒素
濃度と発光強度との関係を示す図である。
濃度と発光強度との関係を示す図である。
【図１２】 実施例３における発光強度の時間経過ステ
ップを示す図である。
ップを示す図である。
【図１３】 実施例４における窒素濃度と発光強度との
関係を示す図である。
関係を示す図である。
【図１４】 実施例５における窒素濃度と発光強度との
関係を示す図である。
関係を示す図である。
【図１５】 実施例６におけるクリプトンガス中のアル
ゴンガス濃度と発光強度との関係を示す図である。
ゴンガス濃度と発光強度との関係を示す図である。
【図１６】 実施例７におけるクリプトンガス中に酸素
を加えたときの発光強度の変化を示す図である。
を加えたときの発光強度の変化を示す図である。
【図１７】 実施例８におけるクリプトンガス及び窒素
を含有するクリプトンガス中に酸素ガスを加えた時の発
光強度の変化を示す図である。
を含有するクリプトンガス中に酸素ガスを加えた時の発
光強度の変化を示す図である。
【図１８】 実施例８におけるクリプトンガス及び窒素
を含有するクリプトンガス中に酸素ガスを加えた時のク
リプトンガス中の窒素の感度の変化を示す図である。
を含有するクリプトンガス中に酸素ガスを加えた時のク
リプトンガス中の窒素の感度の変化を示す図である。
１１…放電管、１２…内部電極、１３…外部電極、１４
…交流電源、１５…石英窓、１６…試料ガス導入経路、
１７…試料ガス導出経路、１８…レンズ、１９…分光光
度計、２１…流量制御装置、２２…メインライン、２３
…分析ライン、２４…圧力制御装置、２５…流量制御装
置、２６…圧力制御装置、２７…タンク、２８…ライ
ン、２９…昇圧手段、３１…流量制御器、３２…バル
ブ、４１…干渉フィルター、４２…検出器、４３…アン
プ、４４…表示部、４５…検出器用高圧電源、５１…不
純物センサー
…交流電源、１５…石英窓、１６…試料ガス導入経路、
１７…試料ガス導出経路、１８…レンズ、１９…分光光
度計、２１…流量制御装置、２２…メインライン、２３
…分析ライン、２４…圧力制御装置、２５…流量制御装
置、２６…圧力制御装置、２７…タンク、２８…ライ
ン、２９…昇圧手段、３１…流量制御器、３２…バル
ブ、４１…干渉フィルター、４２…検出器、４３…アン
プ、４４…表示部、４５…検出器用高圧電源、５１…不
純物センサー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 君島 哲也 東京都港区西新橋１−16−７ 日本酸素株 式会社内 Ｆターム(参考） 2G043 AA01 BA07 CA01 DA05 DA06 EA06 JA03 KA03 LA01 LA02 LA03 NA01 NA06 NA13
Claims (7)
- 【請求項１】 試料ガスを放電管内に導入して、放電に
より生じた光を集光し、窒素に特有の波長を抽出して検
出器に導入し、検出された光の強度に応じて窒素の濃度
を連続的に測定する方法において、窒素濃度を測定する
ための波長として、２１５±２ｎｍ，２２６±２ｎｍ，
２３８±２ｎｍ，２４２±２ｎｍ，２４６±１ｎｍ，２
５６±２ｎｍ，２６０±２ｎｍ，２６６±２ｎｍ，２７
１±１ｎｍ，２７６±４ｎｍ，２８５±２ｎｍ，２９４
±１ｎｍ，３００±２ｎｍのうちの少なくとも一つを使
用することを特徴とするガス中の窒素測定方法。 - 【請求項２】 前記試料ガスが、希ガス成分として、ク
リプトンガス、キセノンガス、クリプトンとキセノンと
の混合ガス、アルゴン、ヘリウム、ネオンのいずれか１
つ以上とクリプトンとの混合ガス、アルゴン、ヘリウ
ム、ネオンのいずれか１つ以上とキセノンとの混合ガ
ス、アルゴン、ヘリウム、ネオンのいずれか１つ以上と
キセノンとクリプトンとの混合ガスのいずれかであるこ
とを特徴とする請求項１記載のガス中の窒素測定方法。 - 【請求項３】 請求項１記載のガス中の窒素測定方法に
おいて、窒素の測定に共存影響を及ぼす不純物を含まな
いガスにおける発光強度を基準発光強度としてあらかじ
め測定し、前記試料ガスの発光強度を測定した測定発光
強度と前記基準発光強度とを比較して測定発光強度が基
準発光強度より一定範囲を超えて小さくなったときに、
放電の異常又は負の共存影響を及ぼす不純物の混入のい
ずれかが発生したと判定することを特徴とするガス中の
窒素測定方法。 - 【請求項４】 前記負の共存影響を及ぼす不純物が酸素
及び水の少なくともいずれか一種であることを特徴とす
る請求項３記載のガス中の窒素測定方法。 - 【請求項５】 試料ガスを放電管内に導入して、放電に
より生じた光を集光し、窒素に特有の波長を抽出して検
出器に導入し、検出された光の強度に応じて窒素の濃度
を連続的に測定する装置において、前記検出器の前段
に、２１５±２ｎｍ，２２６±２ｎｍ，２３８±２ｎ
ｍ，２４２±２ｎｍ，２４６±１ｎｍ，２５６±２ｎ
ｍ，２６０±２ｎｍ，２６６±２ｎｍ，２７１±１ｎ
ｍ，２７６±４ｎｍ，２８５±２ｎｍ，２９４±１ｎ
ｍ，３００±２ｎｍのうちの少なくとも一つを透過する
干渉フィルター又は分光器を設置したことを特徴とする
ガス中の窒素測定装置。 - 【請求項６】 前記試料ガスが、希ガス成分として、ク
リプトンガス、キセノンガス、クリプトンとキセノンと
の混合ガス、アルゴン、ヘリウム、ネオンのいずれか１
つ以上とクリプトンとの混合ガス、アルゴン、ヘリウ
ム、ネオンのいずれか１つ以上とキセノンとの混合ガ
ス、アルゴン、ヘリウム、ネオンのいずれか１つ以上と
キセノンとクリプトンとの混合ガスのいずれかであるこ
とを特徴とする請求項５記載のガス中の窒素測定装置。 - 【請求項７】 窒素の測定に共存影響を及ぼす不純物を
含まないガスを測定したときの発光強度を基準発光強度
として記憶する手段と、試料ガスを測定したときの測定
発光強度を前記基準発光強度と比較する手段と、測定発
光強度が基準発光強度より一定範囲を超えて小さくなっ
たときに、放電の異常又は負の共存影響を及ぼす不純物
の混入のいずれかが発生したと判定する手段とを備えて
いることを特徴とする請求項５記載のガス中の窒素測定
装置。
Priority Applications (7)
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|---|---|---|---|
| JP2001184908A JP4024494B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-06-19 | ガス中の窒素測定方法及び装置 |
| TW090131290A TW534987B (en) | 2001-03-29 | 2001-12-18 | Method and apparatus for measuring nitrogen in a gas |
| CNB02103138XA CN1297814C (zh) | 2001-03-29 | 2002-01-31 | 气体中的氮的测定方法及其装置 |
| US10/098,451 US6717666B2 (en) | 2001-03-29 | 2002-03-18 | Method and apparatus for measuring nitrogen in a gas |
| EP02007070A EP1248099B1 (en) | 2001-03-29 | 2002-03-27 | Method and apparatus for measuring nitrogen in a gas |
| DE60223961T DE60223961T2 (de) | 2001-03-29 | 2002-03-27 | Verfahren und Vorrichtung zur Messung von Stickstoff in einem Gas |
| KR1020020017416A KR100822099B1 (ko) | 2001-03-29 | 2002-03-29 | 가스 중의 질소 측정 방법 및 장치 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001097154 | 2001-03-29 | ||
| JP2001-97154 | 2001-03-29 | ||
| JP2001184908A JP4024494B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-06-19 | ガス中の窒素測定方法及び装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002357551A true JP2002357551A (ja) | 2002-12-13 |
| JP4024494B2 JP4024494B2 (ja) | 2007-12-19 |
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ID=26612624
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001184908A Expired - Fee Related JP4024494B2 (ja) | 2001-03-29 | 2001-06-19 | ガス中の窒素測定方法及び装置 |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6717666B2 (ja) |
| EP (1) | EP1248099B1 (ja) |
| JP (1) | JP4024494B2 (ja) |
| KR (1) | KR100822099B1 (ja) |
| CN (1) | CN1297814C (ja) |
| DE (1) | DE60223961T2 (ja) |
| TW (1) | TW534987B (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005249551A (ja) * | 2004-03-03 | 2005-09-15 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 混合ガス中の不純物の分析方法及び装置 |
| JP2006194880A (ja) * | 2005-01-12 | 2006-07-27 | Agilent Technol Inc | 改善された感度を有する炎光光度検出器 |
| JP2006201106A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-03 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 混合ガス中の不純物の分析方法及び装置 |
| JP2007218816A (ja) * | 2006-02-20 | 2007-08-30 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 窒素分析装置 |
| JP2010537211A (ja) * | 2007-08-27 | 2010-12-02 | アルカテル−ルーセント | 発光分光法により低圧ガスを分析するためのシステム |
| JP2011099770A (ja) * | 2009-11-06 | 2011-05-19 | Taiyo Nippon Sanso Corp | アルゴンガス中の窒素濃度の測定方法 |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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