JP2021051112A - 円偏光板、その製造方法、樹脂層形成用組成物及び表示装置 - Google Patents
円偏光板、その製造方法、樹脂層形成用組成物及び表示装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2021051112A JP2021051112A JP2019172319A JP2019172319A JP2021051112A JP 2021051112 A JP2021051112 A JP 2021051112A JP 2019172319 A JP2019172319 A JP 2019172319A JP 2019172319 A JP2019172319 A JP 2019172319A JP 2021051112 A JP2021051112 A JP 2021051112A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- layer
- forming
- composition
- liquid crystal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 title claims abstract description 213
- 239000011347 resin Substances 0.000 title claims abstract description 213
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 85
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 230000010287 polarization Effects 0.000 title abstract description 33
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 title abstract description 28
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 124
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 86
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims abstract description 32
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 218
- -1 polyparaphenylene Polymers 0.000 claims description 66
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 47
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 239000011254 layer-forming composition Substances 0.000 claims description 40
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 33
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 27
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 22
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 22
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 16
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 claims description 15
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 claims description 15
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 claims description 14
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 claims description 11
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 claims description 11
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 claims description 11
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 11
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 claims description 9
- 230000002535 lyotropic effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims description 9
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 claims description 8
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 claims description 7
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 claims description 7
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims description 7
- 239000002952 polymeric resin Substances 0.000 claims description 7
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 7
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 claims description 5
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 5
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 claims description 5
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 claims description 4
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 claims description 4
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 claims description 4
- 239000004760 aramid Substances 0.000 claims description 4
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 claims description 4
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 claims description 4
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims description 4
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 claims description 4
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 claims description 4
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 68
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 29
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 29
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 27
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 25
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 25
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 23
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 22
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 17
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 17
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 15
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 12
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 10
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 125000003647 acryloyl group Chemical group O=C([*])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 9
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 9
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 8
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 7
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 7
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 7
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 150000001851 cinnamic acid derivatives Chemical class 0.000 description 6
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 6
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 6
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 6
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 6
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YQNRVGJCPCNMKT-LFVJCYFKSA-N 2-[(e)-[[2-(4-benzylpiperazin-1-ium-1-yl)acetyl]hydrazinylidene]methyl]-6-prop-2-enylphenolate Chemical compound [O-]C1=C(CC=C)C=CC=C1\C=N\NC(=O)C[NH+]1CCN(CC=2C=CC=CC=2)CC1 YQNRVGJCPCNMKT-LFVJCYFKSA-N 0.000 description 4
- 101100462537 Caenorhabditis elegans pac-1 gene Proteins 0.000 description 4
- 101100117764 Mus musculus Dusp2 gene Proteins 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 4
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000002274 desiccant Substances 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 4
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 3
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 3
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 3
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 3
- 210000003109 clavicle Anatomy 0.000 description 3
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 description 3
- 238000007607 die coating method Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 3
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 3
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical compound C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 7H-purine Chemical compound N1=CNC2=NC=NC2=C1 KDCGOANMDULRCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004976 Lyotropic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000004974 Thermotropic liquid crystal Substances 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 2
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 2
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol monomethyl ether acetate Natural products COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 2
- FGVRVIQOADVJOL-UHFFFAOYSA-N hydroxy-tris(4-methylphenyl)silane Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1[Si](O)(C=1C=CC(C)=CC=1)C1=CC=C(C)C=C1 FGVRVIQOADVJOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 2
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001634 microspectroscopy Methods 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N o-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC=C1C(O)=O ZWLPBLYKEWSWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003566 oxetanyl group Chemical group 0.000 description 2
- YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N phenanthrene Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C=CC2=C1 YNPNZTXNASCQKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical group 0.000 description 2
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 2
- 235000013824 polyphenols Nutrition 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 1,1-Dichloroethane Chemical compound CC(Cl)Cl SCYULBFZEHDVBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVIJLEREXMVRAN-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-cyclohexylbenzene Chemical compound C1=CC(Br)=CC=C1C1CCCCC1 LVIJLEREXMVRAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-methoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOC CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 10H-phenothiazine Chemical compound C1=CC=C2NC3=CC=CC=C3SC2=C1 WJFKNYWRSNBZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSQZJKGXDGNDFP-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3,3-pentafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)(F)F PSQZJKGXDGNDFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 2,2,3,3-tetrafluoropropan-1-ol Chemical compound OCC(F)(F)C(F)F NBUKAOOFKZFCGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTINFTOOVNKGIU-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyethoxycarbonyl)benzoic acid Chemical compound OCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O NTINFTOOVNKGIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical class COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethyl acetate Chemical compound CCCCOCCOC(C)=O NQBXSWAWVZHKBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical class O1C(=NCC1)* 0.000 description 1
- MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran Chemical compound C1OC=CC=C1 MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 3-[bis(2,4-dioxopentan-3-yl)alumanyl]pentane-2,4-dione Chemical compound CC(=O)C(C(C)=O)[Al](C(C(C)=O)C(C)=O)C(C(C)=O)C(C)=O XBIUWALDKXACEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRUWJENAYHTDQG-UHFFFAOYSA-N 4H-pyran Chemical compound C1C=COC=C1 MRUWJENAYHTDQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound C1C(COC(=O)C(=C)C)CCC2OC21 FYYIUODUDSPAJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N Benzopyrane Chemical compound C1=CC=C2C=CCOC2=C1 KYNSBQPICQTCGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 229920008347 Cellulose acetate propionate Polymers 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical group OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- WRYCSMQKUKOKBP-UHFFFAOYSA-N Imidazolidine Chemical compound C1CNCN1 WRYCSMQKUKOKBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N Indole Chemical compound C1=CC=C2NC=CC2=C1 SIKJAQJRHWYJAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021193 La 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- YZHYXCXCAGKIOG-UHFFFAOYSA-N OC(=O)C(C)=C(C)CC1CCO1 Chemical compound OC(=O)C(C)=C(C)CC1CCO1 YZHYXCXCAGKIOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Chemical class 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N Triphenylene Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=CC=C3C2=C1 SLGBZMMZGDRARJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229920006397 acrylic thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 description 1
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001339 alkali metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001118 alkylidene group Chemical group 0.000 description 1
- ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N alpha-methylcyclopentanone Natural products CC1CCCC1=O ZIXLDMFVRPABBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N ammonium bromide Chemical compound [NH4+].[Br-] SWLVFNYSXGMGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 101150059062 apln gene Proteins 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N benzarone Chemical compound CCC=1OC2=CC=CC=C2C=1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RFRXIWQYSOIBDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008366 benzophenones Chemical class 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- GMBHLHMRHUMBHU-UHFFFAOYSA-N butan-2-one;hydrochloride Chemical compound Cl.CCC(C)=O GMBHLHMRHUMBHU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid group Chemical group C(C=CC1=CC=CC=C1)(=O)O WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 1
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 150000004292 cyclic ethers Chemical group 0.000 description 1
- 150000004294 cyclic thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 229920005994 diacetyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 239000012847 fine chemical Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012760 heat stabilizer Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N hexabenzobenzene Natural products C1=C(C2=C34)C=CC3=CC=C(C=C3)C4=C4C3=CC=C(C=C3)C4=C2C3=C1 VPUGDVKSAQVFFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUKZAGXMHTUAFE-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid methyl ester Natural products CCCCCC(=O)OC NUKZAGXMHTUAFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003145 methacrylic acid copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N monoethanolamine hydrochloride Natural products NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N n'-[3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCNCCN YLBPOJLDZXHVRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N nitrogen Substances N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N nitromethane Chemical compound C[N+]([O-])=O LYGJENNIWJXYER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L palladium(ii) acetate Chemical compound [Pd+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O YJVFFLUZDVXJQI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- KJKJUXGEMYCCJN-UHFFFAOYSA-N parathiazine Chemical compound C12=CC=CC=C2SC2=CC=CC=C2N1CCN1CCCC1 KJKJUXGEMYCCJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950011293 parathiazine Drugs 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950000688 phenothiazine Drugs 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Chemical class 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 150000008442 polyphenolic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920006380 polyphenylene oxide Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920001290 polyvinyl ester Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N pyrazolidine Chemical compound C1CNNC1 USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000213 sulfino group Chemical group [H]OS(*)=O 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N tert-butyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C=C ISXSCDLOGDJUNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- 125000004665 trialkylsilyl group Chemical group 0.000 description 1
- VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(3-triethoxysilylpropyltetrasulfanyl)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCSSSSCCC[Si](OCC)(OCC)OCC VTHOKNTVYKTUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVMSIBFANXCZKT-UHFFFAOYSA-N triethyl(hydroxy)silane Chemical compound CC[Si](O)(CC)CC WVMSIBFANXCZKT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N trimethoxysilane Chemical compound CO[SiH](OC)OC YUYCVXFAYWRXLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N trimethylsilanol Chemical compound C[Si](C)(C)O AAPLIUHOKVUFCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDCWDBMBZLORER-UHFFFAOYSA-N triphenyl borate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OB(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 MDCWDBMBZLORER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005580 triphenylene group Chemical group 0.000 description 1
- COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N tris(2-methylphenyl)phosphane Chemical compound CC1=CC=CC=C1P(C=1C(=CC=CC=1)C)C1=CC=CC=C1C COIOYMYWGDAQPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L zinc;octanoate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCC([O-])=O CHJMFFKHPHCQIJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003755 zirconium compounds Chemical class 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3025—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state
- G02B5/3033—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid
- G02B5/3041—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks
- G02B5/305—Polarisers, i.e. arrangements capable of producing a definite output polarisation state from an unpolarised input state in the form of a thin sheet or foil, e.g. Polaroid comprising multiple thin layers, e.g. multilayer stacks including organic materials, e.g. polymeric layers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3016—Polarising elements involving passive liquid crystal elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/30—Polarising elements
- G02B5/3083—Birefringent or phase retarding elements
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
Description
図1に示す本発明の一実施形態に係る円偏光板100は、基板11、位相差層12、樹脂層13及び偏光層14がこの順に積層されてなる積層体である。円偏光板100は、基板11と、位相差層形成用組成物から形成される位相差層12と、偏光層形成用組成物から形成される偏光層14とを有し、さらに位相差層12と偏光層14との間に、樹脂層形成用組成物から形成される樹脂層13を有する。位相差層形成用組成物は、第1の液晶化合物及び水を含む。偏光層形成用組成物は、第2の液晶化合物及び水を含む。樹脂層形成用組成物は、樹脂及び有機溶媒を含む。各組成物中の水及び有機溶媒は、最終的には各層に残存していなくてよく、一部は残存していてもよい。
本発明の一実施形態に係る円偏光板の製造方法は、
基板上に、第1の液晶化合物及び水を含む位相差層形成用組成物の塗布により位相差層を形成する工程(位相差層形成工程)、
上記位相差層上に、樹脂及び有機溶媒を含む樹脂層形成用組成物の塗布により樹脂層を形成する工程(樹脂層形成工程)、及び
上記樹脂層上に、第2の液晶化合物及び水を含む偏光層形成用組成物の塗布により偏光層を形成する工程(偏光層形成工程)
を備える。
本工程は、円偏光板の基板を準備する工程である。基板は、光、特に可視光を透過し得る透明性を有する基板であることが好ましい。透明性とは、波長380〜780nmに渡る光線に対しての透過率が80%以上となる特性をいう。
本工程は、基板上に、位相差層形成用組成物の塗布により位相差層を形成する工程である。位相差層形成用組成物は、基板上に直接塗布してもよいし、他の層を介して塗布してもよい。
位相差層形成用組成物は、第1の液晶化合物及び水を含む。第1の液晶化合物は、通常、光学異方性により位相差性を発現できる化合物である。このような化合物としては、芳香環を主鎖骨格に有する重合体や、芳香環が複数結合して共役系を形成している化合物が好ましい。芳香環を主鎖骨格に有する重合体、及び芳香環が複数結合して共役系を形成している化合物は、少量で高粘度を示し、水を溶媒として含むことで光学異方性を有する液晶を発現することも可能となる。
本工程は、上記位相差層形成工程にて得られた位相差層上に、樹脂層形成用組成物の塗布により樹脂層を形成する工程である。樹脂層形成用組成物は、通常、位相差層上に直接塗布される。
樹脂層形成用組成物は、樹脂及び有機溶媒を含む。
上記樹脂は、透明樹脂であることが好ましい。上記樹脂としては、ポリオルガノシロキサン、ポリ環状オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド(アラミド)系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂又はこれらの組み合わせであることが好ましい。これらの各樹脂には、いずれも変性されたものも含まれる。
上述のポリ環状オレフィン系樹脂は、単量体として環状オレフィンを含む重合体である。ポリ環状オレフィン系樹脂としては、下記式(X0)で表される単量体及び下記式(Y0)で表される単量体からなる群より選ばれる少なくとも1つの単量体から得られる樹脂、又は必要に応じてさらにその樹脂を水素添加することで得られる樹脂が好ましい。
(i)水素原子
(ii)ハロゲン原子
(iii)トリアルキルシリル基
(iv)酸素原子、硫黄原子、窒素原子又はケイ素原子を含む連結基を有する、置換又は非置換の炭素数1〜30の炭化水素基
(v)置換又は非置換の炭素数1〜30の炭化水素基
(vi)極性基(但し(iv)を除く)
(vii)Rx1とRx2又はRx3とRx4とが、相互に結合して形成されたアルキリデン基を表し、該結合に関与しないRx1〜Rx4は、それぞれ独立に上述の(i)〜(vi)より選ばれる原子又は基を表す。
(viii)Rx1とRx2又はRx3とRx4とが、相互に結合して形成された単環若しくは多環の炭化水素環又は複素環を表し、その結合に関与しないRx1〜Rx4は、それぞれ独立に上述の(i)〜(vi)より選ばれる原子又は基を表す。あるいは、Rx2とRx3とが、相互に結合して形成された単環の炭化水素環又は複素環を表し、その結合に関与しないRx1〜Rx4は、それぞれ独立に上記(i)〜(vi)より選ばれる原子又は基を表す。
(ix)Ry1とRy2とが、相互に結合して形成された単環又は多環の脂環式炭化水素、芳香族炭化水素又は複素環を表す。
上述の芳香族ポリエーテル系樹脂は、下記式(I)で表される構造単位及び下記式(II)で表される構造単位からなる群より選ばれる少なくとも1つの構造単位を有することが好ましい。
上述のポリイミド系樹脂としては、特に制限されず、繰り返し単位にイミド結合を含む高分子化合物であればよい。ポリイミド系樹脂は、例えば、特開2006−199945号公報や特開2008−163107号公報に記載されている方法で合成することができる。
上述のフルオレンポリカーボネート系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリカーボネート樹脂であればよい。フルオレンポリカーボネート系樹脂は、例えば、特開2008−163194号公報に記載されている方法で合成することができる。
上述のフルオレンポリエステル系樹脂としては、特に制限されず、フルオレン部位を含むポリエステル樹脂であればよい。フルオレンポリエステル系樹脂は、例えば、特開2010−285505号公報や特開2011−197450号公報に記載されている方法で合成することができる。
上述のフッ素化芳香族ポリマー系樹脂としては、特に制限されないが、少なくとも1つのフッ素を有する芳香族環と、エーテル結合、ケトン結合、スルホン結合、アミド結合、イミド結合及びエステル結合からなる群より選ばれる少なくとも1つの結合を含む繰り返し単位とを含有するポリマーが挙げられる。フッ素化芳香族ポリマー系樹脂は、例えば、特開2008−181121号公報に記載されている方法で合成することができる。
ポリオルガノシロキサンとは、有機基を有するポリシロキサンである。有機基としては、置換又は非置換の炭化水素基、カルボキシ基、シアノ基、後述する重合性基、光配向性基、これらを組み合わせた基等を挙げることができる。
アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル酸エステルの単独重合体又は共重合体である。アクリル系樹脂は、(メタ)アクリル酸エステル以外のモノマーに由来する構造単位を含んでいてもよい。
ポリビニルアルコール系樹脂は、ビニルアルコール単位を含む樹脂である。ポリビニルアルコール系樹脂は、通常、ポリビニルエステル系樹脂をけん化することにより得られる。ポリビニルアルコール系樹脂は、ビニルエステルに由来する構造単位以外の構造単位を有していてもよい。
樹脂層形成用組成物に含まれる樹脂は、市販品を用いることもできる。ポリ環状オレフィン系樹脂の市販品としては、例えばJSR株式会社製「アートン」、日本ゼオン株式会社製「ゼオノア」、三井化学株式会社製「APEL」、ポリプラスチックス株式会社製「TOPAS」等を挙げることができる。ポリエーテルサルホン系樹脂の市販品としては、例えば住友化学株式会社製「スミカエクセルPES」等を挙げることができる。ポリイミド系樹脂の市販品としては、例えば三菱ガス化学株式会社製「ネオプリムL」等を挙げることができる。ポリカーボネート系樹脂の市販品としては、例えば帝人株式会社製「ピュアエース」等を挙げることができる。フルオレンポリカーボネート系樹脂の市販品としては、例えば三菱ガス化学株式会社製「ユピゼータEP−5000」等を挙げることができる。フルオレンポリエステル系樹脂の市販品としては、例えば大阪ガスケミカル株式会社製「OKP4HT」等を挙げることができる。アクリル系樹脂の市販品としては、例えば株式会社日本触媒製「アクリビュア」、日油株式会社製「マープルーフG−0105SA」、共栄社化学株式会社製「ライトアクリレートDCP−A」等を挙げることができる。
樹脂層形成用組成物に用いる有機溶媒としては、特に限定されず、樹脂を安定に溶解又は分散できる溶媒であれば、特に限定されない。
樹脂層形成用組成物は、必要に応じて、重合開始剤、重合性化合物、硬化促進剤、レベリング剤、帯電防止剤、熱安定剤、光安定剤、酸化防止剤、分散剤、難燃剤、滑剤、可塑剤、透明ナノ粒子、シランカップリング剤等のその他の成分を含有することができる。
本工程は、上記樹脂層形成工程にて得られた樹脂層上に、偏光層形成用組成物の塗布により偏光層を形成する工程である。偏光層形成用組成物は、樹脂層上に直接塗布してもよいし、他の層(例えば、配向膜等)を介して塗布してもよい。但し、生産性等の点からは、樹脂層上に直接偏光層形成用組成物を塗布し、偏光層を設けることが好ましい。
偏光層形成用組成物は、第2の液晶化合物及び水を含む。偏光層形成用組成物は、通常、二色性色素を含む。第2の液晶化合物の一部又は全部が二色性色素であってもよいし、第2の液晶化合物とは別に二色性色素を用いてもよい。第2の液晶化合物とは別に二色性色素を用いる場合も、第2の液晶化合物の配向に沿って二色性色素が配向する。
本発明の一実施形態に係る円偏光板は、様々な表示装置等に用いることができる。表示装置とは、表示素子を有する装置であり、表示素子は発光源として発光素子を含んでいてよい。表示装置としては、例えば液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、無機エレクトロルミネッセンス(EL)表示装置、電子放出表示装置(例えば電場放出表示装置(FED)、表面電界放出表示装置(SED)等)、電子ペーパー(電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置(例えばグレーティングライトバルブ(GLV)表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)を有する表示装置等)、タッチパネル型表示装置、及び圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置などのいずれをも含む。例えば、液晶表示装置における液晶セル、有機EL表示装置における有機EL素子、タッチパネル表示装置におけるタッチパネル等がそれぞれ表示素子である。
Mw及びMnは、以下の条件におけるGPCにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム:東ソー(株)製、TSKgelGRCXLII
溶媒:テトラヒドロフラン
温度:40℃
圧力:68kgf/cm2
エポキシ当量は、JIS C 2105に記載の塩酸−メチルエチルケトン法により測定した。
撹拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応容器に、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン70.5g、テトラエトキシシラン14.9g、エタノール85.4g及びトリエチルアミン8.8gを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水70.5gを滴下漏斗より30分かけて滴下した後、還流下で攪拌しつつ、80℃で2時間反応させた。反応溶液を濃縮し、酢酸n−ブチルで希釈する操作を2回繰り返すことにより、トリエチルアミン及び水を留去し、ポリオルガノシロキサン(SEp−1)を含む樹脂溶液を得た。1H−NMR分析を行ったところ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。このポリオルガノシロキサン(SEp−1)のMwは11,000、エポキシ当量は182g/モルであった。
以下の桂皮酸誘導体の合成反応は不活性雰囲気中で行った。冷却管を備えた500mLの三口フラスコに、1−ブロモ−4−シクロヘキシルベンゼン19.2g、酢酸パラジウム0.18g、トリス(2−トリル)ホスフィン0.98g、トリエチルアミン32.4g、及びジメチルアセトアミド135mLを混合した。この混合溶液に、シリンジでアクリル酸を7g加えて撹拌した。さらに、混合溶液を120℃で3時間、加熱しながら撹拌した。TLC(薄層クロマトグラフィー)で反応の終了を確認した後、反応溶液を室温まで冷却した。沈殿物をろ別した後、ろ液を1N塩酸水溶液300mLに注ぎ、沈殿物を回収した。回収した沈殿物を、酢酸エチルとヘキサンの1:1(質量比)溶液で再結晶することにより、下記式(M−1)で表される化合物(桂皮酸誘導体(M−1))を10.2g得た。
200mLの三口フラスコに、合成例1で得たエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン(SEp−1)27.9g、酢酸n−ブチル65.5g、合成例2で得た桂皮酸誘導体(M−1)4.0g、アクリロイル基を有するカルボン酸(アロニックスM−5300、東亜合成(株)製)2.6g及びテトラブチルアンモニウムブロミド0.9gを仕込み、80℃で12時間撹拌した。反応終了後、酢酸n−ブチルをさらに75g追加し、この溶液を3回水洗した後、酢酸n−ブチルをさらに100g追加し、固形分濃度10質量%となるように溶媒を留去した。これにより、光配向性基及びアクリロイル基を有するポリオルガノシロキサン(S−1)を含有する固形分濃度10質量%の酢酸n−ブチル溶液を得た。ポリオルガノシロキサン(S−1)の重量平均分子量Mwは18,000であった。
冷却管及び攪拌機を備えたフラスコに、重合開始剤として2,2’−アゾビス(イソブチロニトリル)1質量部、及び溶媒としてジエチレングリコールメチルエチルエーテル180質量部を仕込んだ。続いて、3,4−エポキシシクロヘキシルメチルメタクリレート70質量部及び3−メチル−3−オキセタニルメチルメタクリレート30質量部を加え、窒素置換した後、緩やかに攪拌を始めた。溶液温度を80℃に上昇させ、この温度を5時間保持し、エポキシ基を有するアクリル系樹脂(Pac−1)を含む樹脂溶液を得た。得られた樹脂溶液の固形分濃度は32.8質量%であった。得られたアクリル系樹脂(Pac−1)のMnは16,000であった。
合成例4で得られたエポキシ基を有するアクリル系樹脂(Pac−1)100質量部、アクリロイル基を有するカルボン酸(アロニックスM−5300、東亜合成(株)製)20質量部、触媒としてテトラブチルアンモニウムブロマイド10質量部、及び溶媒としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート150質量部を仕込み、窒素雰囲気下90℃で12時間撹拌した。反応終了後、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート100質量部で希釈し、3回水洗した。この溶液を濃縮し、酢酸ブチルで希釈する操作を2回繰り返し、アクリロイル基を有するアクリル系樹脂(Pac−2)を含む樹脂溶液を得た。得られたアクリル系樹脂(Pac−2)のMnは20,000であった。なお、得られた樹脂溶液のプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート含有量は20質量%であった。
特許第3907735号公報の段落[0073]に記載のポリマーNo.4(変性ポリビニルアルコール)を段落[0101]の記載に準じ、同公報の段落[0073]に記載のポリマーNo.4(メタアクリロイル基を有するポリビニルアルコール系樹脂(Pva−1))を合成した。
1.樹脂層形成用組成物の調製
樹脂として、合成例1で得たポリオルガノシロキサン(SEp−1)を含有する酢酸n−ブチル溶液を、ポリオルガノシロキサン(SEp−1)に換算して100質量部に相当する量、及び硬化促進剤として無水トリメリット酸(TA)20質量部を混合し、これに溶媒として、酢酸n−ブチル(BA)及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA)を加え、固形分濃度が3質量%、各溶媒の質量比がBA:PGMEA=80:20となるように調製した。次いで、この得られた溶液を孔径1μmのフィルターでろ過することにより、樹脂層形成用組成物(A−1)を調製した。
(1)基材の表面処理
国際公開第2015/008773号に記載の方法に従い、セルロースフィルム(富士フィルム社製「ゼロレターデーションタック ZRF25」、平均厚さ:25μm)の片面にアルカリけん化処理を行った。具体的には、以下のようにして行った。
セルロースフィルムを、温度60℃の誘電式加熱ロール上を通過させ、フィルム表面温度を40℃に昇温した後に、アルカリ溶液を、ロッドコーターを用いて塗布量17mL/m2で塗布し、110℃に加熱したスチーム式遠赤外線ヒーターの下に10秒間滞留させた。アルカリ溶液の組成は、水酸化カリウム8.6質量部、水24.1質量部、イソプロパノール56.3質量部、界面活性剤(C16H33O(CH2CH2O)10H)1.0質量部、及びプロピレングリコール10.0質量部とした。続いて、同じくロッドコーターを用いて蒸留水を2.8mL/m2塗布し、次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを3回繰り返し、70℃の乾燥ゾーンに5秒間滞留させて乾燥し、片面けん化処理フィルムを作製した。
米国特許第8895118号に記載の下記化合物(Ad−1)及び(RP−1)並びに水を含む組成物(位相差層形成用組成物)を調製した。上記(1)で得たけん化処理フィルムのけん化処理面に、得られた位相差層形成用組成物をバーコーターを用いて塗布し、圧縮空気にて乾燥して、平均厚さ3μmの塗膜(位相差層)を形成した。
上記(2)で得た位相差層上に、上記1.で調製した樹脂層形成用組成物(A−1)を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、オーブン内にて120℃で2分間ベークして平均厚さ0.1μmの塗膜(樹脂層)を形成した。
特表2011−513376号公報に記載の下記化合物(Ad−2)及び特表2009−511460号公報に記載の下記化合物(RP−2)並びに水を含む組成物(偏光層形成用組成物)を調製した。上記(3)で得た樹脂層上に、上記(2)で塗布した方向と45°をなす角に得られた偏光層形成用組成物をワイヤーバーコーターで塗布した。その後、圧縮空気にて乾燥して、平均厚さ0.9μmの塗膜(偏光層)を形成した。これにより、円偏光フィルムが得られた。
上記「2.円偏光フィルム(円偏光板)の作製」における(1)、(2)及び(3)を行い、光学異方フィルムを得た。
上記(1)で得たけん化処理フィルムのけん化処理面に、上記1.で調製した樹脂層形成用組成物(A−1)を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、オーブン内にて120℃で2分間ベークして平均厚さ0.1μmの塗膜(樹脂層)を形成した。
次いで、得られた樹脂層の上に、上記化合物(Ad−2)及び(RP−2)を含む組成物(偏光層形成用組成物)をワイヤーバーコーターで塗布した。その後、圧縮空気にて乾燥して、平均厚さ0.9μmの塗膜(偏光層)を形成した。これにより、偏光フィルムを得た。
(1)反射防止性(偏光性)
得られた円偏光フィルムについて、大塚電子社製の顕微分光膜厚計「OPTM−A1」を用いて、反射率を測定した。反射率が3%未満を「良好(A)」、3%以上7%未満を「可(B)」、7%以上を「不良(C)」と評価した。その結果、この実施例1では、反射防止性「良好(A)」の評価であった。
60℃の恒温槽に100時間保管した後に測定したこと以外は、上記(1)に示した方法で反射率を評価した。反射率の変化(Δ反射率:絶対値)が0.1%未満を「良好(A)」、0.1%以上0.5%未満を「可(B)」、0.5%以上を「不良(C)」と評価した。その結果、この実施例1では熱安定性「良好(A)」であった。
(1)位相差性
得られた光学異方フィルムについて、AXOMETRICS社製「Axo Step」を用いて、位相差を評価した。樹脂層(中間層)を形成しない光学異方フィルム(比較例2)と比較したときの位相差の差(Δ位相差:絶対値)が、3nm未満を「良好(A)」、3nm以上8nm未満を「可(B)」、8nm以上「不良(C)」と評価した。その結果、この実施例1では「良好(A)」であった。
60℃の恒温槽に100時間保管した後に測定したこと以外は、上記(1)に示した方法で位相差を測定した。位相差の変化(Δ位相差:絶対値)が、0.5nm未満を「良好(A)」、0.5nm以上1nm未満を「可(B)」、1nm以上を「不良(C)」と評価した。その結果、この実施例1では「良好(A)」であった。
(1)偏光度
偏光フィルムにつき、フィルムを透過する光の偏光状態を解析し、波長550nmにおけるフィルムの偏光度を評価した。なお、性能が良好であるほど、偏光度は1に近い値となり、完全非偏光の場合は0となる。評価は、偏光度が0.990以上を「良好(A)」、0.985以上0.990未満を「可(B)」、0.985未満を「不良(C)」とした。なお、偏光度は、AXOMETRICS社製「Axo Step」を用いて測定した。その結果、この実施例1では「良好(A)」の評価であった。
60℃の恒温槽に100時間保管した後に測定したこと以外は、上記(1)に示した方法で偏光度を測定した。偏光度の変化(Δ偏光度:絶対値)が0.001未満を「良好(A)」、0.001以上0.005未満を「可(B)」、0.005以上を「不良(C)」とした。その結果、この実施例1では「良好(A)」の評価であった。
下記表1に示す種類及び配合量の各成分を用いた以外は、上記「1.樹脂層形成用組成物の調製」と同様にして、各樹脂層形成用組成物(A−2)〜(A−6)を調製した。但し、実施例2以外の樹脂層形成用組成物(A−3)〜(A−6)の固形分濃度は、樹脂層形成用組成物(A−1)と同様に3質量%とし、実施例2の樹脂層形成用組成物(A−2)の固形分濃度は15質量%とした。
また、得られた各樹脂層形成用組成物を用いて、実施例1と同様にして円偏光フィルム、光学異方フィルム及び偏光フィルムを作製し、各種評価を行った。それらの結果を下記表2に示す。
樹脂層形成用組成物として2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(SEm−1)の溶液(a−1)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして円偏光フィルム、光学異方フィルム及び偏光フィルムを作製し、各種評価を行った。その結果を下記表2に示す。
樹脂層を全く形成しなかったこと以外は、実施例1と同様にして円偏光フィルム、光学異方フィルム及び偏光フィルムを作製し、各種評価を行った。その結果を下記表2に示す。
SEp−1:合成例1で得られたエポキシ基を有するポリオルガノシロキサン(SEp−1)
S−1:合成例3で得られた光配向性基及びアクリロイル基を有するポリオルガノシロキサン(S−1)
Pac−2:合成例5で得られたアクリロイル基を有するアクリル系樹脂(Pac−2)
Pva−1:合成例6で得られたメタアクリロイル基を有するポリビニルアルコール系樹脂(Pva−1)
TA:無水トリメリット酸
B−1:トリス(アセチルアセトネート)アルミニウム(「アルミキレートA(W)」川研ファインケミカル製)
K−1:トリ(p−トリル)シラノール
BA:酢酸n−ブチル
PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
PGME:プロピレングリコールモノメチルエーテル
WT:蒸留水
MEOH:メタノール
iPhone(登録商標)X(Apple社製)の有機ELセルから視認側の反射防止膜を剥し、有機ELの液晶セルとして利用した。剥がした反射防止膜の代わりに、実施例1と同様の手順で円偏光フィルムを有機ELセルの上に作製した。このiPhone(登録商標)X(Apple社製)の表示性能を確認し、目視で全くムラが視認できないこと、並びに、大塚電子製顕微分光膜厚計「OPTM−A1」を用いて、反射率を測定し、反射率が2.6%であることを確認した。
200 表示素子
11 フィルム(基板)
12 位相差層
13 樹脂層
14 偏光層
30 EL表示装置
33 基板
34 層間絶縁膜
35 画素電極
36 有機機能層
37 カソード電極
38 乾燥剤
39 封止フタ
40 薄膜トランジスタ
41 リブ
Claims (8)
- 第1の液晶化合物及び水を含む位相差層形成用組成物から形成される位相差層と、
第2の液晶化合物及び水を含む偏光層形成用組成物から形成される偏光層と
を有する円偏光板であって、
上記位相差層と上記偏光層との間に、樹脂及び有機溶媒を含む樹脂層形成用組成物から形成される樹脂層を有する円偏光板。 - 上記第1の液晶化合物及び第2の液晶化合物が、リオトロピック性を示す液晶化合物である請求項1に記載の円偏光板。
- 上記樹脂が、ポリオルガノシロキサン、ポリ環状オレフィン系樹脂、芳香族ポリエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、フルオレンポリカーボネート系樹脂、フルオレンポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド(アラミド)系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリサルホン系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリパラフェニレン系樹脂、ポリアミドイミド系樹脂、ポリエチレンナフタレート系樹脂、フッ素化芳香族ポリマー系樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、アリルエステル系硬化型樹脂又はこれらの組み合わせである請求項1又は請求項2に記載の円偏光板。
- 上記樹脂層の全光線透過率が80%以上である請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の円偏光板。
- 第1の液晶化合物及び水を含む位相差層形成用組成物から形成される位相差層と、
第2の液晶化合物及び水を含む偏光層形成用組成物から形成される偏光層と
を有する円偏光板における、上記位相差層と上記偏光層との間に設けられる樹脂層を形成するための組成物であって、
樹脂及び有機溶媒を含む樹脂層形成用組成物。 - 基板上に、第1の液晶化合物及び水を含む位相差層形成用組成物の塗布により位相差層を形成する工程、
上記位相差層上に、樹脂及び有機溶媒を含む樹脂層形成用組成物の塗布により樹脂層を形成する工程、及び
上記樹脂層上に、第2の液晶化合物及び水を含む偏光層形成用組成物の塗布により偏光層を形成する工程
を備える円偏光板の製造方法。 - 請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の円偏光板と表示素子とを備える表示装置。
- 上記表示素子が、液晶セル、有機EL素子又はタッチパネルである請求項7に記載の表示装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019172319A JP7322628B2 (ja) | 2019-09-20 | 2019-09-20 | 円偏光板の製造方法 |
CN202010977308.7A CN112540423A (zh) | 2019-09-20 | 2020-09-17 | 圆偏光板、其制造方法、树脂层形成用组合物及显示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019172319A JP7322628B2 (ja) | 2019-09-20 | 2019-09-20 | 円偏光板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021051112A true JP2021051112A (ja) | 2021-04-01 |
JP7322628B2 JP7322628B2 (ja) | 2023-08-08 |
Family
ID=75013923
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019172319A Active JP7322628B2 (ja) | 2019-09-20 | 2019-09-20 | 円偏光板の製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7322628B2 (ja) |
CN (1) | CN112540423A (ja) |
Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002327024A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-11-15 | Jsr Corp | 樹脂フィルム、およびその用途 |
WO2002093213A1 (fr) * | 2001-05-10 | 2002-11-21 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Compose cristallin liquide et film a dephasage l'utilisant |
JP2006337892A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Nitto Denko Corp | 楕円偏光板、及び液晶パネル、及び液晶表示装置、及び画像表示装置 |
WO2008069298A1 (ja) * | 2006-12-08 | 2008-06-12 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 接着剤組成物、その製造方法及び接着剤組成物を用いた積層体 |
JP2009139825A (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Nitto Denko Corp | 光学異方膜の製造方法 |
JP2009139806A (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Nitto Denko Corp | 液晶性コーティング液の製造方法 |
JP2010250172A (ja) * | 2009-04-17 | 2010-11-04 | Konica Minolta Opto Inc | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び液晶表示装置 |
JP2014502295A (ja) * | 2010-11-09 | 2014-01-30 | クリスオプティクス株式会社 | 負分散位相差板及びアクロマティック円偏光子 |
JP2014081529A (ja) * | 2012-10-17 | 2014-05-08 | Nitto Denko Corp | 光学積層フィルムの製造方法 |
JP2014521120A (ja) * | 2011-06-30 | 2014-08-25 | クリスオプティクス株式会社 | 三次元円偏光眼鏡 |
JP2015163934A (ja) * | 2013-08-09 | 2015-09-10 | 住友化学株式会社 | 光学異方性シート |
JP2015163939A (ja) * | 2013-08-09 | 2015-09-10 | 住友化学株式会社 | 光学フィルム |
WO2017056909A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 積層体、光学センサー、および、キット |
WO2018142689A1 (ja) * | 2017-01-31 | 2018-08-09 | 富士フイルム株式会社 | 複合フィルムおよび有機電界発光装置 |
JP2018128573A (ja) * | 2017-02-08 | 2018-08-16 | 住友化学株式会社 | 偏光フィルム、円偏光板および表示装置 |
WO2019009255A1 (ja) * | 2017-07-03 | 2019-01-10 | 富士フイルム株式会社 | 液晶フィルム、光学積層体、円偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
JP2019044119A (ja) * | 2017-09-06 | 2019-03-22 | 日東電工株式会社 | 有機el表示装置用粘着剤組成物、有機el表示装置用粘着剤層、有機el表示装置用粘着剤層付き偏光フィルム、及び有機el表示装置 |
JP2019158953A (ja) * | 2018-03-08 | 2019-09-19 | シャープ株式会社 | 円偏光板、表示装置、及び、積層型位相差板 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001154022A (ja) * | 1999-11-29 | 2001-06-08 | Nitto Denko Corp | 光学補償フィルム及び液晶表示装置 |
JP2009251288A (ja) * | 2008-04-07 | 2009-10-29 | Nitto Denko Corp | 楕円偏光板並びにその製造方法 |
JP6123563B2 (ja) * | 2012-08-31 | 2017-05-10 | 住友化学株式会社 | 円偏光板および表示装置 |
KR102481313B1 (ko) * | 2016-07-21 | 2022-12-23 | 스미또모 가가꾸 가부시끼가이샤 | 타원 편광판 |
KR101933765B1 (ko) * | 2016-08-23 | 2018-12-28 | 동우 화인켐 주식회사 | 편광판 및 이를 포함하는 화상표시장치 |
KR20190098876A (ko) * | 2018-02-14 | 2019-08-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 편광유닛, 이의 제조방법 및 상기 편광유닛을 포함하는 표시장치 |
-
2019
- 2019-09-20 JP JP2019172319A patent/JP7322628B2/ja active Active
-
2020
- 2020-09-17 CN CN202010977308.7A patent/CN112540423A/zh active Pending
Patent Citations (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002327024A (ja) * | 2000-12-22 | 2002-11-15 | Jsr Corp | 樹脂フィルム、およびその用途 |
WO2002093213A1 (fr) * | 2001-05-10 | 2002-11-21 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Compose cristallin liquide et film a dephasage l'utilisant |
JP2006337892A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Nitto Denko Corp | 楕円偏光板、及び液晶パネル、及び液晶表示装置、及び画像表示装置 |
WO2008069298A1 (ja) * | 2006-12-08 | 2008-06-12 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 接着剤組成物、その製造方法及び接着剤組成物を用いた積層体 |
JP2009139825A (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Nitto Denko Corp | 光学異方膜の製造方法 |
JP2009139806A (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-25 | Nitto Denko Corp | 液晶性コーティング液の製造方法 |
JP2010250172A (ja) * | 2009-04-17 | 2010-11-04 | Konica Minolta Opto Inc | 光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び液晶表示装置 |
JP2014502295A (ja) * | 2010-11-09 | 2014-01-30 | クリスオプティクス株式会社 | 負分散位相差板及びアクロマティック円偏光子 |
JP2014521120A (ja) * | 2011-06-30 | 2014-08-25 | クリスオプティクス株式会社 | 三次元円偏光眼鏡 |
JP2014081529A (ja) * | 2012-10-17 | 2014-05-08 | Nitto Denko Corp | 光学積層フィルムの製造方法 |
JP2015163934A (ja) * | 2013-08-09 | 2015-09-10 | 住友化学株式会社 | 光学異方性シート |
JP2015163939A (ja) * | 2013-08-09 | 2015-09-10 | 住友化学株式会社 | 光学フィルム |
WO2017056909A1 (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 富士フイルム株式会社 | 積層体、光学センサー、および、キット |
WO2018142689A1 (ja) * | 2017-01-31 | 2018-08-09 | 富士フイルム株式会社 | 複合フィルムおよび有機電界発光装置 |
JP2018128573A (ja) * | 2017-02-08 | 2018-08-16 | 住友化学株式会社 | 偏光フィルム、円偏光板および表示装置 |
WO2019009255A1 (ja) * | 2017-07-03 | 2019-01-10 | 富士フイルム株式会社 | 液晶フィルム、光学積層体、円偏光板、有機エレクトロルミネッセンス表示装置 |
JP2019044119A (ja) * | 2017-09-06 | 2019-03-22 | 日東電工株式会社 | 有機el表示装置用粘着剤組成物、有機el表示装置用粘着剤層、有機el表示装置用粘着剤層付き偏光フィルム、及び有機el表示装置 |
JP2019158953A (ja) * | 2018-03-08 | 2019-09-19 | シャープ株式会社 | 円偏光板、表示装置、及び、積層型位相差板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP7322628B2 (ja) | 2023-08-08 |
CN112540423A (zh) | 2021-03-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7170762B2 (ja) | 偏光子及びその製造方法 | |
JP7503524B2 (ja) | 円偏光板および表示装置 | |
JP7055099B2 (ja) | 位相差フィルム | |
KR101906596B1 (ko) | 중합성 액정 조성물 | |
TWI622814B (zh) | 偏光膜、圓偏光板及其等之製造方法 | |
CN103364861B (zh) | 圆偏振光板及其制造方法 | |
KR101996086B1 (ko) | 편광막, 원편광판 및 이들의 제조 방법 | |
KR101962461B1 (ko) | 편광막, 원편광판 및 이들을 이용한 유기 el 화상 표시 장치 | |
CN102565912B (zh) | 偏光膜的制造方法 | |
KR101786143B1 (ko) | 조성물 | |
TW201518790A (zh) | 光學薄膜 | |
JP2020144373A (ja) | 光学異方性シート | |
TW201518791A (zh) | 橢圓偏光板 | |
TW201237462A (en) | Optical element | |
TWI808224B (zh) | 光學膜 | |
JP7322628B2 (ja) | 円偏光板の製造方法 | |
JP2022065918A (ja) | 円偏光板、その製造方法、樹脂層形成用組成物及び表示装置 | |
JP2012063387A (ja) | 重合性液晶組成物及び光学フィルム | |
WO2021251122A1 (ja) | 偏光フィルムおよび楕円偏光板 | |
JP2021196602A (ja) | 偏光フィルムおよび楕円偏光板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20211214 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230104 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230315 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230418 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230616 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230627 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230710 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7322628 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |