JPS58145744A - 充填剤入りポリオレフィン組成物 - Google Patents
充填剤入りポリオレフィン組成物Info
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- JPS58145744A JPS58145744A JP58017566A JP1756683A JPS58145744A JP S58145744 A JPS58145744 A JP S58145744A JP 58017566 A JP58017566 A JP 58017566A JP 1756683 A JP1756683 A JP 1756683A JP S58145744 A JPS58145744 A JP S58145744A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、充填剤入りポリオレフィンに関し、特に充
填剤入りポリオレフィンの長時間安定化に関する。
填剤入りポリオレフィンの長時間安定化に関する。
ポリオレフィンがタルクの如き充填剤を含む場合、充填
剤がポリマーの熱及び光化学的酸化ケ促進するために、
安定性はかなり低下される。充填剤はまたポリオレフィ
ン中のペース安定剤（長時間安定剤）として用いられる
立体障害フェノールの活性を極度に低下せしめる。従っ
て、充填剤入りポリオレフィンに対しては、立体障害フ
ェノール酸化防止剤だけでなく、その効果を高めるため
に補助安定剤をも使用することが必要である。そのよう
々補助安定剤は主として硫黄化合物、例えば、ノステア
リルチオノゾロビオネートである。
剤がポリマーの熱及び光化学的酸化ケ促進するために、
安定性はかなり低下される。充填剤はまたポリオレフィ
ン中のペース安定剤（長時間安定剤）として用いられる
立体障害フェノールの活性を極度に低下せしめる。従っ
て、充填剤入りポリオレフィンに対しては、立体障害フ
ェノール酸化防止剤だけでなく、その効果を高めるため
に補助安定剤をも使用することが必要である。そのよう
々補助安定剤は主として硫黄化合物、例えば、ノステア
リルチオノゾロビオネートである。
しかしながら、そのような硫黄化合物の使用を避けるＣ
とが望ましいのであって、それは主としてそれらの不快
な臭いのためであり、またそれらが他の添加剤、例えば
、光安定剤と反応したり、それらの活性を低下させるこ
とがあるからである。
とが望ましいのであって、それは主としてそれらの不快
な臭いのためであり、またそれらが他の添加剤、例えば
、光安定剤と反応したり、それらの活性を低下させるこ
とがあるからである。
ペース安定剤のほかに、ポリオレフィンが高い加工温度
にさらされている間に熱劣化するのを防止するために、
加工安定剤を用いることも必要である。今や、未充填ポ
リオレフィン中の加工安定剤として知られている一部の
化合物が、立体障害フェノールを含む充填剤入りポリオ
レフィン中の長時間補助安定剤として作用する性質をも
有し、従って他の硫黄含有補助安定剤を使用しなくても
よいということが見出されたのである。
にさらされている間に熱劣化するのを防止するために、
加工安定剤を用いることも必要である。今や、未充填ポ
リオレフィン中の加工安定剤として知られている一部の
化合物が、立体障害フェノールを含む充填剤入りポリオ
レフィン中の長時間補助安定剤として作用する性質をも
有し、従って他の硫黄含有補助安定剤を使用しなくても
よいということが見出されたのである。
従って、本発明は立体障害フェノール及び下記式Ｉ及び
／又は■で示される化合物を含む充填剤入りポリオレフ
ィンを提供する。
／又は■で示される化合物を含む充填剤入りポリオレフ
ィンを提供する。
上式中、Ｒは未置換フェニル又は１又は２個の０１〜１
２アルキル基を表わし、ｎは０又は１を表わし、Ａはフ
ェニル、ジフェニル、ジフェニルエーテル、ジフェニル
メタン又はジベンゾフランの単官能価もしくは二官能価
残基を表わす。
２アルキル基を表わし、ｎは０又は１を表わし、Ａはフ
ェニル、ジフェニル、ジフェニルエーテル、ジフェニル
メタン又はジベンゾフランの単官能価もしくは二官能価
残基を表わす。
式Ｉの化合物の方が好ましい。
好ましくはＲはジアルキルフェニル基であり、更に好ま
しくは２，４−ジアルキルフェニル基、特に２−アルキ
ル基が分枝しているものである。
しくは２，４−ジアルキルフェニル基、特に２−アルキ
ル基が分枝しているものである。
４−アルキル基も分枝しているのが更に好ましく、もっ
とも好ましいＲ基は２．４−ノーｔｅｒｔ−ブチルフェ
ニルである。式ｌの化合物において、基Ｒは同一であっ
てもあるいは相異っていてもよいが、同一であるのが好
ましい。式Ｉ及び／又は式Ｈの化合物の混合物を用いる
こともできる。
とも好ましいＲ基は２．４−ノーｔｅｒｔ−ブチルフェ
ニルである。式ｌの化合物において、基Ｒは同一であっ
てもあるいは相異っていてもよいが、同一であるのが好
ましい。式Ｉ及び／又は式Ｈの化合物の混合物を用いる
こともできる。
Ａがフェニル基の残基である場合ｎは好ましくはＯであ
り、Ａが他の基である場合ｎは好ましくは１である。好
ましくは、Ａはフェニル、ジフェニル又はジフェニルエ
ーテル基の残基、更に好ましくは４．４′−ジフェニレ
ン又は４，４′−ジフェニルエーテル残基である。
り、Ａが他の基である場合ｎは好ましくは１である。好
ましくは、Ａはフェニル、ジフェニル又はジフェニルエ
ーテル基の残基、更に好ましくは４．４′−ジフェニレ
ン又は４，４′−ジフェニルエーテル残基である。
立体障害フェノールは公知の２，６−ツアルキルフエノ
ール誘導体、特に２．６−ノーｔｅｒｔ −ブチルフェ
ノール又は２−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノー
ルの誘導体であってよい。そのような化合物の例は、 β−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ノロピオン酸ステアリルエステル、テトラキシ−〔
メチレン−３−（３’、５’−ノーを一ゾチルー４−ヒ
ト９０キシフェニル）グロ♂オネート〕メタン、 １．３．３−）リス−（３−メチル−４−ヒドロキシ−
５−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−
２，４，６−（ＩＨ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、 ビス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ノメ
チルペンゾル）ジチオールテレフタレート、トリス（３
，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンノル）イソ
シアヌレート、 ３．５−ノーｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ
ミン酸、！ｌ−１，３，５−）リス−（２−ヒドロキシ
エチル）−５−）リアジン−２，４，６−（ＩＨ，３に
、５Ｈ）−）リオンとのトリエステル、 ビス〔３，３−ビス−（４′−ヒドロキシ−３−を−〕
＋ルフェニルＮＩＨＩＩ’Ｊダリコールエステル、１．
３．５−トリメチル−２，４，６−）リス−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、 ２．２′−メチレンビス−（４−メチル−６−を−ブチ
ルフェニル）テレフタレート、 ４．４′−メチレンビス−（２，６−ジーｔ−ブチルフ
ェノール）、 ４．４′−ブチリデンビス−（６−ｔ−ブチル−ｍ−ク
レゾール）、及び ２．２′−メチレンビス−（４−メチル−６−を−ブチ
ルフェノール） である。
ール誘導体、特に２．６−ノーｔｅｒｔ −ブチルフェ
ノール又は２−メチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノー
ルの誘導体であってよい。そのような化合物の例は、 β−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニ
ル）ノロピオン酸ステアリルエステル、テトラキシ−〔
メチレン−３−（３’、５’−ノーを一ゾチルー４−ヒ
ト９０キシフェニル）グロ♂オネート〕メタン、 １．３．３−）リス−（３−メチル−４−ヒドロキシ−
５−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−
２，４，６−（ＩＨ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、 ビス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ノメ
チルペンゾル）ジチオールテレフタレート、トリス（３
，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンノル）イソ
シアヌレート、 ３．５−ノーｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ
ミン酸、！ｌ−１，３，５−）リス−（２−ヒドロキシ
エチル）−５−）リアジン−２，４，６−（ＩＨ，３に
、５Ｈ）−）リオンとのトリエステル、 ビス〔３，３−ビス−（４′−ヒドロキシ−３−を−〕
＋ルフェニルＮＩＨＩＩ’Ｊダリコールエステル、１．
３．５−トリメチル−２，４，６−）リス−（３，５−
ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、 ２．２′−メチレンビス−（４−メチル−６−を−ブチ
ルフェニル）テレフタレート、 ４．４′−メチレンビス−（２，６−ジーｔ−ブチルフ
ェノール）、 ４．４′−ブチリデンビス−（６−ｔ−ブチル−ｍ−ク
レゾール）、及び ２．２′−メチレンビス−（４−メチル−６−を−ブチ
ルフェノール） である。
適当な充填剤は白亜、ガラス繊維、タルク又は水酸化ア
ルミニウムを含む。好ましい充填剤は白亜及びタルク、
特にタルクである。充填剤入りポリオレフィンは合計車
量に対して少なくとも５重量％の充填剤を含むポリマー
であると理解される。
ルミニウムを含む。好ましい充填剤は白亜及びタルク、
特にタルクである。充填剤入りポリオレフィンは合計車
量に対して少なくとも５重量％の充填剤を含むポリマー
であると理解される。
しかしながら、通常の充填剤入りポリオレフィンは合計
重量に対して１０〜５０重量係、好ましくは２０〜４０
重量係の充填剤を含む。
重量に対して１０〜５０重量係、好ましくは２０〜４０
重量係の充填剤を含む。
存在する立体障害フェノールの濃度は、式Ｉ又は■の補
助安定剤の存在下に、充填剤入りポリオレフィンに有効
な長時間安定化を与えるのに必要な濃度である。これは
、一般に、硫黄含有補助安定剤とともに通常用いられる
のと同じ濃度、例えば、ポリマー及び充填剤の合計重量
に対して０．０２〜０４重量係、好ましくは０．０５〜
０２重を係である。
助安定剤の存在下に、充填剤入りポリオレフィンに有効
な長時間安定化を与えるのに必要な濃度である。これは
、一般に、硫黄含有補助安定剤とともに通常用いられる
のと同じ濃度、例えば、ポリマー及び充填剤の合計重量
に対して０．０２〜０４重量係、好ましくは０．０５〜
０２重を係である。
式Ｉ又は■の化合物の一度は、有効量の立体障吾フェノ
ールとともに補助安定剤として用いられる場合に、有効
な長時間安定化を与えるのに必要な濃度である。好まし
くは、この濃度は、ｊ？ ＩＪママ−び充填剤の合計重
量に対して０．０２〜０．４重量係、更に好ましくは０
．０５〜０．２重１ｉｔｑｂである。
ールとともに補助安定剤として用いられる場合に、有効
な長時間安定化を与えるのに必要な濃度である。好まし
くは、この濃度は、ｊ？ ＩＪママ−び充填剤の合計重
量に対して０．０２〜０．４重量係、更に好ましくは０
．０５〜０．２重１ｉｔｑｂである。
立体障害フェノールの式Ｉ及び／又は■の化合物に対す
る重量比は好ましくは２：１〜１：３、更に好ましくは
ｌ；１〜１；２である。
る重量比は好ましくは２：１〜１：３、更に好ましくは
ｌ；１〜１；２である。
適当なポリオレフィン樹脂はポリエチレン、ポリプロピ
レン、エチレン／ノロビレノコ４リマー及びポリブチレ
ンであり、これらのうちではポリゾロピレンが好ましい
。ポリプロピレンは高分子又は低分子鎗のものであって
よく、またアタクチックでもアイソタクチックでもよい
が、しかし充填剤入りポリプロピレンは通常は標準アタ
クチツ１ クポリマーであろう。
レン、エチレン／ノロビレノコ４リマー及びポリブチレ
ンであり、これらのうちではポリゾロピレンが好ましい
。ポリプロピレンは高分子又は低分子鎗のものであって
よく、またアタクチックでもアイソタクチックでもよい
が、しかし充填剤入りポリプロピレンは通常は標準アタ
クチツ１ クポリマーであろう。
ポリオレフィン樹脂は、一般に、製造者により既にペー
ス安定化されて販売されている。即ち、（１１） 通常は、立体障害フェノールにもとづく長時間安定剤（
酸化防止剤）を既に含んでいる。従って、この場合には
、本発明の充填剤入りポリオレフィンは式Ｉ又は■の化
合物及び充填剤を溶融されたペース安定化ポリオレフィ
ンと混合することにより製造することができる。
ス安定化されて販売されている。即ち、（１１） 通常は、立体障害フェノールにもとづく長時間安定剤（
酸化防止剤）を既に含んでいる。従って、この場合には
、本発明の充填剤入りポリオレフィンは式Ｉ又は■の化
合物及び充填剤を溶融されたペース安定化ポリオレフィ
ンと混合することにより製造することができる。
これは、通常の方法で、単一の混合操作により、例工ば
、ニーダ−又はロールミキサー中で、又はロッド、チー
ーブ、容器、？トル、形材、フオーム及びコーテッド金
属線の如き製品が製造されるような押出器又はスクリウ
射出成形機中における同時成形によって、行うことがで
きる。あるいは、式■又はＨの化合物をポリオレフィン
の一部とそして充填剤を他の一部と溶融混合し、次いで
これら２つの部分をいっしょに溶融混合してもよい。
、ニーダ−又はロールミキサー中で、又はロッド、チー
ーブ、容器、？トル、形材、フオーム及びコーテッド金
属線の如き製品が製造されるような押出器又はスクリウ
射出成形機中における同時成形によって、行うことがで
きる。あるいは、式■又はＨの化合物をポリオレフィン
の一部とそして充填剤を他の一部と溶融混合し、次いで
これら２つの部分をいっしょに溶融混合してもよい。
高濃度の補助安定剤及び／又は充填剤とともにポリオレ
フ（ンを含もマスターノ々ッチ組成物を製造してもよく
、次いでこれを大量のポリオレフィン中に混合してもよ
い。ポリオレフィンがペース安定剤を含んでいない場合
には、上述した溶融混合（１２） 操作のいかなる段階においてもこれを添加することがで
きる。
フ（ンを含もマスターノ々ッチ組成物を製造してもよく
、次いでこれを大量のポリオレフィン中に混合してもよ
い。ポリオレフィンがペース安定剤を含んでいない場合
には、上述した溶融混合（１２） 操作のいかなる段階においてもこれを添加することがで
きる。
本発明の充填剤入りポリオレフィン中に他の安定剤及び
補助安定剤を用いてもよいが、これは、立体障害フェノ
ールと式ｌ又は■の化合物の組合せが加工中においても
及びその後の長期間に亘っても良好な安定化を与えるの
で、不必要である。
補助安定剤を用いてもよいが、これは、立体障害フェノ
ールと式ｌ又は■の化合物の組合せが加工中においても
及びその後の長期間に亘っても良好な安定化を与えるの
で、不必要である。
有効量の硫黄含有補助安定剤は存在しないのが好ましく
、式Ｉ又は■の化合物以外にポリオレフ（ンの長時間に
亘る熱及び光化学的酸化に対する立体障害フェノールの
安定化効果を増大させる性質を有する化合物の有効量を
含まないのが更に好ましい。
、式Ｉ又は■の化合物以外にポリオレフ（ンの長時間に
亘る熱及び光化学的酸化に対する立体障害フェノールの
安定化効果を増大させる性質を有する化合物の有効量を
含まないのが更に好ましい。
これは、他のタイツの安定剤、例えば、紫外線安定剤及
ヒ２− （２’−ヒドロキシフェニル）ベンズトリアゾ
ール類、２−ヒドロキシベンゾフェノｙｉ、ｉ＋３−ビ
ス（２′−ヒドロキシペンソイル）ベンゼン類、サリチ
レート類、シンナメート類、任意に置換された安臭香酸
のエステル、立体障害アミン類及び修酸ジアミド類の如
き光安定剤の存在を除外するものではない。
ヒ２− （２’−ヒドロキシフェニル）ベンズトリアゾ
ール類、２−ヒドロキシベンゾフェノｙｉ、ｉ＋３−ビ
ス（２′−ヒドロキシペンソイル）ベンゼン類、サリチ
レート類、シンナメート類、任意に置換された安臭香酸
のエステル、立体障害アミン類及び修酸ジアミド類の如
き光安定剤の存在を除外するものではない。
他の添加剤、例えば、難燃剤及び帯電防止剤が存在して
いてもよい。
いてもよい。
下記の例は本発明を更に説明するためのものである。例
中、「係」は全て重量で示す。
中、「係」は全て重量で示す。
例１
化防止剤及び０、ｌ’ｌのステアリン酸カルシウムでペ
ース安定化された１００ｇのポリプロピレン（Ｐｒｏｆ
ａｘ ６５０１ 、Ｈｅｒｃｕｌｅｓ Ｉｒ１ｃ、 〜
米国ルブラウェア州、ウイルミントン）を２０ＩＩの市
販のタルク及び０．１１のテトラキス（２，４−ジ−ｔ
−グチルフェニル） −４、４／−ゾフェニレンジホス
ホナイト（式ＩにおいてＲが２，４−ジーを一ブチルフ
ェニルで、Ａが４．４′−ジフェニレンで、ｎが１であ
る化合物）とよく混合した。混合物を押出機巾約２５０
℃で溶融混合し、押出物をグラニユール化し、次いで２
トンプレス中１９０℃において０．５ ＋ｍ厚のプレー
トにプレスした。
ース安定化された１００ｇのポリプロピレン（Ｐｒｏｆ
ａｘ ６５０１ 、Ｈｅｒｃｕｌｅｓ Ｉｒ１ｃ、 〜
米国ルブラウェア州、ウイルミントン）を２０ＩＩの市
販のタルク及び０．１１のテトラキス（２，４−ジ−ｔ
−グチルフェニル） −４、４／−ゾフェニレンジホス
ホナイト（式ＩにおいてＲが２，４−ジーを一ブチルフ
ェニルで、Ａが４．４′−ジフェニレンで、ｎが１であ
る化合物）とよく混合した。混合物を押出機巾約２５０
℃で溶融混合し、押出物をグラニユール化し、次いで２
トンプレス中１９０℃において０．５ ＋ｍ厚のプレー
トにプレスした。
式■の化合物を介在させずに、Ｐｒｏｆａｘ ６５０１
とタルクから、同様にしてコートロールグレートを調製
し、表Ｉに示す如き、本発明の範囲外の２棟の異なる市
販の加工安定剤を式Ｉの化合物の代りに用いて、比較例
とした。同じ安定剤を含む未充填ポリゾロビレ／からも
プレートをブレスした。
とタルクから、同様にしてコートロールグレートを調製
し、表Ｉに示す如き、本発明の範囲外の２棟の異なる市
販の加工安定剤を式Ｉの化合物の代りに用いて、比較例
とした。同じ安定剤を含む未充填ポリゾロビレ／からも
プレートをブレスした。
１１）試験
サンプルプレートを１５０°±０５℃の循環エアーオー
プン中に入れ、クラックの発生のきざしを日々調べた。
プン中に入れ、クラックの発生のきざしを日々調べた。
肉眼で観察可能なりラックの開始までの貯蔵日数を記録
した。結果を表Ｉに示す。
した。結果を表Ｉに示す。
以下余白
！
表Ｉ： Ｐｒｏｆａｘ ６５０１
上記の結果は、これらの加工安定剤は未充填ポリゾロピ
レンの長時間安定性を向上させないけれども、充填剤入
りポリゾロピレンにおいては式ｌの化合物のみが補助安
定化作用を有するということを示す。
レンの長時間安定性を向上させないけれども、充填剤入
りポリゾロピレンにおいては式ｌの化合物のみが補助安
定化作用を有するということを示す。
例２
より安定性の低いポリゾロピレン（Ｉａｐｌｅｎ 。
ＥｎｐａｔｒＯＩ Ｓ、Ａ、スペイン）を用いて例１の
操作を繰り返した。表■に示す如き同様の結果が得られ
た。
操作を繰り返した。表■に示す如き同様の結果が得られ
た。
例３〜８
テトラキス（２，４−・シーｔ−ブチルフェニル）−４
、４’−ノフェニレンジホスホナイトの代りに、下記に
示す式Ｉの化合物を用いて、例１ｂ及び２ｂの操作を繰
り返した。
、４’−ノフェニレンジホスホナイトの代りに、下記に
示す式Ｉの化合物を用いて、例１ｂ及び２ｂの操作を繰
り返した。
例黒 ＲＡ ｎ
同様に良好な結果が得られた。
以下余白
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 立体障害フェノール及び下記式Ｉ及び／又は１■で
示される化合物を含む充填剤入りポリオレフィン。 上式中、Ｒは未置換フェニル又は１又は２個のＣ４〜、
２アルキル基を表わし、ｎは０又は１を表わし、Ａはフ
ェニル、ジフェニル、ジフェニルエーテル、ノフェニル
メタン又はジベンゾフランの単官能価もしくは二官能価
残基を表わす。 ２、立体障害フェノール用の硫黄含有補助安定剤の有効
量を含まない特許請求の範囲第１項記載の充填剤入りポ
リオレフィン。 ３、式Ｉ又は１の化合物以外に、ポリオレフィンの長時
間に亘る熱及び光化学的酸化に対する立体障害フェノー
ルの安定化効果を増大させる性質を有する化合物の有効
量を含まない特許請求の範囲第１項記載の充填剤入りポ
リオレフィン。 ４、式Ｉ及び／又は■の化合物において、少なくとも１
個の基Ｒが２，４−ノアルキルフェニル基である特許請
求の範囲第１〜３項のいずれかに記載の充填剤入りポリ
オレフィン。 ５、式■において各基Ｒが２，４−ノーｔ−ブチルフェ
ニル基である化合物を含む特許請求の範囲第４項記載の
充填剤入りポリオレフィン。 ６ 式Ｉの化合物において、ｎが０であり、Ａがフェニ
ルである特許請求の範囲第５項記載の充填剤入り？リオ
レフィン＠ ７ 式ｉの化合物において、ｎが１であり、Ａが４．４
′−ジフェニレン又は４．４′−ジフェニルエーテルで
ある特許請求の範囲第５項記載の充填剤入りポリオレフ
ィン。 ８、立体障害フェノールが２，６−ノーｔ−ブチルフェ
ノール又は２−メチル−６−ｔ−プチルフェノールの誘
導体である特許請求の範囲第１〜７項のいずれかに記載
の充填剤入りポリオレフィン。 ９ 立（ｍＷフェノールがテトラキス−〔メチレン−３
−（３／ 、 ５／−・シーｔ−ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）ｆロピオネート〕メタンである特許請求の
範囲第８項記載の充填剤入りポリオレフィン。 １０、合計シ酸に対して１０〜５０重量係の充填剤を含
む特許請求の範囲第１〜９項のいずれかに記載の充填剤
入りポリオレフィン。 １１、充填剤がタルクである特許請求の範囲第１〜ｌＯ
項のいずれかに記載の充填剤入り、ｔ？ ＩＪオレフィ
ン０ １２．０．０２〜０．４縦蓋チの立体障害フェノール及
び０．０２〜０４重量係の式！及び／又はＨの化合物を
含む特許請求の範囲第１〜１１項のいずれかに記載の充
填剤入りポリオレフィン。 １３、立体障害フェノールの式Ｉ及び／又は■の化合物
に対する重量比が２＝１〜ｌ：３である特許請求の範囲
第１〜１２項のいずれかに記載の充填剤入りポリオレフ
ィン。 １４、ポリオレフィン樹脂がポリゾロピレンである特許
請求の範囲第１〜１３項のいずれかに記載の充填剤入り
ポリオレフィン。 １５、加工温度及び長時間酸化に対して安定化された充
填剤入りポリオレフィンを製造するに当り、補助安定剤
の介在なしに立体障害フェノールでペース安定化された
未充填ポリオレフィン樹脂をａ）充填剤及びｂ）下記式
■及び／又は■：〔上式中、Ｒは未置換フェニル又は１
又は２個のＣ１〜１２アルキル基を表わし、ｎばＯ又は
１を表わし、Ａはフェニル、ジフェニル、ジフェニルエ
ーテル、ジフェニルメタン又はジベンゾフランの単官能
価もしくは二官能価残基全表わす〕で示される化合物と
溶融混合する工程を含んでなる方法。 １６ 充填剤及び式Ｉ及び／又は■の化合物が単一の
溶融混合操作でポリオレフィンと混合される％粁請求の
範囲第１５項記載の方法。 １７、、Ｗ＋）オレフィンの一部が充填剤と溶融混合さ
れ ｐ ＋Ｊオレフィンの他の一部が式Ｉ及び／又は■
の化合物と溶融混合され、そしてこれらのポリオレフィ
ン部分がいっしょに溶融混合される特許請求の範囲第１
５項記載の方法。 １８ 特許請求の範囲第１〜１４項のいずれかに記載の
充填剤入りポリオレフィンを含む成形品。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3204256 | 1982-02-08 | ||
| DE3204256.6 | 1982-02-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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