JP2002348580A

JP2002348580A - アセチレンの製造装置及びその製造方法

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Publication number: JP2002348580A
Application number: JP2001158438A
Authority: JP
Inventors: Shinichi Kurotani; 伸一黒谷
Original assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Current assignee: Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date: 2001-05-28
Filing date: 2001-05-28
Publication date: 2002-12-04
Anticipated expiration: 2021-05-28
Also published as: JP3829917B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】カーバイド法によるアセチレンの製造において
湿式精製を行う際、その精製装置から排出される有害物
質を含む排水を整備の外部に排出することなく、安価か
つ安全に処理できるアセチレンの製造装置を提供する。【解決手段】（ｉ）原料として水１とカルシウムカー
バイド２を投入し、アセチレンを発生させ、残査として
消石灰と水の混合物３を排出する形式のアセチレン発生
器１０、（ｉｉ）この発生器の後段に、発生器で発生し
たガスを次亜塩素酸化合物水溶液と接触させて不純物を
取り除く清浄塔６を含むアセチレン製造装置において、
上記清浄塔に接続されて清浄塔から排出される排水が流
れる排水管３２を上記発生器に連結して、清浄塔から排
出される排水を発生器に供給される水の一部又は全部と
して利用する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、水とカルシウムカ
ーバイドを原料にして湿式精製法によってアセチレンを
製造するに際し、その精製装置から排出される有害物質
を含む排水を装置外に排出させず、効率的かつ安全にア
セチレンを製造することができるアセチレンの製造装置
及び製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】アセチ
レンは、溶解アセチレンとして圧縮酸素と併用すること
により金属の溶接、切断、スカーフィング等の金属加工
に用いられるほか、酢酸合成、合成樹脂、合成繊維、合
成ゴムの原料及びレッペ反応による広範囲な有機化合物
の合成や、合成アセチレンブラック、ガス増熱用燃料、
金属アセチリドの原料等の用途に使用される基礎有機化
学品製品の一つである。

【０００３】アセチレンの製造方法としては、水とカル
シウムカーバイドを反応させて、消石灰とアセチレンを
得るカーバイド法のほか、天然ガスを含む石油系炭化水
素を原料とする蓄熱式熱分解法、部分燃焼法、完全燃焼
法、電弧法等が既に知られている（１３７００の化学商
品、化学工業日報社（２００１））。

【０００４】このうち、カーバイド法は、原料となる水
とカルシウムカーバイドが比較的安価に得られること、
反応機構が単純で製造装置が安価に建設できること、及
び製造条件が他の方法に比較して緩やかで高い温度を用
いなくても済むこと等の利点があり、古典的な方法なが
らアセチレンの製造方法として広く一般的に行われてい
る。

【０００５】ここで、カーバイド法によるアセチレン発
生器には、以下のような方式がある。（１）投入式発生器水を入れたタンクの中にカルシウムカーバイドの塊を投
入し、アセチレンを発生させる形式で、副生する消石灰
と化学量論的に過剰分の水の混合物が発生し、泥乳状を
呈する。（２）乾式発生器投入式発生器より水の投入量を少なくして、粉末状の消
石灰が排出されるように注水を加減する形式である。（３）浸漬式発生器カルシウムカーバイドを入れた籠を水に浸す構造をもつ
ものである。（４）注水式発生器ガスを発生させるときに必要な水をカルシウムカーバイ
ドに注ぐ構造をもつものである。

【０００６】以上のように、カーバイド法は、全て以下
の反応式によって水（Ｈ₂Ｏ）とカルシウムカーバイド
（ＣａＣ₂）を原料にアセチレン（Ｃ₂Ｈ₂）と消石灰
（Ｃａ（ＯＨ）₂）を得る方法であって、カルシウムカ
ーバイドの全量を効率よく消費しつくすためには、一方
の原料である水を化学量論的に過剰に加えることが望ま
しいことは言うまでもない。ＣａＣ₂＋２Ｈ₂Ｏ→Ｃ₂Ｈ₂＋Ｃａ（ＯＨ）₂

【０００７】故に、消石灰と水の混合物は、いかなる形
式によっても発生し、副成物として処理されるか、有価
原料として売却される等の処分が必要となる。

【０００８】ここで、カーバイド法で発生させた粗アセ
チレンは、原料の一つであるカルシウムカーバイドに含
まれる不純物に由来する燐化水素や硫化水素等の物質を
含み、これらの物質はアセチレンガスの主用途である金
属加工や有機合成の際に不都合を及ぼすため、これらを
除去するための精製装置の併設が必要となる。

【０００９】この精製装置には、当該粗アセチレンガス
を塩素水と接触させて燐化水素及び硫化水素を取り除く
清浄塔と、清浄塔の次に配され、清浄塔を経たガスと水
酸化ナトリウム水溶液を接触させて塩素を取り除く洗浄
塔を組み合わせる湿式精製法のほか、濃硫酸、塩化第二
鉄、塩化銅、塩化水銀等を配合して珪藻土に含浸させた
ものと接触させる方法や、銅を含む触媒と接触させる方
法が知られている（溶解アセチレンの消費に関する基
準、高圧ガス保安協会（１９７１））。

【００１０】湿式精製法は、装置構造が単純で安価に制
作可能な上、動作の確実性もあり、従来から多用されて
きた方法であるが、清浄塔、洗浄塔及びそれらの付帯機
器としてのポンプ、タンク等からの排水が発生すること
が欠点となり、近年は上記の湿式精製法以外の方法に置
き換わりつつある。また、清浄塔から排出される排水
（以下、「清浄塔排水」という）には、粗アセチレンガ
ス中の有機物と塩素が反応して副成する有機塩素化合物
も混入することがあり、特にポリクロロジベンゾ−パラ
−ジオキシン（ＰｏｌｙｃｈｌｏｒｉｎａｔｅｄＤｉ
ｂｅｎｚｏ−ｐ−Ｄｉｏｘｉｎｓ）、ポリクロロジベン
ゾフラン（ＰｏｌｙｃｈｌｏｒｉｎａｔｅｄＤｉｂｅ
ｎｚｏｆｕｒａｎｓ）、コプラナーポリクロロビフェニ
ル（Ｃｏｐｌａｎａｒ−Ｐｏｌｉｃｈｌｏｒｉｎａｔｅ
ｄＢｉｐｈｅｎｙｌ）（以下、総称して「ダイオキシ
ン類」という）が混入することが懸念されている。

【００１１】ダイオキシン類は、その有害性から、排水
系に流出した場合、環境影響が甚大であり、かつ、排出
にあたっては各種の規制が定められていることから（ダ
イオキシン類対策特別措置法、平成１１年７月１６日、
法律第１０５号ほか）、このダイオキシン類の副成は、
湿式精製法の欠点として挙げられるものである。

【００１２】この対策として、ダイオキシン類等の有害
な有機塩素化合物を含む排水を処理し、無害化した後に
排出することが求められるが、従来知られている処理方
法では、焼却、熱分解、脱塩素化、活性炭吸着等の大規
模な装置を必要とし、これらの複雑かつ高価な装置を付
加することにより、カーバイド法と湿式精製法を組み合
わせた簡便で安価であるアセチレン製造方法の利点を活
かされなくなるため、ダイオキシン類の処理装置及び運
転を簡便かつ安価にする方法が求められていた。

【００１３】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、清浄塔排水に含まれるダイオキシン類を効率よくか
つ安価に無害化することが可能であるアセチレンの製造
装置及びその製造方法を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明は上記目的を達成するため鋭意検討した結果、清浄
塔排水を発生器に供給される水の一部又は全部として使
用することにより、清浄塔排水に含まれるダイオキシン
類を効率よくかつ安価に無害化させることができること
を知見し、本発明をなすに至ったものである。

【００１５】従って、本発明は、下記のアセチレン製造
装置とその製造方法を提供する。（Ｉ）（ｉ）原料として水とカルシウムカーバイドを投
入し、アセチレンを発生させ、残査として消石灰と水の
混合物を排出する形式のアセチレン発生器、（ｉｉ）こ
の発生器の後段に、発生器で発生したガスを次亜塩素酸
化合物水溶液と接触させて不純物を取り除く清浄塔を含
むアセチレン製造装置において、上記清浄塔に接続され
て清浄塔から排出される排水が流れる排水管を上記発生
器に連結して、清浄塔から排出される排水を発生器に供
給される水の一部又は全部として利用することを特徴と
するアセチレン製造装置、（ＩＩ）更に、清浄塔において処理したアセチレンガス
をアルカリ水溶液と接触させる洗浄塔を有する（Ｉ）記
載のアセチレン製造装置、（ＩＩＩ）清浄塔から排出される排水中に含まれる物質
が、ダイオキシン類、燐化合物、硫化物から選ばれる一
種又はそれ以上の物質であることを特徴とする（Ｉ）又
は（ＩＩ）記載のアセチレン製造装置、（ＩＶ）清浄塔において使用する次亜塩素酸化合物が、
次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素
酸マグネシウム、次亜塩素酸カルシウムから選ばれる一
種又はそれ以上の物質であることを特徴とする（Ｉ）乃
至（ＩＩＩ）のいずれか１記載のアセチレン製造装置。（Ｖ）（ｉ）アセチレン発生器において水とカルシウム
カーバイドを反応させる工程、（ｉｉ）発生したガスを
次亜塩素酸化合物の水溶液に接触させる精製工程を含む
アセチレンの製造方法において、上記精製工程から排出
される排水を発生器で使用される水の全部又は一部とし
て利用することを特徴とするアセチレンの製造方法。（ＶＩ）（ｉｉ）の精製工程の後に、更にアルカリ水溶
液に接触させる精製工程を含む（Ｖ）記載のアセチレン
の製造方法。

【００１６】本発明のアセチレン製造装置は、上述のよ
うにその清浄塔から排出される排水が発生器に導かれ、
原料の一つである水として再利用され、上記ダイオキシ
ン類を含む排水が外部に排出されない構造をなしてい
る。

【００１７】ここで、発生器からは、反応副成物たる消
石灰と化学量論的に過剰に投入される水の残分が、混合
した残査（以下、「消石灰スラリ」と称する）として排
出される。本発明者は、本発明の構造をもつアセチレン
発生器及び精製装置の操業に際し、各部の詳細かつ精密
な物質収支を取得した結果、装置内でダイオキシン類が
副成するとともに排水に混入することを確認し、それを
発生器に導き、原料の一つである水として再利用するこ
とにより、この排水に含まれるダイオキシン類が発生器
内で反応により無害化されるか消石灰スラリに吸着され
て不溶出化されることにより、ダイオキシン類を含む排
水が装置外部に排出されないことを発見したものであ
る。

【００１８】すなわち、従来の湿式精製法においては、
清浄塔排水は、公共用水域に排出されるに際し、残留す
る次亜塩素酸化合物や燐酸塩化合物等に対する処理とし
て中和、沈降、濾過等を行うことが一般的であったが、
近年、ダイオキシン類に関する知見が明らかとなり、ダ
イオキシン類が有害かつ難分解性の物質であることが知
られるようになると、有機化合物であるアセチレンと次
亜塩素酸化合物を接触させる湿式精製法においてもダイ
オキシン類が生成する疑いが持たれるに至った。

【００１９】この疑問に対する調査研究の結果、湿式精
製法の清浄塔内部におけるダイオキシン類の副成を確認
し、従来技術ではこのダイオキシン類を含む排水を安全
に公共用水域に排出することが困難であることが判明し
た。従って、商業生産の継続のためには、ダイオキシン
類をも処理できる処理装置を新たに設置するか、又はこ
の排水そのものを公共用水域に排出せず産業廃棄物とし
て専門業者に処理委託するかのいずれかの選択を迫られ
ることとなる。

【００２０】このうち、ダイオキシン類を無害化処理で
きる方法としては、凝集沈殿、清澄ろ過、膜ろ過、活性
汚泥法、生物膜法、促進酸化法、触媒酸化法、超臨界水
酸化法等の方法が知られている（公害防止の技術と法規
ダイオキシン類編，公害防止の技術と法規編集委員会，
丸善，（２０００））。しかし、何れの方法も、ダイオ
キシン類の有害性、難分解性はもとより、処理目的物た
るダイオキシン濃度がｐｇ／ｌ単位の極低濃度でしかな
いこと等から、装置が複雑化し設置費用が高価にならざ
るを得ない。また、その運転には高度な操業技術を要す
ることは言うまでもない。

【００２１】一方、この排水そのものを産業廃棄物とし
て専門業者に委託処理する方法は、新規の設備投資を伴
わずとも商業生産が継続できる利点はあるが、委託相手
先が上記ダイオキシン類の処理装置のほか、焼却、熱分
解等の方法によって処理を行うので、発生元であるアセ
チレン製造側は、適正な運賃や処理実費を合算した高額
な処理費用を支払わねばならない欠点がある。

【００２２】以上のように、従来知られている技術では
アセチレン湿式精製法で排出される排水を、安全で、し
かも簡易かつ安価に処理できる装置及び方法は見い出さ
れていなかった。

【００２３】これに対して、本発明のアセチレン製造装
置は、清浄塔排水を発生器に供給して水として再利用す
ることにより、この排水をなくすことができるだけでな
く、排水中に含まれるダイオキシン類を発生器内部の反
応又は消石灰スラリへの吸着により不溶出化させること
で、無害化することができるものである。

【００２４】本発明は、その実施にあたり、上述の凝集
沈殿、清澄ろ過、膜ろ過、活性汚泥法、生物膜法、促進
酸化法、触媒酸化法、超臨界水酸化法等の方法のほか、
燃焼、熱分解、脱塩素化、吸着、触媒分解、オゾン酸化
等のダイオキシン類処理装置を導入する場合に比べ、コ
ストが少なく済むことは無論のこと、その装置構成が既
存施設の小改造で済むことから構造単純で運転管理も容
易である。

【００２５】以下、本発明につき図面を参照して詳述す
る。図１は、本発明のアセチレン製造装置の一例を示す
もので、図中１０はアセチレン発生器を示し、このアセ
チレン発生器１０に水（Ｈ₂Ｏ）１とカルシウムカーバ
イド（ＣａＣ₂）２を投入して接触混合せしめることに
より、アセチレン（Ｃ₂Ｈ₂）と消石灰（Ｃａ（Ｏ
Ｈ）₂）を得る反応を利用してアセチレンガスを得るも
のである。この反応は次式によって表される。ＣａＣ₂＋２Ｈ₂Ｏ→Ｃ₂Ｈ₂＋Ｃａ（ＯＨ）₂ この際、カルシウムカーバイドの全量を効率よく消費さ
せ、消費し尽くす目的で、反応原料としての水を化学量
論的に過剰になるように投入量を設定するのが一般的で
ある。

【００２６】本発明の特徴は、水の一部又は全部を後述
する清浄塔排水で賄い、不足する分だけの水を供給する
ものである。

【００２７】このアセチレン発生器１０の底部には、副
生する消石灰スラリ３を排出するための配管１２が設け
られており、消石灰スラリ３を貯蔵し、処理先へ送り出
すためのピット（図示せず）に接続されている。なお、
図中１４は、冷却用外套であり、この中を冷却材４が流
れて、上記アセチレン発生器１０内で適切な温度（１０
〜８０℃）に保持するようになっている。アセチレン発
生器１０の頂部には、アセチレン発生器１０において発
生させた粗アセチレンが流れる粗アセチレン配管１６の
一端が連結され、この粗アセチレン配管１６の他端は、
ダストセパレータ１８及び冷却塔２０を順次介して清浄
塔２２に連結されており、上記アセチレン発生器１０か
らの粗アセチレンは、ダストセパレータ１８にて随伴す
るダストが分離除去された後、冷却塔２０にて水５によ
って５〜４０℃程度まで冷却された後、上記清浄塔２２
に導入され、この清浄塔２２内にて上記粗アセチレンガ
スが次亜塩素酸化合物水溶液（清浄液６）と接触して、
粗アセチレンガス中の燐化水素等の不純物が除去される
ものである。

【００２８】また、上記清浄塔２２は、配管２４により
洗浄塔２６と接続されており、上記清浄塔２２において
清浄処理されたアセチレンガスは、次いで洗浄塔２６内
において洗浄液（アルカリ水溶液）７と接触し、塩素等
の不純物が除去される。

【００２９】ここで、次亜塩素酸化合物としては、次亜
塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次亜塩素酸マ
グネシウム、次亜塩素酸カルシウム等が挙げられ、これ
ら次亜塩素酸化合物の該水溶液中における濃度は、有効
塩素濃度として０．１〜０．２重量％とすることが好ま
しい。

【００３０】また、上記アルカリ水溶液としては、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム等の水溶液が挙げられ、
その濃度は、水酸基イオン濃度として４〜２０重量％と
することが好ましい。なお、以上の工程は、公知の方
法、条件に基づく常法によって行うことができる。

【００３１】このように、清浄塔２２及び洗浄塔２６を
経て精製が終わったアセチレンガスは、精アセチレン８
として次工程である貯蔵施設や使用先へと送気される。

【００３２】本装置においては、上記冷却塔２０とアセ
チレン発生器１０とが冷却塔排水管２８によって連結さ
れ、粗アセチレンガスを冷却した後の排水が上記発生器
１０内に導入されてアセチレン製造用原料としての水と
して使用されると共に、上記清浄塔２２とアセチレン発
生器１０とが清浄塔排水貯槽３０を介して清浄塔排水管
３２によって連結され、これによって粗アセチレンガス
を清浄処理した後の清浄塔排水（次亜塩素酸化合物水溶
液排水）が上記清浄塔排水貯槽３０に貯められた後、適
宜量が上記アセチレン発生器１０内に導入されて、原料
水として利用されるようになっている。なお、本発明の
アセチレン製造装置を含む設備における好ましい物質収
支は以下の表１の通りである。

【表１】ここで、上記清浄塔排水には、上述したように、粗アセ
チレン中に含まれる燐化水素由来の燐化合物を含むほ
か、次亜塩素酸化合物の過剰分やダイオキシン類等が含
まれているものである。

【００３３】このうち、ダイオキシン類の挙動に着目し
た物質収支をみると、清浄液として予め製造された次亜
塩素酸カルシウム水溶液に比して、清浄塔において使用
され排出された使用後の清浄液（清浄塔排水）のダイオ
キシン類濃度が上昇し、清浄塔内部においてダイオキシ
ン類が副生することが確認された。

【００３４】これに続けて、清浄塔排水を発生器におい
て使用する水として再利用したところ、発生器から排出
される消石灰スラリ３のダイオキシン類濃度は、清浄塔
排水から発生器に供給された量に比して非常に低いもの
であることが確認された。発生器の他方の排出側は、上
述のごとく精製装置に接続される粗アセチレンを送出す
る粗アセチレン配管１６であり、ダイオキシン類の蒸気
圧が２，３，７，８−四塩素化パラジオキシンで５．８
×１０^-7Ｐａと相当程度低く、気相部にはほとんど存在
し得ないことから、粗アセチレンに同伴して発生器外に
流出することは考えられない。

【００３５】従って、清浄塔排水中に存在し、発生器に
供給されたダイオキシン類は、発生器内部で反応により
他の物質に化学変化したか、又は消石灰スラリ中の固形
物に強く吸着され、所定のダイオキシン類の分析方法に
よってしても溶出しない程度まで不溶出化したことが確
認される。

【００３６】この発生器内の反応又は消石灰スラリへの
吸着の詳細な原理や機構は、現在のところダイオキシン
類の物理化学的挙動が解明され尽くしていないため不明
であるが、このことは本発明が上述のカーバイド法によ
るアセチレン製造方法にとって、重要かつ深刻な課題で
ある清浄塔排水中の有害物を排出させない方法として、
有効であることを何ら否定するものではない。

【００３７】なお、本発明のアセチレン製造装置を用い
てアセチレンを製造する場合、上述のような回分操作を
例に述べているが、各原材料及び副資材を連続的に投入
する連続操作を行うことも可能である。また、図１では
説明の簡略のために主要なる構成機器及び配管のみを示
しているが、実施例の装置において実際にはポンプ、ブ
ロワ、貯槽、弁、補助配管、計器、制御機器等の補器類
が付帯している。

【００３８】更にまた、上述のごとく、湿式精製法では
精製塔のほか、発生器から発生するアセチレンを水と接
触させて冷却する冷却塔や清浄塔の後段でアセチレンと
アルカリ水溶液を接触させて精製を行う洗浄塔や、それ
らの付帯機器としてのポンプ、タンク等からの排水も発
生するが、これらの排水を清浄塔排水と共に発生器に導
き、原料である水として使用する事は、排水量の削減の
方法として有効であり、本発明の効果を阻害するもので
はない。

【００３９】

【実施例】以下、実施例を示して、本発明を具体的に説
明するが、本発明は下記実施例に制限されるものではな
い。

【００４０】［実施例１］図１に示す構造のアセチレン
製造装置を使用し、下記条件でアセチレンを発生させる
とともに精製を実施した。

【００４１】（１）装置概要発生器：横置き円筒型、冷却用外套付き、鋼製ダストセパレータ：竪置き円筒型、鋼製冷却塔：スプレー塔式、鋼製ゴムライニング清浄塔：磁性ラシヒリング充填塔式、鋼製ゴムライニン
グ洗浄塔：磁性ラシヒリング充填塔式、鋼製ゴムライニン
グ

【００４２】（２）原料及び副資材の使用量及び供給
量水投入量：２８０重量部／バッチ清浄塔排水投入量：２８０重量部／バッチ冷却塔排水：２８０重量部／バッチカルシウムカーバイド投入量：１００重量部／バッチ冷却塔の水供給量：１５０重量部／バッチアセチレン発生量：３０重量部／バッチ消石灰スラリ発生量（内、消石灰）：９２０重量部／バ
ッチ ※ 回分操作の一回分を“バッチ”と表記する

【００４３】（３）副資材の組成清浄液：次亜塩素酸カルシウムを水に溶解させ、有効塩
素０．１５重量％に調整し、塩酸によって水素イオン濃
度指数７〜７．５としたもの洗浄液：水酸化ナトリウムを水に溶解させ、１０〜２０
重量％に調整したもの

【００４４】（４）運転方法所定量の水と清浄液を投入した発生器にカルシウムカー
バイドを投入し、発生する粗アセチレンガスを冷却塔に
導き、水と接触させて冷却する。冷却塔で冷却された粗
アセチレンガスを清浄塔に導き、清浄液と接触させて燐
化水素等の不純物を除去する。冷却塔及び清浄塔から排
出される排水は貯槽に導き、次回の発生作業の前に水と
ともに発生器に投入する。清浄塔で処理したガスを更に
必要に応じて洗浄塔に導き、洗浄液と接触させて清浄塔
で混入する塩素を除去する。洗浄液は循環して使用し、
所定の間隔で交換する。洗浄塔で処理したガスは精アセ
チレンガスとして貯蔵又は消費される。

【００４５】（５）分析方法排水の分析方法は、ＪＩＳＫ０３１２工業用水・
工場排水中のダイオキシン類及びコプラナーＰＣＢの測
定方法を参考に分析した。固形物の分析方法は、ダイオ
キシン類に係る底質調査暫定マニュアル（環境庁水質保
全局、１９９８年７月）及びＪＩＳＫ０３１１排
ガス中のダイオキシン類及びコプラナーＰＣＢの測定方
法を参考に分析した。なお、ダイオキシン類の濃度に
は、各同族体及び異性体濃度を相対的な毒性の強さを表
す毒性等価係数で換算して得られた数値を用い、この毒
性等価係数にはＷＨＯ−ＴＥＦ［ＷＨＯ／ＩＣＰＳ，１
９９７］を適用した。

【００４６】（６）物質収支表２に物質収支を示す。

【表２】表２に示すように、清浄液には次亜塩素酸カルシウムに
由来するダイオキシン類が含まれているが、清浄塔から
排出される排水に比べ少量であり、清浄塔内部での粗ア
セチレンガスと清浄液の接触によりダイオキシン類が副
成することが明らかである。この排水は循環使用され
ず、次回の発生器への水供給の際に使用されるため、発
生器へ供給される清浄塔からの排水は、毎回同程度のダ
イオキシン類を含む。発生器からの出口は気相部である
ダストセパレータへ接続される配管のほか、スラリピッ
トに消石灰スラリを排出する液相部の配管の２系統があ
るが、ダイオキシン類はその蒸気圧が低いため、気相部
にはほとんど移行せず、ほぼ全量が液相部に含まれる。
液相部の消石灰スラリを分析したところ、ダイオキシン
類濃度が非常に低かった。

【００４７】（７）結論清浄塔排水から相当濃度のダイオキシン類が検出された
ことより、清浄塔内部におけるダイオキシン類の副成が
確認された。また、発生器に相当程度のダイオキシン類
が供給されたにも拘らず、消石灰スラリからは非常に低
濃度のダイオキシン類が検出されたに留まったことよ
り、発生器内部における反応においてダイオキシン類が
無害化されるか、又は消石灰スラリ中に強く吸着されて
上記分析方法では検出不可能となるほどに不溶出化する
ことが確認された。一方、清浄塔排水を無処理で流出さ
せるようなことは勿論、中和処理に代表されるようなダ
イオキシン類を処理できない処理方法で公共用水域等の
一般環境に流出させた場合、その有害性や環境影響が甚
大であることは明らかである。また、上述した通り、ダ
イオキシン類を処理するための従来技術による装置を導
入する場合、その複雑で高価な装置の付加が、カーバイ
ド法と湿式精製法の利点である簡便で安価なることを阻
害するものであることは言うまでもない。

【００４８】

【発明の効果】本発明によれば、カーバイド法によるア
セチレンの製造において湿式精製を行う際、その精製装
置から排出される有害物質を含む排水を設備の外部に排
出することなく、安価かつ安全に処理することが可能で
ある。

【００４９】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のアセチレン製造装置を含む設備の概略
を記した工程流れ図である。

【符号の説明】

１．水２．カルシウムカーバイド３．消石灰スラリ４．冷却材５．水６．清浄液（次亜塩素酸化合物水溶液）７．洗浄液（アルカリ水溶液）８．精アセチレン１０．アセチレン発生器１２．配管１４．冷却用外套１６．粗アセチレン配管１８．ダストセパレータ２０．冷却塔２２．清浄塔２４．配管２６．洗浄塔２８．冷却塔排水管３０．清浄塔排水貯槽３２．清浄塔排水

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（ｉ）原料として水とカルシウムカーバ
イドを投入し、アセチレンを発生させ、残査として消石
灰と水の混合物を排出する形式のアセチレン発生器、
（ｉｉ）この発生器の後段に、発生器で発生したガスを
次亜塩素酸化合物水溶液と接触させて不純物を取り除く
清浄塔を含むアセチレン製造装置において、上記清浄塔
に接続されて清浄塔から排出される排水が流れる排水管
を上記発生器に連結して、清浄塔から排出される排水を
発生器に供給される水の一部又は全部として利用するこ
とを特徴とするアセチレン製造装置。
【請求項２】更に、清浄塔において処理したアセチレ
ンガスをアルカリ水溶液と接触させる洗浄塔を有する請
求項１記載のアセチレン製造装置。
【請求項３】清浄塔から排出される排水中に含まれる
物質が、ダイオキシン類、燐化合物、硫化物から選ばれ
る一種又はそれ以上の物質であることを特徴とする請求
項１又は２記載のアセチレン製造装置。
【請求項４】清浄塔において使用する次亜塩素酸化合
物が、次亜塩素酸ナトリウム、次亜塩素酸カリウム、次
亜塩素酸マグネシウム、次亜塩素酸カルシウムから選ば
れる一種又はそれ以上の物質であることを特徴とする請
求項１乃至３のいずれか１項記載のアセチレン製造装
置。
【請求項５】（ｉ）アセチレン発生器において水とカ
ルシウムカーバイドを反応させる工程、（ｉｉ）発生し
たガスを次亜塩素酸化合物の水溶液に接触させる精製工
程を含むアセチレンの製造方法において、上記精製工程
から排出される排水を発生器で使用される水の全部又は
一部として利用することを特徴とするアセチレンの製造
方法。
【請求項６】（ｉｉ）の精製工程の後に、更にアルカ
リ水溶液に接触させる精製工程を含む請求項５記載のア
セチレンの製造方法。