JP2002348349A - 光学材料用重合体の製造方法 - Google Patents
光学材料用重合体の製造方法Info
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- JP2002348349A JP2002348349A JP2002114774A JP2002114774A JP2002348349A JP 2002348349 A JP2002348349 A JP 2002348349A JP 2002114774 A JP2002114774 A JP 2002114774A JP 2002114774 A JP2002114774 A JP 2002114774A JP 2002348349 A JP2002348349 A JP 2002348349A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学特性に優れる光学材料用重合体の原料と
して有用なポリチオールオリゴマーを効率よく製造する
方法で得られたポリチオールオリゴマーを原料とする、
光学特性に優れる光学材料用重合体の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 塩基性触媒の存在下、二官能以上のポリ
チオールとイオウとを反応させて、ジスルフィド結合を
有するポリチオールオリゴマーを製造し、得られたポリ
チオールオリゴマーとポリ（チオ）イソシアネート基含
有化合物および／または多官能ビニル基含有化合物とを
共重合させる光学材料用重合体の製造方法である。
して有用なポリチオールオリゴマーを効率よく製造する
方法で得られたポリチオールオリゴマーを原料とする、
光学特性に優れる光学材料用重合体の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 塩基性触媒の存在下、二官能以上のポリ
チオールとイオウとを反応させて、ジスルフィド結合を
有するポリチオールオリゴマーを製造し、得られたポリ
チオールオリゴマーとポリ（チオ）イソシアネート基含
有化合物および／または多官能ビニル基含有化合物とを
共重合させる光学材料用重合体の製造方法である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学材料用重合体
の製造方法に関し、さらに詳しくは、光学特性に優れる
光学材料用重合体の原料として有用なジスルフィド結合
を有するポリチオールオリゴマーを原料とする、各種光
学材料用として好適な光学特性に優れる重合体の製造方
法に関するものである。本発明の製造方法により得られ
る光学材料用重合体は、例えば、光学用レンズ、眼鏡レ
ンズ、コンタクトレンズ、眼内レンズ、プリズム、光学
フィルター、光ファイバー、光学ディスク基板などに好
ましく用いられる。
の製造方法に関し、さらに詳しくは、光学特性に優れる
光学材料用重合体の原料として有用なジスルフィド結合
を有するポリチオールオリゴマーを原料とする、各種光
学材料用として好適な光学特性に優れる重合体の製造方
法に関するものである。本発明の製造方法により得られ
る光学材料用重合体は、例えば、光学用レンズ、眼鏡レ
ンズ、コンタクトレンズ、眼内レンズ、プリズム、光学
フィルター、光ファイバー、光学ディスク基板などに好
ましく用いられる。
【０００２】
【従来の技術】プラスチックはガラスに比べると、軽量
で割れにくく、染色が容易なため、近年、各種レンズな
どの光学部品に使用されるようになった。実用化されて
いるプラスチック光学材料としては、ポリ（ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート）、ポリメチルメタ
クリレート、ポリカーボネート等が挙げられる。
で割れにくく、染色が容易なため、近年、各種レンズな
どの光学部品に使用されるようになった。実用化されて
いるプラスチック光学材料としては、ポリ（ジエチレン
グリコールビスアリルカーボネート）、ポリメチルメタ
クリレート、ポリカーボネート等が挙げられる。
【０００３】一般に、透明ガラスやプラスチックからな
る光学材料は、屈折率が高くなるとアッベ数が低くな
り、逆もまた同様である。従って、一般には、屈折率と
アッベ数を同時に高めたプラスチック光学材料を製造す
るのは極めて困難である。
る光学材料は、屈折率が高くなるとアッベ数が低くな
り、逆もまた同様である。従って、一般には、屈折率と
アッベ数を同時に高めたプラスチック光学材料を製造す
るのは極めて困難である。
【０００４】これに対して、屈折率とアッベ数を同時に
高めたプラスチックレンズとして、２，５−ジメルカプ
トメチル−１，４−ジチアン（以下ＤＭＭＤという）か
らなるポリチオールをポリイソシアネートと反応させて
得たポリチオウレタンレンズが特開平３−２３６３８６
号公報に記載されている。この特許公報に記載されてい
るポリチオウレタンレンズの製造に用いた原料モノマー
であるＤＭＭＤは、その屈折率が１．６４６、アッベ数
が３５．２であり、高屈折率、高アッベ数であるため、
得られたポリチオウレタンレンズも高屈折率、高アッベ
数を有するが、さらに高い屈折率、アッベ数を有するプ
ラスチックレンズの開発が望まれていた。
高めたプラスチックレンズとして、２，５−ジメルカプ
トメチル−１，４−ジチアン（以下ＤＭＭＤという）か
らなるポリチオールをポリイソシアネートと反応させて
得たポリチオウレタンレンズが特開平３−２３６３８６
号公報に記載されている。この特許公報に記載されてい
るポリチオウレタンレンズの製造に用いた原料モノマー
であるＤＭＭＤは、その屈折率が１．６４６、アッベ数
が３５．２であり、高屈折率、高アッベ数であるため、
得られたポリチオウレタンレンズも高屈折率、高アッベ
数を有するが、さらに高い屈折率、アッベ数を有するプ
ラスチックレンズの開発が望まれていた。
【０００５】そこでＤＭＭＤをメチルスルホキサイド、
塩化第二鉄等の触媒の存在下、空気で酸化して、ＤＭＭ
Ｄのオリゴマー混合物を得たのち、このＤＭＭＤオリゴ
マー混合物をポリイソシアネートと反応させてポリチオ
ウレタンレンズを製造する方法が特開平７−１１８２６
３号公報および特開平７−１１８３９０号公報に提案さ
れている。
塩化第二鉄等の触媒の存在下、空気で酸化して、ＤＭＭ
Ｄのオリゴマー混合物を得たのち、このＤＭＭＤオリゴ
マー混合物をポリイソシアネートと反応させてポリチオ
ウレタンレンズを製造する方法が特開平７−１１８２６
３号公報および特開平７−１１８３９０号公報に提案さ
れている。
【０００６】しかしながら、前記特開平７−１１８２６
３号公報、特開平７−１１８３９０号公報に開示されて
いる方法で得られるものは、反応条件（例えば、温度、
湿度など）が微妙に変化しただけでも屈折率が１．６６
５〜１．６８０、アッベ数が３４．３〜３５．０と変化
し、不安定であって、このような原料を用いて、一定の
屈折率及びアッベ数を有するポリチオウレタン材料を得
るのは困難であり、上記公報において提案されているＤ
ＭＭＤオリゴマー混合物は、光学材料用原料として、必
ずしも実用的とはいえない。
３号公報、特開平７−１１８３９０号公報に開示されて
いる方法で得られるものは、反応条件（例えば、温度、
湿度など）が微妙に変化しただけでも屈折率が１．６６
５〜１．６８０、アッベ数が３４．３〜３５．０と変化
し、不安定であって、このような原料を用いて、一定の
屈折率及びアッベ数を有するポリチオウレタン材料を得
るのは困難であり、上記公報において提案されているＤ
ＭＭＤオリゴマー混合物は、光学材料用原料として、必
ずしも実用的とはいえない。
【０００７】一方、ジスルフィドを得る方法として、米
国特許第２３７６２５号明細書には、等モルのアルキル
メルカプタン（モノチオール）とイオウとをアミン触媒
の存在下反応させ、ジスルフィド、トリスルフィド、テ
トラスルフィドの混合物を得る方法が開示されている。
また「ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー
（Ｊ. Ｏrg. Ｃhem.）」第３２巻、第３８３３頁（１９
６７年）には、触媒としてｎ−ブチルアミンを用いて、
モノチオールとイオウを反応させ、ジスルフィド、トリ
スルフィド、テトラスルフィドを製造する方法が記載さ
れている。しかしながら、これらの文献は二官能以上の
ポリチオールを出発原料としてポリチオールオリゴマー
を製造する方法を提案するものではない。
国特許第２３７６２５号明細書には、等モルのアルキル
メルカプタン（モノチオール）とイオウとをアミン触媒
の存在下反応させ、ジスルフィド、トリスルフィド、テ
トラスルフィドの混合物を得る方法が開示されている。
また「ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー
（Ｊ. Ｏrg. Ｃhem.）」第３２巻、第３８３３頁（１９
６７年）には、触媒としてｎ−ブチルアミンを用いて、
モノチオールとイオウを反応させ、ジスルフィド、トリ
スルフィド、テトラスルフィドを製造する方法が記載さ
れている。しかしながら、これらの文献は二官能以上の
ポリチオールを出発原料としてポリチオールオリゴマー
を製造する方法を提案するものではない。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
状況下で、二官能以上のポリチオールよりも高い屈折率
と、該ポリチオールに匹敵するアッベ数とを有するポリ
チオールオリゴマーを原料として、安定した高屈折率及
び高アッベ数を有する実用的な光学材料用重合体の製造
方法を提供することを目的とするものである。
状況下で、二官能以上のポリチオールよりも高い屈折率
と、該ポリチオールに匹敵するアッベ数とを有するポリ
チオールオリゴマーを原料として、安定した高屈折率及
び高アッベ数を有する実用的な光学材料用重合体の製造
方法を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、塩基性触媒の
存在下に、二官能以上のポリチオールとイオウとを反応
させることにより得られたオリゴマーとポリ（チオ）イ
ソシアネート基含有化合物や多官能ビニル基含有化合物
とを共重合させることにより前記の目的を達成しうるこ
とを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至
った。
を達成するために鋭意研究を重ねた結果、塩基性触媒の
存在下に、二官能以上のポリチオールとイオウとを反応
させることにより得られたオリゴマーとポリ（チオ）イ
ソシアネート基含有化合物や多官能ビニル基含有化合物
とを共重合させることにより前記の目的を達成しうるこ
とを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至
った。
【００１０】すなわち、本発明は、ポリチオール基含有
化合物とポリ（チオ）イソシアネート基含有化合物およ
び／または多官能ビニル基含有化合物とを共重合させる
光学材料用重合体の製造方法であって、前記ポリチオー
ル基含有化合物が、アンモニアまたはアミンからなる塩
基性触媒の存在下、二官能以上のポリチオールとイオウ
とを反応させて得られるレンズ原料用ポリチオールオリ
ゴマーであり、前記二官能以上のポリチオールとイオウ
とのモル比が１：０．１〜１：０．９５であり、前記二
官能以上のポリチオールが、２，５−ジメルカプトメチ
ル−１，４−ジチアン、ペンタエリスリトールテトラキ
スメルカプトアセテート、ペンタエリスリトールテトラ
キスメルカプトプロピオネート、トリメチロールプロパ
ントリスメルカプトアセテート、２，３−ジメルカプト
−１−プロパノール、１，２−（ジメルカプトエチルチ
オ）−３−メルカプトプロパン、１，２−ビス−２−
（メルカプトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、
１，２，３−トリメルカプトプロパン、ビス（２−メル
カプトエチル）スルフィド、ベンゼンジチオール、ベン
ゼントリチオール、トリレンジチオール及びキシリレン
ジチオールの中から選ばれる少なくとも１種である光学
材料用重合体の製造方法によって達成される。
化合物とポリ（チオ）イソシアネート基含有化合物およ
び／または多官能ビニル基含有化合物とを共重合させる
光学材料用重合体の製造方法であって、前記ポリチオー
ル基含有化合物が、アンモニアまたはアミンからなる塩
基性触媒の存在下、二官能以上のポリチオールとイオウ
とを反応させて得られるレンズ原料用ポリチオールオリ
ゴマーであり、前記二官能以上のポリチオールとイオウ
とのモル比が１：０．１〜１：０．９５であり、前記二
官能以上のポリチオールが、２，５−ジメルカプトメチ
ル−１，４−ジチアン、ペンタエリスリトールテトラキ
スメルカプトアセテート、ペンタエリスリトールテトラ
キスメルカプトプロピオネート、トリメチロールプロパ
ントリスメルカプトアセテート、２，３−ジメルカプト
−１−プロパノール、１，２−（ジメルカプトエチルチ
オ）−３−メルカプトプロパン、１，２−ビス−２−
（メルカプトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、
１，２，３−トリメルカプトプロパン、ビス（２−メル
カプトエチル）スルフィド、ベンゼンジチオール、ベン
ゼントリチオール、トリレンジチオール及びキシリレン
ジチオールの中から選ばれる少なくとも１種である光学
材料用重合体の製造方法によって達成される。
【００１１】
【発明の実施の形態】まず、本発明で使用するポリチオ
ールオリゴマーの製造方法について説明する。ポリチオ
ールオリゴマーの製造方法においては、原料として二官
能以上のポリチオールが用いられる。この二官能以上の
ポリチオールは直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであっ
てもよく、またメルカプト基（−ＳＨ）を二つ以上有し
ていれば、他の官能基、例えばアミン基やヒドロキシル
基などの活性水素をもつ官能基を有していてもよい。こ
のような二官能以上のポリチオールの例としては、２，
５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン（ＤＭＭ
Ｄ）、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセ
テート（ＰＥＴＭＡ）、ペンタエリスリトールテトラキ
スメルカプトプロピオネート（ＰＥＴＭＰ）、トリメチ
ロールプロパントリスメルカプトアセテート、２，３−
ジメルカプト−１−プロパノール、１，２−（ジメルカ
プトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、１，２−
ビス−２−（メルカプトエチルチオ）−３−メルカプト
プロパン、１，２，３−トリメルカプトプロパン、ビス
（２−メルカプトエチル）スルフィド、エタンジチオー
ル、１，２−プロパンジチオール、１，３−プロパンジ
チオール、ブタンジチオール、ヘキサンジチオール、ベ
ンゼンジチオール、ベンゼントリチオール、トリレンジ
チオール、キシリレンジチオール等が挙げられる。これ
らは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用
いてもよい。また、高屈折率、高アッベ数（低分散性）
を有するポリチオールオリゴマーを得るのに特に有用な
化合物は、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチ
アン（ＤＭＭＤ）である。
ールオリゴマーの製造方法について説明する。ポリチオ
ールオリゴマーの製造方法においては、原料として二官
能以上のポリチオールが用いられる。この二官能以上の
ポリチオールは直鎖状、分岐鎖状、環状のいずれであっ
てもよく、またメルカプト基（−ＳＨ）を二つ以上有し
ていれば、他の官能基、例えばアミン基やヒドロキシル
基などの活性水素をもつ官能基を有していてもよい。こ
のような二官能以上のポリチオールの例としては、２，
５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン（ＤＭＭ
Ｄ）、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプトアセ
テート（ＰＥＴＭＡ）、ペンタエリスリトールテトラキ
スメルカプトプロピオネート（ＰＥＴＭＰ）、トリメチ
ロールプロパントリスメルカプトアセテート、２，３−
ジメルカプト−１−プロパノール、１，２−（ジメルカ
プトエチルチオ）−３−メルカプトプロパン、１，２−
ビス−２−（メルカプトエチルチオ）−３−メルカプト
プロパン、１，２，３−トリメルカプトプロパン、ビス
（２−メルカプトエチル）スルフィド、エタンジチオー
ル、１，２−プロパンジチオール、１，３−プロパンジ
チオール、ブタンジチオール、ヘキサンジチオール、ベ
ンゼンジチオール、ベンゼントリチオール、トリレンジ
チオール、キシリレンジチオール等が挙げられる。これ
らは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用
いてもよい。また、高屈折率、高アッベ数（低分散性）
を有するポリチオールオリゴマーを得るのに特に有用な
化合物は、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチ
アン（ＤＭＭＤ）である。
【００１２】ポリチオールオリゴマーの製造方法におい
ては、前記二官能以上のポリチオールとイオウとを、塩
基性触媒の存在下に反応させて、ポリチオールオリゴマ
ーを生成させるが、二官能以上のポリチオールとイオウ
との反応は、例えば生成物が二量体の場合、反応式
ては、前記二官能以上のポリチオールとイオウとを、塩
基性触媒の存在下に反応させて、ポリチオールオリゴマ
ーを生成させるが、二官能以上のポリチオールとイオウ
との反応は、例えば生成物が二量体の場合、反応式
【化１】 （式中、Ｒは有機基を示し、ｎは１以上の整数、好まし
くは１、２または３である）で表すことができる。
くは１、２または３である）で表すことができる。
【００１３】ポリチオールオリゴマーの製造方法におい
ては、イオウの使用量は、二官能以上のポリチオール１
モルに対して、０．１〜０．９５モルの範囲とするのが
好ましい。この使用量が０．１モル未満ではポリチオー
ルの転化率が低すぎて実用的でないし、０．９５モルを
超えると光学材料の原料として好ましくない分子量の大
きな多量体の生成量が多くなるとともに、未反応イオウ
が反応液中に残存するおそれがある。転化率、光学材料
用原料としての性能およびイオウの反応性などを考慮す
ると、特に好ましいイオウの使用量は、二官能以上のポ
リチオール１モルに対して、０．４〜０．７モルの範囲
である。
ては、イオウの使用量は、二官能以上のポリチオール１
モルに対して、０．１〜０．９５モルの範囲とするのが
好ましい。この使用量が０．１モル未満ではポリチオー
ルの転化率が低すぎて実用的でないし、０．９５モルを
超えると光学材料の原料として好ましくない分子量の大
きな多量体の生成量が多くなるとともに、未反応イオウ
が反応液中に残存するおそれがある。転化率、光学材料
用原料としての性能およびイオウの反応性などを考慮す
ると、特に好ましいイオウの使用量は、二官能以上のポ
リチオール１モルに対して、０．４〜０．７モルの範囲
である。
【００１４】前記イオウはいかなる形態でもよく、例え
ば、結晶状、コロイド状、粉末あるいはイオウ華でもよ
い。好ましくは、純度９８％以上、さらに好ましくは純
度９９％以上のものを用いる。
ば、結晶状、コロイド状、粉末あるいはイオウ華でもよ
い。好ましくは、純度９８％以上、さらに好ましくは純
度９９％以上のものを用いる。
【００１５】前記塩基性触媒は、好ましくはアンモニア
またはアミンである。アミンは、直鎖、分岐鎖もしくは
環状の脂肪族アミンまたは芳香族アミンのいずれでもよ
く、また、１級アミン、２級アミンまたは３級アミンの
いずれであってもよい。触媒の具体例としては、アンモ
ニア、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン，ｓ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ｎ
−アミルアミン、モルホリン、ピペリジン、置換モルホ
リン、置換ピペリジン、アニリンが挙げられ、好ましく
は、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ｎ−ブチルア
ミン、モルホリンおよびピペリジンである。これらは単
独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いても
よい。触媒として用いるアンモニアまたはアミンの量
は、原料のポリチオールに対して、通常は０．００１〜
１．０モル％、好ましくは０．０１〜０．１モル％であ
る。
またはアミンである。アミンは、直鎖、分岐鎖もしくは
環状の脂肪族アミンまたは芳香族アミンのいずれでもよ
く、また、１級アミン、２級アミンまたは３級アミンの
いずれであってもよい。触媒の具体例としては、アンモ
ニア、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、ｎ−プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブ
チルアミン，ｓ−ブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ｎ
−アミルアミン、モルホリン、ピペリジン、置換モルホ
リン、置換ピペリジン、アニリンが挙げられ、好ましく
は、ジエチルアミン、トリエチルアミン、ｎ−ブチルア
ミン、モルホリンおよびピペリジンである。これらは単
独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いても
よい。触媒として用いるアンモニアまたはアミンの量
は、原料のポリチオールに対して、通常は０．００１〜
１．０モル％、好ましくは０．０１〜０．１モル％であ
る。
【００１６】ポリチオールオリゴマーの製造方法におい
て、反応系への触媒の投入は、触媒をポリチオール及び
イオウと予め混合することにより行ってもよく、また、
ポリチオール及びイオウを混合して、イオウを全部溶解
させた後に触媒を加えることにより行ってもよい。
て、反応系への触媒の投入は、触媒をポリチオール及び
イオウと予め混合することにより行ってもよく、また、
ポリチオール及びイオウを混合して、イオウを全部溶解
させた後に触媒を加えることにより行ってもよい。
【００１７】ポリチオールオリゴマーの製造方法におい
ては、必要に応じ、溶媒を使用してもよい。使用し得る
溶媒の具体例としては、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタンな
どのハロゲン化炭化水素、ヘキサン等の脂肪族炭化水
素、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素、メタノール、エタノール、
イソプロパノール等のアルコール、ジメチルエーテル、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテルな
どが挙げられる。好ましくは、メタノール、テトラヒド
ロフランである。溶媒の使用量は、出発原料、触媒の種
類、反応条件等に応じて適宜定め得る。
ては、必要に応じ、溶媒を使用してもよい。使用し得る
溶媒の具体例としては、ジクロロメタン、クロロホル
ム、四塩化炭素、ジクロロエタン、トリクロロエタンな
どのハロゲン化炭化水素、ヘキサン等の脂肪族炭化水
素、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、ベンゼン、ト
ルエン等の芳香族炭化水素、メタノール、エタノール、
イソプロパノール等のアルコール、ジメチルエーテル、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテルな
どが挙げられる。好ましくは、メタノール、テトラヒド
ロフランである。溶媒の使用量は、出発原料、触媒の種
類、反応条件等に応じて適宜定め得る。
【００１８】ポリチオールオリゴマーの製造方法におい
て、反応温度は特に限定されないが、通常は室温〜溶媒
の沸点の範囲の温度、好ましくは室温〜１２０℃であ
る。
て、反応温度は特に限定されないが、通常は室温〜溶媒
の沸点の範囲の温度、好ましくは室温〜１２０℃であ
る。
【００１９】反応時間は、原料の種類、ポリチオールと
イオウとのモル比、触媒の種類や量、反応温度などの様
々な条件により異なり、一概に定めることはできない
が、実質上未反応のイオウが残存しなくなるまで反応さ
せるのが有利である。反応液をそのまま、あるいは溶媒
を留去させた残液を光学材料用重合体の原料として用い
る場合、未反応イオウの残存は好ましくない。
イオウとのモル比、触媒の種類や量、反応温度などの様
々な条件により異なり、一概に定めることはできない
が、実質上未反応のイオウが残存しなくなるまで反応さ
せるのが有利である。反応液をそのまま、あるいは溶媒
を留去させた残液を光学材料用重合体の原料として用い
る場合、未反応イオウの残存は好ましくない。
【００２０】このようにして生成したポリチオールオリ
ゴマーとしては、二量体、三量体および四量体の少なく
とも１種を含有し、かつ未反応ポリチオールを含んでい
てもよいオリゴマーまたはオリゴマー混合物が好適であ
る。通常、反応液中には、未反応ポリチオール及び複数
種のオリゴマーが含有されている。
ゴマーとしては、二量体、三量体および四量体の少なく
とも１種を含有し、かつ未反応ポリチオールを含んでい
てもよいオリゴマーまたはオリゴマー混合物が好適であ
る。通常、反応液中には、未反応ポリチオール及び複数
種のオリゴマーが含有されている。
【００２１】本発明においては、この反応液が溶媒を含
まない場合はそのままで、また溶媒を含む場合は溶媒を
留去させた残液を、光学材料用重合体の原料として使用
してもよいし、必要ならば、未反応ポリチオール及び各
オリゴマーを単離精製し、それぞれを単体として取得し
てもよい。単離精製方法としては、特に制限はなく、従
来常用されている方法、例えば、反応液を溶媒を含まな
い場合は、そのままカラムクロマトグラフィーに付すこ
とにより、溶媒を含む場合は、溶媒を留去させたのち、
カラムクロマトグラフィーに付すことにより、単離精製
することができる。
まない場合はそのままで、また溶媒を含む場合は溶媒を
留去させた残液を、光学材料用重合体の原料として使用
してもよいし、必要ならば、未反応ポリチオール及び各
オリゴマーを単離精製し、それぞれを単体として取得し
てもよい。単離精製方法としては、特に制限はなく、従
来常用されている方法、例えば、反応液を溶媒を含まな
い場合は、そのままカラムクロマトグラフィーに付すこ
とにより、溶媒を含む場合は、溶媒を留去させたのち、
カラムクロマトグラフィーに付すことにより、単離精製
することができる。
【００２２】前記方法で得られたポリチオールオリゴマ
ーを光学材料用原料として用いる場合は、二官能以上の
ポリチオールとして、２，５−ジメルカプトメチル−
１，４−ジチアン（ＤＭＭＤ）を用い、このものとイオ
ウとをモル比１：０．４〜１：０．７の割合で反応さ
せ、式
ーを光学材料用原料として用いる場合は、二官能以上の
ポリチオールとして、２，５−ジメルカプトメチル−
１，４−ジチアン（ＤＭＭＤ）を用い、このものとイオ
ウとをモル比１：０．４〜１：０．７の割合で反応さ
せ、式
【化２】 で表される二量体、三量体および四量体の少なくとも１
種を含有し、かつ未反応の２，５−ジメルカプトメチル
−１，４−ジチアンを含んでいてもよいオリゴマーまた
はオリゴマー混合物を製造するのが好ましい。
種を含有し、かつ未反応の２，５−ジメルカプトメチル
−１，４−ジチアンを含んでいてもよいオリゴマーまた
はオリゴマー混合物を製造するのが好ましい。
【００２３】また、必要に応じ、この反応終了後、前記
のようにして、オリゴマーを単離精製し、２，５−ジメ
ルカプトメチル−１，４−ジチアンの二量体、三量体お
よび四量体の中から選ばれる少なくとも一つのオリゴマ
ー単体を取得してもよい。
のようにして、オリゴマーを単離精製し、２，５−ジメ
ルカプトメチル−１，４−ジチアンの二量体、三量体お
よび四量体の中から選ばれる少なくとも一つのオリゴマ
ー単体を取得してもよい。
【００２４】次に、本発明の光学材料用重合体の製造方
法について説明する。本発明の光学材料用重合体は、ポ
リチオール基含有化合物（モノマー成分Ａ）と、ポリ
（チオ）イソシアネート基含有化合物（モノマー成分
Ｂ）および／または多官能ビニル基含有化合物（モノマ
ー成分Ｃ）との共重合体であって、安定した高屈折率お
よび高アッベ数（低分散性）の光学材料に適した光学特
性を有している。以下、各モノマー成分について説明す
る。
法について説明する。本発明の光学材料用重合体は、ポ
リチオール基含有化合物（モノマー成分Ａ）と、ポリ
（チオ）イソシアネート基含有化合物（モノマー成分
Ｂ）および／または多官能ビニル基含有化合物（モノマ
ー成分Ｃ）との共重合体であって、安定した高屈折率お
よび高アッベ数（低分散性）の光学材料に適した光学特
性を有している。以下、各モノマー成分について説明す
る。
【００２５】モノマー成分Ａ 本発明において、モノマー成分Ａとして、ポリチオール
基含有化合物が用いられ、そして、このポリチオール基
含有化合物として、前述の方法で得られたポリチオール
オリゴマーが使用される。すなわち、二官能以上のポリ
チオールの二量体、三量体および四量体の少なくとも１
種を含有し、かつ未反応ポリチオールを含有する若しく
は含有しないオリゴマーまたはオリゴマー混合物、ある
いは二量体、三量体および四量体などの各種オリゴマー
の単体を好ましく用いることができる。このようなもの
としては、前述の方法で得られた反応液をそのまま（溶
媒を使用しない場合）、または反応液中の溶媒を留去さ
せた残液（溶媒を使用した場合）を用いてもよいし、反
応液中のオリゴマーを単離精製して得られた各種オリゴ
マー単体をそれぞれ用いてもよい。この場合、各種オリ
ゴマー単体を適当に２種以上組み合わせて用いることも
できる。
基含有化合物が用いられ、そして、このポリチオール基
含有化合物として、前述の方法で得られたポリチオール
オリゴマーが使用される。すなわち、二官能以上のポリ
チオールの二量体、三量体および四量体の少なくとも１
種を含有し、かつ未反応ポリチオールを含有する若しく
は含有しないオリゴマーまたはオリゴマー混合物、ある
いは二量体、三量体および四量体などの各種オリゴマー
の単体を好ましく用いることができる。このようなもの
としては、前述の方法で得られた反応液をそのまま（溶
媒を使用しない場合）、または反応液中の溶媒を留去さ
せた残液（溶媒を使用した場合）を用いてもよいし、反
応液中のオリゴマーを単離精製して得られた各種オリゴ
マー単体をそれぞれ用いてもよい。この場合、各種オリ
ゴマー単体を適当に２種以上組み合わせて用いることも
できる。
【００２６】このようなポリチオールオリゴマーは、実
質上メルカプト基２個以上を有する化合物のみから構成
されており、また分子内にジスルフィド結合を有する化
合物を含有していることから、反応条件を定めることに
より、一定の高い屈折率および一定の高いアッベ数を有
するものになる。したがって、このポリチオールオリゴ
マーを用いることにより、安定した高屈折率および安定
した高アッベ数を有する重合体が得られる。
質上メルカプト基２個以上を有する化合物のみから構成
されており、また分子内にジスルフィド結合を有する化
合物を含有していることから、反応条件を定めることに
より、一定の高い屈折率および一定の高いアッベ数を有
するものになる。したがって、このポリチオールオリゴ
マーを用いることにより、安定した高屈折率および安定
した高アッベ数を有する重合体が得られる。
【００２７】このようなポリチオールオリゴマーの中
で、特に二官能以上のポリチオールとして、２，５−ジ
メルカプトメチル−１，４−ジチアン（ＤＭＭＤ）を用
いて得られた、式
で、特に二官能以上のポリチオールとして、２，５−ジ
メルカプトメチル−１，４−ジチアン（ＤＭＭＤ）を用
いて得られた、式
【化３】 で表される二量体、三量体および四量体の少なくとも１
種を含有し、かつ未反応の２，５−ジメルカプトメチル
−１，４−ジチアンを含有する若しくは含有しないオリ
ゴマーまたはオリゴマー混合物、あるいは反応液中のオ
リゴマーを単離精製して得られた２，５−ジメルカプト
メチル−１，４−ジチアンの二量体、三量体および四量
体の中から選ばれる少なくとも一つのオリゴマー単体
が、光学特性の点から好適である。
種を含有し、かつ未反応の２，５−ジメルカプトメチル
−１，４−ジチアンを含有する若しくは含有しないオリ
ゴマーまたはオリゴマー混合物、あるいは反応液中のオ
リゴマーを単離精製して得られた２，５−ジメルカプト
メチル−１，４−ジチアンの二量体、三量体および四量
体の中から選ばれる少なくとも一つのオリゴマー単体
が、光学特性の点から好適である。
【００２８】また、本発明においては、モノマー成分と
して、前記した方法で得られたポリチオールオリゴマー
と共に、その粘度を調節して重合反応を容易に進行させ
るなどの目的で、所望により、ジスルフィド結合を有し
ないポリチオール化合物を適宜用いることができる。こ
こで、ジスルフィド結合を有しないポリチオール化合物
は、ジスルフィド結合を有しておらず、２個以上のメル
カプト基（−ＳＨ）を有するものであるが、メルカプト
基以外に他の官能基、例えばアミノ基、ヒドロキシ基の
ような活性水素を持つ官能基を有していてもよい。ジス
ルフィド結合を有しないポリチオール化合物の具体例と
しては、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチア
ン（ＤＭＭＤ）、ペンタエリスリトールテトラキスメル
カプトアセテート（ＰＥＴＭＡ）、ペンタエリスリトー
ルテトラキスメルカプトプロピオネート（ＰＥＴＭ
Ｐ）、トリメチロールプロパントリスメルカプトアセテ
ート、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール、１，
２−（ジメルカプトチオ）−３−メルカプトプロパン、
１，２−ビス−２−（メルカプトエチルチオ）−３−メ
ルカプトプロパン、１，２，３−トリメルカプトプロパ
ン、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、エタン
ジチオール、１，２−プロパンジチオール、１，３−プ
ロパンジチオール、ブタンジチオール、ヘキサンジチオ
ール、ベンゼンジチオール、ベンゼントリチオール、ト
リレンジチオール、キシリレンジチオール等が挙げられ
る。好ましくは、トリメチロールプロパントリスメルカ
プトアセテート、ペンタエリスリトールテトラキスメル
カプトプロピオネー（ＰＥＴＭＰ）ト、ペンタエリスリ
トールテトラキスメルカプトアセテート（ＰＥＴＭＡ）
などである。
して、前記した方法で得られたポリチオールオリゴマー
と共に、その粘度を調節して重合反応を容易に進行させ
るなどの目的で、所望により、ジスルフィド結合を有し
ないポリチオール化合物を適宜用いることができる。こ
こで、ジスルフィド結合を有しないポリチオール化合物
は、ジスルフィド結合を有しておらず、２個以上のメル
カプト基（−ＳＨ）を有するものであるが、メルカプト
基以外に他の官能基、例えばアミノ基、ヒドロキシ基の
ような活性水素を持つ官能基を有していてもよい。ジス
ルフィド結合を有しないポリチオール化合物の具体例と
しては、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチア
ン（ＤＭＭＤ）、ペンタエリスリトールテトラキスメル
カプトアセテート（ＰＥＴＭＡ）、ペンタエリスリトー
ルテトラキスメルカプトプロピオネート（ＰＥＴＭ
Ｐ）、トリメチロールプロパントリスメルカプトアセテ
ート、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール、１，
２−（ジメルカプトチオ）−３−メルカプトプロパン、
１，２−ビス−２−（メルカプトエチルチオ）−３−メ
ルカプトプロパン、１，２，３−トリメルカプトプロパ
ン、ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド、エタン
ジチオール、１，２−プロパンジチオール、１，３−プ
ロパンジチオール、ブタンジチオール、ヘキサンジチオ
ール、ベンゼンジチオール、ベンゼントリチオール、ト
リレンジチオール、キシリレンジチオール等が挙げられ
る。好ましくは、トリメチロールプロパントリスメルカ
プトアセテート、ペンタエリスリトールテトラキスメル
カプトプロピオネー（ＰＥＴＭＰ）ト、ペンタエリスリ
トールテトラキスメルカプトアセテート（ＰＥＴＭＡ）
などである。
【００２９】ポリチオールオリゴマーと上記ジスルフィ
ド結合を有しないポリチオール化合物との混合割合は、
特に制限はなく、ポリチオールオリゴマーの粘度などに
応じて適宜選定されるが、重量比で通常１００：１〜
１：１００の範囲であり、好ましくは１００：１〜１：
１の範囲であり、特に好ましくは１００：１〜２：１の
範囲である。ジスルフィド結合を有しないポリチオール
化合物の割合が多すぎると、ポリチオールオリゴマーの
特性が失われ、目的とする高屈折率且つ高アッベ数（低
分散性）の光学材料用重合体が得られなくなるおそれが
ある。
ド結合を有しないポリチオール化合物との混合割合は、
特に制限はなく、ポリチオールオリゴマーの粘度などに
応じて適宜選定されるが、重量比で通常１００：１〜
１：１００の範囲であり、好ましくは１００：１〜１：
１の範囲であり、特に好ましくは１００：１〜２：１の
範囲である。ジスルフィド結合を有しないポリチオール
化合物の割合が多すぎると、ポリチオールオリゴマーの
特性が失われ、目的とする高屈折率且つ高アッベ数（低
分散性）の光学材料用重合体が得られなくなるおそれが
ある。
【００３０】モノマー成分Ｂ 本発明においては、モノマー成分Ｂとして、ポリ（チ
オ）イソシアネート基含有化合物が用いられる。ここ
で、ポリ（チオ）イソシアネート基含有化合物は、ポリ
イソシアネート基含有化合物またはポリチオイソシアネ
ート基含有化合物を意味する。すなわち、少なくとも２
個以上のイソシアネート基（−ＮＣＯ）またはチオイソ
シアネート基（−ＮＣＳ）を有する化合物からなる。ポ
リ（チオ）イソシアネート基含有化合物としては、光学
材料の分野で用いることができるものであればよく、そ
の種類は特に制限されるものではないが、モノマー成分
Ａの粘度が比較的高いことから、一般に粘度の低いポリ
（チオ）イソシアネート化合物が好ましい。本発明で用
いることができるポリ（チオ）イソシアネート化合物の
具体例としては、例えばヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、ビス（イソシアネー
トメチル）シクロヘキサン（ＨＸＤＩ）、１，３−ジイ
ソシアネートシクロヘキサン（ＣＨＤＩ）、１，３，５
−トリイソシアネートシクロヘキサン、ジシクロヘキシ
ルメタンジイソシアネート、ビス（イソシアネートメチ
ル）ビシクロペンタン（ＮＢＤＩ）、ビス（イソシアネ
ートメチル）ビシクロヘプタン、ベンゼンジイソシアネ
ート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシ
アネート、リジンエステルトリイソシアネート、トリイ
ソシアネートシクロヘキサン、トリス（イソシアネート
メチル）シクロヘキサン（ＨＭＴＩ）、ビシクロヘプタ
ントリイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネ
ート（ＬｙＴＩ）、２，５−ジイソシアネートメチル−
１，４−ジチアン等のポリイソシアネート、およびこれ
らに対応するポリチオイソシアネートが挙げられるが、
これらの中でポリイソシアネートが好ましい。より好ま
しくは、ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン
（ＨＸＤＩ）、１，３−ジイソシアネートシクロヘキサ
ン（ＣＨＤＩ）、１，３，５−トリイソシアネートシク
ロヘキサン、ビス（イソシアネートメチル）ビシクロペ
ンタン（ＮＢＤＩ）、トリス（イソシアネートメチル）
シクロヘキサン（ＨＭＴＩ）及び２，５−ジイソシアネ
ートメチル−１，４−ジチアンであり、特に好ましくは
１，３−ジイソシアネートシクロヘキサン（ＣＨＤ
Ｉ）、１，３，５−トリイソシアネートシクロヘキサン
及び２，５−ジイソシアネート−１，４−ジチアンであ
る。
オ）イソシアネート基含有化合物が用いられる。ここ
で、ポリ（チオ）イソシアネート基含有化合物は、ポリ
イソシアネート基含有化合物またはポリチオイソシアネ
ート基含有化合物を意味する。すなわち、少なくとも２
個以上のイソシアネート基（−ＮＣＯ）またはチオイソ
シアネート基（−ＮＣＳ）を有する化合物からなる。ポ
リ（チオ）イソシアネート基含有化合物としては、光学
材料の分野で用いることができるものであればよく、そ
の種類は特に制限されるものではないが、モノマー成分
Ａの粘度が比較的高いことから、一般に粘度の低いポリ
（チオ）イソシアネート化合物が好ましい。本発明で用
いることができるポリ（チオ）イソシアネート化合物の
具体例としては、例えばヘキサメチレンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、ビス（イソシアネー
トメチル）シクロヘキサン（ＨＸＤＩ）、１，３−ジイ
ソシアネートシクロヘキサン（ＣＨＤＩ）、１，３，５
−トリイソシアネートシクロヘキサン、ジシクロヘキシ
ルメタンジイソシアネート、ビス（イソシアネートメチ
ル）ビシクロペンタン（ＮＢＤＩ）、ビス（イソシアネ
ートメチル）ビシクロヘプタン、ベンゼンジイソシアネ
ート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシ
アネート、リジンエステルトリイソシアネート、トリイ
ソシアネートシクロヘキサン、トリス（イソシアネート
メチル）シクロヘキサン（ＨＭＴＩ）、ビシクロヘプタ
ントリイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネ
ート（ＬｙＴＩ）、２，５−ジイソシアネートメチル−
１，４−ジチアン等のポリイソシアネート、およびこれ
らに対応するポリチオイソシアネートが挙げられるが、
これらの中でポリイソシアネートが好ましい。より好ま
しくは、ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン
（ＨＸＤＩ）、１，３−ジイソシアネートシクロヘキサ
ン（ＣＨＤＩ）、１，３，５−トリイソシアネートシク
ロヘキサン、ビス（イソシアネートメチル）ビシクロペ
ンタン（ＮＢＤＩ）、トリス（イソシアネートメチル）
シクロヘキサン（ＨＭＴＩ）及び２，５−ジイソシアネ
ートメチル−１，４−ジチアンであり、特に好ましくは
１，３−ジイソシアネートシクロヘキサン（ＣＨＤ
Ｉ）、１，３，５−トリイソシアネートシクロヘキサン
及び２，５−ジイソシアネート−１，４−ジチアンであ
る。
【００３１】本発明においては、モノマー成分Ｂとし
て、ポリ（チオ）イソシアネート基含有化合物を１種用
いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
て、ポリ（チオ）イソシアネート基含有化合物を１種用
いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３２】モノマー成分Ｃ 本発明においては、モノマー成分Ｃとして、多官能ビニ
ル基含有化合物が用いられる。この多官能ビニル基含有
化合物は、少なくとも１個のビニル基を有する化合物及
び／又は少なくとも一個のビニル基と少なくとも１個の
ビニル基以外の官能基とを有する化合物からなるもので
ある。この多官能ビニル基含有化合物としては、光学材
料の分野で通常用いられるものであれば、その種類は特
に制限はないが、モノマー成分Ａの粘度が比較的高いこ
とから、一般に粘度の低い多官能ビニル化合物が好まし
い。本発明で用いることができる多官能ビニル化合物の
具体例としては、２，５−ビス（２−チア−３−ブテニ
ル）−１，４−ジチアン（ＴＢＤ）、スチレン、クロロ
スチレン、ジブロモスチレン、ジビニルベンゼン、メチ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ
−シクロヘキシルマレイミド、フェニル（メタ）アクリ
レート、フェニルチオ（メタ）アクリレート、ジ（メ
タ）アクリルフェニルスルフィド等が挙げられる。好ま
しくは２，５−ビス（２−チア−３−ブテニル）−１，
４−ジチアン（ＴＢＤ）、ジビニルベンゼン等が挙げら
れ、特に好ましくは２，５−ビス（２−チア−３−ブテ
ニル）−１，４−ジチアン（ＴＢＤ）である。
ル基含有化合物が用いられる。この多官能ビニル基含有
化合物は、少なくとも１個のビニル基を有する化合物及
び／又は少なくとも一個のビニル基と少なくとも１個の
ビニル基以外の官能基とを有する化合物からなるもので
ある。この多官能ビニル基含有化合物としては、光学材
料の分野で通常用いられるものであれば、その種類は特
に制限はないが、モノマー成分Ａの粘度が比較的高いこ
とから、一般に粘度の低い多官能ビニル化合物が好まし
い。本発明で用いることができる多官能ビニル化合物の
具体例としては、２，５−ビス（２−チア−３−ブテニ
ル）−１，４−ジチアン（ＴＢＤ）、スチレン、クロロ
スチレン、ジブロモスチレン、ジビニルベンゼン、メチ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ
−シクロヘキシルマレイミド、フェニル（メタ）アクリ
レート、フェニルチオ（メタ）アクリレート、ジ（メ
タ）アクリルフェニルスルフィド等が挙げられる。好ま
しくは２，５−ビス（２−チア−３−ブテニル）−１，
４−ジチアン（ＴＢＤ）、ジビニルベンゼン等が挙げら
れ、特に好ましくは２，５−ビス（２−チア−３−ブテ
ニル）−１，４−ジチアン（ＴＢＤ）である。
【００３３】本発明においては、モノマー成分Ｃとし
て、上記多官能ビニル基含有化合物を単独で用いてもよ
いし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
て、上記多官能ビニル基含有化合物を単独で用いてもよ
いし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３４】次に、本発明の光学材料用重合体を製造す
る際の各モノマー成分の配合割合について説明する。
る際の各モノマー成分の配合割合について説明する。
【００３５】モノマー成分として、成分Ａ（ポリチオー
ル基含有化合物）と成分Ｂ［ポリ（チオ）イソシアネー
ト基含有化合物］の２成分を用いる場合には、成分Ａと
成分Ｂの配合割合は、官能基の当量比で、通常１：２〜
２：１、好ましくは１：２〜１：１、特に好ましくは
１：１．２〜１：１の範囲で選ぶのがよい。また、モノ
マー成分として、成分Ａ（ポリチオール基含有化合物）
と成分Ｃ（多官能ビニル基含有化合物）の２成分を用い
る場合には、成分Ａと成分Ｃの配合割合は、官能基の当
量比で、通常１：１０００〜１：１、好ましくは１：１
００〜１：１の範囲で選ぶのがよい。さらに、モノマー
成分として、成分Ａと成分Ｂと成分Ｃの３成分を用いる
場合には、成分Ａと成分Ｂと成分Ｃの配合割合は、官能
基の当量比で、通常１：１０：１０００〜１０：０．０
１：１、好ましくは１：１０：１００〜１０：０．１：
１の範囲で選ぶのがよい。
ル基含有化合物）と成分Ｂ［ポリ（チオ）イソシアネー
ト基含有化合物］の２成分を用いる場合には、成分Ａと
成分Ｂの配合割合は、官能基の当量比で、通常１：２〜
２：１、好ましくは１：２〜１：１、特に好ましくは
１：１．２〜１：１の範囲で選ぶのがよい。また、モノ
マー成分として、成分Ａ（ポリチオール基含有化合物）
と成分Ｃ（多官能ビニル基含有化合物）の２成分を用い
る場合には、成分Ａと成分Ｃの配合割合は、官能基の当
量比で、通常１：１０００〜１：１、好ましくは１：１
００〜１：１の範囲で選ぶのがよい。さらに、モノマー
成分として、成分Ａと成分Ｂと成分Ｃの３成分を用いる
場合には、成分Ａと成分Ｂと成分Ｃの配合割合は、官能
基の当量比で、通常１：１０：１０００〜１０：０．０
１：１、好ましくは１：１０：１００〜１０：０．１：
１の範囲で選ぶのがよい。
【００３６】なお、本発明の光学材料用重合体の製造に
おいては、上記モノマー成分Ａ、Ｂ及びＣ以外に、紫外
線吸収剤、酸化防止剤、染料などを必要に応じて適宜加
えることができる。
おいては、上記モノマー成分Ａ、Ｂ及びＣ以外に、紫外
線吸収剤、酸化防止剤、染料などを必要に応じて適宜加
えることができる。
【００３７】本発明の光学材料用重合体の製造は、モノ
マー成分Ａと、モノマー成分Ｂ及び／又はモノマー成分
Ｃとを少なくとも含むモノマー混合物を調製したのち、
適量の重合触媒の存在下、熱重合、光重合などの公知の
重合方法を用いて行うことができる。重合反応の条件は
特に制限はなく、光学材料の分野で通常用いられている
条件に従い重合すればよい。
マー成分Ａと、モノマー成分Ｂ及び／又はモノマー成分
Ｃとを少なくとも含むモノマー混合物を調製したのち、
適量の重合触媒の存在下、熱重合、光重合などの公知の
重合方法を用いて行うことができる。重合反応の条件は
特に制限はなく、光学材料の分野で通常用いられている
条件に従い重合すればよい。
【００３８】本発明の高屈折率光学材料用重合体からな
る光学製品の製造は、キャスト（注型重合）法、切削研
磨法、射出成形法などによって行うことができる。キャ
スト（注型重合）法で製品を製造する際は、場合によっ
て内部離型剤も併用することがある。
る光学製品の製造は、キャスト（注型重合）法、切削研
磨法、射出成形法などによって行うことができる。キャ
スト（注型重合）法で製品を製造する際は、場合によっ
て内部離型剤も併用することがある。
【００３９】本発明の光学材料用重合体は、高屈折率及
び高アッベ数（低分散性）を有し、かつ製品ロット間の
屈折率及びアッベ数が一定であるので、光学レンズ、眼
鏡レンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録用基板、
着色フィルター、赤外線吸収フィルター等の光学製品の
材料として好適に用いることができる。
び高アッベ数（低分散性）を有し、かつ製品ロット間の
屈折率及びアッベ数が一定であるので、光学レンズ、眼
鏡レンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録用基板、
着色フィルター、赤外線吸収フィルター等の光学製品の
材料として好適に用いることができる。
【００４０】
【実施例】次に、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。なお、各物性は下記の方法に従って
測定した。 （１）1Ｈ−ＮＭＲスペクトルＪＥＯＬ ＥＸ−２７０
ＮＭＲスペクトロメータを用いて測定した。 （２）ＩＲ吸収スペクトルホリバＦＴ３００赤外分光器
を用いて測定した。 （３）屈折率Ｎｄ及びアッベ数Ｖｄカルニュー社製精密
屈折計 ＫＰＲ−２００測定器を用いて、特に記載しな
いかぎり、２５℃にて測定した。 （４）外観肉眼により観察した。
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。なお、各物性は下記の方法に従って
測定した。 （１）1Ｈ−ＮＭＲスペクトルＪＥＯＬ ＥＸ−２７０
ＮＭＲスペクトロメータを用いて測定した。 （２）ＩＲ吸収スペクトルホリバＦＴ３００赤外分光器
を用いて測定した。 （３）屈折率Ｎｄ及びアッベ数Ｖｄカルニュー社製精密
屈折計 ＫＰＲ−２００測定器を用いて、特に記載しな
いかぎり、２５℃にて測定した。 （４）外観肉眼により観察した。
【００４１】合成例１ ５００ｍｌの丸底フラスコに、粉末イオウ６．４ｇ
（０．２モル）、２，５−ジメルカプトメチル−１，４
−ジチアン（ＤＭＭＤ）８４．８ｇ（０．４モル、ＤＭ
ＭＤ／Ｓのモル比＝２／１）、触媒としてのジエチルア
ミン（ＤＥＡ）０．０１４６ｇ（ＤＭＭＤに対して０．
０５ｍｏｌ％）、及び溶媒としてのテトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）９５ｍｌを入れ、６０℃の油浴で撹拌しなが
ら加熱した。イオウが溶解し始めると同時に液面に褐色
の色が展開しつつ反応が進行し、多量の硫化水素気泡の
発生が約２０分間持続した。約３０分間経過して、気泡
の発生が認められなくなったら、浴温を１００℃に上げ
てＴＨＦを留去した。大部分のＴＨＦが留去された後、
窒素を２時間通気してＴＨＦを完全に留去した。その
後、１００℃で真空脱気して、無色透明の粘性液体８
４．５ｇを得た。
（０．２モル）、２，５−ジメルカプトメチル−１，４
−ジチアン（ＤＭＭＤ）８４．８ｇ（０．４モル、ＤＭ
ＭＤ／Ｓのモル比＝２／１）、触媒としてのジエチルア
ミン（ＤＥＡ）０．０１４６ｇ（ＤＭＭＤに対して０．
０５ｍｏｌ％）、及び溶媒としてのテトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）９５ｍｌを入れ、６０℃の油浴で撹拌しなが
ら加熱した。イオウが溶解し始めると同時に液面に褐色
の色が展開しつつ反応が進行し、多量の硫化水素気泡の
発生が約２０分間持続した。約３０分間経過して、気泡
の発生が認められなくなったら、浴温を１００℃に上げ
てＴＨＦを留去した。大部分のＴＨＦが留去された後、
窒素を２時間通気してＴＨＦを完全に留去した。その
後、１００℃で真空脱気して、無色透明の粘性液体８
４．５ｇを得た。
【００４２】この粘性液体をガスクロマトグラフィー
（東ソーカラム：Ｇ２０００ＨＸＬ、検出器：ＲＩ、流
速：０．８ｍｌ／分、温度：４０℃）により分析したと
ころ、 ＤＭＭＤモノマー ：２１．７重量％ “ ダイマー ：２６．４ ” “ トリマー ：１９．２ ” “ テトラマー ：１３．６ ” “ ペンタマー ： ８．７ ” “ ヘキサマー ：１０．４ ” であった。従って、ＤＭＭＤのオリゴマーへの転化率は
７８．３％であった。
（東ソーカラム：Ｇ２０００ＨＸＬ、検出器：ＲＩ、流
速：０．８ｍｌ／分、温度：４０℃）により分析したと
ころ、 ＤＭＭＤモノマー ：２１．７重量％ “ ダイマー ：２６．４ ” “ トリマー ：１９．２ ” “ テトラマー ：１３．６ ” “ ペンタマー ： ８．７ ” “ ヘキサマー ：１０．４ ” であった。従って、ＤＭＭＤのオリゴマーへの転化率は
７８．３％であった。
【００４３】また、この粘性液体の屈折率は１．６８
２、アッベ数は３４．７であった。さらに、1Ｈ−ＮＭ
Ｒ分析およびＩＲ分析の結果は次のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、内部標準物質：テトラ
メチルシラン） δ（ｐｐｍ）： １．６１（ｔ，１．０Ｈ）、 ２．８３〜３．２４（ｍ，１０．０Ｈ） ＩＲ：２５５０ｃｍ-1（チオールのνＳＨ）、５５０ｃ
ｍ-1（ジスルフィドのνＳＳ） 図１に1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを、図２にＩＲスペクト
ルを示す。
２、アッベ数は３４．７であった。さらに、1Ｈ−ＮＭ
Ｒ分析およびＩＲ分析の結果は次のとおりである。1 Ｈ−ＮＭＲ（溶媒：ＣＤＣｌ3、内部標準物質：テトラ
メチルシラン） δ（ｐｐｍ）： １．６１（ｔ，１．０Ｈ）、 ２．８３〜３．２４（ｍ，１０．０Ｈ） ＩＲ：２５５０ｃｍ-1（チオールのνＳＨ）、５５０ｃ
ｍ-1（ジスルフィドのνＳＳ） 図１に1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを、図２にＩＲスペクト
ルを示す。
【００４４】合成例２〜４ 触媒の種類と重合条件を表１に示すように変更した以外
は、合成例１と同様の操作を行った。ＤＭＭＤ転化率お
よび得られた粘性液体のオリゴマー混合物（未反応を含
む）の屈折率とアッベ数を表１に示す。
は、合成例１と同様の操作を行った。ＤＭＭＤ転化率お
よび得られた粘性液体のオリゴマー混合物（未反応を含
む）の屈折率とアッベ数を表１に示す。
【００４５】表１に示したとおり、ＤＭＭＤとイオウと
の反応比率を一定にすることにより、屈折率とアッベ数
が一定のオリゴマー混合物（未反応を含む）が、選択的
に安定して得られることが分かった。
の反応比率を一定にすることにより、屈折率とアッベ数
が一定のオリゴマー混合物（未反応を含む）が、選択的
に安定して得られることが分かった。
【００４６】なお、合成例２におけるオリゴマー混合物
のガスクロマトグラフィーによる分析値は下記のとおり
であり、ＤＭＭＤのオリゴマーへの転化率は７８．２％
であった。 ＤＭＭＤモノマー ：２１．９重量％ “ ダイマー ：２５．９ ” “ トリマー ：１９．９ ” “ テトラマー ：１３．６ ” “ ペンタマー ： ８．７ ” “ ヘキサマー ：１０．０ ”
のガスクロマトグラフィーによる分析値は下記のとおり
であり、ＤＭＭＤのオリゴマーへの転化率は７８．２％
であった。 ＤＭＭＤモノマー ：２１．９重量％ “ ダイマー ：２５．９ ” “ トリマー ：１９．９ ” “ テトラマー ：１３．６ ” “ ペンタマー ： ８．７ ” “ ヘキサマー ：１０．０ ”
【００４７】合成例５ ＤＭＭＤ／Ｓのモル比を３／２にした以外は、合成例１
と同様な操作を行い、オリゴマー混合物（未反応を含
む）を得た。ＤＭＭＤの転化率およびオリゴマー混合物
（未反応を含む）の屈折率とアッベ数を表１に示す。
と同様な操作を行い、オリゴマー混合物（未反応を含
む）を得た。ＤＭＭＤの転化率およびオリゴマー混合物
（未反応を含む）の屈折率とアッベ数を表１に示す。
【００４８】
【表１】 （注） ＤＭＭＤ：２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチ
アン ＤＥＡ ：ジエチルアミン ＴＥＡ ：トリエチルアミン ＭＰＲ ：モルホリン ＰＰＤ ：ピペリジン
アン ＤＥＡ ：ジエチルアミン ＴＥＡ ：トリエチルアミン ＭＰＲ ：モルホリン ＰＰＤ ：ピペリジン
【００４９】合成例６〜１２ 出発原料としてポリチオール及び触媒の種類及び量を表
２に示すように変えた以外は合成例１と同じ方法により
ポリチオールのオリゴマー混合物を製造し、その屈折率
及びアッベ数を測定するとともに、転化率を求めた。結
果を表２に示す。
２に示すように変えた以外は合成例１と同じ方法により
ポリチオールのオリゴマー混合物を製造し、その屈折率
及びアッベ数を測定するとともに、転化率を求めた。結
果を表２に示す。
【００５０】参考のため、上記合成例１〜１２で出発原
料として使用したポリチオールの屈折率及びアッベ数を
表３に示す。
料として使用したポリチオールの屈折率及びアッベ数を
表３に示す。
【００５１】
【表２】
【００５２】
【表３】 （注） ＤＭＭＤ ２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチ
アン ＰＥＴＭＡ ペンタエリスリトールテトラキスメルカプ
トアセテート ＰＥＴＭＰ ペンタエリスリトールテトラキスメルカプ
トプロピオネート ＴＭＴＧ トリメチロールプロパントリスメルカプトア
セテート ｍ−ＸＤＴ ｍ−キシリレンジオチール ＤＭＰ ２，３−ジメルカプト−１−プロパノール ＢＭＥＳ ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド ＤＭＭＰ ２，３−（ジメルカプトエチルチオ）ー１ー
メルカプトプロパン
アン ＰＥＴＭＡ ペンタエリスリトールテトラキスメルカプ
トアセテート ＰＥＴＭＰ ペンタエリスリトールテトラキスメルカプ
トプロピオネート ＴＭＴＧ トリメチロールプロパントリスメルカプトア
セテート ｍ−ＸＤＴ ｍ−キシリレンジオチール ＤＭＰ ２，３−ジメルカプト−１−プロパノール ＢＭＥＳ ビス（２−メルカプトエチル）スルフィド ＤＭＭＰ ２，３−（ジメルカプトエチルチオ）ー１ー
メルカプトプロパン
【００５３】表１及び表２より、合成例１〜１２の方法
により、二官能以上のポリチオールの二量体、三量体等
の、ジスルフィド結合を有するポリチオールオリゴマー
が選択的に、安定して得られることが明らかである。ま
た、表１及び表２を、表３と対比することにより、合成
例１〜１２の方法により製造されたポリチオールオリゴ
マーは、出発原料のポリチオールより高い屈折率を有
し、同等のアッベ数を有することが明らかである。
により、二官能以上のポリチオールの二量体、三量体等
の、ジスルフィド結合を有するポリチオールオリゴマー
が選択的に、安定して得られることが明らかである。ま
た、表１及び表２を、表３と対比することにより、合成
例１〜１２の方法により製造されたポリチオールオリゴ
マーは、出発原料のポリチオールより高い屈折率を有
し、同等のアッベ数を有することが明らかである。
【００５４】実施例１ 合成例１で得られたＤＭＭＤオリゴマー混合物（未反応
を含む）０．１モル（モノマー成分Ａ）、ｍ−キシリレ
ンジイソシアネート（ＸＤＩ）０．１モル（モノマー成
分Ｂ）及びジメチルスズジクロライド（ＤＭＴＤＣ）の
０．０５ｗｔ％相当量の混合物を充分撹拌して均一にし
た後、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入した。これ
を、１０時間かけて５０℃まで昇温し、その後５時間か
けて６０℃まで昇温し、さらに２．５時間かけて１２０
℃まで昇温し、最後に１２０℃で２．５時間加熱重合し
て、レンズ形状の無色透明の重合体を得た。得られた重
合体の諸物性を表４に示す。
を含む）０．１モル（モノマー成分Ａ）、ｍ−キシリレ
ンジイソシアネート（ＸＤＩ）０．１モル（モノマー成
分Ｂ）及びジメチルスズジクロライド（ＤＭＴＤＣ）の
０．０５ｗｔ％相当量の混合物を充分撹拌して均一にし
た後、二枚のレンズ成形用ガラス型に注入した。これ
を、１０時間かけて５０℃まで昇温し、その後５時間か
けて６０℃まで昇温し、さらに２．５時間かけて１２０
℃まで昇温し、最後に１２０℃で２．５時間加熱重合し
て、レンズ形状の無色透明の重合体を得た。得られた重
合体の諸物性を表４に示す。
【００５５】実施例２ 合成例１で得られたＤＭＭＤオリゴマー混合物（未反応
を含む）０．１モル（モノマー成分Ａ）、２，５−ビス
（２−チア−３−ブテニル）−１，４−ジチアン（ＴＢ
Ｄ）０．１モル（モノマー成分Ｃ）及びアゾビスジメチ
ルバレロニトリル（Ｖ−６５）の０．０５ｗｔ％相当量
の混合物を充分撹拌して均一にした後、実施例１と同様
に重合を行い、レンズ材料用重合体を得た。得られた重
合体の諸物性を表４に示す。
を含む）０．１モル（モノマー成分Ａ）、２，５−ビス
（２−チア−３−ブテニル）−１，４−ジチアン（ＴＢ
Ｄ）０．１モル（モノマー成分Ｃ）及びアゾビスジメチ
ルバレロニトリル（Ｖ−６５）の０．０５ｗｔ％相当量
の混合物を充分撹拌して均一にした後、実施例１と同様
に重合を行い、レンズ材料用重合体を得た。得られた重
合体の諸物性を表４に示す。
【００５６】実施例３〜６ 表４に示す各ポリイソシアネート基含有化合物をモノマ
ー成分Ｂとして用いた以外は、実施例１と同様に重合を
行い、レンズ材料用重合体を得た。得られた重合体の諸
物性を表４に示す。
ー成分Ｂとして用いた以外は、実施例１と同様に重合を
行い、レンズ材料用重合体を得た。得られた重合体の諸
物性を表４に示す。
【００５７】実施例７〜１０ 表４に示す各ポリイソシアネート基含有化合物をモノマ
ー成分Ｂとして、表４に示す配合割合で用い、表４に示
す多官能ビニル基含有化合物をモノマー成分Ｃとして、
表４に示す配合割合で用いた以外は、実施例１と同様に
重合を行い、レンズ材料用重合体を得た。得られた重合
体の諸物性を表４に示す。
ー成分Ｂとして、表４に示す配合割合で用い、表４に示
す多官能ビニル基含有化合物をモノマー成分Ｃとして、
表４に示す配合割合で用いた以外は、実施例１と同様に
重合を行い、レンズ材料用重合体を得た。得られた重合
体の諸物性を表４に示す。
【００５８】実施例１１〜１５ 表４に示す配合割合で、合成例１で得られたＤＭＭＤオ
リゴマー混合物（未反応を含む）および２，５−ジメル
カプトメチル−１，４−ジチアン（ＤＭＭＤ）をモノマ
ー成分Ａとして用い、また、表４に示す各ポリイソシア
ネート化合物および各多官能ビニル基含有化合物をそれ
ぞれモノマー成分Ｂ及びＣとして、表４に示す配合割合
で用いた以外は、実施例１と同様に重合を行い、レンズ
材料用重合体を得た。得られた重合体の諸物性を表４に
示す。
リゴマー混合物（未反応を含む）および２，５−ジメル
カプトメチル−１，４−ジチアン（ＤＭＭＤ）をモノマ
ー成分Ａとして用い、また、表４に示す各ポリイソシア
ネート化合物および各多官能ビニル基含有化合物をそれ
ぞれモノマー成分Ｂ及びＣとして、表４に示す配合割合
で用いた以外は、実施例１と同様に重合を行い、レンズ
材料用重合体を得た。得られた重合体の諸物性を表４に
示す。
【００５９】比較例１ ２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン（ＤＭ
ＭＤ、モノマー）とｍ−キシリレンジイソシアネート
（ＸＤＩ）を、モル比５０：５０の配合割合で重合させ
て得た重合体（特開平３−２３６３８６号公報、実施例
１）の屈折率（ｎｄ）は１．６６であり、アッベ数（Ｖ
ｄ）は３２であった。
ＭＤ、モノマー）とｍ−キシリレンジイソシアネート
（ＸＤＩ）を、モル比５０：５０の配合割合で重合させ
て得た重合体（特開平３−２３６３８６号公報、実施例
１）の屈折率（ｎｄ）は１．６６であり、アッベ数（Ｖ
ｄ）は３２であった。
【００６０】比較例２ ２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチアン（ＤＭ
ＭＤ、モノマー）と１，３−ビス（イソシアネートメチ
ル）シクロヘキサン（ＨＸＤＩ）を、モル比５０：５０
の配合割合で重合させて得た重合体（特開平３−２３６
３８６号公報、実施例８）の屈折率（ｎｄ）は１．６２
であり、アッベ数（Ｖｄ）は３８であった。
ＭＤ、モノマー）と１，３−ビス（イソシアネートメチ
ル）シクロヘキサン（ＨＸＤＩ）を、モル比５０：５０
の配合割合で重合させて得た重合体（特開平３−２３６
３８６号公報、実施例８）の屈折率（ｎｄ）は１．６２
であり、アッベ数（Ｖｄ）は３８であった。
【００６１】
【表４】 ＤＭＭＤＯ：合成例１で得られたＤＭＭＤオリゴマー混
合物 ＣＨＤＩ：１，３−ジイソシアネートシクロヘキサン ＨＭＴＩ：トリス（イソシアネートメチル）シクロヘキ
サン ＮＢＤＩ：ビス（イソシアネートメチル）ビシクロペン
タン ＨＸＤＩ：１，３−ビス（イソシアネートメチル）シク
ロヘキサン ＴＢＤ：２，５−ビス（２−チア−３−ブテニル）−
１，４−ジチアン ＤＭＭＤ：２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチ
アン ＬｙＴＩ：リジンエステルトリイソシアネート
合物 ＣＨＤＩ：１，３−ジイソシアネートシクロヘキサン ＨＭＴＩ：トリス（イソシアネートメチル）シクロヘキ
サン ＮＢＤＩ：ビス（イソシアネートメチル）ビシクロペン
タン ＨＸＤＩ：１，３−ビス（イソシアネートメチル）シク
ロヘキサン ＴＢＤ：２，５−ビス（２−チア−３−ブテニル）−
１，４−ジチアン ＤＭＭＤ：２，５−ジメルカプトメチル−１，４−ジチ
アン ＬｙＴＩ：リジンエステルトリイソシアネート
【００６２】表４の結果から、実施例１〜１５で得られ
た重合体は、屈折率（ｎｄ）が１．６４５〜１．６９４
と極めて高く、かつアッベ数（Ｖｄ）も３３．０〜３
７．０と高く（分散性が低い）、両物性が同時に向上し
ていることが分かる。これに対し、比較例１では、屈折
率は比較的高められているが、アッベ数は３２と低い。
また、比較例２では、アッベ数は３８と高いが、屈折率
は低い。
た重合体は、屈折率（ｎｄ）が１．６４５〜１．６９４
と極めて高く、かつアッベ数（Ｖｄ）も３３．０〜３
７．０と高く（分散性が低い）、両物性が同時に向上し
ていることが分かる。これに対し、比較例１では、屈折
率は比較的高められているが、アッベ数は３２と低い。
また、比較例２では、アッベ数は３８と高いが、屈折率
は低い。
【００６３】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、二官能以上
のポリチオールを原料とし、ジスルフィド結合を有する
ポリチオールオリゴマーは原料のポリチオールより高い
屈折率と該ポリチオールと同等のアッベ数を有するもの
である。したがって、このポリチオールオリゴマーを用
いることにより、高屈折率および高アッベ数（低分散
性）を有する光学材料用重合体を提供することができ
る。本発明の製造方法によれば、特開平７−１１８３９
０号公報に開示されているＤＭＭＤのオリゴマー混合物
をポリチオール基含有化合物として用いた重合体とは異
なり、反応条件の変動に影響されることがなく、安定し
て、高屈折率且つ高アッベ数（低分散性）を有する光学
材料用重合体を提供することができ、優れた光学的性質
を有するレンズなどの光学製品を工業的に提供すること
ができる。
のポリチオールを原料とし、ジスルフィド結合を有する
ポリチオールオリゴマーは原料のポリチオールより高い
屈折率と該ポリチオールと同等のアッベ数を有するもの
である。したがって、このポリチオールオリゴマーを用
いることにより、高屈折率および高アッベ数（低分散
性）を有する光学材料用重合体を提供することができ
る。本発明の製造方法によれば、特開平７−１１８３９
０号公報に開示されているＤＭＭＤのオリゴマー混合物
をポリチオール基含有化合物として用いた重合体とは異
なり、反応条件の変動に影響されることがなく、安定し
て、高屈折率且つ高アッベ数（低分散性）を有する光学
材料用重合体を提供することができ、優れた光学的性質
を有するレンズなどの光学製品を工業的に提供すること
ができる。
【図１】合成例１で得られた２，５−ジメルカプトメチ
ル−１，４−ジチアンのオリゴマー混合物の1Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトル図である。
ル−１，４−ジチアンのオリゴマー混合物の1Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトル図である。
【図２】合成例１で得られた２，５−ジメルカプトメチ
ル−１，４−ジチアンのオリゴマー混合物のＩＲ吸収ス
ペクトル図である。
ル−１，４−ジチアンのオリゴマー混合物のＩＲ吸収ス
ペクトル図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J030 BA05 BB07 BF19 BG25 4J034 BA02 CA32 CB03 CC29 CC39 CC45 CC62 CC65 CC66 CC67 CC68 CC69 CD08 HA07 HA08 HC03 HC12 HC17 HC22 HC25 HC46 HC52 HC61 HC64 HC71 HC73 LA13 RA13
Claims (9)
- 【請求項１】 ポリチオール基含有化合物とポリ（チ
オ）イソシアネート基含有化合物および／または多官能
ビニル基含有化合物とを共重合させる光学材料用重合体
の製造方法であって、 前記ポリチオール基含有化合物が、アンモニアまたはア
ミンからなる塩基性触媒の存在下、二官能以上のポリチ
オールとイオウとを反応させて得られるレンズ原料用ポ
リチオールオリゴマーであり、 前記二官能以上のポリチオールとイオウとのモル比が
１：０．１〜１：０．９５であり、前記二官能以上のポ
リチオールが、２，５−ジメルカプトメチル−１，４−
ジチアン、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプト
アセテート、ペンタエリスリトールテトラキスメルカプ
トプロピオネート、トリメチロールプロパントリスメル
カプトアセテート、２，３−ジメルカプト−１−プロパ
ノール、１，２−（ジメルカプトエチルチオ）−３−メ
ルカプトプロパン、１，２−ビス−２−（メルカプトエ
チルチオ）−３−メルカプトプロパン、１，２，３−ト
リメルカプトプロパン、ビス（２−メルカプトエチル）
スルフィド、ベンゼンジチオール、ベンゼントリチオー
ル、トリレンジチオール及びキシリレンジチオールの中
から選ばれる少なくとも１種である光学材料用重合体の
製造方法。 - 【請求項２】 ポリ（チオ）イソシアネート基含有化合
物が、２，５−ジイソシアネートメチル−１，４−ジチ
アン、１，３−ジイソシアネートシクロヘキサン、１，
３，５−トリイソシアネートシクロヘキサン、トリス
（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、ビス（イソ
シアネートメチル）ビシクロペンタンおよび１，３−ビ
ス（イソシアネートメチル）シクロヘキサンの中から選
ばれる少なくとも１種のポリイソシアネートである請求
項１記載の光学材料用重合体の製造方法。 - 【請求項３】 ポリイソシアネートが、２，５−ジイソ
シアネートメチル−１，４−ジチアンおよび／または
１，３−ジイソシアネートシクロヘキサンである請求項
１に記載の光学材料用重合体の製造方法。 - 【請求項４】 前記二官能以上のポリチオールとイオウ
とのモル比が１：０．４〜１：０．７の割合で反応させ
る請求項１記載の光学材料用重合体の製造方法。 - 【請求項５】 アミンがジエチルアミン、トリエチルア
ミン、ジブチルアミン、モルホリンおよびピペリジンの
中から選ばれる少なくとも１種である請求項１項記載の
光学材料用重合体の製造方法。 - 【請求項６】 多官能ビニル基含有化合物が、２，５−
ビス（２−チア−３−ブテニル）−１，４−ジチアンで
ある請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学材料用重
合体の製造方法。 - 【請求項７】 重合体が、ポリチオール基含有化合物と
ポリ（チオ）イソシアネート基含有化合物とを、官能基
の当量比が１：２〜２：１になるように共重合させてな
るものである請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学
材料用重合体の製造方法。 - 【請求項８】 重合体が、ポリチオール基含有化合物と
多官能ビニル基含有化合物とを、官能基の当量比が１：
１０００〜１：１になるように共重合させてなるもので
ある請求項１記載の光学材料用重合体の製造方法。 - 【請求項９】 重合体が、ポリチオール基含有化合物と
ポリ（チオ）イソシアネート基含有化合物と多官能ビニ
ル基含有化合物とを、官能基の当量比が１：１０：１０
００〜１０：０．０１：１になるように共重合させてな
るものである請求項１項に記載の光学材料用重合体の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002114774A JP3949498B2 (ja) | 1996-04-26 | 2002-04-17 | 光学材料用重合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-108032 | 1996-04-26 | ||
| JP10803296 | 1996-04-26 | ||
| JP8-226736 | 1996-08-28 | ||
| JP22673696 | 1996-08-28 | ||
| JP2002114774A JP3949498B2 (ja) | 1996-04-26 | 2002-04-17 | 光学材料用重合体の製造方法 |
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|---|---|---|---|
| JP10163797A Division JP3415389B2 (ja) | 1996-04-26 | 1997-04-18 | ポリチオールオリゴマーの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002348349A true JP2002348349A (ja) | 2002-12-04 |
| JP3949498B2 JP3949498B2 (ja) | 2007-07-25 |
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|---|---|---|---|
| JP2002114774A Expired - Fee Related JP3949498B2 (ja) | 1996-04-26 | 2002-04-17 | 光学材料用重合体の製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3949498B2 (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005336476A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-12-08 | Ube Ind Ltd | 新規ポリチオウレタン |
| JP2008512524A (ja) * | 2004-09-07 | 2008-04-24 | オフソニックス，インク | 光学素子用モノマーおよびポリマー |
| JP2012229329A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Institute Of National Colleges Of Technology Japan | ジスルフィドポリマーの製造方法及びジスルフィドコポリマー |
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| KR20210101341A (ko) * | 2020-02-05 | 2021-08-19 | 한국화학연구원 | 초음파를 이용한 상온 재가공 가능한 황 함유 가교 고분자의 제조방법 |
| CN116874707A (zh) * | 2023-06-30 | 2023-10-13 | 益丰新材料股份有限公司 | 一种多硫醇组合物和光学树脂材料 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5225797B2 (ja) * | 2008-09-30 | 2013-07-03 | 三井化学株式会社 | 組成物、これを含む重合性組成物、組成物の製造方法 |
-
2002
- 2002-04-17 JP JP2002114774A patent/JP3949498B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005336476A (ja) * | 2004-04-28 | 2005-12-08 | Ube Ind Ltd | 新規ポリチオウレタン |
| JP4534857B2 (ja) * | 2004-04-28 | 2010-09-01 | 宇部興産株式会社 | 新規ポリチオウレタン |
| JP2008512524A (ja) * | 2004-09-07 | 2008-04-24 | オフソニックス，インク | 光学素子用モノマーおよびポリマー |
| JP2012229329A (ja) * | 2011-04-26 | 2012-11-22 | Institute Of National Colleges Of Technology Japan | ジスルフィドポリマーの製造方法及びジスルフィドコポリマー |
| US9670379B2 (en) | 2015-07-23 | 2017-06-06 | The Boeing Company | Composites transmissive to visual and infrared radiation and compositions and methods for making the composites |
| EP3121214A3 (en) * | 2015-07-23 | 2017-03-22 | The Boeing Company | Novel transparent polymers and methods for making the same |
| EP3121216A3 (en) * | 2015-07-23 | 2017-03-15 | The Boeing Company | Composites transmissive to visual and infrared radiation and compositions and methods for making the composites |
| US10414870B2 (en) | 2015-07-23 | 2019-09-17 | The Boeing Company | Transparent polymers and methods for making the same |
| EP4032937A1 (en) * | 2015-07-23 | 2022-07-27 | The Boeing Company | Composites transmissive to visual and infrared radiation and compositions and methods for making the composites |
| KR20210101341A (ko) * | 2020-02-05 | 2021-08-19 | 한국화학연구원 | 초음파를 이용한 상온 재가공 가능한 황 함유 가교 고분자의 제조방법 |
| KR102306923B1 (ko) | 2020-02-05 | 2021-09-29 | 한국화학연구원 | 초음파를 이용한 상온 재가공 가능한 황 함유 가교 고분자의 제조방법 |
| CN116874707A (zh) * | 2023-06-30 | 2023-10-13 | 益丰新材料股份有限公司 | 一种多硫醇组合物和光学树脂材料 |
| CN116874707B (zh) * | 2023-06-30 | 2024-03-22 | 益丰新材料股份有限公司 | 一种多硫醇组合物和光学树脂材料 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3949498B2 (ja) | 2007-07-25 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060223 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060228 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060411 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Written amendment |
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| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070417 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070418 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110427 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120427 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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|
| R250 | Receipt of annual fees |
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