CN103675980B - 圆偏振光板及显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的在于提供薄型且宽频带的圆偏振光板以及配备有该圆偏振光板的显示装置。一种圆偏振光板,其特征在于,具有基材与相位差层与偏振光层,相对于所述相位差层的波长λnm的光的双折射率△n(λ)满足式(1)以及式(2),相位差层与偏振光层均为涂覆层,相位差层与偏振光层的总厚度为10μm以下,并且,所述偏振光层含有二色性色素。△n(450)/△n(550)≤1.00 (1)1.00≥△n(650)/△n(550) (2)。

Description

圆偏振光板及显示装置
技术领域
本发明涉及一种圆偏振光板及显示装置。
背景技术
已知的一种液晶显示装置,其具有经碘染色的聚乙烯醇形成的偏振光膜与1/2波长板与1/4波长板层积形成的宽频带圆偏振光板。这样的宽频带圆偏振光板中,需要使1/2波长板的慢轴与偏振光膜的吸收轴所成的角以及1/4波长板的慢轴与偏振光膜的吸收轴所成的角分别错开15°或者75°而层积,所以,难以通过卷对卷贴合来制造该圆偏振光板。另一方面,对显示装置的薄型化要求也变强,所以,也要求圆偏振光板的薄型化。
专利文献1中记载了一种圆偏振光板,其通过在相位差层上层积逆波长分散性膜和起偏器而成,厚度为130~370μm,所述起偏器通过涂布二色性色素而得到。专利文献2中记载了一种圆偏振光板,其由含有热致液晶性或者溶致液晶性的物质的起偏器在相位差层上层积而成,厚度为36~205μm。
现有技术
专利文献1:日本专利特开2006-337892号公报
专利文献2:日本专利特开2009-251288号公报
发明内容
发明要解决的课题
然而,专利文献1中记载的圆偏振光板是2片膜介由粘合剂或者粘接剂层积而成的,所以,在制造工序简易化以及圆偏振光板的厚度方面,并不令人满意。专利文献2中记载的圆偏振光板,其相位差层显示正波长分散性,所以,作为宽频带圆偏振光板的性能不充分。
解决课题的手段
本发明包括以下发明。
[1]一种圆偏振光板,其特征在于,具有基材、相位差层与偏振光层,所述相位差层对波长λnm的光的双折射率Δn(λ)满足式(1)以及式(2),相位差层与偏振光层均为涂覆层,相位差层与偏振光层的总厚度为10μm以下,并且,所述偏振光层含有二色性色素。
Δn(450)/Δn(550)≤1.00 (1)
1.00≤Δn(650)/Δn(550) (2)
[2]根据[1]记载的圆偏振光板,其相位差层通过1种以上的聚合性液晶聚合而形成。
[3]根据[1]或[2]记载的圆偏振光板,其偏振光层通过1种以上的聚合性液晶聚合而形成。
[4]根据[2]或[3]记载的圆偏振光板,其通过照射光使聚合性液晶聚合。
[5]根据[1]~[4]的任一项所述的圆偏振光板,其中,偏光层在X射线衍射测定中得到布拉格峰。
[6]根据[1]~[5]的任一项记载的圆偏振光板,其中,相位差层以及偏振光层的厚度分别在5μm以下。
[7]根据[1]~[6]的任一项记载的圆偏振光板,其中,相位差层、或偏振光层、或其二者形成于取向膜上。
[8]根据[7]记载的圆偏振光板,其中,取向膜是通过照射光而产生取向锚定力的取向膜。
[9]根据[7]或者[8]记载的圆偏振光板,其中,取向膜的厚度在500nm以下。
[10]根据[1]~[9]的任一项记载的圆偏振光板,其中,基材上,介由或者不介由取向膜形成相位差层,相位差层上,介由或者不介由取向膜形成偏振光层。
[11]根据[1]~[9]的任一项记载的圆偏振光板,其中,基材上,介由或者不介由取向膜形成偏振光层,偏振光层上,介由或者不介由取向膜形成相位差层。
[12]根据[10]或[11]记载的圆偏振光板,其中,偏振光层与相位差层之间具有保护层。
[13]根据[1]~[9]的任一项记载的圆偏振光板,其中,基材的一个面上,介由或者不介由取向膜形成偏振光层,基材的另一个面上,介由或者不介由取向膜形成相位差层。
[14]根据[1]~[13]的任一项记载的圆偏振光板,其进一步地还在相位差层或者偏振光层的表面上具有粘合剂层。
[15]根据[14]记载的圆偏振光板,其依次具有基材、第一取向膜、偏振光层、第二取向膜、相位差层以及粘合剂层。
[16]根据[15]记载的圆偏振光板,其中,基材与第一取向膜的剥离强度(F1)低于第一取向膜与偏振光层的剥离强度(F2)、第二取向膜与相位差层的剥离强度(F3)以及相位差层与粘合剂层的剥离强度(F4)。
[17]一种显示装置,其具有[1]~[16]的任一项所述的圆偏振光板与显示元件。
[18]一种带圆偏振光膜的显示装置,其为[14]~[16]的任一项记载的圆偏振光板除去了基材而得到的圆偏振光膜介由该圆偏振光膜的粘合剂层贴合在显示元件的显示面上而得到的。
[19]根据[18]记载的显示装置,其中,圆偏振光膜的厚度在5μm以上15μm以下。
[20]根据[17]~[19]的任一项记载的显示装置,其中,显示元件为液晶盒、有机电致发光元件或者触摸面板。
[21]一种带圆偏振光膜的显示装置的制造方法,其中,将[14]~[16]的任一项记载的圆偏振光板,介由该圆偏振光板的粘合剂层贴合在显示元件的显示面上,且该圆偏振光板除去了基材。
发明的效果
根据本发明,可以提供薄型且宽频带的圆偏振光板以及配备该圆偏振光板的显示装置。
附图说明
【图1】本发明的圆偏振光板的截面示意图。
【图2】含有本发明的圆偏振光板的液晶显示装置的示意图。
【图3】含有本发明的圆偏振光板的有机EL显示装置的示意图。
符号说明
1 本圆偏振光板
2 基材
3 相位差层
4 偏振光层
5 二色性色素
10 液晶显示装置
11a、11b 本圆偏振光板
12a、12b 基板
13 滤色器
14 透明电极
15 液晶层
16 层间绝缘膜
17 背光单元
18 黑色矩阵
19 薄膜晶体管
20 像素电极
21 隔离层
30 有机EL显示装置
31 本圆偏振光板
32 基板
33 层间绝缘膜
34 像素电极
35 发光层
36 阴极电极
37 密封层
38 薄膜晶体管
39 肋状物
具体实施方式
基材通常是透明的基材。另外,本发明的圆偏振光板(以下,称之为本圆偏振光板)的基材不设置在显示元件的显示面上时,例如,将本圆偏振光板除去了基材的圆偏振光膜设置在显示元件的显示面上时,基材可以是不透明的。透明基材是指可以透过光、特别是可见光的具有透明性的基材,透明性是指,对波长380~780nm的光线的透过率在80%以上的特性。具体地作为透明基材,举例有透光性树脂基材。作为构成透光性树脂基材的树脂,举例有聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃;降冰片稀系聚合物等环状烯烃系树脂;聚乙烯醇;聚对苯二甲酸乙二酯;聚甲基丙烯酸酯;聚丙烯酸酯;三乙酰纤维素、二乙酰纤维素,纤维素乙酸丙酸酯等纤维素酯;聚萘二甲酸乙二醇酯;聚碳酸酯;聚砜;聚醚砜;聚醚酮;聚苯硫醚以及聚苯醚等。从容易购买以及透明性方面出发,优选聚对苯二甲酸乙二酯、聚甲基丙烯酸酯、纤维素酯、环状烯烃系树脂或者聚碳酸酯。
纤维素酯是将纤维素中包含的羟基的一部分或者全部酯化而得到的,在市场上可以容易地购买到。此外,纤维素酯基材是可以容易地从市场上购买到。作为市售的纤维素酯基材,举例有例如,“FUJITAC(フジタック)膜”(富士感光胶片株式会社);“KC8UX2M”、“KC8UY”以及“KC4UY”(柯尼卡美能达株式会社)等。
环状烯烃系树脂容易在市场上购买到。作为市售的环状烯烃系树脂,举例有“Topas”[Ticona社(德)];“ア一トン(Arton)”[JSR(株)];“ZEONOR(ゼオノア)”以及“ZEONEX(ゼオネックス)”[日本瑞翁(株)]以及“アペル”[三井化学(株)制]这样的环状烯烃系树脂例如通过溶剂烧铸法或熔融挤压法等公知的方法制膜后作为基材。同时,还可使用市售的已成膜状态的环状烯烃系树脂基材。作为这样的市售环状烯烃系树脂基材举例有“エスシ一ナ”、“SCA40”[积水化学工业(株)];“ゼオノア膜”[オプテス(Optes)(株)]以及“ア一トン(Arton)膜”[JSR(株)]等。
当环状烯烃系树脂为环状烯与链状烯或具有乙烯基的芳香族化合物的共聚物时,来源自环状烯的结构单位的含有比例,相对于共聚物的全部结构单位,通常在50摩尔%以下,优选15~50摩尔%的范围。作为链状烯,举例有乙烯以及丙烯,作为具有乙烯基的芳香族化合物,举例有苯乙烯、α-甲基苯乙烯以及烷基取代苯乙烯。当环状烯烃系树脂为环状烯与链状烯与具有乙烯基的芳香族化合物的三元共聚物时,来源自链状烯的结构单位的含有比例,相对于共聚物的全部结构单位,通常为5~80摩尔%,来源自具有乙烯基的芳香族化合物的结构单位的含有比例,相对于共聚物的全部结构单位,通常为5~80摩尔%。这样的三元共聚物在制造时,具有可以使用比较少量的高价环状烯的优点。
基材所要求的特性根据圆偏振光板的结构而不同,通常,优选相位差性尽可能地小的基材。作为相位差性尽可能地小的基材,举例有ゼロ夕ツク(柯尼卡美能达株式会社)、Z夕ツク(富士胶片株式会社)等没有相位差的纤维素酯膜。此外,还优选未拉伸的环状烯烃系树脂基材。
基材上,介由或者不介由取向膜形成有偏振光层,偏振光层上,介由或者不介由取向膜形成了相位差层的圆偏振光板,在没有形成偏振光层的基材的面上,可以实施硬质涂层处理、防反射处理、防静电处理等。此外,在不影响性能的范围内,硬质涂层可以含有紫外线吸收剂等添加剂。
基材的厚度过薄时,强度会降低,加工性也有劣化的倾向,所以,通常为5~300μm,优选20~200μm。
相位差层是对波长λnm的光的双折射率Δn(λ)满足式(1)以及式(2)的涂覆层。涂覆层是指通过涂敷形成的层。
Δn(450)/Δn(550)≤1.00 (1)
1.00≤Δn(650)/Δn(550) (2)
测量的延迟值除以相位差层的厚度,得到双折射率Δn(λ)。具体地测定方法已经在实施例中显示,此时,通过测定在玻璃基板这样的基材自身没有延迟的基材上制膜所得物,可以测定实际的相位差层的特性。
相位差层优选1种以上的聚合性液晶(以下,称之为聚合性液晶(A)。)聚合所形成的层。
聚合性液晶是具有聚合性基团,并且,具有液晶性的化合物。聚合性基团是指参与聚合反应的基团,优选光聚合性基团。在这里,光聚合性基团是指通过由后述的光聚合引发剂产生的活性自由基或酸等,能够参与聚合反应的基团。作为聚合性基团,举例有乙烯基、乙烯基羟基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、丙烯酰基羟基、甲基丙烯酰羟基、环氧乙烷基、环氧丙烷基等。其中,优选丙烯酰基羟基、甲基丙烯酰羟基、乙烯氧基、环氧乙烷基以及环氧丙烷基,更优选丙烯酰基羟基。液晶性可以是热致性液晶,或溶致液晶,热致液晶以有序度分类时,可以是向列型液晶或者近晶液晶。
其中,从容易制膜方面出发,优选热致性的向列型液晶,此外,从赋予所述式(1)以及所述式(2)所表示的相位差性方面出发,优选下述式(A)所表示的化合物(以下,称之为化合物(A))。该聚合性液晶可以单独使用,也可以组合使用。
[式(A)中,
X1表示氧原子、硫原子或NR1-。R1表示氢原子或碳原子数1~4的烷基。
Y1表示可以具有或者不具有取代基的碳原子数6~12的1价的芳香族烃基或可以具有或者不具有取代基的碳原子数3~12的1价的芳香族杂环式基表示。
Q3及Q4分别独立地表示氢原子、可以具有或者不具有取代基的碳原子数1~20的1价的脂肪族烃基、碳原子数3~20的1价的脂环式烃基、可以具有或者不具有取代基的碳原子数6~20的1价的芳香族烃基、卤素原子、氰基、硝基、-NR2R3或-SR2、或、Q3与Q4相互结合,与碳原子一起形成的芳香环或芳香族杂环。R2及R3分别独立地表示氢原子或碳原子数1~6的烷基。
D1及D2分别独立地表示单键、-C(=O)-O-、-C(=S)-O-、-CR4R5-、-CR4R5-CR6R7-、-O-CR4R5-、-CR4R5-O-CR6R7-、-CO-O-CR4R5-、-O-CO-CR4R5-、-CR4R5-O-CO-CR6R7-、-CR4R5-CO-O-CR6R7-或NR4-CR5R6-或CO-NR4-。
R4、R5、R6及R7分别独立地表示氢原子、氟原子或碳原子数1~4的烷基。
G1及G2分别独立地表示碳原子数5~8的2价的脂环式烃基,构成该脂环式烃基的亚甲基可以用氧原子、硫原子或NH-取代,构成该脂环式烃基的甲基可以被叔氮原子取代。
L1及L2分别独立地表示1价的有机基团,L1及L2之中的至少一个具有聚合性基团。]
化合物(A)中的L1优选式(A1)表示的基团,另外,L2优选式(A2)表示的基团。
P1-F1-(B1-A1)k-E1- (A1)
P2-F2-(B2-A2)1-E2- (A2)
[式(A1)及式(A2)中、
B1、B2、E1及E2分别独立地表示-CR4R5-、-CH2-CH2-、-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-O-、-CS-O-、-O-CS-O-、-CO-NR1-、-O-CH2-、-S-CH2-或单键。
A1及A2分别独立地表示碳原子数5~8的2价的脂环式烃基或碳原子数6~18的2价的芳香族烃基,构成该脂环式烃基的亚甲基可以被氧原子、硫原子或NH-取代,构成该脂环式烃基的甲基可以被叔氮原子取代。
k及1分别独立地表示0~3的整数。
F1及F2表示碳原子数1~12的2价的脂肪族烃基。
P1表示聚合性基团。
P2表示氢原子或聚合性基团。
R4及R5分别独立地表示氢原子、氟原子或碳原子数1~4的烷基。]
作为优选的化合物(A),举例有特表2011-207765号公报中记载的化合物。
作为聚合性液晶的具体例,举例有液晶手册(液晶手册编集委员会编、丸善(株)平成12年10月30日发行)的「3.8.6network(完全交联型)」、「6.5.1液晶材料b.聚合性向列型液晶材料」中记载的化合物中具有聚合性基团的化合物。
相位差层通常是通过将含有1种以上的聚合性液晶(A)的组合物涂布在基材、取向膜或偏振光层上,使得到的涂膜中的该聚合性液晶(A)聚合而形成的。
本发明中的取向膜具有使聚合性液晶朝向期望的方向取向的取向锚定力。
作为取向膜,优选具有在涂布含有聚合性液晶的组合物等的情况下不溶解的耐溶剂性,另外,在为了除去溶剂或聚合性液晶的取向而进行的加热处理中具有耐热性。作为这样的取向膜,举例有含有取向性聚合物的取向膜及光取向膜。
作为取向性聚合物,举例有分子内具有酰胺键的聚酰胺或明胶类、分子内具有酰亚胺键的聚酰亚胺及其水解物的聚酰胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯酰胺、聚噁唑、聚乙烯亚胺、聚苯乙烯、聚乙烯基吡咯烷酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯类。其中,优选聚乙烯醇。可以组合2种以上的取向性聚合物使用。
含有取向性聚合物的取向膜通常通过将取向性聚合物在溶剂中溶解了的组合物(以下、称为取向性聚合物组合物。)涂布在基材上,除去溶剂,或者,将取向性聚合物组合物涂布在基材上,除去溶剂,摩擦(摩擦法)后得到。
作为所述溶剂,举例有水、甲醇、乙醇、乙二醇、异丙基醇、丙二醇、甲基溶纤剂、丁基溶纤剂、丙二醇单甲基醚等醇溶剂、醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁内酯、丙二醇甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯溶剂、丙酮、甲基乙基酮、环戊酮、环己酮、甲基戊基酮、甲基异丁基酮等酮溶剂、戊烷、己烷、正庚烷等脂肪族烃溶剂、甲苯、二甲苯等芳香族烃溶剂、乙腈等腈溶剂、四氢呋喃、二甲氧基乙烷等醚溶剂,及,氯仿、氯苯等氯化烃溶剂。这些溶剂,可以单独使用,也可以二种以上组合使用。
取向性聚合物组合物中的取向性聚合物的浓度,只要是取向性聚合物材料处于能够完全溶解在溶剂中的范围内即可,相对于溶液,固体成分换算后,优选0.1~20%、进一步优选0.1至10%的程度。
作为取向性聚合物组合物,可以直接使用市售的取向膜材料。作为市售的取向膜材料,举例有サンエバ一(注册商标、日产化学工业(株)制)、オプトマ一(注册商标、JSR(株)制)等。
作为将取向性聚合物组合物涂布在基材上的方法,举例有旋涂法、挤压法、凹版印刷涂覆法、模具涂覆法、棒涂法、敷贴器法等涂布法、柔印法等印刷法等公知的方法。通过后述的卷对卷形式的连续制造方法制造本圆偏振光板时,该涂布方法通常采用凹版印刷涂覆法、模具涂覆法或者柔印法等印刷法。
作为除去取向性聚合物组合物含有的溶剂的方法,举例有自然干燥法、通风干燥法、加热干燥及减压干燥法等。
为了赋予取向膜取向锚定力,可以根据需要进行摩擦(摩擦法)。
作为通过摩擦法赋予取向锚定力的方法举例有,使卷绕有摩擦布的正在旋转的摩擦辊与取向性聚合物的膜相互接触的方法,所述取向性聚合物的膜是将取向性聚合物组合物涂布在基材上,通过退火处理在基材表面上形成的。
光取向膜通常是将含有具有光反应性基团的聚合物或单体和溶剂的组合物(以下、称之为“光取向膜形成用组合物”。)涂布在基材上,照射偏振光(优选、偏振UV)后得到的。光取向膜通过选择照射的偏振光的偏振方向,可以任意地控制取向锚定力的方向,从该点出发是优选的。
光反应性基团是通过光照射产生液晶取向能的基团。具体的举例有,通过光照射,参与生成物分子的诱发取向或异构化反应、二聚反应、光交联反应或者光分解反应等光反应的基团,这些光反应成为液晶取向能的起源。其中,参与二聚反应或光交联反应的基团取向性优异,故而优选。作为光反应性基团,优选具有不饱和键、特别是双键的基团、特别优选具有碳-碳双键(C=C键)、碳-氮双键(C=N键)、氮-氮双键(N=N键)及碳-氧双键(C=O键)所形成的组中选择的至少一个的基团。
作为C=C键具有的光反应性基团,举例有具有乙烯基、多烯基、芪基、芪唑基、类杂芪基、查耳酮基及肉桂酰基。作为具有C=N键的光反应性基团,举例有具有芳香族席夫碱、芳香族腙等结构的基团。作为具有N=N键的光反应性基团,举例有具有偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族杂环偶氮基、双偶氮基、甲臜基、及氧化偶氮苯结构的基团。作为具有C=O键的光反应性基团,举例有二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基及马来酸酐缩亚胺基。这些基团可以具有或者不具有下述取代基:烷基、烷氧基、芳基、烯丙氧基、氰基、烷氧羰基、羟基、磺酸基、卤化烷基等。
其中,优选能发生光二聚反应的光反应性基团,从光取向时必需的偏振光照射量较少、且,容易得到热稳定性或经时稳定性优异的光取向膜方面出发,优选肉桂酰基及查耳酮基。作为具有光反应性基团的聚合物,特别优选该聚合物侧链的末端部具有作为桂皮酸结构的肉桂基。
通过将光取向膜形成用组合物涂布在基材上,可以在基材上形成光取向诱发层。作为该组合物中含有的溶剂,举例有与上述取向性聚合物组合物含有的溶剂相同的溶剂,可以适宜选择与具有光反应性基团的聚合物或单体的溶解性相适应的。
具有光取向膜形成用组合物中的光反应性基团的聚合物或单体的含有量,可以根据聚合物或单体的种类或目标光取向膜的厚度来适宜调节,优选至少为0.2质量%,更优选0.3~10质量%的范围。在不明显损失光取向膜的特性的范围内,光取向膜形成用组合物可以含有聚乙烯醇或聚酰亚胺等高分子材料或光增敏剂。
作为将光取向膜形成用组合物涂布在基材上的方法,举例有与将取向性聚合物组合物涂布在基材上方法相同的方法。作为从涂布的光取向膜形成用组合物中除去溶剂的方法,举例有例如,与从取向性聚合物组合物中除去溶剂的方法相同的方法。
进行偏振光照射时,可以采取对基板上涂布的光取向膜形成用组合物除去溶剂后直接照射偏振光UV的形式,也可以是从基材侧照射偏振光,使偏振光透过的形式。另外,特别优选该偏振光实质上是平行光。照射偏振光的波长只要是在具有光反应性基团的聚合物或单体的光反应性基团可以吸收光能的波长领域内即可。具体地,特别优选波长250~400nm的范围的UV(紫外线)。作为该偏振光照射中使用的光源,举例有氙灯、高压汞灯、超高压汞灯、金属卤灯、KrF、ArF等紫外光激光器等,更优选高压汞灯、超高压汞灯及金属卤灯。这些灯具有波长313nm的紫外线的较大的发光强度,故而优选。来自上述光源的光透过适当的起偏器进行照射时,可以照射偏振UV。作为这样的起偏器,可以使用偏振光过滤器或格兰-汤姆森棱镜、格兰-泰勒棱镜等偏振光棱镜或线栅型的起偏器。
另外,进行摩擦或偏振光照射时,如果实施掩蔽,可以形成液晶取向的方向不同的多个区域(图案(pattern))。
取向膜(含有取向性聚合物的取向膜及光取向膜)的厚度通常为10nm~10000nm的范围,优选10nm~1000nm的范围,更优选500nm以下,进一步优选10nm~100nm的范围。
相位差层的形成中使用的含有1种以上的聚合性液晶(A)的组合物(以下、称之为组合物A。)通常含有溶剂,作为溶剂,举例有与上述取向性聚合物组合物含有的溶剂相同的溶剂,可以根据聚合性液晶(A)的溶解性适宜选择。
组合物A的涂布通常透过旋涂法、挤压法、凹版印刷涂覆法、模具涂覆法、棒涂法、敷贴器法等涂布法、或柔印法等印刷法等公知的方法进行。涂布后,通常在得到的涂布膜中含有的聚合性液晶(A)不聚合的条件下除去溶剂,形成干燥被膜。作为干燥方法,举例有自然干燥法、通风干燥法、加热干燥及减压干燥法。
聚合性液晶(A)的聚合可以通过使具有聚合性官能基团的化合物聚合的公知的方法进行。具体地,举例有热聚合及光聚合,从聚合的容易度方面出发,优选光聚合。优选通过光聚合使聚合性液晶(A)聚合时,涂布含有光聚合引发剂的组合物A,待干燥后得到的干燥被膜中的聚合性液晶(A)呈液晶相状态后,保持该液晶状态,使其光聚合。
通常通过在干燥被膜上照射光来实施光聚合。作为照射光,根据干燥被膜含有的光聚合引发剂的种类、聚合性液晶(A)的种类(特别是、聚合性液晶(A)包括的光聚合基的种类)及其量适宜选择,具体地,举例有从可见光、紫外光及激光所形成的组中选择的光、活性电子束。其中,从容易控制聚合反应的进行方面,及可以使用该领域中广泛使用的装置作为光聚合装置的方面出发,优选紫外光,优选选择的聚合性液晶(A)或光聚合引发剂的种类可以通过紫外光进行光聚合。另外,聚合时,可以边通过适当地冷却手段冷却干燥被膜,边照射光,由此来控制聚合温度。通过采用这样的冷却手段,在更低温下实施聚合性液晶(A)的聚合时,即使使用耐热性较差的基材,也可以适当地形成相位差层。光聚合时,通过进行掩蔽和显影等,还可以得到有图案的相位差层。
本圆偏振光板中的相位差层与偏振光层的总厚度在10μm以下。相位差层的厚度优选0.5μm以上9.5μm以下,更优选1μm以上5μm以下。偏振光层的厚度优选0.5μm以上9.5μm以下,更优选1μm以上5μm以下。相位差层及偏振光层的厚度通常可以通过干涉膜厚计、激光显微镜或触针式膜厚计的测定求出。
偏振光层含有二色性色素。“二色性色素”是指具有分子的长轴方向中的吸光度与短轴方向上的吸光度不同的性质的色素。只要具有这样的性质,则对二色性色素没有限制,可以是染料,也可以是颜料。也可以二种以上的染料组合使用,可以是二种以上的颜料组合使用,也可以染料与颜料组合使用。
二色性色素优选300~700nm的范围内具有最大吸收波长(λMAX)的。作为这样的二色性色素,举例有吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素及蒽醌色素,其中,优选偶氮色素。作为偶氮色素,举例有单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素及芪偶氮色素,优选双偶氮色素及三偶氮色素。
偶氮色素作为,举例有式(1)表示的化合物(以下、根据场合称为“化合物(1)”。)。
A1(-N=N-A2)p-N=N-A3 (1)
[式(1)中、
A1及A3分别独立地表示可以具有或者不具有取代基的苯基,可以具有或者不具有取代基的萘基或可以具有或者不具有取代基的1价的杂环基。A2表示可以具有或者不具有取代基的对亚苯基、可以具有或者不具有取代基的萘-1,4-二基或可以具有或者不具有取代基的2价的杂环基。p表示1~4的整数。p为2以上的整数时,多个A2可以相同也可以不同。]
作为1价的杂环基,举例有喹啉、噻唑、苯并噻唑、噻吩噻唑、咪唑、苯并咪唑、噁唑、苯并噁唑等杂环化合物中除去了1个氢原子的基团。作为2价的杂环基,举例有上述杂环化合物中除去了2个氢原子的基团。
作为A1及A3中的苯基,萘基及1价的杂环基、及A2中的对亚苯基、萘-1,4-二基及2价的杂环基可以任意具有的取代基,举例有碳原子数1~4的烷基;甲氧基、乙氧基、丁氧基等碳原子数1~4的烷氧基;三氟甲基等碳原子数1~4的氟烷基;氰基;硝基;卤素原子;氨基、二乙氨基、吡咯烷吡啶基等取代或者无取代的氨基(取代氨基是指具有1个或2个碳原子数1~6的烷基的氨基、或2个取代烷基相互结合形成碳原子数2~8的亚烷基的氨基。无取代氨基为-NH2。)。
化合物(1)中,优选以下式(1-1)~式(1-6)的任一项表示的化合物。
[式(1-1)~(1-6)中、
B1~B20分别独立地表示氢原子、碳原子数1~6的烷基、碳原子数1~4的烷氧基、氰基、硝基、取代或无取代的氨基(取代氨基及无取代氨基定义如上所述)、氯原子或三氟甲基。
n1~n4分别独立地表示0~3的整数。
n1在2以上时,多个B2可以相同也可以不同,
n2在2以上时,多个B6可以相同也可以不同,
n3在2以上时,多个B9可以相同也可以不同,
n4在2以上时,多个B14可以相同也可以不同。]
作为上述蒽醌色素,优选式(1-7)表示的化合物。
[式(1-7)中、
R1~R8分别独立地表示氢原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或卤素原子。
Rx表示碳原子数1~4的烷基或碳原子数6~12的芳基。]
作为上述噁嗪色素,优选式(1-8)表示的化合物。
[式(1-8)中、
R9~R15分别独立地表示氢原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或卤素原子。
Rx表示碳原子数1~4的烷基或碳原子数6~12的芳基。]
作为上述吖啶色素,优选式(1-9)表示的化合物。
[式(1-9)中、
R16~R23分别独立地表示氢原子、-Rx、-NH2、-NHRx、-NRx 2、-SRx或卤素原子。
Rx表示碳原子数1~4的烷基或碳原子数6~12的芳基。]
式(1-7)、式(1-8)及式(1-9)中,作为Rx的碳原子数1~6的烷基,举例有甲基、乙基、丙基、丁基、戊基及己基,作为碳原子数6~12的芳基,举例有苯基、甲苯基、二甲苯基及萘基。
作为上述花青色素,优选式(1-10)表示的化合物及式(1-11)表示的化合物。
[式(1-10)中,
D1及D2分别独立地表示式(1-10a)~式(1-10d)的任一项表示的基团。
n5表示1~3的整数。]
[式(2-11)中,
D3及D4分别独立地表示式(1-11a)~式(1-11h)的任一项表示的基团。
n6表示1~3的整数。]
偏振光层是涂覆层。另外,优选除了二色性色素之外,涂布含有作为主化合物的1种以上的聚合性液晶(以下、称之为聚合性液晶(B))的组合物(以下、称之为组合物B),通过使得到的涂膜中的聚合性液晶(B)聚合形成偏振光层。
聚合性液晶(B)显示的液晶状态优选近晶相、从可以制造取向有序度更高的偏振光层方面出发,更优选高次近晶相。“高次近晶相”是指近晶B相、近晶D相、近晶E相、近晶F相、近晶G相、近晶H相、近晶I相、近晶J相、近晶K相及近晶L相,其中,更优选近晶B相、近晶F相及近晶I相。取向有序度高的偏振光层在X射线衍射测定中,得到来自六角相(hexatic)或结晶相等高次结构的布拉格峰。“布拉格峰”是指来自分子取向的面周期结构的峰,优选周期间隔为3.0~5.0的偏振光层。
显示近晶相的聚合性液晶(B)称为聚合性近晶液晶化合物。作为聚合性近晶液晶化合物,举例有式(B)表示的化合物(以下、称为化合物(B)。)。
U1-V1-W1-X1-Y1-X2-Y2-X3-W2-V2-U2 (B)
[式(B)中,
X1、X2及X3分别独立地表示可以具有或者不具有取代基的1,4-亚苯基或可以具有或者不具有取代基的1,4-亚环己基。但是,X1、X2及X3中的至少一个为可以具有或者不具有取代基的1,4-亚苯基。构成1,4-亚环己基的-CH2-可以被-O-、-S-或-NR-取代。R表示碳原子数1~6的烷基或苯基。
Y1及Y2分别独立地表示-CH2CH2-、-CH2O-、-COO-、-OCOO-、单键、-N=N-、-CRa=CRb-、-C≡C-或CRa=N-。Ra及Rb分别独立地表示氢原子或碳原子数1~4的烷基。
U1表示氢原子或聚合性基团。
U2表示聚合性基团。
W1及W2分别独立地表示单键、-O-、-S-、-COO-或OCOO-。
V1及V2分别独立地表示可以具有或者不具有取代基的碳原子数1~20的亚烷基,构成该亚烷基的-CH2-可以被-O-、-S-或NH-取代。]
优选X1、X2及X3中的至少2个为可以具有或者不具有取代基的1,4-亚苯基。
优选可以具有或者不具有取代基的1,4-亚苯基是无取代的。优选可以具有或者不具有取代基的1,4-亚环己烷是可以具有或者不具有取代基的反式-1,4-亚环己基,优选可以具有或者不具有取代基的反式-1,4-亚环己基为无取代的。
作为可以具有或者不具有取代基的1,4-亚苯基或可以具有或者不具有取代基的1,4-亚环己基可以任意地具有的取代基,举例有甲基、乙基、丙基等碳原子数1~4的烷基、氰基及卤素原子。
优选Y1为-CH2CH2-、-COO-或单键,优选Y2为-CH2CH2-或CH2O-。
U2为聚合性基团。U1表示氢原子或聚合性基团,优选聚合性基团。U1及U2优选同时为聚合性基团,优选同时为光聚合性基团。“光聚合性基团”是指能够通过后述的光聚合引发剂产生的活性自由基或酸等参与聚合反应的基团。
U1表示的光聚合性基团与U2表示的聚合性基团虽然可以相互不同,但是优选同种类的基团。作为聚合性基团,举例有乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基,丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、环氧乙烷基及环氧丙烷基。其中,优选丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、乙烯氧基、环氧乙烷基及环氧丙烷基,更优选丙烯酰氧基。
作为V1及V2表示的亚烷基,举例有亚甲基、亚乙基、1,3-亚丙基、1,3-亚丁基、1,4-亚丁基、1,5-亚戊基、1,6-亚己基、1,7-亚庚基、1,8-亚辛基、1,10-亚癸基、1,14-亚十四烷基及1,20-亚二十烷基。V1及V2,优选碳原子数2~12的亚烷基,更优选碳原子数6~12的亚烷基。
作为该亚烷基可以任意地具有的取代基,举例有氰基及卤素原子,优选该亚烷基为无取代的、更优选无取代且直链的亚烷基。
W1及W2分别独立地优选为单键或O-的基团。
作为化合物(B),举例有式(B-1)~式(B-25)表示的化合物。化合物(B)具有1,4-亚环己基时,该1,4-亚环己基优选反式体。
其中,优选式(B-2)、式(B-3)、式(B-4)、式(B-5)、式(B-6)、式(B-7)、式(B-8)、式(B-13)、式(B-14)、式(B-15)、式(B-16)及式(B-17)表示的化合物所形成的组中选择的至少1种。
例示的聚合性液晶(B)可以単独或组合使用。另外,组合2种以上的聚合性液晶时,优选至少1种为聚合性液晶(B),更优选2种以上为聚合性液晶(B)。通过组合,可以在液晶-结晶相变温度以下的温度时也能暂时保持液晶性。组合2种聚合性液晶化合物时,作为其混合比,通常为1:99~50:50,优选5:95~50:50,更优选10:90~50:50。
聚合性液晶(B)是通过例如,Lub et al.Recl.Trav.Chim.Pays-Bas,115,321-328(1996)、或专利第4719156号等中记载的公知方法来制造的。
组合物B中的聚合性液晶(B)的含有比例相对于组合物的固体成分,优选70~99.9质量%,更优选80~99.9质量%。聚合性液晶(B)的含有比例如果在上述范围内,聚合性液晶(B)的取向性有变高的倾向。在这里,“固体成分”是指从组合物B除去了溶剂等挥发性成分后成分的合计量。
组合物B中的二色性色素的含有量可以根据二色性色素的种类等适当调节,但是,相对于聚合性液晶(B)100质量份,优选0.1质量份以上50质量份以下,更优选0.1质量份以上20质量份以下,进一步优选0.1质量份以上10质量份以下。二色性色素的含有量如果是在这个范围内,可以在不扰乱聚合性液晶(B)的取向的情况下使其聚合。二色性色素的含有量过多时,恐怕会阻碍聚合性液晶(B)的取向。
组合物B优选含有溶剂。一般地,因为近晶液晶化合物的粘度高,含有溶剂的组合物,容易涂布,結果以容易地形成偏振光膜的场合居多。作为溶剂,举例有与上述取向性聚合物组合物含有的溶剂相同的溶剂,可以根据聚合性液晶(B)及二色性色素的溶解性适宜选择。
溶剂的含有量相对于组合物B的总量,优选50~98质量%。换而言之,组合物B中的固体成分优选2~50质量%。
组合物A及/或组合物B优选含有1种以上的流平剂。流平剂可以调整组合物B的流动性,具有使涂布组合物B所得到的涂布膜更平坦的功能,具体地,举例有表面活性剂。作为流平剂,优选以聚丙烯酸酯化合物为主成分的流平剂及以含有氟原子的化合物为主成分的流平剂形成的组中选择的至少1种。
作为以聚丙烯酸酯化合物为主成分的流平剂,举例有“BYK-350”、“BYK-352”、“BYK-353”、“BYK-354”、“BYK-355”、“BYK-358N”、“BYK-361N”、“BYK-380”、“BYK-381”及“BYK-392”[BYK Chemie社]。
作为以含有氟原子的化合物为主成分的流平剂,举例有“メガファツク(注册商标)R-08”、同”R-30”、同”R-90”、同”F-410”、同”F-411”、同”F-443”、同”F-445”、同”F-470”、同”F-471”、同”F-477”、同”F-479”、同”F-482”及同”F-483”[DIC(株)];”サ一フロン(注册商标)S-381”、同”S-382”、同”S-383”、同”S-393”、同”SC-101”、同”SC-105”、”KH-40”及”SA-100”[AGCセィミケミカル(株)];”E1830”、”E5844”[(株)daikin fine chemical研究所];”ェフトツプEF301”、”ェフトツプEF303”、”ェフトツプEF351”及”ェフトツプEF352”[三菱Materials电子化成(株)]。
组合物A及/或组合物B含有流平剂时,其中的含有量相对于聚合性液晶100质量份,优选0.05质量份以上5质量份以下,更优选0.05质量份以上3质量份以下。流平剂的含有量在上述的范围内,使聚合性液晶水平取向变得容易,且,得到的偏振光层倾向于更平滑。相对于聚合性液晶,流平剂的含有量在上述的范围内,得到的偏振光层倾向于不容易产生不均。
组合物A及/或组合物B优选含有1种以上的聚合引发剂。聚合引发剂是可以引发聚合性液晶(B)的聚合反应的化合物,从在更低温条件下,也可以引发聚合反应方面出发,优选光聚合引发剂。具体地,举例有通过光作用可以产生活性自由基或酸的光聚合引发剂,其中,优选通过光作用产生自由基的光聚合引发剂。
作为聚合引发剂举例有,安息香化合物、二苯甲酮化合物、苯烷基酮化合物、酰基氧化膦化合物、三嗪化合物、碘鎓盐以及锍盐。
作为安息香化合物举例有安息香、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香异丙基醚及安息香异丁基醚。
作为二苯甲酮化合物,举例有二苯甲酮、邻苯甲酰基安息香酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4’-甲基二苯基硫、3,3’,4,4’-四(叔丁基过氧羰基)二苯甲酮及2,4,6-三甲基二苯甲酮。
作为苯烷基酮化合物,举例有二乙氧基苯乙酮、2-甲基-2-吗啉-1-(4-甲硫基苯基)丙烷-1-酮、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉苯基)丁烷-1-酮、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羟基-2-甲基-1-[4-(2-羟基乙氧基)苯基]丙烷-1-酮、1-羟基环己基苯基甲酮以及2-羟基-2-甲基-1-〔4-(1-甲基乙烯基)苯基〕丙烷-1-酮的低聚物。
作为酰基氧化膦化合物,举例有2,4,6-三甲基苯甲酰联二苯基氧化膦以及双(2,4,6-三甲基苯甲酰)苯基氧化膦。
作为三嗪化合物,举例有2,4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-〔2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-〔2-(呋喃-2-基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-〔2-(4-二乙基氨基-2-甲基苯基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-〔2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪。
聚合引发剂可以使用市售品。作为市售的聚合引发剂,举例有“ィルガキュァ(Irgacure)(注册商标)907”、“ィルガキュァ(注册商标)184”、“ィルガキュァ(注册商标)651”、“ィルガキュァ(注册商标)819”、“ィルガキュァ(注册商标)250”、“ィルガキュァ(注册商标)369”(汽巴日本(株));“セィクォ一ル(Seikuol)(注册商标)BZ”、“セィクォ一ル(Seikuol)(注册商标)Z”、“セィクォ一ル(Seikuol)(注册商标)BEE”(精工化学(株));“カャキュァ一(kayacure)(注册商标)BP100”(日本化药(株));“カャキュァ一(注册商标)UVI-6992”(陶氏社制);“ァデカォプトマ一(Adeka Optomer)SP-152”、“ァデカォプトマ一(AdekaOptomer)SP-170”((株)ADEKA);“TAZ-A”、“TAZ-PP”(日本シィベルヘグナ一社);及“TAZ-104”(三和化学社)。
组合物A及/或组合物B含有聚合引发剂时,其含有量可以根据该组合物中含有的聚合性液晶的种类及其量适当调节,但是相对于聚合性液晶100质量份,优选0.1~30质量份,更优选0.5~10质量份,进一步优选0.5~8质量份。聚合性引发剂的含有量只要在该范围内,就可以不扰乱聚合性液晶(B)的取向使其聚合。
组合物A及/或组合物B含有光聚合引发剂时,该组合物可以进一步含有光增敏剂。作为光增敏剂,举例有氧杂葸酮和噻吨酮等氧杂蒽酮系化合物(例如2,4-二乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮等),蒽以及含有烷氧基的葸(例如二丁氧基蒽等)等蒽系化合物、吩噻嗪以及红荧烯。
组合物A及/或组合物B含有光聚合引发剂及光增敏剂时,可以更促进该组合物中含有的聚合性液晶的聚合反应。光增敏剂的使用量可以根据光聚合引发剂及聚合性液晶的种类及其量适当调节,但是,相对于聚合性液晶100质量份,优选0.1~30质量份,更优选0.5~10质量份,进一步优选0.5~8质量份。
为了使聚合性液晶的聚合反应更稳定地进行,组合物A及/或组合物B可以含有适量的阻聚剂,通过此,可以容易地控制聚合性液晶的聚合反应的进行程度。
作为阻聚剂,举例有氢醌、含有烷氧基的氢醌、含有烷氧基的儿茶酚(例如丁基儿茶酚等)、焦性没食子酸类,2,2,6,6-四甲基-1-哌啶基氧基自由基等自由基捕捉剂、苯硫酚类、β-萘基胺类以及β-萘酚类。
组合物A及/或组合物B含有阻聚剂时,其含有量可以根据聚合性液晶的种类及其量、及光增敏剂的使用量等适当调节,相对于聚合性液晶100质量份,优选0.1~30质量份,更优选0.5~10质量份、进一步优选0.5~8质量份。阻聚剂的含有量只要在该范围内,可以不扰乱聚合性液晶的取向使其聚合。
通常,将组合物B涂布在基材、取向膜或相位差层上,通过使得到的涂膜中的聚合性液晶(B)聚合形成偏振光层。涂布该组合物的方法没有限定。作为该取向膜,举例有与上述的相同的膜。
涂布组合物B,通过在得到的涂布膜中含有的聚合性液晶(B)不聚合的条件下干燥除去溶剂,形成干燥被膜。作为干燥方法,举例有自然干燥法、通风干燥法、加热干燥及减压干燥法。聚合性液晶(B)为聚合性近晶液晶化合物时,优选使干燥被膜含有的聚合性近晶液晶化合物的液晶状态呈现向列型相(向列型液晶状态)后,转变为近晶相。为了经由向列型相形成近晶相,使用例如,加热干燥被膜至干燥被膜含有的聚合性近晶液晶化合物相变为向列型相的液晶状态时的温度以上,接着冷却直至聚合性近晶液晶化合物显示为近晶相的液晶状态的温度的方法。
接着,对干燥被膜中的聚合性液晶(B)的液晶状态成为近晶相后,保持近晶相的液晶状态,使聚合性液晶(B)光聚合的方法进行说明。光聚合中,作为照射在干燥被膜上的光,根据该干燥被膜含有的光聚合引发剂的种类、聚合性液晶(B)的种类(特别是该聚合性液晶(B)包含的光聚合基的种类)及其量适宜选择,作为具体例,举例有可见光、紫外光及激光所形成的组中选择的光或活性电子束。这其中,从容易控制聚合反应的方面出发,以及从光聚合装置是本领域中常用的装置方面出发,优选紫外光。所以,优选选择上述组合物B中含有的聚合性液晶(B)或光聚合引发剂的种类,使其可以通过紫外光进行光聚合。另外,聚合时,可以边适当地通过冷却手段干燥冷却被膜,边光照射,由此来控制聚合温度。通过采用这样的冷却手段,在更低温下实施聚合性液晶(B)的聚合时,即使使用耐热比较低的基材,也能适当地形成偏振光层。光聚合时,通过进行掩蔽或显影等,还可以得到有图案的偏振光层。
通过进行光聚合,聚合性液晶(B)可以保持在近晶相、优选高次的近晶相的液晶状态下聚合,形成偏振光层。聚合性液晶(B)保持近晶相的液晶状态下聚合得到的偏振光层,具有上述二色性色素的作用,且与以往的主客体型偏振光膜,即,向列型相的液晶状态形成的偏振光膜相比,具有偏振光性能高的优点。进一步,与只涂敷二色性色素或溶致液晶的相比,具有强度优异的优点。
本圆偏振光板中的相位差层的慢轴与偏振光层的吸收轴相互不平行,另外,相互也不垂直。为了使圆偏振光板可以表达出良好的功能,优选相位差层的慢轴与偏振光层的吸收轴所成角度实际为45°。
制造本圆偏振光板时,形成相位差层及偏振光层的顺序可以是任意的。可以在基材上形成相位差层后,在相位差层上形成偏振光层。也可以在基材上形成偏振光层后,在偏振光层之上形成相位差层。也可以在基材的一面上形成偏振光层,在基材的其他面上形成相位差层。基材与相位差层,基材与偏振光层、及/或、相位差层与偏振光层之间可以形成取向膜。
基材上形成相位差层后,相位差层上形成偏振光层时,根据需要,可以在相位差层上形成保护层,保护层上形成偏振光层。还可以上述保护层上形成取向膜,其上形成偏振光层。另外,也可以基材上形成偏振光层后,在偏振光层上形成保护层,其上形成相位差层。还可以在上述保护层上形成取向膜后,其上形成相位差层。
保护层通常优选由含有多官能丙烯酸酯(甲基丙烯酸酯)、尿烷丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯等形成的丙烯酸系低聚物或聚合物、聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物、聚乙烯基吡咯烷酮、淀粉类、甲基纤维素、羧甲基纤维素、海藻酸钠等水溶性聚合物与溶剂的保护层形成用组合物形成。
保护层形成用组合物中含有的溶剂,举例有有与上述溶剂相同的溶剂。其中,水、醇溶剂及醚溶剂所形成的组中选择的至少一个的溶剂,不溶解形成保护层的层,从该方面出发是优选的。作为醇溶剂,甲醇、乙醇、丁醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、乙二醇甲基醚、乙二醇丁基醚以及丙二醇单甲基醚;作为醚溶剂,举例有乙二醇甲基醚乙酸酯以及丙二醇甲基醚乙酸酯,其中,优选乙醇、异丙醇、丙二醇单甲基醚及丙二醇单甲基醚乙酸酯。
保护层的厚度通常在20μm以下。保护层的厚度优选0.5μm以上9.5μm以下,更优选1μm以上5μm以下。保护层的厚度通常可以通过干涉膜厚计、激光显微镜或触针式膜厚计测定求出。
本圆偏振光板的表面形成的相位差层或偏振光层的表面上,可以进一步具有粘合剂层。另外,相位差层或偏振光层、粘合剂层之间可以具有底涂层。
粘合剂层是由粘合剂形成的,粘合剂通常含有聚合物,还可以含有溶剂。
作为上述聚合物,可以列举例如,丙烯酸系聚合物、聚硅氧烷系聚合物、聚酯、聚氨酯、或聚醚等。其中,含有丙烯酸系聚合物的丙烯酸系粘结剂,其光学透明性优良,保持适度的湿润性或凝聚力,紧贴性也优良,并且耐气候性和耐热性高,在加热或加湿的条件下不会发生浮起或剥落等剥离问题,故而优选。
作为上述丙烯酸系聚合物,优选酯部分的烷基为甲基、乙基或丁基等碳原子数20以下的烷基的(甲基)丙烯酸酯(以下,总称丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯为(甲基)丙烯酸酯,丙烯酸与甲基丙烯酸酯为(甲基)丙烯酸。)、和具有(甲基)丙烯酸或(甲基)丙烯酸羟乙酯等官能团的(甲基)丙烯酸系单体的共聚合体。
这样的含有共聚合体的粘合剂粘着性优异,另外,贴合在显示装置上之后,剥离时,不会在显示装置上产生糊状的残余等,可以比较容易的剥离,故而优选。该丙烯酸系聚合物的玻璃化转变温度优选25℃以下,更优选0℃以下。这样的丙烯酸系聚合物的重均分子量优选10万以上。
作为上述溶剂,例如,举例有作为上述的取向性聚合物组合物的溶剂列举的溶剂等。
另外,粘合剂可以含有光扩散剂。光扩散剂可以赋予粘合剂层光扩散性,只要是具有与粘合剂层所含的上述聚合物不同的折射率的微粒即可,作为光扩散剂,举例有无机化合物形成的微粒或有机化合物(聚合物)形成的微粒。包含上述丙烯酸系聚合物,构成粘合剂层的聚合物基体具有1.4左右的折射率,所以,作为光扩散剂,可以适宜选择其折射率为1~2左右的。粘合剂所含的作为有效成分的聚合物与光扩散剂的折射率差,通常在0.01以上,另外,从液晶显示装置明亮度和可视性来看,以0.01以上0.5以下为宜。作为光扩散剂使用的微粒,优选球形的,接近单分散的,例如,可以使用平均粒径为2~6μm左右的的范围中的微粒。
折射率一般通过最小偏角法或阿贝折射仪来测定。
作为无机化合物形成的微粒,可以举例例如,氧化铝(折射率1.76)及氧化硅(折射率1.45)等。
另外,作为有机化合物(聚合物)形成的微粒,可以举例例如,三聚氰胺粒子(折射率1.57)、聚甲基丙烯酸甲酯粒子(折射率1.49)、甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯共聚合体树脂粒子(折射率1.50~1.59)、聚碳酸酯粒子(折射率1.55)、聚乙烯粒子(折射率1.53)、聚苯乙烯粒子(折射率1.6)、聚氯乙烯粒子(折射率1.46)、及硅酮树脂粒子(折射率1.46)等。
光扩散剂的混合量根据分散其的粘合剂层所必要的雾度值、或适用其的液晶显示装置的亮度等来决定,一般地,相对于构成粘合剂层的树脂100重量份,在3~30重量份左右。
分散有光扩散剂的粘合剂层的雾度值,在确保了使用具备粘合剂层的圆偏振光板的液晶显示装置的亮度的同时,从显示图像的模糊或者散景不容易出现方面看,优选20~80%的范围。雾度值是(扩散透光率/总透光率)×100(%)表示的值,根据JISK7105测定。
粘合剂层的厚度只要是根据其紧贴力等决定的,就没有特别限制,但是通常,为1~40μm左右。为了不损害加工性或耐久性等特性,为了得到具备薄型的粘合剂层的圆偏振光板,优选粘合剂层的厚度为3~25μm左右。另外,通过粘合剂层的厚度在3~25μm左右,可以使得液晶显示装置从正面看或者斜面看时都能够保持亮度,不容易出现显示图像的模糊或者散景。
底涂层通常含有透明树脂,由透明树脂溶液形成。底涂层在形成粘合剂层时可以抑制相位差层或偏振光层的缺陷。作为透明树脂,优选涂工性优异,且底涂层形成后的透明性及粘着性优异的。
上述透明树脂溶液的溶剂,根据上述透明的溶解性,可以使用苯、甲苯、二甲苯等の芳香族烃溶剂;丙酮、甲基乙基甲酮、甲基异丁基酮等酮溶剂;醋酸乙酯、醋酸异丁基等酯溶剂;二氯甲烷、三氯乙烯、氯仿等氯化烃溶剂;乙醇、1-丙醇、2-丙醇、1-丁醇等醇溶剂等一般的有机溶剂,但使用含有机溶剂的透明树脂溶液形成底涂层时,为了不影响液晶固化膜的光学特性,优选使用以水为溶剂的溶液形成底涂层。
作为上述透明树脂,可以举例环氧树脂。环氧树脂可以是一液固化型,可以是二液固化型。特别优选水溶性的环氧树脂。作为水溶性的环氧树脂,举例有使聚酰胺多胺与表氯醇反应得到的聚酰胺环氧树脂,该聚酰胺多胺由二亚乙基三胺或三亚乙基四胺这样的聚亚烷基多胺和己二酸这样的二羧酸反应得到。作为这样的聚酰胺环氧树脂的市售品,举例有住化ケ厶テツクス(株)销售的“スミレ一ズレジン(注册商标)650(30)”或“スミレ一ズレジン(注册商标)675”(注册商标)等。
使用水溶性的环氧树脂作为上述透明树脂时,为了进一步提高涂布性,优选并用聚乙烯醇系树脂等其他的水溶性树脂。聚乙烯醇系树脂可以是部分皂化聚乙烯醇、完全皂化聚乙烯醇、羧基改性聚乙烯醇、乙酰乙酰基改性聚乙烯醇、羟甲基改性聚乙烯醇、氨基改性聚乙醇之类的经改性的聚乙烯醇系树脂。作为适宜的聚乙烯醇系树脂的市售品,举例有(株)KURARAY销售的含有阴离子性基团的聚乙烯醇“KL-318”(商品名)等。
由含有水溶性的环氧树脂溶液形成底涂层时,环氧树脂优选相对于水100重量份,在0.2~1.5重量份左右的范围。此外,该溶液中混合聚乙烯醇系树脂时,其量相对于水100重量份,优选1~6重量份左右。底涂层的厚度优选0.1~10μm左右的范围。
对底涂层的形成方法没有限制,可以使用直接凹版法、反向凹版法、模具涂布(ダイコ一ト)法、逗点涂布(カンマコ一ト)法、棒式涂布法等各种公知的涂布法。
除了通过将上述粘合剂涂布在相位差层、偏振光层或底涂层的表面上,使其干燥的方法来形成粘合剂层之外,还可以使用将粘合剂涂布在实施了脱模处理的膜的脱模处理面上,使其干燥形成粘合剂层后,将该带有粘合剂层的膜贴合在相位差层、偏振光层或底涂层的表面上,使粘合剂层一侧成为贴合面的方法。优选对形成了粘合剂层的底涂层表面预先实施电晕放电处理。通过此,可以进一步提高底涂层与粘合剂层的紧贴性。
作为涂布粘合剂的方法,举例有例如,与将取向性聚合物组合物涂布在基材上方法所例示的相同的方法。作为从涂布的粘合剂除去溶剂的方法,举例有例如,与从取向性聚合物组合物中除去溶剂的方法相同的方法。
表面上具有粘合剂层的本圆偏振光板的剥离强度如以下进行测定。
从表面上具有粘合剂层的本圆偏振光板上裁下宽25mm×长度大约200mm的试验片,将其粘合剂面贴合在玻璃板上后,使用拉伸试验机,夹持住试验片的长度方向的一端(宽25mm的一边),在温度23℃、相对湿度60%的氛围下、十字头速度(夹持移动速度)200mm/分时,依据JIS K6854-1:1999「粘合剂-分离粘着强度试验方法-第1部:90度分离」进行90°剥离试验。
按顺序具有基材、第一取向膜、偏振光层、第二取向膜、相位差层及粘合剂的圆偏振光板中,优选基材与第一取向膜的剥离强度(F1)低于第一取向膜与偏振光层的剥离强度(F2)、第二取向膜与相位差层的剥离强度(F3)及相位差层与粘合剂层的剥离强度(F4)。可以通过基材及第一的取向膜来调整剥离强度(F1)。
例如,表面上具有与取向膜形成化学键的官能基团的基材,具有基材与第一取向膜的剥离强度(F1)变高的倾向。因此,作为剥离强度(F1)降低的基材,优选表面的官能基团少的基材,另外,优选未实施在表面上形成官能基团的表面处理的基材。
另外,具有与基材形成化学键的官能基团的取向膜,具有基材与第一取向膜的剥离强度(F1)变高的倾向。因此,作为剥离强度(F1)降低的取向膜,优选与基材形成化学键的官能基团少的取向膜。另外,为了降低(F1),优选取向性聚合物组合物或光取向膜形成用组合物中不含有使基材与取向膜交联的试剂,进一步优选,不含有溶解基材的溶剂等成分。通过取向性聚合物组合物或光取向膜形成用组合物溶解基材表面,使得基材与第一取向膜的剥离强度(F1)倾向于变大。
为了增大剥离强度(F2)、(F3)及(F4),只要在第一取向膜与偏振光层、第二取向膜与相位差层、及、相位差层与粘合剂层之间形成化学键即可。
从表面上具有粘合剂层的圆偏振光板除去基材,可以得到具有粘合剂层的圆偏振光膜。作为除去基材的方法,举例有任意的方法。
具有粘合剂层的圆偏振光膜的厚度通常在5μm以上15μm以下,优选5μm以上10μm以下。具有粘合剂层的圆偏振光膜的厚度通常,可以使用干涉膜厚计、激光显微镜或触针式膜厚计测定、求出。
接着,对连续地制造本圆偏振光板的方法进行说明。作为这样的连续地制造圆偏振光板适宜的方法,举例有卷对卷形式的方法。
具体地,举例有按以下顺序进行的方法,
(1)准备基材卷绕于卷芯的滚筒的工序、
(2)由该滚筒连续地送出该基材的工序、
(3)在该基材上连续地形成取向膜的工序、
(4)在该取向膜上涂布组合物A,连续地形成相位差层的工序、
(5)在上述(4)得到的滚筒的相位差层上连续地形成保护层的工序、
(6)在上述(5)得到的保护层上涂布取向膜,连续地形成工序、
(7)在上述(6)得到的取向膜上涂布组合物B,连续地形成偏振光层的工序、
(8)在上述(7)得到的偏振光层上贴合带粘合剂层的膜,使粘合剂层一侧成为贴合面的工序、
(9)连续地将得到的圆偏振光板卷绕在第2卷芯上,得到第2滚筒的工序。
另外,可以根据需要省略工序(5)及(8)。
另外,举例有按以下顺序进行的方法,
(1a)准备基材卷绕于卷芯的滚筒的工序、
(2a)由该滚筒连续地送出该基材的工序、
(3a)在该基材上连续地形成取向膜的工序、
(4a)在该取向膜上涂布组合物B,连续地形成相位差层的工序、
(5a)在上述(4a)得到的滚筒的偏振光层上连续地形成保护层的工序、
(6a)在上述(5a)得到的保护层上涂布取向膜,连续地形成工序、
(7a)在上述(6a)得到的取向膜上涂布组合物A,连续地形成相位差层的工序、
(8a)在上述(7a)得到的相位差层上贴合带粘合剂层的膜,使粘合剂层一侧成为贴合面的工序、
(9a)连续地将得到的圆偏振光板卷绕在第2卷芯上,得到第2滚筒的工序
另外,可以根据需要省略工序(5a)及(8a)。
另外,举例有按以下顺序进行的方法,
(1b)准备基材卷绕于卷芯的滚筒的工序、
(2b)由该滚筒连续地送出该基材的工序、
(3b)在该基材上连续地形成取向膜的工序、
(4b)在该取向膜上涂布组合物A,连续地形成相位差层的工序、
(5b)在与上述(4b)得到的滚筒的相位差层相反的面上涂布取向膜,连续地形成工序、
(6b)在上述(5b)得到的取向膜上涂布组合物B,连续地形成偏振光膜的工序、
(7b)连续地将得到的圆偏振光板卷绕在第2卷芯上,得到第2滚筒的工序。
另外,举例有按以下顺序进行的方法,
(1c)准备透明基材卷绕于卷芯的滚筒的工序、
(2c)由该滚筒连续地送出该透明基材的工序、
(3c)在该透明基材上连续地形成取向膜的工序、
(4c)该取向膜上涂布含有组合物B的组合物,连续地形成偏振光层的工序、
(5c)在与上述(4c)得到的滚筒的偏振光层相反的面上连续地形成取向膜的工序、
(6c)在上述(5c)得到的取向膜上涂布组合物A,连续地形成相位差层的工序、
(7c)连续地将得到的圆偏振光板卷绕在第2卷芯上,得到第2滚筒的工序。
图1是本圆偏振光板的概略图。图1(a)显示了按基材、相位差层、偏振光层的顺序层积的圆偏振光板。图1(b)显示了按基材、偏振光层、相位差层的顺序层积的圆偏振光板。
本圆偏振光板可以用于多种多样的显示装置中。另外,表面上具有粘合剂层的圆偏振光板可以用于制造各种各样的显示装置。具体地,表面上具有粘合剂层的圆偏振光板通过该粘合剂层贴合在显示装置的显示面,可以得到具备本圆偏振光板的显示装置,进一步除去基材,可以得到具备本发明的圆偏振光膜的带圆偏振光膜的显示装置。
显示装置是指具有显示元件的装置,作为发光源含有发光元件或发光装置。作为显示装置,举例有液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置、无机电致发光(EL)显示装置、触摸面板显示装置、电子发射显示装置(例如场发射显示装置(FED)、表面传导电子发射显示装置(SED))、电子纸(使用电子油墨或电泳元件的显示装置、等离子体显示装置、投射型显示装置(例如光栅光阀(GLV)显示装置、具有数字微镜设备(DMD)的显示装置)及压电陶瓷显示器等。液晶显示装置包括透过型液晶显示装置、半透过型液晶显示装置、反射型液晶显示装置、直视型液晶显示装置以及投影型液晶显示装置等的任一个。这些显示装置可以是显示2维图像的显示装置,也可以是显示3维图像的立体显示装置。特别是在有机电致发光(EL)显示装置或无机电致发光(EL)显示装置的显示装置中可以有效地使用。
图2是本发明的显示装置之一的液晶显示装置10的概略图。液晶层15夹持在2个基板12a及基板12b之间。基板12a的液晶层15侧配置有滤色器13。滤色器13夹着液晶层15,配置在与像素电极20相对的位置,黑色矩阵18配置在与像素电极间的边界相对的位置。透明电极14覆盖在这些之上。滤色器13与透明电极14之间可以有外覆层。
基板12b的液晶层15侧有规律地配置有薄膜晶体管19与像素电极20。像素电极20夹着液晶层15,配置在与滤色器13相对的位置上。薄膜晶体管19与像素电极20之间配置有具有连接孔(图中没有显示)的层间绝缘膜16。
作为基板12a及基板12b,举例有玻璃基板及塑料基板。制造这些基板上形成的滤色器13或薄膜晶体管19时,需要在高温下加热时,优选基板12a及基板12b为玻璃基板。
作为薄膜晶体管19,举例有石英基板上形成的高温多晶硅晶体管、玻璃基板上形成的低温多晶硅晶体管、及、玻璃基板或塑料基板上形成的非晶形硅晶体管。为了使得液晶显示装置的小型化,可以在基板12b上形成驱动IC。
透明电极14与像素电极20之间配置有液晶层15。为了使基板12a与基板12b之间保持一定距离,液晶层15中形成有隔离层21。基板12a及基板12b上形成的层中与液晶层15相接触的面,可以配置有使液晶层15中含有的液晶化合物以期望的方向取向的取向膜。
各构件以基板12a、滤色器13以及黑色矩阵18、透明电极14、液晶层15、像素电极20、层间绝缘膜16以及薄膜晶体管19、及基材12b的顺序积层。
夹持有这样的液晶层15的基板12a及基板12b的外侧,积层有本圆偏振光板11a及本圆偏振光板11b。本圆偏振光板11b的外侧配置有作为发光源的背光单元17。背光单元17含有光源、导光体、反射板、扩散片及视角调整片。作为光源,可以使用电致发光(EL)、冷阴极管、热阴极管、发光二极管(LED)、强烈光源、汞灯等各种各样的光源。
图3是本发明的显示装置之一的有机EL显示装置30的概略图。图3(a)所示的本发明的有机EL显示装置30具有本圆偏振光板31,介由层间绝缘膜33,在形成有像素电极34的基板32上层积发光层35、及阴极电极36而形成。夹着基板32在发光层35的相对一侧上,配置有本圆偏振光板31。对像素电极34施加正电压,阴极电极36施加负电压,通过在像素电极34及阴极电极36之间通入直流电流,使得发光层35发光。发光层35由电子输送层、发光层及空穴输送层等形成。由发光层35射出的光经过像素电极34、层间绝缘膜33、基板32、本圆偏振光板31。
制造有机EL显示装置30时,首先,在基板32上形成期望形状的薄膜晶体管38。然后使层间绝缘膜33成膜,接着用溅镀法使像素电极34成膜,形成图案。之后,层积发光层35。
接着,在设有基板32的薄膜晶体管38的一面的相对面,设置本圆偏振光板31。这时,将本圆偏振光板31的1/4波长层配置在基板32侧。
作为基板32,举例有蓝宝石玻璃基板、石英玻璃基板、苏打玻璃基板及氧化铝等陶瓷基板;铜等金属基板;塑料基板等。虽然在图中没有显示,基材32上可以形成热传导性膜。作为热传导性膜,举例有类金刚石薄膜(DLC等)等。像素电极34为反射型时,光向与基材32相对的方向出射。因此,不仅是透明材料,也可以使用不锈钢等非透过材料。基板可以是单一的,也可以是用黏合剂将多个基板黏合而成的积层基板。同时,这些基板不限定于板状,也可以是膜。
作为薄膜晶体管38,例如可使用多晶硅晶体管等。薄膜晶体管38设置于像素电极34的端部,其大小在10~30μm左右。另外,像素电极34的大小在20μm×20μm~300μm×300μm左右。
基材32上设置有薄膜晶体管38的电极丝。电极丝的阻力低,像素电极34与其电连接后有将电阻值抑制在较低水平的功能,一般的其电极丝使用含有Al、Al以及过渡金属(但不包括Ti)、Ti或者氮化钛(TiN)中的任1种或者2种以上的材料。
薄膜晶体管38与像素电极34间设置层间绝缘膜33。层间绝缘膜33可以是SiO2等氧化硅、氮化硅等无机系材料经喷溅或真空蒸镀成膜的材料、用SOG(spin on glass,旋涂玻璃法)形成的氧化硅层、光刻胶、聚酰亚胺以及丙烯酸树脂等树脂系材料的涂膜等有绝缘性的材料的任一项。
层间绝缘膜33上形成了肋状物39。肋状物39配置在像素电极34的周围(相邻像素间)。作为肋状物39的材料,举例有丙烯酸树脂及聚酰亚胺树脂等。肋状物39的厚度优选1.0μm以上3.5μm,更优选1.5μm以上2.5μm以下。
接着对像素电极34、发光层35、与阴极电极36形成的EL元件进行说明。发光层35各自至少具有1层的空穴输送层以及发光层,例如依次含有电子注入输送层、发光层、空穴输送层以及空穴注入层。
作为像素电极34,举例有例如,ITO(铟掺杂氧化锡)、IZO(锌掺杂氧化铟)、IGZO、ZnO、SnO2及In2O3等,特别优选ITO或IZO。像素电极35的厚度只要是可以充分进行空穴注入的规定以上的厚度即可,优选10~500nm左右。
像素电极34可以通过蒸镀法(优选溅镀法)形成。作为溅镀气体,没有特别限制,可以使用Ar、He、Ne、Kr及Xe等惰性气体、或这些的混合气体。
构成阴极电极36的材料可举例如,K、Li、Na、Mg、La、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、Sn、Zn及Zr等金属元素,为了提高电极的工作稳定性,优选使用由例示的金属元素中选择2种成分或者3种成分的合金系。作为合金系,优选例如Ag·Mg(Ag:1~20at%)、Al·Li(Li:0.3~14at%)、In·Mg(Mg:50~80at%)及Al·Ca(Ca:5~20at%)等。
阴极电极36通过蒸镀法及溅镀法等形成。阴极电极37的厚度优选0.1nm以上、优选1~500nm以上。
空穴注入层具有易于从像素电极34注入空穴的功能,空穴输送层具有输送空穴的功能以及阻碍电子的功能,也称之为电荷注入层或电荷输送层。
发光层的厚度、空穴注入层与空穴输送层的总厚度以及电子注入输送层的厚度没有特别限定,根据形成方法可不同,优选5~100nm左右的。空穴注入层或空穴输送层可以使用各种有机化合物。空穴注入输送层、发光层以及电子注入输送层的形成中,从可以形成均质薄膜的方面看,可以使用真空蒸镀法。
作为发光层35,可以使用利用单重态激子的发光(荧光)的材料、利用三重态激子的发光(磷光)的材料、含有利用单重态激子的发光(荧光)的材料与利用三重态激子的发光(磷光)的材料的材料、通过有机物形成的材料、含有通过有机物形成的材料与通过无机物形成的材料的材料、高分子材料、低分子材料、含有高分子材料与低分子材料的材料。对材料没有限制,使用作为EL元件所用的公知的各种各样材料的发光层35可以用于本EL显示装置30中。
阴极电极36与密封层37之间的空间有干燥剂(图没有显示),这是因为发光层35不耐湿。通过干燥剂吸收水分可以防止发光层35的劣化。
图3(b)所示的本发明的有机EL显示装置30具有本圆偏振光板31,介由层间绝缘膜33,在形成了像素电极34的基板32上,由发光层35、及阴极电极36层积而成。阴极电极上形成了密封层37,在与基板32相对一侧上配置有本圆偏振光板31。由发光层35射出的光经过阴极电极36、密封层37、本圆偏振光板31。
实施例
以下,通过实施例进一步地详细说明本发明。下述实施例中的“%”以及“份”,记载中没有特别限定,表示质量%以及质量份。
实施例1
[相位差层形成用组合物的制备]
混合下述成分,将得到的混合物在80℃时搅拌1小时,得到相位差层形成用组合物。
化合物A1及化合物A2根据特开2010-31223号公报记载的方法合成。
化合物A1(80份):
化合物A2(20份):
聚合引发剂(6份):
2-二甲氨基-2-苄基-1-(4-吗啉代苯基)丁烷-1-酮
(イルガキユア369;汽巴精化有限公司制)
流平剂(0.1份):聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N;BYK-Chemie社制
溶剂:邻二甲苯(300份)与环戊酮(130份)的混合溶剂
[光取向膜形成用组合物的配制]
混合下述成分,将得到的混合物在80℃时搅拌1小时,得到光取向膜形成用组合物-
光取向性材料(5份):
溶剂(95份):环戊酮
[偏振光层形成用组合物的配制]
混合下述成分,将得到的混合物在80℃时搅拌1小时,得到偏振光层形成用组合物。化合物B1及化合物B2根据特开4719156号公报记载的方法合成。
化合物B1(化合物(B-6);75份)
化合物B2(化合物(B-7);25份)
二色性色素;
双偶氮化合物(1-1-1)2.5份
双偶氮化合物(1-1-2)2.5份
双偶氮化合物(1-4-1)2.5份
聚合引发剂;
2-二甲氨基-2-苄基-1-(4-吗啉代苯基)丁烷-1-酮(イルガキユア369;汽巴精化有限公司制) 6份
流平剂;
聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N;BYK-Chemie社制) 1.5份
溶剂;环戊酮 250份
[相变温度的测定]
将得到的偏振光层形成用组合物涂布在玻璃上,干燥后,制作成测定用的试样。通过偏振光显微镜的织构观察确定相变温度,升温至140℃后、降温过程中,可以分别确认在108℃下相变为向列型相,101℃下相变为近晶A相,76℃下相变为近晶B相。
[粘合剂形成用组合物的配制]
将下述成分在氮气氛围55℃下混合,得到丙烯酸树脂。
丙烯酸丁酯 70份
丙烯酸甲酯 20份
丙烯酸 1.0份
引发剂:偶氮二异丁腈 0.2份
溶剂(80份):醋酸乙酯
进一步,混合CORONET(コロネ-トL)(甲苯二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加成物的75%醋酸乙酯溶液、1分子中的异氰酸酯基数:3个、日本聚氨酯工业株式会社制)0.5份、硅烷偶联剂X-12-981(信越硅酮株式会社制)0.5份,最后添加醋酸乙酯使得全固体成分浓度为10%,制成粘合剂形成用组合物。将到的粘合剂形成用组合物涂布在脱模处理过的聚对苯二甲酸乙二酯膜(リンテツク株式会社制)的脱模处理面上,使用涂抹机涂布,使得干燥后的厚度为10μm,100℃下干燥1分钟,得到带粘合剂的膜(1)。
[圆偏振光板的制造]
1.偏振光层用的取向膜的形成
作为透明基材薄膜使用纤维素系膜KC4UY(TAC膜,柯尼卡美能达株式会社制)。通过棒式涂布法在该膜上涂布上述光取向膜形成用组合物,在60℃的干燥烤箱中加热干燥1分钟。对得到的干燥覆膜实施偏振光UV照射处理形成第一取向膜。偏振光UV处理使用UV照射装置(SPOT CURE SP-7;ウシオ电机株式会社制),在波长365nm下测定的强度为100mJ时的条件下进行。另外,偏振UV的偏振方向相对于相位差层的慢轴为0°。
2.偏振光层的形成
通过棒式涂层法在形成的第一取向膜上涂布偏振光层形成用组合物,120℃下在干燥烤箱中加热干燥1分钟。冷却至室温。使用UV照射装置(SPOT CURE SP-7;ウシオ电机株式会社制),在曝光量1200mJ/cm2(365nm的基准)下,向干燥被膜照射紫外线,形成偏振光层。得到的偏振光层的厚度通过激光显微镜(奥林巴斯株式会社制OLS3000)测定,为1.8μm。
3.保护层的形成
通过棒式涂布法将二季戊四醇六丙烯酸酯(アロニツクスM-403东亚合成株式会社制)50份、丙烯酸酯树脂(エベクリル4858 Daicel-UCB株式会社制)50份及2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉基丙烷-1-酮(イルガキュア907;汽巴精化有限公司社制)3份溶解在异丙醇250份中配制成的溶液(保护层形成用组合物)涂布在形成的偏振光层上,在50℃的干燥烤箱中加热干燥1分钟。通过使用UV照射装置(SPOT CURE SP-7;ウシオ电机株式会社制),在紫外线曝光量400mJ/cm2(365nm的基准)的条件下照射得到的干燥被膜,在该偏振光层上形成保护层。
4.相位差层用的取向膜的形成
通过棒式涂层法在形成的保护层上涂布上述光取向膜形成用组合物,60℃下在干燥烤箱中加热干燥1分钟。对得到的干燥覆膜实施偏振UV照射处理,形成第二取向膜。偏振UV处理是使用UV照射装置(SPOT CURE SP-7;ウシオ电机株式会社制),在波长365nm下测定强度为100mJ的条件下进行。另外,偏振UV的偏振方向相对于偏振光层的吸收轴成45°。
5.相位差层的形成
通过棒式涂层法在形成的第二取向膜上涂布相位差层形成用组合物,120℃下在干燥烤箱中加热干燥1分钟。冷却至室温。通过使用UV照射装置,(SPOT CURE SP-7;ウシオ电机株式会社制),曝光量1000mJ/cm2(365nm的基准)下,对得到的干燥被膜照射紫外线,形成相位差层。得到的相位差层的厚度通过激光显微镜(奥林巴斯株式会社制OLS3000)测定,为2.0μm。
这样的话,可以制作宽频带圆偏振光板。通过接触式膜厚计测定该圆偏振光板的总厚度,为45μm。
[圆偏振光板的评价]
1.X射线衍射测定
对得到的偏振光层,通过X射线衍射装置X’Pert PRO MPD(spectris株式会社制)进行X射线衍射测定。使用Cu作为靶,使在X射线管电流40mA,X射线管电压45kV的条件下产生的X射线通过固定发散缝隙1/2°由摩擦方向(预先求出偏振光层下取向膜的摩擦方向。)入射,在扫描范围2θ=4.0~40.0°的范围内,以2θ=0.01671°的步宽进行扫描测定。结果是,在2θ=20.12°付近得到半峰宽(FWHM)=大约0.29°的尖锐的衍射峰。另外,X射线沿着与摩擦垂直的方向入射测定时,也得到相同的结果。由峰位置求出的秩序周期(d)为大约,由此得知,形成了可以反映出高次近晶相的结构。
2.反射率的测定
为了确认圆偏振光板的有用性,如以下测定反射率。使用粘合剂将制成的圆偏振光板的相位差层与反射板(镜面铝板)贴合,制成测定试样。
使用分光光度计(岛津制作所株式会社制UV-3150),用波长400至700nm的范围的光以2nm的步宽,对测定试料从法线方向12°入射,测定反射的光的反射率。以不贴合圆偏振光板只设置有反射板时测定的反射率为100%,算出反射率,结果400~700nm的范围的波长的光的反射率为1~10%左右,可以得知在整个可见光区域都可以得到充足的防反射特性。
实施例2
与实施例1相同,在透明基材膜的一个面上形成第一取向膜(偏振UV的偏振方向相对于基材膜的长边方向为45°),在此光取向膜上形成相位差层。然后,在相位差层上形成保护层后,形成第二取向膜(偏振UV的偏振方向相对于基材膜的长边方向为0°),在此光取向膜上进一步地形成偏振光层,制作本圆偏振光板。
与实施例1相同,使用粘合剂将制作的圆偏振光板的透明基材膜与反射板贴合,测定反射率,结果400~700nm的范围波长的光的反射率为1~10%左右,由此可知,在整个可见光区域都可以得到充足的防反射特性。
实施例3
作为聚合性液晶化合物B1,使用化合物(B-14)取代化合物(B-6),作为聚合性液晶化合物B2,使用化合物(B-17)取代化合物(B-7),除此之外,其它与实施例1相同,制作圆偏振光板。
与实施例1相同,使用粘合剂将制作的圆偏振光板的透明基材膜与反射板贴合,测定反射率,结果400~700nm的范围波长的光的反射率为1~10%左右,由此可知,在整个可见光区域都可以得到充足的防反射特性。
比较例1
作为位相差膜,使用作为环状烯烃系树脂的单轴拉伸膜的1/4波长板(ゼオノア膜,日本瑞翁株式会社,平面内相位差值Ro:138nm)作为相位差膜,与实施例1同样地,在相位差膜的一个面上形成第一取向膜(偏振UV的偏振方向相对于相位差膜的慢轴为45°),在该第一取向膜上进一步地形成偏振光层,制作圆偏振光板。
与实施例1同样,使用粘合剂将制作的圆偏振光板贴合在反射板上测定反射率,在500~600nm的波长的光反射率良好,在1~10%左右,但是,400~500nm的波长的光以及600~700nm波长的光的反射率在10%以上,反射光呈现蓝紫色,由此可知,未得到充分的防反射功能。
比较例2
将碘-PVA偏振光板(スミカラン住友化学株式会社制厚度105μm)切割成的100×100mm的小片作为偏振光板,使其吸收轴成0°。将实施例1中使用的1/2波长板切割为100×100mm的小片,使慢轴成15°。将比较例1中使用的1/4波长板切割为100×100mm的小片,使慢轴成15°。使用丙烯酸系粘合剂(膜厚25μm)将切出的各个膜进行片贴合,使其成为偏振光板+1/2波长板+1/4波长板,制成圆偏振光板。
与实施例1相同,使用粘合剂将制作的圆偏振光板贴合在反射板上,测定反射率,结果400~700nm的范围的波长的光反射率为1~10%左右,由此可知,在整个可见光区域都可以得到充分的防反射功能。但通过接触式膜厚计测定圆偏振光板的总厚度为240μm,大概为实施例1的圆偏振光板的总厚度的5倍。
实施例4
除了使用聚对苯二甲酸乙二酯膜代替纤维素系膜KC4UY(TAC膜,柯尼卡美能达株式会社制)作为基材之外,其它均使用与实施例1相同的方法制作圆偏振光板。在该圆偏振光板的相位差层上贴合带有粘合剂的膜(1),得到具有粘合剂层的圆偏振光板。将该样品大小裁剪为40mm×40mm,将贴合的带有粘合剂的膜的膜剥下,压着在反射板(镜面铝板)上,慢慢地除掉基材,得到带有圆偏振光膜的反射板。第一取向膜、偏振光层、保护层、第二取向膜、相位差层及粘合剂层形成的上述圆偏振光膜的厚度为14.7μm。
由于基材与第一的取向膜的剥离强度(F1)低于第一的取向膜与偏振光层的剥离强度(F2)、第二的取向膜与相位差层的剥离强度(F3)及相位差层与粘合剂层的剥离强度(F4),因此基材与第一的取向膜之间产生剥离,可以除去基材。
与实施例1相同,测定反射率,结果400~700nm的范围的波长的光反射率为1~10%左右,由此可知,在整个可见光区域都可以得到充分的防反射功能。该防反射原理与有机EL显示器的金属电极反射外光的原理相同,所以也同样地适用于有机EL显示器中。
产业上的可利用性
本发明的圆偏振光板,其具有足以作为宽频带圆偏振光板的性能,其厚度也满足显示装置薄型化的要求,另外,其制造工序也简便。另外,具有本发明的圆偏振光板的显示装置可以达成薄型化。

Claims (20)

1.一种圆偏振光板,其特征在于,具有基材、相位差层与偏振光层,所述相位差层的慢轴与所述偏振光层的吸收轴所成角度实际为45°,所述相位差层对波长λnm的光的双折射率Δn(λ)满足式(1)以及式(2),相位差层与偏振光层均为涂覆层,相位差层与偏振光层的总厚度为10μm以下,并且,所述偏振光层含有在300~700nm的范围内具有最大吸收波长λMAX的两种以上的二色性色素,
所述偏振光层,在X射线衍射测定中得到布拉格峰,
所述布拉格峰的周期间隔为
Δn(450)/Δn(550)≦1.00 (1)
1.00≦Δn(650)/Δn(550) (2)。
2.根据权利要求1所述的圆偏振光板,其中,相位差层由1种以上的聚合性液晶聚合而形成。
3.根据权利要求1或2所述的圆偏振光板,其中,偏振光层由1种以上的聚合性液晶聚合而形成。
4.根据权利要求2所述的圆偏振光板,其通过照射光使聚合性液晶聚合。
5.根据权利要求1所述的圆偏振光板,其中,相位差层以及偏振光层的厚度分别在5μm以下。
6.根据权利要求1所述的圆偏振光板,其中,相位差层、或偏振光层、或其二者形成于取向膜上。
7.根据权利要求6所述的圆偏振光板,其中,取向膜是通过照射光而产生取向锚定力的取向膜。
8.根据权利要求7所述的圆偏振光板,其中,取向膜的厚度在500nm以下。
9.根据权利要求1所述的圆偏振光板,其中,在基材上,介由或者不介由取向膜形成相位差层,在相位差层上,介由或者不介由取向膜形成偏振光层。
10.根据权利要求1所述的圆偏振光板,其中,在基材上,介由或者不介由取向膜形成偏振光层,在偏振光层上,介由或者不介由取向膜形成相位差层。
11.根据权利要求9或10所述的圆偏振光板,其中,偏振光层与相位差层之间具有保护层。
12.根据权利要求1所述的圆偏振光板,其中,在基材的一个面上,介由或者不介由取向膜形成偏振光层,在基材的另一个面上,介由或者不介由取向膜形成相位差层。
13.根据权利要求1所述的圆偏振光板,其进一步地还在相位差层或者偏振光层的表面上具有粘合剂层。
14.根据权利要求13所述的圆偏振光板,其依次具有基材、第一取向膜、偏振光层、第二取向膜、相位差层以及粘合剂层。
15.根据权利要求14所述的圆偏振光板,其中,基材与第一取向膜的剥离强度F1低于第一取向膜与偏振光层的剥离强度F2、第二取向膜与相位差层的剥离强度F3以及相位差层与粘合剂层的剥离强度F4。
16.一种显示装置,其具有权利要求1~15的任一项所述的圆偏振光板与显示元件。
17.一种带圆偏振光膜的显示装置,其为权利要求13~15的任一项所述的圆偏振光板除去了基材而得到的圆偏振光膜介由该圆偏振光膜的粘合剂层贴合在显示元件的显示面上而得到的。
18.根据权利要求17所述的显示装置,其中,圆偏振光膜的厚度在5μm以上15μm以下。
19.根据权利要求16~18的任一项所述的显示装置,其中,显示元件为液晶盒、有机电致发光元件或者触摸面板。
20.一种带圆偏振光膜的显示装置的制造方法,其中,将权利要求13~15的任一项所述的圆偏振光板,介由该圆偏振光板的粘合剂层贴合在显示元件的显示面上,且该圆偏振光板除去了基材。
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