JP2002327024A - 樹脂フィルム、およびその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学透明性、耐熱性、耐液晶性、寸法安定
性、接着性を持ち、液晶表示装置およびＥＬ表示装置に
おける基板ガラスの代替品として、また、これらの装置
の偏光フィルム、表面保護フィルム、位相差フィルム、
透明導電性フィルム、光拡散フィルム、ＥＬ表示装置用
フィルム、透明導電性複合材料、反射防止フィルムなど
に用いることができる（架橋）樹脂フィルムを提供す
る。 【解決手段】 特定の反応性シリル基を有する環状オレ
フィン系付加型共重合体を含有し、さらに必要に応じ
て、オルガノシラン類や金属酸化物などを含有する組成
物を成形してなる（架橋）樹脂フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、アルコキシシリル
基を有する環状オレフィン系付加型共重合体を含有し、
さらに必要に応じて、オルガノシラン系化合物や金属酸
化物を配合した環状オレフィン系付加型共重合体組成物
から成形された樹脂フィルムに関する。さらに、上記組
成物がシロキサン結合で架橋された樹脂フィルム、およ
びこれら（架橋）樹脂フィルムの製造方法に関する。さ
らに、本発明は、上記（架橋）樹脂フィルムを用いた、
光学透明性、耐熱性、耐吸水性、耐液晶性、寸法安定
性、接着・密着性などに優れた、液晶表示装置およびＥ
Ｌ表示装置用の基板フィルム、偏光フィルム、表面保護
フィルム、位相差フィルム、透明導電性フィルム、光拡
散フィルムに関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶およびＥＬ表示装置は、高画質、薄
型、軽量、低消費電力などの特徴を持ち、電卓、時計、
携帯電話、パソコン、テレビ、プロジェクタ、ＡＴＭ、
ナビゲーションなどの車載用表示装置など、多くの製品
に使われている。液晶、およびＥＬ表示装置は、多種の
部品・材料から構成されている。液晶表示装置では、液
晶、液晶配向膜、液晶基板、透明電極、カラーフィルタ
ー、偏光フィルム、導光板、透明導電性フィルム、位相
差フィルム、表面保護フィルム、光拡散フィルム、プリ
ズムシート、スペーサー、シール剤などが挙げられる。
これらを組立て、さらに駆動ＩＣ、プリント基板、バッ
クライトなどのモジュール部品を取り付けて、液晶表示
装置となる。また、ＥＬ表示装置では、ＥＬ（エレクト
ロルミネッセンス）、偏光フィルム、位相差フィルム、
透明電極などが挙げられ、これらを組み立てて、ＥＬ表
示装置となる。

【０００３】液晶基板としては、従来、ガラス基板が主
に用いられてきた。ガラス基板は、ガラスの機械強度が
弱いため薄型化が困難であること、柔軟性に欠けるため
形状の自由度がないこと、割れ易いため生産性に難があ
ることなどの問題点がある。近年、著しく普及している
携帯電話などの携帯情報端末、ノートブック型パソコ
ン、サブノート型パソコンなどの携帯性の高い機器に用
いる液晶表示装置、および、これに用いる液晶基板は、
軽量、薄型、割れないことが求められている。そこで、
軽量、薄型、割れないことなどが重視される用途の液晶
表示装置においては、ガラス基板に代わって透明樹脂か
らなる液晶基板フィルムが用いられている。ガラス基板
では、塗布した配向膜を２００℃以上の高温で焼成する
が、従来、この用途によく使用されている透明樹脂ＰＥ
Ｓ（ポリエーテルサルフォン）製の液晶基板フィルムの
耐熱性は、１６０〜１７０℃が限界であり、さらに耐熱
性が大きい透明樹脂フィルムが求められている。

【０００４】偏光フィルムは、入射光を互いに直交する
２つの偏光成分に分離し、その一方のみを通過させ、他
の成分を吸収または分散させる機能を有している。この
偏光フィルムとしては、ポリビニルアルコールなどのフ
ィルムを一定方向に分子配列させ、これにポリ沃素、色
素などの二色性物質を吸着させたものが用いられてい
る。しかし、これらの偏光膜は、透過軸方向に対する機
械的強度が弱く、しかも熱や水分による収縮といった問
題点があり、通常偏光膜の両面に保護層として表面保護
フィルムが設けられている。

【０００５】表面保護フィルムは、低複屈折性、耐熱
性、低吸湿性、機械強度、表面平滑性、高解像度、粘着
剤との密着性などの性能が要求される。従来、表面保護
フィルムとしては、低複屈折性と表面平滑性に優れてい
るキャスティング法で製造されたＴＡＣ（トリアセチル
セルロース）フィルムが用いられている。ＴＡＣフィル
ムは、高温高湿下での耐久性、耐熱性、機械的強度、低
複屈折性、粘着剤との密着性に劣るという問題点があ
り、さらに耐熱性が大きい材料が求められている。

【０００６】位相差フィルムは、ＳＴＮ方式の液晶表示
装置において、液晶分子をねじったために出てくる屈折
率の波長依存性の着色を、補償する目的で使用される。
位相差フィルムは、鮮明な色彩と精細な画像を得るため
に、複屈折が全面に均一であり、高温や高湿度になる厳
しい条件下においても光学特性が変化しないことが求め
られている。位相差フィルムは、接着剤層を介して偏光
フィルムが積層された形で液晶表示装置に用いられてい
る。位相差フィルムは、通常、ＰＣ（ポリカーボネー
ト）フィルムを延伸、配向させてなるフィルムが用いら
れているが、ＰＣフィルムは、光弾性係数が９×１０
^-12ｃｍ²／ｄｙｎと大きいため、複屈折が大きくなりす
ぎること、複屈折が不均一となること、組立時や環境変
化に基づいて生じたわずかな応力で、複屈折が変化する
問題があった。また、ＰＣフィルムは、表面硬度が小さ
いためにフィルム製造時やデバイス組立時にも問題があ
り、これに代る新しい材料が求められている。

【０００７】透明導電性フィルムは、透明フィルム基材
の上に透明導電膜が積層された構成になっている。この
透明フィルム基材は、耐熱性、表面平滑性、光学特性、
耐湿性に優れていることが求められ、従来よりＰＥＳ
（ポリエーテルサルフォン）やＰＡＲ（ポリアリレー
ト）が用いられているが、ＰＥＳからなるフィルムは透
明性に劣り、ＰＡＲも光学歪が出やすく、透明で光学的
に均一なフィルムを得るためには複雑な技術を必要とし
た。

【０００８】光拡散フィルムは、液晶表示素子において
光拡散あるいは輝度向上の目的でバックライトの上に積
層され、一般に透明なシートまたはフィルムの表面にエ
ンボス工程や光硬化性樹脂の塗布などによりファインパ
ターンを形成してなるものである。光拡散フィルムの基
材として通常用いられているものに、ＰＣやＰＥＴ（ポ
リエチレンテレフタレート）が挙げられるが、ＰＣから
なるフィルムは、表面硬度が低いのでフィルムが傷つき
やすく、ファインパターンの形成時やディスプレイなど
の組立作業においてフィルムが傷つくことにより透明性
が失われるなどの問題がある。また、ＰＥＴからなるフ
ィルムは、透明性に劣り、このようなフィルムを用いた
液晶表示装置は、明るさに欠け見づらい画像となる問題
がある。また、耐熱性も十分ではなく、ファインパター
ン形成時にフィルムにソリが生じるなど均一なファイン
パターン形成が困難であった。

【０００９】プリズムシートは、光拡散フィルムを通っ
て拡散した光を液晶表示装置の視野角に集め、液晶表示
装置の輝度を向上させるためのフィルムで、大型のカラ
ーＳＴＮ、カラーＴＦＴに使われている。これは、ＰＣ
フィルムにプリズム角を付けたものであるが、光学的不
均一性の改良、光透過性の向上による液晶表示装置の輝
度の一層の向上が求められている。

【００１０】液晶およびＥＬ表示装置に使用される厚さ
約１０〜５００ｍμの各種フィルムは、それぞれ必要と
される特性を満たす透明樹脂から製造されている。透明
樹脂としてはポリメタクリル酸メチルなどのアクリル樹
脂、ＰＣ（ポリカーボネート）樹脂、ＰＥＴ（ポリエチ
レンテレフタレート）樹脂、ＰＥＳ（ポリエーテルサル
フォン）樹脂、ＰＡＲ（ポリアリレート）樹脂が用いら
れているが、ＰＣ樹脂やポリエステル樹脂は複屈折が大
きく、アクリル系樹脂は耐熱性および耐湿性が不足し、
ＰＥＳフィルムの耐熱性は１６０〜１７０℃が限界であ
る、などの問題があった。

【００１１】反射防止フィルムの基板フィルムとして
は、ＰＥＴやＰＣ、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭ
Ａ）などの透明樹脂からなるフィルムが広く用いられて
いる。このフィルムに形成される反射防止膜は単層の場
合もあれば２層以上の多層構造の場合もあり、層を多く
するにつれて広い波長領域の反射防止が可能となるが、
層を多く形成していくにつれ透明性が低下するため、基
板の透明性が特に求められている。また、これら反射防
止フィルムはディスプレイ用途に用いられることが多い
が、複屈折の大きいフィルムであると表示画像が歪んだ
りするなど良好な画像を得ることが難しいため、フィル
ム全般にわたって複屈折の小さい、均一なフィルムであ
ることが求められている。

【００１２】また、プラスチック基板材料などの光学部
品材料として、下記のような開環重合体の水素化物およ
び付加重合体も提案されている。 （１）開環重合体の水素化物 （１−１）テトラシクロドデセン系化合物の開環共重合
体の水素化物（特開昭６０−２６０２４号公報、特許第
３０５０１９６号公報） （１−２）エステル基を含むノルボルネン系またはテト
ラシクロドデセン系化合物の開環共重合体の水素化物
（特開平１−１３２６２５号公報、特開平１−１３２６
２６号公報） （２）付加重合体 （２−１）エチレンとノルボルネン系化合物またはテト
ラシクロドデセン系化合物の共重合体〔特開昭６１−２
９２６０１号公報、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．Ｍａ
ｃｒｏｍｏｌ．Ｓｙｍｐ．Ｖｏｌ．４７，８３（１９９
１）〕 （２−２）ノルボルネンの付加重合体、ノルボルネンと
アルキル置換ノルボルネンとの付加型共重合体（Ｍｅｔ
Ｃｏｎ９７，Ｊｕｎｅ４−５，１９９７ Ｂ．Ｌ．Ｇｏ
ｏｄａｌｌら、特開平４−６３８０７号公報、特開平８
−１９８９１９号公報） （２−３）ノルボルネンのカルボン酸エステルの付加重
合体、ノルボルネンとノルボルネンのカルボン酸エステ
ルとの付加型共重合体、ノルボルネンのカルボン酸の付
加重合体〔Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅ，Ｖｏｌ．２
９，２７５５（１９９６）、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｒａｐ
ｉｄ．Ｃｏｍｍｕｎ．Ｖｏｌ．１９，２５１（１９９
８）、および国際特許公開ＷＯ９６／３７５２６号公
報〕

【００１３】しかしながら、上記（１−１）および（１
−２）の開環共重合体の水素化物に関しては、同じモノ
マーであっても開環共重合体は付加重合体に比べそのガ
ラス転移温度が相対的に低く、ガラス転移温度の高い重
合体を得ることが困難である。また、開環共重合体は、
完全に水素化することが困難で、その水素化物は、微量
な不飽和結合を重合体中に含むことになり、その結果、
２５０℃以上の高温で薄膜、フィルムまたはシートへ成
形加工をする際に着色することがあり、耐熱性の点で必
ずしも充分ではない。また、上記（２−１）のエチレン
とノルボルネン系化合物またはテトラシクロドデセン系
化合物との共重合体は、エチレンの連鎖に分布があり、
エチレン連鎖が少しでも長いと結晶化し、光学的透明性
の点で不充分となることが多く、また、極性基を含まな
いため、接着性および密着性の点で不充分なものであ
る。

【００１４】一方、（２−２）の付加重合体は、ガラス
転移温度が高く、耐熱性は高いが、耐溶剤性の点で不十
分である。また、（２−３）のノルボルネンのカルボン
酸エステルの付加重合体、ノルボルネンとノルボルネン
のカルボン酸エステルとの付加型共重合体、ノルボルネ
ンのカルボン酸の付加重合体は、極性基を多く含むた
め、接着性および密着性の点では優れるが、耐吸湿性の
点では不充分で、寸法安定性に欠ける。

【００１５】本発明らは、鋭意検討の結果、特定構造を
有する環状オレフィン系共重合体でしかもその架橋体を
使用することにより、耐熱性、耐溶剤性、寸法安定性が
良く、透明性に優れる液晶表示素子を形成するための液
晶配向膜形成基板が得られることを見いだし、本発明を
完成したものである。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
解決すべくなされたものであり、表示装置用フィルムと
して従来使用されていた環状オレフィン系共重合体（開
環重合）樹脂、ＰＣ（ポリカーボネート）樹脂、ＴＡＣ
（トリアセチルセルロース）樹脂、ＰＥＳ（ポリエーテ
ルサルフォン）樹脂、ＰＥＴ樹脂などの樹脂に代わる、
新規な樹脂を用いる液晶およびＥＬ表示装置用フィルム
を提供することを目的とする。また、本発明は、上記の
本発明のフィルムを使用することを特徴とする液晶表示
装置用の基板フィルム、偏光フィルム、表面保護フィル
ム、位相差フィルム、透明導電性フィルム、光拡散フィ
ルムを提供することを目的とするものである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明は、下記式（１）
で示される繰り返し単位（ａ）と下記式（２）で示され
る繰り返し単位（ｂ）を含む環状オレフィン系付加型共
重合体を含有する、環状オレフィン系付加型共重合体組
成物を成形して得られる樹脂フィルム、さらにはこの樹
脂フィルムをシロキサン結合で架橋した架橋樹脂フィル
ムに関する

【００１８】

【化３】

【００１９】［式（１）中、Ａ¹〜Ａ⁴はそれぞれ独立し
て、水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、または、 −（ＣＲ¹Ｒ²）_fＳｉ（ＯＲ³）_gＲ⁴ _(3-g)、 −（ＣＲ¹Ｒ²）_fＳｉ（Ｒ³Ｒ⁴）ＯＳｉ（ＯＲ³）_gＲ⁴
_(3-g)、 −（ＣＲ¹Ｒ²）_fＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）_hＳｉ（ＯＲ³）_g
Ｒ⁴ _(3-g) で表されるアルコキシシリル基、アリロキシシリル基を
示し、Ａ¹〜Ａ⁴の少なくとも一つはアルコキシシリル
基、アリロキシシリル基を示す。ここで、Ｒ¹，Ｒ²はそ
れぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２０の炭化
水素基を示し、Ｒ³は炭素数１〜１０のアルキル基、ア
ルケニル基、アリール基またはシクロアルキル基を示
し、Ｒ⁴は水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜２
０の炭化水素基を示し、ｆ，ｈは０〜５の整数、ｇは１
〜３の整数を示す。また、Ｙは−ＣＨ₂−または−Ｏ−
を示し、ｍは０または１を示す。］

【００２０】

【化４】

【００２１】［式（２）中、Ｂ¹，Ｂ²，Ｂ³，Ｂ⁴はそれ
ぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル
基、アリール基、アルケニル基、シクロアルキル基、ハ
ロゲン原子、ハロゲン化炭化水素基、または−（Ｃ
Ｈ₂）_jＸで表される極性基示す。ここで、Ｘは−Ｃ(Ｏ)
ＯＲ⁵、または−ＯＣ(Ｏ)Ｒ⁶であり、Ｒ⁵，Ｒ⁶は炭素数
１〜２０のアルキル基、アルケニル基、アリール基、シ
クロアルキル基、またはこれらのハロゲン置換基、ｊは
０〜５の整数を示す。また、Ｂ¹〜Ｂ⁴にはＢ¹とＢ²また
はＢ³とＢ⁴で形成されるアルキリデニル基、Ｂ¹とＢ⁴、
Ｂ¹とＢ³、またはＢ²とＢ⁴で形成されるシクロアルキレ
ン基、シクロアルケニレン基も含まれる。ｎは０から２
の整数を示す。］

【００２２】また、上記（架橋）樹脂フィルムには、下
記化合物（Ａ）〔下記式（３）で示されるで表されるオ
ルガノシラン、あるいは該オルガノシランの加水分解
物、あるいは該オルガノシランの縮合物の群から選ばれ
た少なくとも１種の化合物（以下「オルガノシラン類」
ともいう）〕や、下記化合物（Ｂ）〔シリカ、アルミ
ナ、ジルコニアおよびチタニアの群から選ばれた少なく
とも１種の金属酸化物〕が配合されていてもよい。 （Ｒ⁷）_pＳｉ（ＯＲ⁸）_4-P ………（３） ［式（３）中、Ｒ⁷は、２個存在する場合には同一また
は異なり、炭素数１〜１０の有機基を示し、Ｒ⁸は同一
または異なり、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数
１〜６のアシル基を示し、ｐは０〜２の整数である。］

【００２３】さらに、本発明の（架橋）樹脂フィルムに
は、上記のオルガノシラン類や金属酸化物などの配合物
と、環状オレフィン系付加型共重合体とを、キャスト時
あるいはそれ以前にグラフト結合させるため、 Ａｌ、
Ｚｒ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｃａ、Ｂａ、Ｔｉ、Ｓｃ、Ｇｄ、Ｙ
ｂ、Ｓｍ、Ｎｄ、Ｓｂ、Ｙ、およびＣｅの群から選ばれ
た少なくとも一種の金属化合物が配合されてもよい。

【００２４】次に、本発明は、上記の環状オレフィン系
付加型共重合体組成物を、溶液キャスト法にてフィルム
化したのちに、５０℃以上に加熱、あるいは熱水または
水蒸気で加熱することにより、シロキサン結合を形成さ
せて架橋させることを特徴とする、架橋フィルムの製造
方法に関する。

【００２５】また、本発明の（架橋）樹脂フィルムは、
液晶表示装置用フィルムおよびＥＬ表示装置用フィルム
として好ましく使用できる。また、本発明の（架橋）樹
脂フィルムは、液晶表示装置の液晶基板フィルム、偏光
フィルム、表面保護フィルム、位相差フィルム、透明導
電性フィルム、光拡散フィルム、および反射防止フィル
ムとして、好ましく使用できる。

【００２６】

【発明の実施の形態】本発明の表示装置用フィルムに有
用な（架橋）樹脂フィルムは、上記式（１）に示す繰り
返し単位（ａ）と上記繰り返し単位（ｂ）を含む環状オ
レフィン系付加型共重合体を含有する環状オレフィン系
付加型共重合体組成物を成形して得られる樹脂フィル
ム、あるいは、この樹脂フィルムがシロキサン結合で架
橋された架橋樹脂フィルムである。本発明の環状オレフ
ィン系付加型共重合体に用いられる繰り返し単位（ａ）
は、下記式（１）’に示す環状オレフィン（以下、「特
定の環状オレフィン（１）」ということがある）の付加
重合により形成することができる。

【００２７】

【化５】

【００２８】［式（１）’中、 Ａ¹〜Ａ⁴ 、Ｙ、および
ｍは上記式（１）に示すものと同一である。］

【００２９】このような「特定の環状オレフィン
（１）」の具体例としては、５−トリメトキシシリル−
２−ノルボルネン、５−トリメトキシシリル−７−オキ
サ−２−ノルボルネン、５−ジメトキシクロロシリル−
２−ノルボルネン、５−ジメトキシクロロシリル−７−
オキサ−２−ノルボルネン、５−メトキシクロロメチル
シリル−２−ノルボルネン、５−ジメトキシクロロシリ
ル−２−ノルボルネン、５−メトキシヒドリドメチルシ
リル−２−ノルボルネン、５−ジメトキシヒドリドシリ
ル−２−ノルボルネン、５−メトキシジメチルシリル−
２−ノルボルネン、５−トリエトキシシリル−２−ノル
ボルネン、５−トリエトキシシリル−７−オキサ−２−
ノルボルネン、５−ジエトキシクロロシリル−２−ノル
ボルネン、５−エトキシクロロ−メチルシリル−２−ノ
ルボルネン、５−ジエトキシヒドリドシリル−２−ノル
ボルネン、５−エトキシジメチルシリル−２−ノルボル
ネン、５−エトキシジエチルシリル−７−オキサ−２−
ノルボルネン、５−プロポキシジメチルシリル−２−ノ
ルボルネン、５−トリプロポキシシリル−２−ノルボル
ネン、５−トリフェノキシシリル−２−ノルボルネン、
５−トリメトキシシリルメチル−２−ノルボルネン、５
−（２−トリメトキシシリル）エチル−２−ノルボルネ
ン、５−（２−ジメトキシクロロシリル）エチル−２−
ノルボルネン、５−（１−トリメトキシシリル）エチル
−２−ノルボルネン、５−（２−トリメトキシシリル）
プロピル−２−ノルボルネン、５−（１−トリメトキシ
シリル）プロピル−２−ノルボルネン、５−トリエトキ
シシリルエチル−７−オキサ−２−ノルボルネン、５−
ジメトキシメチルシリルメチル−２−ノルボルネン、５
−トリメトキシプロピルシリル−２−ノルボルネン、５
−トリエトキシシロキシ−ジメチルシリル−２−ノルボ
ルネン、８−トリエトキシシリル−３−テトラシクロ
［４．４．０．１^2,5．１^7,10］ドデセン、８−メチル
ジメトキシシリル−３−テトラシクロ［４．４．０．１
^2,5．１^7,10］ドデセン、８−トリエトキシシロキシ−
ジメチルシリル−３−テトラシクロ［４．４．０．１
^2,5．１^7,10］ドデセン、５−トリメトキシシロキシ−
ジメチルシリル−２−ノルボルネン、５−トリエトキシ
シロキシ−ジメチルシリル−２−ノルボルネン、５−メ
チルジメトキシシロキシ−ジメチルシリル−２−ノルボ
ルネン、５−ノルボルネン−２−カルボン酸トリメトキ
シシリルプロピル、５−ノルボルネン−２−カルボン酸
トリエトキシシリルプロピル、５−ノルボルネン−２−
カルボン酸ジメトキシメチルシリルプロピル、２−メチ
ル−５−ノルボルネン−２−カルボン酸トリメトキシシ
リルプロピル、２−メチル−５−ノルボルネン−２−カ
ルボン酸トリエトキシシリルプロピル、５−メチル−５
−ノルボルネン−２−カルボン酸ジメトキシメチルシリ
ルプロピル、などが挙げられる。

【００３０】繰り返し単位（ａ）の環状オレフィン系付
加型共重合体中の割合は、０．２〜３０モル％、好まし
くは０．５〜２０モル％、さらに好ましくは１．０〜１
０モル％である。繰り返し単位（ａ）の環状オレフィン
系付加型共重合体中の割合が０．２モル％未満では、架
橋体の形成が困難となり、一方、割合が３０モル％を超
えると、耐吸湿性、寸法安定性が低下する。

【００３１】なお、式（１）で表される繰り返し単位
（ａ）を形成する他の方法としては、トリクロロシリル
基、ジクロロアルキルシリル基を有する環状オレフィン
（以下、「特定の環状オレフィン（２）」という）を付
加共重合したのち、得られた共重合体中のトリクロロシ
リル基、またはジクロロアルキルシリル基をアルカリ金
属のアルコキシド化合物またはアリロキシド化合物と反
応させる、あるいはアミン化合物の存在下でアルコール
またはフェノール類と反応させる方法を挙げることがで
きる。

【００３２】このような「特定の環状オレフィン
（２）」の具体例としては５−トリクロロシリル−２−
ノルボルネン、５−トリクロロシリル−７−オキサ−２
−ノルボルネン、５−ジクロロメチルシリル−２−ノル
ボルネン、５−ジクロロエチルシリル−２−ノルボルネ
ン、５−ノルボルネン−２−カルボン酸トリクロロシリ
ルプロピル、２−メチル−５−ノルボルネン−２−カル
ボン酸トリクロロシリルプロピル、５−ノルボルネン−
２−カルボン酸ジクロロメチルシリルプロピル、などが
挙げられる。

【００３３】本発明の共重合体において、式（１）で示
される繰り返し単位（ａ）とともに用いられる式（２）
で示される繰り返し単位（ｂ）は、下記式（２）’に示
す環状オレフィン（以下、「特定の環状オレフィン
（３）」という。）を付加共重合することにより形成さ
れる。

【００３４】

【化６】

【００３５】［式（２）’中、 Ｂ¹〜Ｂ⁴ 、およびｎは
式（２）と同一である。］

【００３６】このような「特定の環状オレフィン
（３）」の具体例としては、２−ノルボルネン、５−メ
チル−２−ノルボルネン、５−エチル−２−ノルボルネ
ン、５−プロピル−２−ノルボルネン、５−ブチル−２
−ノルボルネン、５−ペンチル−２−ノルボルネン、５
−ヘキシル−２−ノルボルネン、５−ヘプチル−２−ノ
ルボルネン、５−オクチル−２−ノルボルネン、５−デ
シル−２−ノルボルネン、５−ドデシル−２−ノルボル
ネン、５−ビニル−２−ノルボルネン、５−アリル−２
−ノルボルネン、５−ブテニル−２−ノルボルネン、５
−メチリデン−２−ノルボルネン、５−エチリデン−２
−ノルボルネン、５−イソプロピリデン−２−ノルボル
ネン、５，６−ジメチル−２−ノルボルネン、５−メチ
ル，５−エチル−２−ノルボルネン、５、６−ベンゾ−
２−ノルボルナジエン、５−フェニル−２−ノルボルネ
ン、２，５−ノルボルナジエン、２、５−ノルボルナジ
エン、５−メチル−２，５−ノルボルナジエン、５−シ
クロヘキシル−２−ノルボルネン、５−フロロ−２−ノ
ルボルネン、５−クロロ−２−ノルボルネン、５−ノル
ボルネン−２−カルボン酸メチル、５−ノルボルネン−
２−カルボン酸エチル、５−ノルボルネン−２−カルボ
ン酸ブチル、２−メチル−５−ノルボルネン−２−カル
ボン酸メチル、２−メチル−５−ノルボルネン−２−カ
ルボン酸エチル、２−メチル−５−ノルボルネン−２−
カルボン酸プロピル、２−メチル−５−ノルボルネン−
２−カルボン酸ブチル、２−エチル−５−ノルボルネン
−２−カルボン酸メチル、２−メチル−５−ノルボルネ
ン−２−カルボン酸トリフロロエチル、２−メチル−５
−ノルボルネン−２−イル酢酸エチル、５−ノルボルネ
ン−２−スピロ−Ｎ−フェニルスクシンイミド、５−ノ
ルボルネン−２−スピロ−Ｎ−シクロヘキシルスクシン
イミド、５−ノルボルネン−２−スピロ−Ｎ−メチルス
クシンイミド、５−ノルボルネン−２，３−Ｎ−フェニ
ルジカルボキシイミド、５−ノルボルネン−２，３−Ｎ
−シクロヘキシルジカルボキシイミド、アクリル酸２−
メチル−５−ノルボルネン、メタクリル酸２−メチル−
５−ノルボルネン、５−ノルボルネン−２，３−ジカル
ボン酸ジメチル、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボ
ン酸ジエチル、３−トリシクロ［４．３．０．１^2,5］
デセン、３，７−トリシクロ［４．３．０．１^2,5］デ
カジエン（ジシクロペンタジエン）、３−テトラシクロ
［４．４．０．１^2,5．１^7,10］ドデセン、８−メチ
ル，３−テトラシクロ［４．４．０．１^2,5１^7,10］ド
デセン、８−エチリデン−３−テトラシクロ［４．４．
０．１^2,5１^7,10］ドデセン、８−メチル−８−メトキ
シカルボニル−３−テトラシクロ［４．４．０．
１^2,5．１^7,10］ドデセン、８−メチル−８−エトキシ
カルボニル−３−テトラシクロ［４．４．０．１^2,5．
１^7,10］ドデセン、などを挙げることができる。

【００３７】上記繰り返し単位（ｂ）を形成する上記式
（２）’に示す化合物は、１種単独または２種以上を組
み合わせて用いることができる。繰り返し単位（ｂ）の
本発明の環状オレフィン系付加型共重合体中の割合は、
全繰り返し単位中、７０〜９９．８％、好ましくは８０
〜９９．５％、さらに好ましくは９０〜９９モル％であ
る。（ｂ）の割合が７０モル％未満では、ガラス転移温
度が低下することがあり、一方、９９．８モル％を超え
ると、架橋が困難となる。

【００３８】なお、上記式（２）’で示される環状オレ
フィンの中の特定のものを使用し変性することにより、
式（１）で表される繰り返し単位（ａ）を形成すること
もできる。例えば、ノルボルナジエン化合物、アルケニ
ル置換基を有する化合物およびビニリデニル置換基を有
する化合物の群から選ばれた少なくとも１種（以下、
「特定の環状オレフィン（４）」という）を付加共重合
した後、得られた共重合体中の不飽和二重結合と、Ｓｉ
−Ｈ結合をもつアルコキシシラン化合物をＰｔ、Ｒｈ、
Ｒｕなどの化合物を触媒としてヒドロシリル化反応させ
る方法を挙げることができる。

【００３９】このような「特定の環状オレフィン
（４）」の具体例としては、２，５−ノルボルナジエ
ン、７−オキサ−２，５−ノルボルナジエン、５−メチ
ル−２，５−ノルボルナジエン、５−ビニル−２−ノル
ボルネン、５−ビニル−７−オキサ−２−ノルボルネ
ン、５−アリル−２−ノルボルネン、５−ブテニル−２
−ノルボルネン、５−メチリデン−２−ノルボルネン、
５−エチリデン−２−ノルボルネン、５−エチリデン−
７−オキサ−２−ノルボルネン、５−イソプロピリデン
−２−ノルボルネン、８−エチリデン−３−テトラシク
ロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10］ドデセン、などが挙
げられる。

【００４０】Ｓｉ−Ｈ結合をもつアルコキシシラン化合
物の具体例としては、トリメトキシシラン、トリエトキ
シシラン、トリプロポキシシラン、ジメトキシシラン、
ジエトキシシラン、ジメトキシクロロシラン、ジエトキ
シクロロシラン、ジメトキシメチルシラン、ジエトキシ
メチルシラン、ジメトキシフェニルシラン、ジエトキシ
フェニルシラン、モノメトキシジメチルシラン、モノエ
トキシジメチルシラン、モノエトキシジエチルシラン、
などが挙げられる。

【００４１】また、ヒドロシリル化反応触媒としては、
Ｈ₂ＰｔＣｌ₆・Ｈ₂Ｏ、Ｐｔ／Ａｌ₂Ｏ₃、ＲｈＣｌ（Ｐ
Ｐｈ₃）₂、Ｒｈ／Ａｌ₂Ｏ₃、ＲｕＣｌ₃、ＩｒＣｌ₃、Ｆ
ｅＣｌ₃、ＡｌＣｌ₃、ＰｄＣｌ₂・２Ｈ₂Ｏ、ＮｉＣ
ｌ₂、およびＴｉＣｌ₄などが挙げられる。

【００４２】本発明の環状オレフィン系付加型共重合体
に用いられる重合の触媒としては、以下の１）、２）お
よび３）に挙げる多成分系触媒が用いられる。 １）遷移金属化合物 ニッケルまたはコバルトの有機カルボン酸塩、有機亜リ
ン酸塩、有機リン酸塩、有機スルフォン酸塩、β−ジケ
トン化合物などから選ばれた化合物またはニッケルまた
はコバルトの有機カルボン酸塩と六フッ化アンチモン
酸、四フッ化硼素酸、トリフロロ酢酸、六フッ化アセト
ン、などの超強酸変性化合物、ニッケルの１，５−シク
ロオクタジエン錯体、［(η³-クロチル)Ni(シクロオク
タジエン)］［B((CF₃)₂C₆H₄)₄］、ニッケルのシクロド
デカトリエン錯体、ニッケルのノルボルナジエン錯体、
などのジエンまたはトリエンが配位した錯体、ニッケル
またはコバルトのビス（トリアリールホスフィン）ジハ
ロゲン錯体、 ［(η³-クロチル)Ni(シクロオクタジエン)］［B((CF₃)₂
C₆H₄)₄］ Bis［Ｎ−（３−tert−butylsalicylidene）phenylamin
ato］Ni Ni［PhC（O）CHPPh₂］（Ph）（PPh₃） Ni（ＯＣ(O)(C₆H₄)PPh₂）(H)(PCy₃) Ni［OC（O）(C₆H₄)PPh₂］(H)(PPh₃₎ Ni(ＣＯＤ)₂とPPh₃＝CHC(O)Phの反応物 ［（ArN＝CHC₆H₃(Ｏ)(Anth）］(Ph)(PPh₃)Ni （Ar：２，６−(Pr)2C₆H₃ ，Pr：isopropyl ，Anth：
9-anthracene、Ph：phenyl、Cy：Cyclohexyl） などの２または３座配位子をもつ錯体

【００４３】２）有機アルミニウム化合物 メチルアルモキサン、エチルアルモキサン、ブチルアル
モキサン、トリアルキルアルミニウムが部分混合された
メチルアルモキサン、トリメチルアルミニウム、トリエ
チルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、ジイ
ソブチルアルミニウムヒドリド、ジエチルアルミニウム
クロライド、エチルアルミニウムセスキクロライド、エ
チルアルミニウムジクロライドなどの有機アルミニウム
化合物

【００４４】３）さらに、重合活性向上のため添加でき
る化合物として １，５−シクロオクタジエン、１，５，９-シクロドデ
カトリエンなどの非共役ジエン化合物、三フッ化ホウ素
のエーテル、アミン、フェノールなどの錯体、トリ（ペ
ンタフロロフェニル）ボラン、トリ（3,5-ジ-トリフロ
ロメチルフェニル）ボラン、トリ（ペンタフロロフェニ
ル）アルミニウムなどのルイス酸化合物。トリフェニル
カルベニウムテトラキス（ペンタフロロフェニル）ボレ
ート、トリフェニルカルベニウムテトラキス（3,5-ジ-
トリフロロメチル-フェニル）ボレート、トリブチルア
ンモニウムテトラキス（ペンタフロロフェニル）ボレー
ト、Ｎ，Ｎ-ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタ
フロロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ-ジエチルアニリニ
ウムテトラキス（ペンタフロロフェニル）ボレート、な
どのイオン性ホウ素化合物。

【００４５】これらの触媒成分は、以下の範囲の使用量
で用いられる。すなわち、ニッケルまたはコバルト化合
物は単量体１モルに対して、０．０２〜１００ミリモル
原子、有機アルミニウム化合物はニッケルまたはコバル
ト１モル原子に対し、１〜５，０００モル、また非共役
ジエン、ルイス酸化合物、イオン性ホウ素化合物はニッ
ケルまたはコバルト１モル原子に対して、０．２〜１０
０モルである。

【００４６】本発明の環状オレフィン系付加型共重合体
の重合反応の溶媒としては、ペンタン、ヘキサン、ヘプ
タン、ブテン、２−メチルブテンなどの脂肪族炭化水
素、シクロヘキサン、シクロペンタン、メチルシクロペ
ンタンなどの脂環式炭化水素、トルエン、ベンゼン、キ
シレン、メシチレンなどの芳香族炭化水素、ジクロロメ
タン、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン、ｏ−
ジクロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、γ−ブチロラクトン、ニトロメタンな
どの極性溶媒から１種または２種以上選ばれて用いられ
る。

【００４７】以下に、本発明の環状オレフィン系付加型
共重合体を得る方法の概要を例示するが、必ずしもこの
例示に限定されるものではない。すなわち、窒素、また
はアルゴン雰囲気下で、反応容器に溶媒と環状オレフィ
ンからなるモノマーと分子量調節剤を仕込み、−２０℃
〜１００℃の範囲の温度に重合系を設定する。次に、上
記触媒成分を添加して−２０℃〜１００℃の範囲で重合
を行う。溶媒／モノマーの重量比は１〜２０の範囲で行
われる。分子量の調節は、重合触媒の量とα−オレフィ
ン、水素、ジフェニルジヒドロシランなどの分子量調節
剤の添加量、重合体への転化率および重合温度によっ
て、目的とする分子量に調節される。重合の停止は、
水、アルコール、有機酸、炭酸ガスなどから選ばれた化
合物により行われる。重合体溶液にマレイン酸、フマル
酸、シュウ酸から選ばれた酸の水／アルコール混合物を
添加して、触媒残さは重合体溶液から分離・除去され
る。重合体は、重合体溶液をメタノール、エタノール、
イソプロパノールなどから選ばれたアルコール中に入れ
て、凝固し、減圧乾燥することにより得られる。この工
程で重合体溶液に残存する未反応モノマーも除去され
る。

【００４８】本発明の環状オレフィン系付加型共重合体
は、ｏ−ジクロロベンゼンを溶媒とするゲル・パーミエ
ションクロマトグラフィーで測定されるポリスチレン換
算の数平均分子量が好ましくは１０，０００〜１，００
０，０００、さらに好ましくは５０，０００〜５００，
０００である。また、ポリスチレン換算の重量平均分子
量は、好ましくは１５，０００〜１，５００，０００、
さらに好ましくは７０，０００〜７００，０００であ
る。ポリスチレン換算の数平均分子量が１０，０００未
満、重量平均分子量が１５，０００未満であると、破壊
強度が不充分となることがある。一方、ポリスチレン換
算の数平均分子量が１，０００，０００を超え、重量平
均分子量が１，５００，０００を超えると、環状オレフ
ィン系付加型共重合体の溶液を用いて、キャストしてシ
ートまたはフィルム状の基板を作製するときに溶液粘度
が高くなり、うねり、そりなどがない平滑性のよい、シ
ート、フィルムの作製が困難となることがある。また、
上記のようにして得られた本発明の環状オレフィン系付
加型共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、好ましくは
２００℃以上、さらに好ましくは２５０℃〜４００℃で
ある。２００℃未満であると、架橋するときの熱負荷に
対して変形を生じることがある。

【００４９】本発明の環状オレフィン系付加型共重合体
を含む樹脂フィルムの架橋反応は、酸触媒により進行す
る。酸触媒としては、加熱分解により酸を発生する化合
物、あるいは熱水または水蒸気の存在下で加水分解する
ことにより酸を発生する化合物の中から選ばれた、少な
くとも１種以上の化合物が用いられる。熱分解、あるい
は加水分解の進行する温度は、５０℃以上、好ましくは
８０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上である。

【００５０】加熱分解により酸を発生する化合物（酸発
生剤）としては、ベンジルスルホニウム塩、ベンジルア
ンモニウム塩、ベンジルホスホニウム塩、ヒドラジニウ
ム塩などが挙げられる。一方、加水分解により酸を発生
する化合物としては、亜リン酸エステル、次亜リン酸エ
ステル、イミノホスホナート、有機カルボン酸エステ
ル、有機スルホン酸エステル、有機スルフィン酸などを
挙げることができる。これらのうちでも、貯蔵安定性の
点から、亜リン酸エステルおよび次亜リン酸エステルが
好ましい。

【００５１】亜リン酸エステルには、モノエステル、ジ
エステル、およびトリエステルの３種があるが、室温か
ら１００℃付近までの範囲では、トリエステルは中性、
モノおよびジエステルは極めて弱い酸性であることが多
く、架橋触媒としての作用は弱い。一方、高温に加熱し
た条件下では、モノおよびジエステルは酸性度のより強
い互変異体へと異性化することが知られている。また、
トリエステルは、熱水または水蒸気存在下で加水分解を
受け、モノあるいはジエステルに変化することで酸とし
ての機能が発現する。次亜リン酸エステルの場合もこれ
と同様であり、中性を示すジエステルが加水分解を受
け、高温で酸性を示すモノエステル、および次亜リン酸
へと変換される。この反応機構により、熱水および水蒸
気存在下で、亜リン酸エステルおよび次亜リン酸エステ
ルの架橋触媒機能が発現すると考えられる。

【００５２】亜リン酸エステルまたは次亜リン酸エステ
ルは、ヒドロキシ基を有する有機化合物と亜リン酸また
は次亜リン酸と反応させることにより得られる。亜リン
酸または次亜リン酸と反応させる、ヒドロキシ基を有す
る有機化合物としては、炭素数１〜４０の飽和あるいは
不飽和の脂肪族炭化水素にヒドロキシ基が１個以上置換
したアルコール、炭素数５〜４０の飽和あるいは不飽和
の脂環族炭化水素にヒドロキシ基が１個以上置換したア
ルコール、および炭素数６〜４０の、アルキル基置換あ
るいは無置換の芳香族炭化水素にヒドロキシ基が１個以
上置換したフェノールなどが挙げられる。

【００５３】これらヒドロキシ基を有する有機化合物と
亜リン酸の反応により形成される亜リン酸エステルの具
体例としては、 ［亜リン酸トリエステルの具体例］トリメチルホスファ
イト、トリエチルホスファイト、トリプロピルホスファ
イト、トリブチルホスファイト、トリヘキシルホスファ
イト、トリオクチルホスファイト、トリデシルホスファ
イト、トリフェニルホスファイト、トリノニルフェニル
ホスファイト、トリステアリルホスファイト、ジフェニ
ルオクチルホスファイト、ジフェニルデシルホスファイ
ト、フェニルジデシルホスファイト、（テトラフェニ
ル）ジプロピレングリコールジホスファイト、（テトラ
フェニル）テトラ（トリデシル）ペンタエリスリトール
テトラホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４'
−イソプロピリデンジフェニルジホスファイト、ビス
（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペン
タエリスリトール−ジホスファイト、ビス（２，４−ジ
−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ビス（２，４−ジ−クミルフェニル）ペンタエ
リスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ−クミ
ルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジ
ステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、２、
２−メチレンビス（４，６−ジーｔ−ブチルフェニル）
オクチルホスファイト、トリ（ノニルフェニル）ホスフ
ァイト、トリス（ジ−ノニル−フェニル）ホスファイ
ト、１、１，３−トリス（２−メチルー４−ジトリデシ
ルホスファイトー５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビ
ス（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイ
ト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホ
スファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホス
ファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキ
シカルボニルエチル−フェニル）ペンタエリスリトール
ジホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−
オクタデシルオキシカルボニルエチル−フェニル）ペン
タエリスリトールジホスファイト、

【００５４】［亜リン酸ジエステルの具体例］ジメチル
ホスファイト、ジエチルホスファイト、ジプロピルホス
ファイト、ジブチルホスファイト、ジヘキシルホスファ
イト、ジオクチルホスファイト、ジデシルホスファイ
ト、ジラウリルホスファイト、ジオレイルホスファイ
ト、ジフェニルホスファイト、フェニルオクチルホスフ
ァイト、フェニルデシルホスファイト、

【００５５】［亜リン酸モノエステルの具体例］メチル
ホスファイト、エチルホスファイト、プロピルホスファ
イト、ブチルホスファイト、ヘキシルホスファイト、オ
クチルホスファイト、デシルホスファイト、フェニルホ
スファイト、などが挙げられる。

【００５６】一方、次亜リン酸エステルの具体例として
は、 ［次亜リン酸ジエステルの具体例］ジメチル−フェニル
ホスホナイト、ジエチル−フェニルホスホナイト、ジプ
ロピル−フェニルホスホナイト、ジブチル−フェニルホ
スホナイト、ジヘキシル−フェニルホスホナイト、ジオ
クチル−フェニルホスホナイト、ジデシル−フェニルホ
スホナイト、メチル−ジフェニルホスホナイト、エチル
−ジフェニルホスホナイト、プロピル−ジフェニルホス
ホナイト、ブチル−ジフェニルホスホナイト、ヘキシル
−ジフェニルホスホナイト、オクチル−ジフェニルホス
ホナイト、デシル−ジフェニルホスホナイト、ビス［ビ
ス（２，４−ジ−ｔ−ブチル−５−メチルフェノキシ）
ホスフィノ］ビフェニル、ビス［ビス（２，４−ジ−ｔ
−ブチルフェノキシ）ホスフィノ］ビフェニル、

【００５７】［次亜リン酸モノエステルの具体例］メチ
ル−フェニルホスフィネート、エチル−フェニルホスフ
ィネート、プロピル−フェニルホスフィネート、ブチル
−フェニルホスフィネート、ヘキシル−フェニルホスフ
ィネート、オクチル−フェニルホスフィネート、デシル
−フェニルホスフィネート、などが挙げられる。

【００５８】亜リン酸エステルおよび次亜リン酸エステ
ルのうち、触媒活性および貯蔵安定性の両面をから好ま
しいのは、亜リン酸エステルであり、さらに好ましいの
は亜リン酸トリエステルである。

【００５９】また、加水分解により酸を発生する他の化
合物としては、下記の例が挙げられる。 ［有機カルボン酸エステルの具体例］酢酸−プロピルエ
ステル、酢酸−ブチルエステル、酢酸−アミルエステ
ル、プロピオン酸−プロピルエステル、プロピオン酸−
ブチルエステル、プロピオン酸−アミルエステル、２−
エチルヘキサン酸−プロピルエステル、２−エチルヘキ
サン酸−ブチルエステル、２−エチルヘキサン酸−アミ
ルエステル、

【００６０】［有機スルホン酸エステルの具体例］p-ト
ルエンスルホン酸−エチルエステル、 p-トルエンスル
ホン酸−プロピルエステル、 p-トルエンスルホン酸−
ブチルエステル、 p-トルエンスルホン酸−アミルエス
テル、デカンスルホン酸−エチルエステル、デカンスル
ホン酸−プロピルエステル、デカンスルホン酸−ブチル
エステル、デカンスルホン酸−アミルエステル

【００６１】［有機スルフィン酸エステルの具体例］p-
トルエンスルフィン酸−エチルエステル、 p-トルエン
スルフィン酸−プロピルエステル、 p-トルエンスルフ
ィン酸−ブチルエステル、 p-トルエンスルフィン酸−
アミルエステル、デカンスルフィン酸−エチルエステ
ル、デカンスルフィン酸−プロピルエステル、デカンス
ルフィン酸−ブチルエステル、デカンスルフィン酸−ア
ミルエステル

【００６２】［イミノスルホナートの具体例］２，３，
４−トリヒドロナフチル−１−イミノ−Ｎ−フェニルス
ルホナート

【００６３】これらの、加水分解して酸として作用する
酸触媒（架橋触媒）は、重合体１００重量部当たり、
０．００１〜１０重量部の範囲で、好ましくは０．０１
〜５．０重量部、さらに好ましくは０．０５〜２．０重
量部の範囲で用いられる。酸触媒の使用割合が０．００
１重量部未満では架橋触媒としての効果が不十分であ
り、一方、１０重量部を超えて添加すると、得られる架
橋体（架橋樹脂フィルム）の透明性低下、加熱時の揮発
成分の増加などが生じてしまい、好ましくない。

【００６４】本発明の環状オレフィン系付加型共重合体
と混合および／または縮合して配合されてその樹脂フィ
ルムを形成する化合物としては、下記化合物（Ａ）およ
び（Ｂ）が挙げられる（これら配合物を総称して、以下
「配合物（１）」という）。

【００６５】化合物（Ａ）：下記式（３）で表されるオ
ルガノシラン（以下、「オルガノシラン（１）」とい
う。）、オルガノシラン（１）の加水分解物、およびオ
ルガノシラン（１）の縮合物から選択された少なくとも
１種 （Ｒ⁷）_pＳｉ（ＯＲ⁸）_4-P ………（３） ［式（３）中、Ｒ⁷は、２個存在する場合には同一また
は異なり、炭素数１〜１０の有機基を示し、Ｒ⁸は同一
または異なり、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数
１〜６のアシル基を示し、ｐは０〜２の整数である。］ 化合物（Ｂ）：シリカ、アルミナ、ジルコニアおよびチ
タニアの群から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物

【００６６】これら配合物（１）を添加することによ
り、線膨張係数の小さい、すなわち寸法安定性の良いフ
ィルムシートが得られる、という効果がある。

【００６７】ここで、上記オルガノシラン（１）の加水
分解物は、オルガノシラン（１）に含まれるＲ⁸がすべ
て加分解されている必要はなく、例えば、１個だけが加
水分解されているもの、２個以上が加水分解されている
もの、あるいはこれらの混合物であってもよい。また、
上記オルガノシラン（１）の縮合物は、オルガノシラン
（１）の加水分解物のシラノール基が縮合してＳｉ−Ｏ
−Ｓｉ結合を形成したものであるが、本発明では、シラ
ノール基がすべて縮合している必要はなく、僅かな一部
のシラノール基が縮合したもの、縮合の程度が異なって
いるものの混合物などをも包含した概念である。

【００６８】式（３）において、Ｒ⁷の炭素数は１〜１
０、好ましくは１〜８である。Ｒ¹の１価の有機基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ
−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプ
チル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基などの
アルキル基や、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル
基、バレリル基、ベンゾイル基、トリオイル基、カプロ
イル基などのアシル基、ビニル基、アリル基、シクロヘ
キシル基、フェニル基、グリシジル基、（メタ）アクリ
ルオキシ基、ウレイド基、アミド基、フルオロアセトア
ミド基、イソシアナート基などのほか、これらの基の置
換誘導体などを挙げることができる。

【００６９】Ｒ⁷の置換誘導体における置換基として
は、例えば、ハロゲン原子、置換もしくは非置換のアミ
ノ基、水酸基、メルカプト基、イソシアナート基、グリ
シドキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、（メ
タ）アクリルオキシ基、ウレイド基、アンモニウム塩基
などを挙げることができる。ただし、これらの置換誘導
体からなるＲ⁷の炭素数は、置換基中の炭素原子を含め
て２０以下である。式（３）中に、Ｒ⁷が２個存在する
ときは、相互に同一でも異なってもよい。また、Ｒ⁸の
炭素数１〜５のアルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−
ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペン
チル基などを挙げることができ、炭素数１〜６のアシル
基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブ
チリル基、バレリル基、カプロイル基などを挙げること
ができる。

【００７０】このようなオルガノシラン（１）の具体例
としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｉ−プロ
ポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシランなどのテト
ラアルコキシシラン類；メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、
エチルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシ
シラン、ｎ−プロピルトリエトキシシラン、ｉ−プロピ
ルトリメトキシシラン、ｉ−プロピルトリエトキシシラ
ン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリエ
トキシシラン、ｎ−ペンチルトリメトキシシラン、ｎ−
ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘプチルトリメトキ
シシラン、ｎ−オクチルトリメトキシシラン、ビニルト
リメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、シクロ
ヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリエト
キシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルト
リエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシ
ラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３，
３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、
３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラ
ン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミ
ノプロピルトリエトキシシラン、２−ヒドロキシエチル
トリメトキシシラン、２−ヒドロキシエチルトリエトキ
シシラン、２−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラ
ン、２−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、３−
ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、３−ヒドロキ
シプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピ
ルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエ
トキシシラン、３−イソシアナートプロピルトリメトキ
シシラン、３−イソシアナートプロピルトリエトキシシ
ラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、
３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−
（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキ
シシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エ
チルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリルオキシ
プロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アタクリル
オキシプロピルトリエトキシシラン、３−ウレイドプロ
ピルトリメトキシシラン、３−ウレイドプロピルトリエ
トキシシランなどのトリアルコキシシラン類；ジメチル
ジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチ
ルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジ−
ｎ−プロピルジメトキシシラン、ジ−ｎ−プロピルジエ
トキシシラン、ジ−ｉ−プロピルジメトキシシラン、ジ
−ｉ−プロピルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジメ
トキシシラン、ジ−ｎ−ブチルジエトキシシラン、ジ−
ｎ−ペンチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−ペンチルジエ
トキシシラン、ジ−ｎ−ヘキシルジメトキシシラン、ジ
−ｎ−ヘキシルジエトキシシラン、ジ−ｎ−ヘプチルジ
メトキシシラン、ジ−ｎ−ヘプチルジエトキシシラン、
ジ−ｎ−オクチルジメトキシシラン、ジ−ｎ−オクチル
ジエトキシシラン、ジ−ｎ−シクロヘキシルジメトキシ
シラン、ジ−ｎ−シクロヘキシルジエトキシシラン、ジ
フェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラ
ンなどのジアルコキシシラン類のほか、メチルトリアセ
チルオキシシラン、ジメチルジアセチルオキシシランな
どを挙げることができる。これらのうち、テトラアルコ
キシシラン類としては、テトラメトキシシラン、テトラ
エトキシシランが好ましく、トリアルコキシシラン類と
しては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキ
シシランが好ましく、さらに、ジアルコキシシラン類と
しては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキ
シシランが好ましい。

【００７１】本発明において、オルガノシラン（１）と
しては、特に、テトラアルコキシシランのみ、トリアル
コキシシランのみ、あるいは、テトラアルコキシシラン
１０〜９０モル％とトリアルコキシシラン１０〜９０モ
ル％との組み合わせが好ましい。テトラアルコキシシラ
ン、またはトリアルコキシシランを導入することより、
得られる塗膜の架橋度を増加させ、また、密着性を向上
させることができる。

【００７２】オルガノシラン（１）は、そのまま、ある
いは加水分解物および／または縮合物として使用され
る。また、上記加水分解縮合物は、オルガノシラン
（１）を加水分解・縮合して得られるのみならず、メチ
ルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、フェニ
ルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジエチ
ルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシランなどのク
ロロシラン化合物を加水分解・縮合して得ることもでき
る。

【００７３】オルガノシラン（１）が、加水分解・縮合
物として使用されるとき、該縮合物のポリスチレン換算
重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、好まし
くは、８００〜１００，０００、さらに好ましくは、
１，０００〜５０，０００である。

【００７４】オルガノシラン（１）の加水分解・縮合物
の市販品には、三菱化学（株）製のＭＫＣシリケート、
コルコート社製のエチルシリケート、東レ・ダウコーニ
ング社製のシリコンレジン、東芝シリコーン（株）製の
シリコンレジン、信越化学工業（株）製のシリコンレジ
ン、ダウコーニング・アジア（株）製のヒドロキシル基
含有ポリジメチルシロキサン、日本ユニカ（株）製のシ
リコンオリゴマーなどがあり、これらをそのまま、また
は縮合させて使用してもよい。

【００７５】これらの組成物において、上記の配合物
（１）の割合は、本発明の環状オレフィン系付加型共重
合体１００重量部に対して、２〜７０重量部の割合で、
好ましくは５〜５０重量部配合される。配合される化合
物の割合が２重量部未満では、フィルムまたはシートに
した際、耐溶剤性、寸法安定性などの効果が少ない。一
方、７０重量部を超えると、透明性が損なわれることが
多い。

【００７６】また、配合物（１）が加水分解・縮合によ
り無機粒子を生成する場合は、その粒径が１００μｍ以
下、好ましくは１０μｍ以下で重合体中に分散されるこ
とにより、組成物は光学的に透明でかつ耐熱性、寸法安
定性のよいものとなる。

【００７７】上記の配合物（１）を含む環状オレフィン
付加型共重合体の（架橋）樹脂フィルムでは、時々白濁
が生じてしまう場合がある。この問題を解決し、透明性
の高い（架橋）樹脂フィルムを再現よく製造するために
は、キャスト時あるいはそれ以前に、環状オレフィン付
加型共重合体と配合物（１）をグラフト化させて、重合
体中への配合物（１）の分散化率を向上させる手法をと
ることができる。具体的には、下記の金属触媒（１）の
作用（アルコキシシリル基の加水分解・縮合反応）によ
り、共重合体に含まれるアルコキシシリル基と配合物
（１）とのグラフト化が進行する。

【００７８】金属触媒（１） アルミニウム（Ａｌ）化合物、ジルコニウム（Ｚｒ）化
合物、スズ（Ｓｎ）化合物、亜鉛（Ｚｎ）化合物、カル
シウム（Ｃａ）化合物、バリウム（Ｂａ）化合物、チタ
ン（Ｔｉ）化合物、スカンジウム（Ｓｃ）化合物、ラン
タニド（Ｇｄ、Ｙｂ、Ｓｍ、Ｎｄなど）化合物、アンチ
モン（Ｓｂ）化合物、イットリウム（Ｙ）化合物、セリ
ウム（Ｃｅ）化合物など。

【００７９】具体例としては、 ［アルミニウム化合物の具体例］トリ−ｉ−プロポキシ
アルミニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・エチルアセトアセ
テートアルミニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・アセチルア
セトナートアルミニウム、ｉ−プロポキシ・ビス（エチ
ルアセトアセテート）アルミニウム、ｉ−プロポキシ・
ビス（アセチルアセトナート）アルミニウム、トリス
（エチルアセトアセテート）アルミニウム、トリス（ア
セチルアセトナート）アルミニウム、モノアセチルアセ
トナート・ビス（エチルアセトアセテート）アルミニウ
ムなどの有機アルミニウム化合物

【００８０】［ジルコニウム化合物の具体例］テトラ−
ｎ−ブトキシジルコニウム、トリ−ｎ−ブトキシ・エチ
ルアセトアセテートジルコニウム、ジ−ｎ−ブトキシ・
ビス（エチルアセトアセテート）ジルコニウム、ｎ−ブ
トキシ・トリス（エチルアセトアセテート）ジルコニウ
ム、テトラキス（ｎ−プロピルアセトアセテート）ジル
コニウム、テトラキス（アセチルアセトアセテート）ジ
ルコニウム、テトラキス（エチルアセトアセテート）ジ
ルコニウムなどの有機ジルコニウム化合物；

【００８１】［スズ化合物の具体例］ Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ₃）₂、 Ｓｎ（ＯＣＯＣ₂Ｈ₅）₂、 Ｓｎ（ＯＣＯＣ₃Ｈ₇）₂、 Ｓｎ（ＯＣＯＣ₄Ｈ₉）₂、 Ｓｎ（ＯＣＯＣ₅Ｈ₁₁）₂、 Ｓｎ（ＯＣＯＣ₆Ｈ₁₃）₂、 Ｓｎ（ＯＣＯＣ₇Ｈ₁₅）₂、 Ｓｎ（ＯＣＯＣ₈Ｈ₁₇）₂、 Ｓｎ（ＯＣＯＣ₉Ｈ₁₉）₂、 Ｓｎ（ＯＣＯＣ₁₀Ｈ₂₁）₂、 Ｓｎ（ＯＣＯＣ₁₁Ｈ₂₃）₂、 Ｓｎ（ ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣＨ₃）₂、 Ｓｎ（ ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₄Ｈ₉）₂ Ｓｎ（ ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₈Ｈ₁₇）₂ Ｓｎ（ ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₁₆Ｈ₃₃）₂ Ｓｎ（ ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₁₇Ｈ₃₅）₂ Ｓｎ（ ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₁₈Ｈ₃₇）₂ Ｓｎ（ ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₂₀Ｈ₄₁）₂ （Ｃ₄Ｈ₉）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣ₁₁Ｈ₂₃）₂、 （Ｃ₄Ｈ₉）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣＨ₃）₂、 （Ｃ₄Ｈ₉）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₄Ｈ₉）₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣ₈Ｈ₁₇）₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣ₁₁Ｈ₂₃）₂、１ （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣＨ₃）₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ
₄Ｈ₉）₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ
₈Ｈ₁₇）₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₁₆Ｈ₃₃）
₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₁₇Ｈ₃₅）
₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₁₈Ｈ₃₇）
₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₂₀Ｈ₄₁）
₂ （Ｃ₄Ｈ₉）Ｓｎ（ＯＣＯＣ₁₁Ｈ₂₃）₃、 （Ｃ₄Ｈ₉）Ｓｎ（ＯＣＯＮａ）₃ などのカルボン酸型有機スズ化合物；

【００８２】 （Ｃ₄Ｈ₉）₂Ｓｎ（ＳＣＨ₂ＣＯＯＣ₈Ｈ₁₇）₂、 （Ｃ₄Ｈ₉）₂Ｓｎ（ＳＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＣ₈Ｈ₁₇）₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＳＣＨ₂ＣＯＯＣ₈Ｈ₁₇）₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＳＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＣ₈Ｈ₁₇）₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＳＣＨ₂ＣＯＯＣ₁₂Ｈ₂₅）₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ（ＳＣＨ₂ＣＨ₂ＣＯＯＣ₁₂Ｈ₂₅）₂、 （Ｃ₄Ｈ₉）Ｓｎ（ＳＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ₈Ｈ₁₇）₃、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）Ｓｎ（ＳＣＯＣＨ＝ＣＨＣＯＯＣ
₈Ｈ₁₇）₃、 などのメルカプチド型有機スズ化合物

【００８３】（Ｃ₄Ｈ₉）₂Ｓｎ＝Ｓ、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂Ｓｎ
＝Ｓ、 などのスルフィド型有機スズ化合物；

【００８４】（Ｃ₄Ｈ₉）ＳｎＣｌ₃、（Ｃ₄Ｈ₉）₂ＳｎＣ
ｌ₂、 （Ｃ₈Ｈ₁₇）₂ＳｎＣｌ₂、 などのクロライド型有機スズ化合物

【００８５】（Ｃ₄Ｈ₉）₂ＳｎＯ、（Ｃ₈Ｈ₁₇）₂ＳｎＯ
などの有機スズオキサイドや、これらの有機スズオキサ
イドとシリケート、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジ
エチル、フタル酸ジオクチルなどのエステル化合物との
反応生成物

【００８６】［スズ化合物の具体例］酢酸亜鉛、オクタ
ン酸亜鉛

【００８７】［カルシウム化合物の具体例］酢酸カルシ
ウム、オクタン酸カルシウム

【００８８】［バリウム化合物の具体例］酢酸バリウ
ム、オクタン酸バリウム

【００８９】［チタン化合物の具体例］テトラ−ｉ−プ
ロポキシチタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（エチ
ルアセトアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プロポキシ
・ビス（アセチルアセテート）チタニウム、ジ−ｉ−プ
ロポキシ・ビス（アセチルアセトン）チタニウム

【００９０】［スカンジウム化合物の具体例］スカンジ
ウムトリイソプロポキシド

【００９１】［ランタニド化合物の具体例］Ｇｄ、Ｙ
ｂ、Ｓｍ、Ｎｄなどのイソプロポキドやブトキシド

【００９２】［アンチモン化合物の具体例］酢酸アンチ
モン、アンチモンエチレングリコキシド

【００９３】［イットリウム化合物の具体例］イットリ
ウムトリイソプロポキシド、イットリウムトリス（アル
ミニウムテトライソプロポキシド）

【００９４】［セリウム化合物の具体例］トリイソプロ
ポキシセリウム、三塩化セリウムなどが挙げられる。

【００９５】金属触媒（１）は、単独でまたは２種以上
を混合して使用することができ、また亜鉛化合物やその
他の反応遅延剤と混合して使用することもできる。

【００９６】金属触媒（１）の使用量は、前述のオルガ
ノシラン (１)中に含まれるＯＲ⁸１モルに対して、通
常、０〜１０モル、好ましくは、０．００１〜７モル、
さらに好ましくは、０．００１〜５モルである。この場
合、有機金属化合物（１）の使用量が１０モル以内であ
れば、組成物の保存安定性に優れるほか、塗膜強度に優
れクラックが発生しにくくなる傾向がある。

【００９７】本発明の環状オレフィン系付加型共重合体
を含む樹脂フィルムは、溶液キャスティング法（溶液流
延法）により製造することができる。キャスティング法
によるフィルムの製造は、環状オレフィン系付加型共重
合体の有機溶媒（該共重合体の重合溶媒など）に、該共
重合体と、酸触媒（例えば、加水分解して酸を発生する
化合物）、さらに必要に応じて前述の配合物（１）、さ
らに必要に応じて前述の金属触媒（１）を均一に混合し
てなる溶液を、所定の温度で所定時間反応、あるいは熟
成し、必要に応じてキャスティングに適当な濃度に濃
縮、あるいは希釈してから、平滑なフッ素系樹脂板やガ
ラス板に、Ｔ型ダイなどを用いて流延し、溶媒を蒸発除
去し、必要に応じてさらに加熱して行なわれる。キャス
ト溶媒として用いられる溶媒は、重合体の種類によりそ
の溶解性が異なるが、炭化水素化合物、ハロゲン化炭化
水素化合物、エーテル類、エステル類、ケトン類、アミ
ン類、アミド類、アルコール類、フェノール類、スルフ
ォキシド類などから１種以上選んで用いられる。溶媒の
量は、重合体１００重量部あたり、１〜１０，０００重
量部、好ましくは１０〜５，０００重量部の範囲で用い
られる。また、キャスティング前に、各成分の溶解度や
粘度を調整するため、あるいは、キャスティングを容易
にするために、溶媒の一部または全部を別の溶媒に置換
することもできる。

【００９８】このキャストフィルムの架橋反応は、前述
のようにフィルムを水あるいは水蒸気下で加熱して行わ
れる。前述の酸触媒（架橋触媒）を添加しない場合で
は、水蒸気下で加熱してもシロキサン結合は形成され
ず、全く架橋されない。また、重合体のアルコキシシラ
ン含量に対して、十分水が供給されないと、架橋が不十
分なものになる。反応温度は、５０℃以上、好ましくは
６０℃〜３００℃の範囲で、さらに好ましくは８０℃〜
２５０℃で、特に好ましくは１００℃〜２００℃の範囲
である。５０℃未満の温度ではほとんど架橋されず、一
方、３００℃を超える温度では、重合体が熱分解する可
能性が高まる。架橋反応の時間は、目的とする架橋の度
合い、反応系の状態、重合体の種類、触媒の量、触媒の
種類により適宜選択されるが、通常、１分〜１，０００
時間、好ましくは５分〜１００時間、さらに好ましくは
１０分〜５０時間である。

【００９９】本発明の架橋体（架橋樹脂フィルム）は、
２５℃のトルエンで測定される膨潤度が５００％未満で
あることが好ましく、３００％以下であることがさらに
好ましい。トルエン膨潤度が５００％以上であるもので
は、ガラス代替品として使用する場合、耐薬品性、耐溶
剤性、加熱時の寸法安定性などが不十分である場合があ
る。なお、この膨潤度の測定は、後記する方法で測定し
た値である。架橋体の膨潤度は、架橋触媒の量、反応温
度、および反応時間により、容易に調整することができ
る。

【０１００】また、下記に示すフィルム用途より、本発
明の架橋樹脂フィルムの線膨張係数は、好ましくは６５
（ｐｐｍ/℃）以下、より好ましくは６０（ｐｐｍ/℃）
以下である。

【０１０１】本発明の透明（架橋）樹脂フィルムは、シ
リル基を有するためガラスとの親和性が大であり、石英
ガラスへの密着試験における剥離ブロックの割合が２５
ブロック中、好ましくは５ブロック以下、より好ましく
は３ブロック以下、特に好ましくは１ブロック以下であ
る。

【０１０２】本発明の組成物には、公知の酸化防止剤、
例えば２，６−ジ−ｔ−ブチル，４−メチルフェノー
ル、４，４’−チオビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチ
ルフェノール）、１，１’−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）シクロヘキサン、２，２’−メチレンビス（４−
エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ
−ブチルヒドロキノン、ペンタエリスリチル−テトラキ
ス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオネート、などのフェノール系、ヒドロ
キノン系酸化防止剤；さらにトリス（４−メトキシ−
３，５−ジフェニル）ホスファイト、トリス（ノニルフ
ェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチ
ルフェニル）ホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔ−ブ
チル−４−メチルフェニル）ペンタエリストールジホス
ファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペ
ンタエリスリトールジホスファイトなどのリン系酸化防
止剤を添加して、酸化安定性を向上させることができ
る。これらの酸化防止剤の添加量は、本発明の環状オレ
フィン付加型共重合体と、配合物（１）の合計１００重
量部に対して、通常、０．１〜５重量部、好ましくは
０．２〜３重量部である。酸化防止剤の使用量が少なす
ぎる場合には耐久性の改良効果が不十分であり、多すぎ
る場合には成形表面がブリードしたり、透明性が低下す
るなどの問題点が生じ好ましくない。

【０１０３】また、本発明の組成物には、紫外線吸収
剤、例えば２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−
ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどを添加す
ることによって安定化することができる。また、加工性
を向上させる目的で滑剤などの添加剤を添加することも
できる。

【０１０４】上述のようにして、本発明の環状オレフィ
ン系付加型共重合体組成物からなる透明樹脂を用いて得
られた（架橋）樹脂フィルムは、そのまま液晶表示装置
あるいはＥＬ表示装置などの表示装置用フィルムとして
使用できる。

【０１０５】本発明の表示装置用フィルムの厚さは、通
常、５〜６００μｍ、好ましくは１０〜５００μｍ、さ
らに好ましくは２５〜４００μｍであり、用途により適
宜決められる。本発明の表示装置用フィルムは、レター
デーションのバラツキが小さいことが望ましく、波長６
３３ｎｍにおけるレターデーションのバラツキが±２０
％以下であることが好ましい。レターデーションのバラ
ツキが±２０％の範囲外であると、光学的に均一なフィ
ルムとは言い難くなり、表示装置に用いた場合、ディス
プレイの画像が歪んだりするなど良好な表示性能が得ら
れにくい。本発明においてレターデーション値は、エリ
プソメーター〔溝尻光学（株）製ＤＶＡ−３６ＬＳ〕を
用いて波長６３３ｎｍの光で測定した値である。

【０１０６】本発明の液晶基板フィルムは、上述の表示
装置用フィルムを使用してなるもので、通常、厚さ２５
〜４００μｍ、厚さムラは全面で厚さの±３０％以下、
Ｒｍａｘ値が０．２μｍ以下であり、好ましくは、厚さ
ムラが全面で厚さの±２０％以下、Ｒｍａｘ値が０．１
μｍ以下である。厚さムラが大きい、または表面平滑性
に劣る場合には、液晶表示装置の画面の歪みが生じる。

【０１０７】本発明の偏光フィルムは、ＰＶＡ系フィル
ムなどをベースとした偏光膜に、本発明の表示装置用フ
ィルムを保護層として貼り合せて製造することができ
る。保護層の厚さは、通常、５〜５００μｍ、好ましく
は１０〜３００μｍ、さらに好ましくは２０〜２００μ
ｍである。偏光フィルムの偏光膜に保護層を積層するに
は、粘着剤や接着剤を用いることができる。これらの粘
着剤、接着剤としては、透明性に優れたものが好まし
く、具体例としては天然ゴム、合成ゴム、酢酸ビニル／
塩化ビニルコポリマー、ポリビニルエーテル、アクリル
系、変性ポリオレフィン系、およびこれらにイソシアナ
ートなどの硬化剤を添加した硬化型粘着剤、ポリウレタ
ン系樹脂溶液とポリイソシアナート系樹脂溶液を混合す
るドライラミネート用接着剤、合成ゴム系接着剤、エポ
キシ系接着剤などが挙げられる。

【０１０８】本発明で使用する偏光膜は、偏光子として
の機能を有するものであれば、特に限定されない。例え
ば、ＰＶＡ・ヨウ素系偏光膜、ＰＶＡ系フィルムに二色
性染料を吸着配向させた染料系偏光膜、また、ＰＶＡ系
フィルムより脱水反応を誘起させたり、ポリ塩化ビニル
フィルムの脱塩酸反応により、ポリエンを形成させたポ
リエン系偏光膜、分子内にカチオン基を含有する変性Ｐ
ＶＡからなるＰＶＡ系フィルムの表面および／または内
部に二色性染料を有する偏光膜などが挙げられる。偏光
膜の製造方法も特に限定されない。例えば、ＰＶＡ系フ
ィルムを延伸後ヨウ素イオンを吸着させる方法、ＰＶＡ
系フィルムを二色性染料による染色後延伸する方法、Ｐ
ＶＡ系フィルムを延伸後二色性染料で染色する方法、二
色性染料をＰＶＡ系フィルムに印刷後延伸する方法、Ｐ
ＶＡ系フィルムを延伸後二色性染料を印刷する方法など
の公知の方法が挙げられる。より具体的には、ヨウ素を
ヨウ化カリウム溶液に溶解して、高次のヨウ素イオンを
作り、このイオンをＰＶＡフィルムに吸着させて延伸
し、次いで１〜４重量％ホウ酸水溶液に浴温度３０〜４
０℃で浸漬して偏光膜を製造する方法、あるいはＰＶＡ
フィルムを同様にホウ酸処理して一軸方向に３〜７倍程
度延伸し、０．０５〜５重量％の二色性染料水溶液に浴
温度３０〜４０℃で浸漬して染料を吸着し、８０〜１０
０℃で乾燥して熱固定して偏光膜を製造する方法などが
ある。

【０１０９】本発明で使用する表面保護フィルムは、上
述の偏光フィルムの製造において、偏光膜に貼り合せた
フィルムと同じものである。表示装置用の薄膜部品に対
して、表面を保護するために、該部品の片面あるいは両
面に貼り合わせて使用される。

【０１１０】本発明で使用する位相差フィルムは、上述
の表示装置用フィルムを使用してなるもので、これを延
伸配向もしくは表面プレスして製造することができる。
延伸前のシートの厚さは、通常、２５〜５００μｍ、好
ましくは５０〜４００μｍ、さらに好ましくは１００〜
３００μｍである。延伸方法としては公知の一軸延伸
法、すなわちテンター法による横一軸延伸法、ロール間
圧縮延伸法、周縁の異なるロールを利用する縦一軸延伸
法を用いることができる。また、分子の配向に影響のな
い範囲で延伸した後、分子を配向させるべく一軸方向に
延伸する二軸延伸であってもよい。上記のようにして得
たフィルムは、延伸により分子が配向し、一定のレター
デーション値を持つが、レターデーションは、延伸前の
シートのレターデーションと延伸倍率、延伸温度、延伸
配向フィルムの厚さにより制御することができる。延伸
前のシートが一定の厚さの場合、延伸倍率が大きいフィ
ルムほどレターデーションの絶対値が大きくなる傾向が
あるので、延伸倍率を変更することによって所望のレタ
ーデーションの延伸配向フィルムを得ることができる。

【０１１１】本発明において、上記の方法によって得た
フィルムは、偏光顕微鏡によるレターデーションの測定
値が５〜９００ｎｍのものが用いられる液晶ディスプレ
イの種類や形状によってそれぞれ好ましいレターデーシ
ョンの範囲が異なるが、例えばＴＦＴ方式による液晶表
示装置に用いられる偏光フィルムでは、透明性が特に高
いことが必要であり、光学的に均一でレターデーション
が１０〜８０ｎｍの小さなものが好適に用いられる。

【０１１２】本発明の透明導電性フィルムは、本発明の
透明樹脂からなるフィルムに透明導電層を形成したもの
である。透明導電層を形成するための素材としては、Ｓ
ｎ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｐｔ、Ａｇなどの金属、
またはそれらの酸化物が一般的に使用される。これらの
金属は、液晶基板フィルム上に、プラズマ法、スパッタ
リング法、真空蒸着法、メッキ、イオンプレーティング
法、スプレー法、電解析出法などによって、通常、厚さ
１０〜１０,０００オングストローム、好ましくは５０
〜５,０００オングストロームに被膜される。金属単体
をフィルム上に形成したときは、必要に応じてその後、
酸化することもできる。当初から酸化物層として付着形
成させる方法もあるが、最初は金属単体または低級酸化
物の形態で被膜を形成し、しかるのち、加熱酸化、陽極
酸化あるいは液相酸化などの酸化処理を施して透明化す
ることもできる。透明導電膜の比抵抗は、１００オーム
ｃｍ以下であることが好ましい。

【０１１３】本発明の光拡散フィルムは、本発明の透明
樹脂からなるフィルムの片面に、拡散機能を有する形状
のパターンを形成することにより製造することができ
る。ここで、拡散機能を有する形状のパターンは、エン
ボス加工、あるいは、紫外線などの光硬化性樹脂を塗布
してパターンを形成させる方法の他に、各種コート材を
塗布して形成することもできる。本発明のフィルム上に
パターンを形成するために用いられる光硬化性樹脂とし
ては、例えば、（メタ）アクリロイル基などのエチレン
性二重結合をその分子内に少なくとも１個以上有する化
合物１種以上と光重合開始剤とを配合した組成物、エポ
キシ基などの開環反応性を有する基をその分子内に少な
くとも１個有する化合物１種以上と光カチオン反応開始
剤とを配合した組成物、ゼラチンと重クロム酸塩とを配
合した組成物、環化ゴムとビスアジド系感光剤とを配合
した組成物、ノボラック樹脂とキノンアジド系感光剤と
を配合した組成物などをあげることができる。また、フ
ィルムの表面は、光硬化性樹脂を塗布する前に、その付
着性を制御するために、プラズマ処理などの物理的下地
処理、あるいは、従来のゴム系、樹脂系、特にアクリル
系、シリコン系などの各種コート材による化学的下地処
理を施していても良い。

【０１１４】光拡散フィルムを通って拡散した光を、表
示装置の視野角に集めて、表示装置の輝度を向上させる
ためのプリズムシートは、透明フィルム面に微小なプリ
ズム角を付したものであるが、上記の光拡散フィルムと
同様にして、本発明の透明樹脂からなるフィルム面に、
プリズム角のパターンをエンボス加工、あるいは、紫外
線などの光硬化性樹脂を塗布してパターンを形成させる
などの方法により製造することができる。本発明の（架
橋）樹脂フィルムは、ＥＬ表示装置用フィルムとしても
有用である。このＥＬ表示装置用フィルムとしては、上
記液晶表示装置にも使用されている、基板フィルム、偏
光フィルム、表面保護フィルム、透明導電フィルムなど
が挙げられる。もちろん、これらフィルムの特性など
は、必ずしも液晶表示装置用の場合と同じとは限らな
い。また、本発明の（架橋）樹脂フィルムの表面に、透
明導電性膜を形成させることにより、透明導電性複合材
料として、使用することができる。この透明導電性複合
材料としては、上記液晶表示装置あるいはＥＬ表示装置
用の電極フィルムのほか、ＣＲＴなどの電子機器の電磁
波防止フィルムとしても有用である。さらに、本発明の
（架橋）樹脂フィルムの表面に、該フィルムの表面と接
する層がＳｉＯ_x（０．８≦ｘ≧１．８）からなり、最
外層がＳｉＯ₂からなる層である反射防止膜を形成させ
ることにより、反射防止フィルムとして用いることがで
きる。この反射防止フィルムは、耐熱性に優れるため、
上記液晶表示装置あるいはＥＬ表示装置だけでなく、プ
ラズマディスプレイやフィールドエミッションディスプ
レイなどにも有用である。

【０１１５】本発明の表示装置用各種フィルムは、隣接
して使用する場合、予め一体化しておくと部品数の削
減、表示装置の厚さの減少、軽量化などの利点がある。
例えば、液晶基板フィルムと偏光フィルム、位相差フィ
ルムと透明導電フィルム、光拡散フィルムとプリズムシ
ート、偏光フィルムと光拡散フィルムなどである。一体
化には、両膜間に接着層および／またはアンカーコート
層を形成して接着する。この接着層としては、エポキシ
樹脂、ポリイミド、ポリブタジエン、フェノール樹脂、
ポリエーテルエーテルケトンなどの耐熱樹脂を例示する
ことができる。またアンカーコート層としては、エポキ
シジアクリレート、ウレタンジアクリレート、ポリエス
テルジアクリレートなどのいわゆるアクリルプレポリマ
ーなどを成分として含むものが用いられる。硬化の方法
は公知の手法を用いることができ、例えばＵＶ硬化や熱
硬化などが用いられる。本発明の表示装置用フィルム
は、優れた光学透明性、耐熱性、耐吸湿性、耐液晶性、
寸法安定性、接着・密着性を有するので、液晶表示装置
およびＥＬ表示装置の製造に好適に使用でき、これら表
示装置は、パソコン、テレビ、携帯電話、ディジタル情
報端末、ポケットベル（登録商標）、ナビゲーション、
液晶モニター、調光パネル、ＯＡ機器用ディスプレイ、
ＡＶ機器用ディスプレイなどに用いることができる。

【０１１６】

【実施例】以下、本発明を実施例によってさらに具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例によって何ら制限
を受けるものでない。また、分子量、膨潤度、ガラス転
移温度、耐液晶性、全光線透過率、複屈折率は、下記の
方法で測定した。

【０１１７】（１）重量平均分子量、数平均分子量 ウオ−ターズ（ＷＡＴＥＲＳ）社製１５０Ｃ型ゲルパー
ミエションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置で東ソー
（株）製Ｈタイプカラムを用い、o-ジクロロベンゼンを
溶媒として、１２０℃で測定した。得られた分子量は標
準ポリスチレン換算値を示す。 （２）金属原子量 （株）日立製作所製Z-9000形原子吸光分光光度計を用
い、ニッケルおよびアルミニウムの標準溶液〔和光純薬
工業（株）〕により作成した検量線を基に、共重合体中
の残存金属原子を定量した。 （３）トルエン膨潤度 厚さ５０〜５００ミクロン、縦２cm × 横２cmのフィル
ムまたはシートを２５℃のトルエンに３時間浸漬し、浸
漬前後の重量比から膨潤度を算出した。まったく膨潤し
ないものを１００％とした。 （４）ガラス転移温度 本発明の環状オレフィン系付加型共重合体のガラス転移
温度は、走査型示差熱量系（ＤＳＣ）の測定では、不明
確で測定されないことが多いため、動的粘弾性で測定さ
れるＴａｎδ（貯蔵弾性率Ｅ'と損失弾性率Ｅ''との比
Ｅ'／Ｅ″＝Ｔａｎδ）のピーク温度で規定した。動的
粘弾性の測定は、レオバイブロンＤＤＶ−０１ＦＰ（オ
リエンテック株式会社製）を用い、測定周波数が１０Ｈ
ｚ、昇温速度が４℃／分、加振モードが単一波形、加振
振幅が２．５μｍの条件で行った。 （５）全光線透過率 ＡＳＴＭ−Ｄ１００３に準拠し、厚さ100μｍのフィル
ムの全光線透過率を測定した。 （６）線膨張係数 ＴＭＡ(Thermal Mechanical Analysis)/SS6100 (セイコ
ーインスツルメント社製)を用いて、膜厚100μｍ、幅3
mm、長さ10 cmの試料を、チャック間距離10 mmで固定
し、室温から200 ℃ 程度まで一旦昇温して残留ひずみ
をとった後、室温から3℃／min. で昇温し、チャック間
距離の伸びから線膨張率を求めた。 （７）耐液晶性 厚さ５０〜５００ミクロン、縦横２ｃｍ×２ｃｍの本評
価用試料をＴＦＴ用液晶〔メルクジャパン（株）製 Ｚ
ＬＩ５０８１〕中に浸漬し、1滴（約２０mg）滴下し、
大気下１５０℃で1時間加熱した後のフィルム表面の変
化を目視で評価した。評価基準は下記のとおりである。 ◎；形状変化なし。 ○；やや膨潤する。 △；膨潤する。 ×；溶解などで、形状くずれる。 （８）接着性・密着性：本評価用フィルム上にアルミニ
ウムを蒸着し、この蒸着膜に対して、カッターにより、
１ｍｍ×１ｍｍの碁盤目が１０個×１０個形成されるよ
うに、切り込みを入れ、セロハンテープによる剥離試験
を行ない、２５ブロック中における剥離したブロックの
数を測定した。なお、石英ガラスに対する密着性評価に
おいては、本発明組成物を石英ガラスに乾燥塗膜５〜１
０μｍになるよう塗布し、９０℃で乾燥・硬化した後に
上記同様のセロハンテープによる剥離試験を行なった。 （９）複屈折（ｎｍ） エリプソメーター〔（株）溝尻光学工業所製〕により測
定した。

【０１１８】参考例１（共重合体aの合成） 単量体として２−ノルボルネン５９３．７５ミリモル、
５−トリエトキシ−２−ノルボルネン３１．２５ミリモ
ル、溶媒としてトルエン５００ｇ、分子量調節剤（１，
５−シクロオクタジエン）０．２５ミリモルを容量１リ
ットルの反応器に窒素下で仕込んだ。反応系を１０℃に
して、予めオクタン酸ニッケル〔Ｎｉ（オクトエート）
₂］と六フッ化アンチモン酸を−１５℃でモル比１：１
で反応させたニッケル化合物を０．２５ミリモル、トリ
フルオロホウ素ジエチルエーテル錯体を２．２５ミリモ
ル、トリエチルアルミニウム２．５ミリモルを仕込み、
重合を行った。３０℃で１時間重合を行い、イソプロピ
ルアルコールで重合を停止した。共重合体への添加率は
９５％であった。共重合体溶液に乳酸６ｇを加え、触媒
成分と反応させた。共重合体溶液を４リットルのイソプ
ロパノールに入れて共重合体を凝固し、未反応単量体と
触媒残磋を除去した。凝固した共重合体を乾燥し、共重
合体aを得た。共重合体ａの２７０ＭＨｚ ¹Ｈ−ＮＭＲ
による（３．８〜４．０ppmのエトキシシリル基メチレ
ン吸収、溶媒はｄ化トルエン、ＴＭＳ基準）分析で、５
−トリエトキシシリル−２−ノルボルネンに由来する構
造体の含有量は５．０モル％であった。また、共重合体
aのポリスチレン換算の数平均分子量は８７，０００、
重量平均分子量は２１１，０００であった。重合体中残
存ニッケルは０．１ppm以下、残存アルミニウムは１．
６ppmであった。

【０１１９】参考例２（共重合体bの合成） 単量体として２−ノルボルネン５６２．５ミリモル、５
−トリエトキシ−２−ノルボルネン６２．５ミリモルと
した以外は、実施例１と同様の方法で重合を行い、共重
合体bを得た。共重合体ｂの２７０ＭＨｚ ¹Ｈ−ＮＭＲ
による（４ppmのエトキシシリル基メチレン吸収、溶媒
はｄ化トルエン、ＴＭＳ基準）分析で、５−トリエトキ
シシリル−２−ノルボルネンに由来する構造体の含有量
は９．９モル％であった。また、共重合体bのポリスチ
レン換算の数平均分子量は８８，０００、重量平均分子
量は２２３，０００であった。重合体中残存ニッケルは
０．１ppm以下、残存アルミニウムは１．２ppmであっ
た。

【０１２０】参考例３（共重合体cの合成） 単量体として２−ノルボルネン５３１．２３ミリモル、
５−トリエトキシ−２−ノルボルネン６２．５０ミリモ
ル、８−メチル−８−メトキシカルボニル−３−テトラ
シクロ〔４．４．０．１^2,5 １^7,10〕ドデセン３１．
２５ミリモルとした以外は、実施例１と同様の方法で重
合を行い、共重合体cを得た。共重合体cの２７０ＭＨｚ
¹Ｈ−ＮＭＲによる（４ppmのエトキシシリル基メチレ
ン吸収、溶媒はd化トルエン、ＴＭＳ基準）分析で、５
−トリエトキシシリル−２−ノルボルネンに由来する構
造体の含有量は９．９モル％であった。共重合体ｃ中の
８−メチル，８−メトキシカルボニル−３−テトラシク
ロ〔４．４．０．１^2,5．１^7,10〕ドデセンに由来する
構造体の割合は，赤外分析１,７３０ ｃｍ^-1の特性吸収
による検量線から、４．９モル％であった。また、共重
合体ｃのポリスチレン換算の数平均分子量は８９，００
０、重量平均分子量は２５６，０００であった。重合体
中残存ニッケルは０．１ppm以下、残存アルミニウムも
０．１ppm以下であった。

【０１２１】実施例１〔共重合体aの架橋フィルム作成
(P添加、Sn無し)〕 共重合体a１０ｇを水分７０ppmを含むトルエン４０ｇに
溶解して、共重合体１００重量部に対して、酸化防止剤
としてペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５
−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート〕１．０重量部を添加した。酸触媒（架橋触媒）
として、トリブトキシホスファイト ０．５重量部を添
加後、この溶液をステンレス製シャーレに流し込み、４
０℃、３時間かけてキャストした。生成したフィルムを
１５０℃で２時間乾燥させた後、１５０℃の水蒸気下で
４時間熱処理した。その後、真空下２３０℃で１時間乾
燥することにより、厚さ１００μｍの無色透明のフィル
ムを得た。フィルム作成条件および得られたフィルムの
状態、膨潤度を表１に示す。

【０１２２】実施例２〔共重合体a の架橋フィルム作成
（P, Sn添加）〕 実施例１で調製したキャスト溶液に、さらにジオクチル
スズ（ＩＩ）添加したこと以外は、実施例１と同条件下
で架橋フィルムを作成した。結果を表１に示す。

【０１２３】実施例３〔共重合体a + TEOS複合系の架橋
フィルム作成（P添加Sn添加）〕 実施例１で調製したキャスト溶液に、さらにテトラエト
キシシラン（ＴＥＯＳ）を２ｇとジオクチルスズ（Ｉ
Ｉ）を添加したこと以外は、実施例１と同条件下でフィ
ルムを作成した。フィルムのトルエン膨潤度は160%, 線
膨張係数は45 ppm/℃ となった。結果を表１に示す。

【０１２４】実施例４〔共重合体a + TEOS複合系の架橋
フィルム作成 （P 添加, Sn無し）〕 実施例１で調製したキャスト溶液に、さらにテトラエト
キシシラン（ＴＥＯＳ）を２ｇ添加したこと以外は、実
施例１と同条件下で架橋フィルムを作成した。このフィ
ルムはやや白濁し、全光線透過率は８５％となった。結
果を表１に示す。

【０１２５】実施例５〔共重合体b + TEOS複合系の架橋
フィルム作成 (P, Sn添加)〕 共重合体ａの代わりに共重合体ｂを用いたこと以外は、
実施例２と同条件下でフィルムを作成した。結果を表１
に示す。

【０１２６】実施例６〔共重合体c + TEOS複合系の架橋
フィルム作成 (P, Sn添加)〕 共重合体ａの代わりに共重合体ｃを用いたこと以外は、
実施例１と同条件下でフィルムを作成した。結果を表１
に示す。

【０１２７】比較例１〔共重合体aの架橋フィルム作成
（P無し, Sn無し）〕 トリブトキシホスファイトを添加しなかった以外は、実
施例１と同条件下でフィルムを作成した。この条件で
は、全く架橋しなかった。結果を表１に示す。

【０１２８】比較例２〔共重合体aの架橋フィルム作成
（P無し、Sn添加）〕 トリブトキシホスファイトを添加せず、代わりにジオク
チルスズ（ＩＩ）を添加したこと以外は、実施例１と同
条件下でフィルムを作成した。この条件では、ほとんど
架橋しなかった。結果を表１に示す。

【０１２９】比較例３〔共重合体aの架橋フィルム作成
（P, Sn添加、４０℃温水処理）〕 水蒸気（１５０℃）の代わりに、４０℃の温水中でフィ
ルムを加熱したこと以外は、実施例１と同じ操作でフィ
ルムを作成した。この条件では、全く架橋しなかった。
結果を表１に示す。

【０１３０】比較例４〔共重合体a + TEOS複合系の架橋
フィルム作成（P無し、Sn添加）〕 トリブトキシホスファイトを添加しなかったこと以外
は、実施例２と同条件下でフィルムを作成した。この条
件では、ほとんど架橋しなかった。結果を表１に示す。

【０１３１】

【表１】

【０１３２】実施例７ 液晶表示装置用フィルム、液晶基板フィルムの製造：実
施例３で作成した架橋フィルムの波長６３３ｎｍにお
けるレターデーションのバラツキは±５％であった。得
られたフィルムに、水／アルコール（５０／５０重量
比）を溶剤成分とするイオン高分子錯体〔東ソー（株）
製トヨバイン２１０Ｋ〕からなるアンカー剤溶液を塗布
し、９０℃で５分間乾燥して、水系アンカーコート層
を形成させた。この水系アンカーコート層の上に、ウレ
タン系接着剤〔武田薬品工業（株）製タケラックＡー３
７１〕と硬化剤〔武田薬品工業（株）製タケネ−トＡ−
１０〕からなる接着剤層を形成させた。さらに、この
接着剤層の上に、エチレンービニルアルコール共重合体
／２色性染料系偏光膜を重ね、８０℃、圧力３ｋｇ／
ｃｍ²で熱圧して積層一体化した。次いで、この偏光膜
面に、酸化インジウム／酸化スズ（重量比９５：５）か
らなるターゲットを用いて透明導電層をスパッタリン
グ法により形成させた。これにより、透明電極／偏光
膜／接着剤層／水系アンカーコート層／基板層
からなる積層構造を有する液晶表示パネルが得られた。
この積層体の基板層と偏光膜層の密着性は良好で剥
離は全く認められなかった。また、８０℃、９０％相対
湿度の条件で耐久試験を行なったところ、１，０００時
間の段階でこの積層体に異常は認められず、耐久性は良
好であった。

【０１３３】実施例８ 表面保護フィルムの製造：実施例３で調製した混合溶液
に、合計１００重量部に対して、ステアリル−β−
（３．５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネートを１重量部、トリス（２，４−ジ−ｔ−
ブチルフェニル）ホスファイトを０．１重量部添加し、
キャスティング法により、厚さ８０μｍのフィルムを作
製し、保護フィルムとした。このフィルムのガラス転移
温度は３４０℃であった。また波長６３３ｎｍにおける
レターデーションのバラツキは±５％と小さい値であっ
た。

【０１３４】実施例９ 偏光フィルムの製造：厚さ５０μｍのポリビニルアルコ
ールフィルムを沃素５．０ｇ、ヨウ化カリウム２５０
ｇ、ほう酸１０ｇ、水１０００ｇからなる４０℃の浴に
浸漬しながら約５分間で４倍まで一軸延伸した。得られ
たフィルムを緊張を保ちながらアルコールで表面を洗浄
後風乾し、偏光膜を得た。このポリビニルアルコール製
偏光膜に、ｎ−ブチルアクリレート９０重量％、エチル
アクリレート７重量％、アクリル酸３重量％からなるア
クリル系樹脂１００重量部とトリレンジイソシアナート
（３モル）のトリメチロールプロパン（１モル）付加物
の７５重量％酢酸エチル溶液２重量部からなる架橋剤を
混合して得られた粘着剤を用いて、上記の保護フィルム
を積層した。この積層体の両層の密着性は良好で剥離は
認められなかった。また、８０℃、９０％の相対湿度で
の耐久試験を行なったところ、１,０００時間の段階で
偏光フィルムに異常は認められず耐久性は良好であっ
た。

【０１３５】実施例１０ 位相差フィルムの製造：実施例３で調製した混合溶液を
用いて、キャスティング法により厚さ１００μｍのフィ
ルムを作製した。このフィルムを温度３００℃で一軸方
向に延伸して厚さ８０μｍの位相差フィルムを得た。こ
のフィルムの波長６３３ｎｍにおけるレターデーション
は１３６μｍであり、またレターデーションのバラツキ
は±５％と小さい値となった。また、４５０ｎｍ〜７５
０ｎｍの波長範囲におけるレターデーションの波長分散
性（α）は１．０１であった。

【０１３６】実施例１１ 透明導電性フィルムの製造：実施例３の手法で、縦２０
０ｍｍ、横２００ｍｍ、厚さ０．１ｍｍのフィルムを作
成した。得られたフィルム上にスパッター機（中外炉工
業）を用いて以下の条件でインジウム−スズ酸化物（Ｉ
ＴＯ）膜を形成した。 電源 MHzの高周波電源 基板温度 ７０℃ ターゲット In₂O₃ / SnO₂ = 90 / 10 (重量比) の合
金 雰囲気 アルゴンガス流入下 スパッター速度 270オングストローム／分 スパッター圧力 10^-2 Torr 得られたＩＴＯの膜の厚さは2,500オングストローム、
比抵抗は1.5×10^-3オームcmであり、透明導電性複合材
料の400〜800 nmにおける光透過率は84%であった。得ら
れた透明導電性複合材料とＩＴＯ膜との密着性について
ＪＩＳ Ｋ−５４００（８，５，２盤番目試験）により
試験したところ、全く剥離は認められなかった。さら
に、得られた透明導電性複合材料を温度90℃、湿度95％
の条件下に一週間保存した後の導電特性および外観には
全く変化が認められなかった。

【０１３７】実施例１２ ＥＬ表示装置の製造：ＩＴＯ膜が形成された５ｃｍ角の
ガラス基板上にキノリノール錯体溶液を塗布した後、溶
剤の除去処理を行なうことにより、厚みが５０ｎｍのエ
レクトロルミネッセンス層を形成した。次いで、エレク
トロルミネッセンス層上に、トリスキノリノラートアル
ミナムよりなる厚みが６０ｎｍの電子輸送発光層を形成
し、この電子輸送発光層上に、蒸着法によって厚みが１
００ｎｍの５ｍｍ角のマグネシウム／銀アロイ（重量比
１０：１）膜（陰極層）を形成した。さらに、ＩＴＯ膜
が形成されたガラス基板のＩＴＯ膜と反対側に、上記の
位相差フィルムと市販偏光フィルム〔日東電工（株）製
ＮＰＦ−Ｆ１２２５ＤＵ〕の積層体を積層して、ＥＬ
表示装置を製造した。製造したＥＬ表示装置は、色調；
黒、品位；外景色の映り込みなし、光反射率（％）；
０．２、密着性；剥離なし、高温高湿での耐久性；異常
はなし、の評価結果であった。このように本発明の位相
差フィルムを用いたＥＬ表示装置は、背面電極からの反
射光を遮断して、外部の景色が写らないようにすること
ができ、明るいところでも非常に見やすいＥＬ表示装置
を得ることができた。

【０１３８】実施例１３ 光拡散複合シートの製造：実施例３の手法で、厚さ０．
１ｍｍのフィルムを作成した。得られたフィルム上に、
メチルエチルケトン／エチレングリコール（４０／０.
１重量比）を溶媒成分とする塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体１０ｇからなる溶液を塗布、乾燥して厚さ３０μ
ｍの樹脂膜を形成させた。次に、このフイルムを８０℃
の熱水中に４５分間浸せきしてから取り出し、乾燥して
厚さ１３０μｍの光拡散複合シートを得た。この場合に
おいて、透明樹脂膜の光透過率は７５％であり、粒径２
〜８μｍの範囲の単独気泡であった。

【０１３９】実施例１４ 反射防止フィルムの製造：実施例３で調製した混合溶液
を用いて、キャスティング法により厚さ１００μｍのフ
ィルムを作製した。このフィルムの表面に、10 ^-4 Torr
の真空下でＳｉＯを８２５nmの膜厚で蒸着を行った。次
に、ＳｉＯ₂を１３０ｎｍの膜厚で蒸着した。さらに、
ＺｒＯ₂とＴｉＯ₂の混合物を１３０ｎｍの膜厚で蒸着し
た。さらに、最外層としてＳｉＯ₂を２４８ｎｍの膜厚
で蒸着して、反射防止フィルムを得た。この反射防止フ
ィルムの光線透過率は９０％であり、また、複屈折は２
ｎｍと小さい値となった。

【０１４０】

【発明の効果】本発明の環状オレフィン系付加型共重合
体を含有する組成物からなる透明な（架橋）樹脂フィル
ムを用いた表示装置用フィルムは、光学透明性、耐熱
性、耐液晶性、寸法安定性、接着性を持ち、液晶表示装
置およびＥＬ表示装置における基板ガラスの代替品とし
て好適に用いられることをはじめ、これらの装置の偏光
フィルム、表面保護フィルム、位相差フィルム、透明導
電性フィルム、光拡散フィルム、ＥＬ表示装置用フィル
ム、透明導電性複合材料、反射防止フィルムなどに用い
ることができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｋ 3/22 Ｃ０８Ｋ 3/22 ４Ｆ０７１ 3/36 3/36 ４Ｆ１００ 5/5415 5/5415 ４Ｊ００２ Ｃ０８Ｌ 45/00 Ｃ０８Ｌ 45/00 ４Ｊ１００ 83/04 83/04 Ｇ０２Ｂ 1/04 Ｇ０２Ｂ 1/04 1/11 5/02 Ｃ 5/02 5/30 5/30 Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５００ 1/1335 1/1335 ５１０ ５１０ 1/13363 1/13363 Ｇ０２Ｂ 1/10 Ａ (72)発明者 橋口 裕一 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 (72)発明者 丸山 洋一郎 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 (72)発明者 大嶋 昇 東京都中央区築地二丁目11番24号 ジェイ エスアール株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 BA04 BA12 BA14 BA20 2H049 BA02 BA06 BA42 BB22 BB48 BB62 BC09 BC22 2H090 JB03 JB08 JB09 JB13 JD06 JD12 JD15 LA01 2H091 FA08X FA08Z FA11X FA11Z FA32Z FA37X FB02 FC08 FC09 FD06 KA02 LA02 LA04 LA06 2K009 AA03 BB12 CC03 CC42 DD03 4F071 AA21 AA67 AB18 AB26 AC16 AH19 BA02 BB02 BC01 BC17 4F100 AA20B AK02A AT00A BA02 BA03 BA10B BA25 GB41 JN06 4J002 BK001 DE096 DE136 DE146 DJ016 FD016 GP00 4J100 AR09P AR09R AR11P AR11Q AR11R BA06Q BA11P BA15P BA20R BA71P BA72P BA75P BA77P CA04 FA09 JA32 JA45

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記式（１）で示される繰り返し単位
   （ａ）と下記式（２）で示される繰り返し単位（ｂ）を
   含む環状オレフィン系付加型共重合体を含有する環状オ
   レフィン系付加型共重合体組成物からなることを特徴と
   する樹脂フィルム。 【化１】 ［式（１）中、Ａ¹〜Ａ⁴はそれぞれ独立して、水素原
   子、炭素数１〜２０の炭化水素基、または、 −（ＣＲ¹Ｒ²）_fＳｉ（ＯＲ³）_gＲ⁴ _(3-g)、 −（ＣＲ¹Ｒ²）_fＳｉ（Ｒ³Ｒ⁴）ＯＳｉ（ＯＲ³）_gＲ⁴
   _(3-g)、 −（ＣＲ¹Ｒ²）_fＣ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）_hＳｉ（ＯＲ³）_g
   Ｒ⁴ _(3-g) で表されるアルコキシシリル基、アリロキシシリル基を
   示し、Ａ¹〜Ａ⁴の少なくとも一つはアルコキシシリル
   基、アリロキシシリル基を示す。ここで、Ｒ¹，Ｒ²はそ
   れぞれ独立して、水素原子または炭素数１〜２０の炭化
   水素基を示し、Ｒ³は炭素数１〜１０のアルキル基、ア
   ルケニル基、アリール基またはシクロアルキル基を示
   し、Ｒ⁴は水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜２
   ０の炭化水素基を示し、ｆ，ｈは０〜５の整数、ｇは１
   〜３の整数を示す。また、Ｙは−ＣＨ₂−または−Ｏ−
   を示し、ｍは０または１を示す。］ 【化２】 ［式（２）中、Ｂ¹，Ｂ²，Ｂ³，Ｂ⁴はそれぞれ独立し
   て、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール
   基、アルケニル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、
   ハロゲン化炭化水素基、または−（ＣＨ₂）_jＸで表され
   る極性基示す。ここで、Ｘは−Ｃ(Ｏ)ＯＲ⁵、または−
   ＯＣ(Ｏ)Ｒ⁶であり、Ｒ⁵，Ｒ⁶は炭素数１〜２０のアル
   キル基、アルケニル基、アリール基、シクロアルキル
   基、またはこれらのハロゲン置換基、ｊは０〜５の整数
   を示す。また、Ｂ¹〜Ｂ⁴にはＢ¹とＢ²またはＢ³とＢ⁴で
   形成されるアルキリデニル基、Ｂ¹とＢ⁴、Ｂ¹とＢ³、ま
   たはＢ²とＢ⁴で形成されるシクロアルキレン基、シクロ
   アルケニレン基も含まれる。ｎは０から２の整数を示
   す。］
2. 【請求項２】 請求項１記載の環状オレフィン系付加型
   共重合体組成物に、さらに下記化合物（Ａ）および／ま
   たは（Ｂ）を含有する請求項１記載の樹脂フィルム。 化合物（Ａ）：下記式（３）で表されるオルガノシラ
   ン、該オルガノシランの加水分解物、および該オルガノ
   シランの縮合物の群から選ばれる少なくとも１種 （Ｒ⁷）_pＳｉ（ＯＲ⁸）_4-P ………（３） ［式（３）中、Ｒ⁷は、２個存在する場合には同一また
   は異なり、炭素数１〜１０の有機基を示し、Ｒ⁸は同一
   または異なり、炭素数１〜５のアルキル基または炭素数
   １〜６のアシル基を示し、ｐは０〜２の整数である。］ 化合物（Ｂ）：シリカ、アルミナ、ジルコニアおよびチ
   タニアの群から選ばれた少なくとも１種の金属酸化物
3. 【請求項３】 有機溶媒に請求項１または２記載の環状
   オレフィン系付加型共重合体組成物を混合して溶液と
   し、溶液キャスト法にてフィルム化する工程を含む製造
   方法によって得られる請求項１または２記載の樹脂フィ
   ルム。
4. 【請求項４】 請求項１〜３いずれか１項記載の環状オ
   レフィン系付加型共重合体組成物がシロキサン結合によ
   って架橋していることを特徴とする樹脂フィルム
5. 【請求項５】 請求項１〜４いずれか１項記載の（架
   橋）樹脂フィルムを使用することを特徴とする液晶表示
   装置の液晶基板フィルム。
6. 【請求項６】 請求項１〜４いずれか１項記載の（架
   橋）樹脂フィルムを使用することを特徴とする液晶表示
   装置の偏光フィルム。
7. 【請求項７】 請求項１〜４いずれか１項記載の（架
   橋）樹脂フィルムを使用することを特徴とする液晶表示
   装置の表面保護フィルム。
8. 【請求項８】 請求項１〜４いずれか１項記載の（架
   橋）樹脂ムフィルムを使用することを特徴とする液晶表
   示装置の位相差フィルム。
9. 【請求項９】 請求項１〜４いずれか１項記載の（架
   橋）樹脂フィルムを使用することを特徴とする液晶表示
   装置の透明導電性フィルム。
10. 【請求項１０】 請求項１〜４いずれか１項記載の（架
    橋）樹脂フィルムを使用することを特徴とする液晶表示
    装置の光拡散フィルム。
11. 【請求項１１】 請求項１〜４いずれか１項記載の（架
    橋）樹脂フィルムを使用することを特徴とするＥＬ表示
    装置用フィルム。
12. 【請求項１２】 請求項１〜４いずれか１項記載の（架
    橋）樹脂フィルムの表面に、透明導電性膜を形成してな
    ることを特徴とする透明導電性複合材料。
13. 【請求項１３】 請求項１〜４いずれか１項記載の（架
    橋）樹脂フィルムの表面に、該フィルムの表面と接する
    層がＳｉＯ_x（０．８≦ｘ≧１．８）からなり、最外層
    がＳｉＯ₂からなる層である反射防止膜が形成されてな
    ることを特徴とする反射防止フィルム。