JP2002287390A - 画像形成方法 - Google Patents

画像形成方法

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JP2002287390A
JP2002287390A JP2001092907A JP2001092907A JP2002287390A JP 2002287390 A JP2002287390 A JP 2002287390A JP 2001092907 A JP2001092907 A JP 2001092907A JP 2001092907 A JP2001092907 A JP 2001092907A JP 2002287390 A JP2002287390 A JP 2002287390A
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Kazuhiko Takada
和彦 高田
Toshiyuki Ebara
俊幸 江原
Hironori Owaki
弘憲 大脇
Satoshi Furushima
聡 古島
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 転写トナーの剥離放電による表面保護層の破
壊を防止し、良好な画像を長期にわたって安定して形成
できる画像形成方法を提供する。 【解決手段】 珪素を母体とする非単結晶からなる光導
電層と、非単結晶材料で構成された表面保護層とが導電
性基体の外周面上に積層されている電子写真感光体1111
と、中間転写体1117を有する画像形成装置を用い、帯電
工程と、潜像工程と、現像工程と、転写工程とを有し、
それら各工程を複数回繰り返して中間転写体上に複数の
トナー像を重ねて形成し、記録材上に転写して画像を形
成する方法であって、感光体1111の表面保護層は、固有
抵抗値Rs[Ωcm]が、1.0E+9≦Rs≦2.0E
+12 であることを特徴とする画像形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、a−Si(アモル
ファスシリコン)感光体を用いた画像形成方法に関し、
更に詳しくは、a−Siドラムを用いたプリンタ、複写
機、ファクシミリ等の電子写真装置に適用される画像形
成方法に関する。
【0002】
【従来の技術】a−Si感光体は、半導体レーザー(7
70nm〜800nm)などの長波長光に高い感度を示
し、しかも繰返し使用による劣化も殆ど認められず、特
に、高速複写機やLBP(レーザービームプリンター)
などの電子写真感光体として利用されている。さらに、
a−Si感光体は、潜像電位などの電気特性に関しても
長い使用期間にわたってきわめて安定しており、ほぼ半
永久的な特性を備えている。
【0003】また、電子写真感光体外周面上に、帯電、
露光、現像、中間転写、クリーニング、及び除電の各プ
ロセス手段を配置し、所定の電子写真プロセスにより画
像形成を行う、いわゆるカールソンプロセスに基づく画
像形成装置は周知である。このような中間転写体または
転写ベルトを用いた画像形成装置は、例えば、特開平8
−320591号公報、特開平8−211757号公
報、特開平8−160759号公報などに開示されてい
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】近年のデジタル方式の
画像形成方法においては、感光体への均一な帯電の後レ
ーザーまたはLEDアレイ等による潜像の書き込みが行
われ、現像手段によって感光体上の潜像が顕像化され
る。この場合、レーザーなどで潜像を書き込んだ部分に
現像剤を顕像化する反転現像方式と、潜像を書き込まな
い部分に現像剤を顕像化する正現像方式の2種類の方法
がある。
【0005】アナログ方式の画像形成方法においては、
原稿台からの原稿の反射光を感光体への潜像書き込み手
段とするため、正現像方式が用いられる。デジタル方式
においては、正現像方式と反転現像方式のどちらも利用
することが容易であるが、レーザーやLEDアレイの発
光強度や寿命の観点から、出来るだけレーザーやLED
アレイの発光時間を少なくしたほうが有利であり、反転
現像を用いる場合が多い。
【0006】また、近年の電子写真装置の高速化によ
り、デジタル方式の電子写真装置においても従来までは
毎分30〜40枚(A4横)であったものが、毎分60
枚(A4横)以上のコピースピードを有するものまで現
れている。このような場合において、感光体の面速度は
約260[mm/sec]以上が必要となってくる。ま
た、クリーニング手段は、感光体に当接して設けられた
クリーニングブレードにより、感光体上に残留する現像
剤をクリーニングする方法が多く用いられている。
【0007】反転現像方式を用いた場合、現像剤の極性
が正、感光体の極性が正、または現像剤の極性が負、感
光体の極性が負と言うように、感光体の帯電極性と現像
剤の帯電極性が同極である。この同極性の感光体と現像
剤のプロセスにおいて、高速移動する感光体表面をクリ
ーニングブレードによって現像剤を除去(クリーニン
グ)する際に、すなわち現像剤が感光体から剥ぎ取られ
る際に、現像剤の極性と反対の電荷を感光体表面に受け
渡す剥離放電現象が発生する。この場合の放電量そのも
のは微細なものであるが、トナーの大きさが数μ程度と
小さく且つそれ自体の抵抗が高いため、放電が感光体と
直接接する極めて微小面積に集中し、感光体の表面層近
傍の阻止能力を破壊するには充分な電圧となる。そし
て、この剥離放電による電荷保持能低下が生じると、そ
の部分において電位の低下が生じ、画像上に濃度が濃く
なる部分が生じ、濃度ムラとなって現れ画像欠陥とな
る。
【0008】また、この剥離放電現象は、中間転写ベル
トと感光体の間でも同様に発生し、濃度むらを生じさせ
る原因となる。
【0009】本発明はかかる問題点を鑑み、a−Si感
光体を用い、反転現像を用いた高速の電子写真装置にお
いて、転写トナーの剥離放電による表面保護層の破壊を
防止し、良好な画像を長期にわたって安定して提供でき
る画像形成方法を提供することを目的とするものであ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意検討した結果、反転現像方式の場合、
負帯電方式a−Si感光体の表面保護層の固有抵抗値R
s[Ω・cm]を、1.0E+9≦Rs≦2.0E+12
の範囲内とすることで、表面保護層の破壊を防止できる
など、優れた効果が得られることを見い出し、本発明を
完成するに至った。
【0011】すなわち本発明は、少なくとも珪素を母体
とする非単結晶からなる光導電層と非単結晶材料で構成
された表面保護層とを有する電子写真感光体と、該感光
体と表面同士が当接するように配置されている中間転写
体を有する画像形成装置を用い、該感光体の表面を負帯
電させる帯電工程と、帯電された表面上に露光を行って
静電潜像を形成する潜像工程と、静電潜像が形成された
表面上に負極性のトナー像を形成する現像工程と、該ト
ナー像を前記中間転写体上に転写する転写工程とを有
し、該帯電工程と該潜像形成工程と該現像工程と該転写
工程とを複数回繰り返して該中間転写体上に複数のトナ
ー像を重ねて形成し、形成された該トナー像を記録材上
に転写して画像を形成する方法において、該感光体の表
面保護層は、固有抵抗値Rs[Ωcm]が、 1.0E+9≦Rs≦2.0E+12 であることを特徴とする画像形成方法である。
【0012】
【発明の実施の形態】まず、本発明に用いる電子写真感
光体について説明する。図3(a)(b)はそれぞれ本
発明に用いる電子写真感光体の好適な層構成の例を説明
するための模式的構成図である。
【0013】(層構成)図3(a)に示す電子写真用感
光体300は、光受容部材用の支持体301の上に、電
荷注入阻止層302と、光受容層306とが設けられて
成るものである。この光受容層306は、例えば水素原
子及びハロゲン原子の少なくともいずれか一方とシリコ
ン原子を含有する非単結晶材料の一つであるa−Si
(H,X)で構成され光導電性を有する光導電層303
と、Si−Cから成る表面保護層304とを有する。
【0014】図3(b)に示す電子写真感光体300
は、光受容部材用の支持体301の上に、電荷注入阻止
層302と、光受容層306とが設けられて成るもので
ある。この光受容層306は、例えばa−Si(H,
X)で構成され光導電性を有する光導電層303と、S
i−Cからなるバッファ層305と、a−C系表面保護
層307とを有する。
【0015】(支持体)本発明において使用される導電
性支持体としては、例えば、Al、Cr、Mo、Au、
In、Nb、Te、V、Ti、Pt、Pd、Fe等の金
属、及びこれらの合金、例えばステンレス等が挙げられ
る。また、電気絶縁性支持体であって少なくとも光受容
層を作製する側の表面を導電処理して支持体として用い
ることができる。
【0016】(電荷注入阻止層)電子写真感光体におい
ては、導電性支持体と光導電層との間に、導電性支持体
側からの電荷の注入を阻止する働きのある電荷注入阻止
層302を設けるのがいっそう効果的である。すなわ
ち、電荷注入阻止層は光受容層が一定極性の帯電処理を
その自由表面に受けた際、支持体側より光導電層側に電
荷が注入されるのを阻止する機能を有し、逆の極性の帯
電処理を受けた際にはそのような機能は発揮されない、
いわゆる極性依存性を有している。そのような機能を付
与するために電荷注入阻止層には伝導性を制御する原子
を光導電層に比べ多く含有させる。
【0017】電荷注入阻止層に含有される伝導性を制御
する原子としては、半導体分野における、いわゆる不純
物を挙げることができ、p型伝導特性を与える周期律表
第13族に属する原子(以後「第13族原子」と略記す
る)またはn型伝導特性を与える周期律表第15族に属
する原子(以後「第15族原子」と略記する)を用いる
ことができる。
【0018】負帯電用の電荷注入阻止層に含有される第
15族原子としては、具体的にはP(リン)、As(砒
素)、Sb(アンチモン)、Bi(ビスマス)等があ
り、特にP、Asが好適である。電荷注入阻止層の層厚
としては、好ましくは0.1〜3μm、更に好ましくは
0.5〜3μmである。
【0019】電荷注入阻止層302を形成するには、後
述する光導電層を形成する方法と同様の薄膜堆積法等が
採用される。
【0020】本発明の目的を達成し得る特性を有する電
荷注入阻止層302を形成するには、後述する光導電層
と同様に、Si供給用のガスと希釈ガスとの混合比、反
応容器内のガス圧、放電電力ならびに支持体の温度を適
宜設定することが必要である。
【0021】(光導電層)本発明において、その目的を
効果的に達成するために支持体301上に形成され、光
受容層306の少なくとも一部を構成する光導電層30
3は、例えば薄膜堆積膜形成方法によって作製される。
その作製の際には所望特性が得られるように適宜成膜パ
ラメーターの数値条件が設定され、また使用される原料
ガスなどが選択される。具体的には、例えばグロー放電
法(低周波CVD法、高周波CVD法またはマイクロ波
CVD法等の交流放電CVD法、あるいは直流放電CV
D法等)、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレ
ーティング法、光CVD法、熱CVD法などの数々の薄
膜堆積法によって作製できる。これらの薄膜形成方法
は、製造条件、設備資本投資下の負荷程度、製造規模、
作製される電子写真感光体に所望される特性等の要因に
よって適宜選択されて採用される。所望の特性を有する
電子写真感光体を製造するに当たっての条件の制御が比
較的容易であることから、グロー放電法として、RF帯
(13.56MHz)やVHF帯としては50〜450
MHzの電源周波数を用いた高周波グロー放電法が好適
である。
【0022】グロー放電法によって光導電層303を形
成するには、例えば基本的にはシリコン原子(Si)を
供給し得るSi供給用の原料ガスと、水素原子(H)を
供給し得るH供給用の原料ガス及び/又はハロゲン原子
(X)を供給し得るX供給用の原料ガスを、内部が減圧
にし得る反応容器内に所望のガス状態で導入して、該反
応容器内にグロー放電を生起させ、あらかじめ所定の位
置に設置された所定の支持体301上にa−Si(H,
X)からなる層を形成すればよい。
【0023】また、光導電層303中に水素原子及び/
又はハロゲン原子が含有されることが、層中のシリコン
原子の未結合手を補償するために含有され、層品質の向
上、特に光導電性及び電荷保持特性を向上させるために
は必要である。水素原子またはハロゲン原子の含有量、
または水素原子とハロゲン原子の和の量は、シリコン原
子と水素原子及び/又はハロゲン原子の和に対して、好
ましくは10〜30原子%、より好ましくは15〜25
原子%である。
【0024】Si供給用ガスとなり得る物質としては、
SiH4、Si26、Si38、Si410等のガス状態
の、またはガス化し得る水素化珪素(シラン類)が有効
に使用されるものとして挙げられ、さらに層作製時の取
り扱い易さ、Si供給効率の良さ等の点で、SiH4
Si26が好ましいものとして挙げられる。
【0025】そして、形成される光導電層303中に水
素原子を構造的に導入し、水素原子の導入割合の制御を
いっそう容易になるようにはかり、H2及び/又はHe
あるいは水素原子を含む珪素化合物のガスを所望量混合
した雰囲気で、層形成することが必要である。また、各
ガスは単独種のみでなく所定の混合比で複数種混合して
も差し支えない。
【0026】また、ハロゲン原子供給用の原料ガスとし
て有効なのは、例えばハロゲンガス、ハロゲン化物、ハ
ロゲンを含むハロゲン間化合物、ハロゲンで置換された
シラン誘導体等のガス状のまたはガス化し得るハロゲン
化合物が好ましく挙げられる。光導電層303中に含有
される水素原子及び/又はハロゲン原子の量を制御する
には、例えば導電性支持体301の温度、水素原子及び
/又はハロゲン原子を含有させるために使用される原料
物質の反応容器内へ導入する量、放電電力等を制御すれ
ばよい。
【0027】光導電層303には必要に応じて伝導性を
制御する原子を含有させることが好ましい。伝導性を制
御する原子は、光導電層303中に万偏なく均一に分布
した状態で含有されても良いし、あるいは層厚方向には
不均一な分布状態で含有している部分があってもよい。
【0028】この伝導性を制御する原子としては、第1
3族原子または第15族原子を用いることができる。第
13族原子としては、具体的には、硼素(B)、アルミ
ニウム(Al)、ガリウム(Ga)、インジウム(I
n)、タリウム(Tl)等があり、特にB、Al、Ga
が好適である。第15族原子としては、具体的には燐
(P)、砒素(As)、アンチモン(Sb)、ビスマス
(Bi)等があり、特にP、Asが好適である。
【0029】光導電層303に含有される伝導性を制御
する原子の含有量としては、好ましくは1×10-2〜1
×103原子ppm、より好ましくは5×10-2〜5×
102原子ppm、更に好ましくは1×10-1〜1×1
-2原子ppmである。
【0030】伝導性を制御する原子、たとえば、第13
族原子あるいは第15族原子を構造的に導入するには、
層形成の際に、第13族原子導入用の原料物質あるいは
第15族原子導入用の原料物質をガス状態で反応容器中
に、光導電層303を形成するための他のガスとともに
導入してやればよい。第13族原子導入用の原料物質あ
るいは第15族原子導入用の原料物質となり得るものと
しては、常温常圧でガス状のまたは、少なくとも層形成
条件下で容易にガス化し得るものが採用されるのが望ま
しい。
【0031】また、これらの伝導性を制御する原子導入
用の原料物質を必要に応じてH2及び/又はHeにより
希釈して使用してもよい。
【0032】光導電層303の層厚としては、得ようと
する特性、要求される特性に応じて適宜決められ、通常
は、10〜50μm、特に好ましくは20〜40μmと
するの。
【0033】本発明の目的を達成し、所望の膜特性を有
する光導電層303を形成するには、Si供給用のガス
と希釈ガスとの混合比、反応容器内のガス圧、放電電力
ならびに支持体温度を適宜設定することが必要である。
【0034】希釈ガスとして使用するH2及び/又はH
eの流量は、層設計にしたがって適宜最適範囲が選択さ
れるが、Si供給用ガスに対しH2及び/又はHeを、
好ましくは3〜20倍の範囲に制御することが望まし
い。また、その範囲の値で一定になるように制御するこ
とが好ましい。
【0035】反応容器内のガス圧も同様に層設計にした
がって適宜最適範囲が選択され、通常場合10E−2P
a〜1.0E3Pa、特に好ましくは1.0E−1Pa〜
1.0E2Paとすることが好ましい。
【0036】放電電力もまた同様に層設計にしたがって
適宜最適範囲が選択されるが、Si供給用のガスの流量
に対する放電電力の比を、好ましくは2〜7の範囲に設
定することが望ましい。
【0037】光導電層を形成するための支持体温度、ガ
ス圧の望ましい数値範囲として前記した範囲が挙げられ
るが、条件は通常は独立的に別々に決められるものでは
なく、所望の特性を有する光受容部材を形成すべく相互
的且つ有機的関連性に基づいて最適値を決めるのが望ま
しい。
【0038】(バッファ層)本発明においては、光導電
層303と表面保護層307の間にバッファ305層を
設けてもよい。このバッファ層305は、組成と構造の
異なる光導電層303と表面保護層307を滑らかにつ
なぐために設ける場合がある。本発明にとってこのバッ
ファ層305に、感光体が帯電した時感光体表面より光
導電層側に電荷が注入されるのを阻止する機能をもたせ
ることも有効である。
【0039】阻止する機能を持たせるには、バッファ層
305中の伝導性を制御する原子を含有させ、第13族
原子を含むガスを、シリコン含有ガス、炭素含有ガス、
及び希ガスまたは水素ガスからなる原料ガスに100p
pm以上10000ppm未満添加すればよい。本発明
におけるバッファ層305は、所望の電子写真特性が得
られること、及び経済的効果等の点から、好ましくは
0.01〜1.0μmとする。膜厚が0.01μmより薄
くなると、表面からの電荷注入阻止が不十分になる。
1.0μmより厚いと電子写真特性の向上は期待でき
ず、作製時間の延長による製造コストの増加を招くだけ
である。
【0040】バッファ層を形成するためのシリコン含有
ガスと炭素含有ガスの混合比、伝導性制御物質を含有す
るガスの添加量、反応容器内のガス圧、放電電力、基体
温度等の成膜パラメーターは通常独立的に決められるも
のではなく、所望の特性を有するバッファ層を形成すべ
く相互的且つ有機的関連性に基づいて各作製パラメータ
ーの最適値を決めるのが望ましい。
【0041】(表面保護層)本発明においては、上述の
ようにして導電性支持体301上に形成された電荷注入
阻止層302と光導電層303の上に、Si−C表面保
護層304やa−C系の表面保護層307を形成するこ
とが好ましい。この表面保護層304、307は自由表
面を有し、主に耐湿性、連続繰り返し使用特性、電気的
耐圧性、使用環境特性、耐久性において本発明の目的を
達成するために設けられる。
【0042】そして、本発明者らは、様々な検討を重ね
た結果、表面保護層の固有抵抗Rs[Ωcm]は、2.
0E+12<Rsでは、剥離放電による画像欠陥が発生
しやすく、また、Rs<1.0E+9である場合は、電
荷が下部層に逃れやすくなることで潜像電位の横流れが
発生し、トナーが感光体上に正常に現像されなくなり画
像流れが発生しやすいという知見に至った。すなわち、
本発明は、表面保護層の固有抵抗Rs[Ωcm]を1.
0E+9≦Rs≦2.0E+12という特定の範囲に制
御することにより、上述のような問題を防止して、良好
な画像を長期にわたって安定して提供できるという効果
を奏するものである。なお本発明において表面保護層の
固有抵抗Rs[Ωcm]の値は、具体的には、後述する
実施例において実施した手法により測定した値である。
【0043】表面保護層は、a−Si系またはa−C系
の材料であればいずれの材質でも使用可能であるが、水
素原子(H)及び/又はハロゲン原子(X)を含有した
材料も用いられている。特にa−Cは硬度が高い上に、
潤滑性、体磨耗性に優れ、本発明においては1.0E+
9≦Rs≦2.0E+12に制御して用いるのが好適で
ある。
【0044】表面保護層の固有抵抗Rs[Ωcm]を、
1.0E+9≦Rs≦2.0E+12に制御するには、S
i−C、a−C共に、成膜ガス比、パワー、内圧等を変
化させればよい。
【0045】表面保護層に含有される水素原子及び/又
はハロゲン原子の量を制御するには、例えば円筒状支持
体の温度、水素原子及び/又はハロゲン原子を含有させ
るために使用される原料物質の反応容器内ヘ導入する
量、放電電力等を制御すればよい。
【0046】本発明における表面保護層304、307
の層厚としては、好ましくは0.01〜3μm、より好
ましくは0.1〜1μmである。。層厚が0.01μmよ
り薄いと光受容部材を使用中に摩擦等の理由により表面
保護層が失われてしまい易く、3μmを越えると残留電
位の増加等による電子写真特性の低下がみられる場合が
ある。
【0047】(成膜装置) <RF−PCVD>電子写真感光体を形成するための装
置及び膜形成方法について詳述する。図2はRF帯の周
波数を用いた高周波プラズマCVD法(RF−PCV
D)による電子写真感光体の製造装置の好適な一例を示
す模式的な構成図である。図2に示す製造装置の構成は
以下の通りである。
【0048】この装置は大別すると、堆積装置(210
0)と、反応容器(2111)内を減圧にするための排
気装置(図示せず)とから構成されている。堆積装置
(2100)中の反応容器(2111)内には円筒状支
持体(2112)、支持体加熱用ヒーター(211
3)、原料ガス導入管(2114)が設置され、更にマ
ッチングボックス(2115)が接続されている。
【0049】この装置を用いた堆積膜の形成は、例えば
以下のように行うことができる。まず、反応容器(21
11)内に円筒状支持体(2112)を設置し、排気装
置により反応容器(2111)内を排気する。続いて、
支持体加熱用ヒーター(2113)により円筒状支持体
(2112)の温度を、例えば200℃乃至350℃の
所定の温度に制御する。
【0050】堆積膜形成用の原料ガスを反応容器(21
11)に流入させるには、ガスボンベのバルブ、反応容
器のリークバルブ(2117)が閉じられていることを
確認し、また、流入バルブ、流出バルブ、補助バルブが
開かれていることを確認して、まずメインバルブ(21
18)を開いて反応容器(2111)及びガス配管(2
116)内を排気する。次に真空計(2119)の読み
が約1.0E−2Paになった時点で補助バルブ、流出
バルブを閉じる。その後、ガスボンベより各ガスをバル
ブを開いて導入し、圧力調整器により各ガス圧を所定の
圧力に調整する。次に、流入バルブを徐々に開けて、各
ガスをマスフローコントローラー内に導入する。
【0051】以上のようにして成膜の準備が完了した
後、以下の手順で各層の形成を行う。円筒状支持体(2
112)が所定の温度になったところで流出バルブのう
ちの必要なもの及び補助バルブを徐々に開き、ガスボン
ベから所定のガスを、原料ガス導入バルブ(212
0)、ガス配管(2116)、ガス導入管(2114)
を介して反応容器(2111)内に導入する。次に、マ
スフローコントローラーによって各原料ガスが所定の流
量になるように調整する。その際、反応容器(211
1)内の圧力が約1.5E2Pa以下の所定の圧力にな
るように真空計(2119)を見ながらメインバルブ
(2118)の開口を調整する。内圧が安定したところ
で、周波数13.56MHzのRF電源(図示せず)を
所望の電力に設定して、高周波マッチングボックス(2
115)を通じて反応容器(2111)内にRF電力を
導入し、グロー放電を生起させる。この放電エネルギー
によって反応容器内に導入された原料ガスが分解され、
円筒状支持体(2112)上に所定のシリコンを主成分
とする堆積膜が形成されるところとなる。所望の膜厚の
形成が行われた後、RF電力の供給を止め、流出バルブ
を閉じて反応容器へのガスの流入を止め、堆積膜の形成
を終える。
【0052】同様の操作を複数回繰り返すことによっ
て、所望の多層構造の光受容層が形成される。
【0053】それぞれの層を形成する際には必要なガス
以外の流出バルブはすべて閉じられており、また、それ
ぞれのガスが反応容器(2111)内、流出バルブから
反応容器(2111)に至る配管内に残留することを避
けるために、流出バルブを閉じ、補助バルブを開き、さ
らにメインバルブ(2118)を全開にして系内を一旦
高真空に排気する操作を必要に応じて行う。
【0054】また、膜形成の均一化を図るために、膜形
成を行っている間は、支持体(2112)を駆動装置に
よって所定の速度で回転させることも有効である。
【0055】<電子写真装置>図1は、電子写真プロセ
スを利用したカラー画像形成装置(複写機あるいはレー
ザービームプリンター)である。中間転写体としてはベ
ルト状のものを使用している。電子写真感光体1111
は、第1の画像担持体として繰返し使用される回転ドラ
ムであり、矢印の時計方向に所定の周速度(プロセスス
ピード)をもって回転駆動される。
【0056】電子写真感光体1111は回転過程で、所
望により前露光光源1123による前露光を経た後、一
次帯電器1112により負極性・電位に一様に帯電処理
され、次いで画像露光手段(カラー原稿画像の色分解・
結像露光光学系、画像情報の時系列電気デジタル画素信
号に対応して変調されたレーザービーム1009を出力
するレーザースキャナによる走査露光系等)による画像
露光を受けることにより目的のカラー画像の第1の色成
分像(例えばマゼンタ成分像)に対応した静電潜像が形
成される。なお、レーザービーム1009は、原稿台ラ
ンプ1002で原稿1001に照射した光の反射光を第
1〜第4ミラー1003〜1006、レンズ1007を
介してCCD1008で検知し、アナログプロセッサ回
路基板、イメージプロセッサ回路基板、レーザードライ
バ回路基板を経由した信号により駆動されるものであ
る。
【0057】次いで、その静電潜像が第1現像器111
3(マゼンタ現像器)により第1色であるマゼンタトナ
ーMにより現像される。この時、第2〜第4の現像器1
114、1115、1116(シアン、イエロー、ブラ
ックの各現像器)は作動−オフになっていて電子写真感
光体1111には作用せず、上記第1色のマゼンタトナ
ー画像は上記第2〜第4の現像器1114〜1116に
より影響を受けない。中間転写ベルト1117は矢示の
反時計方向に電子写真感光体1111と同じ周速度をも
って回転駆動されている。
【0058】電子写真感光体1111上に形成担持され
た第1色のマゼンタトナー画像が、電子写真感光体11
11と中間転写ベルト1117とのニップ部を通過する
過程で、中間転写ベルト1117に印加される一次転写
バイアス1119により形成される電界により、中間転
写ベルト1117の外周面に順次中間転写されていく。
中間転写ベルト1117に対する第1色のマゼンタトナ
ー画像の転写を終えた電子写真感光体1111の表面
は、マグローラー1120とクリーナーブレード112
1を備えたクリーニング装置により清掃される。
【0059】以下、同様に第2色のシアントナー画像、
第3色のイエロートナー画像、第4色のブラックトナー
画像が順次中間転写ベルト1117上に重畳転写され、
中間転写ベルト1117上の中間画像は給紙系1124
から供給された紙(記録材)に転写され、転写後の紙は
搬送系1125から排出系1126へと搬送される。こ
のようにして、目的のカラー画像に対応した合成カラー
トナー画像が形成される。また、中間転写ベルト111
7は中間転写ベルトクリーナー1118によりクリーニ
ングされる。
【0060】本発明に用いる中間転写ベルトは、特開平
11−52745号公報、特開2000−275980
号公報等に記述されているような公知のものが用いられ
る。例えば、特開平11−52745号公報では、実施
例において、中間転写ベルトは、熱可性エラストマーが
用いられている。トナーとしては、磁性ネガトナー等を
用いることができる。
【0061】
【実施例】以下、実施例により、本発明をさらに詳細に
説明する。
【0062】<実施例1>電子写真感光体作製用の基板
は、外径は108mm、長さ358mmのAl製シリン
ダーを用いた。実施形態の欄に記述した手順に従って図
3(a)に示す層構成で表1に示すRF−PCVD法の
処方を用いて電荷注入阻止層から光導電層までを作製し
た。また、表面保護層は、表1に示す成膜ガス比、パワ
ー、内圧等の数値を基準としてそれぞれを変化幅の欄に
記載した範囲内で変化させて、Si−Cで形成されてい
る表面保護層の固有抵抗値Rs[Ωcm]が異なる電子
写真感光体を6本作製し、表3に示す表面保護層の固有
抵抗の電子写真感光体を得た。
【0063】複写機は、図1で示したような機械を使用
した。中間転写ベルトは、熱可塑性エラストマーを用い
た。そして、表2に示す環境下と表3に示す表面保護層
の固有抵抗の電子写真感光体を、各々図1の取り付け位
置にセットし、現像剤として、実施形態例に記載した同
様なものを用い、モノクロ画像状態で各々100万枚の
耐久試験を行った。
【0064】
【表1】
【0065】
【表2】
【0066】
【表3】
【0067】なお、表面保護層の固有抵抗値[Ωcm]
の算出は、次に述べるような方法で行った。すなわち、
基板としてコーニング社製7059ガラス基板を用い、
円筒状支持体にセットした状態で成膜装置に投入し、電
子写真感光体の表面保護層を作成する成膜条件と同様に
して表面保護層のみの成膜を行い、成膜終了後、電極を
取り付けて、HP社製 pA METER/DC VOLTAGE SORCE 41
40Bを用いて、表面保護層の固有抵抗の測定を行った。
【0068】耐久チャートは、図4に示す様に、ベタ黒
画像部とベタ白画像部をコピー方向に平行に入れたチャ
ートを用いた。耐久後の評価は、ハーフトーン画像にお
いて黒ポチ及びベタ黒相当する部分の濃度変動を目視観
察による客観的な画像欠陥の評価及び、直接電圧印加方
式(電子写真学会誌 第22巻 第1号(1983)、
図7参照)によりベタ黒部の耐久前電位V0とベタ黒部
の耐久後電位V1の差分△V2(=V0−V1)を耐久
前電位電位V0で割ったものを電位低下率として評価の
パラメーターとした。
【0069】本実施例に用いた直接電圧印加方式の感光
体測定装置の詳細を以下に記す。装置概要は図5に示す
ように、電子写真感光体501にネサガラス502とア
ース503を設けるなどして、測定用の高圧電源はDC
/ACコンバーターからの出力をレスポンスの早いオペ
アンプを使用し増巾している。電源と電子写真感光体の
間には必要に応じて抵抗、コンデンサーが入れられるよ
うになっており、それにより帯電の時定数を変えられる
ようになっている。D/Aコンバーターは、コンピュー
タにより制御されている。光源は前後左右に4個配置さ
れており、電極の下に配置された反射ミラーで露光され
るようになっている。各光源とも電子写真感光体との間
には各種フィルターをセットできるようになっている。
ここで、504はミラー、505はシャッター、506
はフィルター、507はハロゲンランプ、508はND
フィルター、509はインターフェースフィルター、5
10はモーターである。
【0070】次に、測定シーケンスについて説明する。
本実施例における測定は、電子写真感光体をコンデンサ
ーとみなしたコンデンサーモデルとして測定してある。
図6に測定シーケンスを図7に測定回路の概要図を示
す。測定は、図6に示すように進められる。詳細は、光
源により電子写真感光体の履歴を除去するためのイレー
ス露光及び前露光を電子写真感光体に照射し、約10m
sec後に所定の印加電圧Vaを感光体に印加する。そ
の後、約0.2sec後に(Vd+Vc)分の電位を測
定し、測定後、電子写真感光体をアースに落とし、次に
Vc成分の電位測定を行い、これらの結果から求めたV
dを電子写真感光体電位とした。
【0071】測定結果の一例を図8に示す。なお、電位
は、印加電圧Va=2000Vの時のVd電位としてあ
る。
【0072】また、表4には、表2に示すN/L環境に
おける結果を示している。表4より、実画像において画
像欠陥が顕像化するには、直接電圧印加方式における暗
部電位の低下率が30%以下であることが確認できる。
【0073】<比較例1>表面保護層の固有抵抗が8.
0E+8、9.0E+8、3.0E+12、4.0E+1
3、4.0E+14であること以外は、実施例1と同様
な方法で成膜と評価を行った。
【0074】
【表4】
【0075】(表4中の符号の説明) 画像欠陥 〇:画像欠陥が確認できないレベル △:画像欠陥はあるが実用上問題ないレベル ×:画像欠陥が存在し、実用上問題になるレベル 画像流れ 〇:画像流れが確認できないレベル △:画像流れはあるが実用上問題ないレベル ×:画像流れが存在し、実用上問題になるレベル。
【0076】表4に示すように表面層の固有抵抗Rs
[Ωcm]が1.0E+9≦Rs≦2.0E+12の範囲
内で電位低下率が30%以内になり、かつ画像欠陥及び
画像流れが実用上問題のないレベルになった。
【0077】<実施例2>図3(b)に示す電子写真感
光体を次の様に作製した。表5に示すRF−PVD法の
処方を用いて、電荷注入阻止層からバッファ層までを作
製し、表面保護層は、成膜ガス比、パワー、内圧等の数
値を基準として、それぞれを変化させて、a−Cで形成
されている表面保護層の固有抵抗値Rs[Ωcm]が異
なる電子写真感光体を6本作製し、表3に示す表面保護
層の固有抵抗の電子写真感光体を得た。そして、これら
電子写真感光体を実施例1と同様な方法で評価した。
【0078】<比較例2>表面保護層の固有抵抗が8.
0E+8、9.0E+8、3.0E+12、4.0E+1
3、4.0E+14である以外は、実施例2と同様な方
法で成膜と評価を行った。
【0079】
【表5】
【0080】
【表6】
【0081】表6に示すようにa−C層の固有抵抗Rs
[Ωcm]が1.0E+9≦Rs≦2.0E+12の範囲
で電位低下率が30%以内になり、かつ画像欠陥及び画
像流れが実用上問題のないレベルになった。
【0082】<実施例3>表面保護層の固有抵抗値をR
s[Ωcm]=2.0E+9にしたこと以外は、実施例
1と同様な方法で電子写真感光体を10本作製した。そ
して、これらの電子写真感光体は、図1に示すように複
写機にセットした状態で面速度PSを変化させて評価し
たこと以外は、実施例1と同様な方法を用いて評価し
た。
【0083】<比較例3>表面保護層の固有抵抗を4.
0E+14にしたこと以外は、実施例3と同様な方法で
成膜と評価を行った。
【0084】
【表7】
【0085】表7に示すように表面保護層の固有抵抗値
をRs[Ωcm]=2.0E+9である実施例3の電子
写真感光体は、面速度PSが260[mm/sec]以
上でも電位低下率が30%以内になり、かつ画像欠陥が
実用上問題のないレベルであった。
【0086】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
負帯電方式のa−Siドラムと負極性トナーと中間転写
体を用いた画像形成装置において、ドラムの表面保護層
の固有抵抗を特定範囲内に制御することによって、転写
トナーの剥離放電による表面保護層の破壊を防止でき
る。この為、良好な画像を長期にわたって安定して提供
でき、さらには、複写速度の高速化も容易になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】電子写真装置の一例を示す模式図である。
【図2】電子写真感光体の光受容層を形成するための装
置の一例で、RF帯の高周波を用いたグロー放電法によ
る電子写真感光体の製造装置の模式的説明図である。
【図3】(a)(b)共に、電子写真感光体の好適な実
施態様例の層構成の一例を説明するための模式的層構成
図である。
【図4】耐久チャートの一例を示す模式図である。
【図5】直接電圧印加方式の感光体帯電特性の測定装置
概略図である。
【図6】直接電圧印加方式における感光体帯電特性の測
定装置の測定シーケンス概略図である。
【図7】直接電圧印加方式における感光体帯電特性の測
定装置の測定回路図の一例である。
【図8】直接電圧印加方式における感光体帯電特性の測
定結果の一例を示す図である。
【符号の説明】
1001 原稿 1002 原稿台ランプ 1003〜1006 第1〜第4ミラー 1007 レンズ 1008 CCD 1009 レーザービーム 1111 電子写真感光体 1112 一次帯電器 1113 マゼンダ現像器 1114 シアン現像器 1115 イエロー現像器 1116 黒現像器 1117 中間転写ベルト 1118 中間転写ベルトクリーナー 1119 一次転写バイアス 1120 マグローラー 1121 クリーナーブレード 1123 前露光光源 1124 給紙系 1125 搬送系 1126 排出系 2100 堆積膜形成装置 2111 反応容器 2112 円筒状支持体 2113 支持体加熱用ヒーター 2114 原料ガス導入管 2115 マッチングボックス 2116 原料ガス配管 2117 反応容器リークバルブ 2118 メイン排気バルブ 2119 真空計 2120 原料ガス導入バルブ 300 電子写真感光体 301 導電性支持体(Alシリンダー) 302 電荷注入阻止層 303 光導電層 304 a−SiC表面保護層 305 a−SiCバッファ層 306 光受容層 307 a−C表面保護層 501 電子写真感光体 502 ネサガラス 503 アース 504 ミラー 505 シャッター 506 フィルター 507 ハロゲンランプ 508 NDフィルター 509 インターフェースフィルター 510 モーター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大脇 弘憲 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 古島 聡 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内 Fターム(参考) 2H068 CA03 DA17 DA32

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 少なくとも珪素を母体とする非単結晶か
    らなる光導電層と非単結晶材料で構成された表面保護層
    とを有する電子写真感光体と、該感光体と表面同士が当
    接するように配置されている中間転写体を有する画像形
    成装置を用い、該感光体の表面を負帯電させる帯電工程
    と、帯電された表面上に露光を行って静電潜像を形成す
    る潜像工程と、静電潜像が形成された表面上に負極性の
    トナー像を形成する現像工程と、該トナー像を前記中間
    転写体上に転写する転写工程とを有し、該帯電工程と該
    潜像形成工程と該現像工程と該転写工程とを複数回繰り
    返して該中間転写体上に複数のトナー像を重ねて形成
    し、形成された該トナー像を記録材上に転写して画像を
    形成する方法において、 該感光体の表面保護層は、固有抵抗値Rs[Ωcm]
    が、 1.0E+9≦Rs≦2.0E+12 であることを特徴とする画像形成方法。
  2. 【請求項2】 表面保護層は、アモルファスカーボンか
    らなる請求項1記載の画像形成方法。
  3. 【請求項3】 感光体の面速度PSは、260mm/s
    ec以上である請求項1又は2記載の画像形成方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2007078002A1 (ja) 2006-01-06 2007-07-12 Canon Kabushiki Kaisha 現像剤及び画像形成方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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