JPH10513566A - 電球用のガスの純度及び/又は圧力の測定方法及び装置 - Google Patents

電球用のガスの純度及び/又は圧力の測定方法及び装置

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JPH10513566A JP8524578A JP52457896A JPH10513566A JP H10513566 A JPH10513566 A JP H10513566A JP 8524578 A JP8524578 A JP 8524578A JP 52457896 A JP52457896 A JP 52457896A JP H10513566 A JPH10513566 A JP H10513566A
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Abstract

(57)【要約】 本発明による方法によれば、圧力に依存しない(不純物の検出)もしくは圧力に依存する(ガス圧の測定)少なくとも1つのスペクトル線の強度が選択的に測定される。この間接検出は波長が不純物の励起エネルギーより高い励起エネルギーに相当するスペクトル線の強度を使用する。このスペクトル線の強度は不純物に対する尺度になる。又は、それぞれの不純吻の少なくとも1つのスペクトル線の強度が直接測定される。同相擾乱を除去するために、2つのスペクトル線が測定され、その測定値から比が形成される。アルゴン内の不純物の間接検出には特に波長λ1=772.4nm及びλ2=738.4nmを持つアルゴン線の強度比が適することが実証され、そしてアルゴン圧力の測定には波長λ1=763.5nm及びλ2=738.4nmを持つアルゴン線の強度比Vが適することが実証された。この測定方法は特に放電ランプの高速製造ライン内に組込むのに好適である。

Description

【発明の詳細な説明】 電球用のガスの純度及び/又は圧力の測定方法及び装置 本発明は、請求項1の前文に記載された電球又は放射器用のガス、特に希ガス 又は混合ガス内の不純物の検出方法、ならびに請求項18の前文に記載された電 球又は放射器用のガス、特に希ガス、又は混合ガスのガス成分の圧力の測定方法 に関する。さらに、本発明はこれらの方法を実施するための装置に関する。 電球という呼称は白熱電球ならびに放電ランプを含むものとする。電気的放射 器という概念は、主に可視領域外の、特に紫外線又は赤外線領域の電磁放射を放 射するガス放電を意味するものとする。 上記の方法はガス圧力もしくは不純物がガス放電、特にグロー放電の蛍光スペ クトルに与える影響を利用する。この関係で不純物とは、電球又は放射器用のガ ス又は混合ガス(簡略のために以下においてはガス系と称する)内に存在するこ とが望ましくないガス状、蒸気状又は固体状の物質を称するものとする。通常こ れらの不純物は検査できない態様で例えば汚染された洗浄ガス又は封入ガスによ って、又は気密でないポンプ系及び封入系によってランプ製造中に既にガス系内 へ達している。完成したランプの場合も不純物は例えばランプ球自体での漏れに よって、又はランプ点灯中にも例えば汚染された電極又は不十分な封入圧に起因 する高い電極焼損によってランプのガス系内へ達する。不純物が混入すると、ど のような原因でも同じであるが、結局は機能しないランプ、又は寿命もしくはメ ンテナンスを制限された電球が生じることになる。 それゆえ一般的な努力の目標は、ランプ製造時にもガス系への不純物の混入が 出来るだけ僅かになるように配慮することにある。さらに完全な品質監視の意味 で、受容できないほど高い不純物を持つかもしくは目標封入圧に対して許容でき ないほどの差を有する完成したランプを検知して排除することが望ましい。この ような背景のもとに当該不純物の迅速かつ確実な検出ならびに封入圧の検査は極 めて重要である。 ガス純度の測定方法は書籍シリーズ「オスラム社の技術−科学研究報告書」( 第12巻、第546頁〜第549頁、シュプリンガー出版社、ベルリン、198 6年発行)に掲載されたエム・ガウゲルの寄稿論文「スペクトル線比較によるハ ロゲン電球でのガス純度テスト」によって知られている。この寄稿論文ではハロ ゲン電球からの光は2つのビームスプリッタによって3つの光束に分割され、ス ペクトルに異なって感応する3つのホトマルチプライヤーに送られる。個々のホ トマルチプライヤーの最大スペクトル感度は410nm、523nmもしくは6 16nm、即ち電磁スペクトルの青色、緑色及び赤色範囲の波長のところににあ る。2つのアナログ割算器によってホトマルチプライヤー信号の比“赤色/青色 ”及び“赤色/緑色”が形成され、2つの比較器によって当該値が予め調整可能 な公差範囲内にあるかどうかが比較される。当該値が公差範囲内にない場合には 、ハロゲン電球は欠陥ありとして検知され、即ち封入欠陥及び/又は許容できな いガス不純物が存在することになる。 この解決策の欠点は、光学的構成を含む試験すべきハロゲン電球とホトマルチ プライヤーは測定中は光不透過性ケース内に置かれていなければならないことに ある。そうしないと同相擾乱信号、例えば周囲光によって誤測定が生ずる。とい うのは、この擾乱信号は3つのホトマルチプライヤーによってスペクトル的に全 く異なった重み付けをなされ、それゆえ商形成の際に除去されないからである。 米国特許第4759630号明細書により白熱電球の品質を測定する装置が知 られている。この装置は、フィラメントとランプ球の外壁上に設けられた電極と の間に放電を発生させる装置と、放電によって放出された550nmと570n mの間の波長範囲内の放射を分析する装置とを含んでいる。ランプの品質は、選 択的に660nmと680nmの間の波長範囲内の放射と比較されるこの放射の 時間特性によって判定される。 米国特許第3292988号明細書では、650nm以上の波長を持つ封入ガ ス成分のアルゴンのスペクトル線の強度がランプ点灯中の蛍光ランプ内の水銀蒸 気圧のコントロールに使われている。 米国特許第5168323号明細書はガス内の不純物を測定する装置及び方法 を提案している。この装置は、電極間にガスが通流する2つの対向配置された電 極と、これらの電極に接続された低周波交流電源と、光学的測定装置とを含んで いる。交流電源によってアーク放電が発生させられ、その放射線が測定装置によ って検出される。種々の不純物の固有スペクトル線の強度から不純物濃度が線形 連立方程式によって求められる。 本発明の第一の課題は、上述の欠点を除去し、かつ比較的簡単に実現可能で特 にランプの製造に組込むことのできる電球又は放射器用のガス又は混合ガス内の 不純物の検出方法を提供することにある。さらに、この方法が特に電球の機能及 び/又は品質管理にも適するようにしたい。この課題は本発明によれば請求項1 の特徴部分によって解決される。本発明のこの部分の他の有利な特徴は請求項1 の従属項に記載されている。 本発明の他の課題は電球又は放射器用のガス、特に希ガス又は混合ガスのガス 成分の圧力の測定方法を提供することにある。さらにこの方法が特に電球又は放 射器の機能及び/又は品質管理にも適するようにしたい。この課題は本発明によ れば請求項18の特徴部分によって解決される。他の有利な特徴は請求項18の 従属項に記載されている。 本発明の更に別の課題は、提案された方法を実施することのできる装置を提供 することにある。この課題は請求項32に記載された装置によって解決される。 この装置の他の有利な特徴は請求項33乃至38に記載されている。 本発明の基本思想は、ガスもしくは混合ガスのガス成分及び場合によってはそ れに含まれる不純物が電磁放射を送出するためにガス放電によって励起されるこ とにある。場合によっては混入するガス状及び/又は蒸気状の不純物の検出、又 はガスもしくはガス成分の圧力の測定はこの放射の1つ又は複数の適当なスペク トル線の測定された強度を用いて行われる。両方法に対して著しく重要な観点は スペクトル線の選択的測定である。即ち予備試験では、製造技術的な条件の下で の信頼のおける結果は以下において説明する測定条件を遵守する場合にのみ得ら れることが判明した。 不純物の検出方法のために重要なことは、強度が重要な範囲では殆ど圧力に依 存しない1つ又は複数のスペクトル線を的確に使用することである。このように してガスの圧力変動に起因する誤測定が防止される。このことは特にランプ容器 内の不純物を検出する際にもこの方法の実際の有用性のために重要である。とい うのは、ランプの封入圧は製造に起因してばらつくからである。強度が圧力に依 存するスペクトル線はこのような理由から間違った結果をもたらす。本発明とは 異なり放射の強度が比較的幅広い波長範囲に亘って集約されると、最悪の場合に は同様に圧力に依存するスペクトル線が検出される。従って封入圧が変動すると 誤測定になる。 適当なスペクトル線の具体的な選択は場合によっては存在するガス成分、例え ばメタルハライド高圧放電ランプの封入成分を考慮して行われる。その場合、蛍 光スペクトルの他の線にオーバーラップ又は一致しない個々のスペクトル線のみ が選択される。選択された線と隣接線との間の許容し得る間隔が測定のスペクト ル分解能より大きいと有利であろう。これによって、望ましくないスペクトル線 の強度が共に測定され、それにより悪い結果が生ずるのが阻止される。 ガス、特に希ガスの圧力又は混合ガスのガス成分の圧力の測定方法のために、 ガスもしくはそれぞれのガス成分の1つ又は複数のスペクトル線が使用され、そ の場合少なくとも1つのスペクトル線の強度が圧力に依存する。励起条件に依存 する圧力範囲、一般に真空範囲から大気圧、特に約0.1kPaと約40kPa の間の範囲では、適当なスペクトル線の強度は圧力の増加と共に増大する。圧力 に依存する測定された強度及び校正測定値によってガスの絶対圧もしくは当該ガ ス成分の分圧が求められる。 両方法の改善された変形例ではその都度2つのスペクトル線の強度から商が形 成され、その場合少なくとも1つの線の強度は圧力に依存しない。雑音信号及び 伺相擾乱信号、特に周囲光もしくは散乱光がスペクトル的に接近して同一に評価 されるように、両スペクトル線が狭い間隔で隣接すると好ましい。両スペクトル 線の間隔は一般に約100nm、好ましくは約50nmより少ない。この間隔内 の上記擾乱信号はほぼ一定のスペクトル強度分布を有する。即ちこれらの信号は 選択されたスペクトル線に比較して比較的幅広いので、商形成の際に十分に除去 される。同様に、例えば電球においてランプ球の黒化によって惹き起こされる同 相の信号減少が除去される。このような理由から、単一のスペクトル線の強度の 原理的に可能な絶対測定(この絶対測定においては擾乱効果が測定結果を著しく 悪くするが、これは一般に後で校正することができない。)よりも上述の比測定 (比計量的測定法)が優れている。 比測定のための適当なスペクトル線の選択は具体的なガスもしくはガス成分に 従う。アルゴンが存在する場合、650nmと800nmの間もしくは800n mと1000nmの間の波長範囲内の適当なスペクトル線が見出される。 不純物の検出方法の具体的な実施態様においては、波長が測定すべき不純物の スペクトル線の励起エネルギーより高い励起エネルギーに相当するガスもしくは ガス成分の少なくとも1つのスペクトル線が的確に選択される。その結果、場合 によっては存在する不純物は優先的に励起される。簡単に言うと、ガス放電の電 力の一部分は、ガスもしくはガス成分の選択されたスペクトル線に応じて励起さ れた状態へ入る代わりに、この“損失チャネル”内へますます入る。これによっ て、選択されたスペクトル線の強度が減少し(対応する光学的転移は不純物によ ってますます“絞られる”、即ち所属する励起された状態の専有密度が減少する )、しかもこれは不純物(“絞りパートナー”)の濃度が高ければ高い程多くな る。このような理由から、選択されたスペクトル線の強度の減衰はランプ容器内 に存在する不純物に対する間接的な検証となる。 この間接検出法の利点は不純物が特殊なものではなくその全体が検出される点 にある。これによりたった1回の測定によって、もしくは比計量的変形例の場合 には2回の測定によって、簡単に不純物を検出することができる。それゆえこの 方法は不純物が出現した際に相応する措置を講ずるために特に検査及び監視目的 に好適である。このための例は不純物を有するランプ球を検出して排除するよう な電球の製造時の品質管理である。不純物を迅速かつ簡単に測定技術的に検出す ることによって、この方法は自動高速製造プロセスに良好に組込むことができる 。 ほぼ全ての望ましくない固体状(例えばガラス成形プロセスでの残渣)、及び /又は液状、及び/又はガス状もしくは蒸気状の不純物が検出されるが、これら の不純物は例えば排気プロセス又は封入プロセス中にランプ容器内へ達したもの である。特に、検出可能な不純物は元素の酸素(O)、水素(H)、窒素(N) 、炭素(C)、シリコン(Si)又は同様にこれらの元素の化合物、例えば水( H2O)又は炭化水素(CH)等を含んでいる。この不純物の原因はポンプ系で の漏れもしくは破損(例えばO、H2O、オイル蒸気)、又は個別に汚染された 成分 (例えば酸化した電極表面からのO、電極表面に沈着したH2O、又は吸湿性の 金属ハロゲン化物)である。シリコンは電極上の被膜として出現し、例えばラン プ球の欠陥のある挟搾によって生ぜしめられる。 ランプ技術においてはとりわけ希ガス、例えばアルゴン(Ar)、クリプトン (Kr)、キセノン(Xe)又はヘリウム(He)が使用される。これらは、励 起エネルギーが同じように高く(一般に10eV以上)、従ってこの方法に好適 であるスペクトル線を有している。スペクトル線の有用性に対する他の基準は十 分に雑音の上にある強度である。この要求は波長λ1=738.4nm、λ2=7 72.4nm及びλ3=811.5nmを有するアルゴンのスペクトル線によっ て理想的なやり方で満たされる。検査すべきガスがアルゴンから構成されるかも しくは混合ガスがアルゴンを含む場合、この方法のためにこのスペクトル線の1 つ又は複数を使用すると好ましい。個々のケースでは場合によっては他の封入成 分及びその化合物のスペクトル線に重ならないスペクトル線が選択される。特に 優れた変形例では、検出は波長λ1=772.4nm及びλ2=738.4nmを 有するアルゴン・スペクトル線の強度の商によって行われる。 関係を明らかにするために、次の表1にはアルゴンと不純物の水素(H)、窒 素(N)、酸素(O)、炭素(C)及びシリコンに関する重要な励起エネルギー 、ならびにそれらのスペクトル線の波長が示されている。この表1から、不純物 の励起エネルギーは一部がアルゴンの励起エネルギーより相当下にあることが分 かる。 例えば水(H2O)、OHラ基、炭化水素等のような分子状の不純物の場合、 電子的励起の他にさらに回転励起及び振動励起の損失チャネルが現れる。このた めに必要なエネルギーはmeVの範囲であるかもしくは数eVの大きさ(約3e V以下)であり、それゆえ何れの場合にもアルゴンのために必要な励起エネルギ ーより明らかに小さい。 この方法の他の具体的な実施態様においては、それぞれの不純物の1つ又は複 数のスペクトル線の強度が的確に測定される。この利点は、この直接法によって それぞれの不純物が特異的に検出即ち識別され、校正測定によってその濃度が測 定される点にある。これによって、それぞれの不純物の原因、例えば炭化水素化 合物(オイル蒸気)が出現した際にポンプ系の欠陥を見つけ出すことが簡単にな る。この場合の欠点は、生じ得る各不純物に対して少なくとも1つのスペクトル 線(もしくは帯)の強度がその都度測定されて評価されなければならないので、 この直接法に比較的労力が掛かる点である。 分子のNz、CN、CH又はCzの濃度の測定には、例えばそれぞれ波長357 .7nm、388.34nm、388.9nmもしくは468.48nm及び 516.5nmにおける分子帯の強度が好適である。同相擾乱を除去するために 、この測定植は圧力に依存しない適当なスペクトル線の強度に関係付けられる。 アルゴンが存在する場合、例えば波長738.4nmを有するスペクトル線が好 適である。表2には放電ランプにとっては一般的な幾つかの不純物が列挙されて いる。同様に直接検出に適する波長がリストアップされている。 拡張形2段階法は直接測定法と間接測定法との組合わせである。第1工程で最 初に間接測定法によって、主に不純物が存在するかどうかが検査される。不純物 が存在する場合にのみ、第2段階で直接測定法によって不純物の個々の成分の定 性的及び/又は定量的測定が行われる。 この方法の他の変形例は放電ランプ、特にメタルハライド高圧放電ランプの品 質を判定するのに使われる。この変形例では電極の品質を判定するためにランプ の始動中におけるスペクトル線の時間に依存する強度変化が補助的に利用される 。このためにランプ電極によってランプの放電管内にグロー放電が発生させられ る。電極の性質及び状態(例えば表面、形状、材料)に応じて、このグロー放電 は例えば最初に電極軸のところで燃焼し、その後電極先端部へ移行する。このた めに必要な時間は電極の品質に依存し、一般的に十分の数秒と数秒の間を変動す る。この時間は電極が酸化されていたり及び/又は石英又は他の沈着物によって 汚染されている場合ならびに電極形状が適当ではない場合には延ばされる。さら に、始動挙動は放電管内に場合によって存在する不純物と点弧ガスのごく僅かな 封入圧とによって影響される。始動相の期間及びこの始動相中におけるスペクト ル線の強度推移が予め定めた公差範囲内にある場合、ランプは品質要求を満たす ことになる。それ以外の場合、ランプは欠陥品として又は不適格品として排除す ることができる。 固体状又は液体状の封入成分を持つ放電ランプの場合、グロー放電が小電力で 及び/又は短時間だけ、例えば間歇的に起こされると有利でる。このようにして この封入成分の重要部分が蒸気相になるのが阻止される。即ちさもなければ蒸気 のスペクトル線が励起され、このスペクトル線が場合によっては存在する不純物 を覆い、それにより誤測定が生ぜしめられる。 アルゴンの圧力の測定方法の具体的な実施態様においては、λ=763.5n mの波長を持つスペクトル線の強度が測定される。他の圧力範囲、特に約0.1 kPaと約40kPaの間の範囲では、このスペクトル線の強度は圧力の増加と 共に増大する。校正測定によって強度から圧力が直接求められる。比計量的変形 例においては、この強度は第2スペクトル線の圧力に依存しない測定された強度 に関係付けられる。例えば738.4nmの波長を持つアルゴンのスペクトル線 が好適である。 本発明による方法を実施するための適当な装置は、ガスもしくは混合ガス及び 場合によってそれらに含まれる不純物が存在する容器と、結合装置を介してその 容器に接続されガス放電、特にグロー放電を発生させるエネルギー供給ユニット と、スペクトル線の強度を測定する分光測定装置と、測定値から必要に応じて不 純物を検出するかもしくは特異な不純物を識別ししかもその濃度を発信し及び/ 又はガスもしくは混合ガスのガス成分の圧力(分圧)を求める評価装置とから構 成される。 容器は例えば、ランプ球、又はランプ製造ラインのポンプ系又はガス系に接続 された試料容器とすることができる。 エネルギー供給ユニットは例えば高周波発生器が好適である。この場合、結合 装置は放電管内に配置された電極、例えば放電ランプのランプ電極又は外部電極 から構成することができる。外部電極の場合、高周波発生器に接続された電極は 容器の外壁上に設けられる。この変形例は誘電体電極を用いた容量性高周波放電 とも称される。この変形例は白熱電球への使用に特に好適であり、その場合フィ ラメント自体を内部電極として使うこともできる。この場合にはさらに外部(誘 電体)電極が必要なだけである。同様に容器は高周波発生器によって給電される コイルの内部に配置することができ、それにより誘導性高周波放電が起こされる 。 スペクトル分離装置は最も簡単な場合、測定すべきスペクトル線毎に狭帯域光 (干渉)フィルタ(一般的な分解能は約5nm〜10nm)から構成される。又 は、放射を分散形素子(例えばプリズム又は格子)によってスペクトル成分に分 解する、即ち光スペクトルを発生するスペクトロメータが好適である。他の利点 はスペクトロメータの高い分解能(一般的に1mm以下)である。検出限界を高 めるために、容器とスペクトル分離装置との間に光学素子(例えばレンズ又はミ ラー)を補助的に設置し、この光学素子によってスペクトル分離装置へ蛍光放射 を案内し集束させると有利である。 評価装置は最も簡単な場合1つ又は複数の検出器素子、例えばホトダイオード 又はダイオード列もしくはダイオードアレイを有する。この検出器素子は放射の スペクトル成分をその都度の強度に相応する電圧信号に変換する。表示ユニット はこの電圧信号をアナログ又はディジタル表示にて見ることができるようにする 。さらに、電圧信号は例えば比計量的変形例での商形成を実行する電子計算機へ 供給することもできる。測定結果を用いかつ校正値に基づいて個々の不純物の濃 度又はガス圧力を算出し、出力することができる。信号−雑音比を改善するため に、及び/又は測定結果へ確率的強度変動が影響するのを減少させるために、計 算機によって複数回の同種の測定に亘る累積平均値算出を実行すると有利である 。 放電ランプの製造時の分光的品質管理のための校正値を求めるためには次の方 法が有効である。 第1工程で、ランプの形式、例えばメタルハライド高圧放電ランプの機能及び 性能に対する尺度として使われるパラメータの限界値が求められる。適当なラン プパラメータは、例えば、点弧電圧(これは放電の点弧のために必要な電圧)、 始動ピーク電圧(これはランプの投入後の電圧が安定なアーク放電の形成中に経 る最大値)、再点弧ピーク電圧(これはランプ電極に印加された交流電圧のピー ク値)、ならびにアーク引受時間(これはランプの投入からアークが形成される までの時間)である。上記電気的ランプパラメータの値はランプ内の不純物の増 加と共に増大する。 第2工程で、相応する比較測定において電気的ランプパラメータの値は分光測 定値と相互関係を持たされる。このために例えば一定の不純物を有するランプが 製造され、分光測定され、同様にそれぞれ求められた対応するランプパラメータ に割付けられる。このようにして各ランプの形式及び種々の不純物の割合のため にスペクトル強度又は強度比の一連の値範囲が作られる。これらの値はランプ又 はランプ封入物の不純物を実際に測定する際の基準として使われる。実際の測定 値もしくはこれから算出された比がそれぞれの公差範囲内にある場合、不純物は 僅少であり、それ以外の場合には受容することができず、当該ランプは排除され るかもしくは不純物の原因を取除くために製造が中断される。 分光的品質管理の大きな利点は基礎になっている測定の速さである。一般的に 数秒以内で結果が出る。これとは反対に、分光法の校正の枠内で述べた電気的ラ ンプパラメータを求めるには数分かかる(例えばアーク引受時間の限界値は一般 に6分まで許容されており、即ち場合によっては当該ランプを排除する前にはこ の時間が経過するのを待たなければならないことになる)。 本発明による方法は速ことによって高速ランプ製造ラインへの適用が可能にな る。変形例によれば分光測定法は次のようにしてランプ製造方法に組込まれる。 その場合の基本思想は、高速分光オンライン検査を主要な製造工程へ導入するこ とにある。これによって不純物は場合によっては製造工程の早期段階で検出され 、従来通常行われていたように完成した製品において初めて検出されるものでは ない。その結果、高速製造ラインではなおさら不良品を明らかに減少させること ができる。 分光測定が次の3つの製造段階で実施されると有利である。即ち1.製造ライ ンのガス系への不純物の混入をコントロールするために、ランプの放電管に封入 し電極を取付ける前に、真空環状導管に接続された試料容器内での放電によって 分光測定を行う。2.電極系及び放電管内壁への不純物の付着をコントロールす るために、放電管内に電極を取付けた後に、放電管内の試料放電、特にランプ電 極間での試料放電によって分光測定を行う。3.完成したランプの内部における 不純物が予め定めた公差範囲内に在るかどうかを検査するために、放電管に封入 して閉鎖した後に、放電管内の試料放電、特にランプ電極間での試料放電によっ て分光測定を行う。測定値が公差範囲内に在る場合、当該放電管もしくはそれに 相当する完成したランプは規定通りの使用のために供され、それ以外の場合には 排除される。 次に本発明を幾つかの実施例に基づいて詳細に説明する。 図1は試料容器内の不純物濃度の分光検出ならびにガス圧の測定装置の概略図 を示す。 図2は図1に示された装置を用いて求められた、試料容器内のアルゴン封入圧 の関数として波長763.5nm及び738.4nmを持つアルゴンの2つのス ペクトル線の強度比を示す概略図を示す。 図3はランプの放電管内の不純物の分光検出装置の概略図を示す。 図1は試料容器内の不純物濃度の検出及び測定ならびにガス圧の測定方法を実 施するための装置の概略図を示す。この装置はガラス製管状試料容器1(断面図 で示されている)と、この管状試料容器1を部分的に包囲する中実のテフロン製 矩形ブロック2と、このブロック2内に部分的に突入してそこで試料容器1の外 壁上に直径方向に対向配置された2本の金属製ピン状電極3、4と、一次巻線6 が高周波送信器7に接続され二次側8が電極3、4に接続された高電圧変成器5 と、高周波送信器7に接続されたトリガパルス発生器9と、第1の端部がブロッ ク2の一部分内に突入し試料容器1の外壁近くに配置された光導波路10と、こ の光導波路10の第1の端部の端面の直前に配置されたフィルタ11と、入力端 が光導波路10の第2の端部に接続され出力端がコンピュータ13に接続された 光スペクトロメータ12と、試料容器1を備えたブロック2、電極3、4、フィ ルタ11及び高電圧変成器5を包囲する金属製遮蔽ケース14とから構成されて いる。なお、光導波路10、及び高電圧変成器5と高周波送信器7との間の接続 ケーブルは遮蔽ケース14の当該開口部を通ってその内部へ導かれている。 管状試料容器1の直径は約20mmである。この容器の両端面にはそれぞれ1 つの金属フランジ(試料容器1の概略断面図には示されていない)が設けられて いる。この金属フランジによって、予め排気された試料容器1が電球製造時に通 常はガス封入・ポンプ系又はガス封入された製造セル(グローブボックスとも称 される)に接続され、動作又は封入ガスもしくは混合ガスを封入される。試料容 器1の内部のガスもしくは混合ガスは電極3、4と、高電圧変成器5と、高周波 送信器7とによってイオン化される。このために高周波送信器7は高電圧変成器 5によって電極3、4間では49kVまでのピーク・ピーク値に達する約120 kHzの周波数を持つ交流電圧を供給する。ガス放電への最大電力入力は約20 0Wである。高周波送信器7はトリガパルス発生器9によって駆動される。ガス 放電の蛍光放射の一部分は約300nm以上の放射のみを透過させるフィルタ1 1を介して光導波路10内へ供給される。この放射は0.5mの焦点距離と1m m当たり100ラインを持つ格子(図示されていない)とを有するスペクトロメ ータ12へ送られる。格子によって作られたスペクトルはダイオードアレイ(図 示されていない)上に結像する。このアレイの個々のダイオードは0.5nmの 狭い波長範囲の放射強度を相応する電圧信号へ変換する。この電圧信号は本発明 による方法による継続処理のために計算機13へ導かれる。 図2は図1に示された装置を用いて得られた種々異なるアルゴン封入圧の測定 結果の例を示す。波長763.5nm及び738.4nmを持つアルゴンの2つ のスペクトル線の強度の比Vが任意の単位で図1の試料容器1内のアルゴン封入 圧p〔kPa〕の関数として示されている。この図2から分かるように、その比 は圧力の増加と共に最初は連続的に増大する。約20kPaの圧力から、その比 は広い圧力範囲に亘ってほぼ一定になる。この理由は49kVに制限された電極 電圧にある。ピエゾ抵抗式マノメータを用いた比較測定が示すように、圧力は図 1の装置及び上述の方法を用いて5%の精度で約20kPaのアルゴン封入圧ま で測定することができる。 図3はランプの放電管内の不純物の検出方法を実施するための装置の概略図を 示す。この装置はメタルハライド高圧放電ランプ15と、このランプ15の電極 に接続されトリガパルス発生器17によって駆動される高周波送信器16と、半 透過性ミラー18と、それぞれ後続のホトダイオード21、22を備えた2つの 干渉フィルタ19、20(なお第1の干渉フィルタ19はそれに所属するホトダ イオード21を含めてミラー18の透過側に向けられ、第2の干渉フィルタ20 はそれに所属するホトダイオード22を含めてミラー18の反射側に向けられて いる)と、ホトダイオード21、22に接続された2チャネル形電圧計23と、 この電圧計23の両チャネルに接続された計算機24とから構成されている。 高周波送信器16によって短時間の間(一般に十分の数秒ないし数秒の間)、 小電力(一般に十分の数ワットないし数ワット)のグロー放電が点弧される。こ れによって、一方ではランプ15内の点弧ガスのアルゴン及び場合によっては存 在する不純物が蛍光に励起され、他方ではランプ内の残りの封入成分の重要な励 起が阻止される。干渉フィルタ19、20は約738.5nmもしくは772. 4nmの波長に関して±2nmの範囲内の放射のみを透過させる。ホトダイオー ド21、22はスペクトル放射成分の強度に相応する電圧 号をそれぞれ発生し 、この電圧信号が電圧計23の両チャネルによって測定される。計算機24は両 チャネルを読取り、対応する電圧値の比を算出し、その比から及び校正値によっ て大きさを求める。この大きさが公差範囲内にある場合、ランプ15は品質要求 を満たすことになる。それ以外の場合には、ランプは受容できない不純物に基づ いて欠陥品として排除される。 本発明は上述の実施例に限定されない。特に、種々の実施例の個々の特徴を互 いに組み合わせることもできる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1.ガスもしくは混合ガスのガス成分及び場合によってはそれに含まれる不純物 が電磁放射線を放出するためにガス放電によって励起され、不純物を検出するた めにこの放射線のスペクトル成分の強度が測定される電球又は放射器用のガス、 特に希ガス又は混合ガス内の不純物の検出方法において、スペクトル成分として 重要な範囲では殆ど圧力に依存しない強度を持つ少なくとも1つのスペクトル線 が的確に選択されることを特徴とする電球又は放射器用のガス又は混合ガス内の 不純物の検出方法。 2.波長が検出すべき不純物の励起エネルギーより高い励起エネルギーに相当す るガス又はガス成分のスペクトル線が的確に選択されることを特徴とする請求項 1記載の方法。 3.ガスがアルゴンから成るかもしくは混合ガスがアルゴンを含む場合、738 .4nm、772.4nm、811.5nmの波長を持つアルゴンの1つ又は複 数のスペクトル線が選択されることを特徴とする請求項2記載の方法。 4.それぞれの不純物のスペクトル線が的確に選択され、その場合このスペクト ル線の強度は当該不純物の濃度に対する直接的な尺度となることを特徴とする請 求項1記載の方法。 5.不純物は分子のNz、CN、CH又はC2の1つ又はそれらの組み合わせを含 むことを特徴とする請求項1記載の方法。 6.スペクトル線は357.7nm、388.34nm、388.9nm又は4 68.48nmもしくは516.5nmの波長を有し、それぞれ所属する分子の 分子帯のスペクトル部分であることを特徴とする請求項4又は5記載の方法。 7.ガスがアルゴンから成るかもしくは混合ガスがアルゴンを含む場合、不純物 のスペクトル強度は殆ど圧力に依存しないアルゴン線の強度に正規化されること を特徴とする請求項4乃至6の1つに記載の方法。 8.アルゴン線の波長は738.4nmであることを特徴とする請求項7記載の 方法。 9.2つのスペクトル線の強度の商が形成され、その場合両スペクトル線は狭い 間隔で隣接し、それにより雑音信号及び同相擾乱信号が商形成の際に十分に除去 されることを特徴とする請求項1乃至8の1つに記載の方法。 10.両スペクトル線の波長差は約100nmより少ないことを特徴とする請求 項9記載の方法。 11.波長差は好ましくは50nmより少ないことを特徴とする請求項10記載 の方法。 12.商形成のために、650nmと1000nmの間の範囲内の波長を持つス ペクトル線が選択されることを特徴とする請求項9記載の方法。 13.ガスがアルゴンから構成されるかもしくは混合ガスがアルゴンを含む場合 、商は波長λ1=772.4nm及びλ2=738.4nmを持つアルゴンのスペ クトル線の強度から形成されることを特徴とする請求項11記載の方法。 14.ガス放電はグロー範囲内で起こされることを特徴とする請求項1記載の方 法。 15.ガス放電は高周波によって発生させられることを特徴とする請求項1記載 の方法。 16.ガス放電は高圧放電ランプの内部で発生させられ、少なくとも1つのスペ クトル線の強度の高さの他に、ランプの始動相後の強度がその準定常値に到達す るまでの時間が補助的に測定され、その強度の高さ及び時間からランプ封入物の 不純物ならびに電極品質が求められることを特徴とする請求項1乃至15の1つ に記載の方法。 17.ガス放電は放電ランプの内部で発生させられ、以下次の補助的な工程、 a)ランプの機能及び性能を特徴的に示す電気的パラメータを求めること、 b)少なくとも1つのスペクトル線を測定すること、 c)不純物のために点弧を悪くされたかもしくは点弧されず、ならびに場合によ っては安定なアーク放電を遅らされるかもしくはアーク放電を形成されないラン プを含めて幾つかの種々に汚染されたランプのために工程a)及びb)を繰り返 して電気値を相応する分光値へ割付けること、 を行い、それによってこの種のランプの品質を分光評価するためにスペクトル強 度もしくは強度比を校正した値の基準セットを形成することを特徴とする請求項 1乃至16の1つに記載の方法。 18.ガスもしくは混合ガスのガス成分が電磁放射線を放出するためにガス放電 によって励起され、この放射線のスペクトル成分の強度から圧力(分圧)の大き さが求められる電球又は放射器用のガス、特に希ガス又は混合ガスのガス成分の 圧力の測定方法において、放射線のスペクトル成分として、圧力に依存する強度 を持つガス又はガス成分の少なくとも1つのスペクトル線が的確に選択され、そ の場合強度からガスもしくは当該ガス成分の圧力(分圧)が測定されることを特 徴とする電球又は放射器用のガス又は混合ガスのガス成分の圧力の測定方法。 19.ガスがアルゴンから成るかもしくは混合ガスがアルゴンを含む場合、アル ゴンの圧力(分圧)は波長λ=763.5nmを持つスペクトル線の強度から求 められることを特徴とする請求項18記載の方法。 20.圧力は2つのスペクトル線の強度の商から求められ、その場合第2のスペ クトル線の強度は圧力に依存せず、両スペクトル線は、雑音信号及び同相擾乱信 号が商形成の際に十分に除去されるように、狭い間隔で隣接していることを特徴 とする請求項18記載の方法。 21.両スペクトル線の波長差は約100nmより少ないことを特徴とする請求 項20記載の方法。 22.波長差は好ましくは50nmより少ないことを特徴とする請求項21記載 の方法。 23.ガスがアルゴンから成るかもしくは混合ガスがアルゴンを含む場合、商形 成のために特に波長738.4nmを持つアルゴンのスペクトル線の強度が使用 されることを特徴とする請求項20記載の方法。 24.放電はグロー範囲内で起こされることを特徴とする請求項18記載の方法 。 25.ガス放電は高周波によって発生させられることを特徴とする請求項18記 載の方法。 26.ガス内の不純物を検出するための分光法に放電ランプの製造方法に以下の 補助的な工程、即ち a)ガス系の不純物を検査するために、ランプの放電管に封入する前に、ランプ 製造ラインのガス系内での試料放電によって分光測定を行うこと、 b)電極系及び放電管の囲壁上の不純物を検査するために、放電管内へ電極を取 付けた後に、放電管内での試料放電によって分光測定を行うこと、 c)完成したランプの内部における不純物が予め定めた公差範囲内にあるかどう かを検査するために、放電管に封入して閉鎖した後に、放電管内での試料放電に よって分光測定を行うこと、 が組込まれることを特徴とする請求項1乃至25の1つに記載の方法。 27.以下の補助的な工程d)、即ち完成したランプの内部での冷封入圧が予め 定めた公差範囲内にあるかどうかを検査するために、放電管に封入して閉鎖した 後に、放電管内での試料放電によって分光測定を行うことが実行されることを特 徴とする請求項26記載の方法。 28.以下の補助的な工程e)、即ち工程a)及び/又はb)での測定値が予め 定めた公差範囲外にある場合、放電管に封入して閉鎖する前に、製造を中断する ことが実行されることを特徴とする請求項26記載の方法。 29.次の付加的な工程f)、即ち工程c)及び/又はd)での測定値が予め定 めた公差範囲外にある場合、当該放電管を排除することが実行されることを特徴 とする請求項26又は27記載の方法。 30.工程a)の試料放電は真空環状導管に接続された試料容器内で行われるこ とを特徴とする請求項26記載の方法。 31.工程b)、c)及び必要に応じてd)の試料放電は放電管の電極間で行わ れることを特徴とする請求項26又は27記載の方法。 32.ガスもしくは混合ガス及び場合によってはそれに含まれる不純物が存在す る容器(1;15)と、結合装置(3、4、5)を介して容器(1)に結合され ガス放電を発生させるエネルギー供給ユニット(7;16)と、スペクトル線の 強度を測定する分光測定装置(12;18〜22)と、測定値から不純物濃度も しくはガス又はガス成分の圧力(分圧)を求める評価装置(13;23、24) とによって請求項1乃至31の1つに記載された方法を実施するための装置。 33.エネルギー供給ユニットは高周波送信器(7;16)から構成され、結合 装置は高電圧変成器(5)及び2つの高周波電極(3、4)から構成され、その 場合高周波電極は高電圧変成器(5)の二次巻線(8)に接続され、高周波送信 器(7)は高電圧変成器(5)の一次巻線(6)に接続されていることを特徴と する請求項32記載の装置。 34.容器は放電ランプ(15)の放電管から構成され、その場合放電管の内部 に2つの電極が配置され、これらの電極は気密に外部へ導出されたリードにそれ ぞれ接続されており、そのリードはエネルギー供給ユニット(16)に接続され 、それにより電極が結合装置の構成要素となることを特徴とする請求項32記載 の装置。 35.高周波電極(3、4)の少なくとも1つは容器の外壁上に配置されている ことを特徴とする請求項33記載の装置。 36.容器は白熱電球のランプ球から構成され、そのランプ球の外壁上に第1の 高周波電極が設けられており、ランプ球の内部に気密に外部へ導出されたリード に接続されたフィラメントが配置され、そのリードは高周波送信器に接続され、 それによりフィラメントが第2の高周波電極として使われることを特徴とする請 求項35記載の装置。 37.スペクトル測定装置は検出器を備えたスペクトロメータから構成され、そ の場合スペクトロメータによって放射線はそのスペクトル成分に分解され、この スペクトル成分は検出器へ送られてこの検出器によってその強度に相応する信号 に変換されることを特徴とする請求項32記載の装置。 38.評価装置は、電気信号を読込み、継続処理し、その結果ガス圧力及び/又 は不純物濃度を送信する計算機から構成されていることを特徴とする請求項37 記載の装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004522168A (ja) * 2001-07-06 2004-07-22 プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド 電荷結合素子検出器を有する発光分光計
JP2016170072A (ja) * 2015-03-13 2016-09-23 Vista株式会社 真空排気監視装置

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19651208C2 (de) * 1996-12-10 1999-05-27 Boehringer Ingelheim Kg Verfahren und Vorrichtung zur zerstörungsfreien Dichtigkeitsprüfung von mit Flüssigkeit gefüllten Behältnissen
FI113805B (fi) 1998-04-03 2004-06-15 Licentia Oy Menetelmä ja laite kaasuseosten analysoimiseksi
FR2788854B1 (fr) * 1999-01-22 2001-05-04 Cit Alcatel Systeme et procede d'identification d'effluents gazeux, equipement pourvu d'un tel systeme
JP4024494B2 (ja) * 2001-03-29 2007-12-19 大陽日酸株式会社 ガス中の窒素測定方法及び装置
US7184146B2 (en) * 2003-06-24 2007-02-27 Cardinal Ig Company Methods and apparatus for evaluating insulating glass units
US20040266013A1 (en) * 2003-06-30 2004-12-30 Erickson Gene P. Standard insulating glass units having known concentrations of a gas and methods for calibrating a measuring device using the standard insulating glass units
US20070103686A1 (en) * 2005-11-08 2007-05-10 Niklas Tornkvist Apparatus for non-invasive analysis of gas compositions in insulated glass panes
US7508521B2 (en) * 2007-03-14 2009-03-24 Spectrasensors, Inc. Pressure-invariant trace gas detection
DE102010004083A1 (de) * 2009-06-03 2010-12-09 Global Navigation Systems Gns - Gmbh Vorrichtung zum zerstörungsfreien Bestimmen von Gaseigenschaften in einem geschlossenen Gefäß, zugehöriges Verfahren und Gefäß, welches mit dem Verfahren bearbeitet wurde
DE102009057130A1 (de) 2009-12-08 2011-06-09 Heinrich-Heine-Universität Düsseldorf Verfahren zur Analyse der Zusammensetzung von Gasgemischen
DE102011050171A1 (de) 2011-05-06 2012-11-08 Heinrich-Heine-Universität Düsseldorf Verfahren und Anordnung zum Detektieren eines ersten Gases in einem wenigstens ein weiteres Gas umfassenden Gasgemisch
KR101417944B1 (ko) 2013-03-13 2014-07-10 지투산업 주식회사 복층유리의 가스농도 측정 장치
CN105181676A (zh) * 2015-09-29 2015-12-23 内蒙古包钢钢联股份有限公司 一种辉光光谱仪测定镀锌板镀层深度和镀层质量的方法
RU2687179C1 (ru) * 2018-07-20 2019-05-07 Александр Валентинович Озаренко Способ определения давления в кольцевых лазерных гироскопах

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3292988A (en) * 1966-12-20 Apparatus for surveillance of arc discharge lamps
US2509649A (en) * 1947-06-17 1950-05-30 New England Spectrochemical La Spectrographic treatment of organic materials
US3902808A (en) * 1974-07-12 1975-09-02 Robert A Young Device for spectroscopic measurements of gas composition after addition of helium
US3996010A (en) * 1974-11-29 1976-12-07 Searle Cardio-Pulmonary Systems Inc. Breathing gas analyzer
DD149959A1 (de) * 1980-04-01 1981-08-05 Kurt Mauersberger Verfahren zur spektrophotometrischen bestimmung kleiner gasfoermiger stoffmengen
DE3131210A1 (de) * 1981-08-06 1983-02-24 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Lampenpruefung auf lufteinbrueche in den glaskolben
NL8601954A (nl) * 1985-07-31 1987-02-16 Toshiba Kk Apparaat en werkwijze voor het beoordelen van de kwaliteit van een elektrische lamp.
ZA8792B (en) * 1986-01-17 1987-10-28 Boc Group Inc Process and apparatus for analyzing a gaseous mixture and a visible emission spectra generator therefor
US4801209A (en) * 1986-01-17 1989-01-31 The Boc Group, Inc. Process and apparatus for analyzing a gaseous mixture and a visible emission spectrum generator therefor
CH675773A5 (ja) * 1988-03-31 1990-10-31 Sulzer Ag
US4898465A (en) * 1989-01-30 1990-02-06 Medical Graphics Corporation Gas analyzer apparatus
DE3911965A1 (de) * 1989-04-12 1990-10-18 Krupp Gmbh Verfahren zur bestimmung des konzentrationsverhaeltnisses zweier elemente eines stoffs aus dem intensitaetsverhaeltnis zweier spektrallinien dieser elemente in einem plasma dieses stoffs
US5383019A (en) * 1990-03-23 1995-01-17 Fisons Plc Inductively coupled plasma spectrometers and radio-frequency power supply therefor
DE4034962C1 (en) * 1990-11-02 1992-06-04 Rainer 8027 Neuried De Pippig Quality control testing procedure for incandescent lamps - subjecting bulb to acceleration and measuring resultant change in resistance of filament
US5412467A (en) * 1993-03-24 1995-05-02 Praxair Technology, Inc. Gas emission spectrometer and method

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004522168A (ja) * 2001-07-06 2004-07-22 プラクスエア・テクノロジー・インコーポレイテッド 電荷結合素子検出器を有する発光分光計
JP2016170072A (ja) * 2015-03-13 2016-09-23 Vista株式会社 真空排気監視装置

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