CN112540423A - 圆偏光板、其制造方法、树脂层形成用组合物及显示装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种具有作为圆偏光板的良好偏光性的圆偏光板、其制造方法、可用于制造此种圆偏光板的树脂层形成用组合物、以及包括所述圆偏光板的显示装置。本发明为一种圆偏光板，其具有：相位差层，由包含第一液晶化合物及水的相位差层形成用组合物形成；以及偏光层，由包含第二液晶化合物及水的偏光层形成用组合物形成，所述圆偏光板中，在所述相位差层与所述偏光层之间具有由包含树脂及有机溶媒的树脂层形成用组合物形成的树脂层。
Description
技术领域
本发明涉及一种圆偏光板、其制造方法、树脂层形成用组合物及显示装置。
背景技术
液晶显示装置中所使用的圆偏光板例如通过使包含经碘染色的聚乙烯醇的偏光膜与1/4波长板等经由粘着剂或接着剂进行层叠而制造。此种圆偏光板不可避免地总厚度变厚，不适用于要求薄型化的当前显示装置中使用的圆偏光板。
因此，尝试避免通过贴合进行的层叠，通过涂布形成相位差层或偏光层来制造薄型的圆偏光板(参照专利文献1)。
[现有技术文献]
[专利文献]
[专利文献1]日本专利特开2014-063143号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
若在相位差层上通过涂布直接形成偏光层，则具有如下不良情况：会受到相位差层的取向的影响，所获得的圆偏光板无法表现出良好的偏光性。
本发明是基于以上的情况而成者，其课题在于提供一种具有作为圆偏光板的良好偏光性的圆偏光板、其制造方法、可用于制造此种圆偏光板的树脂层形成用组合物、以及包括所述圆偏光板的显示装置。
[解决问题的技术手段]
本发明的一实施方式的圆偏光板具有：相位差层，由包含第一液晶化合物及水的相位差层形成用组合物形成；以及偏光层，由包含第二液晶化合物及水的偏光层形成用组合物形成，所述圆偏光板中，在所述相位差层与所述偏光层之间具有由包含树脂及有机溶媒的树脂层形成用组合物形成的树脂层。
所述第一液晶化合物及第二液晶化合物优选为显示溶致性的液晶化合物。
所述树脂优选为聚有机硅氧烷、聚环状烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺(芳族聚酰胺)系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、丙烯酸系树脂、环氧系树脂、聚乙烯醇系树脂、烯丙基酯系硬化型树脂或这些的组合。
所述树脂层的总光线透过率优选为80％以上。
本发明的一实施方式的树脂层形成用组合物是如下的树脂层形成用组合物，其是用于形成圆偏光板中的树脂层的组合物、且包含树脂及有机溶媒，所述树脂层设置于相位差层与偏光层之间，所述圆偏光板具有：所述相位差层，由包含第一液晶化合物及水的相位差层形成用组合物形成；以及所述偏光层，由包含第二液晶化合物及水的偏光层形成用组合物形成。
本发明的一实施方式的圆偏光板的制造方法是包括如下工序的圆偏光板的制造方法，即在基板上通过包含第一液晶化合物及水的相位差层形成用组合物的涂布形成相位差层的工序；在所述相位差层上通过包含树脂及有机溶媒的树脂层形成用组合物的涂布形成树脂层的工序；以及在所述树脂层上通过包含第二液晶化合物及水的偏光层形成用组合物的涂布形成偏光层的工序。
本发明的一实施方式的显示装置是包括所述圆偏光板与显示元件的显示装置。
所述显示元件优选为液晶单元、有机电致发光(electroluminescence，EL)元件或触摸屏。
[发明的效果]
根据本发明，可提供具有作为圆偏光板的良好偏光性的圆偏光板、其制造方法、可用于制造此种圆偏光板的树脂层形成用组合物、以及包括所述圆偏光板的显示装置。
附图说明
图1是本发明的一实施方式的圆偏光板的示意性剖面图。
图2是本发明的一实施方式的显示装置(EL显示装置)的示意性剖面图。
[符号的说明]
11：膜(基板)
12：相位差层
13：树脂层
14：偏光层
30：EL显示装置
33：基板
34：层间绝缘膜
35：像素电极
36：有机功能层
37：阴极电极
38：干燥剂
39：密封盖
40：薄膜晶体管
41：肋
100：圆偏光板
200：显示元件
具体实施方式
＜圆偏光板＞
图1所示的本发明的一实施方式的圆偏光板100是依序层叠基板11、相位差层12、树脂层13及偏光层14而成的层叠体。圆偏光板100具有基板11、由相位差层形成用组合物形成的相位差层12、以及由偏光层形成用组合物形成的偏光层14，进而在相位差层12与偏光层14之间具有由树脂层形成用组合物形成的树脂层13。相位差层形成用组合物包含第一液晶化合物及水。偏光层形成用组合物包含第二液晶化合物及水。树脂层形成用组合物包含树脂及有机溶媒。各组合物中的水及有机溶媒最终可不残存于各层中，也可残存一部分。
在以下的圆偏光板的制造方法的说明中一并记载本发明的一实施方式的圆偏光板的优选的详情。
本发明的一实施方式的圆偏光板可进而包括其他层。作为其他层，可列举：作为最表层设置的保护层、或取向膜、其他相位差层(例如，提供1/2波长的相位差的相位差层)等。另外，所述圆偏光板的厚度或刚性并无特别限定，也包含被称为圆偏光膜等者。
＜圆偏光板的制造方法＞
本发明的一实施方式的圆偏光板的制造方法包括：
在基板上通过包含第一液晶化合物及水的相位差层形成用组合物的涂布而形成相位差层的工序(相位差层形成工序)；
在所述相位差层上通过包含树脂及有机溶媒的树脂层形成用组合物的涂布而形成树脂层的工序(树脂层形成工序)；以及
在所述树脂层上通过包含第二液晶化合物及水的偏光层形成用组合物的涂布而形成偏光层的工序(偏光层形成工序)。
所述制造方法可在相位差层形成工序之前包括准备基板的工序(准备工序)。
在所述制造方法中，如以上般在相位差层上通过涂布层叠树脂层，在所述树脂层上通过涂布形成偏光层，因此偏光层不易受到相位差层的取向的影响。另外，由于树脂层形成用组合物将有机溶媒作为溶媒，故在涂布树脂层形成用组合物时，对将水作为溶媒而形成的相位差层的第一液晶化合物的取向带来的影响也小。由此，根据所述制造方法，可获得具有良好的偏光性的圆偏光板。另外，由于利用树脂形成设置在相位差层与偏光层之间的层，故所获得的层(树脂层)以及圆偏光板的热稳定性也良好。因而，所获得的圆偏光板例如在高温下使用或者放置后也抑制偏光性能的劣化。
(准备工序)
本工序是准备圆偏光板的基板的工序。基板优选为具有可透过光、特别是可见光的透明性的基板。所谓透明性，是指对遍及波长380nm～780nm的光线的透过率为80％以上的特性。
基板优选为例如高分子膜等由高分子形成的基材。高分子膜可为延伸膜，也可为非延伸膜。例如有时对基板要求相位差性小。在此种情况下，可优选地使用非延伸膜。
作为构成基板的高分子，例如可列举：聚乙烯、聚丙烯、降冰片烯系聚合物等聚烯烃；聚环状烯烃系树脂；聚乙烯醇；聚对苯二甲酸乙二酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙酰纤维素、二乙酰纤维素、纤维素乙酸丙酸酯等纤维素酯；聚萘二甲酸乙二酯；聚碳酸酯；聚砜；聚醚砜；聚醚酮；聚苯硫醚及聚苯醚等。这些中，就获取的容易性或透明性更高的方面而言，优选为纤维素酯、聚环状烯烃系树脂或聚碳酸酯。进而就耐热性、透明性的观点而言，也有时特别优选为聚环状烯烃系树脂。另外，就相位差层形成用组合物的涂布性的方面而言，也有时优选为具有亲水性基(羟基、酯基、醚基等)的高分子，更优选为纤维素酯。
作为聚环状烯烃系树脂，可使用作为后述的树脂层形成用组合物中包含的树脂的一例而记载的聚环状烯烃系树脂。可在聚环状烯烃系树脂中导入极性基。
纤维素酯是纤维素中包含的羟基的一部分或全部进行酯化而成者。纤维素酯可使用市售品。作为市售的纤维素酯膜，例如可列举“ZRF25”[富士胶片]；“KC8UX2M”、“KC8UY”及“KC4UY”[柯尼卡美能达光电(Konica minolta opto)]等。
在准备工序中，也可实施基板的基底处理。作为基底处理，例如可列举基板表面的亲水化处理等。作为亲水化处理，在纤维素酯制基板的情况下，可列举表面(涂布相位差层形成用组合物的面)的皂化处理等。
基板的厚度并无特别限定，也可被称为膜。作为基板的平均厚度的下限，优选为5μm，更优选为10μm。通过将基板的平均厚度设为所述下限以上，可保持充分的强度。另一方面，作为所述平均厚度的上限，优选为100μm，更优选为60μm，进而优选为40μm。通过将基板的平均厚度设为所述上限以下，可实现所获得的圆偏光板的充分的薄型化。
可在基板的涂布相位差层形成用组合物的面上设置其他层，也可不设置其他层。作为其他层，可列举取向膜等。也可在基板的未涂布相位差层形成用组合物的面上设置硬涂层等层。
(相位差层形成工序)
本工序是在基板上通过相位差层形成用组合物的涂布而形成相位差层的工序。相位差层形成用组合物可直接涂布于基板上，也可经由其他层进行涂布。
(相位差层形成用组合物)
相位差层形成用组合物包含第一液晶化合物及水。第一液晶化合物通常是可通过光学各向异性表现出相位差性的化合物。作为此种化合物，优选为在主链骨架具有芳香环的聚合体、或芳香环键结多个而形成共轭系的化合物。在主链骨架具有芳香环的聚合体、及芳香环键结多个而形成共轭系的化合物以少量显示高粘度，包含水作为溶媒，由此也可表现出具有光学各向异性的液晶。
第一液晶化合物可为显示溶致性的液晶化合物(溶致性液晶)，也可为显示热致性的液晶化合物(热致性液晶)，优选为显示溶致性的液晶化合物。溶致液晶通过与水或其他极性溶媒混合而表现出液晶。溶致液晶可通过调整浓度或涂布方向来使液晶取向。因而，通过使用显示溶致性的液晶化合物作为第一液晶化合物，通过包含水的相位差层形成用组合物的涂布，可比较容易地获得第一液晶化合物进行了取向的相位差层。另外，与因温度变化而成为液晶状态的热致性液晶不同，通过使用显示溶致性的液晶化合物，可不依赖于温度而维持相位差层的取向状态，因此可提高圆偏光板的热稳定性。
作为第一液晶化合物，可列举在主链骨架具有下述式(1)或式(2)所示的芳香环的聚合体、及芳香环键结多个而形成共轭系的化合物。作为第一液晶化合物，优选为包含在主链骨架具有下述式(1)或式(2)所示的芳香环的聚合体、与芳香环键结多个而形成共轭系的化合物。这些化合物是显示溶致性且具有折射率各向异性的液晶化合物。第一液晶化合物可使用一种或将两种以上混合而使用。
[化1]
式(1)、式(2)中，G分别独立地为羧基、磺基或二氧磷基(phospho group)。k分别独立地为0至2的整数。
作为在主链骨架具有芳香环的聚合体的具体例，可列举下述式(3)～式(13)所示的聚合体。
[化2]
[化3]
所述式(3)～式(13)中，n为任意的自然数。
作为芳香环键结多个而形成共轭系的化合物，可列举下述式(14)～式(35)所示的化合物。
[化4]
[化5]
[化6]
这些化合物中，就相位差性表现性或对基板的涂布性的观点等而言，优选为所述式(3)所表示的聚合体、及所述式(28)所表示的化合物。
作为第一液晶化合物，可使用美国专利第8895118号中记载的化合物。另外，作为相位差层形成用组合物，也可使用美国专利第8895118号中记载的液晶溶液。此外，作为第一液晶化合物，也可使用聚合性液晶等。在所述情况下，相位差层形成用组合物中也可进而包含聚合引发剂等。
第一液晶化合物在相位差层形成用组合物的固体成分中所占的含量例如为50质量％以上且99质量％以下，有时优选为70质量％以上，也有时更优选为90质量％以上。再者，所谓固体成分是指溶媒以外的所有成分。
相位差层形成用组合物也可进而包含水以外的溶媒。作为此种溶媒，可列举：酮系溶媒、酯系溶媒、醚系溶媒、脂肪族羧酸、烃系溶媒、环式烃、氯烃、醇等有机溶媒。溶媒也可使用一种或将两种以上组合而使用。作为具体的有机溶媒，可列举：丙酮、二甲苯、甲苯、乙醇、甲基环己烷、乙酸乙酯、二乙醚、辛烷、氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷、三氯乙烯、四氯乙烯、四氯化碳、1,4-二噁烷、四氢呋喃、吡啶、三乙胺、硝基甲烷、乙腈、二甲基甲酰胺、二甲基亚砜等。
作为相位差层形成用组合物中包含水的所有溶媒的含量，并无特别限定，例如可为50质量％以上且99质量％以下。即，相位差层形成用组合物中固体成分的含量可为1质量％以上且50质量％以下。
相位差层形成用组合物可进而包含表面活性剂、塑化剂及其他添加剂。
相位差层形成用组合物的涂布方法并无特别限定，可使用现有的方法。其中，就通过涂布使第一液晶化合物在规定方向取向的方面而言，优选为棒涂、模涂、凹版涂布等。其中，在利用其他方法使第一液晶化合物取向的情况下，并不限于此。
涂布相位差层形成用组合物后使涂膜干燥，由此形成相位差层。作为所述干燥方法，并无特别限定，可使用自然干燥、通风干燥、加热干燥、减压干燥等现有现有的方法。
作为所获得的相位差层的平均厚度的下限，也有时优选为0.5μm，更优选为1μm，进而优选为2μm。通过将相位差层的平均厚度设为所述下限以上，可表现充分的相位差。另一方面，作为所述平均厚度的上限，例如为20μm，也可为10μm或5μm。
所获得的相位差层典型而言可对于入射光(可见光)提供1/4波长的相位差。其中，不论相位差如何，所获得的圆偏光板均可发挥充分的偏光性能。即，本发明的一实施方式的圆偏光板中也包含椭圆偏光板。
(树脂层形成工序)
本工序是在所述相位差层形成工序中获得的相位差层上，通过树脂层形成用组合物的涂布而形成树脂层的工序。树脂层形成用组合物通常直接涂布在相位差层上。
(树脂层形成用组合物)
树脂层形成用组合物包含树脂及有机溶媒。
(树脂)
所述树脂优选为透明树脂。作为所述树脂，优选为聚有机硅氧烷、聚环状烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺(芳族聚酰胺)系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、丙烯酸系树脂、环氧系树脂、聚乙烯醇系树脂、烯丙基酯系硬化型树脂或这些的组合。这些各树脂中也均包含改性而成者。
以下，对于树脂更详细地说明特别优选的树脂。
(1)聚环状烯烃系树脂
所述聚环状烯烃系树脂是包含环状烯烃作为单量体的聚合体。作为聚环状烯烃系树脂，优选为由选自由下述式(X0)所表示的单量体及下述式(Y0)所表示的单量体所组成的群组中的至少一种单量体获得的树脂、或者通过视需要进而对所述树脂进行氢化而获得的树脂。
[化7]
所述式(X0)中，Rx1～Rx4分别独立地表示选自下述(i)～(viii)的原子或基。kx、mx及px分别独立地表示0或正的整数。kx、mx及px的上限可分别例如为5，也可为2或1。
(i)氢原子
(ii)卤素原子
(iii)三烷基硅烷基
(iv)具有包含氧原子、硫原子、氮原子或硅原子的连结基的经取代或未经取代的碳数1～30的烃基
(v)经取代或未经取代的碳数1～30的烃基
(vi)极性基(其中(iv)除外)
(vii)表示Rx1与Rx2或Rx3与Rx4相互键结而形成的亚烷基，未参与所述键结的Rx1～Rx4分别独立地表示选自所述(i)～(vi)的原子或基。
(viii)表示Rx1与Rx2或Rx3与Rx4相互键结而形成的单环或多环的烃环或杂环，未参与所述键结的Rx1～Rx4分别独立地表示选自所述(i)～(vi)的原子或基。或者，表示Rx2与Rx3相互键结而形成的单环的烃环或杂环，未参与所述键结的Rx1～Rx4分别独立地表示选自所述(i)～(vi)的原子或基。
[化8]
所述式(Y0)中，Ry1及Ry2分别独立地表示选自所述(i)～(vi)的原子或基、或表示下述(ix)。ky及py分别独立地表示0或正的整数。ky及py的上限可分别例如为5，也可为2或1。
(ix)表示Ry1与Ry2相互键结而形成的单环或多环的脂环式烃、芳香族烃或杂环。
(2)芳香族聚醚系树脂
所述芳香族聚醚系树脂优选为具有选自由下述式(I)所表示的结构单元及下述式(II)所表示的结构单元所组成的群组中的至少一个结构单元。
[化9]
所述式(I)中，R1～R4分别独立地表示碳数1～12的一价有机基。a～d分别独立地表示0～4的整数。再者，本说明书中所谓有机基，是指包含碳原子的基。
[化10]
所述式(II)中，R1～R4及a～d分别独立地与所述式(I)中的R1～R4及a～d为相同含义。Y表示单键、-SO2-或＞C＝O。R7及R8分别独立地表示卤素原子、碳数1～12的一价有机基或硝基。g及h分别独立地表示0～4的整数。m表示0或1。其中，当m为0时，R7并非氰基。
另外，所述芳香族聚醚系树脂优选为进而具有选自由下述式(III)所表示的结构单元及下述式(IV)所表示的结构单元所组成的群组中的至少一个结构单元。
[化11]
所述式(III)中，R5及R6分别独立地表示碳数1～12的一价有机基。Z表示单键、-O-、-S-、-SO2-、＞C＝O、-CONH-、-COO-或碳数1～12的二价有机基(＞C＝O、-CONH-及-COO-除外)。e及f分别独立地表示0～4的整数。n表示0或1。
[化12]
所述式(IV)中，R7、R8、Y、m、g及h分别独立地与所述式(II)中的R7、R8、Y、m、g及h为相同含义。R5、R6、Z、n、e及f分别独立地与所述式(III)中的R5、R6、Z、n、e及f为相同含义。
(3)聚酰亚胺系树脂
作为所述聚酰亚胺系树脂，并无特别限制，只要是在重复单元中包含酰亚胺键的高分子化合物即可。聚酰亚胺系树脂例如可利用日本专利特开2006-199945号公报或日本专利特开2008-163107号公报中所记载的方法来合成。
(4)芴聚碳酸酯系树脂
作为所述芴聚碳酸酯系树脂，并无特别限制，只要是包含芴部位的聚碳酸酯树脂即可。芴聚碳酸酯系树脂例如可利用日本专利特开2008-163194号公报中所记载的方法来合成。
(5)芴聚酯系树脂
作为所述芴聚酯系树脂，并无特别限制，只要是包含芴部位的聚酯树脂即可。芴聚酯系树脂例如可利用日本专利特开2010-285505号公报或日本专利特开2011-197450号公报中所记载的方法来合成。
(6)氟化芳香族聚合物系树脂
作为所述氟化芳香族聚合物系树脂，并无特别限制，可列举含有具有至少一个氟的芳香族环、与包含选自由醚键、酮键、砜键、酰胺键、酰亚胺键及酯键所组成的群组中的至少一个键的重复单元的聚合物。氟化芳香族聚合物系树脂例如可利用日本专利特开2008-181121号公报中所记载的方法来合成。
(7)聚有机硅氧烷
所谓聚有机硅氧烷是具有有机基的聚硅氧烷。作为有机基，可列举：经取代或未经取代的烃基、羧基、氰基、后述的聚合性基、光取向性基、将这些组合而成的基等。
聚有机硅氧烷例如可通过对水解性的硅烷化合物进行水解和/或缩合来获得。作为所使用的硅烷化合物，只要显示水解性，则并无特别限制，例如可列举：四烷氧基硅烷、苯基三烷氧基硅烷、二烷基二烷氧基硅烷、单烷基三烷氧基硅烷、巯基烷基三烷氧基硅烷、脲基烷基三烷氧基硅烷、氨基烷基三烷氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷、2-(3,4-环氧基环己基)乙基三烷氧基硅烷、3-(3,4-环氧基环己基)丙基三烷氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧基丙基三烷氧基硅烷、乙烯基三烷氧基硅烷、对苯乙烯基三烷氧基硅烷、三甲氧基硅烷基丙基琥珀酸酐等。硅烷化合物可单独使用这些化合物中的一种或将两种以上组合而使用。
硅烷化合物的水解和/或缩合反应是通过使硅烷化合物的一种或两种以上与水优选为在适当的催化剂及有机溶媒的存在下反应来进行。在水解和/或缩合反应时，相对于硅烷化合物(合计量)1摩尔，水的使用比例优选为1摩尔～30摩尔。作为催化剂，例如可列举：酸、碱金属化合物、有机碱、钛化合物、锆化合物等。催化剂的使用量根据催化剂的种类、温度等反应条件等而不同，例如相对于硅烷化合物的合计量，优选为0.05倍摩尔～1倍摩尔。作为反应中使用的有机溶媒，例如可列举：烃、酮、酯、醚、醇等。这些中，优选为使用非水溶性或难水溶性的有机溶媒。相对于反应中使用的硅烷化合物的合计100质量份，有机溶媒的使用比例优选为10质量份～1,000质量份。
水解和/或缩合反应优选为通过例如油浴等进行加热(例如，在40℃～130℃下加热)来实施。加热时间优选为设为0.5小时～8小时。在反应结束后，视需要利用水清洗自反应液中分离出的有机溶媒相，利用干燥剂将有机溶媒相干燥后，并去除溶媒，由此可获得作为目标的聚有机硅氧烷。再者，聚有机硅氧烷的合成方法不限于所述水解和/或缩合反应，例如也可利用使水解性硅烷化合物在草酸及醇的存在下反应的方法等来进行。
作为聚有机硅氧烷，优选为具有聚合性基的聚有机硅氧烷及具有光取向性基的聚有机硅氧烷，更优选为具有聚合性基的聚有机硅氧烷。也优选为具有聚合性基与光取向性基的聚有机硅氧烷。作为聚合性基，可列举：环氧基、(甲基)丙烯酰基、乙烯基等，优选为环氧基。再者，环氧基是指碳数2以上的环状醚基，是均包含氧杂环丙基及氧杂环丁基的基。以下，作为一例来对具有环氧基的聚有机硅氧烷、及具有光取向性基的聚有机硅氧烷进行说明。
具有环氧基的聚有机硅氧烷例如可通过对具有环氧基的烷氧基硅烷、或具有环氧基的烷氧基硅烷与其他硅烷化合物的混合物进行水解缩合来获得。作为具有环氧基的烷氧基硅烷，可列举：3-缩水甘油氧基丙基三烷氧基硅烷、2-(3,4-环氧基环己基)乙基三烷氧基硅烷、3-(3,4-环氧基环己基)丙基三烷氧基硅烷等。
具有光取向性基的聚有机硅氧烷例如可通过使具有环氧基的聚有机硅氧烷、与具有光取向性基的羧酸(以下也称为“特定羧酸”)反应来获得。
特定羧酸优选为具有含肉桂酸结构的基作为光取向性基的羧酸。再者，特定羧酸可单独使用一种或将两种以上组合而使用。
在具有环氧基的聚有机硅氧烷与特定羧酸的反应时，可进一步使其他羧酸反应。所使用的其他羧酸并无特别限制，可优选地使用具有聚合性基的羧酸，可更优选地使用具有(甲基)丙烯酰基作为聚合性基的羧酸。
作为具有聚合性基的羧酸，例如可列举：(甲基)丙烯酸、马来酸、富马酸、柠康酸、中康酸、衣康酸、ω-羧基-聚己内酯单(甲基)丙烯酸酯、邻苯二甲酸单羟基乙基(甲基)丙烯酸酯等不饱和羧酸；偏苯三甲酸酐、马来酸酐、衣康酸酐、柠康酸酐、顺-1,2,3,4-四氢邻苯二甲酸酐等不饱和多元羧酸酐等。具有聚合性基的羧酸可单独使用这些中的一种，或将两种以上组合而使用。
作为其他羧酸，除了具有聚合性基的羧酸以外，例如也可使用丙酸、苯甲酸、甲基苯甲酸等。
在具有环氧基的聚有机硅氧烷与羧酸的反应时，就充分进行所述反应的同时减少未反应的羧酸的量的观点而言，相对于聚有机硅氧烷所具有的环氧基的合计1摩尔，羧酸的使用比例优选为设为0.001摩尔～1.5摩尔，进而更优选为设为0.01摩尔以上且未满1.0摩尔，进而优选为设为0.1摩尔～0.8摩尔。
相对于反应中使用的羧酸的总量，特定羧酸的使用比例(在使用两种以上的情况下为其合计量)优选为设为10摩尔％以上，更优选为设为20摩尔％以上。在使用具有聚合性基的羧酸的情况下，相对于反应中使用的羧酸的总量，具有聚合性基的羧酸的使用比例优选为设为1摩尔％以上，更优选为设为3摩尔％～50摩尔％，进而优选为设为5摩尔％～30摩尔％。
具有环氧基的聚有机硅氧烷与羧酸的反应优选为在催化剂及有机溶媒的存在下进行。作为催化剂，优选为使用三级有机胺或四级有机胺。相对于具有环氧基的聚有机硅氧烷100质量份，催化剂的使用比例优选为0.1质量份～20质量份。作为所使用的有机溶媒，就原料及生成物的溶解性、以及生成物的纯化的容易度的观点而言，优选为设为选自由醚、酯及酮所组成的群组中的至少一种。作为特别优选的溶媒的具体例，可列举：2-丁酮、2-己酮、甲基异丁基酮及乙酸丁酯等。有机溶媒优选为以固体成分浓度成为5质量％～50质量％的比例使用。反应温度优选为0℃～200℃，反应时间优选为0.1小时～50小时。反应结束后，优选为利用水清洗自反应液中分离出的有机溶媒相。
(8)丙烯酸系树脂
丙烯酸系树脂是(甲基)丙烯酸酯的均聚物或共聚物。丙烯酸系树脂也可包含源自(甲基)丙烯酸酯以外的单体的结构单元。
丙烯酸系树脂优选为包含具有聚合性基的结构单元。具有聚合性基的丙烯酸系树脂可通过将(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸3,4-环氧基环己基甲酯、(甲基)丙烯酸3-甲基-3-氧杂环丁基甲酯等具有环氧基的(甲基)丙烯酸酯用于单体并进行聚合来获得。另外，也可通过使具有聚合性基的羧酸与导入有具有环氧基的结构单元的丙烯酸系树脂反应来获得。
(9)聚乙烯醇系树脂
聚乙烯醇系树脂是包含乙烯基醇单元的树脂。聚乙烯醇系树脂通常通过将聚乙烯基酯系树脂进行皂化而获得。聚乙烯醇系树脂也可具有源自乙烯基酯的结构单元以外的结构单元。
聚乙烯醇系树脂优选为包含具有聚合性基的结构单元。作为此种聚乙烯醇系树脂，可列举日本专利特开平9-152509号公报中记载的包含具有乙烯基、环氧基或(甲基)丙烯酰氧基的结构单元的聚乙烯醇系树脂。
(10)市售品
树脂层形成用组合物中包含的树脂也可使用市售品。作为聚环状烯烃系树脂的市售品，例如可列举JSR股份有限公司制造的“亚通(arton)”、日本瑞翁(zeon)股份有限公司制造的“瑞翁诺亚(zeonor)”、三井化学股份有限公司制造的“亚派璐(APEL)”、宝理塑料(Polyplastics)股份有限公司制造的“托帕斯(TOPAS)”等。作为聚醚砜系树脂的市售品，例如可列举住友化学股份有限公司制造的“苏米卡爱库塞璐(Sumika excel)PES”等。作为聚酰亚胺系树脂的市售品，例如可列举三菱瓦斯化学(Mitsubishi gas chemical)股份有限公司制造的“乃奥普利姆(neopulim)L”等。作为聚碳酸酯系树脂的市售品，例如可列举帝人股份有限公司制造的“皮尤艾斯(pureace)”等。作为芴聚碳酸酯系树脂的市售品，例如可列举三菱瓦斯化学股份有限公司制造的“尤皮载特(iupizeta)EP-5000”等。作为芴聚酯系树脂的市售品，例如可列举大阪瓦斯化学(Osaka gas chemical)股份有限公司制造的“OKP4HT”等。作为丙烯酸系树脂的市售品，例如可列举日本催化剂股份有限公司制造的“阿库里比阿(acryviewa)”、日油股份有限公司制造的“马普卢福(marproof)G-0105SA”、共荣社化学股份有限公司制造的“莱特丙烯酸酯(Light Acrylate)DCP-A”等。
作为树脂层形成用组合物的树脂，更优选为聚有机硅氧烷、聚环状烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺(芳族聚酰胺)系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、丙烯酸系树脂、环氧系树脂、及烯丙基酯系硬化型树脂，进而优选为聚有机硅氧烷、聚环状烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、及丙烯酸系树脂，特别优选为聚有机硅氧烷。通过使用这些树脂，所获得的圆偏光板可发挥更良好的偏光性能，且热稳定性也提高。
另外，树脂层形成用组合物的树脂优选为具有聚合性基的树脂，更优选为具有环氧基的树脂。通过使用此种树脂，所获得的圆偏光板可发挥更良好的偏光性能，且热稳定性也提高。
树脂的以凝胶渗透色谱法(gel permeation chromatography，GPC)测定的聚苯乙烯换算的重量平均分子量(Mw)优选为处于1,000～50,000的范围，更优选为处于5,000～30,000的范围。另外，树脂的以凝胶渗透色谱法(GPC)测定的聚苯乙烯换算的数量平均分子量(Mn)优选为处于1,000～50,000的范围，更优选为处于5,000～30,000的范围。
作为树脂在树脂层形成用组合物的固体成分中所占的含量，也有时例如优选为50质量％以上且100质量％以下，更优选为60质量％以上且95质量％以下，进而优选为70质量％以上。
(有机溶媒)
作为树脂层形成用组合物中使用的有机溶媒，并无特别限定，只要为可稳定地溶解或分散树脂的溶媒，则并无特别限定。
作为有机溶媒，例如可列举：甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、乙基溶纤剂、甲基溶纤剂等醇类、乙二醇、二乙二醇、丙二醇等二醇类、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环戊酮、环己酮等酮类、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、N-甲基-2-吡咯烷酮等酰胺类、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇丁醚、乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇单乙醚乙酸酯、乙二醇单丁醚乙酸酯、丙二醇单甲醚乙酸酯等醚类、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯类、苯、甲苯、二甲苯等芳香族烃类、正己烷、正庚烷等脂肪族烃类、四氟丙醇、五氟丙醇等氟系溶媒等。这些中，优选为醚类及酯类。这些有机溶媒可单独使用一种或将两种以上混合而使用。
相对于树脂100质量份，有机溶媒的含量优选为100质量份～10,000质量份，更优选为500质量份～8,000质量份。
在树脂层形成用组合物中除有机溶媒以外，也可包含水等其他溶媒。其中，作为有机溶媒在所有溶媒中所占的含量，优选为50质量％以上，更优选为90质量％以上，进而优选为99质量％以上。作为树脂层形成用组合物的固体成分浓度，例如优选为1质量％以上且15质量％以下。
(其他成分)
树脂层形成用组合物视需要可含有聚合引发剂、聚合性化合物、硬化促进剂、流平剂、抗静电剂、热稳定剂、光稳定剂、抗氧化剂、分散剂、阻燃剂、润滑剂、塑化剂、透明纳米粒子、硅烷偶合剂等其他成分。
作为聚合引发剂，可列举光自由基产生剂及光酸产生剂。
光自由基产生剂是通过光的照射产生自由基，引发自由基聚合性化合物的自由基聚合的化合物。光自由基产生剂可单独使用一种，也可使用两种以上。
作为光自由基产生剂，例如可列举：联咪唑化合物、酰基氧化膦化合物、苯酮化合物、肟化合物、安息香化合物、二苯甲酮化合物、噻吨酮化合物等。
作为光自由基产生剂，可列举日本专利特开2008-276194号公报、日本专利特开2003-241372号公报、日本专利特表2009-519991号公报、日本专利特表2009-531730号公报、国际公开第2010/001691号、国际公开第2010/146883号、日本专利特开2011-132215号公报、日本专利特表2008-506749号公报、日本专利特表2009-519904号公报等中记载的化合物。
光酸产生剂是通过光的照射而产生酸的化合物。通过所述酸的产生，可引发阳离子聚合性化合物的阳离子聚合。作为光酸产生剂，可列举：肟磺酸酯化合物、鎓盐、磺酰亚胺化合物、含卤素的化合物、重氮甲烷化合物、砜化合物、磺酸酯化合物等。
聚合性化合物优选为具有多个聚合性基的化合物。聚合性化合物中不包含作为树脂(聚合体)者。作为聚合性化合物，可列举具有自由基聚合性基的化合物及具有阳离子聚合性基的化合物。作为自由基聚合性基，可列举(甲基)丙烯酰基及乙烯基。作为阳离子聚合性基，可列举环氧基等。
作为自由基聚合性化合物，可列举使脂肪族多羟基化合物与(甲基)丙烯酸反应而获得的多官能(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性多官能(甲基)丙烯酸酯、环氧烷改性多官能(甲基)丙烯酸酯、具有羟基的(甲基)丙烯酸酯与多官能异氰酸酯反应而获得的多官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯、具有羟基的多官能(甲基)丙烯酸酯与酸酐反应而获得的具有羧基的多官能(甲基)丙烯酸酯等。
作为阳离子聚合性化合物，可列举：含氧杂环丙烷环的化合物、含氧杂环丁烷环的化合物、环状硫醚化合物、具有羟甲基化氨基的化合物、具有烷基醚化氨基的化合物、含羟甲基的芳香族化合物、烷基醚化芳香族化合物等具有活性亚甲基的化合物、噁唑啉化合物、含异氰酸酯基的化合物(包含嵌段化而成者)、含醛基的酚化合物、乙烯基醚化合物、二丙烯基醚化合物等。
作为硬化促进剂，可列举：偏苯三甲酸酐、马来酸酐等多元羧酸酐；咪唑化合物；四级磷化合物；四级胺化合物；1,8-二氮杂双环[5.4.0]十一烯-7或其有机酸盐等二氮杂双环烯烃；辛酸锌、辛酸锡、三(乙酰丙酮酸)铝等有机金属化合物；三氟化硼、硼酸三苯酯等硼化合物；氯化锌、氯化锡等金属卤素化合物；三甲基硅烷醇、三乙基硅烷醇、三(对甲苯基)硅烷醇等具有硅烷醇基的化合物等。通过树脂层形成用组合物包含硬化促进剂，可进一步提高所获得的圆偏光板的偏光性能或热稳定性。
作为硬化促进剂的含量，相对于树脂100质量份，例如优选为5质量份以上且100质量份以下，更优选为10质量份以上且50质量份以下。
作为抗氧化剂，可列举：受阻酚系化合物、磷系化合物、硫系化合物、胺系化合物等。这些中，优选为受阻酚系化合物。受阻酚系化合物是相对于酚性羟基在2位及6位两者具有取代基的化合物。作为取代基，优选为甲基及叔丁基。受阻酚系化合物可为单酚类、双酚类、多酚类中的任一种。
作为光稳定剂，例如可使用受阻胺系化合物。作为受阻胺系化合物，优选为2,2',6,6'-四烷基哌啶衍生物。
作为透明纳米粒子，可列举：Al2O3、SiO2、GeO2、Y2O3、La2O3、CeO2、TiO2、ZrO2、Nb2O5、Ta2O5等粒子。
作为硅烷偶合剂，例如可列举：3-缩水甘油氧基丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、2-(3,4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-(甲基丙烯酰丙基)三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-脲基丙基三乙氧基硅烷、N-2-氨基乙基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-氨基乙基-3-氨基丙基甲基二乙氧基硅烷、N-苯基-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、双(3-三乙氧基硅烷基丙基)四硫烷、乙烯基三甲氧基硅烷等。
所述其他成分可单独使用任一种，也可将两种以上混合而使用。
树脂层形成用组合物的涂布方法并无特别限定，可使用棒涂、模涂、凹版涂布、旋涂等现有的方法。
在涂布树脂层形成用组合物后使涂膜干燥，由此形成树脂层。作为所述干燥方法，并无特别限定，可使用自然干燥、通风干燥、加热干燥、减压干燥等现有现有的方法。
对于树脂层形成用组合物的涂膜，可在干燥时或与干燥分开地实施加热。在树脂层形成用组合物的树脂具有聚合性基的情况下、或树脂层形成用组合物含有聚合性化合物的情况下，通过加热进行聚合，可获得硬化的且热稳定性等优异的树脂层。作为加热温度，例如为80℃以上且150℃以下。作为加热时间，例如为0.5分钟以上且10分钟以下。
作为所获得的树脂层的平均厚度的下限，优选为0.01μm，更优选为0.02μm，进而优选为0.05μm。通过将树脂层的平均厚度设为所述下限以上，可在树脂层上形成相位差层的取向的影响充分小的偏光层。另一方面，作为所述平均厚度的上限，例如为3μm，也可为1μm、0.5μm或0.2μm。通过将树脂层的平均厚度设为所述上限以下，可提高树脂层的透光性等。
树脂层的总光线透过率优选为80％以上，更优选为85％以上，进而优选为90％以上。在树脂层具有如此高的光线透过率的情况下，可抑制由于设置树脂层而导致的透光率的降低，提高作为圆偏光板的有用性。所谓总光线透过率是利用日本工业标准(JapaneseIndustrial Standards，JIS)K 7361-1：1997(塑料-透明材料的总光线透过率的试验方法)中规定的测定法测定的值。
(偏光层形成工序)
本工序是在所述树脂层形成工序中获得的树脂层上，通过偏光层形成用组合物的涂布而形成偏光层的工序。偏光层形成用组合物可直接涂布于树脂层上，也可经由其他层(例如，取向膜等)进行涂布。其中，就生产性等方面而言，优选为在树脂层上直接涂布偏光层形成用组合物，设置偏光层。
(偏光层形成用组合物)
偏光层形成用组合物包含第二液晶化合物及水。偏光层形成用组合物通常包含二色性色素。第二液晶化合物的一部分或全部可为二色性色素，也可与第二液晶化合物分开地使用二色性色素。在与第二液晶化合物分开地使用二色性色素的情况下，二色性色素也沿着第二液晶化合物的取向进行取向。
第二液晶化合物优选为显示溶致性的液晶化合物。与相位差层的形成的情况同样地，通过使用显示溶致性的液晶化合物作为第二液晶化合物，通过包含水的偏光层形成用组合物的涂布，可比较容易地获得第二液晶化合物进行了取向的偏光层。另外，通过使用显示溶致性而非热致性的液晶化合物，可提高圆偏光板的热稳定性。
作为第二液晶化合物，优选为在分子中包含两个以上的芳香烃、杂环或脂环式烃的多环式有机化合物。具体而言，可列举：萘、蒽、苝、蔻、芴、菲、三亚苯、苊、芘等含缩合环烃的化合物、呋喃、氧杂环丙烷、4H-吡喃、2H-苯并吡喃、苯并呋喃、2H-吡喃、噻吩、苯并噻吩、对噻嗪、吡咯、吡咯烷、吡唑、咪唑、咪唑啉、咪唑烷、吡唑烷、嘧啶、吡啶、哌嗪、哌啶、吡嗪、吲哚、嘌呤、苯并咪唑、喹啉、吩噻嗪、吗啉、噻唑、噻二唑、噁唑等包含缩合杂环的化合物、包含缩合环烃与缩合杂环两者的化合物等。这些液晶化合物通常为显示溶致性的液晶化合物，且具有二色性。
作为这些多环式有机化合物(第二液晶化合物)的具体的例子，可列举下述式(36)～式(81)所示的化合物的氢原子的一部分或全部经极性基取代的多环式有机化合物。
[化13]
[化14]
[化15]
[化16]
[化17]
[化18]
[化19]
式(69)～式(72)中，M分别独立地为2H、Cu、Zn、Co、Fe或Pt。
作为具有所述式(36)～式(81)所表示的骨架的多环式有机化合物所具有的极性基，可列举：碳数1～12的烷氧基、羟基、羧基、卤素、磺基、亚磺基、氰基及硝基。通过多环式有机化合物具有此种极性基，可提高在水中的溶解性，表现出良好的溶致性。这些极性基中，就在水系中的稳定性、涂布性、偏光性能的表现性等方面而言，优选为磺基。作为优选的多环式有机化合物(第二液晶化合物)，可列举下述式所表示的化合物。
[化20]
作为第二液晶化合物，可使用日本专利特表2009-511460号公报及日本专利特表2011-513376号公报中记载的化合物。另外，作为偏光层形成用组合物，也可使用日本专利特表2009-511460号公报及日本专利特表2011-513376号公报中记载的溶液。
第二液晶化合物在偏光层形成用组合物的固体成分中所占的含量例如为50质量％以上且99质量％以下，有时优选为70质量％以上，也有时更优选为90质量％以上。
偏光层形成用组合物也可进而包含水以外的溶媒。作为此种溶媒，可列举在相位差层形成用组合物中例示的溶媒。
作为偏光层形成用组合物中包含水的所有溶媒的含量，并无特别限定，例如可为50质量％以上且99质量％以下。即，偏光层形成用组合物中固体成分的含量可为1质量％以上且50质量％以下。
偏光层形成用组合物可进而包含表面活性剂、塑化剂及其他添加剂。
偏光层形成用组合物的涂布方法并无特别限定，可使用现有的方法。其中，就通过涂布使第一液晶化合物在规定方向取向的方面而言，优选为棒涂、模涂、凹版涂布等。
在圆偏光板的一实施方式中，在法线方向观察时，相位差层的第一液晶化合物的取向方向与偏光层的第二液晶化合物的取向方向被控制在规定角度(例如，45°)。此种取向方向的控制可通过控制形成各层的组合物的涂布方向等来进行。例如，可以相位差层形成用组合物的涂布方向与偏光层形成用组合物的涂布方向成为45°的角度的方式进行涂布。其中，利用涂布方向的控制以外的方法来控制取向方向的情况下，不限于此。
涂布偏光层形成用组合物后使涂膜干燥，由此形成偏光层。作为所述干燥方法，并无特别限定，可使用自然干燥、通风干燥、加热干燥、减压干燥等现有现有的方法。
可对偏光层实施相对于有机溶媒等的不溶化处理。作为不溶化处理，可通过使氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸氢钠等碱金属水溶液接触等进行。通过使偏光层与碱金属水溶液接触，偏光层中的多环式有机化合物的磺基等显示酸性的基形成碱金属的盐，相对于有机溶媒的溶解性降低。
作为所获得的偏光层的平均厚度的下限，优选为0.3μm，更优选为0.5μm。通过将偏光层的平均厚度设为所述下限以上，可表现出充分的偏光性能。另一方面，作为所述平均厚度的上限，例如为10μm，也可为5μm或2μm。
＜显示装置＞
本发明的一实施方式的圆偏光板可用于各种显示装置等。所谓显示装置，是具有显示元件的装置，显示元件可包含发光元件作为发光源。作为显示装置，例如可列举：液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置、无机电致发光(EL)显示装置、电子发射显示装置(例如电场发射显示装置(场致发射显示器(field emission display，FED))、表面电场发射显示装置(表面传导电子发射显示器(surface-conduction electron-emitterdisplay，SED))等)、电子纸(使用了电子油墨或电泳元件的显示装置)、等离子体显示装置、投射型显示装置(例如光栅光阀(grating light valve，GLV)显示装置、具有数字微镜器件(digital micromirror device，DMD)的显示装置等)、触摸屏型显示装置、及压电陶瓷显示器等。液晶显示装置也包含透过型液晶显示装置、半透过型液晶显示装置、反射型液晶显示装置、直视型液晶显示装置及投影型液晶显示装置等中的任一种。例如，液晶显示装置的液晶单元、有机EL显示装置的有机EL元件、触摸屏显示装置的触摸屏等分别为显示元件。
这些显示装置可为显示二维图像的显示装置，也可为显示三维图像的立体显示装置。本发明的一实施方式的圆偏光板可有效地用于液晶显示装置、电致发光(EL)显示装置及触摸屏型显示装置，特别是可有效地用于EL显示装置(有机EL显示装置及无机EL显示装置)。
作为包括本发明的一实施方式的圆偏光板与显示元件的显示装置的一例，参照图2来说明EL显示装置。图2的EL显示装置30中，在形成有像素电极35的基板33上层叠有作为发光源的有机功能层36、及阴极电极37。在夹着基板33而与有机功能层36相反一侧配置有本发明的一实施方式的圆偏光板100。通过对像素电极35施加正电压、对阴极电极37施加负电压，并对像素电极35及阴极电极37间施加直流电流，有机功能层36发光。作为发光源的有机功能层36包含电子传输层、发光层及空穴传输层等。自有机功能层36射出的光通过像素电极35、层间绝缘膜34、基板33、及圆偏光板100。在图2的EL显示装置30中，圆偏光板100以外的构成为显示元件(有机EL元件)200。显示元件200具有作为透明电极的像素电极35、作为发光源的有机功能层36、阴极电极37等。以下具体地说明具有有机功能层36的有机EL显示装置，但可应用于具有无机功能层的无机EL显示装置。
制造EL显示装置30时，首先，在基板33上以所期望的形状形成薄膜晶体管40。然后形成层间绝缘膜34，继而利用溅镀法将像素电极35成膜，从而进行图案化。之后，层叠有机功能层36。继而，将圆偏光板100设置于基板33的与设置有薄膜晶体管40的面相反的面。在所述情况下，圆偏光板100的相位差层被配置于基板33侧。
其次，简单说明EL显示装置30的除圆偏光板100以外的构件。
作为基板33，可列举：蓝宝石玻璃基板、石英玻璃基板、钠玻璃基板及氧化铝等陶瓷基板；铜等金属基板；塑料基板等。可在基板33上形成导热性膜。作为导热性膜，可列举金刚石薄膜(类金刚石碳(diamond-like carbon，DLC)等)等。基板可单一形成，也可利用接着剂将多个基板贴合而形成为层叠基板。另外，这些基板并不限定于板状基板。
作为薄膜晶体管40，例如可使用多晶硅晶体管等。薄膜晶体管40设置在像素电极35的端部，其大小例如为10μm～30μm左右。像素电极35的大小例如为20μm×20μm～300μm×300μm左右。
在基板33上设置有薄膜晶体管40的配线电极。配线电极的电阻低，具有与像素电极35电性连接而将电阻值抑制得低的功能。一般而言，所述配线电极使用含有Al、Ti、氮化钛(TiN)等的配线电极。
在薄膜晶体管40与像素电极35之间设置有层间绝缘膜34。层间绝缘膜34只要为通过溅镀或真空蒸镀将SiO2等氧化硅、氮化硅等无机系材料成膜而成者、由旋涂玻璃(SpinOn Glass，SOG)形成的氧化硅层、光致抗蚀剂、聚酰亚胺及丙烯酸树脂等树脂系材料的涂膜等具有绝缘性者，则可为任一种。
在层间绝缘膜34上形成肋41。肋41配置于像素电极35的周边部(邻接像素间)。作为肋41的材料，可列举丙烯酸树脂及聚酰亚胺树脂等。肋41的厚度优选为1.0μm以上且3.5μm以下，更优选为1.5μm以上且2.5μm以下。
作为像素电极35，例如可列举：掺锡氧化铟(indium tin oxide，ITO)、掺锌氧化铟(indium zinc oxide，IZO)、IGZO、ZnO、SnO2及In2O3等，优选为ITO及IZO。像素电极35的厚度只要具有可充分进行空穴注入的一定以上的厚度即可，优选为设为10nm～500nm左右。
像素电极35可利用蒸镀法(优选为溅镀法)来形成。作为溅镀气体，并无特别限制，可使用Ar、He、Ne、Kr及Xe等惰性气体、或者这些的混合气体。
有机功能层36分别具有至少一层空穴传输层及发光层，例如依次具有电子注入传输层、发光层、空穴传输层及空穴注入层。
作为发光源的有机功能层36可使用：利用来自单重态激子的发光(荧光)的层、利用来自三重态激子的发光(磷光)的层、包含利用来自单重态激子的发光(荧光)的层与利用来自三重态激子的发光(磷光)的层的层、由有机物形成的层、包含由有机物形成的层与由无机物形成的层的层、高分子材料、低分子材料、包含高分子材料与低分子材料的层等。其中并不限定于此，作为EL元件用，可将使用现有的各种的层的有机功能层36用于EL显示装置30。
作为阴极电极37的构成材料，例如可列举：K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn及Zr等金属元素。为了提高电极的工作稳定性，优选为使用选自例示的金属元素中的二成分或三成分的合金体系。作为合金体系，例如优选为Ag-Mg(Ag：1at％～20at％)、Al-Li(Li：0.3at％～14at％)、In-Mg(Mg：50at％～80at％)及Al-Ca(Ca：5at％～20at％)等。
阴极电极37利用蒸镀法及溅镀法等形成。阴极电极37的厚度优选为0.1nm以上，进而优选为1nm～500nm。
在阴极电极37与密封盖39的空间配置干燥剂38。这是因为有机功能层36不耐湿。可利用干燥剂38吸收水分，从而抑制有机功能层36的劣化。
本发明的一实施方式的圆偏光板作为圆偏光板具有充分的偏光性能。因而，包括本发明的一实施方式的圆偏光板100的EL显示装置30中圆偏光板100具有优异的抗反射性能。因此，EL显示装置30的作为显示装置的性能优异。将本发明的一实施方式的圆偏光板用于其他显示装置的情况下，也可发挥相同的效果。
[实施例]
以下，通过实施例更具体地说明本发明，但本发明并不受这些实施例限制。
在以下的例子中，树脂的重量平均分子量Mw、数量平均分子量Mn及环氧当量通过以下的方法来测定。以下的例子中使用的原料化合物及树脂的所需量通过视需要重复进行下述合成例中所示的合成规模下的合成来确保。
[树脂的重量平均分子量Mw及数量平均分子量Mn]
Mw及Mn是通过以下条件下的GPC测定的聚苯乙烯换算值。
管柱：东曹(股)制造，TSKgelGRCXLII
溶媒：四氢呋喃
温度：40℃
压力：68kgf/cm2
[环氧当量]
环氧当量利用JIS C 2105中记载的盐酸-甲基乙基酮法来测定。
再者，以下有时将“式(X)所表示的化合物”简称为“化合物(X)”。
[合成例1]＜聚有机硅氧烷(SEp-1)的合成＞
向包括搅拌机、温度计、滴加漏斗及回流冷却管的反应容器中，投入2-(3,4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷70.5g、四乙氧基硅烷14.9g、乙醇85.4g及三乙胺8.8g，在室温下混合。继而，自滴加漏斗花费30分钟滴加去离子水70.5g后，在回流下搅拌的同时，在80℃下反应2小时。浓缩反应溶液并利用乙酸正丁酯进行稀释，将所述操作重复进行两次，由此蒸馏去除三乙胺及水，从而获得包含聚有机硅氧烷(SEp-1)的树脂溶液。进行1H-核磁共振(nuclear magnetic resonance，NMR)分析，结果确认到在反应中并未发生环氧基的副反应。所述聚有机硅氧烷(SEp-1)的Mw为11,000，环氧当量为182g/摩尔。
[合成例2]＜肉桂酸衍生物的合成＞
以下的肉桂酸衍生物的合成反应在惰性环境中进行。在包括冷却管的500mL的三口烧瓶中，混合1-溴-4-环己基苯19.2g、乙酸钯0.18g、三(2-甲苯基)膦0.98g、三乙胺32.4g、及二甲基乙酰胺135mL。向所述混合溶液中，利用注射器加入7g丙烯酸并搅拌。进而，对于混合溶液，在120℃下加热3小时的同时进行搅拌。利用薄层色谱法(thin layerchromatography，TLC)确认反应结束后，将反应溶液冷却至室温。过滤分离沉淀物后，将滤液注入至1N盐酸水溶液300mL中，并回收沉淀物。通过利用乙酸乙酯与己烷的1：1(质量比)溶液将回收的沉淀物再结晶，获得10.2g的下述式(M-1)所表示的化合物(肉桂酸衍生物(M-1))。
[化21]
[合成例3]＜聚有机硅氧烷(S-1)的合成＞
向200mL的三口烧瓶中投入合成例1中获得的具有环氧基的聚有机硅氧烷(SEp-1)27.9g、乙酸正丁酯65.5g、合成例2中获得的肉桂酸衍生物(M-1)4.0g、具有丙烯酰基的羧酸(亚罗尼斯(Aronix)M-5300，东亚合成(股)制造)2.6g及四丁基溴化铵0.9g，在80℃下搅拌12小时。反应结束后，进而追加75g的乙酸正丁酯，将所述溶液水洗三次后，进而追加100g的乙酸正丁酯，以固体成分浓度达到10质量％的方式蒸馏去除溶媒。由此，获得含有具有光取向性基及丙烯酰基的聚有机硅氧烷(S-1)的固体成分浓度10质量％的乙酸正丁酯溶液。聚有机硅氧烷(S-1)的重量平均分子量Mw为18,000。
[合成例4]＜丙烯酸系树脂(Pac-1)的合成＞
向包括冷却管及搅拌机的烧瓶中投入作为聚合引发剂的2,2'-偶氮双(异丁腈)1质量份、及作为溶媒的二乙二醇甲基乙醚180质量份。继而，加入甲基丙烯酸3,4-环氧基环己基甲酯70质量份及甲基丙烯酸3-甲基-3-氧杂环丁基甲酯30质量份，进行氮气置换后，开始缓慢搅拌。使溶液温度上升至80℃，将所述温度保持5小时，从而获得包含具有环氧基的丙烯酸系树脂(Pac-1)的树脂溶液。所获得的树脂溶液的固体成分浓度为32.8质量％。所获得的丙烯酸系树脂(Pac-1)的Mn为16,000。
[合成例5]＜丙烯酸系树脂(Pac-2)的合成＞
投入合成例4中获得的具有环氧基的丙烯酸系树脂(Pac-1)100质量份、具有丙烯酰基的羧酸(亚罗尼斯(Aronix)M-5300，东亚合成(股)制造)20质量份、作为催化剂的四丁基溴化铵10质量份、及作为溶媒的丙二醇单甲醚乙酸酯150质量份，在氮环境下且90℃下搅拌12小时。反应结束后，利用丙二醇单甲醚乙酸酯100质量份稀释，并水洗三次。浓缩所述溶液，并利用乙酸丁酯进行稀释，将所述操作重复进行两次，从而获得包含具有丙烯酰基的丙烯酸系树脂(Pac-2)的树脂溶液。所获得的丙烯酸系树脂(Pac-2)的Mn为20,000。再者，所获得的树脂溶液的丙二醇单甲醚乙酸酯的含量为20质量％。
[合成例6]＜聚乙烯醇系树脂(Pva-1)的合成＞
将日本专利第3907735号公报的段落[0073]中记载的聚合物No.4(改性聚乙烯醇)以段落[0101]的记载为基准，合成所述公报的段落[0073]中记载的聚合物No.4(具有甲基丙烯酰基的聚乙烯醇系树脂(Pva-1))。
[实施例1]
1.树脂层形成用组合物的制备
作为树脂，将换算成聚有机硅氧烷(SEp-1)而相当于100质量份的量的含有合成例1中获得的聚有机硅氧烷(SEp-1)的乙酸正丁酯溶液、及作为硬化促进剂的偏苯三甲酸酐(trimellitic anhydride，TA)20质量份混合，向其中加入作为溶媒的乙酸正丁酯(n-butylacetate，BA)及丙二醇单甲醚乙酸酯(propylene glycol monomethyl ether acetate，PGMEA)，制备成固体成分浓度为3质量％、各溶媒的质量比为BA：PGMEA＝80：20。继而，通过利用孔径1μm的过滤器过滤所述获得的溶液，来制备树脂层形成用组合物(A-1)。
2.圆偏光膜(圆偏光板)的制作
(1)基材的表面处理
根据国际公开第2015/008773号中记载的方法，对纤维素膜(富士胶片公司制造的“零延迟塔克(zero retardation TAC)ZRF25”、平均厚度：25μm)的单面进行碱性皂化处理。具体而言，如以下般进行。
在温度60℃的介电式加热辊上使纤维素膜通过，将膜表面温度升温至40℃后，使用棍涂机以涂布量17mL/m2涂布碱性溶液，使其在加热至110℃的蒸气式远红外线加热器下滞留10秒钟。碱性溶液的组成设为氢氧化钾8.6质量份、水24.1质量份、异丙醇56.3质量份、表面活性剂(C16H33O(CH2CH2O)10H)1.0质量份、及丙二醇10.0质量份。继而，同样使用棍涂机涂布2.8mL/m2的蒸馏水，继而重复进行三次利用喷泉式涂布机的水洗与利用气刀的除水，在70℃的干燥区域滞留5秒钟进行干燥，从而制作单面皂化处理膜。
(2)相位差层的制作
制备美国专利第8895118号中记载的包含下述化合物(Ad-1)及化合物(RP-1)以及水的组合物(相位差层形成用组合物)。在所述(1)中获得的皂化处理膜的皂化处理面上，使用棒涂机涂布所获得的相位差层形成用组合物，利用压缩空气进行干燥，从而形成平均厚度3μm的涂膜(相位差层)。
[化22]
(3)树脂层的制作
在所述(2)中获得的相位差层上，使用棒涂机涂布所述1.中制备的树脂层形成用组合物(A-1)。继而，在烘箱内以120℃烘烤2分钟，从而形成平均厚度0.1μm的涂膜(树脂层)。
(4)偏光层的制作
制备包含日本专利特表2011-513376号公报中记载的下述化合物(Ad-2)及日本专利特表2009-511460号公报中记载的下述化合物(RP-2)以及水的组合物(偏光层形成用组合物)。在所述(3)中获得的树脂层上，利用线棒涂机涂布以与所述(2)中涂布的方向呈45°的角度获得的偏光层形成用组合物。之后，利用压缩空气进行干燥，从而形成平均厚度0.9μm的涂膜(偏光层)。由此获得圆偏光膜。
[化23]
3.光学各向异性膜的制作
进行所述“2.圆偏光膜(圆偏光板)的制作”中的(1)、(2)及(3)，获得光学各向异性膜。
4.偏光膜的制作
在所述(1)中获得的皂化处理膜的皂化处理面上，使用棒涂机涂布所述1.中制备的树脂层形成用组合物(A-1)。继而，在烘箱内以120℃烘烤2分钟，从而形成平均厚度0.1μm的涂膜(树脂层)。
继而，在所获得的树脂层上，利用线棒涂机涂布包含所述化合物(Ad-2)及化合物(RP-2)的组合物(偏光层形成用组合物)。之后，利用压缩空气进行干燥，从而形成平均厚度0.9μm的涂膜(偏光层)。由此获得偏光膜。
5.抗反射性(偏光性)的评价
(1)抗反射性(偏光性)
对于所获得的圆偏光膜，使用大塚电子公司制造的显微分光膜厚计“OPTM-A1”来测定反射率。将反射率未满3％评价为“良好(A)”，将3％以上且未满7％评价为“可(B)”，将7％以上评价为“不良(C)”。其结果，在所述实施例1中，评价为抗反射性“良好(A)”。
(2)热稳定性
在60℃的恒温槽中保管100小时后进行测定，除此以外利用所述(1)中所示的方法评价反射率。将反射率的变化(Δ反射率：绝对值)未满0.1％评价为“良好(A)”，将0.1％以上且未满0.5％评价为“可(B)”，将0.5％以上评价为“不良(C)”。其结果，在所述实施例1中为热稳定性“良好(A)”。
6.相位差的评价
(1)相位差性
对于所获得的光学各向异性膜，使用阿克索梅特里克斯(AXOMETRICS)公司制造的“艾索斯泰普(Axo Step)”来评价相位差。将与未形成树脂层(中间层)的光学各向异性膜(比较例2)进行比较时的相位差的差(Δ相位差：绝对值)未满3nm评价为“良好(A)”，将3nm以上且未满8nm评价为“可(B)”，将8nm以上评价为“不良(C)”。其结果，在所述实施例1中为“良好(A)”。
(2)热稳定性
在60℃的恒温槽中保管100小时后进行测定，除此以外利用所述(1)中所示的方法测定相位差。将相位差的变化(Δ相位差：绝对值)未满0.5nm评价为“良好(A)”，将0.5nm以上且未满1nm评价为“可(B)”，将1nm以上评价为“不良(C)”。其结果，在所述实施例1中为“良好(A)”。
7.偏光度的评价
(1)偏光度
对于偏光膜，分析透过膜的光的偏光状态，评价波长550nm下的膜的偏光度。再者，性能越良好，偏光度成为接近1的值，并且在完全非偏光的情况下为0。关于评价，将偏光度为0.990以上设为“良好(A)”，将0.985以上且未满0.990设为“可(B)”，将未满0.985设为“不良(C)”。再者，偏光度使用阿克索梅特里克斯(AXOMETRICS)公司制造的“艾索斯泰普(AxoStep)”进行测定。其结果，在所述实施例1中评价为“良好(A)”。
(2)热稳定性
在60℃的恒温槽中保管100小时后进行测定，除此以外利用所述(1)中所示的方法测定偏光度。将偏光度的变化(Δ偏光度：绝对值)未满0.001设为“良好(A)”，将0.001以上且未满0.005设为“可(B)”，将0.005以上设为“不良(C)”。其结果，在所述实施例1中评价为“良好(A)”。
[实施例2～实施例6]
使用下述表1所示的种类及调配量的各成分，除此以外与所述“1.树脂层形成用组合物的制备”同样地制备各树脂层形成用组合物(A-2)～树脂层形成用组合物(A-6)。其中，实施例2以外的树脂层形成用组合物(A-3)～树脂层形成用组合物(A-6)的固体成分浓度与树脂层形成用组合物(A-1)同样地设为3质量％，实施例2的树脂层形成用组合物(A-2)的固体成分浓度设为15质量％。
另外，使用所获得的各树脂层形成用组合物，与实施例1同样地制作圆偏光膜、光学各向异性膜及偏光膜，并进行各种评价。将这些的结果示于下述表2。
再者，由实施例1～实施例6中使用的树脂层形成用组合物(A-1)～树脂层形成用组合物(A-6)形成的厚度1μm的涂膜的总光线透过率均为85％以上。
[比较例1]
作为树脂层形成用组合物，使用2-(3,4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷(SEm-1)的溶液(a-1)，除此以外与实施例1同样地制作圆偏光膜、光学各向异性膜及偏光膜，并进行各种评价。将其结果示于下述表2。
[比较例2]
完全不形成树脂层，除此以外与实施例1同样地制作圆偏光膜、光学各向异性膜及偏光膜，并进行各种评价。将其结果示于下述表2。
[表1]
表1中的树脂及硬化促进剂的调配量的数值表示相对于树脂100质量份的调配比例(质量份)。另外，表1中的溶媒的调配量的数值表示相对于溶媒的合计100质量份的各溶媒的调配比例(质量份)。
表1中，化合物的简称如以下般。
SEp-1：合成例1中获得的具有环氧基的聚有机硅氧烷(SEp-1)
S-1：合成例3中获得的具有光取向性基及丙烯酰基的聚有机硅氧烷(S-1)
Pac-2：合成例5中获得的具有丙烯酰基的丙烯酸系树脂(Pac-2)
Pva-1：合成例6中获得的具有甲基丙烯酰基的聚乙烯醇系树脂(Pva-1)
TA：偏苯三甲酸酐
B-1：三(乙酰丙酮酸)铝(“铝螯合物(Alumichelate)A(W)”、川研精化制造)
K-1：三(对甲苯基)硅烷醇
BA：乙酸正丁酯
PGMEA：丙二醇单甲醚乙酸酯
PGME：丙二醇单甲醚
WT：蒸馏水
MEOH：甲醇
[表2]
根据表2明确，实施例1～实施例6的圆偏光膜的反射率均为“A”，抗反射性(偏光性)良好。另外，实施例1～实施例6中，其他圆偏光膜的热稳定性、光学各向异性膜的Δ相位差及热稳定性、以及偏光膜的偏光度及热稳定性的评价均为“A”或“B”。可知在各实施例中，树脂层有效地发挥功能。相对于此，代替树脂层而利用低分子化合物设置中间层的比较例1及未设置树脂层(中间层)的比较例2的圆偏光膜的反射率为“B”或“C”，比实施例差。进而，比较例1及比较例2的圆偏光膜的热稳定性均为“C”。
＜液晶显示装置的制作＞
自爱疯(iPhone)X(注册商标，苹果(Apple)公司制造)的有机EL单元剥离可见侧的抗反射膜，用作有机EL的液晶单元。代替剥离的抗反射膜，按照与实施例1相同的顺序在有机EL单元上制作圆偏光膜。确认所述爱疯(iPhone)X的显示性能，且确认到：通过目视完全看不到不均；以及使用大塚电子制造的显微分光膜厚计“OPTM-A1”测定反射率，反射率为2.6％。
Claims (9)
1.一种圆偏光板，其具有：
相位差层，由包含第一液晶化合物及水的相位差层形成用组合物形成；以及
偏光层，由包含第二液晶化合物及水的偏光层形成用组合物形成，所述圆偏光板中，
在所述相位差层与所述偏光层之间具有由包含树脂及有机溶媒的树脂层形成用组合物形成的树脂层。
2.根据权利要求1所述的圆偏光板，其中所述第一液晶化合物及第二液晶化合物为显示溶致性的液晶化合物。
3.根据权利要求1或2所述的圆偏光板，其中所述树脂为聚有机硅氧烷、聚环状烯烃系树脂、芳香族聚醚系树脂、聚酰亚胺系树脂、芴聚碳酸酯系树脂、芴聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺(芳族聚酰胺)系树脂、聚芳酯系树脂、聚砜系树脂、聚醚砜系树脂、聚对苯系树脂、聚酰胺酰亚胺系树脂、聚萘二甲酸乙二酯系树脂、氟化芳香族聚合物系树脂、丙烯酸系树脂、环氧系树脂、聚乙烯醇系树脂、烯丙基酯系硬化型树脂或这些的组合。
4.根据权利要求1或2所述的圆偏光板，其中所述树脂层的总光线透过率为80％以上。
5.根据权利要求3所述的圆偏光板，其中所述树脂层的总光线透过率为80％以上。
6.一种树脂层形成用组合物，是用于形成圆偏光板中的树脂层的组合物，所述树脂层设置于相位差层与偏光层之间，所述圆偏光板具有：
所述相位差层，由包含第一液晶化合物及水的相位差层形成用组合物形成；以及
所述偏光层，由包含第二液晶化合物及水的偏光层形成用组合物形成，
所述树脂层形成用组合物包含树脂及有机溶媒。
7.一种圆偏光板的制造方法，其包括：
在基板上通过包含第一液晶化合物及水的相位差层形成用组合物的涂布形成相位差层的工序；
在所述相位差层上通过包含树脂及有机溶媒的树脂层形成用组合物的涂布形成树脂层的工序；以及
在所述树脂层上通过包含第二液晶化合物及水的偏光层形成用组合物的涂布形成偏光层的工序。
8.一种显示装置，包括如权利要求1至5中任一项所述的圆偏光板与显示元件。
9.根据权利要求8所述的显示装置，其中所述显示元件为液晶单元、有机电致发光元件或触摸屏。
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