JP2002287382A - 電子写真装置 - Google Patents

電子写真装置

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JP2002287382A
JP2002287382A JP2001086326A JP2001086326A JP2002287382A JP 2002287382 A JP2002287382 A JP 2002287382A JP 2001086326 A JP2001086326 A JP 2001086326A JP 2001086326 A JP2001086326 A JP 2001086326A JP 2002287382 A JP2002287382 A JP 2002287382A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高速のプロセスにおいても感光体の繰り返し
安定性に優れ、長期に渡り残留電荷の蓄積やゴースト発
生のない電子写真感光体及びこれを用いた電子写真装置
の提供。 【解決手段】 電子写真感光体を均一に帯電させるため
の帯電手段、該電子写真感光体上に静電潜像を作るため
の波長L(nm)にピークを有する露光手段、顕像化
するための現像手段、顕像化された像を転写材に転写す
るための転写手段、波長L(nm)にピークを有する
除電手段を含む電子写真装置であって、前記電子写真感
光体の、L(nm)の波長における感度が、L(n
m)の波長における感度よりも高いことを特徴とする電
子写真装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真装置に関
するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、コンピュータ等の普及により複写
機やプリンターには像露光手段に半導体レーザーやLE
D等を用いたデジタル方式の電子写真装置の開発が盛ん
に行われている。更に、この電子写真装置に用いる電子
写真感光体用の光導電性素材として、Se、CdS、Z
nO等の無機材料に対し、感度、熱安定性、毒性等に優
位性を有する有機光導電性材料を用いた電子写真感光体
が多く搭載されるに至っている。これらの電子写真装置
は、従来、高速化、高画質化、高耐久化のために大口径
の感光体を高線速で用いる方式が一般的であったが、今
日、それらに加えて小型化、省電力化が求められるよう
になり、30mmφ程度の小口径の感光体を高線速で用
いる方式が必要とされている。しかし、小型化、高線速
化により、除電プロセスから帯電プロセス間における時
間が短くなるため、感光体は十分な電位減衰が行えず、
静電潜像の残像(ゴースト)や残留電位の上昇が生じる
等の問題がある。更に、電子写真感光体の周囲には、帯
電器、現像器、転写器、クリーニング装置等が配置され
るため、小口径の感光体においては、除電装置が感光体
近傍に配置できず、比較的離れて配置されることにな
る。このため除電光量を強くする必要が生じ、省電力化
を妨げる要因となっていた。
【0003】これらの問題に対し、特開2000−11
2162号公報では中間層がナイロン6−66−610
−12の4元ナイロン共重合体とジルコニウムテトラ−
n−ブトキシドより生成する重合体からなる電子写真感
光体を用いることが提案されているが、ゴーストの防止
や繰返し使用による電位変動の上昇に十分な効果は得ら
れていない。また、特開平7−319187号、特開平
8−6275号、特開平8−29997号公報等には、
オキシチタニウムフタロシアニンとジスアゾ顔料を電荷
発生材料として用いることにより、可視から赤外までの
広い範囲の波長域で高い感度を有する電子写真感光体が
得られることが開示されている。しかしながら、これら
の感光体は十分な感度は有するものの、特に繰り返し使
用による電位変動においては十分な効果が得られていな
い。
【0004】また、特開2000−56626号公報で
は、0.5×10V/cm以下の電界領域におけるキ
ャリア易動度が3分の1以下の電場依存性を示す電荷輸
送物質を含有する感光層を設けた感光体を高速での画像
形成プロセスに用いる方法が提案されており、特開平6
−313975号公報においては、直流及び交流電圧を
重畳印加した接触帯電方式を用い、更に感光層にフタロ
シアニン化合物を含有する感光体が提案されている。し
かしながら、これらの方法は電荷除去に効果を有するも
のの、除電光の波長に充分な光感度を持たないため完全
に電荷を除去できず、ゴーストの発生や繰返し使用によ
り残留電位が上昇してしまうという問題があった。更
に、特開平5−150695号公報には、非画像形成時
に感光体を加熱することで残留電荷を除去し、ゴースト
の発生を防止する方法が提案されているが、感光体の構
造が複雑になるため製造が困難であり、実際に用いるこ
とは容易でない。従って、小口径の感光体を用いた際に
も高速出力が可能であり、繰返し使用の際に残留電荷の
蓄積やゴースト発生のない電子写真感光体は得られてい
ないのが現状である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来技
術の問題点を解決し、特に高速のプロセスにおいても感
光体の繰り返し安定性に優れ、長期に渡り残留電荷の蓄
積やゴースト発生のない電子写真感光体を用いた電子写
真装置の提供を目的とする。
【0006】上記課題は、次の1)〜5)の発明によっ
て解決される。 1) 電子写真感光体を均一に帯電させるための帯電手
段、該電子写真感光体上に静電潜像を作るための波長L
(nm)にピークを有する露光手段、顕像化するため
の現像手段、顕像化された像を転写材に転写するための
転写手段、波長L(nm)にピークを有する除電手段
を含む電子写真装置であって、前記電子写真感光体の、
(nm)の波長における感度が、L(nm)の波
長における感度よりも高いことを特徴とする電子写真装
置。 2) 前記電子写真感光体が、直径30mm以下の円筒
状基体を有することを特徴とする1)記載の電子写真装
置。 3) 前記電子写真感光体が、感光層に2種以上の電荷
発生物質を含有することを特徴とする1)又は2)記載
の電子写真装置。 4) 前記電子写真感光体が、感光層に、下記一般式
(I)で表される非対称ジスアゾ顔料及び無金属フタロ
シアニン顔料を含有することを特徴とする1)〜3)の
何れかに記載の電子写真装置。
【化2】 (式中、A、Bは互いに構造が異なるカプラー残基を表
わす。) 5) 前記電子写真感光体の像面位置における最大除電
光量が、200〜500mW/mの範囲内であること
を特徴とする1)〜4)の何れかに記載の電子写真装
置。
【0007】以下、上記本発明について詳しく説明す
る。本発明は、電子写真感光体として、L(nm)
(除電光ピーク波長)における感度が、L(nm)
(露光ピーク波長)における感度よりも高いもの、好ま
しくは10%以上感度が高いものを用いることが特徴で
あり、この構成によれば、除電光の波長域に高感度を有
するので充分な除電を行うことが可能になり、特に高速
のプロセスにおいても繰り返し安定性に優れ、長期に渡
り残留電荷の蓄積やゴースト発生のない電子写真装置を
得ることができる。なお、上記の感度とは表面電位が8
00Vから400Vに光減衰するのに必要な半減露光量
E1/2(μJ/cm)の逆数で定義されるものであ
る。また、このような感光体としては直径30mm以下
の円筒状基体からなるものが好ましく、更には直径15
〜30mmの円筒状基体からなるものがより好ましい。
30mmφ以下の小口径感光体を用いることにより、高
線速においても顕著な安定性を示す電子写真装置を得る
ことができる。しかし、15mmφ以下の小口径感光体
は、高線速で用いる際に高感度を得ることが困難になる
し、感光層の摩耗が増加し画像劣化が起こり易い等の不
具合が生じるので好ましくない。このような電子写真感
光体は、1種又は2種以上の電荷発生物質を用いて作製
されるが、2種以上の混合物を用いることが好ましい。
即ち、電荷発生物質を単独で用いた場合には、分光感度
の分布をフラットにするか、フラットなところを利用す
る方法、或いは露光波長と除電波長を極めて近くする方
法があるが、電荷発生物質の選択が必ずしも容易でな
い。これに対し、電荷発生物質を2種以上用いる場合に
は、露光波長と除電波長が異なっていても、電荷発生物
質の種類や混合比率を変えることにより露光波長や除電
波長において高感度を実現することができるため好まし
い。電荷発生物質に用いることができる材料としては、
例えば、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンな
どのフタロシアニン系顔料、アズレニウム塩顔料、スク
エアリック酸メチン顔料、カルバゾール骨格を有するア
ゾ顔料、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジ
フェニルアミン骨格を有するアゾ顔料、ジベンゾチオフ
ェン骨格を有するアゾ顔料、フルオレノン骨格を有する
アゾ顔料、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ビ
ススチルベン骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルオキサ
ジアゾール骨格を有するアゾ顔料、ジスチリルカルバゾ
ール骨格を有するアゾ顔料、ペリレン系顔料、アントラ
キノン系又は多環キノン系顔料、キノンイミン系顔料、
ジフェニルメタン及びトリフェニルメタン系顔料、ベン
ゾキノン及びナフトキノン系顔料、シアニン及びアゾメ
チン系顔料、インジゴイド系顔料、ビスベンズイミダゾ
ール系顔料などが挙げられる。
【0008】また、下記一般式(I)で表される非対称
ジスアゾ顔料は、汎用除電ランプ(赤色LED)の波長
に高感度を有するため特に好ましい。
【化3】 (式中、A、Bは互いに構造が異なるカプラー残基を表
わす。) 一般式(I)中、カプラーA及びBの好ましい例とし
て、下記一般式(II)〜(VII)で示すカプラー残基が
挙げられる。
【0009】
【化4】
【0010】一般式(II)及び(III)中、Xはべンゼ
ン環と縮合して置換基を有してもよいナフタレン環、ア
ントラセン環、カルバゾール環、ベンズカルバゾール
環、ジベンゾフラン環、ジベンゾチオフェン環等の炭化
水素環又は複素環を形成するのに必要な残基を表わす。
一般式(VII)中、Yは置換基を有してもよい2価の芳
香族炭化水素基又は窒素原子を環内に含む2価の複素環
を形成するのに必要な残基を表わす。一般式(II)及び
(III)中、R、R、R、Rは水素原子、置換
基を有してもよいアルキル基、アリール基、アラルキル
基又は複素環基を表わし、R とR、RとRは共
に窒素原子を環内に含む環状アミノ基を形成してもよ
い。一般式(IV)中、Rは水素原子、置換基を有して
もよいアルキル基、アリール基、アラルキル基又は複素
環基を表わす。一般式(V)、(VI)中、R、R
置換基を有してもよいアルキル基、アリール基、アラル
キル基又は複素環基を表わす。一般式(IV)、(V)
中、Ar、Arは置換基を有してもよいアリール基
又は複素環基を表わす。一般式(II)中、pは0又は1
を表わす。
【0011】上記定義中、アルキル基としてはメチル、
エチル、プロピルなどの基、アラルキル基としてはベン
ジル、フェネチルなどの基、アリール基としてはフェニ
ル、ナフチル、アンスリルなどの基、複素環基としては
ピリジル、チエニル、チアゾリル、カルバゾリル、ベン
ゾイミダゾリル、ベンゾチアゾリルなどの基が挙げら
れ、窒素原子を環内に含む環状アミノ基としてはピロー
ル、ピロリン、ピロリジン、ピロリドン、インドール、
インドリル、カルバゾール、イミダゾール、ピラゾー
ル、ピラゾリン、オキサジン、フェノキサジンなどが挙
げられる。また、置換基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、ブチルなどのアルキル基、メトキシ、エトキ
シ、プロポキシなどのアルコキシ基、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子などのハロゲン原子、ジメチルアミノ、
ジエチルアミノなどのジアルキルアミノ基、フェニルカ
ルバモイル基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチ
ルなどのハロメチル基などが挙げられる。
【0012】以下に一般式(I)で表わされる非対称ジ
スアゾ顔料の具体例を示すが、本発明のジスアゾ顔料は
これらに限定されるものではない。
【0013】
【化5】
【0014】
【化6】
【0015】
【化7】
【0016】
【化8】
【0017】
【化9】
【0018】
【化10】
【0019】
【化11】
【0020】
【化12】
【0021】
【化13】
【0022】
【化14】
【0023】一般式(I)で示される非対称ジスアゾ顔
料は、相当するジアゾニウム塩化合物とA又はBに相当
するカプラーとを2段階に順次反応させるか、或いは最
初のA又はBとのカップリング反応によって得られるジ
アゾニウム塩化合物を単離した後、更に残りのカプラー
を反応させることによって得ることができる。そして、
本発明では、一般式(I)で表される非対称ジスアゾ顔
料(除電手段に好ましく用いられる660nmの光に対
して高感度である)と、無金属フタロシアニン顔料(露
光手段に好ましく用いられる780nmのレーザー光に
対して高感度である)を感光層に含有させるが、このよ
うな無金属フタロシアニンとしては、α型、β型、γ
型、δ型、ε型、x型及びτ型等が挙げられる。特にx
型及び、τ型を一般式(I)で表される非対称ジスアゾ
顔料と組み合わせたものが、分散性、感度等においてよ
り好ましい。また、上記感光体を含む電子写真装置にお
いて、感光体像面位置における最大除電光量が200〜
500mW/mの範囲内にあることが好ましい。20
0mW/m未満では潜像を消去するための光量が充分
でないため、残留電位の上昇や静電潜像の残像(ゴース
ト)が発生し易く、500mW/mを超えると光疲労
に起因した残留電位の上昇が発生し易い点で問題があ
る。本発明は感光体の除電光波長に対する感度が高いの
で、照射する除電光量を小さくすることが可能となる。
その結果、感光体の光疲労を防ぐことができ、長期に亘
り濃度の低下や地汚れのない良好な画像形成を行うこと
が可能となる。更に除電装置を低電力で用いることがで
きるので、省電力化や低コスト化を図ることが可能とな
る。
【0024】以下、図面を参照しつつ本発明を更に詳し
く説明する。図1は本発明に用いる積層型電子写真感光
体の一例を示す図であり、導電性支持体11上に、必要
に応じて設けられる中間層12を介して、電荷発生物質
を含有する電荷発生層13及び電荷輸送物質を含有する
電荷輸送層14が積層されている。導電性支持体11に
は、体積抵抗が1010Ω・cm以下の導電性を示すも
のが用いられ、例えば、アルミニウム、ニッケル、クロ
ム、ニクロム、銅、金、銀、白金などの金属や酸化ス
ズ、酸化インジウムなどの金属酸化物を、蒸着又はスパ
ッタリングにより、フィルム状又は円筒状のプラスチッ
クや紙に被覆したもの、JIS3003系、JIS50
00系、JIS6000系等のアルミニウム合金を、E
I法、ED法、DI法、II法などの一般的な方法によ
り管状に成形したもの、或いは前記合金に対しダイヤモ
ンドバイト等による表面切削加工や研磨、陽極酸化処理
等を行ったものなどを用いることができる。また、特開
昭52−36016号公報に開示されたエンドレスニッ
ケルベルトやエンドレスステンレスベルトも導電性支持
体として用いることができる。
【0025】この他、プラスチックや紙などの基体上に
導電性粉体を適当な結着樹脂に分散して塗工したもの
も、本発明の導電性支持体として用いることができる。
このような導電性粉体としては、カーボンブラック、ア
セチレンブラックなど;アルミニウム、ニッケル、鉄、
ニクロム、銅、亜鉛、銀などの金属粉;導電性酸化チタ
ン、導電性酸化スズ、ITOなどの金属酸化物粉などが
挙げられる。また、結着樹脂としては、ポリスチレン、
スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタ
ジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、
ポリエステル、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リアリレート樹脂、フェノキシ樹脂、ポリカーボネー
ト、酢酸セルロース樹脂、エチルセルロース樹脂、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルホルマール、ポリビニル
トルエン、ポリ−N−ビニルカルバゾール、アクリル樹
脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウ
レタン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂などの熱
可塑性、熱硬化性樹脂又は光硬化性樹脂が挙げられる。
このような導電性層は、これらの導電性粉体と結着樹脂
を適当な溶剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジクロル
メタン、2−ブタノン、トルエンなどを用いて分散し塗
布することにより設けることができる。
【0026】更に、適当な円筒基体上にポリ塩化ビニ
ル、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニリデン、ポリエチレン、塩化ゴム、テフロン
(登録商標)などの素材に前記導電性粉体を含有させた
熱収縮チューブを用いて導電性層を設けたものも、本発
明の導電性支持体として好ましく用いることができる。
導電性支持体から感光層への電荷注入防止や、干渉縞防
止のために設けられる中間層12には、結着樹脂や結着
樹脂中に粒子を分散した材料が用いられ、結着樹脂とし
てはポリビニルアルコール、ニトロセルロース、ポリア
ミド、ポリ塩化ビニル等の熱可塑性樹脂、ポリウレタ
ン、アルキッド−メラミン樹脂などの熱硬化性樹脂など
を用いることができる。中間層に分散させる粒子として
は、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜
鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、シリカ及び
それらの表面処理品などが挙げられるが、分散性、電気
的特性の点で酸化チタンが好ましく、ルチル型とアナタ
ーゼ型の何れも使用できる。中間層を形成するには、例
えば上記の結着樹脂を有機溶剤中に溶解し、その溶液中
に上記の粒子をボールミル、サンドミル等の手段で分散
し、支持体上に塗布、乾燥すれば良い。中間層の厚みは
10μm以下、好ましくは0.1〜6μmである。
【0027】電荷発生層13は、前述の電荷発生物質を
主成分とする層であり、必要に応じて結着樹脂が用いら
れる。結着樹脂としては、ポリアミド、ポリウレタン、
エポキシ樹脂、ポリケトン、ポリカーボネート、シリコ
ーン樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルホルマール、ポリビニルケトン、ポリスチレン、
ポリ−N−ビニルカルバゾール、ポリアクリルアミドな
どが挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は2種以
上の混合物として用いることができる。また、電荷発生
層には、必要に応じて電荷輸送物質を添加してもよい。
電荷発生層を形成する方法としては、溶液分散系からの
キャスティング法が挙げられ、前述の有機系電荷発生物
質を、必要に応じて結着樹脂と共に、テトラヒドロフラ
ン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロルエタン、
ブタノン等の溶媒を用いてボールミル、アトライター、
サンドミルなどにより分散し、分散液を適度に希釈して
塗布し乾燥させればよい。塗布方法としては、浸漬塗工
法、スプレーコート法、ビードコート法などを用いるこ
とができる。このようにして形成される電荷発生層の膜
厚は、0.01〜5μm程度が適当であり、特に0.0
5〜2μmが好ましい。
【0028】電荷輸送層14は電荷輸送物質を主成分と
する層であり、電荷輸送物質及び結着樹脂を適当な溶
剤、例えば、テトラヒドロフラン、ジオキサン、トルエ
ン、モノクロルベンゼン、ジクロルエタン、塩化メチレ
ン、シクロヘキサノンなどに溶解又は分散し、その溶液
又は分散液を塗布し乾燥させることにより形成すること
ができる。また、電荷輸送層には、必要により、一般に
用いられる可塑剤、レベリング剤、酸化防止剤などを添
加することもできる。電荷輸送物質には、正孔輸送物質
と電子輸送物質とがあり、電子輸送物質としては、例え
ば、クロルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレ
ン、テトラシアノキノジメタン、2,4,7−トリニト
ロ−9−フルオレノン、2,4,5,7−テトラニトロ
キサントン、2,4,8−トリニトロチオキサントン、
2,6,8−トリニトロ−4H−インデノ[1,2−
b]チオフェン−4−オン、1,3,7−トリニトロジ
ベンゾチオフェン−5,5−ジオキサイド、3,5−ジ
メチル−3′,5′−ジ−tert−ブチル−4,4′
−ジフェノキノンなどの公知の電子受容性物質が挙げら
れる。これらの電子輸送物質は、単独で又は2種以上混
合して用いることができる。
【0029】また、正孔輸送物質としては、ポリ−N−
ビニルカルバゾール及びその誘導体、ポリ−γ−カルバ
ゾリルエチルグルタメート及びその誘導体、ピレン−ホ
ルムアルデヒド縮合物及びその誘導体、ポリビニルピレ
ン、ポリビニルフェナントレン、ポリシラン、オキサゾ
ール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘
導体、モノアリールアミン誘導体、ジアリールアミン誘
導体、トリアリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、
α−フェニルスチルベン誘導体、ベンジジン誘導体、ジ
アリールメタン誘導体、トリアリールメタン誘導体、9
−スチリルアントラセン誘導体、ピラゾリン誘導体、ジ
ビニルベンゼン誘導体、ヒドラゾン誘導体、インデン誘
導体、ブタジエン誘導体、ピレン誘導体、ビススチルベ
ン誘導体、エナミン誘導体などが挙げられる。これらの
正孔輸送物質は、単独で又は2種以上混合して用いるこ
とができる。
【0030】電荷輸送層に用いられる結着樹脂として
は、ポリカーボネート(ビスフェノ−ルA型、ビスフェ
ノ−ルZ型等)、ポリエステル、ポリエチレン、ポリ塩
化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリスチレン、フェノール
樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリ塩化ビニリデ
ン、アルキッド樹脂、シリコーン樹脂、ポリビニルカル
バゾール、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマー
ル、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリアク
リルアミド、フェノキシ樹脂などが挙げられる。これら
の結着樹脂は、単独で又は2種以上混合して用いること
ができる。結着樹脂の使用量は、電荷輸送物質100重
量部に対して0〜150重量部が適当である。
【0031】また、結着樹脂としての機能及び電荷輸送
物質としての機能を併せ持つ高分子電荷輸送物質を結着
樹脂として用いることもできる。このような高分子電荷
輸送物質としては、次の(a)〜(d)のようなものが
挙げられる。 (a)主鎖及び/又は側鎖にカルバゾール環を有する重
合体(例えばポリ−N−ビニルカルバゾール)、特開昭
50−82056号公報、特開昭54−9632号公
報、特開昭54−11737号公報、特開平4−183
719号公報に記載の化合物など。 (b)主鎖及び/又は側鎖にヒドラゾン構造を有する重
合体、例えば、特開昭57−78402号公報、特開平
3−50555号公報に記載の化合物など。 (c)ポリシリレン重合体、例えば、特開昭63−28
5552号公報、特開平5−19497号公報、特開平
5−70595号公報に記載の化合物など。 (d)主鎖及び/又は側鎖に第3級アミン構造を有する
重合体、例えば、N,N−ビス(4−メチルフェニル)
−4−アミノポリスチレン、特開平1−13061号公
報、特開平1−19049号公報、特開平1−1728
号公報、特開平1−105260号公報、特開平2−1
67335号公報、特開平5−66598号公報、特開
平5−40350号公報に記載の化合物など。電荷輸送
層の膜厚は5〜100μm、好ましくは10〜35μm
である。
【0032】レベリング剤としては、ジメチルシリコー
ンオイル、メチルフェニルシリコーンオイルなどのシリ
コーンオイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有
するポリマー又はオリゴマーが使用され、その使用量
は、結着樹脂に対して0〜1重量部程度が適当である。
酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系化合物、
硫黄系化合物、燐系化合物、ヒンダードアミン系化合
物、ピリジン誘導体、ピペリジン誘導体、モルホリン誘
導体等の酸化防止剤を使用でき、その使用量は結着樹脂
100重量部に対して0〜5重量部程度が適当である。
【0033】次に図3として電荷発生機能と電荷輸送機
能を併せ持つ単層型感光体を示す。単層型感光体は、導
電性支持体11、必要に応じて設けられる中間層12、
電荷発生物質、電荷輸送物質及び結着樹脂からなる感光
層16により構成される。電荷発生物質及び電荷輸送物
質としては、前記の材料を用いることができる。このよ
うな単層型の感光層を形成するには、電荷発生物質、電
荷輸送物質及び結着樹脂を適当な溶剤、例えばテトラヒ
ドロフラン、シクロヘキサノン、ジオキサン、ジクロル
エタン、ブタノンなどの溶剤に、ボールミル、アトライ
ター、サンドミルなどを用いて溶解ないし分散させ、こ
れを適度に希釈して塗布し乾燥させればよい。塗布は、
浸漬塗工法、スプレーコート法、ビードコート法などを
用いて行なうことができる。結着樹脂としては、電荷輸
送層の結着樹脂として例示したものをそのまま用いるこ
とができ、また電荷発生層の結着樹脂として例示したも
のと混合して用いてもよい。更に、単層型の感光層に
は、必要により一般に用いられる可塑剤、レベリング
剤、酸化防止剤などを添加することもできる。このよう
にして形成される単層型の感光層の膜厚は、5〜100
μm程度が適当である。
【0034】また、図2、図4に示すように積層型又は
単層型感光層の上に必要に応じて膜厚0.5〜10μm
の保護層を形成してもよい。保護層には、酸化チタン、
酸化アルミニウム、酸化錫、酸化亜鉛、酸化ジルコニウ
ム、酸化マグネシウム、シリカ又はそれらの表面処理品
等の分散粒子を結着樹脂中に含有させたもの、それらに
更に電荷輸送物質を加えたものを用いることができ、そ
の他に真空薄膜作成法で形成したアモルファス−C、ア
モルファス−SiCなど公知の材料も用いることができ
る。
【0035】次に、図5に本発明の電子写真装置の一例
を示す。本発明の電子写真プロセスには帯電手段21、
露光手段22、現像手段23、転写手段25、分離手
段、クリーニング手段26などの各手段として公知の何
れの手段も使用することができる。例えば、帯電手段に
はコロナ帯電方式に代表される非接触帯電方式、帯電ロ
ーラーや帯電ブラシなどに代表される接触又は近接配置
帯電方式の何れも使用できる。特に、オゾン発生量が少
なく印加電圧の小さい接触帯電方式が良好に使用され
る。帯電ローラーには、シリコーンゴム、ポリウレタン
ゴム、クロロプレンゴム、イソプレンゴム、EPDMゴ
ム、エポキシゴム、ブチルゴム等の帯電部材が用いられ
る。また帯電ブラシには、レーヨン繊維やカーボン繊維
等の導電性ブラシ、導電スリーブとこれに内包されるマ
グネットロールとこのマグネットロールの磁界により磁
気拘束された導電性磁性粒子(導電性磁性キャリア)で
構成された磁気ブラシ等が用いられる。
【0036】露光手段には、半導体レーザーを用い、そ
の波長は780nm以下、好ましくは780〜400n
mであり、解像度を向上するためにレーザービーム径を
絞るなどのものも良好に使用できる。現像手段には、湿
式現像法、乾式現像法の何れも良好に使用できる。ま
た、高解像度の画像を得るために、トナー粒径を小さく
したりカプセルトナーを用いることなども非常に有用で
ある。転写手段には、直接紙に転写する手段は勿論のこ
と、転写ベルト、転写ドラムなどの中間転写体を用いる
ことも有用である。クリーニング手段には、ブレード
法、ブラシ法などの公知の方法を用いることができる。
また、転写効率及びクリーニング効率を向上するため、
感光体の表面エネルギーを低減させるべく外添剤を感光
体表面に具備できる装置を併用することは有用である。
【0037】
【実施例】以下、実施例及び比較例によって本発明を具
体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定
されるものではない。
【0038】実施例1 アルコール可溶性ポリアミド(CM−8000:東レ社
製)3重量部をメタノール/n−ブタノール=8/2
(vol比)の混合溶媒100重量部に加熱溶解し、中
間層用塗工液を作成した。これを厚さ0.2mmのアル
ミ板(A1080:住友軽金属社製)上に塗布し、10
0℃で20分間乾燥して厚さ0.1μmの中間層を作成
した。次に例示化合物(I)−24に示すジスアゾ顔料
6重量部を、シクロヘキサノン150重量部にポリビニ
ルブチラール(BM−2:積水化学工業社製)3重量部
を溶解した樹脂液に添加し、ボールミルにて120時間
分散を行った。分散終了後、シクロヘキサノン300重
量部を加えて3時間分散を行い、ジスアゾ顔料を含有す
る電荷発生層用塗工液(A液)を作成した。次いで、シ
クロヘキサノン150重量部にポリビニルブチラール
(BM−2:積水化学工業社製)3重量部を溶解した樹
脂液に、τ型無金属フタロシアニン(東洋インキ化学社
製)6重量部を加え、超音波分散により5時間分散した
後、更にシクロヘキサノン300重量部を加えて1時間
分散を行ない、フタロシアニンを含有する電荷発生層用
塗工液(B液)を作成した。以上のようにして作成した
A液とB液を等量、撹拌しながら混合し、本発明の電荷
発生層用塗工液を作成し、これを前記中間層上に塗布し
たのち、130℃で10分間乾燥して膜厚0.2μmの
電荷発生層を作成した。別に、下記構造式(VIII)に示
す電荷輸送物質8重量部、ポリカーボネート(ユーピロ
ンZ200:三菱ガス化学社製)10重量部、シリコー
ンオイル(KF−50:信越化学工業社製)0.002
重量部をテトラヒドロフラン100重量部に溶解し、電
荷輸送層用塗工液を作成した。これを前記電荷発生層上
に塗布し、130℃で20分間乾燥して平均膜厚20μ
mとなるように電荷輸送層を形成し、電子写真感光体を
得た。
【化15】
【0039】実施例2、3 ジスアゾ顔料として例示化合物(I)−29及び(I)
−30を用いた点以外は実施例1と同様にして電子写真
感光体を作成した。次に、実施例中で用いるチタニルフ
タロシアニンを以下の合成例1に従い作成した。 (合成例1)フタロジニトリル52.5g(0.41m
ol)と1−クロルナフタレン300molを撹拌混合
し、窒素気流下で四塩化チタン19.0g(0.10m
ol)を滴下する。滴下終了後、徐々に200℃まで昇
温し、反応温度を190℃〜210℃の間に保ちながら
5時間撹拌して反応を行った。反応終了後、放冷し13
0℃になったところで熱時濾過し、次いで1−クロルナ
フタレンで粉体が青色になるまで洗浄し、更にメタノー
ルで数回洗浄し、更に80℃の熱水で数回洗浄した後、
乾燥して42.2g(収率73.3%)の粗チタニルフ
タロシアニン顔料を得た。この粗チタニルフタロシアニ
ン顔料6gを、3〜5℃下で96%硫酸100gに撹拌
しつつ溶解したのち濾過した。得られた硫酸溶液を氷水
3.5リットル中に撹拌しながら滴下し、析出した結晶
を濾過し、次いで洗浄液が中性になるまで水洗を繰り返
し、チタニルフタロシアニン顔料のウェットケーキを得
た。このウェットケーキに1,2−ジクロルエタン10
0mlを加え、室温下で2時間撹拌し、更にメタノール
300mlを加えて撹拌したのち濾過した。これをメタ
ノールで洗浄し、乾燥してチタニルフタロシアニン顔料
4.9gを得た。
【0040】実施例4 フタロシアニン顔料として、τ型無金属フタロシアニン
に代えて、合成例1に従って作成したチタニルフタロシ
アニン顔料3重量部を用いた点以外は実施例1と同様に
して、電子写真感光体を作成した。
【0041】比較例1 実施例1において、電荷発生層を、例示化合物(I)−
24のジスアゾ顔料を含有する塗工液(A液)のみによ
り形成した点以外は実施例1と同様にして、電子写真感
光体を作成した。
【0042】比較例2 実施例1において、電荷発生層を、τ型無金属フタロシ
アニンを含有する塗工液(B液)のみにより形成した点
以外は実施例1と同様にして、電子写真感光体を作成し
た。
【0043】比較例3 実施例1において、τ型無金属フタロシアニンに代え
て、合成例1に従って作成したチタニルフタロシアニン
顔料4.2重量部を含有する塗工液のみにより電荷発生
層を形成した点以外は実施例1と同様にして電子写真感
光体を作成した。
【0044】比較例4 実施例1において、例示化合物(I)−24のジスアゾ
顔料に代えて、下記構造式(IX)に示すジスアゾ顔料6
重量部を用いた点以外は実施例1と同様にして、電子写
真感光体を作成した。
【化16】
【0045】以上のようにして得られた電子写真感光体
について、EPA−8100(川口電気製作所製)を用
い、ダイナミックモードにて分光感度を評価した。ま
ず、感光体に対し、−6kVのコロナ放電を5秒間行っ
て負帯電させた後、暗減衰させ、表面電位が−800V
になった時にモノクロメーターで分光した光を露光し
て、表面電位が−400Vに光減衰するのに必要な露光
量E1/2(μJ/cm)を測定した。主な波長にお
けるE1/2(μJ/cm)の結果を表1に示す。ま
た、E1/2(μJ/cm)の逆数で表わした感度の
値を表2に示す。
【0046】
【表1】
【表2】 表2の結果から判るように、実施例1〜4では、波長6
60nmにおける感度が、波長780nmにおける感度
よりも高い。
【0047】実施例5〜8 直径30mmの切削アルミニウム支持体上に、実施例1
〜4と同様にして中間層、電荷発生層、電荷輸送層を順
次形成し、実施例5〜8の電子写真感光体を作成した。
【0048】比較例5〜8 直径30mmの切削アルミニウム支持体上に、比較例1
〜4と同様にして中間層、電荷発生層、電荷輸送層を順
次形成し、比較例5〜8の電子写真感光体を作成した。
【0049】実施例5〜8及び比較例5〜8で得られた
電子写真感光体を、像露光手段として780nmの半導
体レーザー、除電手段として660nmのLED(発光
ダイオード)を備えた画像形成装置(株式会社リコー製
IMAGIO MF−2730)に装着し、電子写真特
性の評価を行った。帯電電圧、レーザー光量(波長78
0nm)及び除電光量は、それぞれの電子写真感光体を
装着したときに、帯電電位(Vd)、露光後電位(V
l)がそれぞれ−900V、−140V程度となるよう
に調整した。更に、光マルチメータ(HEWLETT
PACKARD社製 HP8153A)を用いて、感光
体像面除電光量の最大値が350mW/mになるよう
に除電光量を調整した。このように調整したデジタル複
写機を用い、初期及び5,000枚連続コピー後の画像
特性、機内電位特性について評価した。機内電位特性
は、帯電電位が−900Vになるときの帯電ローラー印
加電圧(Vc)、露光後電位(Vl)を測定した。結果
を表3に示す。なお、表3中の判定の基準は、画像特性
が良好であるものを◎、僅かに画像劣化がみられたもの
を○、画像劣化が顕著であったものを×とした。
【0050】
【表3】 表3から判るように、除電光のピーク波長L(nm)
における感度が、露光ピーク波長L(nm)における
感度よりも高い感度を示す実施例5〜8では、繰り返し
使用でも残留電位の上昇やゴーストの発生がない感光体
を得られた。
【0051】実施例9、10 除電光量の依存性を調べるため、実施例5と同様にして
作成した電子写真感光体を、前記と同じ画像形成装置
(株式会社リコー製IMAGIO MF−2730)に
装着し電子写真特性の評価を実施した。帯電電圧、レー
ザー光量(波長780nm)は、感光体の帯電電位(V
d)、露光後電位(Vl)がそれぞれ−900V、−1
40V程度となるように調整した。更に、感光体像面除
電光量の最大値が200mW/m、及び500mW/
になるように除電光量を調整し、前記と同様にして
初期及び5,000枚連続コピー後の画像特性、機内電
位特性を評価した。機内電位特性は帯電電位が−900
Vになるときの露光後電位(Vl)を測定した。結果を
表4に示す。
【0052】比較例9、10 感光体像面除電光量の最大値が50mW/m、及び6
50mW/mになるように除電光量を調整した点以外
は実施例9、10と同様にして電子写真特性の評価を行
った。結果を表4に示す。判定基準は表4の場合と同様
である。
【0053】
【表4】 表4から判るように、感光体像面除電光量の最大値が2
00〜500mW/m の範囲内である電子写真装置に
おいては、繰り返し使用においても、残留電位の上昇や
ゴーストの発生のない電子写真装置を得られた。
【0054】
【発明の効果】本発明によれば、感光体の繰り返し安定
性に優れ、長期に渡り残留電荷の蓄積やゴースト発生の
ない優れた電子写真感光体及びこれを用いた電子写真装
置を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に用いる積層型電子写真感光体の一例で
ある。
【図2】本発明に用いる積層型電子写真感光体の他の一
例である。
【図3】本発明に用いる単層型電子写真感光体の一例で
ある。
【図4】本発明に用いる単層型電子写真感光体の他の一
例である。
【図5】本発明に係る電子写真装置の一例の断面図であ
る。
【符号の説明】
11 導電性支持体 12 中間層 13 電荷発生層 14 電荷輸送層 15 表面保護層 16 感光層 21 帯電手段 22 露光手段 23 現像手段 24 記録材 25 転写手段 26 クリーニング手段 27 感光体 28 除電手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03G 15/043 G03G 15/04 120 15/04 21/00 342 21/08 (72)発明者 鈴木 康夫 東京都大田区中馬込1丁目3番6号 株式 会社リコー内 Fターム(参考) 2H035 AA10 AC02 AC07 AZ09 2H068 AA19 AA54 BA38 BA47 FA13 FC05 FC17 2H076 AB05 DA06 DA09 DA37

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 電子写真感光体を均一に帯電させるため
    の帯電手段、該電子写真感光体上に静電潜像を作るため
    の波長L(nm)にピークを有する露光手段、顕像化
    するための現像手段、顕像化された像を転写材に転写す
    るための転写手段、波長L(nm)にピークを有する
    除電手段を含む電子写真装置であって、前記電子写真感
    光体の、L(nm)の波長における感度が、L(n
    m)の波長における感度よりも高いことを特徴とする電
    子写真装置。
  2. 【請求項2】 前記電子写真感光体が、直径30mm以
    下の円筒状基体を有することを特徴とする請求項1記載
    の電子写真装置。
  3. 【請求項3】 前記電子写真感光体が、感光層に2種以
    上の電荷発生物質を含有することを特徴とする請求項1
    又は2記載の電子写真装置。
  4. 【請求項4】 前記電子写真感光体が、感光層に、下記
    一般式(I)で表される非対称ジスアゾ顔料及び無金属
    フタロシアニン顔料を含有することを特徴とする請求項
    1〜3の何れかに記載の電子写真装置。 【化1】 (式中、A、Bは互いに構造が異なるカプラー残基を表
    わす。)
  5. 【請求項5】 前記電子写真感光体の像面位置における
    最大除電光量が、200〜500mW/mの範囲内で
    あることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載の電
    子写真装置。
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CN100461012C (zh) * 2003-11-26 2009-02-11 佳能株式会社 电子照相装置
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US7764906B2 (en) 2005-06-24 2010-07-27 Ricoh Company, Ltd. Image forming apparatus and image forming method
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