JP2002275326A - ポリオレフィン用顆粒状複合添加剤及びその製造方法 - Google Patents
ポリオレフィン用顆粒状複合添加剤及びその製造方法Info
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Landscapes
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 添加剤のノンダスト、ワンパック化に対応し
た強度及び機能を有するポリオレフィン用顆粒状複合添
加剤を供給すること 【解決手段】 無機充填剤３０質量部、フェノール系抗
酸化剤１〜３０質量部、ポリプロピレン１０〜９０質量
部、及び随意成分として一種類以上の他の添加剤成分０
〜５００質量部を含有してなるポリオレフィン用顆粒状
複合添加剤。
た強度及び機能を有するポリオレフィン用顆粒状複合添
加剤を供給すること 【解決手段】 無機充填剤３０質量部、フェノール系抗
酸化剤１〜３０質量部、ポリプロピレン１０〜９０質量
部、及び随意成分として一種類以上の他の添加剤成分０
〜５００質量部を含有してなるポリオレフィン用顆粒状
複合添加剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、無機充填剤とフェ
ノール系抗酸化剤及びポリプロピレンを必須成分として
含有してなる多成分のポリオレフィン用顆粒状複合添加
剤（略して「顆粒状複合添加剤」ともいう。）及びその
製造方法に関する。
ノール系抗酸化剤及びポリプロピレンを必須成分として
含有してなる多成分のポリオレフィン用顆粒状複合添加
剤（略して「顆粒状複合添加剤」ともいう。）及びその
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】ポリ
オレフィンには、成形加工時の熱、酸化等に対する加工
安定性及び成形加工後の成形体の光、熱、酸化等に対す
る保存安定性を付与する安定剤や成形体の強度、透明性
や色調等を付与する改質剤、触媒失活剤等の各種添加剤
が使用されている。
オレフィンには、成形加工時の熱、酸化等に対する加工
安定性及び成形加工後の成形体の光、熱、酸化等に対す
る保存安定性を付与する安定剤や成形体の強度、透明性
や色調等を付与する改質剤、触媒失活剤等の各種添加剤
が使用されている。
【０００３】通常これらの添加剤は、ポリオレフィンの
成形加工時に粉末で使用されているが、粉末での使用
は、浮遊粉塵による作業安全性に問題があり、また、比
重、形状の異なる多品種の添加剤を任意の配合で、かつ
均一に混合しなければならず、計量性及び操作性等に問
題がある。
成形加工時に粉末で使用されているが、粉末での使用
は、浮遊粉塵による作業安全性に問題があり、また、比
重、形状の異なる多品種の添加剤を任意の配合で、かつ
均一に混合しなければならず、計量性及び操作性等に問
題がある。
【０００４】上記の問題点を予め各種粉末状の添加剤を
任意の割合で混合し、これを顆粒状に加工することによ
り改善することが提案されている。顆粒にすることによ
り浮遊粉塵を無くすこと、配合と均一混合の手間を低減
することができ、いわゆるノンダスト、ワンパックの添
加剤の実現が可能となる。
任意の割合で混合し、これを顆粒状に加工することによ
り改善することが提案されている。顆粒にすることによ
り浮遊粉塵を無くすこと、配合と均一混合の手間を低減
することができ、いわゆるノンダスト、ワンパックの添
加剤の実現が可能となる。
【０００５】現在、乾燥コンパクト化装置及びペレット
ミルによる粒化システムやワックス、パラフィン、ステ
ラミド等のバインダーを使用する方法が検討されている
が、上記粒化システムによる粒状物は機械的強度が小さ
く砕けやすいので浮遊粉塵及び均一混合の点で未だ不充
分である。また、バインダーの使用はポリオレフィン中
に不要な化合物が混入することとなるので問題になって
いる。
ミルによる粒化システムやワックス、パラフィン、ステ
ラミド等のバインダーを使用する方法が検討されている
が、上記粒化システムによる粒状物は機械的強度が小さ
く砕けやすいので浮遊粉塵及び均一混合の点で未だ不充
分である。また、バインダーの使用はポリオレフィン中
に不要な化合物が混入することとなるので問題になって
いる。
【０００６】また、特開平５−１７９０５６号、特開平
６−９１１５２号、特開平８−３３３４７７号に粒状の
混合添加剤やその製法についての記載がある。これら
は、粒状物の物性については、ほぼ満足できるものの、
その機能については不充分であり添加剤のワンパック化
において問題が残っている。
６−９１１５２号、特開平８−３３３４７７号に粒状の
混合添加剤やその製法についての記載がある。これら
は、粒状物の物性については、ほぼ満足できるものの、
その機能については不充分であり添加剤のワンパック化
において問題が残っている。
【０００７】低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエ
チレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ１
−ブテン、ポリ３−メチル−１−ブテン、エチレン／プ
ロピレンブロック又はランダム共重合体等のα−オレフ
ィン重合体等のポリオレフィンには、成形加工時の酸化
を押さえ、着色、物性低下を防ぐために抗酸化剤が使用
される。また、ポリオレフィンには、強度等の物性を改
善するために無機充填剤が配合される場合がある。無機
充填剤は、その効果を最大限に奏するためにはポリオレ
フィン中に均一に分散する必要がある。無機充填剤配合
系の複合添加剤を上記の方法で粒状化した場合には、粒
状複合添加剤中の無機充填剤の分散性が低下し、その結
果、これを使用した場合にポリオレフィン中の無機充填
剤の分散性が不十分になる欠点があった。更には粒状複
合添加剤の強度が不足する欠点があった。
チレン、高密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ１
−ブテン、ポリ３−メチル−１−ブテン、エチレン／プ
ロピレンブロック又はランダム共重合体等のα−オレフ
ィン重合体等のポリオレフィンには、成形加工時の酸化
を押さえ、着色、物性低下を防ぐために抗酸化剤が使用
される。また、ポリオレフィンには、強度等の物性を改
善するために無機充填剤が配合される場合がある。無機
充填剤は、その効果を最大限に奏するためにはポリオレ
フィン中に均一に分散する必要がある。無機充填剤配合
系の複合添加剤を上記の方法で粒状化した場合には、粒
状複合添加剤中の無機充填剤の分散性が低下し、その結
果、これを使用した場合にポリオレフィン中の無機充填
剤の分散性が不十分になる欠点があった。更には粒状複
合添加剤の強度が不足する欠点があった。
【０００８】従って、本発明の目的は、添加剤のノンダ
スト、ワンパック化に対応した強度及び機能を有するポ
リオレフィン用顆粒状複合添加剤を供給することにあ
る。
スト、ワンパック化に対応した強度及び機能を有するポ
リオレフィン用顆粒状複合添加剤を供給することにあ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するため検討を重ねた結果、特定成分の配合から
なるポリオレフィン用顆粒状複合添加剤が上記問題点解
決に有効であることを見出し本発明に到達した。
を解決するため検討を重ねた結果、特定成分の配合から
なるポリオレフィン用顆粒状複合添加剤が上記問題点解
決に有効であることを見出し本発明に到達した。
【００１０】即ち、本発明の第１は、無機充填剤３０質
量部、フェノール系抗酸化剤１〜３０質量部、ポリプロ
ピレン１０〜９０質量部、及び随意成分として一種類以
上の他の添加剤成分０〜５００質量部を含有してなるポ
リオレフィン用顆粒状複合添加剤を提供するものであ
る。また、本発明の第２は、無機充填剤が粉末状シリカ
及び／又はタルクである本発明の第１のポリオレフィン
用顆粒状複合添加剤を提供するものである。また本発明
の第３は、フェノール系抗酸化剤がテトラキス［３−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオニルオキシメチル］メタンである第１又は第２の
発明のポリオレフィン用顆粒状複合添加剤を提供するも
のである。また本発明の第４は、一種類以上の他の添加
剤成分中に１〜３０質量部のリン系抗酸化剤が含まれる
第１〜３の発明のいずれかのポリオレフィン用顆粒状複
合添加剤を提供するものである。また本発明の第５は、
一種類以上の他の添加剤成分中に０．５〜１０質量部の
ハイドロタルサイト化合物が含まれる第１〜４の発明の
いずれかのポリオレフィン用顆粒状複合添加剤を提供す
るものである。また本発明の第６は、振とう機による粉
化促進試験において、１６メッシュのふるいを通過する
粒子の質量比（粉化率）が１．０％以下である第１〜５
の発明のいずれかのポリオレフィン用顆粒状複合添加剤
を提供するものである。また本発明の第７は、構成成分
原料を１５０℃〜２７０℃の温度で造粒することを特徴
とした第１〜６の発明のいずれかのポリオレフィン用顆
粒状複合添加剤の製造方法を提供するものである。
量部、フェノール系抗酸化剤１〜３０質量部、ポリプロ
ピレン１０〜９０質量部、及び随意成分として一種類以
上の他の添加剤成分０〜５００質量部を含有してなるポ
リオレフィン用顆粒状複合添加剤を提供するものであ
る。また、本発明の第２は、無機充填剤が粉末状シリカ
及び／又はタルクである本発明の第１のポリオレフィン
用顆粒状複合添加剤を提供するものである。また本発明
の第３は、フェノール系抗酸化剤がテトラキス［３−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオニルオキシメチル］メタンである第１又は第２の
発明のポリオレフィン用顆粒状複合添加剤を提供するも
のである。また本発明の第４は、一種類以上の他の添加
剤成分中に１〜３０質量部のリン系抗酸化剤が含まれる
第１〜３の発明のいずれかのポリオレフィン用顆粒状複
合添加剤を提供するものである。また本発明の第５は、
一種類以上の他の添加剤成分中に０．５〜１０質量部の
ハイドロタルサイト化合物が含まれる第１〜４の発明の
いずれかのポリオレフィン用顆粒状複合添加剤を提供す
るものである。また本発明の第６は、振とう機による粉
化促進試験において、１６メッシュのふるいを通過する
粒子の質量比（粉化率）が１．０％以下である第１〜５
の発明のいずれかのポリオレフィン用顆粒状複合添加剤
を提供するものである。また本発明の第７は、構成成分
原料を１５０℃〜２７０℃の温度で造粒することを特徴
とした第１〜６の発明のいずれかのポリオレフィン用顆
粒状複合添加剤の製造方法を提供するものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明に係る無機充填剤は、通常
ポリオレフィンの強度改良剤及び添加剤の分散性を向上
させて他の添加剤の効果を向上させる添加剤助剤として
用いられるものであり、その形状、粒度分布、粒径、製
造法等によって制限を受けることはなく周知一般のもの
を用いることができる。該無機充填剤としては、例え
ば、シリカ、珪藻土、アルミナ、チタニア、酸化カルシ
ウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ベリ
リウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水
酸化カルシウム、アルミネート水和物、タルク、クレ
ー、カオリン、マイカ、アスベスト、ベントナイト、セ
ピオライト、珪酸カルシウム、モンモリロナイト、炭酸
カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸
バリウム、亜硫酸カルシウム、二硫化モリブデン、チタ
ン酸カリウム、炭化珪素、ガラス繊維、炭素繊維等が挙
げられ、これらは一種類又は二種類以上混合で用いても
よい。これら無機充填剤の中では、ポリオレフィンに対
し優れた添加効果を与えるので、シリカ及び／又はタル
クが好ましく、粒径としては、０．５〜１０μｍのもの
が分散性に優れるのでより好ましい。
ポリオレフィンの強度改良剤及び添加剤の分散性を向上
させて他の添加剤の効果を向上させる添加剤助剤として
用いられるものであり、その形状、粒度分布、粒径、製
造法等によって制限を受けることはなく周知一般のもの
を用いることができる。該無機充填剤としては、例え
ば、シリカ、珪藻土、アルミナ、チタニア、酸化カルシ
ウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ベリ
リウム、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水
酸化カルシウム、アルミネート水和物、タルク、クレ
ー、カオリン、マイカ、アスベスト、ベントナイト、セ
ピオライト、珪酸カルシウム、モンモリロナイト、炭酸
カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸カルシウム、硫酸
バリウム、亜硫酸カルシウム、二硫化モリブデン、チタ
ン酸カリウム、炭化珪素、ガラス繊維、炭素繊維等が挙
げられ、これらは一種類又は二種類以上混合で用いても
よい。これら無機充填剤の中では、ポリオレフィンに対
し優れた添加効果を与えるので、シリカ及び／又はタル
クが好ましく、粒径としては、０．５〜１０μｍのもの
が分散性に優れるのでより好ましい。
【００１２】本発明に係るフェノール系抗酸化剤とは、
その分子構造中にフェノール骨格を含む公知の抗酸化剤
のことであり、例えば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−ク
レゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシロキシ
フェノール、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ジステアリル
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホ
スホネート、トリデシル・３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジルチオアセテート、チオジエチレンビ
ス［（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート］、４，４’−チオビス（６−第三
ブチル−ｍ−クレゾール）、２−オクチルチオ−４，６
−ジ（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−ｓ−トリアジン、２，２’−メチレンビス（４−
メチル−６−第三ブチルフェノール）、ビス[３，３−
ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチ
リックアシッド]グリコールエステル、４，４’−ブチ
リデンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノール）、４，
４’−ブチリデンビス（６−第三ブチル−３−メチルフ
ェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第
三ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチ
ル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタ
ン、ビス[２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒ
ドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェ
ニル]テレフタレート、１，３，５−トリス（２，６−
ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）
イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼ
ン、１，３，５−トリス[（３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル]イ
ソシアヌレート、テトラキス[３−（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメ
チル]メタン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２
−アクロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベン
ジル）フェノール、３，９−ビス[２−（３−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシ−５−メチルヒドロシンナモイルオ
キシ）−１，１−ジメチルエチル]−２，４，８，１０
−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン、トリエチ
レングリコールビス［β−（３−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］等が挙
げられる。その中でも特にテトラキス[３−（３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル
オキシメチル]メタンがポリオレフィンに対して抗酸化
機能、効果の持続性に優れているので特に好ましく用い
られる。
その分子構造中にフェノール骨格を含む公知の抗酸化剤
のことであり、例えば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−ク
レゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシロキシ
フェノール、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ジステアリル
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホ
スホネート、トリデシル・３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジルチオアセテート、チオジエチレンビ
ス［（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネート］、４，４’−チオビス（６−第三
ブチル−ｍ−クレゾール）、２−オクチルチオ−４，６
−ジ（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキ
シ）−ｓ−トリアジン、２，２’−メチレンビス（４−
メチル−６−第三ブチルフェノール）、ビス[３，３−
ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチ
リックアシッド]グリコールエステル、４，４’−ブチ
リデンビス（２，６−ジ第三ブチルフェノール）、４，
４’−ブチリデンビス（６−第三ブチル−３−メチルフ
ェノール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第
三ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチ
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ン、ビス[２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒ
ドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェ
ニル]テレフタレート、１，３，５−トリス（２，６−
ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）
イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレー
ト、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼ
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ソシアヌレート、テトラキス[３−（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメ
チル]メタン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２
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ジル）フェノール、３，９−ビス[２−（３−第三ブチ
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キシ）−１，１−ジメチルエチル]−２，４，８，１０
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レングリコールビス［β−（３−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］等が挙
げられる。その中でも特にテトラキス[３−（３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル
オキシメチル]メタンがポリオレフィンに対して抗酸化
機能、効果の持続性に優れているので特に好ましく用い
られる。
【００１３】本発明に係るポリプロピレンは、後記実施
例の電子顕微鏡写真及び組成分析に示すとおり顆粒状複
合添加剤に対し均一な組成を与える効果を有する。また
顆粒状複合添加剤のポリオレフィンに対する分散性を良
好にする効果を与えるものであり、結果として優れた添
加剤の使用効果を付与するものである。該ポリプロピレ
ンは、形状により特に限定されるものではないが、パウ
ダー状のものを用いると、顆粒状複合添加剤の組成の均
一性がより良好になるので好ましい。ポリプロピレンと
しては、プロピレンホモポリマーの他、プロピレンを除
く炭素数２〜１０のα−オレフィンとプロピレンのラン
ダムもしくはブロック共重合体（プロピレン含量は９０
質量％以上）又はこれらの混合物が挙げられ、メルトフ
ローインデックスは特に限定されない。
例の電子顕微鏡写真及び組成分析に示すとおり顆粒状複
合添加剤に対し均一な組成を与える効果を有する。また
顆粒状複合添加剤のポリオレフィンに対する分散性を良
好にする効果を与えるものであり、結果として優れた添
加剤の使用効果を付与するものである。該ポリプロピレ
ンは、形状により特に限定されるものではないが、パウ
ダー状のものを用いると、顆粒状複合添加剤の組成の均
一性がより良好になるので好ましい。ポリプロピレンと
しては、プロピレンホモポリマーの他、プロピレンを除
く炭素数２〜１０のα−オレフィンとプロピレンのラン
ダムもしくはブロック共重合体（プロピレン含量は９０
質量％以上）又はこれらの混合物が挙げられ、メルトフ
ローインデックスは特に限定されない。
【００１４】本発明のポリオレフィン用顆粒状複合添加
剤において、上記の含有されるポリプロピレン添加剤の
配合は、無機充填剤３０質量部に対して、１０質量部以
下であると前記で説明した使用効果が得られず、また９
０質量部を超えると使用効果の向上が得られないばかり
でなく、添加剤含有量が少なくなり、計量性、搬送等工
程上の利便性が損なわれるので、１０〜９０質量部であ
り、１５〜６０質量部が好ましい。
剤において、上記の含有されるポリプロピレン添加剤の
配合は、無機充填剤３０質量部に対して、１０質量部以
下であると前記で説明した使用効果が得られず、また９
０質量部を超えると使用効果の向上が得られないばかり
でなく、添加剤含有量が少なくなり、計量性、搬送等工
程上の利便性が損なわれるので、１０〜９０質量部であ
り、１５〜６０質量部が好ましい。
【００１５】本発明のポリオレフィン用顆粒状複合添加
剤において、随意成分である他の添加剤成分とは、上記
の無機充填剤、フェノール系抗酸化剤以外の周知のポリ
オレフィンに添加使用される無機、有機の各種添加剤の
ことであり、特に制限されないが、例えば、以下に記載
するものが挙げられる。
剤において、随意成分である他の添加剤成分とは、上記
の無機充填剤、フェノール系抗酸化剤以外の周知のポリ
オレフィンに添加使用される無機、有機の各種添加剤の
ことであり、特に制限されないが、例えば、以下に記載
するものが挙げられる。
【００１６】リン系抗酸化剤としては、トリフェニルホ
スファイト、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）
ホスファイト、トリス（２，５−ジ第三ブチルフェニ
ル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファ
イト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリ
ス（モノ、ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、ジフ
ェニルアシッドホスファイト、２，２'−メチレンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイ
ト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェニルオクチ
ルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリ
トールジホスファイト、フェニルジイソデシルホスファ
イト、トリブチルホスファイト、トリス（２−エチルヘ
キシル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリ
ラウリルホスファイト、ジブチルアシッドホスファイ
ト、ジラウリルアシッドホスファイト、トリラウリルト
リチオホスファイト、ビス（ネオペンチルグリコール）
・１，４−シクロヘキサンジメチルジホスフィト、ビス
（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、ビス（２，５−ジ第三ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，
６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリス
リトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステア
リルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（Ｃ
１２−１５混合アルキル）−４，４’−イソプロピリデ
ンジフェニルホスファイト、ビス[２，２’−メチレン
ビス(４，６−ジアミルフェニル)]・イソプロピリデン
ジフェニルホスファイト、テトラトリデシル・４，４’
−ブチリデンビス(２−第三ブチル−５−メチルフェノ
ール)ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）・１，
１，３−トリス（２−メチル−５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）ブタン・トリホスファイト、テトラ
キス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジ
ホスホナイト、トリス（２−〔（２，４，７，９−テト
ラキス第三ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジ
オキサホスフェピン−６−イル）オキシ〕エチル）アミ
ン、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスフ
ァフェナンスレン−１０−オキサイド、２−ブチル−２
−エチルプロパンジオール・２，４，６−トリ第三ブチ
ルフェノールモノホスファイト等が挙げられる。
スファイト、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）
ホスファイト、トリス（２，５−ジ第三ブチルフェニ
ル）ホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファ
イト、トリス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリ
ス（モノ、ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、ジフ
ェニルアシッドホスファイト、２，２'−メチレンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイ
ト、ジフェニルデシルホスファイト、ジフェニルオクチ
ルホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリ
トールジホスファイト、フェニルジイソデシルホスファ
イト、トリブチルホスファイト、トリス（２−エチルヘ
キシル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリ
ラウリルホスファイト、ジブチルアシッドホスファイ
ト、ジラウリルアシッドホスファイト、トリラウリルト
リチオホスファイト、ビス（ネオペンチルグリコール）
・１，４−シクロヘキサンジメチルジホスフィト、ビス
（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、ビス（２，５−ジ第三ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，
６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリス
リトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェ
ニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステア
リルペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（Ｃ
１２−１５混合アルキル）−４，４’−イソプロピリデ
ンジフェニルホスファイト、ビス[２，２’−メチレン
ビス(４，６−ジアミルフェニル)]・イソプロピリデン
ジフェニルホスファイト、テトラトリデシル・４，４’
−ブチリデンビス(２−第三ブチル−５−メチルフェノ
ール)ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）・１，
１，３−トリス（２−メチル−５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）ブタン・トリホスファイト、テトラ
キス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジ
ホスホナイト、トリス（２−〔（２，４，７，９−テト
ラキス第三ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジ
オキサホスフェピン−６−イル）オキシ〕エチル）アミ
ン、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスフ
ァフェナンスレン−１０−オキサイド、２−ブチル−２
−エチルプロパンジオール・２，４，６−トリ第三ブチ
ルフェノールモノホスファイト等が挙げられる。
【００１７】また、硫黄系抗酸化剤としては、チオジプ
ロピオン酸のジラウリル、ジミリスチル、ミリスチルス
テアリル、ジステアリルエステル等のジアルキルチオジ
プロピオネート類及びペンタエリスリトールテトラ（β
−ドデシルメルカプトプロピオネート）等のポリオール
のβ−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類が挙
げられる。
ロピオン酸のジラウリル、ジミリスチル、ミリスチルス
テアリル、ジステアリルエステル等のジアルキルチオジ
プロピオネート類及びペンタエリスリトールテトラ（β
−ドデシルメルカプトプロピオネート）等のポリオール
のβ−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類が挙
げられる。
【００１８】また、ヒンダードアミン系光安定剤として
は以下の一般式（I）で表される化合物、塩化シアヌル
縮合型、高分子量型が挙げられる。
は以下の一般式（I）で表される化合物、塩化シアヌル
縮合型、高分子量型が挙げられる。
【化１】 （式中、ｎは、１〜６の整数を表し、Ａは、水素原子、
炭素数１〜１８のｎ価の炭化水素基、ｎ価のアシル基ま
たはｎ価のカルバモイル基を表し、Ｂは、酸素原子、−
ＮＨ−、炭素数１〜８のアルキル基Ｒ’を有する−Ｎ
Ｒ’−を表し、Ｘは、水素原子、オキシラジカル（・
Ｏ）、炭素数１〜１８のアルコキシ基、炭素数１〜８の
アルキル基、ヒドロキシル基を表し、Ｚは、メチン、又
は炭素数１〜８のアルキル基Ｒ1を有する以下の基(II)
を表す。）
炭素数１〜１８のｎ価の炭化水素基、ｎ価のアシル基ま
たはｎ価のカルバモイル基を表し、Ｂは、酸素原子、−
ＮＨ−、炭素数１〜８のアルキル基Ｒ’を有する−Ｎ
Ｒ’−を表し、Ｘは、水素原子、オキシラジカル（・
Ｏ）、炭素数１〜１８のアルコキシ基、炭素数１〜８の
アルキル基、ヒドロキシル基を表し、Ｚは、メチン、又
は炭素数１〜８のアルキル基Ｒ1を有する以下の基(II)
を表す。）
【００１９】
【化２】
【００２０】上記一般式（II）において、Ａで表される
ｎ価の炭素数１〜１８の炭化水素基としては、メタン、
エタン、プロパン、ブタン、第二ブタン、第三ブタン、
イソブタン、ペンタン、イソペンタン、第三ペンタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、
第三ヘプタン、ｎ−オクタン、イソオクタン、第三オク
タン、２−エチルヘキサン、ノナン、イソノナン、デカ
ン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカ
ン、ヘキサデカン、ペプタデカン、オクタデカンから誘
導される基（アルキル基、アルカンジ〜ヘキサイル基）
が挙げられる。
ｎ価の炭素数１〜１８の炭化水素基としては、メタン、
エタン、プロパン、ブタン、第二ブタン、第三ブタン、
イソブタン、ペンタン、イソペンタン、第三ペンタン、
ヘキサン、シクロヘキサン、ヘプタン、イソヘプタン、
第三ヘプタン、ｎ−オクタン、イソオクタン、第三オク
タン、２−エチルヘキサン、ノナン、イソノナン、デカ
ン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカ
ン、ヘキサデカン、ペプタデカン、オクタデカンから誘
導される基（アルキル基、アルカンジ〜ヘキサイル基）
が挙げられる。
【００２１】ｎ価のアシル基とは、カルボン酸、ｎ価カ
ルボン酸及びカルボキシル基がｎ個残存している多価カ
ルボン酸アルキルエステルから誘導される基のことであ
り、該アシル誘導体化合物としては、酢酸、安息香酸、
４−トリフルオロメチル安息香酸、サリチル酸、アクリ
ル酸、メタクリル酸、シュウ酸、マロン酸、スクシン
酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、２−メ
チルコハク酸、２−メチルアジピン酸、３−メチルアジ
ピン酸、３−メチルペンタン二酸、２−メチルオクタン
二酸、３，８−ジメチルデカン二酸、３，７−ジメチル
デカン二酸、水添ダイマー酸、ダイマー酸、フタル酸、
テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン
酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリメリト酸、トリ
メシン酸、プロパン−１，２，３−トリカルボン酸、プ
ロパン−１，２，３−トリカルボン酸モノ〜ジアルキル
エステル、ペンタン−１，３，５−トリカルボン酸、ペ
ンタン−１，３，５−トリカルボン酸モノ〜ジアルキル
エステル、ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン
酸、ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸モノ〜
トリアルキルエステル、ペンタン−１，２，３，４，５
−ペンタカルボン酸、ペンタン−１，２，３，４，５−
ペンタカルボン酸モノ〜テトラアルキルエステル、ヘキ
サン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボン酸、ヘ
キサン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボン酸モ
ノ〜ペンタアルキルエステル等が挙げられる。また、ｎ
価のカルバモイル基は、イソシアネート化合物から誘導
されるモノアルキルカルバモイル基またはジアルキルカ
ルバモイルのことであり、モノアルキルカルバモイル基
を誘導するイソシアネート化合物としては、トリレンジ
イソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソ
シアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシア
ネート、３、３’−ジメチルジフェニル−４、４’−ジ
イソシアネート、ジアニシジンジイソシアネート、テト
ラメチルキシリレンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジ
イソシアネート、トランス−１，４−シクロヘキシルジ
イソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、１，
６−ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４
（２，４，４）−トリメチルヘキサメチレンジイソシア
ネート、リシンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート、１−メチルベンゾール−２，４，
６−トリイソシアネート、ジメチルトリフェニルメタン
テトライソシアネート等が挙げられ、ジアルキルカルバ
モイルとしては、ジエチルカルバモイル、ジブチルカル
バモイル、ジヘキシルカルバモイル、ジオクチルカルバ
モイル等が挙げられる。これらのＡで表される基はハロ
ゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ
基、シアノ基等で置換されていてもよい。
ルボン酸及びカルボキシル基がｎ個残存している多価カ
ルボン酸アルキルエステルから誘導される基のことであ
り、該アシル誘導体化合物としては、酢酸、安息香酸、
４−トリフルオロメチル安息香酸、サリチル酸、アクリ
ル酸、メタクリル酸、シュウ酸、マロン酸、スクシン
酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカン二酸、２−メ
チルコハク酸、２−メチルアジピン酸、３−メチルアジ
ピン酸、３−メチルペンタン二酸、２−メチルオクタン
二酸、３，８−ジメチルデカン二酸、３，７−ジメチル
デカン二酸、水添ダイマー酸、ダイマー酸、フタル酸、
テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン
酸、シクロヘキサンジカルボン酸、トリメリト酸、トリ
メシン酸、プロパン−１，２，３−トリカルボン酸、プ
ロパン−１，２，３−トリカルボン酸モノ〜ジアルキル
エステル、ペンタン−１，３，５−トリカルボン酸、ペ
ンタン−１，３，５−トリカルボン酸モノ〜ジアルキル
エステル、ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン
酸、ブタン−１，２，３，４−テトラカルボン酸モノ〜
トリアルキルエステル、ペンタン−１，２，３，４，５
−ペンタカルボン酸、ペンタン−１，２，３，４，５−
ペンタカルボン酸モノ〜テトラアルキルエステル、ヘキ
サン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボン酸、ヘ
キサン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボン酸モ
ノ〜ペンタアルキルエステル等が挙げられる。また、ｎ
価のカルバモイル基は、イソシアネート化合物から誘導
されるモノアルキルカルバモイル基またはジアルキルカ
ルバモイルのことであり、モノアルキルカルバモイル基
を誘導するイソシアネート化合物としては、トリレンジ
イソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソ
シアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、キシリ
レンジイソシアネート、１，５−ナフチレンジイソシア
ネート、３、３’−ジメチルジフェニル−４、４’−ジ
イソシアネート、ジアニシジンジイソシアネート、テト
ラメチルキシリレンジイソシアネート、イソホロンジイ
ソシアネート、ジシクロヘキシルメタン−４，４’−ジ
イソシアネート、トランス−１，４−シクロヘキシルジ
イソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、１，
６−ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４
（２，４，４）−トリメチルヘキサメチレンジイソシア
ネート、リシンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート、１−メチルベンゾール−２，４，
６−トリイソシアネート、ジメチルトリフェニルメタン
テトライソシアネート等が挙げられ、ジアルキルカルバ
モイルとしては、ジエチルカルバモイル、ジブチルカル
バモイル、ジヘキシルカルバモイル、ジオクチルカルバ
モイル等が挙げられる。これらのＡで表される基はハロ
ゲン原子、水酸基、アルキル基、アルコキシ基、ニトロ
基、シアノ基等で置換されていてもよい。
【００２２】Ｂ中のＲ’で表される炭素数１〜８のアル
キル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、
アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘ
キシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、１−
エチルペンチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オ
クチル、２−エチルヘキシルが挙げられ、Ｘで表される
炭素数１〜１８のアルコキシ基としては、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第二
ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、
アミルオキシ、イソアミルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘ
プチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオ
キシ、ノニルオキシ、イソノニルオキシ、デシルオキ
シ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、テトラデシル
オキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ペ
プタデシルオキシ、オクタデシルオキシが挙げられ、炭
素数１〜８のアルキル基としては、Ｒ’と同様の基が挙
げられ、Ｚ中のＲ1で表される炭素数１〜８のアルキル
基としては、Ｒ’と同様の基が挙げられる。
キル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、
アミル、イソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘ
キシル、ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、１−
エチルペンチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オ
クチル、２−エチルヘキシルが挙げられ、Ｘで表される
炭素数１〜１８のアルコキシ基としては、メトキシ、エ
トキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、第二
ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、
アミルオキシ、イソアミルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘ
プチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオ
キシ、ノニルオキシ、イソノニルオキシ、デシルオキ
シ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、テトラデシル
オキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、ペ
プタデシルオキシ、オクタデシルオキシが挙げられ、炭
素数１〜８のアルキル基としては、Ｒ’と同様の基が挙
げられ、Ｚ中のＲ1で表される炭素数１〜８のアルキル
基としては、Ｒ’と同様の基が挙げられる。
【００２３】上記の一般式（I）で表されるヒンダード
アミン系光安定剤の更なる具体例としては、例えば、
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステア
レート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）セバケート、ビス（１−オクトキシ−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタク
リレート、２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジル
メタクリレート、テトラキス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテ
トラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４
−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ビス（トリデシ
ル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）・ビス（トリデシル）−１，２，３，４−ブ
タンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２
−（３，５−ジ第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）マロネート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２
−[トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキ
シ]エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ
〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチ
ル−２−[トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル
−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカル
ボニルオキシ]エチル〕−２，４，８，１０−テトラオ
キサスピロ〔５．５〕ウンデカン等が挙げられる。
アミン系光安定剤の更なる具体例としては、例えば、
２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステア
レート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−
テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジ
ル）セバケート、ビス（１−オクトキシ−２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタク
リレート、２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジル
メタクリレート、テトラキス（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテ
トラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４
−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ビス（トリデシ
ル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレー
ト、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピ
ペリジル）・ビス（トリデシル）−１，２，３，４−ブ
タンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２
−（３，５−ジ第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）マロネート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２
−[トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキ
シ]エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ
〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチ
ル−２−[トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル
−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカル
ボニルオキシ]エチル〕−２，４，８，１０−テトラオ
キサスピロ〔５．５〕ウンデカン等が挙げられる。
【００２４】塩化シアヌル縮合型としては、１，６−ビ
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルア
ミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−
ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／
２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリ
アジン重縮合物、１，５，８，１２−テトラキス[２，
４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−
６−イル]−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、
１，５，８，１２−テトラキス[２，４−ビス（Ｎ−ブ
チル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル]−
１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，６，１１
−トリス[２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ
−トリアジン−６−イルアミノ]ウンデカン、１，６，
１１−トリス[２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミ
ノ）−ｓ−トリアジン−６−イルアミノ]ウンデカン等
が挙げられる。
ス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルア
ミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−
ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／
２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリ
アジン重縮合物、１，５，８，１２−テトラキス[２，
４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラ
メチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−
６−イル]−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、
１，５，８，１２−テトラキス[２，４−ビス（Ｎ−ブ
チル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−
ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル]−
１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，６，１１
−トリス[２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ
−トリアジン−６−イルアミノ]ウンデカン、１，６，
１１−トリス[２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミ
ノ）−ｓ−トリアジン−６−イルアミノ]ウンデカン等
が挙げられる。
【００２５】また、高分子量型としては、１−（２−ヒ
ドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジノール／コハク酸ジエチル重縮合物、１，６
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ルアミノ）ヘキサン／ジブロモエタン重縮合物等が挙げ
られる。
ドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４
−ピペリジノール／コハク酸ジエチル重縮合物、１，６
−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジ
ルアミノ）ヘキサン／ジブロモエタン重縮合物等が挙げ
られる。
【００２６】また、紫外線吸収剤系光安定剤としては、
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
オクトキシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビス
（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の
２−ヒドロキシベンゾフェノン類；２−（２−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三
ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２
−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒ
ドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２，２’−メチレンビス（４−第三オクチル−６
−ベンゾトリアゾリルフェノール）、２−（２−ヒドロ
キシ−３−第三ブチル−５−カルボキシフェニル）ベン
ゾトリアゾールのポリエチレングリコールエステル、２
−〔２−ヒドロキシ−３−（２−アクリロイルオキシエ
チル）−５−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２
−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイルオキシ
エチル）−５−第三ブチルフェニル〕ベンゾトリアゾー
ル、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイル
オキシエチル）−５−第三オクチルフェニル〕ベンゾト
リアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタク
リロイルオキシエチル）−５−第三ブチルフェニル〕−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ
−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル〕
ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三
ブチル−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェ
ニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３
−第三アミル−５−（２−メタクリロイルオキシエチ
ル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロ
キシ−３−第三ブチル−５−（３−メタクリロイルオキ
シプロピル）フェニル〕−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイル
オキシメチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−
〔２−ヒドロキシ−４−（３−メタクリロイルオキシ−
２−ヒドロキシプロピル）フェニル〕ベンゾトリアゾー
ル、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−メタクリロイル
オキシプロピル）フェニル〕ベンゾトリアゾール等の２
−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，
６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−
ヒドロキシ−４−ヘキシロキシフェニル）−４，６−ジ
フェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロ
キシ−４−オクトキシフェニル）−４，６−ビス（２，
４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２
−〔２−ヒドロキシ−４−（３−Ｃ１２〜１３混合アル
コキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕−４，
６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−
トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−アクリ
ロイルオキシエトキシ）フェニル〕−４，６−ビス（４
−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシ−３−アリルフェニル）−４，
６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−
トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３
−メチル−４−ヘキシロキシフェニル）−１，３，５−
トリアジン等の２−（２−ヒドロキシフェニル）−４，
６−ジアリール−１，３，５−トリアジン類；フェニル
サリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，
４−ジ第三ブチルフェニル−３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンゾエート、オクチル（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシ）ベンゾエート、ドデシル
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ）ベンゾエー
ト、テトラデシル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシ）ベンゾエート、ヘキサデシル（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシ）ベンゾエート、オクタデシル
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ）ベンゾエー
ト、ベヘニル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シ）ベンゾエート等のベンゾエート類；２−エチル−
２’−エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４’−ド
デシルオキザニリド等の置換オキザニリド類；エチル−
α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル
−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェニ
ル）アクリレート等のシアノアクリレート類；各種の金
属塩又は金属キレート、特にニッケル又はクロムの塩又
はキレート類が挙げられる。
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ
−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−
オクトキシベンゾフェノン、５，５’−メチレンビス
（２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン）等の
２−ヒドロキシベンゾフェノン類；２−（２−ヒドロキ
シ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２−ヒドロキシ−５−第三オクチルフェニル）ベンゾ
トリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ第三
ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２
−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルフェ
ニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒ
ドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾ
ール、２，２’−メチレンビス（４−第三オクチル−６
−ベンゾトリアゾリルフェノール）、２−（２−ヒドロ
キシ−３−第三ブチル−５−カルボキシフェニル）ベン
ゾトリアゾールのポリエチレングリコールエステル、２
−〔２−ヒドロキシ−３−（２−アクリロイルオキシエ
チル）−５−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾール、２
−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイルオキシ
エチル）−５−第三ブチルフェニル〕ベンゾトリアゾー
ル、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイル
オキシエチル）−５−第三オクチルフェニル〕ベンゾト
リアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−（２−メタク
リロイルオキシエチル）−５−第三ブチルフェニル〕−
５−クロロベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ
−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェニル〕
ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３−第三
ブチル−５−（２−メタクリロイルオキシエチル）フェ
ニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロキシ−３
−第三アミル−５−（２−メタクリロイルオキシエチ
ル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−〔２−ヒドロ
キシ−３−第三ブチル−５−（３−メタクリロイルオキ
シプロピル）フェニル〕−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−メタクリロイル
オキシメチル）フェニル〕ベンゾトリアゾール、２−
〔２−ヒドロキシ−４−（３−メタクリロイルオキシ−
２−ヒドロキシプロピル）フェニル〕ベンゾトリアゾー
ル、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−メタクリロイル
オキシプロピル）フェニル〕ベンゾトリアゾール等の２
−（２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；
２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，
６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−
ヒドロキシ−４−ヘキシロキシフェニル）−４，６−ジ
フェニル−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロ
キシ−４−オクトキシフェニル）−４，６−ビス（２，
４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２
−〔２−ヒドロキシ−４−（３−Ｃ１２〜１３混合アル
コキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕−４，
６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−
トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−アクリ
ロイルオキシエトキシ）フェニル〕−４，６−ビス（４
−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−
（２，４−ジヒドロキシ−３−アリルフェニル）−４，
６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−
トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−３
−メチル−４−ヘキシロキシフェニル）−１，３，５−
トリアジン等の２−（２−ヒドロキシフェニル）−４，
６−ジアリール−１，３，５−トリアジン類；フェニル
サリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，
４−ジ第三ブチルフェニル−３，５−ジ第三ブチル−４
−ヒドロキシベンゾエート、オクチル（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシ）ベンゾエート、ドデシル
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ）ベンゾエー
ト、テトラデシル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシ）ベンゾエート、ヘキサデシル（３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシ）ベンゾエート、オクタデシル
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ）ベンゾエー
ト、ベヘニル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シ）ベンゾエート等のベンゾエート類；２−エチル−
２’−エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４’−ド
デシルオキザニリド等の置換オキザニリド類；エチル−
α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル
−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェニ
ル）アクリレート等のシアノアクリレート類；各種の金
属塩又は金属キレート、特にニッケル又はクロムの塩又
はキレート類が挙げられる。
【００２７】また、結晶核剤としては、４−第三ブチル
安息香酸アルミニウム塩、アジピン酸ナトリウム等のカ
ルボン酸金属塩、ナトリウムビス（４−第三ブチルフェ
ニル）ホスフェート、ナトリウム−２，２’−メチレン
ビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）ホスフェート、
リチウム−２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブ
チルフェニル）ホスフェート、ヒドロキシアルミニウム
ビス（２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチル
フェニル）ホスフェート）等の酸性リン酸エステル金属
塩、ジベンジリデンソルビトール、ビス（メチルベンジ
リデン）ソルビトールなどの多価アルコール誘導体、リ
チウムベンゾエート、ナトリウムベンゾエート、アルミ
ニウムベンゾエート等の芳香族カルボン酸金属塩等が挙
げられる。
安息香酸アルミニウム塩、アジピン酸ナトリウム等のカ
ルボン酸金属塩、ナトリウムビス（４−第三ブチルフェ
ニル）ホスフェート、ナトリウム−２，２’−メチレン
ビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）ホスフェート、
リチウム−２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブ
チルフェニル）ホスフェート、ヒドロキシアルミニウム
ビス（２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチル
フェニル）ホスフェート）等の酸性リン酸エステル金属
塩、ジベンジリデンソルビトール、ビス（メチルベンジ
リデン）ソルビトールなどの多価アルコール誘導体、リ
チウムベンゾエート、ナトリウムベンゾエート、アルミ
ニウムベンゾエート等の芳香族カルボン酸金属塩等が挙
げられる。
【００２８】また、脂肪族モノカルボン酸のアルカリ又
はアルカリ土類金属塩としては、ポリオレフィン樹脂に
対して、触媒失活剤、結晶化助剤として用いられるもの
であり、これを構成する脂肪族モノカルボン酸として
は、酢酸、プロピオン酸、吉草酸、酪酸、オクチル酸、
デカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸等が挙げられ、アルカリ金属としては、リ
チウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、アルカリ土
類金属としては、マグネシウム、カルシウム、ストロン
チウム、バリウムが挙げられる。
はアルカリ土類金属塩としては、ポリオレフィン樹脂に
対して、触媒失活剤、結晶化助剤として用いられるもの
であり、これを構成する脂肪族モノカルボン酸として
は、酢酸、プロピオン酸、吉草酸、酪酸、オクチル酸、
デカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、
ステアリン酸等が挙げられ、アルカリ金属としては、リ
チウム、ナトリウム、カリウムが挙げられ、アルカリ土
類金属としては、マグネシウム、カルシウム、ストロン
チウム、バリウムが挙げられる。
【００２９】また、ハイドロタルサイト化合物として
は、下記式で表されるものが挙げられる。 ＭｇX1ＺｎX2Ａｌ2（ＯＨ）2X1+2X2+4ＣＯ3・ｍＨ2Ｏ （式中、Ｘ１及びＸ２は各々下記式で表される条件を満
足する数を示し、ｍは０または任意の正数を示す。０≦
Ｘ２／Ｘ１＜１０、２≦Ｘ１＋Ｘ２＜２０）
は、下記式で表されるものが挙げられる。 ＭｇX1ＺｎX2Ａｌ2（ＯＨ）2X1+2X2+4ＣＯ3・ｍＨ2Ｏ （式中、Ｘ１及びＸ２は各々下記式で表される条件を満
足する数を示し、ｍは０または任意の正数を示す。０≦
Ｘ２／Ｘ１＜１０、２≦Ｘ１＋Ｘ２＜２０）
【００３０】また、上記以外の添加剤としては、ノニオ
ン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界
面活性剤、両性界面活性剤等からなる帯電防止剤、ハロ
ゲン系化合物、リン系化合物又は金属酸化物等の難燃
剤、炭化水素系、脂肪酸系、脂肪族アルコール系、脂肪
族エステル系、脂肪族アマイド系又は金属石けん系の滑
剤、結晶核剤、加工助剤、染料、顔料等の着色剤、有機
カルボン酸等が挙げられる。
ン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界
面活性剤、両性界面活性剤等からなる帯電防止剤、ハロ
ゲン系化合物、リン系化合物又は金属酸化物等の難燃
剤、炭化水素系、脂肪酸系、脂肪族アルコール系、脂肪
族エステル系、脂肪族アマイド系又は金属石けん系の滑
剤、結晶核剤、加工助剤、染料、顔料等の着色剤、有機
カルボン酸等が挙げられる。
【００３１】このなかでも特にリン系抗酸化剤は、フェ
ノール系抗酸化剤と併用することで相乗効果が得られる
ので使用することが好ましく、また、ハイドロタルサイ
トは、触媒を失活させ、ポリオレフィンの熱安定性を改
善する効果が得られるので使用することが好ましい。
ノール系抗酸化剤と併用することで相乗効果が得られる
ので使用することが好ましく、また、ハイドロタルサイ
トは、触媒を失活させ、ポリオレフィンの熱安定性を改
善する効果が得られるので使用することが好ましい。
【００３２】ポリオレフィンに使用される添加剤の好ま
しい使用量の範囲は、効果が発現する量から添加効果の
向上が見られなくなる範囲である。ポリオレフィン１０
０質量部に対する各添加剤の使用量は、無機充填剤が
０．０１〜１５質量部、フェノール系抗酸化剤が０．０
１〜５質量部であり、必要に応じて用いられるその他の
添加剤については、使用する場合は、それぞれ０．００
１〜１５質量部である。必要に応じて用いられるその他
の添加剤の中で、使用するのが好ましいものとして例示
したリン系抗酸化剤及びハイドロタルサイト化合物につ
いては、０．００１〜５質量部である。
しい使用量の範囲は、効果が発現する量から添加効果の
向上が見られなくなる範囲である。ポリオレフィン１０
０質量部に対する各添加剤の使用量は、無機充填剤が
０．０１〜１５質量部、フェノール系抗酸化剤が０．０
１〜５質量部であり、必要に応じて用いられるその他の
添加剤については、使用する場合は、それぞれ０．００
１〜１５質量部である。必要に応じて用いられるその他
の添加剤の中で、使用するのが好ましいものとして例示
したリン系抗酸化剤及びハイドロタルサイト化合物につ
いては、０．００１〜５質量部である。
【００３３】本発明のポリオレフィン用顆粒状複合添加
剤中の各構成成分原料の配合は、該ポリオレフィン用顆
粒状複合添加剤に必要な機械的強度を与えかつ上記のポ
リオレフィンに対する好ましい使用量に対応する範囲で
ある。これについては、無機充填剤３０質量部に対し、
フェノール系抗酸化剤は１〜３０質量部であり、好まし
くは５〜２０質量部である。また、必要に応じて用いら
れるその他の添加剤については、１０成分以上の使用
は、通常行われることはなくまた添加量が大きくなると
顆粒の機械的強度を損なうことになるので無機充填剤３
０質量部に対して、０〜５００質量部であり、１００質
量部以下が好ましい。また、前記の如く、リン系抗酸化
剤及び／又はハイドロタルサイト化合物を用いることが
好ましい。この場合のリン系抗酸化剤は、無機充填剤３
０質量部に対し１〜３０質量部、ハイドロタルサイト化
合物は、０．５〜１０質量部が好ましい範囲である。
剤中の各構成成分原料の配合は、該ポリオレフィン用顆
粒状複合添加剤に必要な機械的強度を与えかつ上記のポ
リオレフィンに対する好ましい使用量に対応する範囲で
ある。これについては、無機充填剤３０質量部に対し、
フェノール系抗酸化剤は１〜３０質量部であり、好まし
くは５〜２０質量部である。また、必要に応じて用いら
れるその他の添加剤については、１０成分以上の使用
は、通常行われることはなくまた添加量が大きくなると
顆粒の機械的強度を損なうことになるので無機充填剤３
０質量部に対して、０〜５００質量部であり、１００質
量部以下が好ましい。また、前記の如く、リン系抗酸化
剤及び／又はハイドロタルサイト化合物を用いることが
好ましい。この場合のリン系抗酸化剤は、無機充填剤３
０質量部に対し１〜３０質量部、ハイドロタルサイト化
合物は、０．５〜１０質量部が好ましい範囲である。
【００３４】上記より、本発明におけるポリオレフィン
用顆粒状複合添加剤の中の無機充填剤の割合は、４．６
２〜７３．２質量％であるが、得られる顆粒の強度と機
能のバランスがよいので、５〜６０質量％が好ましく、
１０〜５０質量％がより好ましい。
用顆粒状複合添加剤の中の無機充填剤の割合は、４．６
２〜７３．２質量％であるが、得られる顆粒の強度と機
能のバランスがよいので、５〜６０質量％が好ましく、
１０〜５０質量％がより好ましい。
【００３５】本発明に係る粉化促進試験による粉化率
は、顆粒状複合添加剤を振とう機を用いて振とうして、
１６メッシュのふるいを通過する粒子の割合を質量比で
表したものである。１６メッシュのふるいを通過する粒
子は、浮遊粉塵となり、作業安全性を低下させるもので
あるので、この値が１．０％以下であることが好まし
い。
は、顆粒状複合添加剤を振とう機を用いて振とうして、
１６メッシュのふるいを通過する粒子の割合を質量比で
表したものである。１６メッシュのふるいを通過する粒
子は、浮遊粉塵となり、作業安全性を低下させるもので
あるので、この値が１．０％以下であることが好まし
い。
【００３６】本発明の上記のポリオレフィン用顆粒状複
合添加剤の製造方法とは、前記の粉末シリカ等の無機充
填剤とフェノール系抗酸化剤、ポリプロピレン及び必要
に応じて任意で含まれる他の添加剤を混合した混合物を
１５０℃〜２７０℃で造粒する方法である。造粒時の温
度が１５０℃より低いと得られる顆粒の機械的強度が不
足し、上記の粉化率が悪化し、２７０℃より大きいと流
動性が大きくなり造粒が困難になる。
合添加剤の製造方法とは、前記の粉末シリカ等の無機充
填剤とフェノール系抗酸化剤、ポリプロピレン及び必要
に応じて任意で含まれる他の添加剤を混合した混合物を
１５０℃〜２７０℃で造粒する方法である。造粒時の温
度が１５０℃より低いと得られる顆粒の機械的強度が不
足し、上記の粉化率が悪化し、２７０℃より大きいと流
動性が大きくなり造粒が困難になる。
【００３７】また、成形方法及び成形装置等については
何ら限定されることなく、周知一般の方法、成形装置を
使用することができる。製造方法としては、ディスクペ
レッター法、押出法が一般的であり、製造された顆粒状
複合添加剤の強度が特に良好なので押出法がより好まし
い。
何ら限定されることなく、周知一般の方法、成形装置を
使用することができる。製造方法としては、ディスクペ
レッター法、押出法が一般的であり、製造された顆粒状
複合添加剤の強度が特に良好なので押出法がより好まし
い。
【００３８】本発明に係るポリオレフィン用顆粒状複合
添加剤が添加使用されるポリオレフィンについて、その
種類は、何ら限定されることなく、周知一般のものを使
用することができる。例えば、低密度ポリエチレン、直
鎖状低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリ１−ブテン、ポリ３−メチル−１−ブテ
ン、プロピレン／エチレンブロック又はランダム共重合
体等のα−オレフィン重合体等が挙げられる。その中
で、著しい添加効果を得られることからポリプロピレ
ン、エチレン／プロピレンブロック又はランダム共重合
体が特に好ましい。
添加剤が添加使用されるポリオレフィンについて、その
種類は、何ら限定されることなく、周知一般のものを使
用することができる。例えば、低密度ポリエチレン、直
鎖状低密度ポリエチレン、高密度ポリエチレン、ポリプ
ロピレン、ポリ１−ブテン、ポリ３−メチル−１−ブテ
ン、プロピレン／エチレンブロック又はランダム共重合
体等のα−オレフィン重合体等が挙げられる。その中
で、著しい添加効果を得られることからポリプロピレ
ン、エチレン／プロピレンブロック又はランダム共重合
体が特に好ましい。
【００３９】また、上記ポリオレフィンの用途として
は、バンパー、ダッシュボード、インパネ等自動車用樹
脂部品、冷蔵庫、洗濯機、掃除機等家電製品用樹脂部
品、食器、バケツ、入浴用品等の家庭用品、玩具等の雑
貨品、タンク類等の貯蔵、保存用容器等の成形品や、フ
ィルム、繊維等が挙げられる。
は、バンパー、ダッシュボード、インパネ等自動車用樹
脂部品、冷蔵庫、洗濯機、掃除機等家電製品用樹脂部
品、食器、バケツ、入浴用品等の家庭用品、玩具等の雑
貨品、タンク類等の貯蔵、保存用容器等の成形品や、フ
ィルム、繊維等が挙げられる。
【００４０】
【実施例】以下、製造実施例、製造比較例、評価例、実
施例及び比較例をもって本発明を更に詳細に説明する。
しかしながら、本発明は以下の製造実施例、製造比較
例、評価例、実施例によって何ら制限を受けるものでは
ない。尚、試験試料及び比較試料の製造は、混練押出機
（株式会社池貝製ＰＣＭ４６型）、ダイス（孔径２．５
ｍｍ、孔数１６）、ホットカット方式の装置を用いた。
ペレットのサイズは直径２．５ｍｍ、長さ５〜７ｍｍで
ある。
施例及び比較例をもって本発明を更に詳細に説明する。
しかしながら、本発明は以下の製造実施例、製造比較
例、評価例、実施例によって何ら制限を受けるものでは
ない。尚、試験試料及び比較試料の製造は、混練押出機
（株式会社池貝製ＰＣＭ４６型）、ダイス（孔径２．５
ｍｍ、孔数１６）、ホットカット方式の装置を用いた。
ペレットのサイズは直径２．５ｍｍ、長さ５〜７ｍｍで
ある。
【００４１】（製造実施例１）試験試料Ａ−１の製造 無機充填剤：非晶質シリカ粉末；３０質量部、フェノー
ル系抗酸化剤：テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン；１０質量部、ポリプロピレンパウダー；３
０質量部の配合により、シリンダー温度設定；末端部導
入部８０℃、中央部１４０℃、末端部１６５℃、押出ス
クリュー回転数；６０ｒｐｍ、押出量１７．０ｋｇ/Ｈ
ｒでペレットを製造した。
ル系抗酸化剤：テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン；１０質量部、ポリプロピレンパウダー；３
０質量部の配合により、シリンダー温度設定；末端部導
入部８０℃、中央部１４０℃、末端部１６５℃、押出ス
クリュー回転数；６０ｒｐｍ、押出量１７．０ｋｇ/Ｈ
ｒでペレットを製造した。
【００４２】（製造実施例２）試験試料Ａ−２の製造 上記製造実施例１と同じ配合により、シリンダー温度設
定；末端部導入部８０℃中央部２００℃、末端部１６５
℃、押出スクリュー回転数；６０ｒｐｍ、押出量１７．
４ｋｇ/Ｈｒでペレットを製造した。
定；末端部導入部８０℃中央部２００℃、末端部１６５
℃、押出スクリュー回転数；６０ｒｐｍ、押出量１７．
４ｋｇ/Ｈｒでペレットを製造した。
【００４３】（製造実施例３）試験試料Ａ−３の製造 上記製造実施例１と同じ配合により、シリンダー温度設
定；末端部導入部８０℃中央部２５０℃、末端部２００
℃、押出スクリュー回転数；６０ｒｐｍ、押出量１９．
０ｋｇ/Ｈｒでペレットを製造した。
定；末端部導入部８０℃中央部２５０℃、末端部２００
℃、押出スクリュー回転数；６０ｒｐｍ、押出量１９．
０ｋｇ/Ｈｒでペレットを製造した。
【００４４】（製造実施例４）試験試料Ｂの製造 無機充填剤：非晶質シリカ粉末；３０質量部、フェノー
ル系抗酸化剤：テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン；１０質量部、ポリプロピレンパウダー；３
０質量部、ハイドロタルサイト化合物：ＤＨＴ−４Ａ
（協和化学株式会社製）２質量部の配合により、シリン
ダー温度設定；導入部８０℃、中央部１４０℃、末端部
１６５℃、押出スクリュー回転数；６０ｒｐｍ、押出量
１７．０ｋｇ/Ｈｒでペレットを製造した。
ル系抗酸化剤：テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン；１０質量部、ポリプロピレンパウダー；３
０質量部、ハイドロタルサイト化合物：ＤＨＴ−４Ａ
（協和化学株式会社製）２質量部の配合により、シリン
ダー温度設定；導入部８０℃、中央部１４０℃、末端部
１６５℃、押出スクリュー回転数；６０ｒｐｍ、押出量
１７．０ｋｇ/Ｈｒでペレットを製造した。
【００４５】（製造実施例５）試験試料Ｃの製造 無機充填剤：非晶質シリカ粉末；３０質量部、フェノー
ル系抗酸化剤：テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン；１０質量部、ポリプロピレンパウダー；３
０質量部、リン系抗酸化剤：２，２'−メチレンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイ
ト；１０質量部の配合により、シリンダー温度設定；導
入部８０℃、中央部１４０℃、末端部１６５℃、押出ス
クリュー回転数；６０ｒｐｍ、押出量１７．０ｋｇ/Ｈ
ｒでペレットを製造した。
ル系抗酸化剤：テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン；１０質量部、ポリプロピレンパウダー；３
０質量部、リン系抗酸化剤：２，２'−メチレンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイ
ト；１０質量部の配合により、シリンダー温度設定；導
入部８０℃、中央部１４０℃、末端部１６５℃、押出ス
クリュー回転数；６０ｒｐｍ、押出量１７．０ｋｇ/Ｈ
ｒでペレットを製造した。
【００４６】（製造実施例６）試験試料Ｄの製造 無機充填剤：非晶質シリカ粉末；３０質量部、フェノー
ル系抗酸化剤：テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン；１０質量部、ポリプロピレンパウダー；３
０質量部、リン系抗酸化剤：２，２'−メチレンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイ
ト；１０質量部、ハイドロタルサイト化合物：ＤＨＴ−
４Ａ（協和化学株式会社製）２質量部の配合により、シ
リンダー温度設定；導入部８０℃、中央部１４０℃、末
端部１６５℃、押出スクリュー回転数；６０ｒｐｍ、押
出量１７．０ｋｇ/Ｈｒでペレットを製造した。
ル系抗酸化剤：テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン；１０質量部、ポリプロピレンパウダー；３
０質量部、リン系抗酸化剤：２，２'−メチレンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイ
ト；１０質量部、ハイドロタルサイト化合物：ＤＨＴ−
４Ａ（協和化学株式会社製）２質量部の配合により、シ
リンダー温度設定；導入部８０℃、中央部１４０℃、末
端部１６５℃、押出スクリュー回転数；６０ｒｐｍ、押
出量１７．０ｋｇ/Ｈｒでペレットを製造した。
【００４７】（製造実施例７）試験試料Ｅの製造 無機充填剤：非晶質シリカ粉末；３０質量部、フェノー
ル系抗酸化剤：テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン；１０質量部、ポリプロピレンパウダー；３
０質量部、リン系抗酸化剤：２，２'−メチレンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイ
ト；１０質量部、ハイドロタルサイト化合物：ＤＨＴ−
４Ａ（協和化学株式会社製）２質量部、滑剤：ジグリセ
リンモノステアレート；５質量部の配合により、シリン
ダー温度設定；導入部８０℃、中央部１４０℃、末端部
１６５℃、押出スクリュー回転数；６０ｒｐｍ、押出量
１７．０ｋｇ/Ｈｒでペレットを製造した。
ル系抗酸化剤：テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチ
ル］メタン；１０質量部、ポリプロピレンパウダー；３
０質量部、リン系抗酸化剤：２，２'−メチレンビス
（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイ
ト；１０質量部、ハイドロタルサイト化合物：ＤＨＴ−
４Ａ（協和化学株式会社製）２質量部、滑剤：ジグリセ
リンモノステアレート；５質量部の配合により、シリン
ダー温度設定；導入部８０℃、中央部１４０℃、末端部
１６５℃、押出スクリュー回転数；６０ｒｐｍ、押出量
１７．０ｋｇ/Ｈｒでペレットを製造した。
【００４８】（製造実施例８）試験試料Ｆの製造 無機充填剤：タルク；３０質量部、フェノール系抗酸化
剤：テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタ
ン；１０質量部、ポリプロピレンパウダー；３０質量
部、リン系抗酸化剤：、リン系抗酸化剤：２，２'−メ
チレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチル
ホスファイト；１０質量部、ハイドロタルサイト化合
物：ＤＨＴ−４Ａ（協和化学株式会社製）２質量部、滑
剤：ジグリセリンモノステアレート；５質量部の配合に
より、シリンダー温度設定；導入部８０℃、中央部１４
０℃、末端部１６５℃、押出スクリュー回転数；６０ｒ
ｐｍ、押出量１７．０ｋｇ/Ｈｒでペレットを製造し
た。
剤：テトラキス［３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロピオニルオキシメチル］メタ
ン；１０質量部、ポリプロピレンパウダー；３０質量
部、リン系抗酸化剤：、リン系抗酸化剤：２，２'−メ
チレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクチル
ホスファイト；１０質量部、ハイドロタルサイト化合
物：ＤＨＴ−４Ａ（協和化学株式会社製）２質量部、滑
剤：ジグリセリンモノステアレート；５質量部の配合に
より、シリンダー温度設定；導入部８０℃、中央部１４
０℃、末端部１６５℃、押出スクリュー回転数；６０ｒ
ｐｍ、押出量１７．０ｋｇ/Ｈｒでペレットを製造し
た。
【００４９】（製造実施例９）試験試料Ｇの製造 無機充填剤：非晶質シリカ１５質量部、タルク１５質量
部、フェノール系抗酸化剤：テトラキス［３−（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ルオキシメチル］メタン；１０質量部、ポリプロピレン
パウダー；３０質量部、リン系抗酸化剤：トリス（２，
４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト；１０質量
部、ハイドロタルサイト化合物：ＤＨＴ−４Ａ（協和化
学株式会社製）２質量部、滑剤：ジグリセリンモノステ
アレート；２．５質量部、帯電防止剤；エレクトロスト
リッパーＥＡ（株式会社花王製）；２．５質量部の配合
により、シリンダー温度設定；末端部導入部１００℃、
中央部１８０℃、末端部１６５℃、押出スクリュー回転
数；６０ｒｐｍ、押出量１７．０ｋｇ/Ｈｒでペレット
を製造した。
部、フェノール系抗酸化剤：テトラキス［３−（３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニ
ルオキシメチル］メタン；１０質量部、ポリプロピレン
パウダー；３０質量部、リン系抗酸化剤：トリス（２，
４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト；１０質量
部、ハイドロタルサイト化合物：ＤＨＴ−４Ａ（協和化
学株式会社製）２質量部、滑剤：ジグリセリンモノステ
アレート；２．５質量部、帯電防止剤；エレクトロスト
リッパーＥＡ（株式会社花王製）；２．５質量部の配合
により、シリンダー温度設定；末端部導入部１００℃、
中央部１８０℃、末端部１６５℃、押出スクリュー回転
数；６０ｒｐｍ、押出量１７．０ｋｇ/Ｈｒでペレット
を製造した。
【００５０】（製造比較例１）比較試料ａの製造 上記の製造実施例１について、これからポリプロピレン
パウダーを除いた配合により、配合以外の同一の条件
で、比較試料ａを製造した。
パウダーを除いた配合により、配合以外の同一の条件
で、比較試料ａを製造した。
【００５１】（製造比較例２）比較試料１、２の製造 上記の製造実施例７から無機充填剤を除いた配合により
比較試料１を、製造実施例８から無機充填剤を除いた配
合により比較試料２を製造した。
比較試料１を、製造実施例８から無機充填剤を除いた配
合により比較試料２を製造した。
【００５２】（評価例１）上記で得られた試験試料Ａ−
１、比較試料ａの破断面について電子顕微鏡及びＥＤＳ
(Energy Dispersive Spectroscopy)分析、ＥＥＬＳ（El
ectron Energy Loss Spectroscopy）分析により均一性
を評価した。破断面の電子顕微鏡写真および組成分析ポ
イントを図１〜２に示す。また結果を表１に示す。
１、比較試料ａの破断面について電子顕微鏡及びＥＤＳ
(Energy Dispersive Spectroscopy)分析、ＥＥＬＳ（El
ectron Energy Loss Spectroscopy）分析により均一性
を評価した。破断面の電子顕微鏡写真および組成分析ポ
イントを図１〜２に示す。また結果を表１に示す。
【００５３】
【表１】
【００５４】上記表１より、本発明のポリオレフィン用
顆粒状複合添加剤は、ポリプロピレン配合の効果によ
り、均一組成を有することが確認できる。
顆粒状複合添加剤は、ポリプロピレン配合の効果によ
り、均一組成を有することが確認できる。
【００５５】（評価例２）強度（粉化率、硬度）の評価 上記で得たいくつかの試験試料及び比較試料について粉
化率（５００ｍｌポリ容器に１６メッシュのふるいを通
過しない試料を１００ｇ入れ、振幅４０ｍｍ、振とう速
度３００サイクル／分で４時間振とうした後、１６メッ
シュのふるいを通過した質量％）、強度（木屋式硬度
計）の評価を行った。結果を表２に示す。
化率（５００ｍｌポリ容器に１６メッシュのふるいを通
過しない試料を１００ｇ入れ、振幅４０ｍｍ、振とう速
度３００サイクル／分で４時間振とうした後、１６メッ
シュのふるいを通過した質量％）、強度（木屋式硬度
計）の評価を行った。結果を表２に示す。
【００５６】
【表２】
【００５７】上記表２より、本発明のポリオレフィン用
顆粒状複合添加剤は粉化率が０．５％以下、硬度が２０
Ｎ以上であり、良好な機械的強度を有し、ノンダスト化
に適したものであることが確認できる。
顆粒状複合添加剤は粉化率が０．５％以下、硬度が２０
Ｎ以上であり、良好な機械的強度を有し、ノンダスト化
に適したものであることが確認できる。
【００５８】（評価例３）表３〜４に記載の配合よる組
成物をヘンシェルミキサーで５分間混合し、２５０℃、
２５ｒｐｍの条件で押出加工してペレットを製造した。
これを２５０℃で射出成形して得た厚さ４ｍｍの試験片
について、曲げ弾性率（ＡＳＴＭ Ｄ−７９０）を評価
した。また、この組成物を２８０℃で繰り返し押出加工
してペレットを作製し、得られた１回目と５回目のペレ
ットを２５０℃で射出成形して厚さ２ｍｍの試験片を作
製し、その色調（黄色度）をハンター比色計で測定し
（表中Ｙ１、Ｙ５）着色防止性を評価した。Ｙ１は初期
着色防止性を表し、Ｙ５／Ｙ１は着色防止効果持続性を
表す。これらの値が小さいほど着色防止性に優れる。
尚、比較例１〜２は、ポリプロピレンに配合する試料を
表３に示すものに変え、全体の組成としては、実施例１
と成分及び配合について実質上同一であり、比較例３
は、実施例１から無機充填剤を除いた組成である。ま
た、同様に比較例５〜６は、実施例２と成分及び配合に
ついて実質上同一であり、比較例７は、実施例２から無
機充填剤を除いた組成である。
成物をヘンシェルミキサーで５分間混合し、２５０℃、
２５ｒｐｍの条件で押出加工してペレットを製造した。
これを２５０℃で射出成形して得た厚さ４ｍｍの試験片
について、曲げ弾性率（ＡＳＴＭ Ｄ−７９０）を評価
した。また、この組成物を２８０℃で繰り返し押出加工
してペレットを作製し、得られた１回目と５回目のペレ
ットを２５０℃で射出成形して厚さ２ｍｍの試験片を作
製し、その色調（黄色度）をハンター比色計で測定し
（表中Ｙ１、Ｙ５）着色防止性を評価した。Ｙ１は初期
着色防止性を表し、Ｙ５／Ｙ１は着色防止効果持続性を
表す。これらの値が小さいほど着色防止性に優れる。
尚、比較例１〜２は、ポリプロピレンに配合する試料を
表３に示すものに変え、全体の組成としては、実施例１
と成分及び配合について実質上同一であり、比較例３
は、実施例１から無機充填剤を除いた組成である。ま
た、同様に比較例５〜６は、実施例２と成分及び配合に
ついて実質上同一であり、比較例７は、実施例２から無
機充填剤を除いた組成である。
【００５９】
【表３】
【００６０】
【表４】
【００６１】上記表３〜４より、本発明の顆粒状複合添
加剤がポリオレフィンに対して、各添加剤を個別に加え
た場合と同様もしくはそれ以上に添加効果の向上を与え
ることが確認できる。しかも添加剤のワンパック化によ
り、浮遊粉塵を無くし、配合と均一混合の手間を低減す
ることができた。
加剤がポリオレフィンに対して、各添加剤を個別に加え
た場合と同様もしくはそれ以上に添加効果の向上を与え
ることが確認できる。しかも添加剤のワンパック化によ
り、浮遊粉塵を無くし、配合と均一混合の手間を低減す
ることができた。
【００６２】
【発明の効果】本発明により、添加剤のノンダスト、ワ
ンパック化に対応した強度及び機能を有するポリオレフ
ィン用顆粒状複合添加剤を供給できる。
ンパック化に対応した強度及び機能を有するポリオレフ
ィン用顆粒状複合添加剤を供給できる。
【図１】試験試料Ａ−１の破断面 ポイント及びは、組成分析を行った箇所を示す。
【図２】試験試料ａの破断面 ポイント及びは、組成分析を行った箇所を示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 竹内 孝 埼玉県浦和市白幡５丁目２番13号 旭電化 工業株式会社内 (72)発明者 大 直子 埼玉県浦和市白幡５丁目２番13号 旭電化 工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4J002 BB121 BB141 BB151 BP001 DA016 DE076 DE086 DE136 DE146 DE186 DE236 DE288 DG026 DG046 DG056 DJ006 DJ016 DJ026 DJ036 DJ046 DJ056 DL006 EJ017 EJ027 EJ037 EU197 EV047 EW067 FA046 FD016 FD018 FD040 FD050 FD077 FD200 GT00
Claims (7)
- 【請求項１】 無機充填剤３０質量部、フェノール系抗
酸化剤１〜３０質量部、ポリプロピレン１０〜９０質量
部、及び随意成分として一種類以上の他の添加剤成分０
〜５００質量部を含有してなるポリオレフィン用顆粒状
複合添加剤。 - 【請求項２】 無機充填剤が粉末状シリカ及び／又はタ
ルクである請求項１に記載のポリオレフィン用顆粒状複
合添加剤。 - 【請求項３】 フェノール系抗酸化剤がテトラキス［３
−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオニルオキシメチル］メタンである請求項１又は
２に記載のポリオレフィン用顆粒状複合添加剤。 - 【請求項４】 一種類以上の他の添加剤成分中に１〜３
０質量部のリン系抗酸化剤が含まれる請求項１〜３のい
ずれかに記載のポリオレフィン用顆粒状複合添加剤。 - 【請求項５】 一種類以上の他の添加剤成分中に０．５
〜１０質量部のハイドロタルサイト化合物が含まれる請
求項１〜４のいずれかに記載のポリオレフィン用顆粒状
複合添加剤。 - 【請求項６】 振とう機による粉化促進試験において、
１６メッシュのふるいを通過する粒子の質量比（粉化
率）が１．０％以下である請求項１〜５のいずれかに記
載のポリオレフィン用顆粒状複合添加剤。 - 【請求項７】 構成成分原料を１５０℃〜２７０℃の温
度で造粒することを特徴とした請求項１〜６のいずれか
に記載のポリオレフィン用顆粒状複合添加剤の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001077608A JP4662218B2 (ja) | 2001-03-19 | 2001-03-19 | ポリオレフィン用顆粒状複合添加剤及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001077608A JP4662218B2 (ja) | 2001-03-19 | 2001-03-19 | ポリオレフィン用顆粒状複合添加剤及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002275326A true JP2002275326A (ja) | 2002-09-25 |
| JP4662218B2 JP4662218B2 (ja) | 2011-03-30 |
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ID=18934338
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001077608A Expired - Fee Related JP4662218B2 (ja) | 2001-03-19 | 2001-03-19 | ポリオレフィン用顆粒状複合添加剤及びその製造方法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP4662218B2 (ja) |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JPS58145744A (ja) * | 1982-02-08 | 1983-08-30 | サンド・アクチエンゲゼルシヤフト | 充填剤入りポリオレフィン組成物 |
| JPS6436633A (en) * | 1987-07-31 | 1989-02-07 | Adeka Argus Chemical Co Ltd | Stabilized polyolefin resin composition |
| JPH04363345A (ja) * | 1991-06-11 | 1992-12-16 | Asahi Denka Kogyo Kk | ポリオレフィン系樹脂組成物 |
| JPH08333477A (ja) * | 1994-12-28 | 1996-12-17 | Ciba Geigy Ag | プラスチック添加剤の低粉塵性グラニュール |
| JPH10101809A (ja) * | 1996-09-27 | 1998-04-21 | Zeon Kasei Co Ltd | 有機過酸化物含有マスターバッチ及びゴム組成物 |
| JP2003524024A (ja) * | 2000-07-03 | 2003-08-12 | アクゾ ノーベル ナムローゼ フェンノートシャップ | 高濃度架橋マスターバッチ |
| JP4530308B2 (ja) * | 1999-10-26 | 2010-08-25 | 株式会社Ａｄｅｋａ | 顆粒状ポリオレフィン用複合添加剤及びその製造方法 |
-
2001
- 2001-03-19 JP JP2001077608A patent/JP4662218B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2003524024A (ja) * | 2000-07-03 | 2003-08-12 | アクゾ ノーベル ナムローゼ フェンノートシャップ | 高濃度架橋マスターバッチ |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4662218B2 (ja) | 2011-03-30 |
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