JP2002336897A - 消臭方法 - Google Patents
消臭方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 廃水、汚泥、残渣物が発生する臭
気を少ない薬剤量で効果的に抑制する方法を提供する。 【解決手段】 硫黄系臭気物質を含有する媒体を
酸化剤、酸素供給剤および金属塩からなる群から選ばれ
る少なくとも１種を添加して酸化還元電位が−１００ｍ
Ｖ以上になるようにして処理した後、防菌・殺菌剤で処
理する。
気を少ない薬剤量で効果的に抑制する方法を提供する。 【解決手段】 硫黄系臭気物質を含有する媒体を
酸化剤、酸素供給剤および金属塩からなる群から選ばれ
る少なくとも１種を添加して酸化還元電位が−１００ｍ
Ｖ以上になるようにして処理した後、防菌・殺菌剤で処
理する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、廃水や廃水を処理
する際に生じる汚泥、残渣物等の消臭方法に関する。詳
しくは、廃水、汚泥、残渣物が発生する臭気を少ない薬
剤量で効果的に抑制する方法である。
する際に生じる汚泥、残渣物等の消臭方法に関する。詳
しくは、廃水、汚泥、残渣物が発生する臭気を少ない薬
剤量で効果的に抑制する方法である。
【０００２】
【従来の技術】各種工場などからの産業排水や下水処理
工程、し尿処理工程、産業排水を処理する過程で生ずる
汚泥、またそれらを処理した後に発生する脱水汚泥ケー
キ等の残渣物からは硫化水素やメルカプタン類の硫黄系
臭気が発生し、悪臭や施設の腐食などの問題を起こして
いる。
工程、し尿処理工程、産業排水を処理する過程で生ずる
汚泥、またそれらを処理した後に発生する脱水汚泥ケー
キ等の残渣物からは硫化水素やメルカプタン類の硫黄系
臭気が発生し、悪臭や施設の腐食などの問題を起こして
いる。
【０００３】従来、これらの臭気は吸引して活性炭処理
や生物処理を行ったり、マスキング剤で異なる匂いを付
けたり、各種消臭剤を注入し臭気を抑制するなどしてき
た。しかし、活性炭処理や生物処理は設備、維持費がか
かる上に運搬や作業時の対策にはならない。マスキング
剤での、処理は元の臭気が消えるわけではないので根本
的な対策にはならない。
や生物処理を行ったり、マスキング剤で異なる匂いを付
けたり、各種消臭剤を注入し臭気を抑制するなどしてき
た。しかし、活性炭処理や生物処理は設備、維持費がか
かる上に運搬や作業時の対策にはならない。マスキング
剤での、処理は元の臭気が消えるわけではないので根本
的な対策にはならない。
【０００４】従来の消臭剤の添加では臭気を十分に抑制
できなかったり、消臭効果に持続性がなく消臭に大量の
消臭剤を必要とした。また、従来使用されてきた防菌・
殺菌剤系の消臭剤においても同様であるが、大量に使用
すると廃水処理における生物処理への影響を与え、コス
ト的にも莫大になるため現実的ではなかった。
できなかったり、消臭効果に持続性がなく消臭に大量の
消臭剤を必要とした。また、従来使用されてきた防菌・
殺菌剤系の消臭剤においても同様であるが、大量に使用
すると廃水処理における生物処理への影響を与え、コス
ト的にも莫大になるため現実的ではなかった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
技術における上記したような課題を解決し、廃水、汚泥
またはそれらを処理した後に発生する脱水汚泥ケーキ等
の残渣物から発生する硫化水素、メルカプタン類を少量
の消臭剤と簡便な方法で抑制する方法の提供することに
ある。
技術における上記したような課題を解決し、廃水、汚泥
またはそれらを処理した後に発生する脱水汚泥ケーキ等
の残渣物から発生する硫化水素、メルカプタン類を少量
の消臭剤と簡便な方法で抑制する方法の提供することに
ある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、これらの
問題を解決すべく鋭意検討した結果、硫化水素、メルカ
プタン類を発生する媒体に対し、酸化剤、酸素供給剤お
よび金属塩からなる群から選ばれる少なくとも１種を添
加して酸化還元電位が−１００ｍＶ以上になるようにし
て処理した後、防菌・殺菌剤で処理することにより、硫
化水素、メルカプタン類を効果的に抑制でき、さらにそ
の抑制効果に持続性があることを見出し、本発明に到達
した。
問題を解決すべく鋭意検討した結果、硫化水素、メルカ
プタン類を発生する媒体に対し、酸化剤、酸素供給剤お
よび金属塩からなる群から選ばれる少なくとも１種を添
加して酸化還元電位が−１００ｍＶ以上になるようにし
て処理した後、防菌・殺菌剤で処理することにより、硫
化水素、メルカプタン類を効果的に抑制でき、さらにそ
の抑制効果に持続性があることを見出し、本発明に到達
した。
【０００７】すなわち、本発明は、硫黄系臭気物質を含
有する媒体に酸化剤、酸素供給剤および金属塩からなる
群から選ばれる少なくとも１種を添加して酸化還元電位
が−１００ｍＶ以上になるようにして処理した後、防菌
・殺菌剤で処理することを特徴とする消臭方法に関する
ものである。
有する媒体に酸化剤、酸素供給剤および金属塩からなる
群から選ばれる少なくとも１種を添加して酸化還元電位
が−１００ｍＶ以上になるようにして処理した後、防菌
・殺菌剤で処理することを特徴とする消臭方法に関する
ものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】つぎに本発明の方法を具体的に説
明する。本発明で処理される媒体としては、各種工場な
どからの産業排水や下水処理工程、し尿処理工程、産業
排水を処理する過程で生ずる汚泥、廃水やそれらを処理
した後に発生する脱水汚泥ケーキ等の残渣物が含まれ
る。
明する。本発明で処理される媒体としては、各種工場な
どからの産業排水や下水処理工程、し尿処理工程、産業
排水を処理する過程で生ずる汚泥、廃水やそれらを処理
した後に発生する脱水汚泥ケーキ等の残渣物が含まれ
る。
【０００９】本発明の酸化剤としては、過酸化水素、過
炭酸ナトリウム、過ほう酸ナトリウム、過酢酸等の過酸
化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、酸
素、オゾン等が挙げられる。また、酸素供給剤は、硝
酸、硝酸アンモニウム、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム
等の硝酸化合物が挙げられ、金属塩は、塩化鉄、硫酸
銅、硫酸亜鉛等の金属化合物が使用し得る。酸化剤、酸
素供給剤および金属塩（以下、酸化剤等という）は、単
体でもいくつかの混合物として使用することも可能であ
る。
炭酸ナトリウム、過ほう酸ナトリウム、過酢酸等の過酸
化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、酸
素、オゾン等が挙げられる。また、酸素供給剤は、硝
酸、硝酸アンモニウム、硝酸カリウム、硝酸ナトリウム
等の硝酸化合物が挙げられ、金属塩は、塩化鉄、硫酸
銅、硫酸亜鉛等の金属化合物が使用し得る。酸化剤、酸
素供給剤および金属塩（以下、酸化剤等という）は、単
体でもいくつかの混合物として使用することも可能であ
る。
【００１０】ここでスラッジ産出などの問題がなく、相
乗的に酸化還元電位が上昇する過酸化水素、硝酸ナトリ
ウムの組み合わせが望ましい。その際、硝酸ナトリウム
の添加量は過酸化水素の添加量に対して０．１〜１０倍
程度添加するのが望ましい。また、混合する際、安定剤
として有機アミノスルホン酸系、有機ホスホン酸系、有
機カルボン酸系等のキレート剤を添加することが好まし
い。酸化剤等の使用量は媒体に対して１０〜２０００ｐ
ｐｍ、好ましくは１００〜１０００ｐｐｍ使用する。
乗的に酸化還元電位が上昇する過酸化水素、硝酸ナトリ
ウムの組み合わせが望ましい。その際、硝酸ナトリウム
の添加量は過酸化水素の添加量に対して０．１〜１０倍
程度添加するのが望ましい。また、混合する際、安定剤
として有機アミノスルホン酸系、有機ホスホン酸系、有
機カルボン酸系等のキレート剤を添加することが好まし
い。酸化剤等の使用量は媒体に対して１０〜２０００ｐ
ｐｍ、好ましくは１００〜１０００ｐｐｍ使用する。
【００１１】防菌・殺菌剤は、酸化剤等を添加して、媒
体の酸化還元電位を−１００ｍＶ以上、好ましくは−５
０ｍＶ以上、更に好ましくは０ｍＶ以上にした後に添加
する。酸化還元電位の測定は、いずれの電極によるもの
でもかまわないが、好ましくは塩化銀型の電極を用い
る。他の型の電極で測定した場合、例えば塩化水銀型を
使用し測定した場合上記数値は、３０〜５０ｍＶ程度低
い値となる。また、酸化還元電位を測定する場所は、酸
化剤等の添加場所以後、殺菌剤の添加場所以前であれば
いずれでもかまわないが、排水槽、汚泥槽、排水管、送
泥管などが例示される。
体の酸化還元電位を−１００ｍＶ以上、好ましくは−５
０ｍＶ以上、更に好ましくは０ｍＶ以上にした後に添加
する。酸化還元電位の測定は、いずれの電極によるもの
でもかまわないが、好ましくは塩化銀型の電極を用い
る。他の型の電極で測定した場合、例えば塩化水銀型を
使用し測定した場合上記数値は、３０〜５０ｍＶ程度低
い値となる。また、酸化還元電位を測定する場所は、酸
化剤等の添加場所以後、殺菌剤の添加場所以前であれば
いずれでもかまわないが、排水槽、汚泥槽、排水管、送
泥管などが例示される。
【００１２】本発明で使用される防菌・殺菌剤は、エタ
ノール、イソプロパノール、２−ブロモ−２−ニトロプ
ロパン−１，３−ジオールなどのアルコール類、グルタ
ルアルデヒド、ホルムアルデヒドなどのアルデヒド類、
ビス（３−アミノプロピル）ドデシルアミン、２−
（（ヒドロキシメチル）アミノ）エタノールのようなア
ミン類、１，２−ベンゾイソチアゾロン、２−ｎ−オク
チル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２
−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、メチルイソ
チアゾリンなどのイソチアゾリン類、メチル−２−ベン
ゾイミダゾールカーバメート、２−（４−チアゾリル）
−ベンゾイミダゾールなどのイミダゾール類、グリコー
ルラウレートなどのエステル類、４，４−ジメチル−
１，３−オキサゾリジンなどのオキサゾリジン類、カプ
リル酸、ラウリル酸、プロピオン酸などのカルボン酸
類、８−ヒドロキシキノリン、８−キノリノール銅など
のキノリン類、ヘキサヒドロ−１，３，５−トリス（ヒ
ドロキシエチル）−Ｓ−トリアジンなどのトリアジン
類、ジンクピリチオン、ナトリウムピリチオン、カッパ
ーピリチオン、２，２−ジチオ−ビス（ピリジン−１−
オキシド）、（２−ピリジルチオ−１−オキシド）ナト
リウム、ビス（２−ピリジルチオ−１−オキシド）亜鉛
などのピリチオン類、次亜塩素酸ナトリウム、亜塩素酸
ナトリウム、トリクロロイソシアヌル酸などの塩素類、
塩化銀、酸化チタンなどの金属塩、ジデシルジメチルア
ンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、セチル
ピリジウムクロサイド等の第四級アンモニウム塩等が挙
げられ、好ましくはピリチオン類が使用される。これら
の防菌・殺菌剤は、単体でもいくつかの混合物としても
使用することが可能である。防菌・殺菌剤の使用量とし
ては媒体に対し１〜１０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜
５００ｐｐｍ使用する。
ノール、イソプロパノール、２−ブロモ−２−ニトロプ
ロパン−１，３−ジオールなどのアルコール類、グルタ
ルアルデヒド、ホルムアルデヒドなどのアルデヒド類、
ビス（３−アミノプロピル）ドデシルアミン、２−
（（ヒドロキシメチル）アミノ）エタノールのようなア
ミン類、１，２−ベンゾイソチアゾロン、２−ｎ−オク
チル−４−イソチアゾリン−３−オン、５−クロロ−２
−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン、メチルイソ
チアゾリンなどのイソチアゾリン類、メチル−２−ベン
ゾイミダゾールカーバメート、２−（４−チアゾリル）
−ベンゾイミダゾールなどのイミダゾール類、グリコー
ルラウレートなどのエステル類、４，４−ジメチル−
１，３−オキサゾリジンなどのオキサゾリジン類、カプ
リル酸、ラウリル酸、プロピオン酸などのカルボン酸
類、８−ヒドロキシキノリン、８−キノリノール銅など
のキノリン類、ヘキサヒドロ−１，３，５−トリス（ヒ
ドロキシエチル）−Ｓ−トリアジンなどのトリアジン
類、ジンクピリチオン、ナトリウムピリチオン、カッパ
ーピリチオン、２，２−ジチオ−ビス（ピリジン−１−
オキシド）、（２−ピリジルチオ−１−オキシド）ナト
リウム、ビス（２−ピリジルチオ−１−オキシド）亜鉛
などのピリチオン類、次亜塩素酸ナトリウム、亜塩素酸
ナトリウム、トリクロロイソシアヌル酸などの塩素類、
塩化銀、酸化チタンなどの金属塩、ジデシルジメチルア
ンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、セチル
ピリジウムクロサイド等の第四級アンモニウム塩等が挙
げられ、好ましくはピリチオン類が使用される。これら
の防菌・殺菌剤は、単体でもいくつかの混合物としても
使用することが可能である。防菌・殺菌剤の使用量とし
ては媒体に対し１〜１０００ｐｐｍ、好ましくは１０〜
５００ｐｐｍ使用する。
【００１３】酸化剤等と防菌、殺菌剤は、粉体で添加し
ても良いし、液状、スラリー状で添加しても良い。更に
は液状のものを噴霧しても良い。
ても良いし、液状、スラリー状で添加しても良い。更に
は液状のものを噴霧しても良い。
【００１４】
【実施例】次に本発明の実施例により更に具体的に説明
する。ただし、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
する。ただし、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のではない。
【００１５】実施例１ 図１のような汚泥処理フローにおいて、脱水機運転開始
３０分前に汚泥貯留槽１の汚泥に対し、３５重量％過酸
化水素３００ｐｐｍを添加し、塩化銀電極を用いた酸化
還元電位（ポンプ２の吸引部で測定）が６０ｍＶになっ
た汚泥に、ポンプ２の吐出部よりジンクピリチオン（純
分）５０ｐｐｍを添加した。脱水機運転時における脱水
機３の内部の平均硫化水素、メルカプタン濃度と汚泥ケ
ーキを貯蔵するホッパー４の内部の硫化水素、メチルメ
ルカプタン濃度を時間の経過とともに測定した。この結
果を表１に示す。硫化水素、メチルメルカプタンは効果
的に抑制できた。
３０分前に汚泥貯留槽１の汚泥に対し、３５重量％過酸
化水素３００ｐｐｍを添加し、塩化銀電極を用いた酸化
還元電位（ポンプ２の吸引部で測定）が６０ｍＶになっ
た汚泥に、ポンプ２の吐出部よりジンクピリチオン（純
分）５０ｐｐｍを添加した。脱水機運転時における脱水
機３の内部の平均硫化水素、メルカプタン濃度と汚泥ケ
ーキを貯蔵するホッパー４の内部の硫化水素、メチルメ
ルカプタン濃度を時間の経過とともに測定した。この結
果を表１に示す。硫化水素、メチルメルカプタンは効果
的に抑制できた。
【００１６】実施例２ 実施例１と同様の汚泥処理フローにおいて、脱水機運転
開始１時間前に汚泥貯留槽１に３５重量％過酸化水素２
５０ｐｐｍ、４０重量％硝酸ナトリウム水溶液１５０ｐ
ｐｍを添加し、酸化還元電位が１１０ｍＶになった汚泥
にポンプ２の吐出部よりナトリウムピリチオン（純分）
４０ｐｐｍを添加して、実施例１と同様に測定を行っ
た。この結果を表１に示す。硫化水素、メチルメルカプ
タンは、ほぼ完全に抑制できた。
開始１時間前に汚泥貯留槽１に３５重量％過酸化水素２
５０ｐｐｍ、４０重量％硝酸ナトリウム水溶液１５０ｐ
ｐｍを添加し、酸化還元電位が１１０ｍＶになった汚泥
にポンプ２の吐出部よりナトリウムピリチオン（純分）
４０ｐｐｍを添加して、実施例１と同様に測定を行っ
た。この結果を表１に示す。硫化水素、メチルメルカプ
タンは、ほぼ完全に抑制できた。
【００１７】比較例１ 実施例１と同様の汚泥処理フローにおいて、過酸化水
素、ジンクピリチオンを添加せずに測定を行った。結果
を表１に示す。
素、ジンクピリチオンを添加せずに測定を行った。結果
を表１に示す。
【００１８】比較例２ 実施例１と同様の汚泥処理フローにおいて脱水機運転開
始８時間前に汚泥貯留槽１に３５重量％過酸化水素３０
０ｐｐｍを添加し、酸化還元電位が−１１２ｍＶになっ
た汚泥にポンプ２の吐出部よりジンクピリチオン（純
分）５０ｐｐｍを添加して、実施例１と同様に測定を行
った。この結果を表１に示す。硫化水素、メチルメルカ
プタンは十分な消臭効果が見られなかった。
始８時間前に汚泥貯留槽１に３５重量％過酸化水素３０
０ｐｐｍを添加し、酸化還元電位が−１１２ｍＶになっ
た汚泥にポンプ２の吐出部よりジンクピリチオン（純
分）５０ｐｐｍを添加して、実施例１と同様に測定を行
った。この結果を表１に示す。硫化水素、メチルメルカ
プタンは十分な消臭効果が見られなかった。
【００１９】比較例３ 実験例１と同様の汚泥処理フローにおいて脱水機運転開
始１時間前に汚泥貯留槽１にジンクピリチオン（純分）
５０ｐｐｍを添加し、酸化還元電位が−１４３ｍＶにな
った汚泥にポンプ２の吐出部より３５重量％過酸化水素
３００ｐｐｍを添加して、実施例１と同様に測定を行っ
た。この結果を表１に示す。硫化水素、メチルメルカプ
タンは十分な消臭効果が見られなかった。
始１時間前に汚泥貯留槽１にジンクピリチオン（純分）
５０ｐｐｍを添加し、酸化還元電位が−１４３ｍＶにな
った汚泥にポンプ２の吐出部より３５重量％過酸化水素
３００ｐｐｍを添加して、実施例１と同様に測定を行っ
た。この結果を表１に示す。硫化水素、メチルメルカプ
タンは十分な消臭効果が見られなかった。
【００２０】比較例４ 実施例１と同様の汚泥処理フローにおいて、過酸化水素
を添加せずに酸化還元電位が−１５５ｍＶである汚泥に
ジンクピリチオン（純分）２００ｐｐｍを添加して測定
を行なった。結果を表１に示した。脱水機内、脱水ケー
キホッパー内で高濃度の硫化水素、メチルメルカプタン
が検出された。
を添加せずに酸化還元電位が−１５５ｍＶである汚泥に
ジンクピリチオン（純分）２００ｐｐｍを添加して測定
を行なった。結果を表１に示した。脱水機内、脱水ケー
キホッパー内で高濃度の硫化水素、メチルメルカプタン
が検出された。
【００２１】
【表１】
【００２２】
【発明の効果】本発明によれば、少ない薬注量で廃水、
汚泥またはそれらを処理した後に発生する脱水汚泥ケー
キ等の残渣物から発生する硫化水素、メルカプタン類を
効果的に抑制させることができる。
汚泥またはそれらを処理した後に発生する脱水汚泥ケー
キ等の残渣物から発生する硫化水素、メルカプタン類を
効果的に抑制させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 汚泥処理フロー図
１：汚泥貯留槽 ２：ポンプ ３：脱水機 ４：ホッパー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 富澤 洋一 東京都葛飾区新宿６丁目１番１号 三菱瓦 斯化学株式会社東京工場内 (72)発明者 山崎 和智 東京都葛飾区新宿６丁目１番１号 三菱瓦 斯化学株式会社東京工場内 (72)発明者 梶原 庄一郎 東京都葛飾区新宿６丁目１番１号 三菱瓦 斯化学株式会社東京研究所内 Ｆターム(参考） 4D059 AA03 BK03 BK13 DA24 DA35 DA38 DA43 DA44 DA45 DA47 DA70 DB02 DB03 DB04 DB08 EB20
Claims (1)
- 【請求項１】 硫黄系臭気物質を含有する媒体に酸化
剤、酸素供給剤および金属塩からなる群から選ばれる少
なくとも１種を添加して酸化還元電位が−１００ｍＶ以
上になるようにして処理した後、防菌・殺菌剤で処理す
ることを特徴とする消臭方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001144484A JP2002336897A (ja) | 2001-05-15 | 2001-05-15 | 消臭方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001144484A JP2002336897A (ja) | 2001-05-15 | 2001-05-15 | 消臭方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002336897A true JP2002336897A (ja) | 2002-11-26 |
Family
ID=18990427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001144484A Pending JP2002336897A (ja) | 2001-05-15 | 2001-05-15 | 消臭方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002336897A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006075704A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 消臭剤および消臭方法 |
| JP2013111560A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Katayama Chem Works Co Ltd | 汚泥処理工程における硫化水素の発生抑制方法 |
| JP2015085292A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | 日鉄住金環境株式会社 | 臭気発生物質の臭気抑制方法及び臭気抑制用組成物 |
-
2001
- 2001-05-15 JP JP2001144484A patent/JP2002336897A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006075704A (ja) * | 2004-09-08 | 2006-03-23 | Asahi Kasei Chemicals Corp | 消臭剤および消臭方法 |
| JP4652753B2 (ja) * | 2004-09-08 | 2011-03-16 | 旭化成ケミカルズ株式会社 | 消臭剤および消臭方法 |
| JP2013111560A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Katayama Chem Works Co Ltd | 汚泥処理工程における硫化水素の発生抑制方法 |
| JP2015085292A (ja) * | 2013-11-01 | 2015-05-07 | 日鉄住金環境株式会社 | 臭気発生物質の臭気抑制方法及び臭気抑制用組成物 |
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