JP2002284750A - 5−アミノ−4−ヒドロキシペンタン酸誘導体とその製造方法 - Google Patents
5−アミノ−4−ヒドロキシペンタン酸誘導体とその製造方法Info
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Abstract
ンの合成原料となる、式(I)で表される5-アミノ-4-
ヒドロキシペンタン酸エステル又はその塩。該誘導体又
はその塩は、対応する5-アミノレブリン酸エステルか
ら、遷移金属触媒及び水素の存在下で接触還元すること
により製造される。また、5-アミノ-4-ヒドロキシペン
タン酸エステルを酸触媒と接触することにより、対応す
るラクトンを製造することもできる。 【効果】 本発明の5-アミノ-4-ヒドロキシペンタン酸
誘導体は、5−(アミノメチル)−2−ピロリジノンに
誘導される。本発明の製造法によると、簡単に且つ反応
工程と別に精製工程を必要とすることなく高収率で5-ア
ミノ-4-ヒドロキシペンタン酸誘導体を製造することが
できる。
Description
である5-(アミノメチル)−2−ピロリジノン(ピロ
リドン)の合成原料として利用できる5−アミノ−4−
ヒドロキシペンタン酸誘導体、その塩、およびその製造
方法に関する。本発明はまた、5−アミノ−4−ヒドロ
キシペンタン酸誘導体から、化粧品等における保湿剤と
して有用なγ−アミノメチル−γ−ブチロラクトン又は
その塩を製造する方法に関する。
体は、機能性物質或いは医薬品合成中間体として注目さ
れる化合物である。5-アミノ-4-ヒドロキシペンタン酸
を得る方法は、Herdeisらの方法がC. Herdeis, Synthes
is,(3),232 (1986)に記載されており、また5-アミノ-4-
ヒドロキシペンタン酸又はそのエチルエステルを得る方
法は、米国特許第4,372,974号及び同第4,322,440号に記
載されている。また、γ−アミノメチル−γ−ブチロラ
クトンは、従来、Herdeis外のC. Herdeis, Synthesis,
(3), 232頁(1986)に記載された製造方法や、5-アミノ-4
-ヒドロキシペンタン酸を、酸性水溶液中でラクトン化
する一般的方法が知られていた。
米国特許第4,372,974号又は同第4,322,440号に記載され
ている方法では、5-アミノ-4-ヒドロキシペンタン酸の
炭素数3以上の炭化水素のエステルは得られないと考え
られる。何故なら、上記の方法では5-アミノレブリン酸
を水素化ホウ素ナトリウムにより還元して5-アミノ-4-
ヒドロキシペンタン酸を生成しているが、この方法を5-
アミノ-4-ヒドロキシペンタン酸エステルの製造に適用
する場合、エステル部分の炭化水素基の炭素数が大きく
なると、原料の5-アミノレブリン酸エステルおよび生成
物の5-アミノ-4-ヒドロキシペンタン酸エステルは水に
溶けにくくなるので、反応系の溶媒として親油性溶媒を
使用せざるを得なくなる。親油性溶媒には還元剤である
水素化ホウ素ナトリウムは溶けないので、還元反応は不
可能になり、従って上記の方法は使用できなくなるから
である。また、従来の5-アミノ-4-ヒドロキシペンタン
酸エステルの製造方法に於いては、多段階の工程を要す
る結果として、収率が実用に適さないものであるか、或
いは反応試薬である水素化ホウ素ナトリウムより発生す
るホウ素化合物及びナトリウム塩類を除去するのに複雑
な工程を必要とする。従って、反応工程と精製工程が共
に簡便な方法が求められている。
−ブチロラクトンの製造方法は、水溶液中で反応を行う
ため、反応後の乾燥が非常に困難であるので、簡便な製
法が求められている。
ヒドロキシペンタン酸誘導体とその製造方法について鋭
意研究を行った結果、5-アミノレブリン酸誘導体を基質
とし不均一系遷移金属触媒を用いて接触還元反応を行う
ことにより、5-アミノ-4-ヒドロキシペンタン酸誘導体
を高収率で得られることを見いだし、本発明を完成する
に至った。
基を示す)で表される化合物、及びその塩が提供され
る。
以上の炭化水素基を示す)で表される化合物又はその塩
を、遷移金属触媒及び水素の存在下で接触還元すること
を特徴とする、式(III):
る)で表される化合物又はその塩の製造方法を提供す
る。
物又はその塩と、酸触媒とを接触することを特徴とす
る、式(IV):
提供する。
基を示す。該炭化水素基の炭素数は3以上であれば特に
制限されないが、好ましくは3〜50、特に好ましくは
3〜20である。
肪族炭化水素基、不飽和脂肪族炭化水素基、脂環式炭化
水素基、脂環式-脂肪族炭化水素基、芳香族炭化水素
基、芳香族-脂肪族炭化水素基等である。好ましい炭化
水素基は、飽和脂肪族炭化水素基、好ましくは炭素数3
〜20、特に炭素数3〜10の飽和脂肪族炭化水素基で
ある。
例えば、n-プロピル、イソプロピル、n-ブチル、イソブ
チル、tert-ブチル、n-ペンチル、イソペンチル、ネオ
ペンチル、tert-ペンチル、2-メチルブチル、n-ヘキシ
ル、イソヘキシル、3-メチルペンチル、エチルブチル、
n-ヘプチル、2-メチルヘキシル、n-オクチル、イソオク
チル、tert-オクチル、2-エチルヘキシル、3-メチルヘ
プチル、n-ノニル、イソノニル、1-メチルオクチル、エ
チルヘプチル、n-デシル、1-メチルノニル、n-ウンデシ
ル、1,1-ジメチルノニル、n-ドデシル、n-テトラデシ
ル、n-ヘプタデシル、n-オクタデシル、ラウリル、パル
チミル、ステアリル、及びエチレン、プロピレンおよび
ブチレンの重合物若しくはそれらの共重合物よりなる基
などの炭化水素基があげられ、特に好ましい飽和脂肪族
炭化水素基としてn-プロピル、イソプロピル、n-ブチ
ル、イソブチル、tert-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシ
ル、n-ヘプチル、n-オクチル、n-ノニル、n-デシルが
あげられる。
例としては、例えばビニル、アリル、イソプロペニル、
2-ブテニル、2-メチルアリル、1,1-ジメチルアリル、3-
メチル-2-ブテニル、3-メチル-3-ブテニル、4-ペンテニ
ル、ヘキセニル、オクテニル、ノネニル、デセニル基、
及びアセチレン、ブタジエンおよびイソプロピレンの重
合物若しくはそれらの共重合物よりなる基などがあげら
れる。
ては、例えばシクロプロピル、シクロブチル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオク
チル、3-メチルシクロヘキシル、4-メチルシクロヘキシ
ル、4-エチルシクロヘキシル、2-メチルシクロオクチ
ル、シクロプロペニル、シクロブテニル、シクロペンテ
ニル、シクロヘキセニル、シクロペンテニル、シクロオ
クテニル、4-メチルシクロヘキセニル、4-エチルシクロ
ヘキセニル基などがあげられる。上記脂環式-脂肪族炭
化水素基の適当な具体例としては、例えばシクロプロピ
ルエチル、シクロブチルエチル、シクロペンチルエチ
ル、シクロヘキシルメチル、シクロヘキシルエチル、シ
クロヘプチルメチル、シクロオクチルエチル、3-メチル
シクロヘキシルプロピル、4-メチルシクロヘキシルエチ
ル、4-エチルシクロヘキシルエチル、2-メチルシクロオ
クチルエチル、シクロプロペニルブチル、シクロブテニ
ルエチル、シクロペンテニルエチル、シクロヘキセニル
メチル、シクロヘプテニルメチル、シクロオクテニルエ
チル、4-メチルシクロヘキセニルプロピル、4-エチルシ
クロヘキセニルペンチル基などがあげられる。
ては、例えばフェニル、ナフチルなどのアリール基;4-
メチルフェニル、3,4-ジメチルフェニル、3,4,5-トリメ
チルフェニル、2-エチルフェニル、n-ブチルフェニル、
tert-ブチルフェニル、アミルフェニル、ヘキシルフェ
ニル、ノニルフェニル、2-tert-ブチル-5-メチルフェニ
ル、シクロヘキシルフェニル、クレジル、オキシエチル
クレジル、2-メトキシ-4-tert-ブチルフェニル、ドデシ
ルフェニルなどの置換フェニル基などがあげられる。
例としては、例えばベンジル、1-フェニルエチル、2-フ
ェニルエチル、2-フェニルプロピル、3-フェニルプロピ
ル、4-フェニルブチル、5-フェニルペンチル、6-フェニ
ルヘキシル、1-(4-メチルフェニル)エチル、2-(4-メ
チルフェニル)エチル、2-メチルベンジル、1,1-ジメチ
ル-2-フェニルエチル基などがあげられる。式(I)の
化合物の塩としては、塩酸、硫酸、硝酸、亜硝酸等の無
機酸の塩;および酢酸、乳酸、クエン酸、酪酸等の有機
酸の塩が挙げられる。
シペンタン酸エステルの合成法は、一般式(II):
1以上の炭化水素基を表す)で表される5-アミノレブリ
ン酸誘導体を、遷移金属触媒存在下で接触還元すること
を特徴とする。
1以上の炭化水素基、好ましくは炭素数1以上の炭化水
素基を表す。該炭化水素は、メチルおよびエチルを含む
以外は、一般式(I)のR1について記載したと同様の
基である。R2として好ましい炭化水素基は、飽和脂肪
族炭化水素基、好ましくは炭素数1〜20、特に炭素数
1〜10の飽和脂肪族炭化水素基である。該飽和脂肪族
炭化水素基の例としては、R1について前述した基があ
げられ、好ましい基としてメチル、エチル、プロピル、
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシルがあげられる。式(III)の化合物は塩の
形で存在しても良く、この場合は塩として塩酸、硫酸、
硝酸、亜硝酸等の無機酸の塩;および酢酸、乳酸、クエ
ン酸、酪酸等の有機酸の塩が挙げられる。原料同士の重
縮合反応を防止するために原料濃度を低濃度に保つ必要
があるので、塩を用いるのがより効果的である。
は従来公知の方法で合成することができ、例えば特開平
4−9360号記載の方法で得ることができる。
の化合物へ変換する反応に供される触媒は遷移金属触媒
である。ここで遷移金属触媒とは、遷移金属単体および
遷移金属の化合物、特に遷移金属酸化物、の両者を意味
する。好ましい遷移金属は、周期表で第VIB族、VIIB
族、VIII族及び1B族の遷移金属元素で、例えば銅、ク
ロム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ニッケル、
パラジウム、白金が挙げられる。さらに好ましい遷移金
属元素は第VIII族金属であって、例えばルテニウム、ロ
ジウムが挙げられる。これらの元素の1種類或いは2種
類以上を使用してもよい。遷移金属酸化物としては、酸
化ロジウム、酸化ルテニウムが挙げられ、好ましくは酸
化ロジウムである。
溶解しない形態が好ましく、担持触媒の形態が好まし
い。触媒の担体としてはアルミナ、炭素、アスベスト等
が使用できる。担体と遷移金属の組み合わせとしては、
ロジウム−アルミナ、ロジウム−炭素、ロジウム−アス
ベストが挙げられ、好ましくはロジウム−アルミナ、ロ
ジウム−炭素である。担持方法としては、遷移金属と担
体の固液接触が利用でき、遷移金属を含有する溶液に担
体を混合して撹拌する方法が簡便である。遷移金属触媒
を反応に供する際は、均一系、不均一系の何れでも良い
が、不均一系が好ましい。
が、式(II)の化合物量の0.01〜100wt(重量)%、好
ましくは1〜80wt%、特に5〜50wt%である。遷移金属
を担体に担持させる場合の担持量は、担体や調製条件に
よって異なるが、通常、担体量の0.1〜30wt%、好まし
くは1〜10wt%である。この場合の遷移金属触媒量は、
遷移金属に換算して上記範囲に入るように添加する。
物の反応は水素雰囲気下で行うが、窒素、アルゴン等の
不活性ガス、および二酸化炭素等の上記反応に不活性な
ガスを共存させて、2種以上のガスを使用しても良い。
2種以上のガスを使用する場合は、ガス全体に対する水
素ガスの含有割合は20〜100vol%である。
短縮と副反応の防止の面からは2MPa〜6MPaが好ましい。
反応温度は30℃〜200℃であるが、好ましくは50℃〜150
℃、さらに好ましくは70℃〜90℃である。反応時間は過
反応防止の面から15分〜2時間が好ましい。
に制限されないが、水、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン系溶媒、メタノール、エタノール等のアルコ
ール系溶媒、ベンゼン、トルエン等の芳香族溶媒、クロ
ロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン系溶媒、ヘキサ
ン、ヘプタン等の脂肪族溶媒等が挙げられる。反応速
度、溶解性、安定性から水、メタノール、エタノール等
が好適である。
に従って反応混合物より採取される。例えば、濾過によ
り触媒を除いた後、溶媒を留去することにより得られ
る。得られた目的化合物は必要ならば例えば再結晶、再
沈殿、またはクロマトグラフィー等によりさらに精製で
きる。かかる手順により本発明の式(III)の化合物及
びその塩を得ることができる。
の化合物又はその塩と酸触媒とを接触させることによ
り、容易に合成することができる。式(III)における
R2は水素原子または炭素数1以上の炭化水素基、好ま
しくは炭素数1以上の炭化水素基を表す。該炭化水素
は、メチルおよびエチルを含む以外は、式(I)のR1
について記載したと同様の基である。好ましい炭化水素
基は、飽和脂肪族炭化水素基、好ましくは炭素数1〜2
0、特に炭素数1〜10の飽和脂肪族炭化水素基であ
る。上記の酸触媒としては、塩化水素、臭化水素、弗化
水素、酢酸、硫酸などを使用でき、好ましくは塩化水素
である。これらの酸は2種以上を使用しても良い。酸触
媒の添加量は、式(III)の化合物量の0.01〜1000重量
%、好ましくは1〜1000重量%、特に100〜1000重量%
である。式(III)の化合物と酸触媒との接触はプロト
ン性溶媒またはその他の極性溶媒中で行っても良い。プ
ロトン性溶媒としては、プロトン供与性の溶媒であれば
特に制限されないが、水、又はメタノール、エタノー
ル、イソプロパノール等のアルコール、極性溶媒として
はジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,2−ジ
メトキシエタン、1,4−ジオキサン等のエーテル、お
よびアセトン、メチルエチルケトン、アセトニトリル
等、水よりも低沸点の有機溶媒を挙げることができる。
これらの溶媒の1種、または2種以上を混合して使用し
ても良い。反応後の回収の観点から、ジエチルエーテ
ル、アセトン等の低沸点の有機溶媒、又は水と水よりも
低沸点の有機溶媒との混合溶媒、特に水とエーテルとの
混合溶媒、が好ましい。反応(即ち接触)は常温又は加
熱条件下で行う。加熱条件下で接触反応させる場合は、
40〜100℃、好ましくは60〜80℃で反応させる。反応時
間は、4〜8時間が好ましい。接触方法としては、撹拌、
震とう、加熱還流などの方法を用いることができる。反
応終了後、目的の化合物(IV)は一般法により反応混合
物より採取される。例えば、反応液をエバポレータ等で
濃縮後、30〜50mmHgで減圧して溶媒を留去すること
により、化合物(IV)が得られる。得られた目的化合物
は、必要ならば例えば再結晶、再沈殿、またはクロマト
グラフィー等によりさらに精製できる。かかる手順によ
り、本発明の式(IV)の化合物及びその塩を得ることが
できる。式(IV)の化合物の塩としては、塩酸、硫酸、
硝酸、亜硝酸等の無機酸;酢酸、乳酸、クエン酸、酪酸
等の有機酸の塩が挙げられる。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
ン酸メチルエステル塩酸塩の合成) 100mlオートクレーブに、5-アミノレブリン酸メチルエ
ステル塩酸塩5.40g、5%ロジウム-アルミナ1.08g及びメ
タノール45mlを入れ、水素ガス(4MPa)を封入した後、80
℃で45分間攪拌した。室温まで冷却して内容物を取り出
し、吸引ろ過して触媒を除去した。ろ液を濃縮乾固さ
せ、5-アミノ-4-ヒドロキシペンタン酸メチル塩酸塩5.3
8g得た。収率99mol%であった。1 H NMR(400MHz,CD3OD)δ(ppm) 1.68-1.89(m,2H,CH2CH 2CH(OH));2.44-2.56(m,2H,COCH 2C
H2);2.79-2.85(q,1H,CH(OH)CH 2N);3.04-3.08(q,1H,CH(O
H)CH 2N);3.68(s,3H,CH 3);3.80-3.87(m,1H,CH(OH))13 C[1H] NMR(400MHz,CD3OD)δ(ppm) 30.57(CH2);30.62(CH2);45.89(CH2);52.30(CH3);67,76
(CH(OH));175.29(CO2) IR(cm-1) 3363,1731,1610,1504,1440,1344,1273,1208,1177,1058,
951,887
ン酸エチルエステル塩酸塩の合成) 100mlオートクレーブに、5-アミノレブリン酸エチルエ
ステル塩酸塩2.98g、5%ロジウム-アルミナ0.50g及びエ
タノール23mlを入れ、水素ガス(4MPa)を封入した後、実
施例1と同様の処理を行い、5-アミノ-4-ヒドロキシペン
タン酸エチルエステル塩酸塩2.92gを得た。収率99mol%
であった。1 H NMR(400MHz,CD3OD)δ(ppm) 1.24-1.27(t,3H,CH2CH 3);1.73-1.88(m,2H,CH2CH 2CH(O
H));2.45-2.54(m,2H,COCH 2CH2);2.86-2.92(q,1H,CH(OH)
CH 2N);3.10-3.14(q,1H,CH(OH)CH 2N);3.89-3.93(m,1H,CH
(OH)); 4.11-4.16(m,2H,CH 2CH3)13 C[1H] NMR(400MHz,CD3OD)δ(ppm) 14.55(CH3);30.72(CH2);30.85(CH2);45.93(CH2);61.53
(CH2CH3);67.81(CH(OH));174.87(CO2) IR(cm-1) 3356,3107,1739,1591,1564,1448,1421,1380,1343,1269,
1178,1053,1001,959,934,907
酸n-プロピルエステル塩酸塩の合成) 100mlオートクレーブに5-アミノレブリン酸n-プロピル
エステル塩酸塩3.16g、5%ロジウム-アルミナ0.51g及n-
プロパノール23mlを入れ、水素ガス(4MPa)を封入した
後、80℃で45分間攪拌した。室温まで冷却して内容物を
取り出し、吸引ろ過して触媒を除去した。ろ液にN-プロ
パノールを加えて体積を40mlとし、活性炭素1.04gを加
えて室温下で1時間攪拌し、吸引ろ過して活性炭素を除
去した。ろ液を濃縮乾固させ、n-ヘキサン30mlで固体を
洗浄した後、室温下1mmHgで12時間乾燥させて、5-アミ
ノ-4-ヒドロキシペンタン酸n-プロピルエステル塩酸塩
3.00gを得た。収率95mol%であった。1 H NMR(400MHz,CDCl3)δ(ppm) 0.91-0.96(t,3H,CH3);1.60-1.67(m,2H,CH2);1.72-1.77
(m,1H,CH);1.82-1.86(m,1H,CH);2.47-2.54(m,2H,CH2);
2.85-2.91(t,1H,CH);3.09-3.13(d,1H,CH);3.88-3.92(m,
1H,CH);4.02-4.05(t,2H,CH2)13 C[1H] NMR(400MHz,CDCl3)δ(ppm) 10.88(CH3);23.00(CH2);30.89(CH2);30.89(CH2);30.97
(CH2);46.06(CH2);67.23(CH2O);67.94(CH(OH));175.05
(CO2) IR(cm-1) 3354,3106,1735,1591,1558,1421,1345,1269,1179,1047,
1002,951,911
ン酸n-ブチルエステル塩酸塩の合成) 100mlオートクレーブに、5-アミノレブリン酸n-ブチル
エステル塩酸塩3.35g、5%ロジウム-アルミナ0.50g及びn
-ブタノール25mlを入れ、水素ガス(4MPa)を封入した
後、実施例3と同様の処理を行い、5-アミノ-4-ヒドロキ
シペンタン酸n-ブチルエステル塩酸塩3.22gを得た。収
率95mol%であった。1 H NMR(400MHz,CDCl3)δ(ppm) 0.91-0.95(t,3H,CH3);1.32-1.40(m,2H,CH2);1.57-1.64
(m,2H,CH2);1.78-1.84(m,2H,CH2);2.45-2.55(m,2H,C
H2);3.07-3.21(br d,2H,CH2);4.04-4.08(t,3H,CH 2,CH(O
H));5.02(s,1H,CH(OH));7.93(s,3H,NH3)13 C[1H] NMR(400MHz,CDCl3)δ(ppm) 13.47(CH3);18.88(CH2);29.48(CH2);29.91(CH2);30.37
(CH2);45.11(CH2);64.31(CH2);66.80(CH(OH));173,64(C
O2) IR(cm-1) 3358,1734,1603,1462,1342,1270,1178,1062,947
ン酸メチルエステル塩酸塩の合成) 10mlオートクレーブに、5-アミノレブリン酸n-メチルエ
ステル塩酸塩540.0mg、5%ルテニウム-アルミナ100.0mg
及びメタノール4mlを入れ、水素ガス(10MPa)を封入し
た後、80℃で1時間攪拌した。室温まで冷却して内容物
を取り出し、吸引ろ過した。ろ液濃縮乾固させ、5-アミ
ノ-4-ヒドロキシペンタン酸メチルエステル塩酸塩513.8
mgを得た。
クトン塩酸塩)の合成 100mlナスフラスコに、5-アミノ-4-ヒドロキシペンタン
酸メチルエステル塩酸塩2.70gと酢酸40mlを入れ、4時間
加熱還流した。冷却後、反応液をエバポレータで濃縮
し、ジエチルエーテル100mlを加えた。析出した結晶を
濾取し、ジエチルエーテルで洗浄した後、室温下1mmHg
で12時間乾燥して、γ-アミノメチル-γ-ブチロラクト
ン塩酸塩2.12gを得た。収率95mol%であった。1 H NMR(400MHz,D2O)δ(ppm) 2.01-2.11(m,1H);2.47-2.55(m,1H);2.66-2.81(m,2H);3.
25-3.30(q,1H);3.40-3.44(q,1H);4.92-4.98(m,1H)13 C[1H]NMR(400MHz,D2O)δ(ppm) 27.22(CH2);30.92(CH2);45.60(CH2);80.53(CH);183.42
(CO2)
ロリジノンの合成) 10mlオートクレーブに、5-アミノ−4−ヒドロキシペン
タン酸n−プロピルエステル塩酸塩264mgと25%アン
モニア水1.6mlを入れ、水素ガス(10MPa)を封入した後、
170℃で3時間攪拌した。室温まで冷却して内容物を取り
出し、濃縮乾固した。残った固体を1H NMR、13C{1H}N
MR、GC-MSで分析した結果、5−(アミノメチル)−2
−ピロリジノンがほぼ定量的に生成しているのを確認し
た。
ン酸誘導体は、医薬品合成中間体である5−(アミノメ
チル)−2−ピロリジノンの合成原料として利用でき
る。本発明の製造法によると、簡単に且つ反応工程と別
に精製工程を必要とすることなく高収率で5-アミノ-4-
ヒドロキシペンタン酸誘導体を製造することができる。
また、本発明の式(IV)のラクトンの製造法によると、
低沸点有機溶媒、又は水と低沸点有機溶媒との混合溶媒
を反応系の溶媒として使用できるので、反応液からのラ
クトンの回収のための減圧乾燥(溶媒除去)のために、
水を溶媒として使用する従来法が約2日かかるのに対し
て、本発明では約3時間で済む。
Claims (3)
- 【請求項1】 式(I): 【化1】 (式I中、R1は炭素数3以上の炭化水素基を示す)で
表される化合物又はその塩。 - 【請求項2】 式(II): 【化2】 (式II中、R2は水素原子または炭素数1以上の炭化水
素基を示す)で表される化合物又はその塩を、遷移金属
触媒及び水素の存在下で接触還元することを特徴とす
る、式(III): 【化3】 (式III中、R2は前に定義したとおりである)で表され
る化合物又はその塩の製造方法。 - 【請求項3】 式(III): 【化4】 (式III中、R2は水素原子または炭素数1以上の炭化水
素基を示す)で表される化合物又はその塩と酸触媒とを
接触することを特徴とする、式(IV): 【化5】 で表される化合物又はその塩の製造方法。
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