JP2002289642A - 半導体装置及びその製造方法、ボンディングツール、回路基板並びに電子機器 - Google Patents

半導体装置及びその製造方法、ボンディングツール、回路基板並びに電子機器

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JP2002289642A
JP2002289642A JP2001085369A JP2001085369A JP2002289642A JP 2002289642 A JP2002289642 A JP 2002289642A JP 2001085369 A JP2001085369 A JP 2001085369A JP 2001085369 A JP2001085369 A JP 2001085369A JP 2002289642 A JP2002289642 A JP 2002289642A
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electrode
semiconductor chip
bonding surface
bonding
semiconductor device
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Koichi Fukuda
耕一 福田
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Seiko Epson Corp
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/50Tape automated bonding [TAB] connectors, i.e. film carriers; Manufacturing methods related thereto

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  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体チップとリードとの接続信頼性の高い
半導体装置及びその製造方法、ボンディングツール、回
路基板並びに電子機器を提供することにある。 【解決手段】 本発明に係る半導体装置の製造方法は、
少なくとも1辺において仮想直線L1上に1列に並んだ
複数の第1の電極14と仮想直線L1よりも内側に配置
された第2の電極16とを含む半導体チップ10と、電
極12の配列に従って部分的に突出する周縁をなすボン
ディング面32を含むボンディングツール30と、を用
意し、複数のリード20を半導体チップ10の上方に配
置する工程と、ボンディング面32の周縁を各リード2
0の電極12との接合部からの長さがほぼ等しい位置に
接触させて、ボンディング面32でリード20を押圧す
る工程と、を含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置及びそ
の製造方法、ボンディングツール、回路基板並びに電子
機器に関する。
【0002】
【発明の背景】TAB(Tape Automated Bonding)技術
を適用した半導体装置の製造方法では、ギャングボンデ
ィングを行うことが多い。ギャングボンディングでは、
複数のリードを一括して押圧して半導体チップの複数の
電極にボンディングする。
【0003】従来、ツールのボンディング面は、半導体
チップに設けられた複数の電極の最外周を囲む矩形に形
成されていた。そのため、設計の都合上、例えば半導体
チップの電極が1辺において1直線に配列されない場合
には、ボンディングするときに、各電極とボンディング
面の周縁との距離がばらつくことがあった。その距離が
長い場合には、リードの電極との接合部から屈曲部まで
が長くなってしまい、リードが垂れて半導体チップに接
触する場合があった。
【0004】本発明はこの問題点を解決するためのもの
であり、その目的は、半導体チップとリードとの接続信
頼性の高い半導体装置及びその製造方法、ボンディング
ツール、回路基板並びに電子機器を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】(1)本発明に係る半導
体装置の製造方法は、少なくとも1辺において仮想直線
上に1列に並んだ複数の第1の電極と前記仮想直線より
も内側に配置された第2の電極とを含む半導体チップ
と、前記電極の配列に従って部分的に突出する周縁をな
すボンディング面を含むボンディングツールと、を用意
し、複数のリードを前記半導体チップの上方に配置する
工程と、前記ボンディング面の周縁を各リードの前記電
極との接合部からの長さがほぼ等しい位置に接触させ
て、前記ボンディング面で前記リードを押圧する工程
と、を含む。
【0006】本発明によれば、電極の配列に従って部分
的に突出している形状をなすボンディング面の周縁を、
各リードの電極との接合部からの長さがほぼ等しい位置
に接触させるので、複数のリードの電極との接合部から
屈曲部までの長さをほぼ等しくすることができる。した
がって、リードが垂れて半導体チップに接触することを
防止できる。
【0007】(2)この半導体装置の製造方法におい
て、前記ボンディング面は、1つの面で構成され、前記
第1の電極を押圧する端部が前記第2の電極を押圧する
端部よりも突出して形成されてもよい。
【0008】これによれば、ボンディング面は1つの面
で構成されるので、ボンディング面をクリーニングしや
すい。また、突出する部分を目印として、ボンディング
ツールと、半導体チップ又はリードと、の相対的な位置
合わせを行うこともできる。
【0009】(3)この半導体装置の製造方法におい
て、前記半導体チップは、矩形をなし、前記第2の電極
は、1辺に沿って配列される複数の電極のうちの端部に
位置し、前記第2の電極を押圧する端部は、前記ボンデ
ィング面の角部を構成してもよい。
【0010】これによれば、ボンディング面の第2の電
極を押圧する端部にリードの酸化物などのゴミが付着し
ても、その端部はボンディング面の角部を構成する部分
であるのでゴミを容易に吐出すことができる。
【0011】(4)この半導体装置の製造方法におい
て、前記半導体チップは、矩形をなし、前記第2の電極
は、1辺に沿って配列される複数の電極のうちの中間部
に位置し、前記第2の電極を押圧する部分が2つの前記
第1の電極を押圧する端部の間に位置することによっ
て、前記ボンディング面の周縁の一部が凹部形状に形成
されてもよい。
【0012】(5)本発明に係る半導体装置は、上記製
造方法によって製造されてなる。
【0013】(6)本発明に係る回路基板は、上記半導
体装置を有する。
【0014】(7)本発明に係る電子機器は、上記半導
体装置を有する。
【0015】(8)本発明に係るボンディングツール
は、半導体チップの複数の電極の配列に従って、部分的
に突出する周縁をなすボンディング面を含む。
【0016】本発明によれば、例えば、電極の配列に従
って部分的に突出している形状をなすボンディング面の
周縁を、各リードの電極との接合部からの長さがほぼ等
しい位置に接触させれば、複数のリードの電極との接合
部から屈曲部までの長さをほぼ等しくすることができ
る。したがって、リードが垂れて半導体チップに接触す
ることを防止できる。
【0017】(9)このボンディングツールにおいて、
前記半導体チップは、少なくとも1辺において仮想直線
上に1列に並んだ複数の第1の電極と、前記仮想直線よ
りも内側に配置された第2の電極と、を含み、前記ボン
ディング面は、1つの面で構成され、前記第1の電極を
押圧する端部が前記第2の電極を押圧する端部よりも突
出して形成されてもよい。
【0018】これによれば、ボンディング面は1つの面
で構成されるので、ボンディング面をクリーニングしや
すい。また、突出する部分を目印として、ボンディング
ツールと、半導体チップ又はリードと、の相対的な位置
合わせを行うこともできる。
【0019】(10)このボンディングツールにおい
て、前記第2の電極を押圧する端部は、前記ボンディン
グ面の角部を構成してもよい。
【0020】これによれば、ボンディング面の第2の電
極を押圧する端部にリードの酸化物などのゴミが付着し
ても、その端部はボンディング面の角部を構成する部分
であるのでゴミを容易に吐出すことができる。
【0021】(11)このボンディングツールにおい
て、前記第2の電極を押圧する部分が2つの前記第1の
電極を押圧する端部の間に位置することによって、前記
ボンディング面の周縁の一部が凹部形状に形成されても
よい。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について図面を参照して説明する。ただし、本発明は、
以下の実施の形態に限定されるものではない。
【0023】(第1の実施の形態)図1〜図6は、本発
明に係る第1の実施の形態における半導体装置の製造方
法を説明するための図である。この製造方法では、本発
明を適用した第1の実施の形態に係るボンディングツー
ルを使用することができる。本実施の形態では、半導体
チップ10と、複数のリード20と、ボンディングツー
ル30と、を用意する。
【0024】図1は、半導体チップ10及び複数のリー
ド20を位置合わせしたときの半導体チップ10の平面
図である。また、図2は、図1における半導体チップ1
0及びリード20のII‐II線断面を含む図であり、ボン
ディングツール30で複数のリード20をボンディング
する前の状態を示す図である。
【0025】図1に示すように、半導体チップ10の外
形は、矩形であることが多いが、複数の四角形等を組み
合わせた形状であってもよい。半導体チップ10は、複
数の電極12を有する。電極12は、半導体チップ10
に形成された回路素子の外部電極であり、アルミニウム
又は銅などで薄く平らに形成されたパッドを含む。パッ
ド上にバンプが形成される場合には、電極12はパッド
及びバンプを含む。バンプは、金、ニッケル、銅、銀、
スズなどで形成される。電極12は、半導体チップ10
の面で、回路素子が形成された能動領域の内側に形成さ
れてもよいし、外側に形成されてもよい。電極12は、
半導体チップ10の面上で端部に形成されることが多
い。この場合に、電極12は矩形をなす半導体チップ1
0の各辺(平行な4辺)に形成されてもよく、あるいは
平行な2辺に形成されてもよい。なお、電極12の少な
くとも一部を避けて半導体チップ10には、パッシベー
ション膜(図示しない)が形成されている。パッシベー
ション膜は、例えば、SiO 2、SiN、ポリイミド樹
脂などで形成することができる。
【0026】電極12は、半導体チップ10の少なくと
も1辺において第1の仮想直線L1上に1列に並んだ複
数の第1の電極14と、第1の仮想直線L1よりも半導
体チップ10の内側に配置された第2の電極16と、を
含む。第1の仮想直線L1は、半導体チップ10の辺と
平行な直線であってもよい。そして、1つ又は複数の第
2の電極16は、第1の仮想直線L1よりも内側に配置
される。この場合に、一群の第2の電極16は、仮想直
線L1の方向で、一群の第1の電極14の隣に配置され
る。第2の電極16が複数設けられた場合に、それらは
第1の仮想直線L1とは別の第2の仮想直線L2上に配
列されてもよい。第2の仮想直線L2は、第1の仮想直
線L1と平行な直線であってもよい。
【0027】あるいは、第2の電極16は、第2の仮想
直線L2上と、第2の仮想直線L2から外れた領域と、
に配置されてもよい。すなわち、第1の仮想直線L1か
ら外れた領域に任意に配置されたものを第2の電極16
と称してもよい。
【0028】図1に示すように、半導体チップ10の1
辺において、第1の電極14の個数は、第2の電極16
の個数よりも少なくてもよく、あるいは多くてもよい。
例えば、多くの第2の電極16を半導体チップ10の内
側に配置すれば、第2の電極16の外側に他の素子(電
源ラインなど)を設けるための広い領域を確保すること
ができる。
【0029】図1に示す例では、第2の電極16は、1
辺に沿って配列される複数の電極12のうちの端部に位
置している。言い換えると、第2の電極16は、1辺の
うちの半導体チップ10の角部を含む領域(1辺におい
て角部に近い領域)に設けられている。詳しくは、矩形
をなす半導体チップ10の4つの角部のうち、少なくと
も1つの(図1では1つの)角部に第2の電極16が配
置されている。この場合に、一群の第1の電極14は、
一群の第2の電極16が配置された角部とは隣の半導体
チップ10の角部を含む領域に配置されてもよい。
【0030】なお、図1に示す例では、第1及び第2の
電極14、16が半導体チップ10の1辺にある場合を
示してあるが、第1及び第2の電極14、16は、半導
体チップ10の2辺以上(例えば、隣り合う2辺又は対
向する2辺)に設けられてもよい。
【0031】リード20は、銅(Cu)、クローム(C
r)、チタン(Ti)、ニッケル(Ni)、チタンタン
グステン(Ti−W)、金(Au)、アルミニウム(A
l)、ニッケルバナジウム(NiV)、タングステン
(W)のうちのいずれかを積層して、あるいはいずれか
の一層で形成することができる。リード20の表面は、
金メッキ又はスズメッキされてもよい。リード20は、
基板22(図2参照)にて支持されていることが多い。
【0032】基板22は、有機系の材料で形成されるこ
とが多いが無機系の材料で形成されてもよい。基板22
は、フレキシブル性を有してもよい。フレキシブル基板
として、FPC(Flexible Printed Circuit)や、TA
B(Tape Automated Bonding)技術で使用されるテープ
を使用してもよい。基板22上のリード20は、配線パ
ターンと称してもよい。TAB技術が適用される場合に
は、基板22にデバイスホール24が形成され、デバイ
スホール24の内側にリード20の一部が突出する。突
出するリード20の一部は、インナーリードと称され
る。
【0033】リード20は、1つ又は複数方向(多くの
場合は複数方向)からデバイスホール24に延びて形成
される。また、リード20は、密集した一群の電極12
(例えば1つの辺に配列された一群の電極12)と接続
する一群が1方向に延びることが多い。図1に示す例で
は、複数のリード20は、矩形の半導体チップ10が配
置されるデバイスホール24の内側に4方向から延出し
ている。こうすることで、例えば、半導体チップ10の
各辺(4辺)の端部に電極12が配列される場合に、各
方向から延びる一群のリード20を各電極12に最短距
離で接続することができる。なお、複数のリード20の
延びる方向は限定されず、例えば半導体チップ10の平
行な2辺に電極12が形成される場合に、複数のリード
20は対向する2方向から延びて形成されてもよい。
【0034】まず、図1及び図2に示すように、半導体
チップ10と複数のリード20とを位置合わせする。詳
しくは、半導体チップ10における電極12が形成され
た面の上方に、半導体チップ10から間隔をあけて、複
数のリード20を配置する。各リード20を、いずれか
の電極12の上方に位置させる。また、リード20は、
その先端を半導体チップ10の中央方向に向けて配置さ
せる。なお、TAB技術が適用されるときには、デバイ
スホール24の内側に半導体チップ10を配置する。
【0035】リード20の上方に、ボンディングツール
30を配置する。ボンディングツール30は、リード2
0を押圧するボンディング面32を含む。ボンディング
ツール30は、一括して複数のリード20を電極12に
接合するためのものであり、リード20と接触するボン
ディング面32は平らな面であることが好ましい。ボン
ディングツール30は、ボンディングを行うときに加熱
されることが好ましい。これにより、圧力及び熱によっ
てボンディングを行うことができる。例えば、ボンディ
ングツール30は、ヒータなどの加熱手段を内蔵してい
てもよい。
【0036】ここで、ボンディング面32は、複数の電
極12の配列に従って部分的に突出する周縁をなしてい
る。ボンディング面32の外側に切り欠き34が存在す
るともいえる。切り欠き34とボンディング面32とが
結合した形状は、半導体チップ10の相似形であっても
よい。図示する例では、切り欠き34とボンディング面
32とが結合した形状は、矩形である。
【0037】図3に示すように、例えば切り欠き34の
形状は、複数の第2の電極16の配列する方向に長い長
方形であってもよい。あるいは、複数の第2の電極16
が任意の位置に設けられる場合には、切り欠き34は、
それぞれの第2の電極16からボンディング面32の周
縁までの距離(最短の長さ)がほぼ等しくなる形状に形
成され、例えば複数の角部を有する階段形状であっても
よい。
【0038】ボンディング面32は、図3に示すように
1つの面で構成されてもよく、あるいは複数の面で構成
されてもよい。ボンディング面32を1つの面にすれ
ば、構造が簡易であるのでクリーニングなどのメンテナ
ンスが容易となる。
【0039】図3に示すように、ボンディング面32
は、第1の電極14を押圧する部分(端部36)が第2
の電極16を押圧する部分(端部38)よりも突出して
形成されている。この場合に、切り欠き34は、ボンデ
ィング面32の第2の電極16を押圧する端部38の外
側に存在する。第1の電極14を押圧する端部36を構
成する辺の1つは、第2の電極16を押圧する端部38
を構成する辺と接続されて、両者の間の角度は直角をな
すことが好ましい。すなわち、切り欠き34におけるボ
ンディング面32の内側に向く角部は直角であることが
好ましく、これによって、狭ピッチに配列された複数の
電極12に従って、ボンディング面32の周縁の形状を
対応させることができる。
【0040】これによれば、ボンディング面32の突出
する部分(例えば端部36)、突出していない部分(例
えば端部38)又はそれらの境界を目印として使用し
て、ボンディングツール30と、半導体チップ10又は
リード20と、の相対的な位置合わせを行うことも可能
である。位置決めの目印は、ボンディング面32の突出
する部分を基準とする部分であれば、いかなる部分を使
用してもよい。これは、ボンディング面32の全体の形
状が非対称である場合に特に有効である。
【0041】図3に示す例では、第2の電極16を押圧
する端部38は、ボンディング面32の角部を構成す
る。例えば、矩形をなす切り欠き34は、ボンディング
面32の直交する2辺のみに接してもよい。ボンディン
グ面32は、L字状に切り欠いて形成されているともい
える。これによれば、ボンディング面32の第2の電極
16を押圧する端部38に、リード20の酸化物(メッ
キの酸化物)などのゴミが付着しても、ゴミを容易に吐
出すことができる。詳しくは、切り欠き34はボンディ
ング面32の直交する2辺にしか接していないので、砥
石で研削した後にブラシによってゴミを複数方向から吐
出せる。したがって、ボンディングツール30のクリー
ニングを容易に行うことができる。
【0042】図3に示す例とは別に、ボンディング面3
2が複数の面からなる場合には、各面は1つの電極12
を接合してもよく、あるいは2つ以上の電極12を一括
して接合してもよい。例えば、複数のボンディング面3
2のうち1つの面は、第2の電極16の全部を一括して
押圧する面であってもよい。
【0043】図4及び図5に示すように、ボンディング
ツール30を降下させ、ボンディング面32で複数のリ
ード20を押圧する。図4は、電極12及びリード20
が接合された半導体チップ10の平面図である。図5
は、図4における半導体チップ10及びリード20のV
‐V線断面を含む図であり、ボンディングツール30で
複数のリード20をボンディングした状態を示す図であ
る。
【0044】ボンディング面32は、その周縁を各リー
ド20の電極12との接合部からの長さがほぼ等しい位
置に接触させて、複数のリード20を押圧する。これに
より、半導体チップ10から間隔をあけて配置された複
数のリード20は、ボンディング面32の周縁で一括し
て屈曲される。詳しくは、複数のリード20は、半導体
チップ10から離れる方向に屈曲される。複数のリード
20は、半導体チップ10から斜めに屈曲されることが
好ましい。例えば、ボンディング面32の周縁に接続さ
れる傾斜面(図示しない)によって、複数のリード20
の傾斜角度が規制されてもよい。
【0045】そして、ボンディング面32の端部36に
よって第1の電極14を押圧し、端部38によって第2
の電極16を押圧する。ボンディング面32の各端部3
6、38は上述のように構成されているので、これによ
って、第1のリード26の第1の電極14との接合部か
ら屈曲部までの長さと、第2のリード28の第2の電極
16との接合部から屈曲部までの長さと、をほぼ等しく
することができる。すなわち、第2のリード28を、第
1のリード26の屈曲部よりも半導体チップ10の内側
で屈曲させることができる。
【0046】詳しく説明すると、図6に示す図4の部分
拡大図にあるように、第1の電極14(第1の電極14
の中心点)から半導体チップ10の周縁までの距離X1
と、第2の電極16(第2の電極16の中心点)から半
導体チップ10の周縁までの距離X2と、は以下の関係
を有する。
【0047】X1<X2 例えば、電極12のパッドの1辺が約100μmである
場合に、X1及びX2は、以下の関係であってもよい。
【0048】X1+約80μm=X2 一方、ボンディング面32は、第1の電極14を押圧す
る端部36が第2の電極16を押圧する端部38よりも
突出して形成されている。したがって、第1のリード2
6の第1の電極14との接合部から屈曲部(ボンディン
グ面32の周縁)までの長さY1と、第2のリード28
の第2の電極16との接合部から屈曲部(ボンディング
面32の周縁)までの長さY2と、は以下の関係を有す
る。
【0049】Y1=Y2 例えば、 Y1(=Y2)=約25μm であってもよい。
【0050】すなわち、1辺において、各電極12にお
ける半導体チップ10の周縁までの距離が互いに異なっ
ていても、複数のリード20の電極12との接合部から
屈曲部までの長さをほぼ等しくすることができる。した
がって、リード20が垂れて半導体チップ10に接触す
ること、すなわちリード20が短絡することを防ぐこと
ができる。
【0051】本実施の形態に係るボンディングツール3
0は、部分的に突出する周縁をなすボンディング面32
を含む。ボンディング面32は、半導体チップ10の複
数の電極12の配列に従って、相対的に形状が決められ
る。構成及びその効果は、製造方法において説明した通
りである。
【0052】図7は、本発明を適用した実施の形態に係
る半導体装置を含む図である。半導体装置は、上述の製
造方法によって製造されてなる。
【0053】本実施の形態で説明する半導体装置は、一
定の領域で打ち抜かれる前の状態のテープ状半導体装置
であってもよく、あるいはTAB技術が適用されたフィ
ルムキャリアであってもよい。あるいは、それらが1つ
又は複数の半導体チップ10を含む領域で打ち抜かれた
ものを半導体装置としてもよい。
【0054】図7に示す基板22は、テープ状をなし、
端部に複数のスプロケットホール23が形成されてい
る。スプロケットホール23にスプロケット(図示せ
ず)をはめ合わせて、基板22のリール・トゥ・リール
搬送が可能になっている。
【0055】基板22には、少なくとも1つ(1つでも
よいが図7では複数)のアウターリードホール25が形
成されてもよい。アウターリードホール25は、半導体
チップ10の配置位置の周囲に形成される。例えば、デ
バイスホール24が矩形をなす場合に、矩形の各辺に平
行に延びる長穴のアウターリード25が形成されてもよ
い。アウターリードホール25上をまたいでリード20
を形成し、リード20におけるアウターリードホール2
5上の部分を外部端子(アウターリード)として使用す
ることができる。また、リード20をアウターリードよ
りもさらに延長して、テストパッドを設けてよい。
【0056】本実施の形態に係る半導体装置によれば、
各リード20の電極12との接合部から屈曲部までの長
さをほぼ等しくできるので、リード20の屈曲部までが
長すぎて垂れてしまうことで半導体チップ10に接触す
ることを避けられる。したがって、信頼性の高い半導体
装置を提供することができる。
【0057】(第2の実施の形態)図8及び図9は、本
発明を適用した第2の実施の形態に係る半導体装置の製
造方法及びボンディングツールを説明するための図であ
る。図8は、半導体チップ40の平面図である。本実施
の形態では、上述の実施の形態で説明した内容を可能な
限り適用することができる。そして、本実施の形態でも
上述の実施の形態と同様の効果を得ることができる。
【0058】本実施の形態では、電極42を有する半導
体チップ40を使用し、ボンディング面52の形状が上
述の実施の形態と異なる。半導体チップ40は、少なく
とも1辺において第1の仮想直線L1上に1列に並んだ
複数の第1の電極44と、第1の仮想直線L1よりも半
導体チップ40の内側に配置された第2の電極46と、
を含む。第1及び第2の仮想直線L1、L2の説明は、
上述の内容を適用することができる。以下に、上述の実
施の形態と異なる点を説明する。
【0059】図8に示す例では、第2の電極46は、1
辺に沿って配列される複数の電極42のうちの中間部に
位置する。言い換えると、第2の電極46は、1辺のう
ちの半導体チップ10の角部を除く領域に設けられてい
る。すなわち、第1の電極44は、1辺に沿って配列さ
れる複数の電極42の端部に位置する。そして、第2の
電極46は、第1の電極44の間に位置する。第2の電
極46は、半導体チップ10の1辺に設けられてもよ
く、あるいは2辺以上に設けられてもよい。なお、半導
体チップ40(第1及び第2の電極44、46を含む)
のその他の形態は、上述の実施の形態で説明した内容を
適用することができる。
【0060】図9に示すように、ボンディング面52の
平面視において、第2の電極46を押圧する部分(端部
58)は、2つの第1の電極44を押圧する部分(端部
56、57)の間に位置している。詳しくは、第2の電
極46を押圧する部分は、2つの第1の電極44を押圧
する部分の端部で挟まれている。これによって、ボンデ
ィング面52の周縁の一部が凹部形状に形成されてい
る。すなわち、端部58と、両側に端部58を挟んで配
置され、それよりも突出する端部56、57と、によっ
て、ボンディング面32の周縁の一部が凹部形状をなし
ている。言い換えれば、端部56、57、58で囲まれ
た空間に切り欠き54が存在するともいえる。例えば切
り欠き54の形状は、複数の第2の電極46が配列する
方向に長い長方形であってもよい。
【0061】なお、その他のボンディング面52の形態
は、上述の実施の形態で説明した内容(端部の形状及び
それらの関係、切り欠きの形状など)を適用することが
できる。
【0062】図10は、半導体装置が実装された回路基
板を示す図である。回路基板60には例えばガラスエポ
キシ基板等の有機系基板を用いることが一般的である。
回路基板60には例えば銅等からなる配線パターン62
が所望の回路となるように形成されていて、配線パター
ン62と半導体装置のアウターリードとが接合されてい
る。なお、半導体チップ10の少なくとも一部は、封止
材70で封止されることが多い。また、リード20の少
なくとも一部は、ソルダーレジストなどの保護膜72で
覆われる。
【0063】そして、本発明を適用した半導体装置を有
する電子機器として、図11にはノート型パーソナルコ
ンピュータ80、図12には携帯電話90が示されてい
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。
【図2】図2は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係る半導体装置の製造方法を示す図である。
【図3】図3は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係るボンディングツールのボンディング面の平面図であ
る。
【図4】図4は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。
【図5】図5は、本発明を適用した第1の実施の形態に
係る半導体装置の製造方法を示す図である。
【図6】図6は、図4の部分拡大図である。
【図7】図7は、本発明を適用した実施の形態に係る半
導体装置を示す図である。
【図8】図8は、本発明を適用した第2の実施の形態に
係る半導体装置の製造方法を説明するための図である。
【図9】図9は、本発明を適用した第2の実施の形態に
係るボンディングツールのボンディング面の平面図であ
る。
【図10】図10は、本発明を適用した実施の形態に係
る半導体装置が搭載された回路基板を示す図である。
【図11】図11は、本発明を適用した実施の形態に係
る半導体装置を有する電子機器を示す図である。
【図12】図12は、本発明を適用した実施の形態に係
る半導体装置を有する電子機器を示す図である。
【符号の説明】
10 半導体チップ 12 電極 14 第1の電極 16 第2の電極 20 リード 26 第1のリード 28 第2のリード 30 ボンディングツール 32 ボンディング面 34 切り欠き 36 端部 38 端部 40 半導体チップ 42 電極 44 第1の電極 46 第2の電極 52 ボンディング面 54 切り欠き 56 端部 57 端部 58 端部

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも1辺において仮想直線上に1
    列に並んだ複数の第1の電極と前記仮想直線よりも内側
    に配置された第2の電極とを含む半導体チップと、前記
    電極の配列に従って部分的に突出する周縁をなすボンデ
    ィング面を含むボンディングツールと、を用意し、複数
    のリードを前記半導体チップの上方に配置する工程と、 前記ボンディング面の周縁を各リードの前記電極との接
    合部からの長さがほぼ等しい位置に接触させて、前記ボ
    ンディング面で前記リードを押圧する工程と、を含む半
    導体装置の製造方法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の半導体装置の製造方法に
    おいて、 前記ボンディング面は、1つの面で構成され、前記第1
    の電極を押圧する端部が前記第2の電極を押圧する端部
    よりも突出して形成されてなる半導体装置の製造方法。
  3. 【請求項3】請求項2記載の半導体装置の製造方法にお
    いて、 前記半導体チップは、矩形をなし、 前記第2の電極は、1辺に沿って配列される複数の電極
    のうちの端部に位置し、 前記第2の電極を押圧する端部は、前記ボンディング面
    の角部を構成する半導体装置の製造方法。
  4. 【請求項4】 請求項2記載の半導体装置の製造方法に
    おいて、 前記半導体チップは、矩形をなし、 前記第2の電極は、1辺に沿って配列される複数の電極
    のうちの中間部に位置し、 前記第2の電極を押圧する部分が2つの前記第1の電極
    を押圧する端部の間に位置することによって、前記ボン
    ディング面の周縁の一部が凹部形状に形成された半導体
    装置の製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項1から請求項4のいずれかに記載
    の製造方法によって製造されてなる半導体装置。
  6. 【請求項6】 請求項5記載の半導体装置を有する回路
    基板。
  7. 【請求項7】 請求項5記載の半導体装置を有する電子
    機器。
  8. 【請求項8】 半導体チップの複数の電極の配列に従っ
    て、部分的に突出する周縁をなすボンディング面を含む
    ボンディングツール。
  9. 【請求項9】 請求項8記載のボンディングツールにお
    いて、 前記半導体チップは、少なくとも1辺において仮想直線
    上に1列に並んだ複数の第1の電極と、前記仮想直線よ
    りも内側に配置された第2の電極と、を含み、 前記ボンディング面は、1つの面で構成され、前記第1
    の電極を押圧する端部が前記第2の電極を押圧する端部
    よりも突出して形成されてなるボンディングツール。
  10. 【請求項10】 請求項9記載のボンディングツールに
    おいて、 前記第2の電極を押圧する端部は、前記ボンディング面
    の角部を構成するボンディングツール。
  11. 【請求項11】 請求項9記載のボンディングツールに
    おいて、 前記第2の電極を押圧する部分が2つの前記第1の電極
    を押圧する端部の間に位置することによって、前記ボン
    ディング面の周縁の一部が凹部形状に形成されてなるボ
    ンディングツール。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2004024618A1 (ja) * 2002-09-13 2004-03-25 Advantest Corporation マイクロデバイス及び製造方法
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US7554136B2 (en) 2002-09-13 2009-06-30 Advantest Corporation Micro-switch device and method for manufacturing the same

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