JPH11189706A - 微粉末の無いエポキシ含有安定剤粒子 およびその製造方法 - Google Patents

微粉末の無いエポキシ含有安定剤粒子 およびその製造方法

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JPH11189706A
JPH11189706A JP10290035A JP29003598A JPH11189706A JP H11189706 A JPH11189706 A JP H11189706A JP 10290035 A JP10290035 A JP 10290035A JP 29003598 A JP29003598 A JP 29003598A JP H11189706 A JPH11189706 A JP H11189706A
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tert
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bis
tris
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JP10290035A
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Kurt Hoffmann
ホフマン クルト
Heinz Herbst
ヘルベスト ハインツ
Rudolf Pfaendner
ファエンドネル ルドルフ
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BASF Schweiz AG
Ciba SC Holding AG
Original Assignee
Ciba Spezialitaetenchemie Holding AG
Ciba SC Holding AG
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Publication date
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    • C08JWORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
    • C08J3/00Processes of treating or compounding macromolecular substances
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 微粉末の無いエポキシ含有安定剤粒子および
その製造方法の提供 【解決手段】 a)フェノール系酸化防止剤、有機ホス
フィットまたはホスホナイト、ホスホネート、立体障害
性アミンまたはUV吸収剤の個々あるいはこれら化合物
の混合物およびb)室温で固体であるエポキシ化合物の
少なくとも1種を含む微粉末の少ないプラスチック添加
剤の粒子を提供する。該粒子はポリマー、特にポリオレ
フィン例えばポリプロピレンまたはポリエチレンの安定
化に特に適当である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は固体エポキシドから
なるプラスチック添加剤(安定剤)の微粉末の少ない粒
子、該粒子の製造方法およびポリマーを安定化させるた
めに該粒子を使用する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】有機ポリマー(プラスチック)、特にポ
リオレフィンには、その加工処理を可能にするために、
そして有益な特性を使用期間以上に持続させるために、
一般的に添加剤の添加が要求される。光および熱による
だけではなく加工時に使用された触媒の残留物によって
も、有機ポリマーに損傷が生じる。使用可能な従来技術
の添加剤および安定剤には非常に広く様々な種類の物質
が含まれる。必ずしも詳細までは知られていないが、有
機ポリマーへの損傷に関する種々の作用のため、2種又
はそれ以上の添加剤の混合物を使用することが一般的で
ある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】一般的に、添加剤は粉
末形態である。しかしながら粉末形態の添加剤混合物は
一連の不利な点、例えば粉塵爆発に至る粉塵生成、分離
傾向および計量することの困難さを有する。結果とし
て、市販の形態はこれらの不利な点を持たないことが要
望される。この目的に関して開示された方法には、例え
ば凝集の技術(水溶系で分散媒とともに又は分散媒なし
で)、結合剤との混合技術またはペレットプレスによる
圧縮などが含まれる。しかしながら、この方法で得るこ
とが可能な市販の形態では多くの場合において、ふさわ
しい機械的性質を依然として欠如する。多くの場合にお
いて、市販の形態は水または結合剤を依然として含んで
おり、これは続く有機ポリマーへの取り込みの過程にお
いて分裂を引き起こし、あるいは特別な測定を必要なら
しめる。
【0004】従って粒子に関して、それらが取り込まれ
たポリマーを悪化させる結合剤を含まない貯蔵安定性添
加剤混合物であることが要望される。この種の粒子は益
々重要となる環境の観点(低い微粉末負担、材料の節約
利用)からも望ましい。
【0005】
【課題を解決するための手段】驚くべきことに、この技
術的な要求を満足させるまで長い道程が必要であったプ
ラスチック添加剤粒子は、個々のプラスチック添加剤ま
たはプラスチック添加剤の混合物および室温において固
体である多官能価エポキシ化合物の少なくとも一種を、
エポキシ化合物が実質上溶融するがエポキシ基の架橋反
応のためには充分な高さではない温度まで加熱すること
により得られ、そして続くプラスチック状態における形
成操作を実行することが可能である。
【0006】本発明のプラスチック添加剤粒子は非常に
均一であり、そして優秀なバルク生成物特性、特に微粉
末の少なさ、フリーフローおよび粘着抵抗ならびに良好
な貯蔵安定性を特徴とする。それらは安定化される有機
ポリマーへの測量された添加に非常に役立ち、そして慣
用の粉末混合物より好ましい均一性および取り込み性を
有する。
【0007】加えて、エポキシ含有組成物はポリマーの
長期の特性を改良することが可能であり、そして/また
はポリマー、特に再利用ポリマーあるいは充填系の有益
な特性を改良することが可能である。WO94/293
77はこの例を提供する。驚くべきことに、本発明に従
って製造された微粉末の少ない粒子は、個々の成分の純
粋な物理的混合物と比較すると、熱曝露後の衝撃強度に
関してさらなる改良を導くということが見出された。
【0008】本発明はa)フェノール系酸化防止剤、有
機ホスフィットまたはホスホナイト、ホスホネート、立
体障害性アミンまたはUV吸収剤の個々あるいはこれら
化合物の混合物およびb)室温で固体であるエポキシ化
合物の少なくとも1種からなる微粉末の少ないプラスチ
ック添加剤粒子を提供する。
【発明の実施の形態】
【0009】本発明に関して、微粉末の低い粒子とはヒ
ューバッハ(Heubach)試験における微粉末放出量が0.
15重量%以下(5分後)の粒子を意味する。好ましく
は成分b)として多官能価エポキシドを含む粒子であ
る。1つの好ましい具体例において本発明の粒子は、少
なくとも10ないし90重量%、特に好ましくは少なく
とも20ないし80重量%、特に非常に好ましくは50
ないし80重量%のエポキシ化合物を含む。
【0010】好ましい固体多官能価エポキシドは40な
いし150℃の軟化点を有する化合物である。少量の液
体エポキシドをこれらの固体エポキシド中に混入物とし
て存在させてもよい。ほんの少量を添加することでは、
フリーフローおよび混合物の顆粒性に及ぼす逆効果は現
れない。本発明の粒子の粒度分布は、ISO3435に
従って定義されるように、好ましくは1mmおよび6m
mの間、特に好ましくは2mmおよび6mmの間であ
る。
【0011】粗嵩密度は好ましくは500g/l以上で
あり、粗嵩密度は全混合物の密度に依存し、そして或は
エポキシドの密度とは大きく異なる密度を有する混合物
中でより高くなり又は低くなる。従って、開示された密
度は混合物の密度がエポキシドのものより10%以上変
わらないため混合物に関する。混合物の密度におけるよ
り大きな差に関して、粗嵩密度は混合物の密度に対する
エポキシドの密度の比率から得られた因子により補正さ
れなければならない。フリーフローはDIN53492
に従って決定され、好ましくは15s(tR15)以下
であり、特に好ましくは10s(tR15)以下であ
る。
【0012】上述の通り、典型的な工業用試験装置にお
いてヒューバッハ試験法により微粉末放出量は決定さ
れ、良好に検出するために粉末散布を行いながら摩擦に
対する傾向を許容するために該機械中で試験材料を動か
し続ける。使用される機械はヒューバッハエンジニアリ
ング(Heubach Engineering) 有限会社;ランゲルシャイ
ム(Langelsheim) ;ドイツにより製造される。詳しく
は、試験材料(初期重量50g)を2.5lの容量の微
粉末製造装置で5分間30rpm(周囲速度19cm/
sに相当)において振動させ、ここでは3つの障害物は
回転方向のハウジング壁に対して45°の角度で配列
し、一方で0.32l/sのエアーフローが微細フラク
ションをフィルター上に置く。このようにして決定され
た微細フラクションは好ましくは0.1重量%より多く
はならない。
【0013】粒子中に存在してもよい更に適するプラス
チック添加剤は、ヒドロタルサイト、金属オキシド、金
属カーボネート、金属ソープ、例えばカルシウムステア
レート、帯電防止剤、粘着防止剤、難燃剤、チオエステ
ル、内部および外部潤滑剤、加工助剤ならびに顔料の群
からの化合物を含む。粒子は付加的な物質、例えば熱可
塑性ポリマー(例えばポリオレフィンおよびポリオレフ
ィンワックス)を含んでもよい。
【0014】粒子中に存在してもよい上記の更なるプラ
スチック添加剤は当業者に公知であり、様々な組合せに
おいて公知である。以下に記す多くのプラスチック添加
剤は市販で入手可能である。その他のプラスチック添加
剤も公知の方法により製造することが可能であり、標準
的な条件下において固体(例えば粉末または粒子)、溶
融物(例えば合成段階から直接)または液体である。
【0015】更に本発明は、a)フェノール系酸化防止
剤、有機ホスフィットまたはホスホナイト、ホスホネー
ト、立体障害性アミンまたはUV吸収剤の個々あるいは
これら化合物の混合物およびb)室温で固体であるエポ
キシ化合物の少なくとも1種をエポキシ化合物の少なく
とも80重量%が溶融するまで加熱すること、直径が1
および10mmの間であるダイまたは穿孔を備えるプレ
ートで溶融物をプレスすること、および粒子を形成させ
るためにプラスチック状態で得られたストランドを切断
することからなるプラスチック添加剤の粒子を製造する
方法を提供する。
【0016】(ダイヘッドにおいて)出口ダイ以前の温
度は好ましくは60ないし160℃、特に好ましくは8
0ないし120℃の間である。ダイまたは穿孔の直径は
好ましくは2および6mmの間である。
【0017】好ましくは、プラスチック添加剤およびエ
ポキシ化合物は一軸スクリューまたは二軸スクリュー押
出機において溶融され;該押出機はプラスチック加工工
業では公知であり、例えばブス(Buss)(スイス)、ブラ
ベンダー(ドイツ)、ヴェルナー&フライデラー(Werne
r & Pfleiderer)(ドイツ)またはビューラー(Buhler)
(スイス)社から販売される。この場合、プラスチック
添加剤は一般的に固体(例えば粉末または粒子)または
その溶融物として使用され、水性懸濁液、または少数の
場合、液体添加剤も使用されてよい。まだ柔らかい状態
で行われる押出されたストランドの切断に続いて又は同
時に、ダイまたは穿孔板にそれを通し、続いて粒子粒子
を冷却する。冷却は水を伴う湿式冷却式で行われ(例え
ば水中、水膜または水環を通す等)、あるいは好ましく
は空気を伴うもの(例えば空気膜、空気渦等)または他
に冷却技術の組み合わせによる方法で行われる。水を伴
う冷却の場合、しばしば脱水と乾燥(好ましくは渦乾燥
機または流動層乾燥機)が要求される。これらの冷却技
術および技術的な具体例は公知である。特徴的な鍵は、
粒子化が実際の冷却段階より前のプラスチック状態で行
われ、当該技術で共通なストランドのペレット化および
粉砕工程とは対照的である。
【0018】エポキシ/プラスチック添加剤溶融物の製
造において、連続工程で温度分布を通過させないで単一
の一定の温度だけで操作を行うことは一般的ではない。
このような分布において、160℃のピーク温度を超え
ないことが妥当である。これらの温度は内部の温度に関
する。好ましくは脱気が行われる工程まで延長される。
この工程においては、エポキシ化合物が溶融する領域ま
たはそれ以下の領域において、脱気の容易さは好ましく
調節される。記載された方法で得ることが可能なプラス
チック添加剤粒子も本発明により提供される。記載され
た好ましさは該粒子と同様に適応する。
【0019】本発明の特に好ましい具体例は、30ない
し80重量%のエポキシ化合物ならびに5ないし25重
量%の立体障害性フェノール型の酸化防止剤、5ないし
25重量%のホスフィットまたはホスホナイト、10な
いし40重量%のCaOおよび1ないし5重量%のカル
シウムステアレートの組合せである。この粒子混合物中
のエポキシ化合物は、特に好ましくはビスフェノールA
ジグリシジルエーテルをベースとしたエポキシドであ
る。50ないし80重量%のエポキシ化合物および50
ないし20重量%のホスホネートの組合せも特に好まし
い。
【0020】立体障害性フェノール型の酸化防止剤は有
機材料のための酸化防止剤として幅広く知られており、
ポリマーを安定化させるために頻繁に使用される。これ
らの化合物は好ましくは式(X)
【化14】 (式中R’は水素原子、メチル基または第三ブチル基を
表し、R’’は無置換もしくは置換基を有するアルキル
基または置換基を有するアルキルチオアルキル基を表
す。)の基を少なくとも1つを含む。特に好ましくは、
次式
【化15】 (式中R’はメチル基または第三ブチル基を表し、
R’’は無置換もしくは置換基を有するアルキル基また
は置換基を有するアルキルチオアルキル基を表す。)の
基を少なくとも1つ含む化合物である。
【0021】そのようなフェノール系酸化防止剤の例を
以下に記す。1.アルキル化モノフェノール 、例えば、2,6−ジ−
第三ブチル−4−メチルフェノール、2−ブチル−4,
6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4
−エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4−n
−ブチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4−イ
ソブチルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−4−
メチルフェノール、2−(α−メチルシクロヘキシル)
−4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシ
ル−4−メチルフェノール、2,4,6−トリシクロヘ
キシルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−4−メト
キシメチルフェノール、2,6−ジ−ノニル−4−メチ
ルフェノール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチル
ウンデク−1’−イル)フェノール、2,4−ジメチル
−6−(1’−メチルヘプタデク−1’−イル)フェノ
ール、2,4−ジメチル−6−(1’−メチルトリデク
−1’−イル)フェノールおよびそれらの混合物。2.アルキルチオメチルフェノール 、例えば、2,4−
ジオクチルチオメチル−6−第三ブチルフェノール、
2,4−ジオクチルチオメチル−6−メチルフェノー
ル、2,4−ジオクチルチオメチル−6−エチルフェノ
ール、2,6−ジ−ドデシルチオメチル−4−ノニルフ
ェノール。
【0022】3.ヒドロキノンおよびアルキル化ヒドロ
キノン、例えば、2,6−ジ−第三ブチル−4−メトキ
シフェノール、2,5−ジ−第三ブチルヒドロキノン、
2,5−ジ−第三アミルヒドロキノン、2,6−ジ−フ
ェニル−4−オクタデシルオキシフェノール、2,6−
ジ−第三ブチルヒドロキノン、2,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシアニソール、3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)アジペー
ト。4.トコフェロール 、例えば、α−トコフェロール、β
−トコフェロール、γ−トコフェロール、δ−トコフェ
ロールおよびそれらの混合物(ビタミンE)。5.ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例えば、
2,2’−チオビス(6−第三ブチル−4−メチルフェ
ノール)、2,2’−チオビス(4−オクチルフェノー
ル)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル−3−メチ
ルフェノール)、4,4’−チオビス(6−第三ブチル
−2−メチルフェノール)、4,4’−チオビス(3,
6−ジ−第二アミルフェノール)、4,4’−ビス
(2,6−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)ジスル
フィド。
【0023】6.アルキリデンビスフェノール、例え
ば、2,2’−メチレンビス(6−第三ブチル−4−メ
チルフェノール)、2,2’−メチレンビス(6−第三
ブチル−4−エチルフェノール)、2,2’−メチレン
ビス[4−メチル−6−(α−メチルシクロヘキシル)
フェノール]、2,2’−メチレンビス(4−メチル−
6−シクロヘキシルフェノール)、2,2’−メチレン
ビス(6−ノニル−4−メチルフェノール)、2,2’
−メチレンビス(4,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル)、2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブ
チルフェノール)、2,2’−エチリデンビス(6−第
三ブチル−4−イソブチルフェノール)、2,2’−メ
チレンビス[6−(α−メチルベンジル)−4−ノニル
フェノール]、2,2’−メチレンビス[6−(α,α
−ジメチルベンジル)−4−ノニルフェノール]、4,
4’−メチレンビス(2,6−ジ−第三ブチルフェノー
ル)、4,4’−メチレンビス(6−第三ブチル−2−
メチルフェノール)、1,1−ビス(5−第三ブチル−
4−ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ブタン、2,6
−ビス(3−第三ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシ
ベンジル)−4−メチルフェノール、1,1,3−トリ
ス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−2−メチルフェ
ニル)ブタン、1,1−ビス(5−第三ブチル−4−ヒ
ドロキシ−2−メチルフェニル)−3−n−ドデシルメ
ルカプトブタン、エチレングリコールビス[3,3−ビ
ス(3’−第三ブチル−4’−ヒドロキシフェニル)ブ
チレート]、ビス(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
5−メチルフェニル)ジシクロペンタジエン、ビス[2
−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−メチ
ルベンジル)−6−第三ブチル−4−メチルフェニル]
テレフタレート、1,1−ビス(3,5−ジメチル−2
−ヒドロキシフェニル)ブタン、2,2−ビス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−
2−メチルフェニル)−4−n−ドデシルメルカプトブ
タン、1,1,5,5−テトラ(5−第三ブチル−4−
ヒドロキシ−2−メチルフェニル)ペンタン。
【0024】7.O−、N−およびS−ベンジル化合
、例えば、3,5,3’,5’−テトラ−第三ブチル
−4,4’−ジヒドロキシジベンジルエーテル、オクタ
デシル−4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメ
ルカプトアセテート、トリス(3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシベンジル)アミン、ビス(4−第三ブ
チル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)ジ
チオテレフタレート、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)スルフィド、イソオクチル−
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルメル
カプトアセテート。8.ヒドロキシベンジル化マロネート 、例えば、ジオク
タデシル−2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−2
−ヒドロキシベンジル)マロネート、ジオクタデシル−
2−(3−第三ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルベ
ンジル)マロネート、ジドデシルメルカプトエチル−
2,2−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
シベンジル)マロネート、ジ[4−(1,1,3,3−
テトラメチルブチル)フェニル]−2,2−ビス(3,
5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)マロネ
ート。
【0025】9.芳香族ヒドロキシベンジル化合物、例
えば、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベ
ンゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチル
ベンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシベンジル)フェノール。10.トリアジン化合物 、例えば、2,4−ビス−オク
チルメルカプト−6−(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、2−
オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリ
アジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,
5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−
1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス(3,5
−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェノキシ)−1,
2,3−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレ
ート、1,3,5−トリス(4−第三ブチル−3−ヒド
ロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソシアヌレー
ト、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5−トリアジ
ン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4
−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサヒドロ−
1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス(3,5
−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジル)イソシ
アヌレート。
【0026】11.アシルアミノフェノール、例えば、
4−ヒドロキシラウリン酸アニリド、4−ヒドロキシス
テアリン酸アニリド、N−(3,5−ジ−第三ブチル−
4−ヒドロキシフェニル)カルバミン酸オクチルエステ
ル。12.β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価アルコ
ールとのエステル 、アルコール例、メタノール、エタノ
ール、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキ
サンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリ
コール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
ール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサルアミド、
3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、
トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパ
ン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7
−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0027】13.β−(5−第三ブチル−4−ヒドロ
キシ−3−メチルフェニル)プロピオン酸の以下の一価
または多価アルコールとのエステル、アルコール例、メ
タノール、エタノール、オクタノール、オクタデカノー
ル、1,6−ヘキサンジオール、1,9−ノナンジオー
ル、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、
ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、
ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペン
タエリトリトール、トリス(ヒドロキシエチル)イソシ
アヌレート、N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキ
サルアミド、3−チアウンデカノール、3−チアペンタ
デカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロ
ールプロパン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−
2,6,7−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタ
ン。14.β−(3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキ
シフェニル)プロピオン酸の以下の一価または多価アル
コールとのエステル 、アルコール例、メタノール、エタ
ノール、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘ
キサンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレング
リコール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグ
リコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリ
コール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトー
ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサルアミド、
3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、
トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパ
ン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7
−トリオキサビシクロ[2.2.2]オクタン。
【0028】15.3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル酢酸の以下の一価または多価アルコール
とのエステル、アルコール例、メタノール、エタノー
ル、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキサ
ンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリコ
ール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリコ
ール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、
トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、N,
N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサルアミド、3−
チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、トリ
メチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、4
−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7−トリ
オキサビシクロ[2.2.2]オクタン。16.β−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオン酸のアミド 、例えば、N,N’−
ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ルプロピオニル)ヘキサメチレンジアミン、N,N’−
ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ルプロピオニル)トリメチレンジアミン、N,N’−ビ
ス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル
プロピオニル)ヒドラジン。
【0029】好ましい酸化防止剤は上述の7、9、1
0、12、13、14および16項、特に7、9、10
および12項に示されたものである。
【0030】更に特に好ましい化合物は:
【化16】 ペンタエリスリトールのβ−(3,5−ジ−第三ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸エステル
【化17】 オクタデシルβ−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシフェニル)プロピオネート
【化18】 2−(1,1−ジメチルエチル)−6−〔〔3−(1,
1−ジメチルエチル)−2−ヒドロキシ−5−メチルフ
ェニル〕メチル〕−4−メチルフェニル2−プロペノエ
ート;
【化19】 1,6−ヘキサンジイル3,5−ビス(1,1−ジメチ
ルエチル)−4−ヒドロキシフェニルプロパノエート;
【化20】 1,2−エタンジイルビス(オキシ−2,1−エタンジ
イル)3−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキ
シ−5−メチルフェニルプロパノエート;
【化21】 {2−メチル−4,6−ビス〔(オクチルチオ)メチ
ル〕フェノール};
【化22】 パラクレゾールおよびジシクロペンタジエンのブチル化
反応生成物(平均分子量600ないし700)
【化23】 2,2’−エチリデン−ビス−(4,6−ジ−第三ブチ
ルフェノール);
【化24】 チオジ−2,1−エタンジイル3,5−ビス(1,1−
ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニルプロパノエ
ート;
【化25】 4,4’,4’’−〔(2,4,6−トリメチル−1,
3,5−フェニルトリイル)トリス(メチレン)〕トリ
ス〔2,6−ビス(1,1−ジメチルエチル)フェノー
ル〕;
【化26】 1,3,5−トリス〔〔3,5−ビス(1,1−ジメチ
ルエチル)−4−ヒドロキシフェニル〕メチル〕−1,
3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)
−トリオンである。
【0031】立体障害性フェノール型の酸化防止剤の量
は、使用を予定したプラスチック添加剤粒子に依存し、
粒子は0ないし90重量%、好ましくは3ないし60重
量%の立体障害性フェノール型酸化防止剤を含むことが
妥当である。
【0032】ホスフェートの例は式I
【化27】 (式中R3 はH、炭素原子数1ないし20のアルキル
基、無置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基に
より置換されたフェニル基もしくはナフチル基を表し、
4 は水素原子、炭素原子数1ないし20のアルキル
基、無置換または炭素原子数1ないし4のアルキル基に
より置換されたフェニル基もしくはナフチル基を表す
か;あるいはMr+/rを表し、Mr+はr価の金属カチオ
ンまたはアンモニウムイオンを表し、nは0、1、2、
3、4、5または6であり、そしてrは1、2、3また
は4であり;Qは水素原子、−X−C(O)−OR7
たは
【化28】 〔式中R1 はイソプロピル基、第三ブチル基またはシク
ロヘキシル基もしくは1ないし3個の炭素原子数1ない
し4のアルキル基により置換されたシクロヘキシル基を
表し、R2 は水素原子、炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基またはシクロヘキシル基もしくは1ないし3個の炭
素原子数1ないし4のアルキル基により置換されたシク
ロヘキシル基を表し、R5 はH、炭素原子数1ないし1
8のアルキル基、OH、ハロゲン原子または炭素原子数
3ないし7のシクロアルキル基を表し;R6 はH、メチ
ル基、トリメチルシリル基、ベンジル基、フェニル基、
スルホニル基または炭素原子数1ないし18のアルキル
基を表し;R7 はH、炭素原子数1ないし10のアルキ
ル基または炭素原子数3ないし7のシクロアルキル基を
表し;そしてXはフェニレン基、炭素原子数1ないし4
のアルキル基により置換されたフェニレン基またはシク
ロヘキシレン基を表す。〕の基を表す。)で表される。
【0033】好ましくは、例えばUS−A−47788
40から公知であるように、立体障害性ヒドロキシフェ
ニル−アルキル−ホスホン酸エステルおよびモノエステ
ルである。特に好ましくは式Ia
【化29】 (式中R1 はH、イソプロピル基、第三ブチル基または
シクロヘキシル基あるいは1ないし3個の炭素原子数1
ないし4のアルキル基により置換されたシクロヘキシル
基を表し、R2 は水素原子、炭素原子数1ないし4のア
ルキル基またはシクロヘキシル基あるいは1ないし3個
の炭素原子数1ないし4のアルキル基により置換された
シクロヘキシル基を表し、R3 は炭素原子数1ないし2
0のアルキル基、無置換もしくは炭素原子数1ないし4
のアルキル基により置換されたフェニル基またはナフチ
ル基を表し、R4 は水素原子、炭素原子数1ないし20
のアルキル基、無置換または炭素原子数1ないし4のア
ルキル基が置換されたフェニル基もしくはナフチル基を
表すか;あるいはMr+/rを表し、Mr+はr価の金属カ
チオンを表し、nは1、2、3、4、5または6であ
り、そしてrは1、2、3または4である。)で表され
る化合物である。
【0034】ハロゲン原子はフッ素、塩素、臭素または
ヨウ素である。18個までの炭素原子を有する適当なア
ルキル置換基は、例えばメチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基およびオクチル
基、ステアリル基および相当する分枝鎖型異性体の基で
あり、好ましくは炭素原子数2ないし4のアルキル基で
ある。炭素原子数1ないし4のアルキル置換フェニル基
もしくはナフチル基は、好ましくは1ないし3個の、特
に1または2個のアルキル基を含有し、例えばo−、m
−およびp−メチルフェニル基、2,3−ジメチルフェ
ニル基、2,4−ジメチルフェニル基、2,5−ジメチ
ルフェニル基、2,6−ジメチルフェニル基、3,4−
ジメチルフェニル基、3,5−ジメチルフェニル基、2
−メチル−6−エチルフェニル基、4−第三ブチルフェ
ニル基、2−エチルフェニル基、2,6−ジエチルフェ
ニル基、1−メチルナフチル基、2−メチルナフチル
基、4−メチルナフチル基、1,6−ジメチルナフチル
基および4−第三ブチルナフチル基である。
【0035】炭素原子数1ないし4のアルキル置換シク
ロヘキシル基は、好ましくは1ないし3個の、特に1ま
たは2個の分枝鎖または非分枝鎖のアルキル基を含有
し、例えばシクロペンチル基、メチルシクロペンチル
基、ジメチルシクロペンチル基、シクロヘキシル基、メ
チルシクロヘキシル基、ジメチルシクロヘキシル基、ト
リメチルシクロヘキシル基および第三ブチルシクロヘキ
シル基である。一、二、三または四価の金属カチオンは
好ましくはアルカリ金属、アルカリ土類金属、重金属ま
たはアルミニウムカチオンであり、例えばNa+
+ 、Mg++、Ca++、Ba++、Zn++、Al+++ およ
びTi++++である。Ca++は特に好ましい。式Iで表さ
れる好ましい化合物は基R1 またはR2 として第三ブチ
ル基を少なくとも1個有するものである。特に非常に好
ましくはR1 およびR2 が両方とも第三ブチル基を表す
ものである。nは好ましくは1または2であり、そして
特に好ましくは1である。
【0036】式II、III 、IV、VおよびVI
【化30】 (式中、それぞれのR101 は互いに独立して水素原子ま
たはMr+/rを表す。)で表される化合物は同様に好ま
しい。Mr+/rの定義は既に上述した。
【0037】式IIで表される化合物は登録商標イルガノ
ックス(Irganox) 1222(チバシュペツァリテーテン
シェミー(Ciba Spezialitatenchemie))の名称で市販で
入手可能であり、式III で表される化合物は登録商標イ
ルガノックス(Irganox) 1425(チバシュペツァリテ
ーテンシェミー(Ciba Spezialitatenchemie))の名称で
市販で入手可能である。化合物IV、VおよびVIは、いく
つかの場合、市販で入手可能であるか、あるいは標準的
な技術により製造することが可能である。
【0038】特に好ましいホスホネートはジメチル2,
5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−ホスホ
ネート、ジエチル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロ
キシベンジルホスホネート、ジオクタデシル3,5−ジ
−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、
ジオクタデシル−5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3
−メチルベンジル−ホスホネートおよび3,5−ジ−第
三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチ
ルエステルのカルシウム塩である。特に非常に好ましく
はジエチル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベ
ンジルホスホネートである。有機ホスフィットおよびホ
スホナイトはプラスチックの安定剤として公知のものと
同様である。それらは特にポリオレフィンのための加工
安定剤として使用される。
【0039】包括される生成物は主に芳香族ホスフィッ
トまたはホスホナイトである。これらの例はトリフェニ
ルホスフィット、ジフェニルアルキルホスフィット、フ
ェニルジアルキルホスフィット、トリス(ジフェニルア
ルキルホスフィト)アミン、トリス(ノニルフェニル)
ホスフィット、トリラウリルホスフィット、トリオクタ
デシルホスフィット、ジステアリルペンタエリスリチル
ジホスフィット、トリス(2,4−ジ−第三ブチルフェ
ニル)ホスフィット、ビス(2,4−ジ−第三ブチルフ
ェニル)ペンタエリスリチルジホスフィット、トリステ
アリルソルビチルトリホスフィット、テトラキス(2,
4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4’−ビフェニレン
ジホスホナイト、3,9−ビス(2,4−ジ−第三ブチ
ル−4−メチルフェノキシ)−2,4,8,10−テト
ラオキサ−3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウンデ
カン、3,9−トリス(2,4,6−トリス−第三ブチ
ルフェノキシ)−2,4,8,10−テトラオキサ−
3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウンデカン、2,
4,6−トリス−第三ブチルフェニル2−ブチル−2−
エチル−1,3−プロパンジイル−ホスフィットおよび
2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ−第三ブチルフ
ェニル)フルオロホスフィットである。
【0040】以下のホスフィットは特に好ましく使用さ
れる。トリス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホス
フィット、
【化31】
【化32】
【化33】 トリス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)ホスフィッ
トを使用することが特に非常に好ましい。
【0041】ホスフィットまたはホスホナイトの量は、
使用を予定したプラスチック添加剤粒子に依存し、粒子
は0ないし90重量%、好ましくは3ないし70重量%
のホスフィットまたはホスホナイトを含むことが妥当で
ある。好ましくは、立体障害性フェノールに加えて、添
加剤粒子は有機ホスフィットおよび/またはホスホナイ
トも含む。この場合、立体障害性フェノールとホスフィ
ットおよび/またはホスホナイトの重量比は好ましくは
20:1ないし1:20であり、特に好ましくは10:
1ないし1:10の比率であり、そして特に非常に好ま
しくは4:1ないし1:4の比率である。特に興味深い
ものは、式XIIまたはXIII で表される基を少なくとも
1個含み、(a’)ないし(g’)において記述される
化合物の種類の立体障害性アミンの群の化合物の少なく
とも1個を含む組成物であり、該組成物は式XIIまたは
XIII からなる基の少なくとも1個を含むものである。
【0042】(a’)式XIIaで表される化合物
【化34】 式中、nは1ないし4の数であり、GおよびG1 は互い
に独立して水素原子またはメチル基を表し、G11は水素
原子、O .、水酸基、NO、−CH2 CN、炭素原子数
1ないし18のアルキル基、炭素原子数3ないし8のア
ルケニル基、炭素原子数3ないし8のアルキニル基、炭
素原子数7ないし12のアルアルキル基、炭素原子数1
ないし18のアルコキシ基、炭素原子数5ないし8のシ
クロアルコキシ基、炭素原子数7ないし9のフェニルア
ルコキシ基、炭素原子数1ないし8のアルカノイル基、
炭素原子数3ないし5のアルケノイル基、炭素原子数1
ないし18のアルカノイルオキシ基、ベンジルオキシ
基、グリシジル基または−CH2 CH(OH)−Zの基
を表し、好ましくはG11は水素原子、炭素原子数1ない
し4のアルキル基、アリル基、ベンジル基、アセチル基
またはアクリルオキシ基を表し、Zは水素原子、メチル
基またはフェニル基を表し、そして、
【0043】nが1の場合、G12は水素原子、1個もし
くは1個より多くの酸素原子により鎖が中断された又は
中断されていない炭素原子数1ないし18のアルキル
基、シアノエチル基、ベンジル基、グリシジル基、脂肪
族、脂環族、芳香族脂肪族、不飽和もしくは芳香族カル
ボン酸、カルバミン酸またはリン含有酸の一価の基、あ
るいは一価のシリル基であり、好ましくは2ないし18
個の炭素原子を有する脂肪族カルボン酸の基、7ないし
15個の炭素原子を有する脂環族カルボン酸の基、3な
いし5個の炭素原子を有するα,β−不飽和カルボン酸
の基または7ないし15個の炭素原子を有する芳香族カ
ルボン酸の基であり、これらのカルボン酸に関して、脂
肪族、脂環族または芳香族部分のそれぞれの場合におい
て、1ないし3倍の−COOZ12により置換されること
が可能であり、Z12は水素原子、炭素原子数1ないし2
0のアルキル基、炭素原子数3ないし12のアルケニル
基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基、フェニ
ル基またはベンジル基を表し、そして、
【0044】nが2の場合、G12は炭素原子数2ないし
12のアルキレン基、炭素原子数4ないし12のアルケ
ニレン基、キシリレン基、脂肪族、脂環族、芳香族脂肪
族もしくは芳香族ジカルボン酸、ジカルバミン酸または
リン含有酸の二価の基、あるいは二価のシリル基であ
り、好ましくは2ないし36個の炭素原子を有する脂肪
族ジカルボン酸の基、8ないし14個の炭素原子を有す
る脂環族もしくは芳香族ジカルボン酸の基または8ない
し14の炭素原子を有する脂肪族、脂環族もしくは芳香
族ジカルバミン酸の基であり、これらのジカルボン酸に
関して、脂肪族、脂環族または芳香族部分のそれぞれの
場合において、−COOZ12の1つまたは2つの基によ
り置換されることが可能であり、そして、
【0045】nが3の場合、G12は脂肪族、脂環族また
は芳香族トリカルボン酸の三価の基であり、脂肪族、脂
環族または芳香族部分で−COOZ12により置換される
ことが可能なものであるか、芳香族トリカルバミン酸も
しくはリン含有酸の三価の基、あるいは三価のシリル基
であり、そしてnが4の場合、G12は脂肪族、脂環族ま
たは芳香族テトラカルボン酸の四価の基である。上述の
カルボン酸の基には、それぞれの場合において式(−C
O)n Rで表される基が含まれ、式中nの意味は上述さ
れた通りであり、Rの意味は上述の定義から明白であ
る。
【0046】炭素原子数1ないし12のアルキル置換基
はいずれも、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル
基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、n−
ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、
n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基または
n−ドデシル基である。炭素原子数1ないし18のアル
キル基としてG11またはG12は、例えば上述に示された
基であってよく、また例えばn−トリデシル基、n−テ
トラデシル基、n−ヘキサデシル基またはn−オクタデ
シル基であってもよい。
【0047】G11が炭素原子数3ないし8のアルケニル
基を表す場合、例えば1−プロペニル基、アリル基、メ
タリル基、2−ブテニル基、2−ペンテニル基、2−ヘ
キセニル基、2−オクテニル基または4−第三ブチル−
2−ブテニル基であってよい。炭素原子数3ないし8の
アルキニル基としてG11は好ましくはプロパルジル基で
ある。炭素原子数7ないし12のアルアルキル基として
11は特にフェネチル基であり、特にベンジル基であ
る。炭素原子数1ないし8のアルカノイル基としてG11
は、例えばホルミル基、プロピオニル基、ブチリル基、
オクタノイル基であるが、好ましくはアセチル基であ
り、炭素原子数3ないし5のアルケノイル基は特にアク
リロイル基である。
【0048】カルボン酸の一価の基としてG12は、例え
ば酢酸、カプロン酸、ステアリン酸、アクリル酸、メタ
クリル酸、安息香酸またはβ−(3,5−ジ−第三ブチ
ル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸の基であ
る。G12が一価のシリル基である場合、例えばそれは式
−(Cj 2j)−Si(Z’)2 Z’’の基で表され、
式中jは2ないし5の範囲内の整数であり、Z’および
Z’’は互いに独立して炭素原子数1ないし4のアルキ
ル基または炭素原子数1ないし4のアルコキシ基を表
す。G12がジカルボン酸の二価の基である場合、例えば
それはマロン酸、コハク酸グルタル酸、アジピン酸、ス
ベリン酸、セバシン酸、マレイン酸、イタコン酸、フタ
ル酸、ジブチルマロン酸、ジベンジルマロン酸、ブチル
(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
マロン酸またはビシクロヘプテンジカルボン酸の基であ
る。
【0049】G12がトリカルボン酸の三価の基である場
合、例えばそれはトリメリト酸、クエン酸またはニトロ
トリ酢酸の基である。G12がテトラカルボン酸の四価の
基である場合、例えばそれはブタン−1,2,3,4−
テトラカルボン酸またはピロメリト酸の四価の基であ
る。G12がジカルボン酸の二価の基である場合、例えば
それはヘキサメチレンジカルバミン酸または2,4−ト
ルイレンジカルバミン酸の基である。好ましくは式XII
aで表される化合物であり、式中Gは水素原子、G11
水素原子またはメチル基、nは2であり、そしてG12
4ないし12個の炭素原子を有する脂肪族ジカルボン酸
のジアシル基である。
【0050】この種類のポリアルキルピペリジン化合物
の例を以下に示す。 1)4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン 2)1−アリル−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テ
トラメチルピペリジン 3)1−ベンジル−4−ヒドロキシ−2,2,6,6−
テトラメチルピペリジン 4)1−(4−第三ブチル−2−ブテニル)−4−ヒド
ロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 5)4−ステアロイルオキシ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン 6)1−エチル−4−サリシロイルオキシ−2,2,
6,6−テトラメチルピペリジン 7)4−メタクリロイルオキシ−1,2,2,6,6−
ペンタメチルピペリジン 8)1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン−4
−イルβ−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
フェニル)プロピオネート 9)ジ(1−ベンジル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)マレエート 10)ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)スクシネート 11)ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)グルタレート 12)ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)アジペート 13)ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)セバケート 14)ジ(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ン−4−イル)セバケート 15)ジ(1,2,3,6−テトラメチル−2,6−ジ
エチル−ピペリジン−4−イル)セバケート 16)ジ(1−アリル−2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)フタレート 17)1−ヒドロキシ−4−β−シアノエチルオキシ−
2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 18)1−アセチル−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−イル アセテート 19)トリ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)トリメリテート 20)1−アクリロイル−4−ベンジルオキシ−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン 21)ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)ジエチルマロネート 22)ジ(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ン−4−イル)ジブチルマロネート 23)ジ(1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジ
ン−4−イル)ブチル(3,5−ジ−第三ブチル−4−
ヒドロキシベンジル)マロネート 24)ジ(1−オクチルオキシ−2,2,6,6−テト
ラメチルピペリジン−イル)セバケート 25)ジ(1−シクロヘキシルオキシ−2,2,6,6
−テトラメチルピペリジン−4−イル)セバケート 26)ヘキサン−1’,6’−ビス(4−カルバモイル
オキシ−1−n−ブチル−2,2,6,6−テトラメチ
ルピペリジン) 27)トルエン−2’,4’−ビス(4−カルバモイル
オキシ−1−n−プロピル−2,2,6,6−テトラメ
チルピペリジン) 28)ジメチルビス(2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン−4−オキシ)シラン 29)フェニルトリス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−オキシ)シラン 30)トリス(1−プロピル−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)ホスフィット 31)トリス(1−プロピル−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン−4−イル)ホスフェート 32)フェニル〔ビス(1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジン−4−イル)〕ホスホネート 33)4−ヒドロキシ−1,2,2,6,6−ペンタメ
チルピペリジン 34)4−ヒドロキシ−N−ヒドロキシエチル−2,
2,6,6−テトラメチルピペリジン 35)4−ヒドロキシ−N−(2−ヒドロキシプロピ
ル)−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン 36)1−グリシジル−4−ヒドロキシ−2,2,6,
6−テトラメチルピペリジン
【0051】(b’)式XIIbで表される化合物
【化35】 式中nは数1または2であり、G、G1 およびG11
(a’)において定義された通りであり、G13は水素原
子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数
2ないし5のヒドロキシアルキル基、炭素原子数5ない
し7のシクロアルキル基、炭素原子数7ないし8のアル
アルキル基、炭素原子数2ないし18のアルカノイル
基、炭素原子数3ないし5のアルケノイル基、ベンゾイ
ル基または次式
【化36】 の基を表し、そしてnが1である場合、G14は水素原
子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、炭素原子数
3ないし8のアルケニル基、炭素原子数5ないし7のシ
クロアルキル基を表し、あるいは水素原子、シアノ基、
アルコキシカルボニル基またはカルバミド基により置換
された炭素原子数1ないし4のアルキル基;グリシジル
基、式−CH2 −CH(OH)−Zまたは式−CONH
−Zで表される基を表し、式中Zは水素原子、メチル基
またはフェニル基を表し、
【0052】そしてnが2である場合、G14は炭素原子
数2ないし12のアルキレン基、炭素原子数6ないし1
2のアリーレン基、キシリレン基、−CH2 −CH(O
H)−CH2 −の基または−CH2 −CH(OH)−C
2 −O−D−O−の基を表し、式中Dは炭素原子数2
ないし10のアルキレン基、炭素原子数6ないし15の
アリーレン基、炭素原子数6ないし12のシクロアルキ
レン基を表し、但しG13はアルカノイル基、アルケノイ
ル基またはベンゾイル基ではなく、かわりとしてG14
炭素原子数2ないし12の1−オキソ−アルキレン基、
脂肪族、脂環族もしくは芳香族ジカルボン酸またはジカ
ルバミン酸の二価の基を表すか、または−CO−基とな
りうる基を表し、あるいは、nが1である場合、G13
よびG14は一緒になって脂肪族、脂環族または芳香族
1,2−または1,3−ジカルボン酸の二価の基を表す
ことも可能である。
【0053】炭素原子数1ないし12または炭素原子数
1ないし18のアルキル置換基はいずれも(a’)にお
いて既に定義された通りである。炭素原子数5ないし7
のシクロアルキル置換基はいずれも、特に、シクロヘキ
シル基を表す。炭素原子数7ないし8のアルアルキル基
としてG13は、特にフェニルエチル基、特にベンジル基
を表す。炭素原子数2ないし5のヒドロキシアルキル基
としてG13は特に2−ヒドロキシエチル基または2−ヒ
ドロキシプロピル基である。炭素原子数2ないし18の
アルカノイル基としてG13は、例えばプロピオニル基、
ブチリル基、オクタノイル基、ドデカノイル基、ヘキサ
デカノイル基、オクタデカノイル基であるが、好ましく
はアセチル基であり、炭素原子数3ないし5のアルケノ
イル基としては、特にアクリロイル基である。
【0054】G14が炭素原子数2ないし8のアルケニル
基である場合、例えばそれはアリル基、メタリル基、2
−ブテニル基、2−ペンテニル基、2−ヘキセニル基ま
たは2−オクテニル基である。水酸基、シアノ基、アル
コキシカルボニル基またはカルバミド基により置換され
た炭素原子数1ないし4のアルキル基としてG14は、例
えば2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピル
基、2−シアノエチル基、メトキシカルボニルメチル
基、2−エトキシカルボニルエチル基、2−アミノカル
ボニルプロピル基または2−(ジメチルアミノカルボニ
ル)エチル基であってよい。
【0055】炭素原子数2ないし12のアルキレン置換
基はいずれも、例えばエチレン基、プロピレン基、2,
2−ジメチルプロピレン基、テトラメチレン基、ヘキサ
メチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基または
ドデカメチレン基である。炭素原子数6ないし15のア
リーレン置換基はいずれも、例えばo−、m−またはp
−フェニレン、1,4−ナフチレンまたは4,4’−ジ
フェニレンである。炭素原子数6ないし12のシクロア
ルキレン基は特にシクロヘキシレン基がよい。
【0056】好ましくは式Ibの化合物であり、式中n
は1または2であり、Gは水素原子を表し、G11は水素
原子またはメチル基を表し、G13は水素原子、炭素原子
数1ないし12のアルキル基または式
【化37】 の基を表し、nが1の場合、G14は水素原子または炭素
原子数1ないし12のアルキル基を表し、nが2の場
合、G14は炭素原子数2ないし8のアルキレン基または
炭素原子数2ないし8の1−オキソ−アルキレン基を表
す。
【0057】この種類のポリアルキルピリジン化合物の
例を以下に示す。 37)N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)ヘキサメチレン−1,6−ジア
ミン 38)N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)ヘキサメチレン−1,6−ジア
セタミド 39)ビス(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン
−4−イル)アミン 40)4−ベンゾイルアミノ−2,2,6,6−テトラ
メチルピペリジン 41)N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)N,N’−ジブチルアジパミド 42)N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)−N,N’−ジシクロヘキシル
−2−ヒドロプロピレン−1,3−ジアミン 43)N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)−p−キシリレンジアミン 44)N,N’−ビス(2,2,6,6−テトラメチル
ピペリジン−4−イル)スクシンアミド 45)ジ(2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−
4−イル)N−(2,2,6,6−テトラメチルピペリ
ジン−4−イル)−β−アミノ−ジプロピオネート 46)次式の化合物
【化38】 47)4−(ビス−2−ヒドロキシエチルアミノ)−
1,2,2,6,6−ペンタメチルピペリジン 48)4−(3−メチル−4−ヒドロキシ−5−第三ブ
チルベンズアミド)−2,2,6,6−テトラメチルピ
ペリジン 49)4−メタクリルアミド−1,2,2,6,6−ペ
ンタメチルピペリジン
【0058】(c’)式XIIcで表される化合物
【化39】 式中、nは数1または2であり、G、G1 およびG11
(a’)において定義された通りであり、そしてnが1
の場合、G15は炭素原子数2ないし8のアルキレン基ま
たは炭素原子数2ないし8のヒドロキシアルキレン基あ
るいは炭素原子数4ないし22のアシルオキシアルキレ
ン基を表し、そしてnが2の場合、G15は(−CH2
2 C(CH2 −)2 の基を表す。G15が炭素原子数2な
いし8のアルキレン基または炭素原子数2ないし8のヒ
ドロキシアルキレン基を表す場合、例えばそれはエチレ
ン基、1−メチルエチレン基、プロピレン基、2−エチ
ルプロピレン基または2−エチル−2−ヒドロキシメチ
ルプロピレン基である。炭素原子数4ないし22のアシ
ルオキシアルキレン基としてG15は、例えば2−エチル
−2−アセトキシメチルプロピレン基である。
【0059】この種類のポリアルキルピペリジン化合物
の例を以下に示す。 50)9−アザ−8,8,10,10−テトラメチル−
1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン 51)9−アザ−8,8,10,10−テトラメチル−
3−エチル−1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕ウンデ
カン 52)8−アザ−2,7,7,8,9,9−ヘキサメチ
ル−1,4−ジオキサスピロ〔4.5〕デカン 53)9−アザ−3−ヒドロキシメチル−3−エチル−
8,8,9,10,10−ペンタメチル−1,5−ジオ
キサスピロ〔5.5〕ウンデカン 54)9−アザ−3−エチル−3−アセトキシメチル−
9−アセチル−8,8,10,10−テトラメチル−
1,5−ジオキサスピロ〔5.5〕ウンデカン 55)2,2,6,6−テトラメチルピペリジン−4−
スピロ−2’−(1’,3’−ジオキサン)−5’−ス
ピロ−5’’−(1’’,3’’−ジオキサン)−
2’’−スピロ−4’’’−(2’’’,2’’’,
6’’’,6’’’−テトラメチルピペリジン)
【0060】(d’)式XIId、XIIeおよびXIIfで
表される化合物であり、式XIIfで表される化合物が好
ましい。
【化40】 式中、nは数1または2であり、G、G1 およびG11
(a’)において定義された通りであり、G16は水素原
子、炭素原子数1ないし12のアルキル基、アリル基、
ベンジル基、グリシジル基または炭素原子数2ないし6
のアルコキシアルキル基を表し、そして、
【0061】nが1である場合、G17は水素原子、炭素
原子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数3ないし
5のアルケニル基、炭素原子数7ないし9のアルアルキ
ル基、炭素原子数5ないし7のシクロアルキル基、炭素
原子数2ないし4のヒドロキシアルキル基、炭素原子数
2ないし6のアルコキシアルキル基、炭素原子数6ない
し10のアリール基、グリシジル基を表すか、あるいは
式−(CH2 )p−COO−Qまたは式−(CH2 )p
−O−CO−Qを表し、式中pは1または2であり、Q
は炭素原子数1ないし4のアルキル基またはフェニル基
を表し、そして、
【0062】nが2である場合、G17は炭素原子数2な
いし12のアルキレン基、炭素原子数4ないし12のア
ルケニレン基、炭素原子数6ないし12のアリーレン
基、−CH2 −CH(OH)−CH2 −O−D−O−C
2 −CH(OH)−CH2 −(式中Dは炭素原子数2
ないし10のアルキレン基、炭素原子数6ないし15の
アリーレン基、炭素原子数6ないし12のシクロアルキ
レン基を表す。)または−CH2 CH(OZ’)CH2
−(OCH2 −CH(OZ’)CH2 2 −(式中Z’
は水素原子、炭素原子数1ないし18のアルキル基、ア
リル基、ベンジル基、炭素原子数2ないし12のアルカ
ノイル基またはベンゾイル基を表す。)を表し、T1
よびT2 は互いに独立して水素原子、炭素原子数1ない
し18のアルキル基あるいは無置換型またはハロゲン化
または炭素原子数1ないし4のアルキル置換型の炭素原
子数6ないし10のアリール基もしくは炭素原子数7な
いし9のアルアルキル基を表し、あるいはT1 およびT
2 はそれらが結合している炭素原子で一緒になって炭素
原子数5ないし14のシクロアルカン環を形成する。
【0063】炭素原子数1ないし12のアルキル置換基
はいずれも、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル
基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、n−
ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、
n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基または
n−ドデシル基で表される。炭素原子数1ないし18の
アルキル基の意味の中でいずれの置換基も、例えば上述
に示した基で表され、そして例えばn−トリデシル基、
n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基またはn−オ
クタデシル基も表す。
【0064】炭素原子数2ないし6のアルコキシアルキ
ル置換基はいずれも、例えばメトキシメチル基、エトキ
シメチル基、プロポキシメチル基、第三−ブトキシメチ
ル基、エトキシエチル基、エトキシプロピレル基、n−
ブトキシエチル基、第三ブトキシエチル基、イソプロポ
キシエチル基またはプロポキシプロピル基である。G17
が炭素原子数3ないし5のアルケニル基を表す場合、例
えばそれは1−プロペニル基、アリル基、メタリル基、
2−ブテニル基または2−ペンテニル基である。
【0065】炭素原子数7ないし9のアルアルキル基と
してG17、T1 およびT2 は特にフェネチル基または特
にベンジル基である。T1 およびT2 が炭素原子で一緒
になってシクロアルカン環を形成する場合、例えばこれ
はシクロペンタン、シクロヘキサン、シクロオクタンま
たはシクロドデカン環であってよい。G17が炭素原子数
2ないし4のヒドロキシアルキル基である場合、例えば
それは2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシプロピ
ル基、2−ヒドロキシブチル基または4−ヒドロキシブ
チル基である。
【0066】炭素原子数6ないし10のアリール基とし
てG17、T1 およびT2 は、特に無置換型もしくはハロ
ゲン原子もしくは炭素原子数1ないし4のアルキル基に
より置換されたフェニル基、α−もしくはβ−ナフチル
基である。G17が炭素原子数2ないし12のアルキレン
基である場合、例えばそれはエチレン基、プロピレン
基、2,2−ジメチルプロピレン基、テトラメチレン
基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレ
ン基またはドデカメチレン基である。炭素原子数4ない
し12のアルケニレン基としてG17は、特に2−ブテニ
レン基、2−ペンテニレン基または3−ヘキセニレン基
である。
【0067】G17が炭素原子数6ないし12のアリーレ
ン基である場合、例えばそれはo−、m−またはp−フ
ェニレン基、1,4−ナフチレン基または4,4’−ジ
フェニレン基でる。Z’が炭素原子数2ないし12のア
ルカノイル基である場合、例えばそれはプロピオニル
基、ブチリル基、オクタノイル基、ドデカノイル基であ
るが、アセチル基が好ましい。炭素原子数2ないし10
のアルキレン基、炭素原子数6ないし15のアリーレン
基または炭素原子数6ないし12のシクロアルキレン基
としてDは(d’)において定義された通りである。
【0068】この種類のポリアルキルピペリジン化合物
の例を以下に示す。 56)3−ベンジル−1,3,8−トリアザ−7,7,
9,9−テトラメチルスピロ〔4.5〕デカン−2,4
−ジオン 57)3−n−オクチル−1,3,8−トリアザ−7,
7,9,9−テトラメチルスピロ〔4.5〕デカン−
2,4−ジオン 58)3−アリル−1,3,8−トリアザ−1,7,
7,9,9−ペンタメチルスピロ〔4.5〕デカン−
2,4−ジオン 59)3−グリシジル−1,3,8−トリアザ−7,
7,8,9,9−ペンタメチルスピロ〔4.5〕デカン
−2,4−ジオン 60)1,3,7,7,8,9,9−ヘプタメチル−
1,3,8−トリアザスピロ〔4.5〕デカン−2,4
−ジオン 61)2−イソプロピル−7,7,9,9−テトラメチ
ル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソスピロ
〔4.5〕デカン 62)2,2−ジブチル−7,7,9,9−テトラメチ
ル−1−オキサ−3,8−ジアザ−4−オキソスピロ
〔4.5〕デカン 63)2,2,4,4−テトラメチル−7−オキサ−
3,20−ジアザ−21−オキソジスピロ〔5.1.1
1.2〕ヘンエイコサン 64)2−ブチル−7,7,9,9−テトラメチル−1
−オキサ−4,8−ジアザ−3−オキソスピロ〔4.
5〕デカンおよび好ましくは: 65)8−アセチル−3−ドデシル−1,3,8−トリ
アザ−7,7,9,9−テトラメチルスピロ〔4.5〕
デカン−2,4−ジオン または以下に示す化合物:
【化41】
【0069】(e’)式XIIgで表される化合物が好ま
しい。
【化42】 式中nは数1または2であり、そしてG18は式
【化43】 または
【化44】 の基であり、式中GおよびG11は(a’)において定義
された通りであり、G1およびG2 は水素原子、メチル
基または一緒になって置換基=Oを表し、Eは−O−ま
たは−NG13−を表し、Aは炭素原子数2ないし6のア
ルキレン基または−(CH2 3 −O−を表し、Xは数
0または1であり、G13は水素原子、炭素原子数1ない
し12のアルキル基、炭素原子数2ないし5のヒドロキ
シアルキル基または炭素原子数5ないし7のシクロアル
キル基を表し、G19はG18と同様であるか、あるいは−
NG2122、−OG23、−NHCH2 OG23または−N
(CH2 OG232 の基の一つを表し、
【0070】nが1の場合、G20はG18またはG19と同
様であり、そしてnが2の場合、G20は−E−B−E−
の基(式中Bは炭素原子数2ないし8のアルキレン基ま
たは−N(G21)−の基の1つ又は2つにより鎖が中断
されている炭素原子数2ないし8のアルキレン基を表
す。)を表し、G21は炭素原子数1ないし12のアルキ
ル基、シクロヘキシル基、ベンジル基または炭素原子数
1ないし4のヒドロキシアルキル基あるいは式
【化45】 の基もしくは式
【化46】 の基を表し、G22は炭素原子数1ないし12のアルキル
基、シクロヘキシル基、ベンジル基または炭素原子数1
ないし4のヒドロキシアルキル基を表し、あるいはG21
およびG22は一緒になって炭素原子数4ないし5のアル
キレン基または炭素原子数4ないし5のオキサアルキレ
ン基、例えば−CH2 CH2 OCH2 CH2 −または式
−CH2 CH2 N(G11)CH2 CH2 −の基を表し、
そしてG23は水素原子、炭素原子数1ないし12のアル
キル基またはフェニル基を表す。
【0071】炭素原子数1ないし12のアルキル置換基
はいずれも、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル
基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、n−
ヘキシル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、
n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基または
n−ドデシル基である。炭素原子数2ないし5のヒドロ
キシアルキル置換基はいずれも、例えば2−ヒドロキシ
エチル基、2−ヒドロキシプロピル基、3−ヒドロキシ
プロピル基、2−ヒドロキシブチル基または4−ヒドロ
キシブチル基である。
【0072】Aが炭素原子数2ないし6のアルキレン基
である場合、例えばエチレン基、プロピレン基、2,2
−ジメチルプロピレン基、テトラメチレン基またはヘキ
サメチレン基である。G21およびG22が一緒になって炭
素原子数4ないし5のアルキレン基またはオキサアルキ
レン基である場合、例えばテトラメチレン基、ペンタメ
チレン基または3−オキサペンタメチレン基である。
【0073】この種類のポリアルキルピペリジン化合物
の例を以下に示す。
【化47】
【化48】 Rは化合物74に示されたものと同様の意味を有する。
【化49】 R’は化合物76に示されたものと同様の意味を有す
る。
【化50】
【0074】(f’)2,2,6,6−テトラアルキル
ピペリジン基を含む構造繰り返し単位を有するオリゴマ
ーまたはポリマー化合物であり、特にポリエステル、ポ
リエーテル、ポリアミド、ポリアミン、ポリウレタン、
ポリウレア、ポリアミノトリアジン、ポリ(メタ)アク
リレート、ポリ(メタ)アクリルアミドおよびそれらの
コポリマーであってそのような基を含むもの。
【0075】この種類の2,2,6,6−ポリアルキル
ピペリジン化合物の例は以下の式で表される化合物であ
り、式中mは2ないし約200の数である。
【化51】
【化52】
【化53】
【化54】 式中Rは式
【化55】 の基を表すか、あるいは分枝鎖
【化56】 を表し、m’およびm’’はそれぞれ0ないし200の
範囲内の整数を表し、但しm’+m’’=mである。
【0076】ポリマー化合物の更なる例は式
【化57】 で表される化合物とエピクロロヒドリンとの反応生成
物;ブタン−1,2,3,4−テトラカルボン酸と式
【化58】 で表される二官能性アルコールとのポリエステルであ
り、テトラカルボン酸から生じた該カルボキシル側鎖が
2,2,6,6−テトラメチル−4−ヒドロキシピペリ
ジンによりエステル化されたポリエステル;式
【化59】 (式中、基Rの約三分の一は−C2 5 であり、そして
その他は
【化60】 であり、mは2ないし200の範囲内の数である。)で
表される化合物;あるいは繰り返し単位が2つの単位
【化61】 および、それぞれの場合における1単位
【化62】 および1単位
【化63】 から構成されるコポリマーである。
【0077】式XIII aで表される化合物
【化64】 式中nは数1または2を表し、そして式中GおよびG11
は(a’)において定義された通りでり、そしてG14
(b’)において定義された通りであるが、G14に関し
て−CONH−Zおよび−CH2 −CH(OH)−CH
2 −O−D−O−の意味は除外される。
【0078】そのような化合物の例を以下に示す。
【化65】
【0079】特に興味深いものは成分(e)として式H
1、H2、H3、H4、H5またはH6の化合物の少な
くとも1種を含む組成物であり、
【化66】
【化67】 式中mは2ないし200の範囲内からの数である。
【0080】立体障害性アミン型の化合物は公知であ
り、いくつかは市販で入手可能である。登録商標チヌビ
ン(Tinuvin) 123、登録商標チヌビン144、登録商
標チヌビン292、登録商標チヌビン622および登録
商標チマソルブ(Chimassorb)944はチバシュペツァリ
テーテンシェミー(Ciba Spezialitatenchemie)株式会社
の保護商標名である。
【0081】新規組成物において登録商標チマソルブ1
19(チバシュペツァリテーテンシェミー株式会社)も
特に興味深い。登録商標チマソルブ119は2−クロロ
−4,6−ジ(4−n−ブチルアミノ−1,2,2,
6,6−ペンタメチルピペリジル)−1,3,5−トリ
アジンおよび1,2−ビス(3−アミノプロピルアミ
ノ)エタンから製造される縮合生成物である。
【0082】新規組成物の成分として特に好ましくは、
それらの分子量または平均分子量Mnが500ないし1
0000の範囲内、特に1000ないし10000の範
囲内である立体障害性アミンの添加である。これらの特
に重要なものは、分子量または平均分子量Mnが150
0ないし10000の範囲内、例えば2000ないし7
500の範囲内の立体障害性アミンのものである。
【0083】UV吸収剤として特に言及されるべきもの
は以下の通りである。2−(2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−
第三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2−(5’−第三ブチル−2’−ヒドロキシフ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ
−5’−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)フェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−第
三ブチル−2’−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベ
ンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒ
ドロキシ−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾ
トリアゾール、2−(3’−第二ブチル−5’−第三ブ
チル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾー
ル、2−(2’−ヒドロキシ−4’−オクチルオキシフ
ェニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’,5’−ジ−
第三アミル−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリア
ゾール、2−(3’,5’−ビス(α,α−ジメチルベ
ンジル)−2’−ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾ
ール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ−
5’−(2−オクチルオキシカルボニルエチル)フェニ
ル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−
第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシルオキ
シ)−カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェニ
ル)−5−クロロ−ベンゾトリアゾール、2−(3’−
第三ブチル−2’−ヒドロキシ−5’−(2−メトキシ
カルボニルエチル)フェニル)−5−クロロ−ベンゾト
リアゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキ
シ−5’−(2−メトキシカルボニルエチル)フェニ
ル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−第三ブチル−
2’−ヒドロキシ−5’−(2−オクチルオキシカルボ
ニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2−
(3’−第三ブチル−5’−[2−(2−エチルヘキシ
ルオキシ)カルボニルエチル]−2’−ヒドロキシフェ
ニル)ベンゾトリアゾール、2−(3’−ドデシル−
2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリ
アゾール、2−(3’−第三ブチル−2’−ヒドロキシ
−5’−(2−イソオクチルオキシカルボニルエチル)
フェニル)ベンゾトリアゾール、2,2’−メチレン−
ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−
6−ベンゾトリアゾル−2−イルフェノール]、2−
[3’−第三ブチル−5’−(2−メトキシカルボニル
エチル)−2’−ヒドロキシフェニル]ベンゾトリアゾ
ールとポリエチレングリコール300とのエステル交換
生成物、次式[R−CH2 CH2 −COOCH2 CH2
−]2 −[式中、Rは3’−第三ブチル−4’−ヒドロ
キシ−5’−2H−ベンゾトリアゾル−2−イルフェニ
ル基を表す。]で表されるもの。
【0084】2−ヒドロキシベンゾフェノン、例えば、
4−ヒドロキシ、4−メトキシ、4−オクトキシ、4−
デシルオキシ、4−ドデシルオキシ、4−ベンジルオキ
シ、4,2’,4’−トリヒドロキシおよび2’−ヒド
ロキシ−4,4’−ジメトキシ誘導体。置換および未置換安息香酸のエステル 、例えば、4−第
三ブチル−フェニルサリチレート、フェニルサリチレー
ト、オクチルフェニルサリチレート、ジベンゾイルレゾ
ルシノール、ビス(4−第三ブチルベンゾイル)レゾル
シノール、ベンゾイルレゾルシノール、2,4−ジ−第
三ブチルフェニル−3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
ロキシベンゾエート、ヘキサデシル−3,5−ジ−第三
ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル−
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート
および2−メチル−4,6−ジ−第三ブチルフェニル−
3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエー
ト。
【0085】アクリレート、例えば、エチル−α−シア
ノ−β,β−ジフェニルアクリレート、イソオクチル−
α−シアノ−β,β−ジフェニルアクリレート、メチル
−α−カルボメトキシシンナメート、メチル−α−シア
ノ−β−メチル−p−メトキシシンナメートまたはブチ
ル−α−シアノ−β−メチル−p−メトキシシンナメー
ト、メチル−α−カルボメトキシ−p−メトキシシンナ
メートおよびN−(β−カルボメトキシ−β−シアノビ
ニル)−2−メチルインドリン。
【0086】オキサミド、例えば、4,4’−ジオクチ
ルオキシオキサニリド、2,2’−ジエトキシオキサニ
リド、2,2’−ジオクチルオキシ−5,5’−ジ−第
三ブトキサニリド、2,2’−ジドデシルオキシ−5,
5’−ジ−第三ブトキサニリド、2−エトキシ−2’−
エチルオキサニリド、N,N’−ビス(3−ジメチルア
ミノプロピル)オキサミド、2−エトキシ−5−第三ブ
チル−2’−エトキサニリド、およびその2−エトキシ
−2’−エチル−5,4’−ジ−第三ブトキサニリドと
の混合物、o−およびp−メトキシならびにo−および
p−エトキシ−二置換オキサニリドの混合物。
【0087】2−(2−ヒドロキシフェニル)−1,
3,5−トリアジン、例えば、2,4,6−トリス(2
−ヒドロキシ−4−オクチルオキシフェニル)−1,
3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オク
チルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチ
ルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2,4
−ジヒドロキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジ
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−
ビス(2−ヒドロキシ−4−プロピルオキシフェニル)
−6−(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−ト
リアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−オクチルオキシ
フェニル)−4,6−ビス(4−メチルフェニル)−
1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−
ドデシルオキシフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジ
メチルフェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2
−ヒドロキシ−4−トリデシルオキシフェニル)−4,
6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,5−
トリアジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロ
キシ−3−ブチルオキシ−プロポキシ)フェニル]−
4,6−ビス(2,4−ジメチル)−1,3,5−トリ
アジン、2−[2−ヒドロキシ−4−(2−ヒドロキシ
−3−オクチルオキシ−プロピルオキシ)フェニル]−
4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−1,3,
5−トリアジン、2−[4−(ドデシルオキシ/トリデ
シルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)−2−ヒドロ
キシフェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェ
ニル)−1,3,5−トリアジン、2−[2−ヒドロキ
シ−4−(2−ヒドロキシ−3−ドデシルオキシ−プロ
ポキシ)フェニル]−4,6−ビス(2,4−ジメチル
フェニル)−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒド
ロキシ−4−ヘキシルオキシ)フェニル−4,6−ジフ
ェニル−1,3,5−トリアジン、2−(2−ヒドロキ
シ−4−メトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−
1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス[2−ヒ
ドロキシ−4−(3−ブトキシ−2−ヒドロキシ−プロ
ポキシ)フェニル]−1,3,5−トリアジン、2−
(2−ヒドロキシフェニル)−4−(4−メトキシフェ
ニル)−6−フェニル−1,3,5−トリアジン。
【0088】ニッケル化合物、例えば、2,2’−チオ
−ビス[4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)
フェノール]のニッケル錯体、例えば1:1または1:
2錯体であって、n−ブチルアミン、トリエタノールア
ミンまたはN−シクロヘキシルジエタノールアミンのよ
うなさらなる配位子を伴うまたは伴わないもの、ニッケ
ルジブチルジチオカルバメート、4−ヒドロキシ−3,
5−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸のモノアルキル
エステル、例えばメチルまたはエチルエステルのニッケ
ル塩、例えば2−ヒドロキシ−4−メチルフェニルウン
デシルケトキシムのようなケトキシムのニッケル錯体、
1−フェニル−4−ラウロイル−5−ヒドロキシピラゾ
ールのニッケル錯体であって、さらなる配位子を伴うま
たは伴わないもの。
【0089】存在しうる更なる添加剤は以下のものを含
む。ヒドロキシルアミン 、例えば、N,N−ジベンジルヒド
ロキシルアミン、N,N−ジエチルヒドロキシルアミ
ン、N,N−ジオクチルヒドロキシルアミン、N,N−
ジラウリルヒドロキシルアミン、N,N−ジテトラデシ
ルヒドロキシルアミン、N,N−ジヘキサデシルヒドロ
キシルアミン、N,N−ジオクタデシルヒドロキシルア
ミン、N−ヘキサデシル−N−オクタデシルヒドロキシ
ルアミン、N−ヘプタデシル−N−オクタデシルヒドロ
キシルアミン、水素化牛脂アミンから誘導されたN,N
−ジアルキルヒドロキシルアミン。ニトロン 、例えば、N−ベンジル−α−フェニル−ニト
ロン、N−エチル−α−メチル−ニトロン、N−オクチ
ル−α−ヘプチル−ニトロン、N−ラウリル−α−ウン
デシル−ニトロン、N−テトラデシル−α−トリデシル
−ニトロン、N−ヘキサデシル−α−ペンタデシル−ニ
トロン、N−オクタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロ
ン、N−ヘキサデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、
N−オクタデシル−α−ペンタデシル−ニトロン、N−
ヘプタデシル−α−ヘプタデシル−ニトロン、N−オク
タデシル−α−ヘキサデシル−ニトロン、水素化牛脂ア
ミンから製造されたN,N−ジアルキルヒドロキシルア
ミンから誘導されたニトロン。
【0090】チオ相乗剤、例えば、ジラウリルチオジプ
ロピオネートまたはジステアリルチオジプロピネート。過酸化物捕捉剤 、例えば、β−チオジプロピオン酸のエ
ステル、例えば、ラウリル、ステアリル、ミリスチルま
たはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾー
ルまたは2−メルカプトベンズイミダゾールの亜鉛塩、
亜鉛ジブチルジチオカルバメート、ジオクタデシルジス
ルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス(β−ドデ
シルメルカプト)プロピオネート。ポリアミド安定剤 、例えば、ヨウ化物および/またはリ
ン化合物と組み合せた銅塩および二価のマンガンの塩。
【0091】塩基性補助安定剤、例えば、メラミン、ポ
リビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシ
アヌレート、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、
ポリアミド、ポリウレタン、高級脂肪酸のアルカリ金属
塩およびアルカリ土類金属塩、例えばカルシウムステア
レート、亜鉛ステアレート、マグネシウムベヘネート、
マグネシウムステアレート、ナトリウムリシノレート、
カリウムパルミテート、アンチモンピロカテコレートま
たは亜鉛ピロカテコレート。核剤 、例えば、タルクのような無機材料、二酸化チタ
ン、酸化マグネシウムのような金属酸化物、ホスフェー
ト、カーボネートまたはサルフェートであって、好まし
くはアルカリ土類金属のもの、モノ−またはポリカルボ
ン酸のような有機化合物およびそれらの塩、例えば、4
−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸、
ナトリウムスクシネートまたはナトリウムベンゾエー
ト、イオン性コポリマー(”アイオノマー”)のような
ポリマー性化合物。
【0092】充填剤および強化剤、例えば、炭酸カルシ
ウム、シリケート、ガラス繊維、ガラス球、アスベス
ト、タルク、カオリン、雲母、バリウムサルフェート、
金属オキシドおよびヒドロキシド、カーボンブラック、
グラファイト、木粉および他の天然生成物の粉末または
繊維、合成繊維。その他の添加剤 、例えば、可塑剤、潤滑剤、乳化剤、顔
料、流動添加剤、触媒、流れ調整剤、蛍光増白剤、難燃
剤、帯電防止剤および発泡剤。
【0093】ベンゾフラノンおよびインドリノン、例え
ば、US−A−4325863、US−A−43382
44、US−A−5175312、US−A−5216
052、US−A−5252643、DE−A−431
6611、DE−A−4316622、DE−A−43
16876、EP−A−0589839もしくはEP−
A−0591102に記載されているものや、あるいは
3─[4−(2−アセトキシエトキシ)フェニル]−
5,7−ジ−第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、
5,7−ジ−第三ブチル−3−[4−(2−ステアロイ
ルオキシエトキシ)フェニル]ベンゾフラン−2−オ
ン、3,3’−ビス[5,7−ジ−第三ブチル−3−
(4−[2−ヒドロキシエトキシ]フェニル)ベンゾフ
ラン−2−オン]、5,7−ジ−第三ブチル−3−(4
−エトキシフェニル)ベンゾフラン−2−オン、3−
(4−アセトキシ−3,5−ジメチルフェニル)−5,
7−ジ−第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン、3−
(3,5−ジメチル−4−ピバロイルオキシフェニル)
−5,7−ジ−第三ブチル−ベンゾフラン−2−オン。
【0094】好ましい金属オキシドは二価の金属の酸化
物である。特に好ましくは第二メイングループまたはサ
ブグループの金属の酸化物であり、特に非常に好ましく
は酸化亜鉛、酸化カルシウムおよび酸化マグネシウムで
ある。金属オキシドの量はプラスチック添加剤粒子の所
期の使用に依存し、妥当には該粒子化合物は0ないし9
0重量%、好ましくは5ないし60重量%の金属オキシ
ドを含む。好ましい金属カルボネートは二価の金属のカ
ルボネートである。特に好ましくは第二メイングループ
またはサブグループの金属のカルボネートである。金属
カルボネートの量はプラスチック添加剤粒子の所期の使
用に依存し、妥当には該粒子化合物は0ないし90重量
%の金属カルボネートを含む。
【0095】本発明の関連における金属ソープは脂肪酸
の金属塩であり、これは金属、特に第二メイングループ
またはサブグループの元素あるいは錫で形成可能であ
る。ここで関連する化合物は特に、炭素原子数2ないし
22の飽和脂肪族カルボキシレート、炭素原子数3ない
し22の脂肪族オレフィンカルボキシレート、OH基の
少なくとも1つにより置換された炭素原子数2ないし2
2の脂肪族カルボキシレート、炭素原子数5ないし22
の環式または二環式カルボキシレート、炭素原子数7な
いし22の芳香族カルボキシレート、OH基の少なくと
も1つにより置換された炭素原子数7ないし22の芳香
族カルボキシレート、炭素原子数1ないし16のアルキ
ル基により置換されたフェニルカルボキシレートおよび
フェニル−炭素原子数1ないし16のアルキルカルボキ
シレートの一連からのカルシウム塩、マグネシウム塩、
錫塩または亜鉛塩であり、好ましくはステアレートおよ
びラウレートおよびベヘネートである。付加的な金属ソ
ープの量はプラスチック添加剤粒子の所期の使用に依存
し、妥当には該粒子化合物は0ないし90重量%、好ま
しくは5ないし60重量%の付加的な金属ソープを含
む。
【0096】本発明の関連で使用することのできるエポ
キシ化合物b)は脂肪族、芳香族、脂環族、芳香族脂肪
族またはヘテロ環式構造を有し、側鎖としてエポキシ基
が含まれる。エポキシ基は好ましくは、グリシジル基と
してエーテルまたはエステル結合により分子の残基に結
合するか、あるいはヘテロ環式アミン、アミドまたはイ
ミドのN−グリシジル誘導体である。これらのタイプの
エポキシ化合物は広く公知であり、市販で入手可能であ
る。
【0097】エポキシ化合物はエポキシ基を含み、特に
式Aで表される基
【化68】 を含み、該基は炭素原子、酸素原子、窒素原子またはイ
オウ原子と直接的に結合し、式中R1 およびR3 は両方
とも水素原子を表し、R2 は水素原子またはメチル基を
表し、nは0であるか、あるいは式中R1 およびR3
一緒になって−CH2 CH2 −または−CH2 CH2
2 −を表し、R2 はこの場合水素原子を表し、nは0
または1である。
【0098】言及されてよいエポキシ化合物の例を以下
に記す。 I)分子内にカルボキシル基を少なくとも2個含む化合
物とエピクロロヒドリンおよび/またはグリセロールジ
クロロヒドリンおよび/またはβ−メチルエピクロロヒ
ドリンを反応させることにより得ることが可能なポリグ
リシジルエステルおよびポリ(β−メチルグリシジル)
エステル。この反応は塩基の存在下で都合良く行われ
る。
【0099】分子内にカルボキシル基を少なくとも2個
含む化合物で利用することが可能なものは脂肪族ポリカ
ルボン酸である。これらのポリカルボン酸の例はグルタ
ル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライ
ン酸、セバシン酸または二量体化もしくは三量体化され
たリノレン酸である。しかしながら、例えばテトラヒド
ロフタル酸、4−メチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサ
ヒドロフタル酸又は4−メチルヘキサヒドロフタル酸の
ような脂環族ポリカルボン酸を使用することも可能であ
る。
【0100】芳香族ポリカルボン酸を使用することも可
能であり、代表的にはフタル酸、イソフタル酸、トリメ
リト酸およびピロメリト酸である。同様に使用可能なも
のは、例えばトリメリト酸およびポリオール、例えばグ
リセロールまたは2,2−ビス(4−ヒドロキシシクロ
ヘキシル)プロパンのカルボキシ末端を有する付加物で
ある。
【0101】II)アルカリ条件下または続くアルカリ処
理が伴う酸触媒の存在下において、遊離アルコール性水
酸基および/またはフェノール性水酸基を少なくとも2
個含む化合物と適当な置換型エピクロロヒドリンを反応
させることにより得ることが可能なポリグリシジルエー
テルおよびポリ(β−メチルグリシジル)エーテル。こ
のタイプのエーテルは例えば非環式アルコール、例えば
エチレングリコール、ジエチレングリコールおよびより
高級なポリ(オキシエチレン)グリコール、プロパン−
1,2−ジオールまたはポリ(オキシプロピレン)グリ
コール、プロパン−1,3−ジオール、ブタン−1,4
−ジオール、ポリ(オキシテトラメチレン)グリコー
ル、ペンタン−1,5−ジオール、ヘキサン−1,6−
ジオール、ヘキサン−2,4,6−トリオール、グリセ
ロール、1,1,1−トリメチロールプロパン、ビスト
リメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビ
トールならびにポリエピクロロヒドリンから誘導され
る。
【0102】これらは、脂環族アルコール、例えば1,
3−もしくは1,4−ジヒドロキシシクロヘキサン、ビ
ス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)メタン、2,2−
ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロパンまたは
1,1−ビス(ヒドロキシメチル)シクロヘキサ−3−
エンから二者択一的に誘導されることも可能であり、あ
るいはN,N−ビス(2−ヒドロキシエチル)アニリン
又はp,p’−ビス(2−ヒドロキシエチルアミノ)ジ
フェニルメタンのような芳香核を含む。エポキシ化合物
を、単核のフェノール、例えばレソルシノールまたはヒ
ドロキノンから誘導することも可能であり、あるいはそ
れらは多核のフェノール、例えばビス(4−ヒドロキシ
フェニル)メタン、2,2−ビス(4−ヒドロキシフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス(3,5−ジブロモ−4
−ヒドロキシフェニル)プロパンまたは4,4’−ジヒ
ドロキシジフェニルスルホンをベースとするか、あるい
は酸性条件下で得ることが可能なフェノールとホルムア
ルデヒドの縮合物、例えばフェノールノボラックをベー
スとする。
【0103】III )エピクロロヒドリンとアミノ水素原
子を少なくとも2個有するアミンの反応生成物の脱塩化
水素化により得ることが可能なポリ(N−グリシジル)
化合物。これらのアミンは例えばアニリン、トルイジ
ン、n−ブチルアミン、ビス(4−アミノフェニル)メ
タン、m−キシリレンジアミンまたはビス(4−メチル
アミノフェニル)メタンであり、そしてまたN,N,O
−トリグリシジル−m−アミノフェノールまたはN,
N,O−トリグリシジル−p−アミノフェノールであ
る。ポリ(N−グリシジル)化合物は、シクロアルキレ
ンウレア、例えばエチレンウレアまたは1,3−プロピ
レンウレアのN,N’−ジグリシジル誘導体ならびにヒ
ダントイン、例えば5,5−ジメチルヒダントインの
N,N’−ジグリシジル誘導体も含む。
【0104】IV)ポリ(S−グリシジル)化合物、例え
ばエタン−1,2−ジオールまたはビス(4−メルカプ
トメチルフェニル)エーテルのようなジチオールから誘
導されるジ−S−グリシジル誘導体である。 V)式Aの基を有するエポキシ化合物(式中R1 および
3 は一緒になって−CH2 CH2 −を表し、nは0で
ある)はビス(2,3−エポキシシクロペンチル)エー
テル、2,3−エポキシシクロペンチルグリシジルエー
テルまたは1,2−ビス(2,3−エポキシシクロペン
チルオキシ)エタンである。式Aの基を有するエポキシ
樹脂(式中R1 およびR3 は一緒になって−CH2 CH
2 −を表し、nは1である)の例は(3,4−エポキシ
−6−メチルシクロヘキシル)メチル3’,4’−エポ
キシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレートで
ある。
【0105】適当なエポキシドの例を以下に示す。 a)液体ビスフェノールAジグリシジルエーテル、例え
ば登録商標アラルダイト(Araldit )GY240、登録
商標アラルダイトGY250、登録商標アラルダイトG
Y260、登録商標アラルダイトGY266、登録商標
アラルダイトGY2600、登録商標アラルダイトMY
790; b)固体ビスフェノールAジグリシジルエーテル、例え
ば登録商標アラルダイト(Araldit )GT6071、登
録商標アラルダイトGT7071、登録商標アラルダイ
トGT7072、登録商標アラルダイトGT6063、
登録商標アラルダイトGT7203、登録商標アラルダ
イトGT6064、登録商標アラルダイトGT730
4、登録商標アラルダイトGT7004、登録商標アラ
ルダイトGT6084、登録商標アラルダイトGT19
99、登録商標アラルダイトGT7077、登録商標ア
ラルダイトGT6097、登録商標アラルダイトGT7
097、登録商標アラルダイトGT7008、登録商標
アラルダイトGT6099、登録商標アラルダイトGT
6608、登録商標アラルダイトGT6609、登録商
標アラルダイトGT6610; c)液体ビスフェノールFジグリシジルエーテル、例え
ば登録商標アラルダイト(Araldit )GY281、登録
商標アラルダイトGY282、登録商標アラルダイトP
Y302、登録商標アラルダイトPY306; d)テトラフェニルエタンの固体ポリグリシジルエーテ
ル、例えば登録商標CGエポキシ樹脂(CG Epoxy Resi
n)0163;
【0106】e)フェノール−ホルムアルデヒドのノボ
ラックの固体および液体ポリグリシジルエーテル、例え
ばEPN1138、EPN1139、GY1180、G
Y307; f)o−クレゾール−ホルムアルデヒドのノボラックの
固体および液体ポリグリシジルエーテル、例えばECN
1235、ECN1273、ECN1280、ECN1
299; g)アルコールの液体グリシジルエーテル、例えば登録
商標シェル(Shell )グリシジルエーテル162、登録
商標アラルダイト(Araldit )DY0390、登録商標
アラルダイトDY0391; h)カルボン酸の液体グリシジルエーテル、例えば登録
商標シェル(Shell )カルデュラ(Cardura )Eテレフ
タル酸エステル、トリメリト酸エステル、登録商標アラ
ルダイト(Araldit )PY284;
【0107】i)固体ヘテロ環式エポキシ樹脂(トリグ
リシジルイソシアヌレート)、例えば登録商標アラルダ
イト(Araldit )PT810; j)液体脂環族エポキシ樹脂、例えば登録商標アラルダ
イト(Araldit )CY179; k)p−アミノフェノールの液体N,N,O−トリグリ
シジルエーテル、例えば登録商標アラルダイト(Araldi
t )MY0510; l)テトラグリシジル−4,4’−メチレンベンズアミ
ンまたはN,N,N’,N’−テトラグリシジルジアミ
ノフェニルメタン、例えば登録商標アラルダイト(Aral
dit )MY720、登録商標アラルダイトMY721。 所望であれば、異なる構造を有するエポキシ化合物の混
合物を使用することもできる。
【0108】化合物b)は好ましくは次式
【化69】 の基を少なくとも2つ含む。化合物b)として特に好ま
しくは、式(I)ないし(III )の型
【化70】 (式中X1 、X2 およびX3 は無置換のもしくは置換基
を有するシクロヘキシレン、フェニレンまたはナフチレ
ンを表し、そしてX1 は所望により次式
【化71】 で表される無置換のもしくは置換基を有する基を表し、
そしてX2 は所望により次式
【化72】 で表される無置換のもしくは置換基を有する基を表
す。)で表される化合物および/またはそれらの混合物
である。
【0109】上述の基に対して適当な置換基は−O−、
−S−、−C(O)−、C(O)O−、−S(O)−、
−S(O2 )−、−C(CF3 2 −、アルキル基、ア
ルキレン基、アリール基、アリーレン基、アルコキシ
基、アリールオキシ基またはハロゲン原子であり、個々
もしくは様々な置換基が二倍もしくはそれ以上で存在す
ることも可能であり、あるいは置換基自体がそれぞれ置
換されていてもよい。適当なアルキル基の例は炭素原子
数1ないし18のアルキル基であり、例えばメチル基、
エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、第二ブチル
基、第三ブチル基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、
2−エチルヘキシル基、n−ノニル基、n−デシル基、
n−ウンデシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル
基、n−テトラデシル基、n−ヘキサデシル基またはn
−オクタデシル基およびこれらの分枝鎖状異性体であ
る。
【0110】可能なアルキレン基およびアルコキシ基
は、さらなる水素原子の除去または、それぞれ、酸素原
子の添加により上述のアルキル基から一般的に誘導する
ことが可能である。適当なアリール基の例は6ないし2
0個の炭素原子を有するものであり、例えばフェニレン
基、ビフェニレン基またはナフチレン基である。可能な
アリーレン基およびアリールオキシ基は、さらなる水素
原子の除去または、それぞれ、酸素原子の添加により上
述のアリール基から一般的に誘導することが可能であ
る。
【0111】好ましくは以下の式で表される基である。
1 に関しては、
【化73】
【化74】 であり、X2 に関しては、
【化75】 であり、X3 に関しては、
【化76】 (式中Y1 は直接結合、−O−、−S−または−C
(O)O−を表し、Y2 は直接結合、−SO2 −、−C
O−、−S−、−SO−、−C(CH3 2 −または−
C(CF3 2 −を表し、そしてnは1ないし10であ
る。)である。
【0112】芳香族環は、上述で詳細に記載された通
り、無置換のあるいはアルキル基、アリール基、アルコ
キシ基、アリールオキシ基またはハロゲン原子により1
つもしくはそれ以上に置換されたものである。成分b)
として特に好ましくは以下の化合物である。
【化77】
【化78】
【0113】本発明の粒子を実際に安定化させる全ての
ポリマーに添加することがンテンまたはノルボルネンの
ポリマー、ポリエチレン(所望に架橋されることができ
る。)、例えば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密
度および高分子量ポリエチレン(HDPE−HMW)、
高密度および超高分子量ポリエチレン(HDPE−UH
MW)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリ
エチレン(LDPE)、線状低密度ポリエチレン(LL
DPE)および分枝鎖状低密度ポリエチレン(BLDP
E)。ポリオレフィン、すなわち前段落において例示さ
れたモノオレフィンのポリマー、特にポリエチレンおよ
びポリプロピレンは、異なった、および特に以下の方法
によって製造されることができる。 a)ラジカル重合(通常、高圧下および高温で)。 b)触媒重合であって、通常1種またはそれ以上の周期
表のIVb、Vb、VIbまたはVIII群の金属原子
を含む触媒を使用するもの。これらの金属原子は通常1
個またはそれ以上の、代表的にはπ−またはσ−配位さ
れ得るオキシド、ハライド、アルコレート、エステル、
エーテル、アミン、アルキル、アルケニルおよび/また
はアリールのようなリガンドを有する。これらの金属錯
体は遊離状態または代表的には活性化塩化マグネシウ
ム、塩化チタン(III)、アルミナまたは酸化ケイ素
のような基材上に固定され得る。これらの触媒は重合媒
体中に可溶または不溶であり得る。触媒は重合において
それら自身で使用されることができ、または代表的には
金属アルキル、金属ヒドライド、金属アルキルハライ
ド、金属アルキルオキシドまたは金属アルキルオキサン
のようなさらなる活性化剤が使用されることができ、該
金属原子は周期表のIa、IIaおよび/またはIII
a群の元素である。活性化剤は例えばさらなるエステ
ル、エーテル、アミンまたはシリルエーテル基を用いて
変性され得る。これらの触媒系は通常、フィリップス
(Phillips)、スタンダード オイル インデ
ィアナ(Standard Oil Indian
a)、チグラー(−ナッタ)(Ziegler(−Na
tta))、TNZ(デュポン(DuPont))、メ
タロセンまたはシングルサイト触媒(single s
ite catalyst)(SSC)と命名される。
【0114】2.1)に記載されたポリマーの混合物、
例えばポリプロピレンとポリイソブチレンとの混合物、
ポリプロピレンとポリエチレン(例えばPP/HDP
E、PP/LDPE)および異なる型のポリエチレンの
混合物(例えばLDPE/HDPE)。 3.モノオレフィンおよびジオレフィンの相互または他
のビニルモノマーとのコポリマー、例えばエチレン/プ
ロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン(LLD
PE)およびそれらと低密度ポリエチレン(LDPE)
との混合物、プロピレン/ブト−1−エンコポリマー、
プロピレン/イソブチレンコポリマー、エチレン/ブト
−1−エンコポリマー、エチレン/ヘキセンコポリマ
ー、エチレン/メチルペンテンコポリマー、エチレン/
ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテンコポリマー、
プロピレン/ブタジエンコポリマー、イソブチレン/イ
ソプレンコポリマー、エチレン/アルキルアクリレート
コポリマー、エチレン/アルキルメタクリレートコポリ
マー、エチレン/ビニルアセテートコポリマーおよびそ
れらと一酸化炭素とのコポリマーまたはエチレン/アク
リル酸コポリマーおよびそれらの塩(アイオノマー)並
びにエチレンとプロピレンおよびヘキサジエン、ジシク
ロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのよう
なジエンとのターポリマー、およびそのようなコポリマ
ー相互および1)において上記されたポリマーとの混合
物、例えばポリプロピレン/エチレン−プロピレンコポ
リマー、LDPE/エチレン−ビニルアセテートコポリ
マー、LDPE/エチレン−アクリル酸コポリマー、L
LDPE/エチレン−ビニルアセテートコポリマー、L
LDPE/エチレン−アクリル酸コポリマーおよび交互
またはランダムポリアルキレン/一酸化炭素コポリマー
およびそれらと例えばポリアミドのような他のポリマー
との混合物。 4.炭化水素樹脂(例えば炭素原子数5ないし9)であ
って、それらの水素化変性物(例えば粘着付与剤)を含
むもの、およびポリアルキレンおよび澱粉の混合物。 5.ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレン)、ポリ
(α−メチルスチレン)。 6.スチレンまたはα−メチルスチレンとジエンまたは
アクリル誘導体とのコポリマー、例えばスチレン/ブタ
ジエン、スチレン/アクリロニトリル、スチレン/アル
キルメタクリレート、スチレン/ブタジエン/アルキル
アクリレート、スチレン/ブタジエン/アルキルメタク
リレート、スチレン/無水マレイン酸、スチレン/アク
リロニトリル/メチルアクリレート、スチレンコポリマ
ーおよび他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエ
ンポリマーまたはエチレン/プロピレン/ジエンターポ
リマーの高衝撃強度性の混合物、およびスチレン/ブタ
ジエン/スチレン、スチレン/イソプレン/スチレン、
スチレン/エチレン/ブチレン/スチレンまたはスチレ
ン/エチレン/プロピレン/スチレンのようなスチレン
のブロックコポリマー。
【0115】7.スチレンまたはα−メチルスチレンの
グラフトコポリマー、例えばポリブタジエンにスチレ
ン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−
アクリロニトリルコポリマーにスチレン、ポリブタジエ
ンにスチレンおよびアクリロニトリル(またはメタアク
リロニトリル)、ポリブタジエンにスチレン、アクリロ
ニトリルおよびメチルメタクリレート、ポリブタジエン
にスチレンおよび無水マレイン酸、ポリブタジエンにス
チレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸または
マレイミド、ポリブタジエンにスチレンおよびマレイミ
ド、ポリブタジエンにスチレンおよびアルキルアクリレ
ートまたはアルキルメタクリレート、エチレン/プロピ
レン/ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニ
トリル、ポリアルキルアクリレートまたはポリアルキル
メタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、ア
クリレート/ブタジエンコポリマーにスチレンおよびア
クリロニトリル、並びにそれらの6)に列挙されたコポ
リマーとの混合物、例えば、ABS、MBS、ASAま
たはAESポリマーとして知られているコポリマー混合
物。 8.ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、
塩素化ゴム、イソブチレン−イソプレンの塩素化および
臭素化コポリマー(ハロブチルゴム)、塩素化またはス
ルホ塩素化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレ
ンのコポリマー、エピクロロヒドリン ホモ−およびコ
ポリマー、特にハロゲン含有ビニル化合物のポリマー、
例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ
化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、並びにそれらのコポ
リマー、例えば塩化ビニル/塩化ビニリデン、塩化ビニ
ル/ビニルアセテートまたは塩化ビニリデン/ビニルア
セテートコポリマー。 9.α,β−不飽和酸から誘導されたポリマーおよびポ
リアクリレート並びにポリメタクリレートのようなそれ
らの誘導体、ブチルアクリレートで耐衝撃変性された
(impact−modified)ポリメチルメタク
リレート、ポリアクリルアミドおよびポリアクリロニト
リル。 10.9)で述べられたモノマーの相互または他の不飽
和モノマーとのコポリマー、例えばアクリロニトリル/
ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル/アルキルア
クリレートコポリマー、アクリロニトリル/アルコキシ
アルキルアクリレートまたはアクリロニトリル/ビニル
ハライドコポリマーまたはアクリロニトリル/アルキル
メタクリレート/ブタジエンターポリマー。
【0116】11.不飽和アルコールおよびアミンから
誘導されたポリマーまたはアシル誘導体またはそれらの
アセタール、例えばポリビニルアルコール、ポリビニル
アセテート、ポリビニルステアレート、ポリビニルベン
ゾエート、ポリビニルマレエート、ポリビニルブチラ
ル、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン、
並びに1)において上記されたオレフィンとのそれらの
コポリマー。 12.ポリアルキレングリコール、ポリエチレンオキシ
ド、ポリプロピレンオキシドのような環式エーテルのホ
モポリマーおよびコポリマーまたはそれらのビスグリシ
ジルエーテルとのコポリマー。 13.ポリオキシメチレンのようなポリアセタールおよ
びコモノマー例えばエチレンオキシドを含むそれらのポ
リオキシメチレン、熱可塑性ポリウレタン、アクリレー
トまたはMBSで変性されたポリアセタール。 14.ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、およ
びポリフェニレンオキシドとスチレンポリマーまたはポ
リアミドとの混合物。 15.一方の成分としてヒドロキシル末端基で終了され
たポリエーテル、ポリエステルまたはポリブタジエン、
および他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシ
アナートから誘導されたポリウレタン、並びにそれらの
前駆物質。
【0117】16.ジアミン並びにジカルボン酸および
/またはアミノカルボン酸または対応するラクタムから
誘導されたポリアミドおよびコポリアミド、例えばポリ
アミド4、6、6/6、6/10、6/9、6/12、
4/6、12/12、11、および12、m−キシレ
ン、ジアミンおよびアジピン酸から出発した芳香族ポリ
アミド、ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸ま
たは/およびテレフタル酸から変性剤としてエラストマ
ーを用いてまたは用いずに製造されたポリアミド、例え
ばポリ−2,4,4−トリメチルヘキサメチレンテレフ
タルアミドまたはポリ−m−フェニレンイソフタルアミ
ド。上記されたポリアミドとポリオレフィン、オレフィ
ンコポリマー、アイオノマーまたは化学結合もしくはグ
ラフトされたエラストマー、またはポリエチレングリコ
ール、ポリプロピレングリコールまたはポリテトラメチ
レングリコールのようなポリエーテルとのブロックコポ
リマー。EPDMまたはABSで変性されたポリアミド
またはコポリアミド、および加工の間に縮合されたポリ
アミド(RIMポリアミド系)。 17.ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミド、ポ
リエーテルイミド、ポリエステルイミド、ポリヒダント
インおよびポリベンズイミダゾール。 18.ジカルボン酸並びにジオールおよび/またはヒド
ロキシカルボン酸または対応するラクトンから誘導され
たポリエステル、例えばポリエチレンテレフタレート、
ポリブチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフ
タレート、ポリ−1,4−ジメチロールシクロヘキサン
テレフタレート、ポリヒドロキシベンゾエート、並びに
ヒドロキシル末端基で終了されたポリエーテルから誘導
されたブロックコポリエーテルエステル、ポリエチレン
ナフチレート、テレフタル酸、イソフタル酸、ナフタレ
ンジカルボン酸とエチレングリコールおよび/またはシ
クロヘキサンジメタノールのコポリエステル、およびま
たポリカーボネートまたはMBSで変性されたポリエス
テル。
【0118】19.ポリカーボネートおよびポリエステ
ルカーボネート。 20.ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリ
エーテルケトン。 21.一方の成分としてアルデヒド、および他方の成分
としてフェノール、尿素またはメラミンから誘導された
架橋ポリマー、例えばフェノール/ホルムアルデヒド樹
脂、尿素/ホルムアルデヒド樹脂およびメラミン/ホル
ムアルデヒド樹脂。 22.乾式および不乾式アルキド樹脂。 23.飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコール
および架橋剤としてのビニル化合物とのコポリエステル
から誘導された不飽和ポリエステル樹脂、およびまた低
燃焼性のそれらのハロゲン含有変性物。 24.置換されたアクリレートから誘導された架橋可能
なアクリル樹脂、例えばエポキシアクリレート、ウレタ
ンアクリレートまたはポリエステルアクリレート。 25.メラミン樹脂、尿素樹脂、イソシアナート、イソ
シアヌレート、ポリイソシアナートまたはエポキシ樹脂
で架橋されたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびア
クリレート樹脂。 26.脂肪族、環式脂肪族、ヘテロ環式または芳香族グ
リシジル化合物から誘導された架橋エポキシ樹脂、例え
ばビスフェノールAおよびビスフェノールFのジグリシ
ジルエーテルの生成物であって、無水物またはアミンの
ような慣用の硬化剤と、促進剤を用いてまたは用いずに
架橋されたもの。
【0119】27.セルロース、天然ゴム、ゼラチンの
ような天然ポリマーおよび重合同属の法則において化学
変性されたそれらの誘導体、例えばセルロースアセテー
ト、セルロースプロピオネートおよびセルロースブチレ
ート、またはメチルセルロースのようなセルロースエー
テル、並びにロジンおよびそれらの誘導体。 28.上記されたポリマーのブレンド(ポリブレン
ド)、例えばPP/EPDM、ポリアミド/EPDMま
たはABS、PVC/EVA、PVC/ABS、PVC
/MBS、PC/ABS、PBTP/ABS、PC/A
SA、PC/PET、PC/PBT、PVC/CPE、
PVC/アクリレート、POM/熱可塑性PU、PC/
熱可塑性PU、POM/アクリレート、POM/MB
S、PPO/HIPS、PPO/PA6.6およびコポ
リマー、PA/HDPE、PA/PP、PA/PPO、
PBT/PC/ABSまたはPBT/PET/PC。
【0120】好ましいポリマーはポリオレフィンであ
り、特に様々な変性状態のポリプロピレンおよびポリエ
チレンである。本発明は付加的に本発明の方法により得
ることが可能な粒子および、有機ポリマー、特にポリエ
チレンまたはポリプロピレンを安定化させるために該粒
子を使用する方法を提供する。本発明は本発明の粒子を
含む有機ポリマーも提供する。
【0121】
【実施例】以下に示す例により本発明を説明する。A)押出による安定剤ブレンドの製造 実施例A1 :アラルダイト(Araldit )GT7072
(70部)およびイルガノックス(Irganox )1222
(30部)を2つの重量計量供給装置から70kg/h
の押出量でブス(Buss)コ−ニーダー(ブス(Buss)7
0)中に導入する。以下の押出パラメーターを実験開始
前にセットする。 −温度分布: セクション1:50℃ セクション2:60℃ 排出スクリュー:60℃ スクリューシャンク:50℃ ダイヘッド:120℃ −回転速度: ニーダー:65rpm 排出スクリュー:60rpm ホットカットペレット製造機:500rpm
【0122】コ−ニーダーの攪拌セクションにおいて該
安定剤を可塑化し、そして均一に分散させる。その後、
溶融物を排出スクリューで圧縮し、20個のダイ穿孔
(直径2.5mm)からなるダイプレートを通してプレ
スし、そしてホットカットペレット製造機で円筒の粒子
に切断する。切断の段階において、溶融物は所望により
空気/水の混合物で冷却される。切断の段階後、まず粒
子を予備脱水させ、次いで流動層乾燥機で乾燥し、そし
て室温まで冷却する。粒子は均一の生成物形態を有し、
微粉末が無く、貯蔵に安定(3ヵ月以上)である。同一
の原料の粉末混合物(同じ組成)は、ほんの短い貯蔵期
間(4週間以下)の後、塊を形成する。
【0123】実施例A2:アラルダイト(Araldit )G
T7072(70部)、および原料イルガノックス(Ir
ganox )1010(7.5部)、イルガホス(Irgafos
)168(7.5部)、カルシウムステアレート(3
部)およびカルシウムオキシド(12部)からなる粉末
混合物を2つの重量計量供給装置から30kg/hの押
出量でブス(Buss)コ−ニーダー(ブス(Buss)70)
中に導入する。以下の押出パラメーターを実験開始前に
セットする。 −温度分布: セクション1:60℃ セクション2:70℃ 排出スクリュー:70℃ スクリューシャンク:60℃ ダイヘッド:90℃ −回転速度: ニーダー:360rpm 排出スクリュー:95rpm ホットカットペレット製造機:100rpm
【0124】コ−ニーダーの攪拌セクションにおいて該
安定剤を可塑化し、そして均一に分散させる。成分の全
部は溶融しない。その後、溶融物を排出スクリューで圧
縮し、20のダイ穿孔(直径2.5mm)からなるダイ
プレートを通してプレスし、そしてホットカットペレッ
ト製造機で円筒の粒子に切断する。切断の段階におい
て、溶融物は所望により空気/水の混合物で冷却され
る。切断の段階後、まず粒子を予備脱水させ、次いで流
動層乾燥機で乾燥し、そして室温まで冷却する。粒子は
均一の生成物形態を有し、微粉末が無く、貯蔵に安定
(3ヵ月以上)である。同一の原料の粉末混合物(同じ
組成)は、ほんの短い貯蔵期間(4週間以下)の後、塊
を形成する。粒子は均一の生成物形態を有し、微粉末が
無く、貯蔵に安定である。
【0125】B)使用実験 実施例B1:圧力貯蔵試験 実施例A2に従って製造した粒子をガラスビーカーに3
日間、40℃のオーブンに貯蔵する。この時間の間、粒
子は800g重量の作用を受ける。オーブンからの除去
において、粒子をガラスビーカーから金属プレート上に
振って空けることができる。集められた粒子の微片はス
パチュラにより簡単に壊すことができる。実施例B2:熱貯蔵による粒子品質の試験 種々の組成からなる安定剤ブレンドを実施例A1および
A2に従って製造する。使用する原料(エポキシド、安
定剤)または同一の原料の場合は性質に依存して、全部
あるいはほんの何種かの材料が押出機で溶融する。さら
に使用された原料の機能として、溶融物を切断段階で空
気、空気/水混合物または水単独により冷却する。
【0126】以下に示されるように粒子を試験する。5
0gの混合物をアルミナトレーの台の上に均一に分配す
る。次いで、このトレーをそれぞれの試験温度で24時
間オーブンに保つ。試験の終了後トレーの内容を金属プ
レート上に振り空ける。粒子を突いたときの傾向は以下
のように分類される。 1=軽くたたくことにより崩壊する。 2=スパチュラにより簡単に壊れる。 3=タブレット化し、力を入れることにより壊すことが
できる。 4=一緒になって焼結している。 結果を表1および表2に示す。
【0127】
【0128】 突いたときの傾向 1=軽くたたくことにより崩壊する。
【0129】C)オーブン老化試験 微粉末が無く、エポキシ含有安定剤粒子の効果を、それ
らをPP/EPDM(一部着色された廃物材料)中に取
り込み、次いで試験を実行することにより研究する。表
3に示された成分は実施例A2に従って粒子を形成する
ために加工されるか、あるいは比較試験の場合、粉末の
形態で混合され、最大260℃および100rpmにお
いて共回転二軸スクリュー押出機を使用することにより
ポリマー(PP/EPDM廃物材料)中に取り込まれ
る。ポリマー粒子は最大240℃で射出成形され、試験
材料を与える。対流乾燥オーブン中135℃(表3)ま
たは150℃(表4)において、試験材料を老化させ
る。DIN53448に従って衝撃引張強さにより老化
を観測する(表3)か、あるいは破断点に対する曲げ試
験により老化を決定する(表4)。
【0130】
【0131】 表3および表4における例は安定剤粒子が良好な安定化
効果を有することを示す。材料の性質は高い水準で長期
間持続する。驚くべきことに、慣用の物理的混合物、市
販の固体ビスフェノールAジグリシジルエーテルおよび
詰め込まれた安定剤混合物(比較実験1ないし4)の場
合よりも、より良好な値が達成される。
【0132】使用した酸化防止剤 アラルダイト(Araldit )GT6071:ビスフェノー
ルAジグリシジルエーテル、エポキシ数(Aeq./k
g)2.15ないし2.22、軟化点70ないし75
℃。 アラルダイト(Araldit )GT7072:ビスフェノー
ルAジグリシジルエーテル、エポキシ数(Aeq./k
g)1.68ないし1.75、軟化点82ないし90
℃。
【化79】
【化80】 使用された生成物は市販の製品であり、名称はチバシュ
ペツァリテーテンシェミーCIBA Spezialitatenchemie)
の登録商標である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハインツ ヘルベスト ドイツ国,ヘーペンハイム 64646, ク ロイツベルガー ストラーセ 16 (72)発明者 ルドルフ ファエンドネル ドイツ国,リムバッハ 64668, サック ガーセ 3

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 a)フェノール系酸化防止剤、有機ホス
    フィットまたはホスホナイト、ホスホネート、立体障害
    性アミンまたはUV吸収剤の個々あるいはこれら化合物
    の混合物、および b)室温で固体であるエポキシ化合物の少なくとも1種 を含む微粉末の少ないプラスチック添加剤の粒子。
  2. 【請求項2】 成分b)として多官能価エポキシドを含
    む請求項1に記載の粒子。
  3. 【請求項3】 10ないし90重量%のエポキシ化合物
    を含む請求項1に記載の粒子。
  4. 【請求項4】 ISO3435に従って定義された1m
    mおよび6mmの間の粒度分布を有する請求項1に記載
    の粒子。
  5. 【請求項5】 500g/l以上の粗嵩密度を有する請
    求項1に記載の粒子。
  6. 【請求項6】 15s(tR15)以下のDIN534
    92によるフリーフローを有する請求項1に記載の粒
    子。
  7. 【請求項7】 0.1重量%以下のヒューバッハ(Heuba
    ch) 試験により決定された微細なフラクションを有する
    請求項1に記載の粒子。
  8. 【請求項8】 ヒドロタルサイト、金属オキシド、金属
    カーボネート、金属ソープ、帯電防止剤、粘着防止剤、
    難燃剤、チオエステル、内部および外部潤滑剤、加工助
    剤ならびに顔料の群からのさらなるプラスチック添加剤
    を含む請求項1に記載の粒子。
  9. 【請求項9】 30ないし80重量%のエポキシ化合
    物、5ないし25重量%の立体障害性フェノール型の酸
    化防止剤、5ないし25重量%のホスフィットまたはホ
    スホナイト、10ないし40重量%のCaOおよび1な
    いし5重量%のカルシウムステアレートからなる請求項
    1に記載の粒子。
  10. 【請求項10】 50ないし80重量%のエポキシ化合
    物および50ないし20重量%のホスホネートからなる
    請求項1に記載の粒子。
  11. 【請求項11】 フェノール系酸化防止剤として、3,
    5,3’,5’−テトラ−第三ブチル−4,4’−ジヒ
    ドロキシジベンジルエーテル、オクタデシル4−ヒドロ
    キシ−3,5−ジメチルベンジルメルカプトアセテー
    ト、トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシ
    ベンジル)アミン、ビス(4−第三ブチル−3−ヒドロ
    キシ−2,6−ジメチルベンジル)ジチオテレフタレー
    ト、ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベ
    ンジル)スルフィド、イソオクチル−3,5−ジ−第三
    ブチル−4−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテー
    ト、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三ブチル−4
    −ヒドロキシベンジル)−2,4,6−トリメチルベン
    ゼン、1,4−ビス(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
    ドロキシベンジル)−2,3,5,6−テトラメチルベ
    ンゼン、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第三ブチル
    −4−ヒドロキシベンジル)フェノール;2,4−ビス
    オクチルメルカプト−6−(3,5−ジ−第三ブチル−
    4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−トリアジン、
    2−オクチルメルカプト−4,6−ビス(3,5−ジ−
    第三ブチル−4−ヒドロキシアニリノ)−1,3,5−
    トリアジン、2−オクチルメルカプト−4,6−ビス
    (3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェノキ
    シ)−1,3,5−トリアジン、2,4,6−トリス
    (3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェノキ
    シ)−1,2,3−トリアジン、1,3,5−トリス
    (3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル)
    イソシアヌレート、1,3,5−トリス(4−第三ブチ
    ル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベンジル)イソ
    シアヌレート、2,4,6−トリス(3,5−ジ−第三
    ブチル−4−ヒドロキシフェニルエチル)−1,3,5
    −トリアジン、1,3,5−トリス(3,5−ジ−第三
    ブチル−4−ヒドロキシフェニルプロピオニル)ヘキサ
    ヒドロ−1,3,5−トリアジン、1,3,5−トリス
    (3,5−ジシクロヘキシル−4−ヒドロキシベンジ
    ル)イソシアヌレート;4−ヒドロキシラウラニリド、
    4−ヒドロキシステアラニリド、オクチルN−(3,5
    −ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシフェニル)カルバメ
    ート;あるいはβ−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒ
    ドロキシフェニル)プロピオン酸とメタノール、エタノ
    ール、オクタノール、オクタデカノール、1,6−ヘキ
    サンジオール、1,9−ノナンジオール、エチレングリ
    コール、1,2−プロパンジオール、ネオペンチルグリ
    コール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコ
    ール、トリエチレングリコール、ペンタエリスリトー
    ル、トリス(ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、
    N,N’−ビス(ヒドロキシエチル)オキサルアミド、
    3−チアウンデカノール、3−チアペンタデカノール、
    トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパ
    ン、4−ヒドロキシメチル−1−ホスファ−2,6,7
    −トリオキサビシクロ〔2.2.2〕オクタンのエステ
    ルまたは 【化1】 ペンタエリスリトールのβ−(3,5−ジ−第三ブチル
    −4−ヒドロキシフェニル)プロピオン酸エステル 【化2】 オクタデシルβ−(3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒド
    ロキシフェニル)プロピオネート 【化3】 2−(1,1−ジメチルエチル)−6−〔〔3−(1,
    1−ジメチルエチル)−2−ヒドロキシ−5−メチルフ
    ェニル〕メチル〕−4−メチルフェニル2−プロペノエ
    ート; 【化4】 1,6−ヘキサンジイル3,5−ビス(1,1−ジメチ
    ルエチル)−4−ヒドロキシフェニルプロパノエート; 【化5】 1,2−エタンジイルビス(オキシ−2,1−エタンジ
    イル)3−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキ
    シ−5−メチルフェニルプロパノエート; 【化6】 {2−メチル−4,6−ビス〔(オクチルチオ)メチ
    ル〕フェノール}; 【化7】 パラクレゾールおよびジシクロペンタジエンのブチル化
    反応生成物(平均分子量600ないし700) 【化8】 2,2’−エチリデン−ビス−(4,6−ジ−第三ブチ
    ルフェノール); 【化9】 チオジ−2,1−エタンジイル3,5−ビス(1,1−
    ジメチルエチル)−4−ヒドロキシフェニルプロパノエ
    ート; 【化10】 4,4’,4’’−〔(2,4,6−トリメチル−1,
    3,5−フェニルトリイル)トリス(メチレン)〕トリ
    ス〔2,6−ビス(1,1−ジメチルエチル)フェノー
    ル〕; 【化11】 1,3,5−トリス〔〔3,5−ビス(1,1−ジメチ
    ルエチル)−4−ヒドロキシフェニル〕メチル〕−1,
    3,5−トリアジン−2,4,6(1H,3H,5H)
    −トリオンを含む請求項1に記載の粒子。
  12. 【請求項12】 ホスホネートとして、ジメチル2,5
    −ジ−第三ブチル−4−ヒドロキシベンジル−ホスホネ
    ート、ジエチル3,5−ジ−第三ブチル−4−ヒドロキ
    シベンジルホスホネート、ジオクタデシル3,5−ジ−
    第三ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジ
    オクタデシル−5−第三ブチル−4−ヒドロキシ−3−
    メチルベンジル−ホスホネートおよび3,5−ジ−第三
    ブチル−4−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノエチル
    エステルのカルシウム塩を含む請求項1に記載の粒子。
  13. 【請求項13】 ホスフィットまたはホスホナイトとし
    て、トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルキルホ
    スフィット、フェニルジアルキルホスフィット、トリス
    (ジフェニルアルキルホスフィト)アミン、トリス(ノ
    ニルフェニル)ホスフィット、トリラウリルホスフィッ
    ト、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペン
    タエリスリチルジホスフィット、トリス(2,4−ジ−
    第三ブチルフェニル)ホスフィット、ビス(2,4−ジ
    −第三ブチルフェニル)ペンタエリスリチルジホスフィ
    ット、トリステアリルソルビチルトリホスフィット、テ
    トラキス(2,4−ジ−第三ブチルフェニル)4,4’
    −ビフェニレンジホスホナイト、3,9−ビス(2,4
    −ジ−第三ブチル−4−メチルフェノキシ)−2,4,
    8,10−テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ
    〔5.5〕ウンデカン、3,9−トリス(2,4,6−
    トリス−第三ブチルフェノキシ)−2,4,8,10−
    テトラオキサ−3,9−ジホスファスピロ〔5.5〕ウ
    ンデカン、2,4,6−トリス−第三ブチルフェニル2
    −ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジイル−ホス
    フィットおよび2,2’−エチリデンビス(4,6−ジ
    −第三ブチルフェニル)フルオロホスフィットを含む請
    求項1に記載の粒子。
  14. 【請求項14】 付加的な添加剤として、第二メイング
    ループまたはサブグループの金属の酸化物を含む請求項
    1に記載の粒子。
  15. 【請求項15】 エポキシ化合物として、 【化12】 【化13】 からなる群から選択されたエポキシドを含む請求項1に
    記載の粒子。
  16. 【請求項16】 a)フェノール系酸化防止剤、有機ホ
    スフィットまたはホスホナイト、ホスホネート、立体障
    害性アミンまたはUV吸収剤の個々あるいはこれら化合
    物の混合物、および b)室温で固体である多官能価エポキシ化合物の少なく
    とも1種 をエポキシ化合物の少なくとも80重量%が溶融するま
    で加熱すること、直径が1および10mmの間であるダ
    イまたは穿孔を備えるプレートで溶融物をプレスするこ
    と、および粒子を形成させるためにプラスチック状態で
    得られたストランドを切断することからなるプラスチッ
    ク添加剤の粒子を製造する方法。
  17. 【請求項17】 (ダイヘッドにおいて)出口ダイ以前
    の温度が60ないし160℃の間である請求項16に記
    載の方法。
  18. 【請求項18】 請求項16に記載の方法により得るこ
    とが可能な粒子。
  19. 【請求項19】 請求項1に記載の粒子を有機ポリマー
    を安定化させるために使用する方法。
  20. 【請求項20】 請求項1に記載の粒子を含む有機ポリ
    マー。
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