JPH08333477A - プラスチック添加剤の低粉塵性グラニュール - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】粉立ちがなく、流動性や耐磨耗性に優れ、長い
保存寿命を有するプラスチック添加剤のグラニュールの
提供。 【解決手段】含水量が２％未満であるステアリン酸カル
シウムを少なくとも１０重量％含有し、１ｍｍないし１
０ｍｍのＩＳＯ３４３５に準拠する粒度分布、４００ｇ
／ｌより大きいルーズ嵩密度および１５ｓ（ｔＲ２５）
未満のＤＩＮ５３４９２に準拠する流動性を有するプラ
スチック添加剤の低粉塵性グラニュール、その製法およ
び有機ポリマー（ポリエチレン，ポリプロピレン等）の
安定化のための上記グラニュールの使用方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はステアリン酸カルシ
ウムを含有するプラスチック添加剤の低粉塵性グラニュ
ール、該グラニュールの製造方法およびプラスチックの
安定化のために上記グラニュールを使用する方法に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】有機ポリマー（プラスチック）、特にポ
リオレフィンは、加工されるため、および使用特性を長
期間保持するために添加剤の添加を一般に必要とする。
光および熱の他に、有機ポリマーを損傷させる作用はま
た、製造に使用された触媒の残留である。従来技術は添
加剤および安定剤として使用され得る非常に広範囲の物
質群を開示している。有機ポリマーへの損傷に対してそ
の全てが詳細に理解されているわけではない種々のプロ
セス（加工）のために、多数の添加剤の混合物が頻繁に
使用される。

【０００３】一般に添加剤は粉末形態にある。しかしな
がら、粉末形態にある添加剤混合物は多くの欠点、例え
ば粉立ち（ダスチング）、さらには粉体爆発、分離傾向
および計量の困難さを有する。このため、これらの欠点
のない市販形態に対する要求がある。このために、例え
ば凝集法（水性および適当であるならば分散剤を用い
る）、バインダーを用いる混合法またはペレットプレス
を用いる圧縮が記載されている。しかしながら、多くの
場合、得られる市販の形態は依然として適当な機械的特
性をもたない。市販の形態はまた、有機ポリマーへの引
き続く配合の間に問題を引き起し得るか、または特別な
手段を必要とする水またはその他のバインダーをしばし
ば含有する。それ故に、バインダーを含有しない長い保
存寿命を有する粒状添加剤混合物に対する要望がある。
重要性が増大している環境面（低い粉塵性，バインダー
を省くことによる材料節約）をも満足させるこのタイプ
の粒状材料がまた望ましい。

【０００４】この目的に対し、米国特許第５２４０６４
２号は、有機酸および無機抗酸添加剤およびテトラキス
〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシメチル〕メタンの粒状形態を得
るための方法を記載しており、該方法は溶融状態にある
後者の物質の存在下、抗酸粉末塊の全体に該物質を均一
に分散し、該塊を押出し、押出されたストランドを冷却
し、そしてグラニュールを形成することにより行われ
る。残念ながら、上記方法により得られるグラニュール
はいくつかの欠点により特徴づけられる。すなわち、上
記グラニュールは依然として、大規模工程で作業する工
業界における作業者に特に有害である相当量の粉塵を放
出し、保存や移動の間に分離しやすく、そしてそれらに
付随して計量の困難さを有する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の問題点を解決するためになされたものであり、プラス
チック添加剤の低粉塵性グラニュール、該グラニュール
の製造方法および使用方法の提供を課題とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】かなりな程度まで工業界
の要求を満足させるプラスチック添加剤のグラニュール
が、本発明に従って、プラスチック添加剤とステアリン
酸カルシウムの混合物を、ステアリン酸カルシウムの少
なくとも８０％が溶融するまで加温し、そして塑性状態
で次の成形を行うことにより驚くべきことに製造され
る。

【０００７】プラスチック添加剤の新規グラニュールは
非常に均一であり、そして優れたばら材料(bulk materi
al) 特性、特にダスト（粉塵）がないこと、流動性およ
び耐磨耗性により、および良好な保存寿命により区別さ
れる。それらは安定化されるべき有機ポリマー中に非常
に容易に計量され得、そして慣用のステアリン酸カルシ
ウムまたはステアリン酸カルシウム粉末混合物に比べ熱
的に良好な融解挙動を有する。

【０００８】従って、本発明は、含水量が２％未満であ
るステアリン酸カルシウムを少なくとも１０重量％含有
し、１ｍｍないし１０ｍｍのＩＳＯ３４３５に準拠する
粒度分布、４００ｇ／ｌより大きいルーズ嵩密度および
１５ｓ（ｔＲ２５）未満のＤＩＮ５３４９２に準拠する
流動性を有するプラスチック添加剤の低粉塵性グラニュ
ールに関する。

【０００９】本発明の目的のために、「低粉塵性グラニ
ュール(low-dust granule)」という用語は、ホイバッハ
試験(Heubach test)における粉塵（ダスト）発生が０．
１５重量％未満（５分後）であるグラニュール（粒体）
を意味すると理解される。明細書の以下の記載におい
て、「新規グラニュール」という用語は上で定義された
低粉塵性グラニュールを意味すると理解される。

【００１０】本発明の目的のために、ステアリン酸カル
シウムは市販の脂肪酸混合物とカルシウム化合物との反
応生成物を意味すると理解される。市販の脂肪酸混合物
は主成分のステアリン酸としばしばパルミチン酸を有す
る炭素原子数１４ないし２０の脂肪酸の混合物、例えば
ステアリン酸約６７％とパルミチン酸３３％からなる。
本発明によれば、ステアリン酸カルシウムは低含量の結
晶水を有し、すなわち、それは実質的に不定形である。
周囲の影響（例えば保存条件）および熱履歴に応じ、ス
テアリン酸カルシウムの全体の含水量およびステアリン
酸カルシウム成分は変化し得るが、好ましくは１％未満
である。

【００１１】好ましい態様において、新規グラニュール
はステアリン酸カルシウムを少なくとも２０重量％、そ
して特に好ましくは少なくとも３０重量％または１００
重量％含有する。

【００１２】新規グラニュールのＩＳＯ３４３５に従っ
て規定される粒度分布は好ましくは１ｍｍないし６ｍ
ｍ、特に好ましくは２ｍｍないし６ｍｍである。

【００１３】ルーズ嵩密度(loose bulk density)は好ま
しくは５００ｇ／ｌより大きいが、それは混合物全体の
密度に依存し、そしてその密度がステアリン酸カルシウ
ムの密度と大きく異なる混合物においては、より大きく
ても、より小さくてもよい。それ故に、上記の数値は、
当該密度のステアリン酸カルシウムの密度との相違が１
０％以内である混合物に適用される。もし混合物の密度
がより大きく異なるならば、嵩密度はステアリン酸カル
シウムの密度と混合物の密度との間の比率により与えら
れる因子（倍率）により補整されるべきである。

【００１４】本発明によれば、ＤＩＮ５３４９２に準拠
して決定される流動性は好ましくは１５ｓ（ｔＲ１５）
未満、最も好ましくは１０ｓ（ｔＲ１５）未満である。

【００１５】粉塵発生は実際条件に類似の実験設備にお
いてホイバッハ試験により決定され、その場合、試験材
料は磨耗による粉立ち傾向を決定するために作動状態に
おかれる。使用される装置はドイツ国ランゲルシャイム
のホイバッハ・エンジニアリング・ゲーエムベーハーに
より製造される。詳しくは、試験材料（試料重量５０
ｇ）は、３つの障害物がハウジング壁に対して４５°の
角度で回転方向に配置されている２．５リットルの容量
を有するダスト形成ユニット内で３０ｒｐｍ（１９ｃｍ
／秒の周速度に相当する）で動かされ、その間に０．３
２リットル／秒の空気流がフィルター上に微粉成分を堆
積させる。本発明によれば、この方法で決定される微粉
含量は好ましくは０．１重量％を越えない。

【００１６】本発明に従ってグラニュール中に存在し得
るその他のプラスチック添加剤はそれ自体公知であり、
単独であるか、または種々の組合せである。以下に記載
される多くのプラスチック添加剤は市販のものが利用可
能である。その他のプラスチック添加剤は公知方法およ
び標準的条件で製造され得、固体（例えば粉末またはグ
ラニュール）、溶融体（例えば合成から直接）または液
体の形態である。

【００１７】本発明はさらに、少なくとも１０重量％
で、１００重量％までのステアリン酸カルシウムを含有
するプラスチック添加剤の混合物を、ステアリン酸カル
シウムの少なくとも８０重量％が溶融するまで加温し、
ノズルまたはホールの直径が１ないし１０ｍｍであるノ
ズルまたはホールを備えたプレートを介して混合物を押
し進め、そして得られた押出物を塑性状態において切断
してグラニュールを得ることからなるプラスチック添加
剤のグラニュールの製造方法に関する。「塑性状態」と
いう用語は未だ凝固していないストランドを意味し、該
ストランドは軟質状態にあり、そして粘度に関し、スト
ランドは一般に１ないし５０００００Ｐａ・ｓ、好まし
くは１ないし１０００００Ｐａ・ｓの範囲の粘度を有す
る。ノズルまたはホールの直径は好ましくは２ないし６
ｍｍである。

【００１８】プラスチック添加剤（またはステアリン酸
カルシウム）は一軸または二軸スクリュー押出機内で溶
融されるのが有利であり、そのような押出機はプラスチ
ック加工業界において公知であり、そして例えばバス
（スイス）、ブラベンダー（ドイツ）、ベルナー・ウン
ト・プフライデラー（ドイツ）またはビューラー（スイ
ス）により市販されている。本発明において、プラスチ
ック添加剤は通常固体（例えば粉末またはグラニュー
ル）として使用されるが、溶融体、水性懸濁液または少
量で液体添加剤を使用することも可能である。依然とし
て軟質状態で行われる押出物の切断の後またはその間
に、そしてノズルまたは穿孔ディスクの通過の後に、グ
ラニュール粒子は冷却される。冷却は水を用いる湿式冷
却の形態で（例えば水中，水性フィルム，水性リングそ
の他により）、または好ましくは空気を使用することに
より（例えば空気フィルム，空気渦その他）または組合
せにより行われ得る。水冷却が使用されるならば、引続
き脱水および乾燥（好ましくは流動層乾燥剤）が必要で
ある。これらの冷却法はそれらの工業的手段において公
知である。工業界において慣用の押出粒状化および破砕
工程とは異なり、粒状化は実際の冷却段階の前に塑性状
態で行われることが必須である。

【００１９】ステアリン酸カルシウム含有溶融体の製造
は単一の一定温度で通常行われずに、材料は連続プロセ
スにおける温度分布を通す。１３０℃を越えるピーク温
度がここで達成されるのが有利であり、その他の混合物
成分に応じて１５０℃を越えるピーク温度が好ましく、
そして２２０℃までのピーク温度が通常適当である。こ
れらの温度は材料の温度に対応する。

【００２０】ガス抜きをさらに含む方法がさらに好まし
い。この方法が実施される場合、上記ガス抜き設備はス
テアリン酸カルシウムが溶融される領域またはそれに続
く領域に設置されるのが好ましい。

【００２１】グラニュールは押出機を用いて製造される
のが好ましく、１３０℃を越える材料温度が押出機内の
少なくとも１点で達成される。

【００２２】本発明の方法により得られるプラスチック
添加剤グラニュールは同様に本発明の対象である。上記
の好ましい事項がここでも同様に当てはまる。

【００２３】本発明に係るグラニュールに存在し得るそ
の他のプラスチック添加剤は、立体障害性アミン（ＨＡ
ＬＳ）、立体障害性フェノール、ホスフィットまたはホ
スホニット、ハイドロタルサイト、金属酸化物、金属炭
酸塩、その他の金属セッケン、帯電防止剤、粘着防止
剤、難燃剤、チオエステル、内部滑剤および表面滑剤、
顔料、ＵＶ吸収剤およびその他の光安定剤からなる群か
ら選択される化合物であることが好ましい。グラニュー
ルはさらに追加の物質、例えば熱可塑性ポリマー（例え
ばポリオレフィンまたはポリオレフィンワックス）等を
含有し得る。

【００２４】本発明の特に好ましい態様はステアリン酸
カルシウムと立体障害性フェノールタイプの少なくとも
１種の酸化防止剤と少なくとも１種のホスフィットまた
はホスホニットの組合せである。特に好ましいのは、さ
らに、ステアリン酸カルシウムと少なくとも１個の２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン基を含有する立体
障害性アミンからなる群からの少なくとも１種の化合物
の組合せである。

【００２５】本発明のとりわけ好ましい態様はステアリ
ン酸カルシウムと立体障害性フェノールタイプの少なく
とも１種の酸化防止剤と少なくとも１種のホスフィット
またはホスホニットと少なくとも１個の２，２，６，６
−テトラメチルピペリジン基を含有する立体障害性アミ
ンからなる群からの少なくとも１種の化合物の組合せで
ある。

【００２６】立体障害性アミン、好ましくはピペリジン
化合物は主に光安定剤として公知である。これらの化合
物は次式Ｉ：

【化１】 で表される基を１個またはそれ以上含有する。これらは
比較的低い分子量（＜７００）または比較的高い分子量
の化合物であってよい。後者の場合、それらはオリゴマ
ーまたはポリマー生成物であってよい。

【００２７】特に重要な安定剤はテトラメチルピペリジ
ン化合物の以下の群である。 ａ）次式ＩＩ：

【化２】 〔式中、ｎは１ないし４、好ましくは１または２の数を
表し、Ｒ¹ は水素原子、オキシル基、炭素原子数１ない
し１２のアルキル基、炭素原子数３ないし８のアルケニ
ル基、炭素原子数３ないし８のアルキニル基、炭素原子
数７ないし１２のアルアルキル基、炭素原子数１ないし
８のアルカノイル基、炭素原子数３ないし５のアルケノ
イル基、グリシジル基または次式：−ＣＨ₂ ＣＨ（Ｏ
Ｈ）−Ｚ（式中、Ｚは水素原子、メチル基またはフェニ
ル基を表す）で表される基を表し、Ｒ¹ は好ましくは炭
素原子数１ないし４のアルキル基、アリル基、ベンジル
基、アセチル基またはアクリロイル基を表し、ｎが１の
場合、Ｒ² は水素原子、１もしくはそれ以上の酸素原子
により中断されてもよい炭素原子数１ないし１８のアル
キル基、シアノエチル基、ベンジル基、グリシジル基、
脂肪族、環状脂肪族、芳香脂肪族、不飽和もしくは芳香
族カルボン酸、カルバミン酸またはリン含有酸の１価の
基、または１価のシリル基、好ましくは炭素原子数２な
いし１８の脂肪族カルボン酸、炭素原子数７ないし１５
の環状脂肪族カルボン酸、炭素原子数３ないし５のα，
β−不飽和カルボン酸もしくは炭素原子数７ないし１５
の芳香族カルボン酸の基を表し、ｎが２の場合、Ｒ² は
炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数４
ないし１２のアルケニレン基、キシリレン基、脂肪族、
環状脂肪族、芳香脂肪族もしくは芳香族ジカルボン酸、
ジカルバミン酸またはリン含有酸の２価の基、または２
価のシリル基、好ましくは炭素原子数２ないし３６の脂
肪族ジカルボン酸、炭素原子数８ないし１４の環状脂肪
族もしくは芳香族ジカルボン酸、または炭素原子数８な
いし１４の脂肪族、環状脂肪族もしくは芳香族ジカルバ
ミン酸の基を表し、ｎが３の場合、Ｒ² は脂肪族、環状
脂肪族もしくは芳香族トリカルボン酸、芳香族トリカル
バミン酸、またはリン含有酸の３価の基、または３価の
シリル基を表し、そしてｎが４の場合、Ｒ² は脂肪族、
環状脂肪族または芳香族テトラカルボン酸の４価の基を
表す〕で表される化合物。

【００２８】あらゆる炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル置換基は例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、ｎ−
ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、
ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基または
ｎ−ドデシル基である。

【００２９】炭素原子数１ないし１８のアルキル基Ｒ²
は、例えば上に挙げた基、そしてさらに例えばｎ−トリ
デシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサデシル基ま
たはｎ−オクタデシル基であってよい。炭素原子数３な
いし８のアルケニル基Ｒ¹ は例えば１−プロペニル基、
アリル基、メタリル基、２−ブテニル基、２−ペンテニ
ル基、２−ヘキセニル基、２−オクテニル基または４−
第三ブチル−２−ブテニル基であってよい。炭素原子数
３ないし８のアルキニル基Ｒ¹ は好ましくはプロパルギ
ル基である。炭素原子数７ないし１２のアルアルキル基
Ｒ¹ は、特にフェネチル基であり、とりわけベンジル基
である。炭素原子数１ないし８のアルカノイル基Ｒ
¹ は、例えばホルミル基、プロピオニル基、ブチリル
基、オクタノイル基であるが、好ましくはアセチル基で
あり、そして炭素原子数３ないし５のアルケノイル基Ｒ
¹ は特にアクリロイル基である。

【００３０】Ｒ² がカルボン酸の１価の基であるなら
ば、それは例えばアセチル基、カプロイル基、ステアロ
イル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、ベンゾイ
ル基またはβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオニル基である。Ｒ² がジカルボン
酸の２価の基であるならば、それは例えばマロニル基、
スクシニル基、グルタリル基、アジポイル基、スベロイ
ル基、セバコイル基、マレオイル基、フタロイル基、ジ
ブチルマロニル基、ジベンジルマロニル基、ブチル
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マ
ロニル基またはビシクロヘプテンジカルボニル基であ
る。Ｒ² がトリカルボン酸の３価の基であるならば、そ
れは例えばトリメリチル基またはニトリロトリアセチル
基である。Ｒ² がテトラカルボン酸の４価の基であるな
らば、それは例えばブタン−１，２，３，４−テトラカ
ルボン酸またはピロメリット酸の４価の基である。Ｒ²
がジカルバミン酸の２価の基であるならば、それは例え
ばヘキサメチレンジカルバモイル基または２，４−トリ
レンジカルバモイル基である。

【００３１】この群のポリアルキルピペリジン化合物の
例は以下の化合物である： １）４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジン、 ２）１−アリル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テ
トラメチルピペリジン、 ３）１−ベンジル−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−
テトラメチルピペリジン、 ４）１−（４−第三ブチル−２−ブテニル）−４−ヒド
ロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、 ５）４−ステアロイルオキシ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン、 ６）１−エチル−４−サリチロイルオキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン、 ７）４−メタクリロイルオキシ−１，２，２，６，６−
ペンタメチルピペリジン、 ８）１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４
−イルβ−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロピオネート、 ９）ジ（１−ベンジル−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）マレエート、 １０）ジ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−
４−イル）スクシネート、 １１）ジ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−
４−イル）グルタレート、 １２）ジ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−
４−イル）アジペート、 １３）ジ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−
４−イル）セバケート、 １４）ジ（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ン−４−イル）セバケート、 １５）ジ（１，２，３，６−テトラメチル−２，６−ジ
エチルピペリジン−４−イル）セバケート、 １６）ジ（１−アリル−２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）フタレート、 １７）１−プロパルギル−４−β−シアノエチルオキシ
−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、 １８）１−アセチル−２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジン−４−イルアセテート、 １９）トリメリット酸トリ（２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン−４−イル）エステル、 ２０）１−アクリロイル−４−ベンジルオキシ−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、 ２１）ジ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−
４−イル）ジエチルマロネート、 ２２）ジ（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ン−４−イル）ジブチルマロネート、 ２３）ジ（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ン−４−イル）ブチル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンジル）マロネート、 ２４）ジ（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジ
ン−４−イル）ジベンジルマロネート、 ２５）ジ（１，２，３，６−テトラメチル−２，６−ジ
エチルピペリジン−４−イル）ジベンジルマロネート、 ２６）ヘキサン−１’，６’−ビス（４−カルバモイル
オキシ−１−ｎ−ブチル−２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン）、 ２７）トルエン−２’，４’−ビス（４−カルバモイル
オキシ−１−ｎ−プロピル−２，２，６，６−テトラメ
チルピペリジン）、 ２８）ジメチル−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−オキシ）シラン、 ２９）フェニル−トリス（２，２，６，６−テトラメチ
ルピペリジン−４−オキシ）シラン、 ３０）トリス（１−プロピル−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン−４−イル）ホスフィット、 ３１）トリス（１−プロピル−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン−４−イル）ホスフェート、 ３２）ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリ
ジン−４−イル）フェニルホスホネート、 ３３）４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメ
チルピペリジン、 ３４）４−ヒドロキシ−Ｎ−ヒドロキシエチル−２，
２，６，６−テトラメチルピペリジン、 ３５）４−ヒドロキシ−Ｎ−（２−ヒドロキシプロピ
ル）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、 ３６）１−グリシジル−４−ヒドロキシ−２，２，６，
６−テトラメチルピペリジン。

【００３２】ｂ）次式ＩＩＩ：

【化３】 〔式中、ｎは１または２を表し、Ｒ¹ はａ）において定
義したものと同じ意味を表し、Ｒ³ は水素原子、炭素原
子数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数２ないし５
のヒドロキシアルキル基、炭素原子数５ないし７のシク
ロアルキル基、炭素原子数７または８のアルアルキル
基、炭素原子数２ないし１８のアルカノイル基、炭素原
子数３ないし５のアルケノイル基またはベンゾイル基を
表し、そしてｎが１の場合、Ｒ⁴ は水素原子、炭素原子
数１ないし１８のアルキル基、炭素原子数３ないし８の
アルケニル基、炭素原子数５ないし７のシクロアルキル
基、ヒドロキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基
もしくはカルバミド基により置換された炭素原子数１な
いし４のアルキル基を表すか、またはグリシジル基、次
式：−ＣＨ₂ −ＣＨ（ＯＨ）−Ｚまたは−ＣＯＮＨ−Ｚ
（式中、Ｚは水素原子、メチル基またはフェニル基を表
す）で表される基を表し、ｎが２の場合、Ｒ⁴ は炭素原
子数２ないし１２のアルキレン基、炭素原子数６ないし
１２のアリーレン基、キシリレン基、次式：−ＣＨ₂ −
ＣＨ（ＯＨ）−ＣＨ₂ −または−ＣＨ₂ −ＣＨ（ＯＨ）
−ＣＨ₂ −Ｏ−Ｄ−Ｏ−（式中、Ｄは炭素原子数２ない
し１０のアルキレン基、炭素原子数６ないし１５のアリ
ーレン基、炭素原子数６ないし１２のシクロアルキレン
基）で表される基を表し、また、Ｒ³ がアルカノイル
基、アルケノイル基またはベンゾイル基を表すという条
件で、Ｒ⁴ はまた、脂肪族、環状脂肪族もしくは芳香族
ジカルボン酸またはジカルバミン酸の２価の基または−
ＣＯ−基を表し得、また、ｎが１の場合、Ｒ³ およびＲ
⁴ は一緒になって脂肪族、環状脂肪族または芳香族の
１，２−または１，３−ジカルボン酸の２価の基であっ
てよい〕で表される化合物。

【００３３】あらゆる炭素原子数１ないし１２のアルキ
ルまたは炭素原子数１ないし１８のアルキル置換基は既
にａ）において定義されたものである。あらゆる炭素原
子数５ないし７のシクロアルキル置換基は特にシクロヘ
キシル基である。炭素原子数７または８のアルアルキル
基Ｒ³ は特にフェニルエチル基、とりわけベンジル基で
ある。炭素原子数２ないし５のヒドロキシアルキル基Ｒ
³ は特に２−ヒドロキシエチル基または２−ヒドロキシ
プロピル基である。炭素原子数２ないし１８のアルカノ
イル基Ｒ³ は例えばプロピオニル基、ブチリル基、オク
タノイル基、ドデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オ
クタデカノイル基であるが、好ましくはアセチル基であ
り、そして炭素原子数３ないし５のアルケノイル基Ｒ³
は特にアクリロイル基である。炭素原子数２ないし８の
アルケニル基Ｒ⁴ は例えばアリル基、メタリル基、２−
ブテニル基、２−ペンテニル基、２−ヘキセニル基また
は２−オクテニル基である。ヒドロキシ基、シアノ基、
アルコキシカルボニル基またはカルバミド基により置換
された炭素原子数１ないし４のアルキル基としてのＲ⁴
は例えば２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロ
ピル基、２−シアノエチル基、メトキシカルボニルメチ
ル基、２−エトキシカルボニルエチル基、２−アミノカ
ルボニルプロピル基または２−（ジメチルアミノカルボ
ニル）エチル基であってよい。あらゆる炭素原子数２な
いし１２のアルキレン置換基は、例えばエチレン基、プ
ロピレン基、２，２−ジメチルプロピレン基、テトラメ
チレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカ
メチレン基またはドデカメチレン基である。あらゆる炭
素原子数６ないし１５のアリーレン基は、例えばｏ−、
ｍ−もしくはｐ−フェニレン基、１，４−ナフチレン基
または４，４’−ジフェニレン基である。炭素原子数６
ないし１２のシクロアルキレン基Ｄは特にシクロヘキシ
レン基である。

【００３４】この群のポリアルキルピペリジン化合物の
例は以下のものである： ３７）Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）ヘキサメチレン−１，６−ジア
ミン、 ３８）Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）ヘキサメチレン−１，６−ジア
セトアミド、 ３９）１−アセチル−４−（Ｎ−シクロヘキシルアセト
アミド）−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、 ４０）４−ベンゾイルアミノ−２，２，６，６−テトラ
メチルピペリジン、 ４１）Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジブチルアジパミ
ド、 ４２）Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）−Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル
−２−ヒドロキシプロピレン−１，３−ジアミン、 ４３）Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）−ｐ−キシレンジアミン、 ４４）Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル
ピペリジン−４−イル）スクシンアミド、 ４５）ジ（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−
４−イル）−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチルピペ
リジン−４−イル）−β−アミノジプロピオネート、 ４６）次式：

【化４】 で表される化合物、 ４７）４−（ビス−２−ヒドロキシエチルアミノ）−
１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、 ４８）４−（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブ
チルベンズアミド）−２，２，６，６−テトラメチルピ
ペリジン、 ４９）４−メチルアクリルアミド−１，２，２，６，６
−ペンタメチルピペリジン。

【００３５】ｃ）次式ＩＶ：

【化５】 （式中、ｎは１または２を表し、Ｒ¹ はａ）において定
義したものと同じ意味を表し、そしてｎが１の場合、Ｒ
⁵ は炭素原子数２ないし８のアルキレン基、炭素原子数
２ないし８のヒドロキシアルキレン基または炭素原子数
４ないし２２のアシルオキシアルキレン基を表し、そし
てｎが２の場合、Ｒ⁵ は次式：（−ＣＨ₂ ）₂ Ｃ（ＣＨ
₂ −）₂ で表される基を表す）で表される化合物。

【００３６】炭素原子数２ないし８のアルキレン基また
は−ヒドロキシアルキレン基としてＲ⁵ は例えばエチレ
ン基、１−メチルエチレン基、プロピレン基、２−エチ
ルプロピレン基または２−エチル−２−ヒドロキシメチ
ルプロピレン基である。炭素原子数４ないし２２のアシ
ルオキシアルキレン基Ｒ⁵ は例えば２−エチル−２−ア
セトキシメチルプロピレン基である。

【００３７】この群のポリアルキルピペリジン化合物の
例は以下のものである： ５０）９−アザ−８，８，１０，１０−テトラメチル−
１，５−ジオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、 ５１）９−アザ−８，８，１０，１０−テトラメチル−
３−エチル−１，５−ジオキサスピロ〔５．５〕ウンデ
カン、 ５２）８−アザ−２，７，７，８，９，９−ヘキサメチ
ル−１，４−ジオキサスピロ〔４．５〕デカン、 ５３）９−アザ−３−ヒドロキシメチル−３−エチル−
８，８，９，１０，１０−ペンタメチル−１，５−ジオ
キサスピロ〔５．５〕ウンデカン、 ５４）９−アザ−３−エチル−３−アセトキシメチル−
９−アセチル−８，８，１０，１０−テトラメチル−
１，５−ジオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、 ５５）２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−
スピロ−２’−（１’，３’−ジオキサン）−５’−ス
ピロ−５”−（１”，３”−ジオキサン）−２”−スピ
ロ−４”’−（２”’，２”’，６”’，６”’−テト
ラメチルピペリジン）。

【００３８】ｄ）次式ＶＡ，ＶＢおよびＶＣで表される
化合物：

【化６】 〔式中、ｎは１または２を表し、Ｒ¹ はａ）において定
義したものと同じ意味を表し、Ｒ⁶ は水素原子、炭素原
子数１ないし１２のアルキル基、アリル基、ベンジル
基、グリシジル基または炭素原子数２ないし６のアルコ
キシアルキル基を表し、そしてｎが１の場合、Ｒ⁷ は水
素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル基、炭素原
子数３ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９
のアルアルキル基、炭素原子数５ないし７のシクロアル
キル基、炭素原子数２ないし４のヒドロキシアルキル
基、炭素原子数２ないし６のアルコキシアルキル基、炭
素原子数６ないし１０のアリール基、グリシジル基また
は次式：−（ＣＨ₂ ）_p −ＣＯＯ−Ｑまたは−（Ｃ
Ｈ₂ ）_p −Ｏ−ＣＯ−Ｑ（式中、ｐは１または２を表
し、そしてＱは炭素原子数１ないし４のアルキル基また
はフェニル基を表す）で表される基を表し、ｎが２の場
合、Ｒ⁷ は炭素原子数２ないし１２のアルキレン基、炭
素原子数４ないし１２のアルケニレン基、炭素原子数６
ないし１２のアリーレン基、次式：−ＣＨ₂ −ＣＨ（Ｏ
Ｈ）−ＣＨ₂ −Ｏ−Ｄ−Ｏ−ＣＨ₂ −ＣＨ（ＯＨ）−Ｃ
Ｈ₂−｛式中、Ｄは炭素原子数２ないし１０のアルキレ
ン基、炭素原子数６ないし１５のアリーレン基、炭素原
子数６ないし１２のシクロアルキレン基または次式：−
ＣＨ₂ ＣＨ（ＯＺ’）ＣＨ₂ −（ＯＣＨ₂ −ＣＨ（Ｏ
Ｚ’）ＣＨ₂ ）₂ −（式中、Ｚ’は水素原子、炭素原子
数１ないし１８のアルキル基、アリル基、ベンジル基、
炭素原子数２ないし１２のアルカノイル基またはベンゾ
イル基を表す）で表される基を表す｝で表される基を表
し、Ｔ₁ およびＴ₂ は互いに独立して水素原子、炭素原
子数１ないし１８のアルキル基または炭素原子数６ない
し１０のアリール基または炭素原子数７ないし９のアル
アルキル基を表すが、それらの各々は非置換であって
も、ハロゲン原子または炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基により置換されていてもよく、また、Ｔ₁ およびＴ
₂ はそれらを結合している炭素原子と一緒になって炭素
原子数５ないし１４のシクロアルカン環を形成する〕。

【００３９】あらゆる炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル置換基は、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、ｎ−
ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、
ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基または
ｎ−ドデシル基である。あらゆる炭素原子数１ないし１
８のアルキル置換基は、例えば上記の基、さらに、例え
ばｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘキサ
デシル基またはｎ−オクタデシル基であってよい。あら
ゆる炭素原子数２ないし６のアルコキシアルキル置換基
は、例えばメトキシメチル基、エトキシメチル基、プロ
ポキシメチル基、第三ブトキシメチル基、エトキシエチ
ル基、エトキシプロピル基、ｎ−ブトキシエチル基、第
三ブトキシエチル基、イソプロポキシエチル基またはプ
ロポキシプロピル基である。

【００４０】炭素原子数３ないし５のアルケニル基Ｒ⁷
は例えば１−プロペニル基、アリル基、メタリル基、２
−ブテニル基または２−ペンテニル基である。炭素原子
数７ないし９のアルアルキル基Ｒ⁷ 、Ｔ₁ およびＴ₂ は
特にフェネチル基またはとりわけベンジル基である。炭
素原子と一緒なってＴ₁ およびＴ₂ がシクロアルカン環
を形成するならば、これは例えばシクロペンタン、シク
ロヘキサン、シクロオクタンまたはシクロドデカン環で
あってよい。炭素原子数２ないし４のヒドロキシアルキ
ル基Ｒ⁷ は例えば２−ヒドロキシエチル基、２−ヒドロ
キシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基または４−ヒ
ドロキシブチル基である。炭素原子数６ないし１０のア
リール基Ｒ⁷ 、Ｔ₁ およびＴ₂ は特にフェニル基、α−
またはβ−ナフチル基であるが、それらの各々は非置換
であっても、ハロゲン原子または炭素原子数１ないし４
のアルキル基により置換されていてもよい。

【００４１】炭素原子数２ないし１２のアルキレン基Ｒ
⁷ は、例えばエチレン基、プロピレン基、２，２−ジメ
チルプロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサメチレン
基、オクタメチレン基、デカメチレン基またはドデカメ
チレン基である。炭素原子数４ないし１２のアルケニレ
ン基Ｒ⁷ は特に２−ブテニレン基、２−ペンテニレン基
または３−ヘキセニレン基である。炭素原子数６ないし
１２のアリーレン基Ｒ⁷ は、例えばｏ−、ｍ−もしくは
ｐ−フェニレン基、１，４−ナフチレン基または４，
４’−ビフェニレン基である。炭素原子数２ないし１２
のアルカノイル基Ｚ’は、例えばプロピオニル基、ブチ
リル基、オクタノイル基、ドデカノイル基であり、好ま
しくはアセチル基である。炭素原子数２ないし１０のア
ルキレン基、炭素原子数６ないし１５のアリーレン基ま
たは炭素原子数６ないし１２のシクロアルキレン基Ｄは
ｂ）において定義されたものと同じである。

【００４２】この群のポリアルキルピペリジン化合物の
例は以下のものである： ５６）３−ベンジル−１，３，８−トリアザ−７，７，
９，９−テトラメチルスピロ〔４．５〕デカン−２，４
−ジオン、 ５７）３−ｎ−オクチル−１，３，８−トリアザ−７，
７，９，９−テトラメチルスピロ〔４．５〕デカン−
２，４−ジオン、 ５８）３−アリル−１，３，８−トリアザ−１，７，
７，９，９−ペンタメチルスピロ〔４．５〕デカン−
２，４−ジオン、 ５９）３−グリシジル−１，３，８−トリアザ−７，
７，８，９，９−ペンタメチルスピロ〔４．５〕デカン
−２，４−ジオン、 ６０）１，３，７，７，８，９，９−ヘプタメチル−
１，３，８−トリアザスピロ〔４．５〕デカン−２，４
−ジオン、 ６１）２−イソプロピル−７，７，９，９−テトラメチ
ル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ
〔４．５〕デカン、 ６２）２，２−ジブチル−７，７，９，９−テトラメチ
ル−１−オキサ−３，８−ジアザ−４−オキソスピロ
〔４．５〕デカン、 ６３）２，２，４，４−テトラメチル−７−オキサ−
３，２０−ジアザ−２１−オキソジスピロ〔５．１．１
１．２〕ヘンエイコサン、 ６４）２−ブチル−７，７，９，９−テトラメチル−１
−オキサ−４，８−ジアザ−３−オキソスピロ〔４．
５〕デカン、 ６５）８−アセチル−３−ドデシル−１，３，８−トリ
アザ−７，７，９，９−テトラメチルスピロ〔４．５〕
デカン−２，４−ジオン、または以下の式で表される化
合物である：

【化７】

【００４３】ｅ）次式ＶＩで表される化合物：

【化８】 〔式中、ｎは１または２を表し、そしてＲ⁸ は次式：

【化９】 で表される基を表し、Ｒ¹ はａ）で定義されたものと同
じ意味を表し、Ｅは−Ｏ−または−ＮＲ¹¹−を表し、Ａ
は炭素原子数２ないし６のアルキレン基または−（ＣＨ
₂ ）₃ −Ｏ−を表し、ｘは〔ｓｉｃ〕０または１を表
し、Ｒ⁹ はＲ⁸ と同一であるか、または次式：−ＮＲ¹¹
Ｒ¹²，−ＯＲ¹³，−ＮＨＣＨ₂ ＯＲ¹³または−Ｎ（ＣＨ
₂ ＯＲ¹³）₂ で表される基の一つを表し、ｎが１の場
合、Ｒ¹⁰はＲ⁸ またはＲ⁹ と同一であり、そしてｎが２
の場合、次式：−Ｅ−Ｂ−Ｅ−（式中、Ｂは中断されて
いないか、または−Ｎ（Ｒ¹¹）−基により中断された炭
素原子数２ないし６のアルキレン基を表す）で表される
基を表し、Ｒ¹¹は炭素原子数１ないし１２のアルキル
基、シクロヘキシル基、ベンジル基または炭素原子数１
ないし４のヒドロキシアルキル基または次式：

【化１０】 で表される基を表し、Ｒ¹²は炭素原子数１ないし１２の
アルキル基、シクロヘキシル基、ベンジル基または炭素
原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基を表し、そし
てＲ¹³は水素原子、炭素原子数１ないし１２のアルキル
基またはフェニル基を表すか、またはＲ¹¹およびＲ¹²は
一緒になって炭素原子数４または５のアルキレン基また
は−オキサアルキレン基、例えば次式：

【化１１】 で表される基を表すか、または次式：

【化１２】 で表される基を表すか、またはＲ¹¹およびＲ¹²は各々の
場合において次式：

【化１３】 で表される基を表す〕。

【００４４】あらゆる炭素原子数１ないし１２のアルキ
ル置換基は、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル
基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、ｎ−
ヘキシル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、
ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基または
ｎ−ドデシル基である。あらゆる炭素原子数１ないし４
のヒドロキシアルキル置換基は、例えば２−ヒドロキシ
エチル基、２−ヒドロキシプロピル基、３−ヒドロキシ
プロピル基、２−ヒドロキシブチル基または４−ヒドロ
キシブチル基である。炭素原子数２ないし６のアルキレ
ン基Ａは、例えばエチレン基、プロピレン基、２，２−
ジメチルプロピレン基、テトラメチレン基またはヘキサ
メチレン基である。炭素原子数４または５のアルキレン
基またはオキサアルキレン基としての一緒になったＲ¹¹
およびＲ¹²の例は、テトラメチレン基、ペンタメチレン
基または３−オキサペンタメチレン基である。

【００４５】この群のポリアルキルピペリジン化合物の
例は下記式で表される化合物である：

【化１４】

【化１５】

【化１６】

【化１７】

【化１８】

【００４６】ｆ）反復構造単位が式Ｉの２，２，６，６
−テトラアルキルピペリジン基を１個またはそれ以上含
有するオリゴマーまたはポリマー化合物、特にポリエス
テル、ポリエーテル、ポリアミド、ポリアミン、ポリウ
レタン、ポリ尿素、ポリアミノトリアジン、ポリ（メ
タ）アクリレート、ポリシロキサン、ポリ（メタ）アク
リルアミドおよび上記の基を含有するそれらのコポリマ
ー。

【００４７】この群の２，２，６，６−ポリアルキルピ
ペリジン光安定剤の例は下記式で表され、式中、ｍは２
ないし約２００の数である化合物である：

【化１９】

【化２０】

【化２１】

【化２２】

【化２３】

【化２４】

【００４８】これらの群の中で、クラスｅ）およびｆ）
が特に適当であり、とりわけｓ−トリアジン基を含むテ
トラアルキルピペリジン化合物が適当である。特に、化
合物７４、７６、８４、８７、９２および９５がさらに
適当である。

【００４９】立体障害性アミン、好ましくはテトラメチ
ルピペリジン化合物の量は、プラスチック添加剤グラニ
ュールの意図される用途によって決定され、グラニュー
ルは立体障害性アミンを０−９０重量％、好ましくは２
０−７０重量％含有するのが有利である。

【００５０】立体障害性フェノールタイプの酸化防止剤
は有機材料の酸化防止剤として公知であり、そしてポリ
マーの安定化のために頻繁に使用される。これらの化合
物は好ましくは次式Ｘ：

【化２５】 （式中、Ｒ’は水素原子、メチル基または第三ブチル基
を表し、そしてＲ”は非置換または置換アルキル基また
は置換アルキルチオアルキル基を表す）で表される基を
少なくとも１個含有する。

【００５１】次式：

【化２６】 （式中、Ｒ’はメチル基または第三ブチル基を表し、そ
してＲ”は非置換または置換アルキル基または置換アル
キルチオアルキル基を表す）で表される基を少なくとも
１個含有する化合物が特に好ましい。

【００５２】そのようなフェノール系酸化防止剤の例は
以下のとおりである： １．アルキル化モノフェノールの例 ２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、２−
第三ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ
−第三ブチル−４−エチルフェノール、２，６−ジ−第
三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、２，６−ジ−第
三ブチル−４−イソブチルフェノール、２，６−ジシク
ロペンチル−４−メチルフェノ−ル、２−（α−メチル
シクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、２，
６−ジオクタデシル−４−メチルフェノ−ル、２，４，
６−トリシクロヘキシルフェノール、２，６−ジ−第三
ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２，６−ジノ
ニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−
（１’−メチルウンデシ−１’−イル）フェノール、
２，４−ジメチル−６−（１’−メチルヘプタデシ−
１’−イル）フェノール、２，４−ジメチル−６−
（１’−メチルトリデシ−１’−イル）フェノールおよ
びそれらの混合物。

【００５３】２．アルキルチオメチルフェノールの例 ２，４−ジオクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノ
ール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−メチルフェ
ノール、２，４−ジオクチルチオメチル−６−エチルフ
ェノール、２，６−ジドデシルチオメチル−４−ノニル
フェノール。

【００５４】３．ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロ
キノンの例 ２，６−ジ第三ブチル−４−メトキシフェノール、２，
５−ジ第三ブチルヒドロキノン、２，５−ジ第三アミル
ヒドロキノン、２，６−ジフェニル−４−オクタデシル
オキシフェノール、２，６−ジ第三ブチルヒドロキノ
ン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソー
ル、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニソー
ル、３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルス
テアレート、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）アジペート。

【００５５】４．トコフェロールの例 α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフ
ェロール、δ−トコフェロールおよびそれらの混合物
（ビタミンＥ）

【００５６】５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテ
ルの例 ２，２’−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）、２，２’−チオビス（４−オクチルフェノー
ル）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−３−メチ
ルフェノール）、４，４’−チオビス（６−第三ブチル
−２−メチルフェノール）、４，４’−チオビス（３，
６−ジ第二アミルフェノール）、４，４’−ビス（２，
６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）ジスルフィ
ド。

【００５７】６．アルキリデンビスフェノールの例 ２，２’−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、２，２’−メチレンビス（６−第三ブチ
ル−４−エチルフェノール）、２，２’−メチレンビス
〔４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェ
ノール〕、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−
シクロヘキシルフェノール）、２，２’−メチレンビス
（６−ノニル−４−メチルフェノール）、２，２’−メ
チレンビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ−第三ブチルフ
ェノール）、２，２’−エチリデンビス（６−第三ブチ
ル−４−イソブチルフェノール）、２，２’−メチレン
ビス〔６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノ
ール〕、２，２’−メチレンビス〔６−（α，α−ジメ
チルベンジル）−４−ノニルフェノール〕、４，４’−
メチレンビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、
４，４’−メチレンビス（６−第三ブチル−２−メチル
フェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス
（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジ
ル）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５
−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）
ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプ
トブタン、エチレングリコール−ビス〔３，３−ビス
（３’−第三ブチル−４’ーヒドロキシフェニル）ブチ
レート〕、ビス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５
−メチルフェニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−
（３’−第三ブチル−２’ーヒドロキシ−５’−メチル
ベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル〕テ
レフタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−
ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−
ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、
２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−
メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタ
ン、１，１，５，５−テトラ（５−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシ−２−メチルフェニル）ペンタン。

【００５８】７．Ｏ−，Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物
の例 ３，５，３’，５’−テトラ第三ブチル−４，４’−ジ
ヒドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル−４−ヒ
ドロキシ−３，５−ジメチルベンジルメルカプトアセテ
ート、トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロ
キシ−２，６−ジメチルベンジル）ジチオテレフタレー
ト、ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）スルフィド、イソオクチル−３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート。

【００５９】８．ヒドロキシベンジル化マロネートの例 ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル
−２−ヒドロキシベンジル）マロネート、ジオクタデシ
ル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチ
ルベンジル）マロネート、ジドデシルメルカプトエチル
−２，２−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）マロネート、ジ〔４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）フェニル〕−２，２−ビス（３，
５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネー
ト。

【００６０】９．ヒドロキシベンジル芳香族化合物の例 １，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、
１，４−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼン、
２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒド
ロキシベンジル）フェノール。

【００６１】１０．トリアジン化合物の例 ２，４−ビス（オクチルメルカプト）−６−（３，５−
ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５
−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−
１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−
４，６−ビス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシ
フェノキシ）−１，３，５−トリアジン、２，４，６−
トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェノ
キシ）−１，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イ
ソシアヌレート、１，３，５−トリス（４−第三ブチル
−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシ
アヌレート、２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニルエチル）−１，３，５−ト
リアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヘキサヒドロ
−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，
５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）イソ
シアヌレート。

【００６２】１１．ベンジルホスホネートの例 ジメチル−２，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベン
ジルホスホネート、ジエチル−３，５−ジ第三ブチル−
４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオクタデシル
３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホ
ネート、ジオクタデシル５−第三ブチル−４−ヒドロキ
シ３−メチルベンジルホスホネート、３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸のモノエチル
エステルのカルシウム塩。

【００６３】１２．アシルアミノフェノールの例 ４−ヒドロキシラウリン酸−アニリド、４−ヒドロキシ
ステアリン酸−アニリド、オクチルＮ−（３，５−ジ−
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバメー
ト。

【００６４】１３．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価または
多価アルコールとのエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒ
ドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノ
ール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサン
ジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメ
チル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ
〔２．２．２〕オクタン。

【００６５】１４．β−（５−第三ブチル−４−ヒドロ
キシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸と以下の一価
または多価アルコールとのエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒ
ドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノ
ール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサン
ジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメ
チル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ
〔２．２．２〕オクタン。

【００６６】１５．β−（３，５−ジシクロヘキシル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸と以下の一価ま
たは多価アルコールとのエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒ
ドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノ
ール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサン
ジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメ
チル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ
〔２．２．２〕オクタン。

【００６７】１６．３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル酢酸と以下の一価または多価アルコールと
のエステル アルコールの例：メタノール、エタノール、オクタノー
ル、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、
１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２
−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ヒ
ドロキシエチル）オキサルアミド、３−チアウンデカノ
ール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサン
ジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメ
チル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ
〔２．２．２〕オクタン。

【００６８】１７．β−（３，５−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミドの例 Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニルプロピオニル）ヒドラジン。

【００６９】上記７、９、１０、１３、１４、１５およ
び１７項、特に７、９、１０および１３項に記載の酸化
防止剤が好ましく、特に、β−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のオクタノー
ルおよびオクタデカノールエステルおよびテトラキス
〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオニルオキシメチル〕メタンが好ましい。テ
トラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオニルオキシメチル〕メタンが最も
好ましい。

【００７０】その他の特に好ましい化合物は以下のとお
りである：

【化２７】 ｛２−（１，１−ジメチルエチル）−６−〔〔３−
（１，１−ジメチルエチル）−２−ヒドロキシ−５−メ
チルフェニル〕メチル−４−メチルフェニル２−プロペ
ノエート｝；

【化２８】 ｛１，６−ヘキサンジイル３，５−ビス（１，１−ジメ
チルエチル）−４−ヒドロキシフェニル２−プロパノエ
ート｝；

【化２９】 ｛１，２−エタンジイルビス（オキシ−２，１−エタン
ジイル）３−（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロ
キシ−５−メチル−フェニルプロパノエート｝；

【化３０】 ｛２−メチル−４，６−ジ〔（オクチルチオ）メチル〕
フェノール｝；

【化３１】 ｛２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフ
ェノール）｝；

【化３２】 ｛チオジ−２，１−エタンジイルビス−３，５−ジ
（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル
プロパノエート｝；

【化３３】 ｛４，４’，４”−〔（２，４，６−トリメチル−１，
３，５−フェニルトリイル）トリス（メチレン）〕トリ
ス〔２，６−ビス（１，１−ジメチルエチル）フェノー
ル｝；

【化３４】 ｛１，３，５−トリス〔〔３，５−ビス（１，１−ジメ
チルエチル）−４−ヒドロキシフェニル〕メチル〕−
１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５
Ｈ）−トリオン｝。

【００７１】立体障害性フェノールタイプの酸化防止剤
の量は、プラスチック添加剤グラニュールの意図される
用途によって決定され、グラニュールは立体障害性フェ
ノールタイプの酸化防止剤を０−９０重量％、好ましく
は３−６０重量％含有するのが有利である。

【００７２】有機ホスフィットおよびホスホニット(pho
sphonite) がプラスチックのための安定剤として同様に
公知である。それらは特にポリオレフィンのための加工
安定剤として使用される。それらは主に芳香族ホスフィ
ットおよびホスホニット、例えばトリフェニルホスフィ
ット、ジフェニルアルキルホスフィット、フェニルジア
ルキルホスフィット、トリス（ジフェニルアルキルホス
フィット）アミン、トリス（ノニルフェニル）ホスフィ
ット、トリラウリルホスフィット、トリオクタデシルホ
スフィット、ジステアリルペンタエリトリチルジホスフ
ィット、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホス
フィット、ジステアリルペンタエリトリチルジホスフィ
ット、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエ
リトリチルジホスフィット、トリステアリルソルビチル
トリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ第三ブチル
フェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホニット、
３，９−ビス（２，４−ジ第三ブチル−４−メチルフェ
ノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−
ジホスファスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−トリ
ス（２，４，６−トリス第三ブチルフェノキシ）−２，
４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジホスファスピ
ロ〔５．５〕ウンデカンおよび２，２’−エチリデンビ
ス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）フルオロホスフィ
ットである。

【００７３】特に好ましいの以下のホスフィットであ
る：（Ｐ−００１）トリス（２，４−ジ第三ブチルフェ
ニル）ホスフィット；

【化３５】

【化３６】 中でもとりわけ好ましいのはトリス（２，４−ジ第三ブ
チルフェニル）ホスフィットである。

【００７４】ホスフィットまたはホスホニットの量は、
プラスチック添加剤グラニュールの意図される用途によ
って決定され、グラニュールはホスフィットまたはホス
ホニットを０−９０重量％、好ましくは３−７０重量％
含有するのが有利である。

【００７５】立体障害性フェノールの他に、添加剤グラ
ニュールは好ましくは有機ホスフィットまたはホスホニ
ットをも含有する。上に示したように、好ましい立体障
害性フェノールと好ましい有機ホスフィットまたはホス
ホニットとの組合せ、例えばβ−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のオクタノ
ールもしくはオクタデカノールエステルまたはテトラキ
ス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオニルオキシメチル〕メタンとトリス
（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスフィットとの組
合せが好ましい。最も好ましいのは、テトラキス〔３−
（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロピオニルオキシメチル〕メタンとトリス（２，４−ジ
第三ブチルフェニル）ホスフィットとの組合せである。
立体障害性フェノールとホスフィットまたはホスホニッ
トとの重量比は好ましくは２０：１ないし１：２０、特
に好ましくは１０：１ないし１：１０、そして非常に好
ましくは４：１ないし１：４である。

【００７６】本発明に従って使用され得るハイドロタル
サイト（マナセアイト，ハイドロタルク石，hydrotalci
te）、金属炭酸塩（カーボネート）および金属酸化物か
らなる群からの化合物は天然に産する鉱物および合成化
合物の両方である。

【００７７】ハイドロタルサイト系からの化合物は一般
式Ｘ：

【化３７】 （式中、Ｍ²⁺はＭｇ²⁺，Ｃａ²⁺，Ｓｒ²⁺，Ｂａ²⁺，Ｚｎ
²⁺，Ｃｄ²⁺，Ｐｂ²⁺，Ｓｎ²⁺および／またはＮｉ²⁺を表
し、Ｍ³⁺はＡｌ³⁺，Ｂ³⁺またはＢｉ³⁺を表し、Ａ^n-は原
子価ｎのアニオンを表し、ｎは１ないし４の数を表し、
ｘは０ないし０．５の数を表し、そしてｍは０ないし２
の数を表す）で表され得る。Ａ^n-は好ましくは次式：

【化３８】 のアニオンである。

【００７８】上記の方法に有利に使用され得るその他の
ハイドロタルサイトは一般式Ｘａ：

【化３９】 （式中、Ｍ²⁺はＭｇまたはＺｎからなる群からの少なく
とも１種の金属、好ましくはＭｇ²⁺を表し、Ａ^n-はアニ
オン、例えばＣＯ₃ ^2-，

【化４０】 ＯＨ^- およびＳ^2-からなる群から選択されるアニオンを
表し、ｎはアニオンの原子価を表し、ｍは正の数、好ま
しくは０．５ないし５の範囲の数を表し、そしてｘおよ
びｚは正の数を表し、ｘは好ましくは２ないし６、そし
てｚは２未満の数を表す）で表される化合物である。好
ましく、かつ市販されているハイドロタルサイトは協和
化学工業からのＤＨＴ−４ＡおよびＤＨＴ−４Ｃであ
る。

【００７９】一般式Ｘ：

【化４１】 （式中、Ｍ²⁺はＭｇ²⁺またはＭｇおよびＺｎの固溶体を
表し、Ａ^n-はＣＯ₃ ^2-を表し、ｘは０ないし０．５の数
を表し、そしてｍは０ないし２の数を表す）で表される
ハイドロタルサイト系からの化合物が好ましい。

【００８０】次式：

【化４２】 で表されるハイドロタルサイトが非常に好ましい。

【００８１】ハイドロタルサイトの量は、プラスチック
添加剤グラニュールの意図される用途によって決定さ
れ、グラニュールはハイドロタルサイトを０−５０重量
％、好ましくは３−４０重量％含有するのが有利であ
る。

【００８２】好ましい金属酸化物は２価金属の酸化物で
ある。特に好ましいのは、第２主族および亜族（２Ａ族
および２Ｂ族）からの金属の酸化物であり、中でも酸化
亜鉛および酸化マグネシウムが非常に好ましい。金属酸
化物の量は、プラスチック添加剤グラニュールの意図さ
れる用途によって決定され、グラニュールは金属酸化物
を０−９０重量％、好ましくは５−６０重量％含有する
のが有利である。

【００８３】好ましい金属炭酸塩は２価金属の炭酸塩で
ある。特に好ましいのは、第２主族および亜族（２Ａ族
および２Ｂ族）からの金属の炭酸塩であり、中でも炭酸
カルシウムが非常に好ましい。金属炭酸塩の量は、プラ
スチック添加剤グラニュールの意図される用途によって
決定され、グラニュールは金属炭酸塩を０−９０重量
％、好ましくは５−６０重量％含有するのが有利であ
る。

【００８４】本発明の目的のためのその他の金属セッケ
ンは脂肪酸の金属セッケン（ステアリン酸カルシウムは
除く）であり、その場合、金属は特に第２主族または亜
族（２Ａ族または２Ｂ族）またはスズであってよい。こ
れらは、特に、炭素原子数２ないし２２の脂肪族飽和カ
ルボキシレート、炭素原子数３ないし２２の脂肪族オレ
フィン系カルボキシレート、少なくとも１個のＯＨ基に
より置換された炭素原子数２ないし２２の脂肪族カルボ
キシレート、炭素原子数５ないし２２の環式または二環
式カルボキシレート、炭素原子数７ないし２２の芳香族
カルボキシレート、少なくとも１個のＯＨ基により置換
された炭素原子数７ないし２２の芳香族カルボキシレー
ト、炭素原子数１ないし１６のアルキル基により置換さ
れたフェニルカルボキシレートおよびフェニル−炭素原
子数１ないし１６のアルキルカルボキシレートからなる
群からのマグネシウム、スズまたは好ましくは亜鉛塩で
あり、好ましくはステアレートおよびラウレートおよび
ベヘネートである。その他の金属セッケンは特に好まし
くはステアリン酸亜鉛またはステアリン酸マグネシウム
である。その他の金属セッケンの量は、プラスチック添
加剤グラニュールの意図される用途によって決定され、
グラニュールはその他の金属セッケンを０−９０重量
％、好ましくは５−６０重量％含有するのが有利であ
る。

【００８５】好ましいチオエステルはβ−チオジプロピ
オン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリ
スチルまたはトリデシルエステル、メルカプトベンズイ
ミダゾール、２−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛
塩、亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシル
ジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−
ドデシルメルカプト）プロピオネートまたはエチレング
リコールビスメルカプトアセテートである。

【００８６】適当な滑剤の例はモンタンワックス、脂肪
酸エステル、ＰＥワックス、アミドワックス、塩素化パ
ラフィン、グリセロールエステルまたはアルカリ土類金
属セッケンである。適当な滑剤は「プラスチック添加剤
(Plastic Additives) 」ハー．ゲヒターおよびハー．ミ
ュラー編，ハンザー・フェルラーク，第３版，１９９
０，４２３−４８０頁にも記載されている。

【００８７】添加剤グラニュールはさらに以下の項２−
１０からの化合物を含有し得る。 ２．ＵＶ吸収剤および光安定剤 ２．１．２−（２’−ヒドロキシフェニル) ベンゾトリ
アゾールの例 ２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−
２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベン
ゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−
（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三ブチル−
２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリア
ゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−
５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾー
ル、２−（３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’
−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルオキシフェニル）
ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ第三アミル
−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２
−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−
２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−
（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−
オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）−５−ク
ロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−
５’−〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニル
エチル〕−２’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベ
ンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒ
ドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フ
ェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’
−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキ
シカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、
２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−
（２−オクチルオキシカルボニルエチル）フェニル）ベ
ンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−５’−
〔２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチ
ル〕−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾー
ル、２−（３’−ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−
メチルフェニル）ベンゾトリアゾールおよび２−（３’
−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオ
クチルオキシカルボニルエチル）フェニルベンゾトリア
ゾールの混合物、２，２’−メチレンビス〔４−（１，
１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリア
ゾール−２−イルフェノール〕；２−〔３’−第三ブチ
ル−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）−２’−
ヒドロキシフェニル〕ベンゾトリアゾールとポリエチレ
ングリコール３００とのエステル交換体；次式：〔Ｒ−
ＣＨ₂ ＣＨ₂ −ＣＯＯ（ＣＨ₂ ）₃ −〕₂ −（式中、Ｒ
は３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−
ベンゾトリアゾール−２−イルフェニル基を表す）で表
される化合物。

【００８８】２．２．２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン
の例 ４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクチルオキ
シ−、４−デシルオキシ−、４−ドデシルオキシ−、４
−ベンジルオキシ−、４，２’，４’−トリヒドロキシ
−および２’−ヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ誘導
体。

【００８９】２．３．置換されたおよび非置換安息香酸
のエステルの例 ４−第三ブチルフェニルサリチレート、フェニルサリチ
レート、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイル
レゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベンゾイル）レ
ゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、２，４−ジ
−第三ブチルフェニル３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ
ドロキシベンゾエート、ヘキサデシル３，５−ジ−第三
ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル
３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル３，５
−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート。

【００９０】２．４．アクリレートの例 エチルα−シアノ−β, β−ジフェニルアクリレート、
イソオクチルα−シアノ−β, β−ジフェニル−アクリ
レート、メチルα−カルボメトキシシンナメート、メチ
ルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシンナメー
ト、ブチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシシン
ナメート、メチルα−カルボメトキシ−p −メトキシシ
ンナメートおよびＮ−（β−カルボメトキシ−β−シア
ノビニル) −２−メチルインドリン。

【００９１】２．５ ニッケル化合物の例 ２，２’−チオビス−〔４−（１，１，３，３−テトラ
メチルブチル) フェノール〕のニッケル錯体、例えば
１：１または１：２錯体であって、所望によりｎ−ブチ
ルアミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘ
キシルジエタノールアミンのような他の配位子を伴うも
の、ニッケルジブチルジチオカルバメート、モノアルキ
ルエステル、例えば４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三
ブチルベンジルホスホン酸のメチルもしくはエチルエス
テルのニッケル塩、ケトキシム例えば２−ヒドロキシ−
４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニッケル
錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシ
−ピラゾールのニッケル錯体であって、所望により他の
配位子を伴うもの。

【００９２】２．６．オキサルアミドの例 ４，４’−ジオクチルオキシオキサニリド、２，２’−
ジエトキシオキサニリド、２，２’−ジオクチルオキシ
−５，５’−ジ第三ブチルオキサニリド、２，２’−ジ
ドデシルオキシ−５，５’−ジ第三ブチルオキサニリ
ド、２−エトキシ−２’−エチルオキサニリド、Ｎ，
Ｎ’−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサルア
ミド、２−エトキシ−５−第三ブチル−２’−エチルオ
キサニリドおよび該化合物と２−エトキシ−２’−エチ
ル−５，４’−ジ第三ブチルオキサニリドとの混合物、
オルト−およびパラ−メトキシ−二置換オキサニリドの
混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ−二置換オキサニ
リドの混合物。

【００９３】２．７．２−（２−ヒドロキシフェニル）
−１，３，５−トリアジンの例 ２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオ
キシフェニル) −１，３，５−トリアジン、２−（２−
ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−
ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリ
アジン、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，
６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−
トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロ
ピルオキシフェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニ
ル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ
−４−オクチルオキシフェニル) −４，６−ビス（４−
メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２
−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル) −４，６
−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シ−３−ブチルオキシプロポキシ）フェニル〕−４，６
−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキ
シ−３−オクチルオキシプロピルオキシ）フェニル〕−
４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，
５−トリアジン。

【００９４】３．金属不活性化剤の例 Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオキサルアミド、Ｎ−サリチラル
−Ｎ’−サリチロイルヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（サ
リチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，５−ジ
第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒ
ドラジン、３−サリチロイルアミノ−１，２，４−トリ
アゾール、ビス（ベンジリデン）オキサロジヒドラジ
ド、オキサニリド、イソフタロジヒドラジド、セバコイ
ルビスフェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセチルアジ
ポジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビスサリチロイルオキサロ
ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス（サリチロイル）チオプ
ロピオノジヒドラジド。

【００９５】４．過酸化物スカベンジャーの例 β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、
ステアリル、ミリスチルまたはトリデシルエステル、メ
ルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカプトベ
ンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン
酸亜鉛、ジオクタデシルジスルフィドおよびペンタエリ
トリチルテトラキス（β−ドデシルメルカプト）プロピ
オネート。

【００９６】５．ポリアミド安定剤の例 ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩およ
び二価マンガンの塩。

【００９７】６．塩基性補助安定剤の例 メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、
トリアリルシアヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導
体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸の
アルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えば亜鉛
ステアレート、マグネシウムベヘネート、マグネシウム
ステアレート、ナトリウムリシノレート、カリウムパル
ミテート、アンチモンピロカテコレートまたはスズピロ
カテコレート。

【００９８】７．核剤の例 ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸およびジフェニル
酢酸。

【００９９】８．充填剤および強化剤の例 炭酸カルシウム、ケイ酸塩（シリケート）、ガラス繊
維、アスベスト、タルク、カオリン、雲母（マイカ）、
硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブ
ラックおよびグラファイト。

【０１００】９．その他の添加剤の例 可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、光沢剤、難燃剤、静電防
止剤および発泡剤。

【０１０１】１０．ベンゾフラノンおよびインドリノン
の例 ＵＳ−Ａ−４３２５８６３号、ＵＳ−Ａ−４３３８２４
４号、ＵＳ−Ａ−５１７５３１２号、ＵＳ−Ａ−５２１
６０５２号、ＵＳ−Ａ−５２５２６４３号、ＤＥ−Ａ−
４３１６６１１号、ＤＥ−Ａ−４３１６６２２号、ＤＥ
−Ａ−４３１６８７６号、ＥＰ−Ａ−０５８９８３９号
またはＥＰ−Ａ−０５９１１０２号に開示された化合物
または３−〔４−（２−アセトキシエトキシ）フェニ
ル〕−５，７−ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オン、
５，７−ジ第三ブチル−３−〔４−（２−ステアロイル
オキシエトキシ）フェニル〕ベンゾフラン−２−オン、
３，３’−ビス〔５，７−ジ第三ブチル−３−（４−
〔２−ヒドロキシエトキシ〕−フェニル）ベンゾフラン
−２−オン〕、５，７−ジ第三ブチル−３−（４−エト
キシフェニル）ベンゾフラン−２−オン、３−（４−ア
セトキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ第
三ブチルベンゾフラン−２−オンおよび３−（３，５−
ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５，７−
ジ第三ブチルベンゾフラン−２−オン。

【０１０２】本発明に係るグラニュールは熱、酸化また
は光誘導崩壊（分解）に対する有機ポリマーまたはプラ
スチックの安定化のために適している。そのようなポリ
マーの例を以下に挙げるが、これらに限定されるもので
はない：

【０１０３】１．モノオレフィンおよびジオレフィンの
ポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、
ポリブテン−１、ポリ−４−メチルペンテン−１、ポリ
イソプレンまたはポリブタジエン、並びにシクロオレフ
ィン例えばシクロペンテンまたはノルボルネンのポリマ
ー、ポリエチレン（架橋されていてもよい）、例えば高
密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン
（ＬＤＰＥ）、線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）
および分岐低密度ポリエチレン（ＢＬＤＰＥ）。

【０１０４】ポリオレフィン、すなわち前項に例示した
モノオレフィンのポリマー、特にポリエチレンおよびポ
リプロピレンは異なる方法、特に以下の方法により製造
され得る： ａ）フリーラジカルによる方法（通常、高温高圧下）。 ｂ）周期表のＩＶｂ、Ｖｂ、ＶＩｂまたはＶＩＩＩ族の
金属１種以上を通常含有する触媒による方法。これらの
金属は通常１以上の配位子、典型的にはπ（パイ）−ま
たはσ（シグマ）−配位されていてよい酸化物、ハロゲ
ン化物、アルコキシド、エステル、エーテル、アミン、
アルキル、アルケニルおよび／またはアリールを有す
る。これらの金属錯体は遊離体であっても、または支持
体、例えば活性化塩化マグネシウム、塩化チタン（ＩＩ
Ｉ）、酸化アルミニウムまたは酸化ケイ素に固定されて
いてもよい。これらの触媒は重合化媒体に可溶性であっ
ても、不溶性であってもよい。触媒は重合においてそれ
自体活性化され得、またその他の活性化剤、例えば金属
アルキル、金属水素化物、金属アルキルハロゲン化物、
金属アルキル酸化物または金属アルキルオキサンが使用
され得る（上記金属は周期表のＩａ、ＩＩａおよび／ま
たはＩＩＩａ族の元素である）。活性化剤は例えばその
他のエステル、エーテル、アミンまたはシリルエーテル
基で慣用方法により変性されてもよい。上記触媒系は通
常フィリップス、スタンダード・オイル・インディア
ナ、チーグラー（−ナッタ）、ＴＮＺ（デュポン）、メ
タロセンまたは単一部位触媒（single site catalyst,
SSC)として知られている。

【０１０５】２．前項１．に記載したポリマーの混合
物、例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合
物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えば
ＰＰ／ＨＤＰＥ，ＰＰ／ＬＤＰＥ）および異なる種類の
ポリエチレンの混合物（例えばＬＤＰＥ／ＨＤＰＥ）。

【０１０６】３．モノオレフィンとジオレフィン相互ま
たは他のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレ
ン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン
（ＬＬＤＰＥ）およびこれと低密度ポリエチレン（ＬＤ
ＰＥ）との混合物、プロピレン／ブテン−１コポリマ
ー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレン／
ブテン−１コポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマ
ー、エチレン／メチルペンテンコポリマー、エチレン／
ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテンコポリマー、
プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イ
ソプレンコポリマー、エチレン／アルキルアクリレート
コポリマー、エチレン／アルキルメタクリレートコポリ
マー、エチレン／酢酸ビニルコポリマーおよびそれらの
一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン／アクリル酸
コポリマーおよびそれらの塩類（アイオノマー）、並び
にエチレンとプロピレンとジエン例えばヘキサジエン、
ジシクロペンタジエンまたはエチリデンノルボルネンと
のターポリマー；および上記コポリマー相互の、および
項１．に記載のポリマーとの混合物、例えばポリプロピ
レン／エチレンプロピレンコポリマー、ＬＤＰＥ／エチ
レン−酢酸ビニルコポリマー（ＥＶＡ）、ＬＤＰＥ／エ
チレン−アクリル酸コポリマー（ＥＡＡ）、ＬＬＤＰＥ
／ＥＶＡ、ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダ
ムポリアルキレン／一酸化炭素コポリマー、およびそれ
らとその他のポリマー例えばポリアミドとの混合物。

【０１０７】４．炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５な
いし９のもの）およびそれらの水素化変性体（例えば粘
着付与剤）およびポリアルキレンとデンプンとの混合
物。

【０１０８】５．ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチ
レン）、ポリ（α−メチルスチレン）。

【０１０９】６．スチレンまたはα−メチルスチレンと
ジエンまたはアクリル誘導体とのコポリマー、例えばス
チレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、ス
チレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエ
ン／アルキルアクリレート、スチレン／無水マレイン
酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレー
ト；スチレンコポリマーと別のポリマー、例えばポリア
クリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロピレ
ン／ジエンターポリマーとの高耐衝撃性混合物；および
スチレンのブロックコポリマー例えばスチレン−ブタジ
エン−スチレン、スチレン−イソプレン−スチレン、ス
チレン−エチレン／ブチレン−スチレンまたはスチレン
−エチレン／プロピレン−スチレン。

【０１１０】７．スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルコポリマーにスチレン、ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアクリロニトリル（またはメタクリ
ロニトリル）、ポリブタジエンにスチレン、アクリロニ
トリルおよびメチルメタアクリレート、ポリブタジエン
にスチレンおよび無水マレイン酸；ポリブタジエンにス
チレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸；ポリ
ブタジエンにスチレンおよびマレイミド；ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアルキルアクリレート；エチレン／
プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアク
リロニトリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリア
ルキルメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリ
ル、アクリレート／ブタジエンコポリマーにスチレンお
よびアクリロニトリル、並びにこれらと項６．に列挙し
たコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ−、ＭＢＳ−、
ＡＳＡ−またはＡＥＳ−ポリマーとして知られているコ
ポリマー混合物。

【０１１１】８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリク
ロロプレン、塩素化ゴム、塩素化またはクロロスルホン
化ポリエチレン、エチレンと塩素化エチレンとのコポリ
マー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特
にハロゲン含有ビニル化合物からのポリマー、例えばポ
リ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニ
ル、ポリフッ化ビニリデン並びにこれらのコポリマー、
例えば塩化ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸
ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸ビニルコポリマー。

【０１１２】９．α，β−不飽和酸およびその誘導体か
ら誘導されるポリマー、例えばポリアクリレートおよび
ポリメタアクリレート；ブチルアクリレートで耐衝撃性
に変性されたポリメタクリレート、ポリアクリルアミド
およびポリアクリロニトリル。

【０１１３】１０．前項９．に挙げたモノマー相互のま
たは他の不飽和モノマーとのコポリマー、例えばアクリ
ロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル
／アルキルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル
／アルコキシアルキルアクリレートもしくはアクリロニ
トリル／ハロゲン化ビニルコポリマーまたはアクリロニ
トリル／アルキルメタアクリレート／ブタジエンターポ
リマー。

【０１１４】１１．不飽和アルコールおよびアミンまた
はそれらのアシル誘導体もしくはアセタールから誘導さ
れるポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸
ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエ
ート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチレート、
ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン；並び
にこれらと項１．に記載したオレフィンとのコポリマ
ー。

【０１１５】１２．環状エーテルのホモポリマーおよび
コポリマー、例えばポリアルキレングリコール、ポリエ
チレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはこれら
とビスグリシジルエーテルとのコポリマー。

【０１１６】１３．ポリアセタール、例えばポリオキシ
メチレンおよびエチレンオキシド等をコモノマーとして
含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アク
リレートまたはＭＢＳで変性されたポリアセタール。

【０１１７】１４．ポリフェニレンオキシドおよびスル
フィド、およびポリフェニレンオキシドとスチレンポリ
マーまたはポリアミドとの混合物。

【０１１８】１５．一方の成分としてヒドロキシ末端基
を含むポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエ
ンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシア
ネートとから誘導されたポリウレタン並びにその前駆
体。

【０１１９】１６．ジアミンおよびジカルボン酸および
／またはアミノカルボン酸または相当するラクタムから
誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばナイ
ロン４、ナイロン６、ナイロン６／６、６／１０、６／
９、６／１２、４／６、１２／１２、ナイロン１１、ナ
イロン１２、ｍ−キシレン、ジアミンおよびアジピン酸
から出発する芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミ
ンとイソフタル酸および／またはテレフタル酸とから、
変性剤としてエラストマーを添加して、または添加せず
に製造されたポリアミド、例えばポリ−２，４，４−ト
リメチルヘキサメチレンテレフタルアミドまたはポリ−
ｍ−フェニレンイソフタルアミド；上記ポリアミドとポ
リオレフィン、オレフィンコポリマー、アイオノマーま
たは化学結合化もしくはグラフト化エラストマーとの、
またはポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチレング
リコールとのブロックコポリマー；並びにＥＰＤＭまた
はＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；
および加工の間に縮合したポリアミド（ＲＩＭポリアミ
ド系）。

【０１２０】１７．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド
イミドおよびポリベンズイミダゾール。

【０１２１】１８. ジカルボン酸およびジオールおよび
／またはヒドロキシカルボン酸から誘導されたポリエス
テルまたは相当するラクトン、例えばポリエチレンテレ
フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１,
４−ジメチロール−シクロヘキサンテレフタレートおよ
びポリヒドロキシベンゾエート並びにヒドロキシ末端基
を有するポリエーテルから誘導されたブロックコポリエ
ーテルエステル；およびポリカーボネートまたはＭＢＳ
で変性されたポリエステル。

【０１２２】１９．ポリカーボネートおよびポリエステ
ルカーボネート。

【０１２３】２０．ポリスルホン、ポリエーテルスルホ
ンおよびポリエーテルケトン。

【０１２４】２１．一方の成分としてアルデヒドおよび
他方の成分としてフェノール、尿素およびメラミンから
誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムア
ルデヒド樹脂、尿素/ ホルムアルデシド樹脂およびメラ
ミン／ホルムアルデヒド樹脂。

【０１２５】２２．乾性および不乾性アルキド樹脂。

【０１２６】２３．飽和および不飽和ジカルボン酸と多
価アルコールとのコポリエステルおよび架橋剤としての
ビニル化合物から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、
および燃焼性の低いそれらのハロゲン含有変性物。

【０１２７】２４．置換アクリル酸エステル、例えばエ
ポキシアクリレート、ウレタンアクリレートまたはポリ
エステルアクリレートから誘導された架橋性アクリル樹
脂。

【０１２８】２５．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソ
シアネートまたはエポキシ樹脂と架橋されたアルキド樹
脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。

【０１２９】２６．ポリエポキシド、例えばビスグリシ
ジルエーテルまたは脂環式ジエポキシドから誘導された
架橋エポキシ樹脂。

【０１３０】２７．天然ポリマー、例えばセルロース、
天然ゴム、ゼラチンおよびこれらの化学的に変性させた
重合同族体誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン
酸セルロースおよび酪酸セルロースまたはセルロースエ
ーテル例えばメチルセルロース；並びにロジンおよびそ
れらの誘導体。

【０１３１】２８. 前記したポリマーの混合物（ポリブ
レンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリアミド／ＥＰＤ
ＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＳ／ＡＢＳ、Ｐ
ＶＣ／ＭＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ
／ＡＳＡ、ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／ア
クリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＣ／熱可塑性
ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰ
Ｏ／ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、
ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ、ＰＡ／ＰＰＯ。

【０１３２】２９．純粋なモノマー化合物またはその混
合物である天然および合成有機物質、例えば鉱油、動物
または植物脂肪、オイルおよびワックス、または合成エ
ステル（例えばフタレート，アジペート，ホスフェート
またはトリメリテート）をベースとするオイル、ワック
スおよび脂肪、および合成エステルと鉱油との所望重量
比にあるブレンド、例えば紡糸剤として使用されるも
の、およびそれらの水性エマルジョン。

【０１３３】３０．天然または合成ゴムの水性エマルジ
ョン、例えば天然ゴムラテックスまたはカルボキシル化
スチレン−ブタジエンコポリマーのラテックス。

【０１３４】

【発明の実施の形態】それ故に、本発明はさらに、熱、
酸化または光誘導崩壊（分解）に感受性である有機ポリ
マーおよび本発明に係るグラニュールを含有する組成物
に関する。驚くべきことに、本発明に係るグラニュール
により安定化されたポリマーは、慣用の添加剤混合物に
より安定化されたポリマーに比べ、より高い安定性を有
する。本発明に係るグラニュールを含有するポリマーは
１種またはそれ以上の慣用のその他のプラスチック添加
剤をさらに含有してもよい。好ましくは、そのような添
加剤は立体障害性アミン（ＨＡＬＳ）、立体障害性フェ
ノール、ホスフィットまたはホスホニット、ハイドロタ
ルサイト、金属酸化物、金属炭酸塩、その他の金属セッ
ケン、帯電防止剤、粘着防止剤、難燃剤、チオエステ
ル、内部滑剤および表面滑剤、顔料、ＵＶ吸収剤および
その他の光安定剤からなる群から選択される。好ましい
化合物（および詳細な記載）は低粉塵性グラニュールに
対して記載したもの（および事項）である。その他のプ
ラスチック添加剤（群）はあらゆる通常の物理的形態、
例えば結晶、粉末、ペレット、グラニュール、分散液ま
たは液体であってよい。ポリマーが本発明に係るグラニ
ュールを１種以上含有することも可能である。

【０１３５】好ましい有機ポリマーは合成ポリマーであ
り、特に項１からのポリマー、とりわけポリエチレンお
よびポリプロピレンである。

【０１３６】グラニュールは安定化されるべき有機ポリ
マーの全重量を基準として０．０１ないし１０％、好ま
しくは０．０１ないし５％の量で安定化されるべき有機
ポリマーに添加されることが有利である。本発明に係る
グラニュールおよびあらゆるその他の添加剤は有機ポリ
マー中に公知方法、例えば成形前もしくは成形中または
溶解もしくは分散グラニュールをポリマーに適用し、必
要ならば引続き溶媒を蒸発させることにより混合され得
る。グラニュールはまた、いわゆるマスターバッチの製
造のために使用され得る。

【０１３７】上記したような有効量の低粉塵性グラニュ
ールを有機ポリマー中に混合（配合）することからなる
有機ホリマーの安定化のための方法は本発明のもう一つ
の対象である。低粉塵性グラニュールおよびポリマーに
対する好ましい態様が同様に当てはまる。

【０１３８】このようにして安定化されたポリマーは慣
用の方法で広範囲の形態、例えばフィルム、繊維、テー
プ、成形用組成物またはプロフィール（形材）に変換さ
れ得る。

【０１３９】

【実施例】以下の実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はそれにより何ら限定されるものではない。
これらの実施例において、本明細書のその他の部分と同
様に、部は重量部であり、％は重量％であり、そして
「＋」は第三ブチル基を意味する。

【０１４０】実施例１ ステアリン酸カルシウム粉末〔ラジアスター（登録商
標，Radiastar ）１０６０；ドイツ，フィナ社〕を計量
ユニットにより２０ｋｇ／時間の処理量で重量を測定し
て二軸スクリュー押出機（タイプＤＮＤＬ４４；スイ
ス，ブューラー社）に供給する。押出機は温度が自動調
節され、そして以下の温度分布を有する：１８℃／１８
℃／２００℃／２００℃／２３０℃／２３０℃／２３０
℃／１７５℃／１７５℃／１７５℃。ノズル温度は１８
０℃である。ガス抜き（蒸気の除去）は第５領域で行わ
れる。生成物は直径２ｍｍを有する８個のノズルを介
し、１３５ｒｐｍのスクリュー速度で押出される。ノズ
ルの直後、塑性状態（１００００ないし１０００００Ｐ
ａ・ｓ）の押出物を切断し、そして次に２１℃の空気に
より流動層コンデンサーにおいて３０℃まで冷却する。
この方法において使用された本発明に係るグラニュール
は丸められた非常に規則正しい形状を有し、そして使用
された粉末と比較した場合に特に、非常に良好な、ばら
材料特性を有する（表１）。

【０１４１】

【表１】 グラニュール 粉末 粒径，最小長さ¹ ＞１ ＜０．０５〔ｍｍ〕 粒径，最大長さ¹ ２−６ ＜０．１ 〔ｍｍ〕 ルーズ嵩密度 ６５０ ２００ 〔ｇ／ｌ〕 流動時間（ｔＲ１５）² ６．６ ＊ 〔ｓ〕 含水量³ ０．６ ３．１ 〔％〕 粉塵発生（５分）⁴ ０．０８ ＞１ 〔％〕 安息角⁵ ３２ ５２ 〔度〕¹ ＩＳＯ３４３５に準拠；² ＤＩＮ５３４９２に準拠；
³ カール・フィッシャー法による測定；⁴ ホイバッハ試
験に準拠；⁵ ＩＳＯ４３２４に準拠；^* 流動せず

【０１４２】実施例２ ステアリン酸カルシウム粉末（ラジアスター１０６０；
ドイツ，フィナ社〕７０部およびイルガノックス（登録
商標，Irganox ）１０７６（β−（３，５−ジ第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のオクタデ
シルエステル；スイス，チバ−ガイギー社）３０部をロ
エディゲミキサー(Loedige mixer) 中で均一に混合す
る。この混合物を計量ユニットにより１００ｋｇ／時間
の処理量で重量を測定して二軸スクリュー押出機（タイ
プＤＮＤＦ９３；スイス，ブューラー社）に供給する。
押出機は温度が自動調節され、そして以下の温度分布を
有する：２１℃／２０５℃／２０５℃／２０５℃／８０
℃／８０℃／３０℃／１５℃／１５℃／１５℃。ノズル
温度は１８０℃である。生成物は直径２ｍｍを有する３
０個のノズルを介し、４５ｒｐｍのスクリュー速度で押
出される。ノズルの直後、押出物を塑性状態で切断し、
そして次に２１℃の空気により流動層コンデンサーにお
いて３０℃まで冷却する。この方法において製造された
本発明に係るグラニュールは丸められた非常に規則正し
い形状を有し、そして非常に良好な、ばら材料特性を有
する（表２：グラニュール２）。

【０１４３】実施例３ ステアリン酸カルシウム粉末（ラジアスター１０６０；
ドイツ，フィナ社〕４０部、イルガノックス１０１０
（β−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオン酸のペンタエリトリチルエステル；スイ
ス，チバ−ガイギー社）３０部およびイルガフォス（登
録商標，Irgafos ）１６８（トリス−（２，４−ジ第三
ブチルフェニル）ホスフィット；スイス，チバ−ガイギ
ー社）３０部をロエディゲミキサー中で均一に混合す
る。この混合物を計量ユニットにより１００ｋｇ／時間
の処理量で重量を測定して二軸スクリュー押出機（タイ
プＤＮＤＦ９３；スイス，ブューラー社）に供給する。
押出機は温度が自動調節され、そして以下の温度分布を
有する：２１℃／２４０℃／２４０℃／２４０℃／２２
０℃／２２０℃／２００℃／１５℃／１５℃／１５℃。
ノズル温度は１５０℃である。生成物は直径２ｍｍを有
する８個のノズルを介し、９１ｒｐｍのスクリュー速度
で押出される。ノズルの直後、押出物を塑性状態で切断
し、そして次に２１℃の空気により流動層コンデンサー
において３０℃まで冷却する。この方法において製造さ
れた本発明に係るグラニュールは丸められた規則正しい
形状を有し、そして非常に良好な、ばら材料特性を有す
る（表２：グラニュール３）。

【０１４４】

【表２】 グラニュール２ グラニュール３ 粒径，最小長さ¹ ＞１ ＞１ 〔ｍｍ〕 粒径，最大長さ¹ ２−４．５ ２−５ 〔ｍｍ〕 ルーズ嵩密度 ５４５ ５８０ 〔ｇ／ｌ〕 流動時間（ｔＲ１５）² ９．９ ８．５ 〔ｓ〕 含水量³ １．１ １．８ 〔％〕 粉塵発生（５分）⁴ ０．０２ ０．０７ 〔％〕 安息角⁵ ４０ ３７ 〔度〕¹ ＩＳＯ３４３５に準拠；² ＤＩＮ５３４９２に準拠；
³ カール・フィッシャー法による測定し、１００％ステ
アリン酸カルシウムに標準化；⁴ ホイバッハ試験に準
拠；⁵ ＩＳＯ４３２４に準拠

【０１４５】実施例４ イルガノックスＢ２１５（β−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のペンタエリ
トリチルエステルとトリス−（２，４−ジ第三ブチルフ
ェニル）ホスフィットとの１：２混合物；スイス，チバ
−ガイギー社）１．５ｇをステアリン酸カルシウムグラ
ニュール（実施例１に記載した方法で製造）０．７５ｇ
およびポリプロピレン粉末１５００ｇと水冷液体ミキサ
ー中２分間混合する。比較混合物は同様に製造される
が、粉末状ステアリン酸カルシウム（ラジアスター１０
６０；ドイツ，フィナ社〕０．７５ｇを含有する。混合
物を各々２０ｄスクリュー押出機において２６０℃の最
高温度で５回押出する。１回目、３回目および５回目の
押出の後、ＭＦＩ値（２３０℃；２．１５ｋｇ；ＩＳＯ
１１３３に類似）を測定し、さらに黄色度指数を５回目
の押出の後、厚さ２ｍｍのプレスシート上で測定する。

【０１４６】

【表３】 混合物 ＭＦＩ（下記回数の押出後） ＹＩ １回目 ３回目 ５回目 実施例１からの ステアリン酸カルシウム ４．７ ６．１ ７．７ ４．９ 粉末状の ステアリン酸カルシウム ５．０ ６．６ ８．５ ５．７

【０１４７】より低いＭＦＩおよびＹＩ値は、慣用の粉
末状ステアリン酸カルシウムを用いる場合に比べより良
好な安定化が本発明に係るステアリン酸カルシウムグラ
ニュールを用いて達成されることを明らかに示してい
る。

【０１４８】実施例５ イルガノックス１０１０（β−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のペンタエリ
トリチルエステル；スイス，チバ−ガイギー社）２２．
２部、イルガフォス１６８（トリス−（２，４−ジ第三
ブチルフェニル）ホスフィット；スイス，チバ−ガイギ
ー社）４４．５部およびステアリン酸カルシウム３３．
３部からなる１８０℃で押出した本発明に係るグラニュ
ール２．２５ｇをポリプロピレン粉末１５００ｇと水冷
液体ミキサー中２分間混合する。混合物を２０ｄスクリ
ュー押出機において２６０℃の最高温度で５回押出す
る。５回目の押出の後、黄色度指数を厚さ２ｍｍのプレ
スシート上で測定する。３．３のＹＩ値が得られる。

【０１４９】実施例６ イルガノックス１０１０（β−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のペンタエリ
トリチルエステル；スイス，チバ−ガイギー社）６６．
７部およびステアリン酸カルシウム３３．３部からなる
１８０℃で押出した本発明に係るグラニュール０．７５
ｇと、イルガフォス１６８（トリス−（２，４−ジ第三
ブチルフェニル）ホスフィット；スイス，チバ−ガイギ
ー社）６６．７部およびステアリン酸カルシウム３３．
３部からなる１８０℃で押出した本発明に係るグラニュ
ール１．５ｇをポリプロピレン粉末１５００ｇと水冷液
体ミキサー中２分間混合する。混合物を２０ｄスクリュ
ー押出機において２６０℃の最高温度で５回押出する。
５回目の押出の後、黄色度指数を厚さ２ｍｍのプレスシ
ート上で測定する。４．６のＹＩ値が得られる。

【０１５０】実施例７ イルガノックス１０１０（β−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のペンタエリ
トリチルエステル；スイス，チバ−ガイギー社）６６．
７部およびステアリン酸カルシウム３３．３部からなる
１８０℃で押出した本発明に係るグラニュール１．１２
５ｇと、イルガフォス１６８（トリス−（２，４−ジ第
三ブチルフェニル）ホスフィット；スイス，チバ−ガイ
ギー社）６６．７部およびステアリン酸カルシウム３
３．３部からなる１８０℃で押出した本発明に係るグラ
ニュール１．１２５ｇをポリプロピレン粉末１５００ｇ
と水冷液体ミキサー中２分間混合する。混合物を２０ｄ
スクリュー押出機において２６０℃の最高温度で５回押
出する。５回目の押出の後、黄色度指数を厚さ２ｍｍの
プレスシート上で測定する。４．８のＹＩ値が得られ
る。

【０１５１】実施例８ イルガノックスＢ２１５（β−（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のペンタエリ
トリチルエステルとトリス−（２，４−ジ第三ブチルフ
ェニル）ホスフィットとの１：２混合物；スイス，チバ
−ガイギー社；グラニュールの形態に押出）１．５ｇを
ステアリン酸カルシウムグラニュール（実施例１に記載
した方法で製造）０．７５ｇおよびポリプロピレン粉末
１５００ｇと水冷液体ミキサー中２分間混合する。混合
物を２０ｄスクリュー押出機において２６０℃の最高温
度で５回押出する。５回目の押出の後、黄色度指数を厚
さ２ｍｍのプレスシート上で測定する。４．７のＹＩ値
が得られる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｋ 5/17 ＫＡＹ Ｃ０８Ｋ 5/17 ＫＡＹ 5/3435 ＫＢＨ 5/3435 ＫＢＨ 5/49 ＫＢＹ 5/49 ＫＢＹ Ｃ０８Ｌ 23/02 ＫＥＰ Ｃ０８Ｌ 23/02 ＫＥＰ 101/00 101/00 // Ｃ０８Ｊ 5/10 Ｃ０８Ｊ 5/10 (72)発明者 ベンヤミン ブライテンシュタイン スイス国 4310 ラインフェルデン プル フェルベーク ５ (72)発明者 リンダ キルヒバーガー アメリカ合衆国 ニュージャージー 07417 フランクリン レークス ロック ロード 955

Claims (29)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 含水量が２％未満であるステアリン酸カ
   ルシウムを少なくとも１０重量％含有し、１ｍｍないし
   １０ｍｍのＩＳＯ３４３５に準拠する粒度分布、４００
   ｇ／ｌより大きいルーズ嵩密度および１５ｓ（ｔＲ２
   ５）未満のＤＩＮ５３４９２に準拠する流動性を有する
   プラスチック添加剤の低粉塵性グラニュール。
2. 【請求項２】 ステアリン酸カルシウムを少なくとも２
   ０重量％含有する請求項１記載の低粉塵性グラニュー
   ル。
3. 【請求項３】 ステアリン酸カルシウムを少なくとも３
   ０重量％含有する請求項２記載の低粉塵性グラニュー
   ル。
4. 【請求項４】 １００％ステアリン酸カルシウムからな
   る請求項３記載の低粉塵性グラニュール。
5. 【請求項５】 １ｍｍないし６ｍｍのＩＳＯ３４３５に
   準拠する粒度分布を有する請求項１記載の低粉塵性グラ
   ニュール。
6. 【請求項６】 ステアリン酸カルシウムの含水量が１％
   未満である請求項１記載の低粉塵性グラニュール。
7. 【請求項７】 立体障害性アミン、立体障害性フェノー
   ル、ホスフィットまたはホスホニット、ハイドロタルサ
   イト、金属酸化物または炭酸塩、その他の金属セッケ
   ン、帯電防止剤、粘着防止剤、難燃剤、チオエステル、
   内部滑剤および表面滑剤、顔料、ＵＶ吸収剤およびその
   他の光安定剤、またはそれらの混合物からなる群から選
   択される化合物をさらに含有する請求項１記載の低粉塵
   性グラニュール。
8. 【請求項８】 立体障害性フェノールおよびホスフィッ
   トまたはホスホニットをさらに含有する請求項１記載の
   低粉塵性グラニュール。
9. 【請求項９】 立体障害性フェノールがテトラキス〔３
   −（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル−
   プロピオニルオキシ−メチル〕メタンであり、そしてホ
   スフィットがトリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）
   ホスフィットである請求項８記載の低粉塵性グラニュー
   ル。
10. 【請求項１０】 テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブ
    チル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニルオキシ−
    メチル〕メタン：トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニ
    ル）ホスフィットの重量比が２０：１ないし１：２０で
    ある請求項８記載の低粉塵性グラニュール。
11. 【請求項１１】 テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブ
    チル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニルオキシ−
    メチル〕メタン：トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニ
    ル）ホスフィットの重量比が１０：１ないし１：１０で
    ある請求項１０記載の低粉塵性グラニュール。
12. 【請求項１２】 テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブ
    チル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニルオキシ−
    メチル〕メタン：トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニ
    ル）ホスフィットの重量比が４：１ないし１：４である
    請求項１１記載の低粉塵性グラニュール。
13. 【請求項１３】 ステアリン酸カルシウム約４０重量
    部、テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒ
    ドロキシフェニル−プロピオニルオキシ−メチル〕メタ
    ン約３０重量部およびトリス（２，４−ジ第三ブチルフ
    ェニル）ホスフィット約３０重量部からなる請求項１記
    載の低粉塵性グラニュール。
14. 【請求項１４】（ａ）少なくとも１０重量％で、１００
    重量％までのステアリン酸カルシウムを含有するプラス
    チック添加剤の混合物を、ステアリン酸カルシウムの少
    なくとも８０重量％が溶融するまで加温し、（ｂ）ノズ
    ルまたはホールの直径が１ないし１０ｍｍであるノズル
    またはホールを備えたプレートに得られた溶融体を通し
    てプレスし、そして（ｃ）得られた押出物から、それが
    塑性状態にある間にグラニュールを形成することからな
    る、含水量が２％未満であるステアリン酸カルシウムを
    少なくとも１０重量％含有し、１ｍｍないし１０ｍｍの
    ＩＳＯ３４３５に準拠する粒度分布、４００ｇ／ｌより
    大きいルーズ嵩密度および１５ｓ（ｔＲ２５）未満のＤ
    ＩＮ５３４９２に準拠する流動性を有する１種またはそ
    れ以上のプラスチック添加剤のグラニュールの製造方
    法。
15. 【請求項１５】 １３０℃を越える前記添加剤混合物の
    ピーク温度が工程の間に達成される請求項１４記載の方
    法。
16. 【請求項１６】 １５０℃を越える前記添加剤混合物の
    ピーク温度が工程の間に達成される請求項１４記載の方
    法。
17. 【請求項１７】 前記溶融体のガス抜きをさらに含む請
    求項１４記載の方法。
18. 【請求項１８】 前記添加剤混合物がステアリン酸カル
    シウム、立体障害性フェノールおよびホスフィットまた
    はホスホニットを含有する請求項１４記載の方法。
19. 【請求項１９】 前記添加剤混合物がステアリン酸カル
    シウム、テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４
    −ヒドロキシフェニル−プロピオニルオキシ−メチル〕
    メタンおよびトリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）
    ホスフィットを含有する請求項１８記載の方法。
20. 【請求項２０】 テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブ
    チル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニルオキシ−
    メチル〕メタン：トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニ
    ル）ホスフィットの重量比が２０：１ないし１：２０で
    ある請求項１９記載の方法。
21. 【請求項２１】 テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブ
    チル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニルオキシ−
    メチル〕メタン：トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニ
    ル）ホスフィットの重量比が１０：１ないし１：１０で
    ある請求項２０記載の方法。
22. 【請求項２２】 テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブ
    チル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニルオキシ−
    メチル〕メタン：トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニ
    ル）ホスフィットの重量比が４：１ないし１：４である
    請求項２１記載の方法。
23. 【請求項２３】 前記添加剤混合物がステアリン酸カル
    シウム約４０重量部、テトラキス〔３−（３，５−ジ第
    三ブチル−４−ヒドロキシフェニル−プロピオニルオキ
    シ−メチル〕メタン約３０重量部およびトリス（２，４
    −ジ第三ブチルフェニル）ホスフィット約３０重量部か
    らなる請求項１４記載の方法。
24. 【請求項２４】 請求項１記載のグラニュールを有機ポ
    リマー中に混合することからなる有機ポリマーの安定化
    方法。
25. 【請求項２５】 請求項１４記載の方法に従って製造さ
    れたグラニュールを有機ポリマー中に混合することから
    なる有機ポリマーの安定化方法。
26. 【請求項２６】 有機ポリマーおよび請求項１記載のグ
    ラニュールを含有する組成物。
27. 【請求項２７】 有機ポリマーがポリエチレンまたはポ
    リプロピレンである請求項２６記載の組成物。
28. 【請求項２８】 有機ポリマーおよび請求項１４記載の
    方法により製造されたグラニュールを含有する組成物。
29. 【請求項２９】 有機ポリマーがポリエチレンまたはポ
    リプロピレンである請求項２８記載の組成物。