JP2002273868A - Device and method for discharging material, apparatus and method for manufacturing color filter, apparatus and method for manufacturing liquid crystal device, apparatus and method for manufacturing el device, and electronic device to be manufactured by the methods - Google Patents

Device and method for discharging material, apparatus and method for manufacturing color filter, apparatus and method for manufacturing liquid crystal device, apparatus and method for manufacturing el device, and electronic device to be manufactured by the methods

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To shorten a scanning time of an ink jet head part for forming patterns such as filter elements of a color filter, picture element pixels of an EL device, etc. SOLUTION: The apparatus for manufacturing the color filter comprised of a plurality of filter elements arranged on a substrate has a plurality of head parts 20 each including a nozzle array 28 of a plurality of arranged nozzles 27, an ink supply unit for supplying a filter element material to the head parts 20, a carriage 25 for supporting the head parts 20 side by side, a horizontal scanning driving device for horizontally scanning and moving the carriage 25 in an X direction, and a vertical scanning driving device for vertically scanning and moving the carriage 25 in a Y direction. The carriage 25 supports the plurality of head parts 20 individually in a tilt state with an in-plane inclination angle θ.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、対象物に材料を吐
出する材料の吐出装置、及び材料の吐出方法に関する。
より具体的には、液晶装置等といった光学装置に用いら
れるカラーフィルタを製造する製造装置及び製造方法に
関する。また、本発明は、カラーフィルタを有する液晶
装置の製造装置及び製造方法に関する。また、本発明
は、EL発光層を用いて表示を行うEL装置の製造装置
及び製造方法に関する。また、それら方法を用いて製造
される電子機器に関する。
[0001] 1. Field of the Invention [0002] The present invention relates to a material discharging apparatus and a material discharging method for discharging a material to an object.
More specifically, the present invention relates to a manufacturing apparatus and a manufacturing method for manufacturing a color filter used for an optical device such as a liquid crystal device. Further, the present invention relates to an apparatus and a method for manufacturing a liquid crystal device having a color filter. Further, the present invention relates to a manufacturing apparatus and a manufacturing method of an EL device for performing display using an EL light emitting layer. In addition, the present invention relates to an electronic device manufactured using the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、携帯電話機、携帯型コンピュータ
等といった電子機器の表示部に液晶装置、エレクトロル
ミネッセンス装置(以下EL装置という)等といった表
示装置が広く用いられている。また最近では、表示装置
によってフルカラー表示を行うことが多くなっている。
液晶装置によるフルカラー表示は、例えば、液晶層によ
って変調される光をカラーフィルタに通すことによって
行われる。そして、カラーフィルタは、ガラス、プラス
チック等によって形成された基板の表面に、例えば、R
(赤),G(緑),B(青)のドット状の各色フィルタ
エレメントをストライプ配列、デルタ配列又はモザイク
配列等といった所定の配列で並べることによって形成さ
れる。
2. Description of the Related Art In recent years, display devices such as liquid crystal devices and electroluminescence devices (hereinafter referred to as EL devices) have been widely used for display units of electronic devices such as portable telephones and portable computers. Recently, full-color display is often performed by a display device.
Full-color display by a liquid crystal device is performed, for example, by passing light modulated by a liquid crystal layer through a color filter. Then, the color filter is, for example, R
It is formed by arranging dot-shaped (red), G (green), and B (blue) color filter elements in a predetermined arrangement such as a stripe arrangement, a delta arrangement, or a mosaic arrangement.

【0003】また、EL装置によってフルカラー表示を
行う場合には、例えば、ガラス、プラスチック等によっ
て形成された基板の表面に、電極を配列し、その上に例
えば、R(赤),G(緑),B(青)のドット状の各色
EL発光層を所定の配列で並べ、これらのEL発光層を
電極に印加する電圧を制御することによって希望の色を
発光させ、これにより、フルカラーの表示を行う。
When full-color display is performed by an EL device, electrodes are arranged on the surface of a substrate formed of, for example, glass, plastic, or the like, and R (red), G (green), for example, are arranged thereon. , B (blue) dot-shaped EL light-emitting layers are arranged in a predetermined arrangement, and these EL light-emitting layers emit light of a desired color by controlling the voltage applied to the electrodes, thereby displaying a full-color display. Do.

【0004】従来、カラーフィルタのR,G,B等の各
色フィルタエレメントをパターニングする場合や、EL
装置のR,G,B等の各色絵素ピクセルをパターニング
する場合に、フォトリソグラフィー法を用いることは知
られている。しかしながらこのフォトリソグラフィー法
を用いる場合には、工程が複雑であることや、各色材料
やフォトレジスト等を多量に消費するのでコストが高く
なる等といった問題があった。
[0004] Conventionally, when patterning each color filter element such as R, G, B of a color filter, or by EL
It is known to use a photolithography method when patterning each color picture element pixel such as R, G, B of the apparatus. However, when this photolithography method is used, there are problems that the process is complicated and the cost is increased because a large amount of each color material and photoresist are consumed.

【0005】この問題を解消するため、インクジェット
法によってフィルタ材料やEL発光材料等をドット状に
吐出することによりドット状配列のフィラメントやEL
発光層等を形成する方法が提案された。
In order to solve this problem, a filter material or an EL light emitting material or the like is ejected in the form of dots by an ink-jet method, so that a filament or EL having a dot arrangement is formed.
A method for forming a light emitting layer and the like has been proposed.

【0006】例えば、図22(a)において、ガラス、
プラスチック等によって形成された大面積の基板、いわ
ゆるマザーボード301の表面に設定される複数のパネ
ル領域302の内部領域に、図22(b)に示すよう
に、ドット状に配列された複数のフィルタエレメント3
03をインクジェット法に基づいて形成する場合を考え
る。この場合には、例えば図22(c)に示すように、
複数のノズル304を列状に配列して成るノズル列30
5を有するインクジェットヘッド306を、図22
(b)に矢印A1及び矢印A2で示すように、1個のパ
ネル領域302に関して複数回(図22(b)では2
回)主走査させながら、それらの主走査の間に複数のノ
ズルから選択的にインクすなわちフィルタエレメント材
料を吐出することによって希望位置にフィルタエレメン
ト303を形成する。
[0006] For example, in FIG.
As shown in FIG. 22B, a plurality of filter elements arranged in a dot pattern are formed in a large-area substrate formed of plastic or the like, that is, inside a plurality of panel regions 302 set on the surface of a so-called motherboard 301. 3
03 is formed based on the inkjet method. In this case, for example, as shown in FIG.
Nozzle row 30 in which a plurality of nozzles 304 are arranged in a row
The ink jet head 306 having No. 5
As shown by arrows A1 and A2 in (b), one panel region 302 is repeated a plurality of times (2 in FIG. 22 (b)).
While the main scanning is performed, the filter element 303 is formed at a desired position by selectively discharging ink, that is, a filter element material from a plurality of nozzles during the main scanning.

【0007】フィルタエレメント303はR,G,B等
の各色をストライプ配列、デルタ配列、モザイク配列等
といった適宜の配列形態で配列することによって形成さ
れるものであるので、図22(b)に示すインクジェッ
トヘッド306によるインク吐出処理は、R,G,Bの
単色を吐出するインクジェットヘッド306をR,G,
B等の3色分だけ予め設けておいて、それらのインクジ
ェットヘッド306を順々に用いて1つのマザーボード
301上にR,G,B等の3色配列を形成する。
The filter element 303 is formed by arranging each color of R, G, B and the like in an appropriate arrangement such as a stripe arrangement, a delta arrangement, a mosaic arrangement, etc., and is shown in FIG. The ink ejection process by the inkjet head 306 is performed by setting the inkjet head 306 that ejects a single color of R, G, and B to R, G, and B.
The three color arrangements of R, G, B, etc. are formed in advance on one motherboard 301 by using the ink jet heads 306 in order for three colors such as B.

【0008】ところで、通常のインクジェットヘッド3
06に設けられるノズル数は160〜180程度であ
る。また、通常のマザーボード301はそのインクジェ
ットヘッド306よりも大きな面積を有している。従っ
て、インクジェットヘッド306を用いてマザーボード
301の表面にフィルタエレメント303を形成する際
には、インクジェットヘッド306をマザーボード30
1に対して相対的に副走査移動させながらインクジェッ
トヘッド306でマザーボード301を複数回主走査移
動させて各主走査中にインク吐出を行って描画を行うこ
とが必要となる。
By the way, the ordinary ink jet head 3
The number of nozzles provided in 06 is about 160 to 180. Further, the normal motherboard 301 has a larger area than the inkjet head 306. Therefore, when forming the filter element 303 on the surface of the motherboard 301 using the inkjet head 306, the inkjet head 306 is
It is necessary to draw the image by performing ink discharge during each main scan by moving the motherboard 301 a plurality of times in the main scan by the inkjet head 306 while moving the sub-scan relative to the main scan.

【0009】しかしながら、このような方法では、マザ
ーボード301に対するインクジェットヘッド306の
走査回数が多くて描画時間、すなわちカラーフィルタの
製造時間が長くかかるという問題があった。この問題を
解消するため、本出願人は特願平11−279752号
において、複数のヘッド部を支持部材によって直線状に
並べて支持することにより、実質的なノズル数を多くす
るという発明を提案した。
However, such a method has a problem that the number of scans of the ink jet head 306 with respect to the motherboard 301 is large and the drawing time, that is, the manufacturing time of the color filter is long. In order to solve this problem, the present applicant has proposed in Japanese Patent Application No. 11-279752 an invention in which the number of nozzles is substantially increased by supporting a plurality of heads in a straight line with a support member. .

【0010】この方法を用いれば、例えば図23(a)
に示すように、複数例えば6個のヘッド部306を支持
部材307によって直線状に支持し、この支持部材30
7を副走査方向Yへ副走査移動させながら、矢印A1、
A2、……のように主走査を複数回行って各主走査の際
に各ノズル304から選択的にインクを吐出する。この
方法によれば、1回の主走査で広い領域にインクを供給
できるので、確かにカラーフィルタの製造時間を短縮化
できる。
If this method is used, for example, FIG.
As shown in FIG. 7, a plurality of, for example, six head units 306 are linearly supported by a support member 307,
7 while moving in the sub-scanning direction Y in the sub-scanning direction.
The main scanning is performed a plurality of times as in A2,..., And ink is selectively ejected from each nozzle 304 during each main scanning. According to this method, the ink can be supplied to a wide area by one main scan, so that the manufacturing time of the color filter can be shortened.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図23
(a)に示す従来の方法においては、各ヘッド部306
が副走査方向Yと平行に配置されて一直線状のノズル列
が形成されるので、複数のノズル間の間隔、すなわちノ
ズル間ピッチはマザーボード301側のフィルタエレメ
ント303間の間隔、すなわちエレメント間ピッチと同
じであることが必要であった。しかしながら、ノズル間
ピッチがエレメント間ピッチと等しくなるようにインク
ジェットヘッドを形成することは非常に難しかった。
By the way, FIG.
In the conventional method shown in FIG.
Are arranged in parallel with the sub-scanning direction Y to form a straight nozzle row. Therefore, the interval between the plurality of nozzles, that is, the nozzle pitch is equal to the interval between the filter elements 303 on the motherboard 301 side, that is, the element pitch. It was necessary to be the same. However, it has been very difficult to form an inkjet head such that the pitch between nozzles is equal to the pitch between elements.

【0012】この問題を解消するため、図23(b)に
示すように、支持部材307を副走査方向Yに対して角
度θをもって傾斜させることによってヘッド部306の
ノズル間ピッチとマザーボード301内のエレメント間
ピッチとを一致させる方法が考えられる。しかしなが
ら、この場合には、一列に並んだヘッド部306によっ
て構成されるノズル列が主走査方向Xに寸法Zをもって
ずれることになり、インク吐出のための主走査時間がそ
のずれ量分だけ長くなるという問題が発生する。特に、
図23(b)に示すような6連構造のヘッドユニットを
用いる場合にはノズル列が長くなるので上記のずれ寸法
も長くなり、よって、主走査時間をより一層長くしなけ
ればならないという問題が発生する。
To solve this problem, as shown in FIG. 23B, the support member 307 is inclined at an angle θ with respect to the sub-scanning direction Y so that the pitch between nozzles of the head unit 306 and the inside of the motherboard 301 can be reduced. A method of matching the pitch between the elements can be considered. However, in this case, the nozzle rows formed by the head units 306 arranged in a row are shifted with the dimension Z in the main scanning direction X, and the main scanning time for ink ejection is lengthened by the shift amount. The problem occurs. In particular,
In the case of using a head unit having a six-row structure as shown in FIG. 23 (b), since the length of the nozzle row becomes longer, the above-mentioned displacement dimension also becomes longer, so that the main scanning time must be further lengthened. appear.

【0013】本発明は、上記の問題点に鑑みて成された
ものであって、カラーフィルタのフィルタエレメントや
EL装置の絵素ピクセル等といったパターンを形成する
ためのインクジェットヘッド部分の走査時間を短縮化す
ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and reduces the scanning time of an ink-jet head for forming a pattern such as a filter element of a color filter or a picture element pixel of an EL device. The purpose is to make.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明に係る材料の吐出装置は、対象物上に材料を
吐出する材料の吐出装置において、複数のノズルを配列
したノズル列を有する複数のヘッドと、前記複数のヘッ
ドを支持する支持機構と、前記対象物及び前記支持機構
のうちいずれか一方を他方に対して走査する機構と、を
有し、前記走査の方向に対して前記ノズル列が傾斜して
いることを特徴とする。より具体的には、前記複数のヘ
ッドを、前記支持機構の長手方向に対して傾斜して支持
する。尚、ここでいう「走査」とは主走査方向、又は主
走査方向と交差する副走査方向のいずれか一方、又は双
方を示すものである。
In order to achieve the above object, a material discharging apparatus according to the present invention comprises a material discharging apparatus for discharging a material onto an object, comprising a nozzle array having a plurality of nozzles arranged therein. Having a plurality of heads, a support mechanism for supporting the plurality of heads, and a mechanism for scanning one of the object and the support mechanism with respect to the other, and The nozzle row is inclined. More specifically, the plurality of heads are supported by being inclined with respect to the longitudinal direction of the support mechanism. Here, “scanning” indicates one or both of a main scanning direction and a sub-scanning direction intersecting with the main scanning direction.

【0015】この本発明の材料の吐出装置によれば、複
数のヘッドを支持した支持手段によって基板を走査し、
それら複数のヘッド部から材料を吐出することができ、
それ故、1個のヘッド部を用いて対象物を走査する場合
に比べて、走査時間を短縮できる。
According to the material discharging apparatus of the present invention, the substrate is scanned by the support means supporting a plurality of heads,
Material can be discharged from these multiple heads,
Therefore, the scanning time can be reduced as compared with the case where the object is scanned using one head unit.

【0016】本発明にあっては、前記ノズル列のノズル
間ピッチは、前記複数のヘッドにおいて実質的に等し
く、前記ノズル列の傾斜角度の大きさは、前記複数のヘ
ッドにおいて実質的に等しいと好ましい。こうすること
により、吐出物が対象物上に規則的に吐出できるように
なり、規則的なパターンを描くための制御が容易になる
からである。
In the present invention, the pitch between nozzles of the nozzle row is substantially equal in the plurality of heads, and the magnitude of the inclination angle of the nozzle row is substantially equal in the plurality of heads. preferable. By doing so, it becomes possible to discharge the discharge material regularly on the target object, and control for drawing a regular pattern is facilitated.

【0017】また、各ヘッド部は傾斜状態で走査を行う
ので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピッ
チを対象物上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。
Since each head scans in an inclined state, the pitch between nozzles of a plurality of nozzles belonging to each head can be made to match the pitch between filter elements formed on an object.

【0018】さらに、支持手段の全体を傾斜させるので
はなくて個々のヘッド部を傾斜させるので、基板に近い
側のノズルと基板から遠い側のノズルまでの距離は支持
手段の全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、それ
故、支持手段によって基板を走査する時間を短縮でき
る。
Further, since the individual head portions are inclined instead of the entire supporting means, the distance between the nozzle closer to the substrate and the nozzle farther from the substrate is determined by the case where the entire supporting means is inclined. Therefore, the time for scanning the substrate by the support means can be reduced.

【0019】また、本発明の材料の吐出装置は、対象物
上に材料を吐出する材料の吐出装置において、複数のノ
ズルを配列したノズル列を有する複数のヘッドと、前記
複数のヘッドを支持する支持機構と、前記対象物及び前
記支持機構のうちいずれか一方を他方に対して走査する
機構と、少なくとも1つの前記ノズル列と前記走査の方
向とのなす角度を制御する機構と、を具備することを特
徴とする。そして好ましくは前記ノズル列間の間隔を制
御する機構を更に備える。
Further, according to the material discharging apparatus of the present invention, in a material discharging apparatus for discharging a material onto an object, a plurality of heads having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged, and the plurality of heads are supported. A support mechanism, a mechanism for scanning one of the object and the support mechanism with respect to the other, and a mechanism for controlling an angle between at least one nozzle row and the scanning direction. It is characterized by the following. Preferably, the apparatus further includes a mechanism for controlling an interval between the nozzle rows.

【0020】この構成の材料の吐出装置によれば、上記
ノズル列角度制御機構によってノズル列を傾斜状態に設
定することにより、前述の材料の吐出装置によってもた
らされる効果と同じ効果を得ることができる更には、こ
の材料の吐出装置によれば、ノズル列角度制御機構の働
きにより1つの支持機構に支持された各ヘッド部を異な
ったエレメント間ピッチに容易に一致させることができ
る。しかもその場合、ノズル列間隔制御機構の働きによ
り、1つのノズル列とそれに隣り合うのノズル列との間
隔をそれらのノズル列が一定のノズル間ピッチで連続す
るように正確に調節できる。
According to the material discharging apparatus having the above-described structure, the same effect as that provided by the above-described material discharging apparatus can be obtained by setting the nozzle row to the inclined state by the nozzle row angle control mechanism. Further, according to the material discharging apparatus, the heads supported by one supporting mechanism can be easily matched with different element pitches by the function of the nozzle array angle control mechanism. Moreover, in this case, the spacing between one nozzle row and the adjacent nozzle row can be accurately adjusted by the function of the nozzle row spacing control mechanism so that those nozzle rows are continuous at a constant nozzle pitch.

【0021】なお、ノズル列角度制御機構及びノズル列
間隔制御機構は特別な構造のものに限定されることな
く、上記機能を達成可能な任意の構造によって達成でき
る。例えば、ノズル列角度制御機構は次のように、すな
わち、各ヘッド部を支持機構に面内回転可能に取り付
け、それらのヘッド部をパルスモータやサーボモータ等
といった回転角度制御が可能な動力源に直接に又は動力
伝達機構等を介して間接に接続することによって構成で
きる。この構成によれば、上記動力源の出力角度値を制
御することによって各ノズル列の傾斜角度を希望の値に
調節でき、さらにその調節後の上記動力源の出力軸をロ
ック状態に保持することにより各ノズル列の傾斜角度を
希望の値に固定保持できる。
The nozzle row angle control mechanism and the nozzle row interval control mechanism are not limited to those having special structures, but can be achieved by any structure capable of achieving the above functions. For example, the nozzle array angle control mechanism is as follows, that is, each head section is attached to the support mechanism so as to be rotatable in-plane, and those head sections are used as a power source such as a pulse motor or a servo motor that can control the rotation angle. It can be configured by connecting directly or indirectly via a power transmission mechanism or the like. According to this configuration, the tilt angle of each nozzle row can be adjusted to a desired value by controlling the output angle value of the power source, and the output shaft of the power source after the adjustment is held in a locked state. Thus, the inclination angle of each nozzle row can be fixedly held at a desired value.

【0022】また、上記ノズル列間隔制御機構も特別な
構造のものに限定されることなく、上記機能を達成可能
な任意の構造によって達成できる。例えば、各ヘッド部
の上記面内回転の中心部を支持部材にスライド移動可能
に取り付け、それらのヘッド部を往復スライド移動駆動
手段に接続することによって構成できる。そして、この
往復スライド移動駆動手段は、例えば、パルスモータや
サーボモータ等といった回転角度制御が可能な回転機器
を動力源とするスライド駆動装置や、リニアモータ等と
いった直動駆動源を用いて構成されるスライド駆動装置
によって構成できる。
Further, the nozzle array interval control mechanism is not limited to a special structure, but can be achieved by any structure capable of achieving the above functions. For example, the center of the in-plane rotation of each head may be slidably attached to a support member, and the heads may be connected to a reciprocating slide drive unit. The reciprocating slide movement driving unit is configured using a slide drive device that uses a rotating device such as a pulse motor or a servo motor that can control the rotation angle as a power source, or a linear drive source such as a linear motor. It can be constituted by a slide drive device.

【0023】尚、ノズル列と走査の方向とのなす角度を
制御する機構は、ノズル列のノズル間ピッチ、及び前記
ノズル列の傾斜角度の大きさが、前記複数のヘッドにお
いて実質的に等しくなるように制御できると好ましい。
In the mechanism for controlling the angle between the nozzle row and the scanning direction, the pitch between nozzles of the nozzle row and the magnitude of the inclination angle of the nozzle row are substantially equal in the plurality of heads. It is preferable that such control can be performed.

【0024】本発明に係る材料の吐出方法は、対象物上
に材料を吐出する材料の吐出方法において、複数のノズ
ルを配列したノズル列を有する複数のヘッド、及び前記
複数のヘッドを支持する支持機構の一方を他方に対して
走査する工程、及び前記対象物に前記材料を吐出する工
程を有してなり、少なくとも1つの前記ノズル列が、前
記走査の方向に対して傾斜していることを特徴とする。
この場合にあって、前記対象物及び前記支持部材のうち
いずれか一方は、他方に対して主走査方向、又は主走査
方向と交差する副走査方向、或いはその両方に走査され
る。
According to a method of discharging a material according to the present invention, in the method of discharging a material onto an object, a plurality of heads having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged, and a support for supporting the plurality of heads are provided. Scanning one of the mechanisms with respect to the other, and discharging the material onto the object, wherein at least one of the nozzle rows is inclined with respect to the scanning direction. Features.
In this case, one of the object and the support member is scanned with respect to the other in the main scanning direction, the sub-scanning direction intersecting with the main scanning direction, or both.

【0025】前記ノズル列のノズル間ピッチ、及び前記
ノズル列の傾斜角度の大きさが、前記複数のヘッドにお
いて実質的に等しいと好ましい。
It is preferable that the pitch between the nozzles of the nozzle row and the magnitude of the inclination angle of the nozzle row be substantially equal in the plurality of heads.

【0026】また、少なくとも1つの前記ノズル列と前
記走査の方向とのなす角度を制御する工程を更に具備し
てもよいし、前記複数のノズル列間の間隔を制御する工
程を具備してもよい。
Further, the method may further include a step of controlling an angle between the at least one nozzle row and the scanning direction, and a step of controlling an interval between the plurality of nozzle rows. Good.

【0027】上述してきた材料の吐出装置、及び材料の
吐出方法は、例えば、基板にフィルタ材料を吐出するカ
ラーフィルタの製造装置、及びカラーフィルタの製造方
法、並びに基板にEL発光材料を吐出するEL装置の製
造装置、及び製造方法等に利用することができるが、も
ちろんこれらに限られることなく多種多様な技術的応用
範囲が考えられる。特に、上記材料の吐出方法を含む製
造方法を用いて製造された部品は、携帯電話機、携帯型
コンピュータ等といった電子機器に用いられる。
The material discharging apparatus and material discharging method described above include, for example, a color filter manufacturing apparatus and a color filter manufacturing method for discharging a filter material to a substrate, and an EL device for discharging an EL luminescent material to a substrate. The present invention can be used for a device manufacturing apparatus, a manufacturing method, and the like, but is not limited to these, and various technical application ranges can be considered. In particular, components manufactured using a manufacturing method including the above-described material discharging method are used for electronic devices such as mobile phones and portable computers.

【0028】また、本発明に係るのカラーフィルタの製
造装置は、複数のノズルが配列されたノズル列を有する
複数のヘッドと、前記複数のヘッド部を支持する支持機
構とを有し、前記支持機構は前記複数のヘッド部を傾斜
状態で支持してなることを特徴とする。
Further, the color filter manufacturing apparatus according to the present invention has a plurality of heads having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged, and a support mechanism for supporting the plurality of head portions. The mechanism supports the plurality of heads in an inclined state.

【0029】上記構成において、フィルタとしては、例
えば、R(赤)、G(緑)、B(青)の3原色や、C
(シアン)、Y(イエロー)、M(マゼンタ)の3原色
等といった各色色材が考えられる。
In the above configuration, the filters may be, for example, three primary colors of R (red), G (green), B (blue),
Each color material such as three primary colors (cyan), Y (yellow), and M (magenta) can be considered.

【0030】このカラーフィルタの製造装置によれば、
複数のヘッド部を支持した支持手段によって基板を主走
査する間にそれら複数のヘッド部からフィルタ材料を吐
出することができ、それ故、1個のヘッド部を用いて基
板表面を走査する場合に比べて、走査時間を短縮でき
る。
According to the color filter manufacturing apparatus,
The filter material can be ejected from the plurality of heads during the main scanning of the substrate by the support means supporting the plurality of heads. Therefore, when scanning the substrate surface using one head, In comparison, the scanning time can be reduced.

【0031】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。さらに、支持手
段の全体を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部を傾
斜させるので、基板に近い側のノズルと基板から遠い側
のノズルまでの距離は支持手段の全体を傾斜させる場合
に比べて小さくなり、それ故、支持手段によって基板を
走査する時間を短縮できる。これにより、カラーフィル
タの製造時間を短縮できる。
Further, since each head performs the main scanning in an inclined state, the pitch between the nozzles of the plurality of nozzles belonging to each head can be made to match the pitch between the elements of the filter element formed on the substrate. Furthermore, since the individual head portions are inclined instead of inclining the entire support means, the distance between the nozzle on the side closer to the substrate and the nozzle on the far side from the substrate is smaller than when the entire support means is inclined. The time required to scan the substrate by the support means can be reduced. Thereby, the manufacturing time of the color filter can be reduced.

【0032】なお、上記構成のカラーフィルタの製造装
置において、前記支持手段は前記ヘッド部を固定状態で
支持することができるし、あるいは、傾斜角度及び/又
はヘッド部間距離を変更可能に支持することもできる。
In the color filter manufacturing apparatus having the above-mentioned structure, the support means can support the head portion in a fixed state, or support the head portion so that the inclination angle and / or the distance between the head portions can be changed. You can also.

【0033】また、上記構成のカラーフィルタの製造装
置において、前記複数のヘッドに属するノズル列のノズ
ル間ピッチは実質的に等しく、さらに、前記ノズル列の
傾斜角度の大きさも実質的に等しいと好ましい。こうす
れば、希望する位置へフィルタ材料供給することに関す
る制御を容易に行うことが可能となる。
Further, in the color filter manufacturing apparatus having the above-described structure, it is preferable that the pitch between nozzles of the nozzle rows belonging to the plurality of heads is substantially equal, and that the inclination angles of the nozzle rows are also substantially equal. . This makes it possible to easily control the supply of the filter material to a desired position.

【0034】なお、複数のノズル列は傾斜角度の大きさ
が等しければ良く、傾斜方向はプラス・マイナス間で異
なっても良い。また、ここで及びこれ以降、「実質的
に」とは、製造上の誤差等によってわずかな違いが生じ
る場合でも作用的には大きな違いは生じない場合を含む
意味である。
It is sufficient that the plurality of nozzle rows have the same inclination angle, and the inclination direction may be different between plus and minus. Further, here and hereinafter, “substantially” means a case where a slight difference occurs due to a manufacturing error or the like and a large difference does not occur in terms of operation.

【0035】また、本発明に係るカラーフィルタの製造
装置は、複数のノズルが配列するノズル列を有する複数
のヘッドと、前記ヘッドにフィルタ材料を供給する機構
と、前記複数のヘッドを支持する支持機構と、該支持機
構を主走査移動させる主走査機構と、前記支持手段を副
走査移動させる副走査機構と、前記複数のノズル列の傾
斜角度を制御するノズル列角度制御機構と、前記複数の
ノズル列間の間隔を制御するノズル列間隔制御機構とを
有することを特徴とする。
The color filter manufacturing apparatus according to the present invention includes a plurality of heads having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged, a mechanism for supplying a filter material to the heads, and a support for supporting the plurality of heads. A mechanism, a main scanning mechanism for moving the supporting mechanism in a main scanning direction, a sub-scanning mechanism for moving the supporting means in a sub-scanning direction, a nozzle row angle control mechanism for controlling an inclination angle of the plurality of nozzle rows, and a plurality of the plurality of nozzle rows. A nozzle row interval control mechanism for controlling the interval between nozzle rows.

【0036】この構成のカラーフィルタの製造装置によ
れば、上記ノズル列角度制御機構によって複数のノズル
列の各々を傾斜状態に設定することにより、前述のカラ
ーフィルタの製造装置によってもたらされる効果と同じ
効果を得ることができる。
According to the color filter manufacturing apparatus of this configuration, by setting each of the plurality of nozzle rows in the inclined state by the nozzle row angle control mechanism, the same effect as the above-described color filter manufacturing apparatus can be obtained. The effect can be obtained.

【0037】また、上記第2のカラーフィルタの製造装
置によれば、ノズル列角度制御機構の働きにより1つの
支持手段に支持された各ヘッド部を異なったエレメント
間ピッチに容易に一致させることができる。しかもその
場合、ノズル列間隔制御機構の働きにより、1つのノズ
ル列とそれに隣り合うのノズル列との間隔をそれらのノ
ズル列が一定のノズル間ピッチで連続するように正確に
調節できる。
Further, according to the second color filter manufacturing apparatus, each head portion supported by one supporting means can easily be made to coincide with a different element pitch by the function of the nozzle array angle control mechanism. it can. Moreover, in this case, the spacing between one nozzle row and the adjacent nozzle row can be accurately adjusted by the function of the nozzle row spacing control mechanism so that those nozzle rows are continuous at a constant nozzle pitch.

【0038】なお、ノズル列角度制御機構、ノズル列間
隔制御機構、及びノズル列間隔制御機構は特別な構造の
ものに限定されることなく、上記機能を達成可能な任意
の構造によって達成できる。例えば、前述の材料の吐出
装置において説明した物などが利用できる。
The nozzle array angle control mechanism, the nozzle array interval control mechanism, and the nozzle array interval control mechanism are not limited to those having a special structure, but can be achieved by any structure capable of achieving the above functions. For example, the materials described in the above-described material discharging apparatus can be used.

【0039】上記カラーフィルタの製造装置において、
前記複数のヘッドに属するノズル列のノズル間ピッチ、
及びノズル列の傾斜角度の大きさは実質的に等しいこと
が望ましい。
In the above color filter manufacturing apparatus,
A pitch between nozzles of a nozzle row belonging to the plurality of heads,
It is desirable that the inclination angles of the nozzle rows are substantially equal to each other.

【0040】次に、本発明に係るカラーフィルタの製造
方法は、カラーフィルタの製造方法において、複数のノ
ズルが配列されたノズル列を有するヘッドを主走査方向
へ移動させながら、前記複数のノズルからフィルタ材料
を吐出して前記基板に前記フィルタエレメントを形成す
る工程を有し、前記ヘッドは複数個並べて設けられてお
り、且つ傾斜状態で配置されてなることを特徴とする。
Next, the method for manufacturing a color filter according to the present invention is the method for manufacturing a color filter, wherein a head having a nozzle array in which a plurality of nozzles are arranged is moved in the main scanning direction while moving the head from the plurality of nozzles. A step of discharging the filter material to form the filter element on the substrate, wherein the plurality of heads are provided side by side and are arranged in an inclined state.

【0041】この製造方法によれば、複数のヘッド部を
同時に主走査移動させて各ヘッド部からフィルタ材料を
吐出できるので、1個のヘッド部だけを用いて基板表面
を走査する場合に比べて、走査時間を短縮できる。
According to this manufacturing method, a plurality of heads can be simultaneously moved in the main scanning direction and the filter material can be discharged from each of the heads, so that the substrate surface can be scanned using only one head. And the scanning time can be reduced.

【0042】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。さらに、複数の
ヘッド部を1列に並べた状態でその1列を傾斜させるの
ではなくてそれらのヘッド部を個々に傾斜させるので、
基板に近い側のノズルと基板から遠い側のノズルまでの
距離は1列全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、
それ故、複数のノズル列によって基板を走査する時間を
短縮できる。これにより、カラーフィルタの製造時間を
短縮できる。
Further, since each head performs main scanning in an inclined state, the pitch between nozzles of a plurality of nozzles belonging to each head can be matched with the pitch between elements of a filter element formed on a substrate. Further, since a plurality of heads are arranged in a line and the heads are individually inclined instead of inclining the one row,
The distance between the nozzle closer to the substrate and the nozzle farther from the substrate is smaller than when the entire row is inclined,
Therefore, the time for scanning the substrate by the plurality of nozzle arrays can be reduced. Thereby, the manufacturing time of the color filter can be reduced.

【0043】なお、上記構成のカラーフィルタの製造方
法において、前記複数のヘッドにおいて、前記ノズル列
のノズル間ピッチは実質的に等しく、且つノズル列の傾
斜角度の大きさは実質的に等しいと好ましい。
In the method of manufacturing a color filter having the above-described structure, it is preferable that, in the plurality of heads, the pitch between the nozzles of the nozzle row is substantially equal, and the inclination angle of the nozzle row is substantially equal. .

【0044】次に、本発明に係る液晶装置の製造装置
は、液晶装置の製造装置において、複数のノズルが配列
したノズル列を有する複数のヘッドと、前記ヘッドにフ
ィルタ材料を供給する機構と、前記複数のヘッドを支持
する支持機構と、 該支持機構を主走査移動させる主走
査機構と、前記支持機構を副走査移動させる副走査機構
とを有し、前記支持機構は前記複数のヘッド部を傾斜状
態で支持してなることを特徴とする。
Next, a liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention is the liquid crystal device manufacturing apparatus, wherein a plurality of heads having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged, a mechanism for supplying a filter material to the heads, A support mechanism that supports the plurality of heads; a main scanning mechanism that moves the support mechanism in a main scanning direction; and a sub-scanning mechanism that moves the support mechanism in a sub-scanning direction. It is characterized by being supported in an inclined state.

【0045】この液晶装置の製造装置によれば、複数の
ヘッド部を支持した支持手段によって基板を主走査する
間にそれら複数のヘッド部からインクすなわちフィルタ
エレメント材料を吐出することができ、それ故、1個の
ヘッド部だけを用いて基板表面を走査する場合に比べ
て、走査時間を短縮できる。
According to the liquid crystal device manufacturing apparatus, the ink, that is, the filter element material can be discharged from the plurality of heads during the main scanning of the substrate by the support means supporting the plurality of heads. (1) The scanning time can be reduced as compared with the case where the substrate surface is scanned using only one head unit.

【0046】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。さらに、支持手
段の全体を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部を傾
斜させるので、基板に近い側のノズルと基板から遠い側
のノズルまでの距離は支持手段の全体を傾斜させる場合
に比べて小さくなり、それ故、支持手段によって基板を
走査する時間を短縮できる。これにより、カラーフィル
タの製造時間を短縮できる。
Further, since each head performs main scanning in an inclined state, the pitch between nozzles of a plurality of nozzles belonging to each head can be matched with the pitch between filter elements formed on the substrate. Furthermore, since the individual head portions are inclined instead of inclining the entire support means, the distance between the nozzle on the side closer to the substrate and the nozzle on the far side from the substrate is smaller than when the entire support means is inclined. The time required to scan the substrate by the support means can be reduced. Thereby, the manufacturing time of the color filter can be reduced.

【0047】次に、本発明に係る液晶装置の製造方法
は、複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッド
を主走査方向へ移動させながら、前記複数のノズルから
フィルタ材料を吐出して前記基板に前記フィルタエレメ
ントを形成する工程を有し、前記ヘッドは複数個並べて
設けられており、且つ傾斜状態で配置されてなることを
特徴とする。
Next, in the method of manufacturing a liquid crystal device according to the present invention, the filter material is discharged from the plurality of nozzles while moving a head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged in the main scanning direction. A step of forming the filter element on a substrate, wherein a plurality of the heads are provided side by side and arranged in an inclined state.

【0048】この製造方法によれば、複数のヘッド部を
同時に主走査移動させて各ヘッド部からインクを吐出で
きるので、1個のヘッド部だけを用いて基板表面を走査
する場合に比べて、走査時間を短縮できる。
According to this manufacturing method, the ink can be ejected from each head by simultaneously moving the plurality of heads in the main scanning direction, so that the substrate surface can be scanned using only one head. Scanning time can be reduced.

【0049】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントのエレメン
ト間ピッチに一致させることができる。さらに、複数の
ヘッド部を1列に並べた状態でその1列を傾斜させるの
ではなくてそれらのヘッド部を個々に傾斜させるので、
基板に近い側のノズルと基板から遠い側のノズルまでの
距離は1列全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、
それ故、複数のノズル列によって基板を走査する時間を
短縮できる。これにより、カラーフィルタの製造時間従
って液晶装置の製造時間を短縮できる。
Further, since each head performs main scanning in an inclined state, the pitch between the nozzles of the plurality of nozzles belonging to each head can be made to match the pitch between the filter elements formed on the substrate. Further, since a plurality of heads are arranged in a line and the heads are individually inclined instead of inclining the one row,
The distance between the nozzle closer to the substrate and the nozzle farther from the substrate is smaller than when the entire row is inclined,
Therefore, the time for scanning the substrate by the plurality of nozzle arrays can be reduced. As a result, the manufacturing time of the color filter and thus the manufacturing time of the liquid crystal device can be reduced.

【0050】次に、本発明に係るEL装置の製造装置
は、複数のノズルが配列したノズル列を有する複数のヘ
ッドと、前記ヘッドにEL発光材料を供給する機構と、
前記複数のヘッドを並べて支持する支持機構と、該支持
機構を主走査移動させる主走査機構と、前記支持手段を
副走査移動させる副走査機構と、前記複数のノズル列の
傾斜角度を制御するノズル列角度制御機構と、前記複数
のノズル列間の間隔を制御するノズル列間隔制御機構と
を有することを特徴とする。
Next, an apparatus for manufacturing an EL device according to the present invention comprises: a plurality of heads each having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; a mechanism for supplying an EL light emitting material to the heads;
A support mechanism for arranging and supporting the plurality of heads, a main scanning mechanism for moving the support mechanism in a main scanning direction, a sub-scanning mechanism for moving the supporting means in a sub-scanning direction, and a nozzle for controlling an inclination angle of the plurality of nozzle rows A row angle control mechanism and a nozzle row interval control mechanism for controlling the interval between the plurality of nozzle rows are provided.

【0051】このEL装置の製造装置によれば、複数の
ヘッド部を支持した支持手段によって基板を主走査する
間にそれら複数のヘッド部からインクすなわちEL発光
材料を吐出することができ、それ故、1個のヘッド部だ
けを用いて基板表面を走査する場合に比べて、走査時間
を短縮できる。
According to the EL device manufacturing apparatus, the ink, that is, the EL luminescent material can be discharged from the plurality of heads during the main scanning of the substrate by the support means supporting the plurality of heads. (1) The scanning time can be reduced as compared with the case where the substrate surface is scanned using only one head unit.

【0052】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成する絵素ピクセルのピクセル間ピッ
チに一致させることができる。さらに、支持手段の全体
を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部を傾斜させる
ので、基板に近い側のノズルと基板から遠い側のノズル
までの距離は支持手段の全体を傾斜させる場合に比べて
小さくなり、それ故、支持手段によって基板を走査する
時間を短縮できる。これにより、El装置の製造時間を
短縮できる。
Further, since each head section performs the main scanning in an inclined state, the pitch between the nozzles of the plurality of nozzles belonging to each head section can be made to match the pitch between the pixel pixels formed on the substrate. Furthermore, since the individual head portions are inclined instead of inclining the entire support means, the distance between the nozzle on the side closer to the substrate and the nozzle on the far side from the substrate is smaller than when the entire support means is inclined. The time required to scan the substrate by the support means can be reduced. Thereby, the manufacturing time of the El device can be reduced.

【0053】次に、本発明に係るEL装置の製造方法
は、複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッド
を主走査方向へ移動させながら、前記複数のノズルから
EL発光材料を吐出して前記基板に前記EL発光層を形
成する工程を有し、前記ヘッドは複数個並べて設けられ
ており、且つ傾斜状態で配置されてなることを特徴とす
る。
Next, in the method of manufacturing an EL device according to the present invention, while moving a head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged in the main scanning direction, an EL light emitting material is discharged from the plurality of nozzles. A step of forming the EL light emitting layer on the substrate, wherein a plurality of the heads are provided side by side and arranged in an inclined state.

【0054】この製造方法によれば、複数のヘッド部を
同時に主走査移動させて各ヘッド部からインクすなわち
EL発光材料を吐出できるので、1個のヘッド部だけを
用いて基板表面を走査する場合に比べて、走査時間を短
縮できる。
According to this manufacturing method, a plurality of heads can be simultaneously moved in the main scanning direction to eject ink, that is, an EL light emitting material from each head. Therefore, when scanning the substrate surface using only one head, The scanning time can be shortened as compared with.

【0055】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成する絵素ピクセルのピクセル間ピッ
チに一致させることができる。さらに、複数のヘッド部
を1列に並べた状態でその1列を傾斜させるのではなく
てそれらのヘッド部を個々に傾斜させるので、基板に近
い側のノズルと基板から遠い側のノズルまでの距離は1
列全体を傾斜させる場合に比べて小さくなり、それ故、
複数のノズル列によって基板を走査する時間を短縮でき
る。これにより、EL装置の製造時間を短縮できる。
Further, since each head performs the main scanning in an inclined state, the pitch between the nozzles of the plurality of nozzles belonging to each head can be made to match the pitch between the picture elements formed on the substrate. Further, since a plurality of heads are arranged in one line and the heads are inclined individually instead of inclining one line, the nozzles closer to the substrate and the nozzles farther from the substrate are not inclined. Distance is 1
Smaller than if you tilt the entire row, and therefore
The time for scanning the substrate by the plurality of nozzle rows can be reduced. Thereby, the manufacturing time of the EL device can be reduced.

【0056】[0056]

【発明の実施の形態】(第1実施形態)以下、カラーフ
ィルタの製造方法及びその製造装置の一実施形態につい
て説明する。まず、それらの製造方法及び製造装置を説
明するのに先立って、それらの製造方法等を用いて製造
されるカラーフィルタについて説明する。図6(a)は
カラーフィルタの一実施形態の平面構造を模式的に示し
ている。また、図7(d)は図6(a)のVII−VI
I線に従った断面構造を示している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (First Embodiment) An embodiment of a method for manufacturing a color filter and an apparatus for manufacturing the same will be described below. First, before describing the manufacturing method and the manufacturing apparatus, a color filter manufactured by using the manufacturing method and the like will be described. FIG. 6A schematically shows a planar structure of one embodiment of a color filter. Also, FIG. 7D shows VII-VI of FIG.
2 shows a cross-sectional structure according to line I.

【0057】本実施形態のカラーフィルタ1は、ガラ
ス、プラスチック等によって形成された方形状の基板2
の表面に複数のフィルタエレメント3をドットパターン
状、本実施形態ではドット・マトリクス状に形成し、さ
らに図7(d)に示すように、その上に保護膜4を積層
することによって形成されている。なお、図6(a)は
保護膜4を取り除いた状態のカラーフィルタ1を平面的
に示している。つまり本実施形態では、インクジェット
によって形成される色パターンとしてフィルタエレメン
ト3が例示されている。
The color filter 1 of the present embodiment is a rectangular substrate 2 made of glass, plastic, or the like.
Are formed by forming a plurality of filter elements 3 in a dot pattern shape, in this embodiment, in a dot matrix shape, and further, by laminating a protective film 4 thereon as shown in FIG. 7D. I have. FIG. 6A is a plan view showing the color filter 1 with the protective film 4 removed. That is, in the present embodiment, the filter element 3 is illustrated as a color pattern formed by inkjet.

【0058】フィルタエレメント3は、透光性のない樹
脂材料によって格子状のパターンに形成された隔壁6に
よって区画されてドット・マトリクス状に並んだ複数の
方形状の領域を色材で埋めることによって形成される。
また、これらのフィルタエレメント3は、それぞれが、
R(赤)、G(緑)、B(青)のうちのいずれか1色の
色材によって形成され、それらの各色フィルタエレメン
ト3が所定の配列に並べられている。この配列として
は、例えば、図8(a)に示すストライプ配列、図8
(b)に示すモザイク配列、図8(c)に示すデルタ配
列等が知られている。
The filter element 3 is formed by filling a plurality of rectangular regions which are partitioned by partitions 6 formed in a lattice pattern with a resin material having no translucency and arranged in a dot matrix form with a coloring material. It is formed.
Each of these filter elements 3 is
It is formed of any one of R (red), G (green), and B (blue) color materials, and the respective color filter elements 3 are arranged in a predetermined arrangement. As this arrangement, for example, a stripe arrangement shown in FIG.
A mosaic arrangement shown in FIG. 8B and a delta arrangement shown in FIG. 8C are known.

【0059】ストライプ配列は、マトリクスの縦列が全
て同色になる配色である。モザイク配列は、縦横の直線
上に並んだ任意の3つのフィルタエレメントがR,G,
Bの3色となる配色である。そして、デルタ配列は、フ
ィルタエレメントの配置を段違いにし、任意の隣接する
3つのフィルタエレメントがR,G,Bの3色となる配
色である。
The stripe arrangement is a color arrangement in which all columns of the matrix have the same color. In the mosaic arrangement, any three filter elements arranged on a vertical and horizontal line are R, G,
B is a three-color arrangement. The delta arrangement is a color arrangement in which the arrangement of the filter elements is different, and any three adjacent filter elements have three colors of R, G, and B.

【0060】図6において、カラーフィルタ1の大きさ
は、例えば、1.8インチである。また、1個のフィル
タエレメント3の大きさは、例えば、30μm×100
μmである。また、各フィルタエレメント3の間の間
隔、いわゆるエレメント間ピッチは、例えば、75μm
である。
In FIG. 6, the size of the color filter 1 is, for example, 1.8 inches. The size of one filter element 3 is, for example, 30 μm × 100
μm. The interval between the filter elements 3, that is, the so-called element pitch is, for example, 75 μm.
It is.

【0061】本実施形態のカラーフィルタ1をフルカラ
ー表示のための光学要素として用いる場合には、R,
G,B3個のフィルタエレメント3を1つのユニットと
して1つの画素を形成し、1画素内のR,G,Bのいず
れか1つ又はそれらの組み合わせに光を選択的に通過さ
せることにより、フルカラー表示を行う。このとき、透
光性のない樹脂材料によって形成された隔壁6はブラッ
クマスクとして作用する。
When the color filter 1 of this embodiment is used as an optical element for full-color display, R, R
One pixel is formed by using the three G and B filter elements 3 as one unit, and light is selectively passed through any one of R, G, and B or a combination thereof in one pixel, thereby providing full color. Display. At this time, the partition 6 formed of a non-translucent resin material acts as a black mask.

【0062】上記のカラーフィルタ1は、例えば、図6
(b)に示すような大面積のマザー基板12から切り出
される。具体的には、まず、マザー基板12内に設定さ
れた複数のカラーフィルタ形成領域11のそれぞれの表
面にカラーフィルタ1の1個分のパターンを形成し、さ
らにそれらのカラーフィルタ形成領域11の周りに切断
用の溝を形成し、さらにそれらの溝に沿ってマザー基板
12を切断することにより、個々のカラーフィルタ1が
形成される。
The above color filter 1 is, for example, as shown in FIG.
It is cut out from a large-area mother substrate 12 as shown in FIG. Specifically, first, a pattern for one color filter 1 is formed on each surface of the plurality of color filter forming regions 11 set in the mother substrate 12, and further, around the color filter forming regions 11. The color filters 1 are formed by forming cutting grooves on the substrate and cutting the mother substrate 12 along the grooves.

【0063】以下、図6(a)に示すカラーフィルタ1
を製造する製造方法及びその製造装置について説明す
る。
The color filter 1 shown in FIG.
A manufacturing method and a manufacturing apparatus for manufacturing the same will be described.

【0064】図7はカラーフィルタ1の製造方法を工程
順に模式的に示している。まず、マザー基板12の表面
に透光性のない樹脂材料によって隔壁6を矢印B方向か
ら見て格子状パターンに形成する。格子状パターンの格
子穴の部分7はフィルタエレメント3が形成される領
域、すなわちフィルタエレメント形成領域である。この
隔壁6によって形成される個々のフィルタエレメント形
成領域7の矢印B方向から見た場合の平面寸法は、例え
ば30μm×100μm程度に形成される。
FIG. 7 schematically shows a method of manufacturing the color filter 1 in the order of steps. First, the partition walls 6 are formed in a lattice pattern on the surface of the mother substrate 12 using a non-translucent resin material as viewed in the direction of arrow B. The portion 7 of the lattice hole of the lattice pattern is a region where the filter element 3 is formed, that is, a filter element formation region. The planar dimension of each filter element forming region 7 formed by the partition walls 6 when viewed from the direction of arrow B is, for example, about 30 μm × 100 μm.

【0065】隔壁6は、フィルタエレメント形成領域7
に供給されるインクすなわちフィルタエレメント材料の
流動を阻止する機能及びブラックマスクの機能を併せて
有する。また、隔壁6は任意のパターニング手法、例え
ばフォトリソグラフィー法によって形成され、さらに必
要に応じてヒータによって加熱されて焼成される。
The partition 6 has a filter element forming region 7
Has a function of preventing the flow of the ink, that is, the filter element material supplied to the filter, and a function of a black mask. The partition 6 is formed by an arbitrary patterning method, for example, a photolithography method, and is further heated and baked by a heater as necessary.

【0066】隔壁6の形成後、図7(b)に示すよう
に、フィルタエレメント材料の液滴8を各フィルタエレ
メント形成領域7に供給することにより、各フィルタエ
レメント形成領域7をフィルタエレメント材料13で埋
める。図7(b)において、符号13RはR(赤)の色
を有するフィルタエレメント材料を示し、符号13Gは
G(緑)の色を有するフィルタエレメント材料を示し、
そして符号13BはB(青)の色を有するフィルタエレ
メント材料を示している。
After the partition 6 is formed, as shown in FIG. 7 (b), a droplet 8 of the filter element material is supplied to each filter element formation region 7, so that each filter element formation region 7 is filtered. Fill with. In FIG. 7B, reference numeral 13R denotes a filter element material having an R (red) color, reference numeral 13G denotes a filter element material having a G (green) color,
Reference numeral 13B indicates a filter element material having a color of B (blue).

【0067】各フィルタエレメント形成領域7に所定量
のフィルタエレメント材料が充填されると、ヒータによ
ってマザー基板12を例えば70℃程度に加熱して、フ
ィルタエレメント材料の溶媒を蒸発させる。この蒸発に
より、図7(c)に示すようにフィルタエレメント材料
13の体積が減少し、平坦化する。体積の減少が激しい
場合には、カラーフィルタとして十分な膜厚が得られる
まで、フィルタエレメント材料の液滴の供給とその液滴
の加熱とを繰り返して実行する。以上の処理により、最
終的にフィルタエレメント材料の固形分のみが残留して
膜化し、これにより、希望する各色フィルタエレメント
3が形成される。
When each filter element forming region 7 is filled with a predetermined amount of filter element material, the mother substrate 12 is heated to, for example, about 70 ° C. by a heater to evaporate the solvent of the filter element material. Due to the evaporation, the volume of the filter element material 13 is reduced as shown in FIG. When the volume is drastically reduced, the supply of the droplets of the filter element material and the heating of the droplets are repeatedly performed until a sufficient film thickness as a color filter is obtained. By the above processing, only the solid content of the filter element material is finally left to form a film, whereby the desired color filter element 3 is formed.

【0068】以上によりフィルタエレメント3が形成さ
れた後、それらのフィラメント3を完全に乾燥させるた
めに、所定の温度で所定時間の加熱処理を実行する。そ
の後、例えば、スピンコート法、ロールコート法、リッ
ピング法又はインクジェット法等といった適宜の手法を
用いて保護膜4を形成する。この保護膜4は、フィルタ
エレメント3等の保護及びカラーフィルタ1の表面の平
坦化のために形成される。
After the filter elements 3 are formed as described above, a heating process is performed at a predetermined temperature for a predetermined time to completely dry the filaments 3. Thereafter, the protective film 4 is formed by using an appropriate method such as, for example, a spin coating method, a roll coating method, a ripping method, or an inkjet method. The protective film 4 is formed for protecting the filter element 3 and the like and flattening the surface of the color filter 1.

【0069】図9は、カラーフィルタの製造装置を構成
する1つの構成要素機器であって、図7(b)に示した
フィルタエレメント材料の供給処理を行うためのインク
ジェット装置の一実施形態を示している。このインクジ
ェット装置16はR,G,Bのうちの1色、例えばR色
のフィルタエレメント材料をインクの液滴として、マザ
ー基板12(図6(b)参照)内の各カラーフィルタ形
成領域11内の所定位置に吐出して付着させるための装
置である。G色のフィルタエレメント材料及びB色のフ
ィルタエレメント材料のためのインクジェット装置もそ
れぞれに用意されるが、それらの構造は図9のものと同
じにすることができるので、それらについての説明は省
略する。
FIG. 9 shows an embodiment of an ink-jet apparatus for carrying out the supply process of the filter element material shown in FIG. ing. The ink-jet device 16 converts the filter element material of one of R, G, and B colors, for example, the R color, into ink droplets in each color filter forming region 11 in the mother substrate 12 (see FIG. 6B). Is a device for discharging and attaching to a predetermined position. Ink jet devices for the G filter element material and the B filter element material are also prepared, respectively, but their structures can be the same as those in FIG. 9, so description thereof will be omitted. .

【0070】図9において、インクジェット装置16
は、インクジェットヘッド22を備えたヘッドユニット
26と、インクジェットヘッド22の位置を制御するヘ
ッド位置制御装置17と、マザー基板12の位置を制御
する基板位置制御装置18と、インクジェットヘッド2
2をマザー基板12に対して主走査移動させる主走査駆
動装置19と、インクジェットヘッド22をマザー基板
12に対して副走査移動させる副走査駆動装置21と、
マザー基板12をインクジェット装置16内の所定の作
業位置へ供給する基板供給装置23と、そしてインクジ
ェット装置16の全般の制御を司るコントロール装置2
4とを有する。
In FIG. 9, the ink jet device 16
A head unit 26 having an inkjet head 22; a head position controller 17 for controlling the position of the inkjet head 22; a substrate position controller 18 for controlling the position of the mother substrate 12;
A main scanning drive device 19 that moves the inkjet head 22 in the main scanning direction with respect to the mother substrate 12, a sub scanning driving device 21 that moves the inkjet head 22 in the sub scanning direction with respect to the mother substrate 12,
A substrate supply device 23 for supplying the mother substrate 12 to a predetermined working position in the inkjet device 16; and a control device 2 for controlling the overall control of the inkjet device 16
And 4.

【0071】ヘッド位置制御装置17、基板位置制御装
置18、主走査駆動装置19、そして副走査駆動装置2
1の各装置はベース9の上に設置される。また、それら
の各装置は必要に応じてカバー14によって覆われる。
The head position control device 17, substrate position control device 18, main scanning driving device 19, and sub-scanning driving device 2
Each device of 1 is installed on the base 9. Each of those devices is covered with a cover 14 as needed.

【0072】インクジェットヘッド22は、例えば図2
に示すように、複数、本実施形態では6個のヘッド部2
0と、それらのヘッド部20を並べて支持する支持手段
としてのキャリッジ25とを有する。キャリッジ25
は、ヘッド部20を支持すべき位置にヘッド部20より
も少し大きい穴すなわち凹部を有し、各ヘッド部20は
それらの穴の中に入れられ、さらにネジ、接着剤その他
の締結手段によって固定される。また、キャリッジ25
に対するヘッド部20の位置が正確に決められる場合に
は、特別な締結手段を用いることなく、単なる圧入によ
ってヘッド部20を固定しても良い。
The ink jet head 22 is, for example, as shown in FIG.
As shown in the figure, a plurality of, in this embodiment, six head units 2
And a carriage 25 as support means for supporting the head units 20 side by side. Carriage 25
Has holes or recesses slightly larger than the head portion 20 at positions where the head portion 20 is to be supported, and each head portion 20 is inserted into those holes and further fixed by screws, adhesives or other fastening means. Is done. Also, the carriage 25
If the position of the head section 20 with respect to the head section 20 is accurately determined, the head section 20 may be fixed by simple press-fitting without using any special fastening means.

【0073】ヘッド部20は、例えば図11に示すよう
に、複数のノズル27を列状に並べることによって形成
されたノズル列28を有する。ノズル27の数は例えば
180個であり、ノズル27の孔径は例えば28μmで
あり、ノズル27間のノズルピッチは例えば141μm
である。図6(a)及び図6(b)においてカラーフィ
ルタ1及びマザー基板12に対する主走査方向X及びそ
れに直交する副走査方向Yは図11において図示の通り
に設定される。
The head section 20 has a nozzle row 28 formed by arranging a plurality of nozzles 27 in a row, for example, as shown in FIG. The number of the nozzles 27 is, for example, 180, the hole diameter of the nozzles 27 is, for example, 28 μm, and the nozzle pitch between the nozzles 27 is, for example, 141 μm.
It is. 6A and 6B, the main scanning direction X and the sub-scanning direction Y orthogonal to the color filter 1 and the mother substrate 12 are set as shown in FIG.

【0074】図2において、各ヘッド部20は、それら
が有するノズル列28の延在方向K0がキャリッジ25
の長手方向の中心軸線K1に対して角度θで傾斜するよ
うに、そのキャリッジ25に取り付けられている。ま
た、インクジェットヘッド22は、図1に示すように、
そのキャリッジ25の中心軸線K1が主走査方向Xと交
差する方向、本実施形態では直角方向へ延びるように位
置設定される。つまり、各ノズル列28は主走査方向に
対して直角である副走査方向Yに対して角度θで傾斜す
る状態に位置設定される。
In FIG. 2, each head unit 20 has a carriage 25
Is attached to the carriage 25 so as to be inclined at an angle θ with respect to a central axis K1 in the longitudinal direction of the carriage. In addition, as shown in FIG.
The position of the carriage 25 is set so that the center axis K1 of the carriage 25 extends in a direction intersecting the main scanning direction X, that is, in the present embodiment, at right angles. That is, each nozzle row 28 is set at a position inclined at an angle θ with respect to the sub-scanning direction Y which is perpendicular to the main scanning direction.

【0075】インクジェットヘッド22はX方向へ平行
移動することによりマザー基板12を主走査するが、こ
の主走査の間にインクとしてのフィルタエレメント材料
を各ヘッド部20内の複数のノズル27から選択的に吐
出することにより、マザー基板12内の所定位置にフィ
ルタエレメント材料を付着させる。また、インクジェッ
トヘッド22は副走査方向Yへ所定距離、例えばノズル
列28の副走査方向Y成分の長さの6個分の長さ若しく
はそれよりも短い又はそれよりも長い長さだけ平行移動
することにより、インクジェットヘッド22による主走
査位置を所定の間隔でずらせることができる。
The ink jet head 22 performs main scanning on the mother substrate 12 by moving in parallel in the X direction. During this main scanning, a filter element material as ink is selectively supplied from a plurality of nozzles 27 in each head unit 20. The filter element material adheres to a predetermined position in the mother substrate 12 by discharging the filter element material. Further, the inkjet head 22 moves in parallel in the sub-scanning direction Y by a predetermined distance, for example, a length of six or less than or longer than the length of the Y component of the nozzle row 28 in the sub-scanning direction. Thus, the main scanning position of the inkjet head 22 can be shifted at a predetermined interval.

【0076】個々のヘッド部20は、例えば、図13
(a)及び図13(b)に示す内部構造を有する。具体
的には、ヘッド部20は、例えばステンレス製のノズル
プレート29と、それに対向する振動板31と、それら
を互いに接合する複数の仕切部材32とを有する。ノズ
ルプレート29と振動板31との間には、仕切部材32
によって複数のインク室33と液溜り34とが形成され
る。複数のインク室33と液溜り34とは通路38を介
して互いに連通している。
Each head section 20 is, for example, shown in FIG.
It has the internal structure shown in FIG. 13A and FIG. Specifically, the head unit 20 includes, for example, a nozzle plate 29 made of stainless steel, a diaphragm 31 facing the nozzle plate 29, and a plurality of partition members 32 that join them together. A partition member 32 is provided between the nozzle plate 29 and the diaphragm 31.
Thus, a plurality of ink chambers 33 and a liquid pool 34 are formed. The plurality of ink chambers 33 and the liquid reservoir 34 communicate with each other via a passage 38.

【0077】振動板31の適所にはインク供給孔36が
形成され、このインク供給孔36にインク供給装置37
が接続される。このインク供給装置37はR,G,Bの
うちの1色、例えばR色のフィルタエレメント材料Mを
インク供給孔36へ供給する。供給されたフィルタエレ
メント材料Mは液溜り34に充満し、さらに通路38を
通ってインク室33に充満する。
An ink supply hole 36 is formed at an appropriate position on the vibration plate 31, and an ink supply device 37 is formed in the ink supply hole 36.
Is connected. The ink supply device 37 supplies the filter element material M of one of R, G, and B, for example, R, to the ink supply hole 36. The supplied filter element material M fills the liquid reservoir 34 and further fills the ink chamber 33 through the passage 38.

【0078】ノズルプレート29には、インク室33か
らフィルタエレメント材料Mをジェット状に噴射するた
めのノズル27が設けられている。また、振動板31の
インク室33を形成する面の裏面には、該インク室33
に対応させてインク加圧体39が取り付けられている。
このインク加圧体39は、図13(b)に示すように、
圧電素子41並びにこれを挟持する一対の電極42a及
び42bを有する。圧電素子41は電極42a及び42
bへの通電によって矢印Cで示す外側へ突出するように
撓み変形し、これによりインク室33の容積が増大す
る。すると、増大した容積分に相当するフィルタエレメ
ント材料Mが液溜り34から通路38を通ってインク室
33へ流入する。
The nozzle plate 29 is provided with nozzles 27 for jetting the filter element material M from the ink chamber 33 in a jet shape. The ink chamber 33 is provided on the back surface of the diaphragm 31 on which the ink chamber 33 is formed.
The ink pressurizing member 39 is attached so as to correspond to.
As shown in FIG. 13B, the ink pressurizing body 39
It has a piezoelectric element 41 and a pair of electrodes 42a and 42b sandwiching the same. The piezoelectric element 41 has electrodes 42a and 42
When the electric current is supplied to b, the ink chamber 33 bends and deforms so as to protrude outward as indicated by the arrow C, thereby increasing the volume of the ink chamber 33. Then, the filter element material M corresponding to the increased volume flows from the liquid reservoir 34 through the passage 38 into the ink chamber 33.

【0079】次に、圧電素子41への通電を解除する
と、該圧電素子41と振動板31は共に元の形状へ戻
る。これにより、インク室33も元の容積に戻るためイ
ンク室33の内部にあるフィルタエレメント材料Mの圧
力が上昇し、ノズル27からマザー基板12(図6
(b)参照)へ向けてフィルタエレメント材料Mが液滴
8となって噴出する。なお、ノズル27の周辺部には、
液滴8の飛行曲がりやノズル27の孔詰まり等を防止す
るために、例えばNi−テトラフルオロエチレン共析メ
ッキ層から成る撥インク層43が設けられる。
Next, when the current supply to the piezoelectric element 41 is released, both the piezoelectric element 41 and the diaphragm 31 return to their original shapes. As a result, the pressure of the filter element material M inside the ink chamber 33 increases because the ink chamber 33 also returns to the original volume, and the mother substrate 12 (FIG.
The filter element material M is ejected as droplets 8 toward (b). In the vicinity of the nozzle 27,
An ink-repellent layer 43 made of, for example, a Ni-tetrafluoroethylene eutectoid plating layer is provided in order to prevent the flight of the droplet 8 and the clogging of the hole of the nozzle 27.

【0080】図10において、ヘッド位置制御装置17
は、インクジェットヘッド22を面内回転させるαモー
タ44と、インクジェットヘッド22を副走査方向Yと
平行な軸線回りに揺動回転させるβモータ46と、イン
クジェットヘッド22を主走査方向Xと平行な軸線回り
に揺動回転させるγモータ47と、そしてインクジェッ
トヘッド22を上下方向へ平行移動させるZモータ48
とを有する。
In FIG. 10, the head position controller 17
Is an α motor 44 for rotating the inkjet head 22 in a plane, a β motor 46 for swingingly rotating the inkjet head 22 about an axis parallel to the sub-scanning direction Y, and an axis parallel to the main scanning direction X. A γ motor 47 for swinging and rotating around, and a Z motor 48 for horizontally moving the inkjet head 22 in a vertical direction
And

【0081】図9に示した基板位置制御装置18は、図
10において、マザー基板12を載せるテーブル49
と、そのテーブル49を矢印θのように面内回転させる
θモータ51とを有する。また、図9に示した主走査駆
動装置19は、図10に示すように、主走査方向Xへ延
びるガイドレール52と、パルス駆動されるリニアモー
タを内蔵したスライダ53とを有する。スライダ53は
内蔵するリニアモータが作動するときにガイドレール5
2に沿って主走査方向へ平行移動する。
The board position control device 18 shown in FIG. 9 uses a table 49 on which the mother board 12 is placed as shown in FIG.
And a θ motor 51 for rotating the table 49 in-plane as indicated by an arrow θ. Further, as shown in FIG. 10, the main scanning drive device 19 shown in FIG. 9 includes a guide rail 52 extending in the main scanning direction X and a slider 53 containing a pulse-driven linear motor. The slider 53 is used to move the guide rail 5 when the built-in linear motor operates.
2 along the main scanning direction.

【0082】また、図9に示した副走査駆動装置21
は、図10に示すように、副走査方向Yへ延びるガイド
レール54と、パルス駆動されるリニアモータを内蔵し
たスライダ56とを有する。スライダ56は内蔵するリ
ニアモータが作動するときにガイドレール54に沿って
副走査方向Yへ平行移動する。
The sub-scanning driving device 21 shown in FIG.
Has a guide rail 54 extending in the sub-scanning direction Y and a slider 56 containing a pulse-driven linear motor, as shown in FIG. The slider 56 moves in the sub-scanning direction Y along the guide rail 54 when the built-in linear motor operates.

【0083】スライダ53やスライダ56内においてパ
ルス駆動されるリニアモータは、該モータに供給するパ
ルス信号によって出力軸の回転角度制御を精細に行うこ
とができ、従って、スライダ53に支持されたインクジ
ェットヘッド22の主走査方向X上の位置やテーブル4
9の副走査方向Y上の位置等を高精細に制御できる。な
お、インクジェットヘッド22やテーブル49の位置制
御はパルスモータを用いた位置制御に限られず、サーボ
モータを用いたフィードバック制御や、その他任意の制
御方法によって実現することもできる。
A linear motor driven by a pulse in the slider 53 or the slider 56 can precisely control the rotation angle of the output shaft by a pulse signal supplied to the motor. 22 in the main scanning direction X and the table 4
9 can be controlled with high definition in the sub-scanning direction Y. The position control of the ink jet head 22 and the table 49 is not limited to the position control using a pulse motor, but can also be realized by feedback control using a servo motor or any other control method.

【0084】図9に示した基板供給装置23は、マザー
基板12を収容する基板収容部57と、マザー基板12
を搬送するロボット58とを有する。ロボット58は、
床、地面等といった設置面に置かれる基台59と、基台
59に対して昇降移動する昇降軸61と、昇降軸61を
中心として回転する第1アーム62と、第1アーム62
に対して回転する第2アーム63と、第2アーム63の
先端下面に設けられた吸着パッド64とを有する。吸着
パッド64は空気吸引等によってマザー基板12を吸着
できる。
The substrate supply device 23 shown in FIG. 9 includes a substrate accommodating portion 57 for accommodating the mother substrate 12 and a mother substrate 12.
And a robot 58 for transporting. The robot 58
A base 59 placed on an installation surface such as a floor, the ground, etc .; an elevating shaft 61 moving up and down with respect to the base 59; a first arm 62 rotating about the elevating shaft 61;
And a suction pad 64 provided on the lower surface of the distal end of the second arm 63. The suction pad 64 can suction the mother substrate 12 by air suction or the like.

【0085】図9において、主走査駆動装置19によっ
て駆動されて主走査移動するインクジェットヘッド22
の軌跡下であって副走査駆動装置21の一方の脇位置
に、キャッピング装置76及びクリーニング装置77が
配設される。また、他方の脇位置に電子天秤78が配設
される。クリーニング装置77はインクジェットヘッド
22を洗浄するための装置である。電子天秤78はイン
クジェットヘッド22内の個々のノズル27(図11参
照)から吐出されるインクの液滴の重量をノズルごとに
測定する機器である。そして、キャッピング装置76は
インクジェットヘッド22が待機状態にあるときにノズ
ル27の乾燥を防止するための装置である。
In FIG. 9, the ink jet head 22 which is driven by the main scanning driving device 19 and moves in the main scanning.
A capping device 76 and a cleaning device 77 are disposed below the locus and at one side position of the sub-scanning driving device 21. An electronic balance 78 is provided at the other side position. The cleaning device 77 is a device for cleaning the inkjet head 22. The electronic balance 78 is a device that measures the weight of ink droplets ejected from the individual nozzles 27 (see FIG. 11) in the inkjet head 22 for each nozzle. The capping device 76 is a device for preventing the nozzle 27 from drying when the inkjet head 22 is in a standby state.

【0086】インクジェットヘッド22の近傍には、そ
のインクジェットヘッド22と一体に移動する関係でヘ
ッド用カメラ81が配設される。また、ベース9上に設
けた支持装置(図示せず)に支持された基板用カメラ8
2がマザー基板12を撮影できる位置に配置される。
A head camera 81 is arranged near the ink jet head 22 so as to move integrally with the ink jet head 22. Further, the substrate camera 8 supported by a supporting device (not shown) provided on the base 9.
2 is arranged at a position where the mother substrate 12 can be photographed.

【0087】図9に示したコントロール装置24は、プ
ロセッサを収容したコンピュータ本体部66と、入力装
置としてのキーボード67と、表示装置としてのCRT
(Cathode Ray Tube)ディスプレイ68とを有する。上
記プロセッサは、図14に示すように、演算処理を行う
CPU(Central Processing Unit)69と、各種情報
を記憶するメモリすなわち情報記憶媒体71とを有す
る。
The control device 24 shown in FIG. 9 includes a computer main body 66 containing a processor, a keyboard 67 as an input device, and a CRT as a display device.
(Cathode Ray Tube) display 68. As shown in FIG. 14, the processor has a CPU (Central Processing Unit) 69 for performing arithmetic processing, and a memory for storing various information, that is, an information storage medium 71.

【0088】図9に示したヘッド位置制御装置17、基
板位置制御装置18、主走査駆動装置19、副走査駆動
装置21、そして、インクジェットヘッド22内の圧電
素子41(図13(b)参照)を駆動するヘッド駆動回
路72の各機器は、図14において、入出力インターフ
ェース73及びバス74を介してCPU69に接続され
る。また、基板供給装置23、入力装置67、ディスプ
レイ68、電子天秤78、クリーニング装置77及びキ
ャッピング装置76の各機器も入出力インターフェース
73及びバス74を介してCPU69に接続される。
The head position control device 17, substrate position control device 18, main scan drive device 19, sub-scan drive device 21, and piezoelectric element 41 in the ink jet head 22 shown in FIG. 9 (see FIG. 13B). 14 are connected to the CPU 69 via the input / output interface 73 and the bus 74 in FIG. Further, each device of the substrate supply device 23, the input device 67, the display 68, the electronic balance 78, the cleaning device 77, and the capping device 76 is also connected to the CPU 69 via the input / output interface 73 and the bus 74.

【0089】メモリ71は、RAM(Random Access Me
mory)、ROM(Read Only Memory)等といった半導体
メモリや、ハードディスク、CD−ROM読取り装置、
ディスク型記憶媒体等といった外部記憶装置等を含む概
念であり、機能的には、インクジェット装置16の動作
の制御手順が記述されたプログラムソフトを記憶する記
憶領域や、図8に示す各種のR,G,B配列を実現する
ためのR,G,Bのうちの1色のマザー基板12(図6
参照)内における吐出位置を座標データとして記憶する
ための記憶領域や、図10における副走査方向Yへのマ
ザー基板12の副走査移動量を記憶するための記憶領域
や、CPU69のためのワークエリアやテンポラリファ
イル等として機能する領域や、その他各種の記憶領域が
設定される。
The memory 71 has a random access memory (RAM).
mory), semiconductor memory such as ROM (Read Only Memory), hard disk, CD-ROM reader,
This is a concept including an external storage device such as a disk-type storage medium and the like. Functionally, a storage area for storing program software in which a control procedure of the operation of the ink jet device 16 is described, and various R and R shown in FIG. A mother board 12 of one color of R, G, B for realizing the G, B arrangement (FIG.
10), a storage area for storing the amount of sub-scanning movement of the mother substrate 12 in the sub-scanning direction Y in FIG. 10, and a work area for the CPU 69. And an area functioning as a temporary file or the like, and other various storage areas are set.

【0090】CPU69は、メモリ71内に記憶された
プログラムソフトに従って、マザー基板12の表面の所
定位置にインク、すなわちフィルタエレメント材料を吐
出するための制御を行うものであり、具体的な機能実現
部として、クリーニング処理を実現するための演算を行
うクリーニング演算部と、キャッピング処理を実現する
ためのキャッピング演算部と、電子天秤78(図9参
照)を用いた重量測定を実現するための演算を行う重量
測定演算部と、インクジェットによってフィルタエレメ
ント材料を描画するための演算を行う描画演算部とを有
する。
The CPU 69 controls the ejection of ink, that is, the filter element material, to a predetermined position on the surface of the mother substrate 12 according to the program software stored in the memory 71. A cleaning operation unit for performing an operation for implementing the cleaning process, a capping operation unit for implementing the capping process, and an operation for implementing weight measurement using the electronic balance 78 (see FIG. 9). It has a weight measurement calculation unit and a drawing calculation unit that performs calculation for drawing the filter element material by the inkjet.

【0091】描画演算部を詳しく分割すれば、インクジ
ェットヘッド22を描画のための初期位置へセットする
ための描画開始位置演算部と、インクジェットヘッド2
2を主走査方向Xへ所定の速度で走査移動させるための
制御を演算する主走査制御演算部と、マザー基板12を
副走査方向Yへ所定の副走査量だけずらせるための制御
を演算する副走査制御演算部と、そして、インクジェッ
トヘッド22内の複数のノズル27のうちのいずれを作
動させてインクすなわちフィルタエレメント材料を吐出
するかを制御するための演算を行うノズル吐出制御演算
部等といった各種の機能演算部を有する。
If the drawing calculation section is divided in detail, a drawing start position calculation section for setting the ink jet head 22 to an initial position for drawing, and an ink jet head 2
A main scanning control calculation unit for calculating a control for moving the scanning substrate 2 in the main scanning direction X at a predetermined speed, and a control for shifting the mother board 12 in the sub scanning direction Y by a predetermined sub scanning amount. A sub-scanning control operation unit, and a nozzle ejection control operation unit that performs an operation for controlling which of the plurality of nozzles 27 in the inkjet head 22 is operated to eject ink, that is, the filter element material. It has various function calculation units.

【0092】なお、本実施形態では、上記の各機能をC
PU69を用いてソフト的に実現することにしたが、上
記の各機能がCPUを用いない単独の電子回路によって
実現できる場合には、そのような電子回路を用いること
も可能である。
In this embodiment, each of the above functions is implemented by C
Although the software is realized by using the PU 69, when each of the above functions can be realized by a single electronic circuit without using the CPU, such an electronic circuit can be used.

【0093】以下、上記構成から成るインクジェット装
置16の動作を図15に示すフローチャートに基づいて
説明する。
Hereinafter, the operation of the ink jet apparatus 16 having the above configuration will be described with reference to the flowchart shown in FIG.

【0094】オペレータによる電源投入によってインク
ジェット装置16が作動すると、まず、ステップS1に
おいて初期設定が実行される。具体的には、ヘッドユニ
ット26や基板供給装置23やコントロール装置24等
が予め決められた初期状態にセットされる。
When the ink-jet device 16 is operated by turning on the power by the operator, first, in step S1, initialization is executed. Specifically, the head unit 26, the substrate supply device 23, the control device 24, and the like are set to a predetermined initial state.

【0095】次に、重量測定タイミングが到来すれば
(ステップS2でYES)、図10のヘッドユニット2
6を主走査駆動装置19によって図9の電子天秤78の
所まで移動させて(ステップS3)、ノズル27から吐
出されるインクの量を電子天秤78を用いて測定する
(ステップS4)。そして、個々のノズル27のインク
吐出特性に合わせて、各ノズル27に対応する圧電素子
41に印加する電圧を調節する(ステップS5)。
Next, when the weight measurement timing comes (YES in step S2), the head unit 2 shown in FIG.
6 is moved to the position of the electronic balance 78 in FIG. 9 by the main scanning drive device 19 (step S3), and the amount of ink ejected from the nozzles 27 is measured using the electronic balance 78 (step S4). Then, the voltage applied to the piezoelectric element 41 corresponding to each nozzle 27 is adjusted according to the ink ejection characteristics of each nozzle 27 (step S5).

【0096】次に、クリーニングタイミングが到来すれ
ば(ステップS6でYES)、ヘッドユニット26を主
走査駆動装置19によってクリーニング装置77の所ま
で移動させて(ステップS7)、そのクリーニング装置
77によってインクジェットヘッド22をクリーニング
する(ステップS8)。
Next, when the cleaning timing comes (YES in step S6), the head unit 26 is moved to the cleaning device 77 by the main scanning drive device 19 (step S7), and the ink jet head is moved by the cleaning device 77. 22 is cleaned (step S8).

【0097】重量測定タイミングやクリーニングタイミ
ングが到来しない場合(ステップS2及びS6でN
O)、あるいはそれらの処理が終了した場合には、ステ
ップS9において、図9の基板供給装置23を作動させ
てマザー基板12をテーブル49へ供給する。具体的に
は、基板収容部57内のマザー基板12を吸着パッド6
4によって吸引保持し、次に、昇降軸61、第1アーム
62及び第2アーム63を移動させてマザー基板12を
テーブル49まで搬送し、さらにテーブル49の適所に
予め設けてある位置決めピン50(図10参照)に押し
付ける。なお、テーブル49上におけるマザー基板12
の位置ズレを防止するため、空気吸引等の手段によって
マザー基板12をテーブル49に固定することが望まし
い。
When the weight measurement timing or the cleaning timing has not arrived (N in steps S2 and S6)
O) Or, when those processes are completed, the motherboard 12 is supplied to the table 49 by operating the substrate supply device 23 of FIG. Specifically, the mother substrate 12 in the substrate housing portion 57 is
Then, the mother substrate 12 is transported to the table 49 by moving the elevating shaft 61, the first arm 62, and the second arm 63, and the positioning pins 50 ( (See FIG. 10). The mother substrate 12 on the table 49
It is desirable to fix the mother substrate 12 to the table 49 by means such as air suction in order to prevent the displacement of the position.

【0098】次に、図9の基板用カメラ82によってマ
ザー基板12を観察しながら、図10のθモータ51の
出力軸を微小角度単位で回転させることによりテーブル
49を微小角度単位で面内回転させてマザー基板12を
位置決めする(ステップS10)。次に、図9のヘッド
用カメラ81によってマザー基板12を観察しながらイ
ンクジェットヘッド22によって描画を開始する位置を
演算によって決定し(ステップS11)、そして、主走
査駆動装置19及び副走査駆動装置21を適宜に作動さ
せてインクジェットヘッド22を描画開始位置へ移動す
る(ステップS12)。
Next, while observing the mother board 12 with the board camera 82 shown in FIG. 9, the output shaft of the θ motor 51 shown in FIG. 10 is rotated in minute angle units to thereby rotate the table 49 in minute angle units. Then, the mother substrate 12 is positioned (Step S10). Next, while observing the mother substrate 12 with the head camera 81 of FIG. 9, the position at which drawing is started by the inkjet head 22 is determined by calculation (step S11), and the main scanning driving device 19 and the sub-scanning driving device 21 are determined. Is operated to move the inkjet head 22 to the drawing start position (step S12).

【0099】このとき、インクジェットヘッド22は、
図1に示すように、そのキャリッジ25の中心軸線K1
が主走査方向Xと直角の方向となるようにセットされ
る。このため、ノズル列28がインクジェットヘッド2
2の副走査方向Yに対して角度θで傾斜するように配設
される。これは、通常のインクジェット装置の場合に
は、隣り合うノズル27の間の間隔であるノズル間ピッ
チと、隣り合うフィルタエレメント3すなわちフィルタ
エレメント形成領域7の間の間隔であるエレメントピッ
チとが異なることが多く、インクジェットヘッド22を
主走査方向Xへ移動させるときに、ノズル間ピッチの副
走査方向Yの寸法成分がエレメントピッチと幾何学的に
等しくなるようにするための措置である。
At this time, the ink jet head 22
As shown in FIG. 1, the center axis K1 of the carriage 25 is
Is set in a direction perpendicular to the main scanning direction X. For this reason, the nozzle row 28 is
The second sub-scanning direction Y is arranged to be inclined at an angle θ. This is because, in the case of a normal ink jet apparatus, the pitch between nozzles, which is the interval between adjacent nozzles 27, and the element pitch, which is the interval between adjacent filter elements 3, that is, the filter element formation region 7, are different. This is a measure for making the dimension component of the pitch between nozzles in the sub-scanning direction Y geometrically equal to the element pitch when the inkjet head 22 is moved in the main scanning direction X.

【0100】図15のステップS12でインクジェット
ヘッド22が描画開始位置に置かれると、その後、図1
5のステップS13でX方向への主走査が開始され、同
時にインクの吐出が開始される。具体的には、図10の
主走査駆動装置19が作動してインクジェットヘッド2
2が図1の主走査方向Xへ一定の速度で直線的に走査移
動し、その移動中、インクを供給すべきフィルタエレメ
ント形成領域7に対応するノズル27が到達したときに
そのノズル27からインクすなわちフィルタエレメント
材料が吐出されて該領域7が埋められてフィルタエレメ
ント3が形成される。
When the ink-jet head 22 is placed at the drawing start position in step S12 in FIG.
In step S13, the main scanning in the X direction is started, and at the same time, the ejection of ink is started. Specifically, the main scanning drive device 19 shown in FIG.
1 moves linearly in the main scanning direction X in FIG. 1 at a constant speed, and during the movement, when the nozzle 27 corresponding to the filter element forming area 7 to which ink is to be supplied arrives, the ink from the nozzle 27 That is, the filter element material is ejected to fill the area 7 to form the filter element 3.

【0101】インクジェットヘッド22は、マザー基板
12に対する1回の主走査が終了すると(ステップS1
4でYES)、反転移動して初期位置へ復帰する(ステ
ップS15)。そしてさらに、インクジェットヘッド2
2は、副走査駆動装置21によって駆動されて副走査方
向Yへ予め決められた副走査量、例えば6個のノズル列
28の合計の長さの副走査方向Y成分だけ移動する(ス
テップS16)。そして次に、主走査及びインク吐出が
繰り返して行われてフィルタエレメント形成領域7がフ
ィルタエレメント材料によって埋められてフィルタエレ
メント3が形成される(ステップS13)。
After one main scan of the mother substrate 12 is completed (step S1).
(YES at 4), and reversely move to return to the initial position (step S15). And further, the inkjet head 2
No. 2 is driven by the sub-scanning driving device 21 and moves in the sub-scanning direction Y by a predetermined sub-scanning amount, for example, the total length of the six nozzle rows 28 in the sub-scanning direction Y component (step S16). . Then, the main scanning and the ink ejection are repeatedly performed to fill the filter element forming region 7 with the filter element material, thereby forming the filter element 3 (step S13).

【0102】以上のようなインクジェットヘッド22に
よるフィルタエレメント3の描画作業がマザー基板12
の全領域に対して完了すると(ステップS17でYE
S)、ステップS18でマザー基板12を基板供給装置
23によって、又は別の搬送機器によって、処理後のマ
ザー基板12が外部へ排出される。その後、オペレータ
によって処理終了の指示がなされない限り(ステップS
1でNO)、ステップS2へ戻って別のマザー基板12
に対するR,G,Bのうちの1色に関するインク吐着作
業を繰り返して行う。
The drawing operation of the filter element 3 by the ink jet head 22 as described above is performed by the mother substrate 12.
Is completed for all areas (YE in step S17).
S) In step S18, the processed mother substrate 12 is discharged to the outside by the substrate supply device 23 or another transport device. Thereafter, unless the operator gives an instruction to end the processing (step S
1 is NO), the process returns to step S2, and another mother substrate 12
, The ink ejection operation for one of R, G, and B colors is repeatedly performed.

【0103】オペレータから作業終了の指示があると
(ステップS19でYES)、CPU69は図9におい
てインクジェットヘッド22をキャッピング装置76の
所まで搬送して、そのキャッピング装置76によってイ
ンクジェットヘッド22に対してキャッピング処理を施
す(ステップS20)。
When an instruction to end the work is given by the operator (YES in step S19), CPU 69 transports ink jet head 22 to capping device 76 in FIG. 9 and caps ink jet head 22 by capping device 76. Processing is performed (step S20).

【0104】以上により、カラーフィルタを構成する
R,G,B3色のうちの第1色、例えばR色についての
パターニングが終了し、その後、マザー基板12をR,
G,Bの第2色、例えばG色をフィルタエレメント材料
とするインクジェット装置16へ搬送してG色のパター
ニングを行い、さらに最終的にR,G,Bの第3色、例
えばB色をフィルタエレメント材料とするインクジェッ
ト装置16へ搬送してB色のパターニングを行う。これ
により、ストライプ配列等といった希望のR,G,Bの
ドット配列を有するカラーフィルタ1(図6(a))が
複数個形成されたマザー基板12が製造される。このマ
ザー基板12をカラーフィルタ領域11ごとに切断する
ことにより、1個のカラーフィルタ1が複数個切り出さ
れる。
As described above, the patterning of the first color, for example, the R color of the three colors R, G, and B constituting the color filter is completed.
The second color of G and B, for example, G is conveyed to the ink jet device 16 which uses G as a filter element material to perform patterning of G color, and finally, the third color of R, G and B, for example, B color is filtered. The material is conveyed to the ink jet device 16 as an element material, and is subjected to B color patterning. As a result, a mother substrate 12 on which a plurality of color filters 1 (FIG. 6A) having a desired R, G, B dot arrangement such as a stripe arrangement is formed. By cutting the mother substrate 12 for each color filter region 11, a plurality of one color filters 1 are cut out.

【0105】なお、本カラーフィルタ1を液晶装置のカ
ラー表示のために用いるものとすれば、本カラーフィル
タ1の表面にはさらに電極や配向膜等がさらに積層され
ることになる。そのような場合、電極や配向膜等を積層
する前にマザー基板12を切断して個々のカラーフィル
タ1を切り出してしまうと、その後の電極等の形成工程
が非常に面倒になる。よって、そのような場合には、マ
ザー基板12上でカラーフィルタ1が完成した後に、直
ぐにマザー基板12を切断してしまうのではなく、電極
形成や配向膜形成等といった必要な付加工程が終了した
後にマザー基板12を切断することが望ましい。
If the present color filter 1 is used for color display of a liquid crystal device, an electrode, an alignment film and the like are further laminated on the surface of the present color filter 1. In such a case, if the mother substrate 12 is cut and the individual color filters 1 are cut out before laminating the electrodes and the alignment films, the subsequent steps of forming the electrodes and the like become very troublesome. Therefore, in such a case, after the color filter 1 is completed on the mother substrate 12, the necessary additional processes such as electrode formation and alignment film formation are completed, instead of cutting the mother substrate 12 immediately. It is desirable to cut the mother substrate 12 later.

【0106】以上のように本実施形態に係るカラーフィ
ルタの製造方法及び製造装置によれば、図1に示すよう
に、複数のヘッド部20を支持した支持手段としてのキ
ャリッジ25によって基板12を主走査する間にそれら
複数のヘッド部20のノズル列28からインクを吐出す
るので、1個のヘッド部だけを用いて基板12の表面を
走査する場合に比べて走査時間を短縮でき、従って、カ
ラーフィルタの製造時間を短縮できる。
As described above, according to the method and the apparatus for manufacturing a color filter according to the present embodiment, as shown in FIG. Since ink is ejected from the nozzle rows 28 of the plurality of head units 20 during scanning, the scanning time can be reduced as compared with the case where the surface of the substrate 12 is scanned using only one head unit. Filter manufacturing time can be reduced.

【0107】また、各ヘッド部20は副走査方向Yに対
して角度θの傾斜状態で主走査を行うので、各ヘッド部
20に属する複数のノズル27のノズル間ピッチを基板
12上のフィルタエレメント形成領域7の間の間隔、す
なわちエレメント間ピッチに一致させることができる。
このようにノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾
何学的に一致させれば、ノズル列28を副走査方向Yに
関して位置制御する必要がなくなるので好都合である。
Further, since each head unit 20 performs main scanning in an inclined state at an angle θ with respect to the sub-scanning direction Y, the inter-nozzle pitch of a plurality of nozzles 27 belonging to each head unit 20 is set to The distance between the formation regions 7, that is, the pitch between the elements can be matched.
If the pitch between the nozzles and the pitch between the elements are geometrically matched in this manner, the position of the nozzle row 28 need not be controlled in the sub-scanning direction Y, which is advantageous.

【0108】なお、本実施形態ではヘッド部20がキャ
リッジ25に固定されるので、傾斜角度θは1個のキャ
リッジ25に対して1種類である。従って、基板12側
のエレメント間ピッチが変化する場合には、そのエレメ
ント間ピッチに対応した傾斜角度θを実現できる他のキ
ャリッジ25を用いる必要がある。
In this embodiment, since the head section 20 is fixed to the carriage 25, the inclination angle θ is one type for one carriage 25. Therefore, when the pitch between the elements on the substrate 12 changes, it is necessary to use another carriage 25 that can realize the inclination angle θ corresponding to the pitch between the elements.

【0109】さらに、本実施形態では、キャリッジ25
の全体を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部20を
傾斜させるので、基板12に近い側のノズル27と基板
12から遠い側のノズル27までの距離Tはキャリッジ
25の全体を傾斜させる場合に比べて著しく小さくな
り、それ故、インクジェットヘッド22によって基板1
2を走査する時間を著しく短縮できる。これにより、カ
ラーフィルタの製造時間を短縮できる。
Further, in this embodiment, the carriage 25
Is not inclined, but the individual head units 20 are inclined. Therefore, the distance T between the nozzle 27 on the side closer to the substrate 12 and the nozzle 27 on the side farther from the substrate 12 is smaller than the distance T when the entire carriage 25 is inclined. Compared to the substrate 1 by the inkjet head 22.
2 can significantly reduce the scanning time. Thereby, the manufacturing time of the color filter can be reduced.

【0110】なお、本実施形態の製造装置及び製造方法
では、インクジェットヘッド22を用いたインク吐出に
よってフィルタエレメント3を形成するので、フォトリ
ソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る
必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
In the manufacturing apparatus and the manufacturing method of the present embodiment, since the filter element 3 is formed by ink discharge using the ink jet head 22, there is no need to go through a complicated process such as a method using a photolithography method. Also, no material is wasted.

【0111】本第1実施形態においては、隔壁6として
透光性のない樹脂材料を用いたが、隔壁6として透光性
の樹脂材料を用いることも、もちろん可能である。その
場合にあっては、フィルタエレメント間に対応する位
置、例えば隔壁6の上、隔壁6の下等に別途、遮光性の
金属膜又は樹脂材料を設けてブラックマスクとしても良
い。また、透光性の樹脂材料で隔壁6を形成し、ブラッ
クマスクを設けない構成としても良い。
In the first embodiment, a resin material having no translucency is used for the partition 6. However, a resin material having a translucency may be used for the partition 6. In that case, a black mask may be provided by separately providing a light-shielding metal film or a resin material at a position corresponding to between the filter elements, for example, above the partition 6, below the partition 6, or the like. Alternatively, the partition 6 may be formed of a light-transmitting resin material without a black mask.

【0112】また、本第1実施形態においては、フィル
タエレメントとしてR,G,Bを用いたが、R,G,B
に限定されることはなく、例えばC(シアン)、M(マ
ゼンタ)、Y(イエロー)を採用してもかまわない。そ
の場合にあっては、R,G,Bのフィルタエレメント材
料に代えて、C,M,Yの色を有するフィルタエレメン
ト材料を用いれば良い。
In the first embodiment, R, G, and B are used as filter elements.
However, for example, C (cyan), M (magenta), and Y (yellow) may be adopted. In that case, filter element materials having C, M, and Y colors may be used instead of the R, G, and B filter element materials.

【0113】(第2実施形態)図3は、本発明に係るカ
ラーフィルタの製造方法及び製造装置の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド22を用いてマザー基板1
2内のカラーフィルタ形成領域11内の各フィルタエレ
メント形成領域7へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
(Second Embodiment) FIG. 3 shows another embodiment of a method and an apparatus for manufacturing a color filter according to the present invention.
2 schematically shows a case in which ink, that is, a filter element material is supplied to each filter element forming region 7 in a color filter forming region 11 in a discharge 2 by discharging.

【0114】本実施形態によって実施される概略の工程
は図7に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図9に示した装置と機構的
には同じである。
The outline steps performed by the present embodiment are the same as the steps shown in FIG. 7, and the ink jet apparatus used for discharging ink is mechanically the same as the apparatus shown in FIG.

【0115】本実施形態が図1に示した先の実施形態と
異なる点は、キャリッジ25によるヘッド部20の支持
構造に改変を加えたことである。具体的には、図4にお
いて、個々のヘッド部20をキャリッジ25に対してヘ
ッド部20の中心軸線K2を中心として矢印Nのように
回転可能、すなわち面内回転可能に支持する。また、個
々のヘッド部20をキャリッジ25に対して矢印Pで示
すようにスライド移動、すなわち面内平行移動可能に支
持する。また、キャリッジ25にノズル列角度制御装置
83及びノズル列間隔制御装置84を付設する。
The present embodiment differs from the previous embodiment shown in FIG. 1 in that the support structure of the head unit 20 by the carriage 25 is modified. Specifically, in FIG. 4, the individual head units 20 are supported on the carriage 25 so as to be rotatable about the central axis K2 of the head unit 20 as indicated by an arrow N, that is, rotatable in the plane. Further, the individual head units 20 are supported so as to be slidable with respect to the carriage 25 as indicated by the arrow P, that is, in-plane parallel movement. Further, a nozzle array angle control device 83 and a nozzle array interval control device 84 are additionally provided on the carriage 25.

【0116】ノズル列角度制御装置83は、複数のノズ
ル列28の面内傾斜角度θを個別に又は一括に制御する
ものである。このノズル列角度制御装置83は任意の構
造によって構成できるが、例えば、ケーシング25に矢
印Nのように面内回転可能に取り付けられたヘッド部2
0をパルスモータやサーボモータ等といった回転角度制
御が可能な動力源に直接に又は動力伝達機構等を介して
間接に接続することによって構成できる。この構成によ
れば、上記動力源の出力角度値を制御することによって
各ノズル列20の傾斜角度θを希望の値に調節でき、さ
らにその調節後の上記動力源の出力軸をロック状態に保
持することにより各ノズル列20の傾斜角度θを希望の
値に固定保持できる。
The nozzle array angle control device 83 controls the in-plane inclination angles θ of the plurality of nozzle arrays 28 individually or collectively. The nozzle array angle control device 83 can be configured by an arbitrary structure. For example, the head unit 2 attached to the casing 25 so as to be rotatable in-plane as indicated by an arrow N
0 can be configured by connecting it directly to a power source such as a pulse motor or a servo motor capable of controlling the rotation angle or indirectly via a power transmission mechanism or the like. According to this configuration, the tilt angle θ of each nozzle row 20 can be adjusted to a desired value by controlling the output angle value of the power source, and the output shaft of the power source after the adjustment is held in a locked state. By doing so, the inclination angle θ of each nozzle row 20 can be fixedly held at a desired value.

【0117】また、ノズル列間隔制御装置84は、複数
のノズル列20の間隔を個々の間隔ごとに個別に又は一
括に制御するものである。このノズル列間隔制御装置8
4は任意の構造によって構成できるが、例えば、矢印P
のようにケーシング25にスライド移動可能に取り付け
られたヘッド部20をパルスモータやサーボモータ等と
いった回転角度制御が可能な回転機器を動力源とするス
ライド駆動装置や、リニアモータ等といった直動駆動源
を用いて構成されるスライド駆動装置等に接続すること
によって構成できる。
The nozzle row interval control device 84 controls the intervals between the plurality of nozzle rows 20 individually or collectively for each individual interval. This nozzle row interval control device 8
4 can be constituted by an arbitrary structure.
A linear drive source such as a linear drive motor or a slide drive device using a rotary device such as a pulse motor or a servo motor as a power source for the head unit 20 slidably mounted on the casing 25 as described above. Can be configured by connecting to a slide drive device or the like configured using

【0118】本実施形態によれば、図4のノズル列角度
制御装置83を作動させて図3においてヘッド部20を
矢印Nのように面内回転させることにより、ヘッド部2
0の面内傾斜角度θを調節して、ノズル列28のノズル
間ピッチを基板12上のフィルタエレメント形成領域7
のエレメント間ピッチに一致させる。そしてさらに、図
4のノズル列間隔制御装置84を作動させて図3におい
てヘッド部20の間の間隔を調節して、互いに隣り合う
ノズル列28の端部同士のノズル間距離を基板12側の
エレメント間ピッチに一致させる。
According to the present embodiment, by operating the nozzle array angle control device 83 in FIG. 4 and rotating the head unit 20 in the plane as shown by the arrow N in FIG.
The in-plane tilt angle θ of the nozzle array 28 is adjusted to adjust the pitch between nozzles of the nozzle row 28 to the filter element formation region 7 on the substrate 12.
The pitch between the elements. Further, by operating the nozzle row interval control device 84 in FIG. 4 to adjust the interval between the head sections 20 in FIG. 3, the distance between the nozzles between the ends of the nozzle rows 28 adjacent to each other is set to the Match the pitch between elements.

【0119】以上により、6個のノズル列28をエレメ
ント間ピッチに一致するノズル間ピッチを有する連続し
た長いノズル列に形成することができる。このように、
本実施形態によれば、1個のインクジェットヘッド22
内のノズル間ピッチを適宜に調節することにより、エレ
メント間ピッチの異なるパターンを基板12上に描画で
きる。
As described above, the six nozzle rows 28 can be formed as continuous long nozzle rows having a nozzle pitch corresponding to the element pitch. in this way,
According to the present embodiment, one inkjet head 22
By appropriately adjusting the pitch between the nozzles, patterns having different pitches between the elements can be drawn on the substrate 12.

【0120】(第3実施形態)図5は、本発明に係るカ
ラーフィルタの製造装置及び製造方法の他の実施形態に
よってインクジェットヘッド22を用いてマザー基板1
2内のカラーフィルタ形成領域11内の各フィルタエレ
メント形成領域7へインクすなわちフィルタエレメント
材料を吐出によって供給する場合を模式的に示してい
る。
(Third Embodiment) FIG. 5 shows another embodiment of the apparatus and method for manufacturing a color filter according to the present invention.
2 schematically shows a case in which ink, that is, a filter element material is supplied to each filter element forming region 7 in a color filter forming region 11 in a discharge 2 by discharging.

【0121】本実施形態によって実施される概略の工程
は図7に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も図9に示した装置と機構的
には同じである。
The general steps performed by the present embodiment are the same as those shown in FIG. 7, and the ink jet apparatus used for discharging ink is mechanically the same as the apparatus shown in FIG.

【0122】本実施形態が図1及び図3に示した先の実
施形態と異なる点は、ノズル列28の傾斜角度θが各ノ
ズル列28間で大きさは同じであるが傾斜方向がプラス
・マイナス間で交互に変化することである。この方法に
よっても、6個のノズル列28を基板12側のエレメン
ト間ピッチに一致するノズル間ピッチを有する連続した
長いノズル列に形成することができる。
This embodiment is different from the previous embodiment shown in FIGS. 1 and 3 in that the inclination angle θ of the nozzle rows 28 is the same between the nozzle rows 28, but the inclination direction is positive. It alternates between minus. According to this method as well, the six nozzle rows 28 can be formed into a continuous long nozzle row having a nozzle pitch corresponding to the element pitch on the substrate 12 side.

【0123】なお、本実施形態に関しても、図1に示し
たようにノズル列28が固定される構造にすることもで
きるし、あるいは、図3に示したようにノズル列28の
傾斜角度θ及びノズル列間距離が調節可能な構造にする
こともできる。
In this embodiment, the nozzle row 28 may be fixed as shown in FIG. 1, or the inclination angle θ and the inclination angle of the nozzle row 28 may be changed as shown in FIG. It is also possible to adopt a structure in which the distance between nozzle rows can be adjusted.

【0124】(第4実施形態)図12は、本発明で用い
るヘッド部20の改変例を示している。ここに示すヘッ
ド部20が図11に示したヘッド部20と異なる点は、
ノズル列28を主走査方向Xに沿って2列設けたことで
ある。これにより、同じ主走査ラインに載った2つのノ
ズル27によって1つのフィルタエレメント形成領域7
にフィルタエレメント材料を供給することができる。
(Fourth Embodiment) FIG. 12 shows a modification of the head section 20 used in the present invention. The difference between the head unit 20 shown here and the head unit 20 shown in FIG.
That is, two nozzle rows 28 are provided along the main scanning direction X. Thereby, one filter element forming region 7 is formed by two nozzles 27 mounted on the same main scanning line.
Can be supplied with a filter element material.

【0125】なお、本実施形態においてインクジェット
ヘッド22の中心軸線K0は副走査方向Yに対して面内
傾斜角度θで傾斜しているので、2段のノズル列28内
のノズル27はキャリッジ25の中心軸線K0に直角の
方向に並ぶのではなく、主走査方向Xに載るようにキャ
リッジ25から見れば互いにずれて配列されることが望
ましい。
In this embodiment, since the center axis K0 of the ink jet head 22 is inclined at an in-plane inclination angle θ with respect to the sub-scanning direction Y, the nozzles 27 in the two-stage nozzle row 28 When viewed from the carriage 25, it is desirable that they are arranged so as not to be arranged in a direction perpendicular to the central axis K0 but to be placed in the main scanning direction X when viewed from the carriage 25.

【0126】(第5実施形態)図16は、本発明で用い
るヘッド部20のさらに他の改変例を示している。この
ヘッド部20が図11に示すヘッド部20と異なる点
は、R色インクを吐出するノズル列28Rと、G色イン
クを吐出するノズル列28Gと、B色インクを吐出する
ノズル列28Bといった3種類のノズル列を1個のヘッ
ド部20に形成し、それら3種類のそれぞれに図13
(a)及び図13(b)に示したインク吐出系を設け、
R色ノズル列28Rに対応するインク吐出系にはRイン
ク供給装置37Rを接続し、G色ノズル列28Gに対応
するインク吐出系にはGインク供給装置37Gを接続
し、そしてB色ノズル列28Bに対応するインク吐出系
にはBインク供給装置37Bを接続したことである。
(Fifth Embodiment) FIG. 16 shows still another modification of the head section 20 used in the present invention. This head unit 20 is different from the head unit 20 shown in FIG. 11 in that a nozzle row 28R for discharging R-color ink, a nozzle row 28G for discharging G-color ink, and a nozzle row 28B for discharging B-color ink. FIG. 13 shows three types of nozzle rows formed on one head unit 20.
(A) and the ink ejection system shown in FIG.
An R ink supply device 37R is connected to the ink ejection system corresponding to the R nozzle row 28R, a G ink supply device 37G is connected to the ink ejection system corresponding to the G nozzle row 28G, and the B nozzle row 28B Is connected to a B ink supply device 37B.

【0127】本実施形態によって実施される概略の工程
は図7に示した工程と同じであり、インク吐着のために
用いるインクジェット装置も基本的には図9に示した装
置と同じである。
The outline steps performed by the present embodiment are the same as those shown in FIG. 7, and the ink jet apparatus used for ejecting ink is basically the same as the apparatus shown in FIG.

【0128】図11に示した実施形態では、ヘッド部2
0に1種類のノズル列28が設けられるだけであったの
で、R,G,B3色によってカラーフィルタを形成する
際には図2等に示したインクジェットヘッド22がR,
G,Bの3色それぞれについて準備されていなければな
らなかった。これに対し、図16に示す構造のヘッド部
20を使用する場合には、複数個のヘッド部20を備え
たインクジェットヘッド22のX方向への1回の主走査
によってR,G,Bの3色を同時にマザー基板12へ付
着させることができるので、インクジェットヘッド22
は1つだけ準備しておけば足りる。
In the embodiment shown in FIG.
Since only one type of nozzle row 28 is provided for each color, the inkjet head 22 shown in FIG.
It had to be prepared for each of the three colors G and B. On the other hand, when the head unit 20 having the structure shown in FIG. 16 is used, the R, G, and B of the ink jet head 22 having the plurality of head units 20 are subjected to one main scan in the X direction. Since the color can be attached to the mother substrate 12 at the same time, the ink jet head 22
It is enough to prepare only one.

【0129】(第6実施形態)図17は、本発明に係る
液晶装置の製造装置を用いた製造方法の一実施形態を示
している。また、図18はその製造方法によって製造さ
れる液晶装置の一実施形態を示している。また、図19
は図18におけるX−X線に従った液晶装置の断面構造
を示している。液晶装置の製造方法及び製造装置の説明
に先立って、まず、その製造方法によって製造される液
晶装置をその一例を挙げて説明する。なお、本実施形態
の液晶装置は、単純マトリクス方式でフルカラー表示を
行う半透過反射方式の液晶装置である。
(Sixth Embodiment) FIG. 17 shows an embodiment of a manufacturing method using the apparatus for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention. FIG. 18 shows an embodiment of a liquid crystal device manufactured by the manufacturing method. FIG.
Shows a cross-sectional structure of the liquid crystal device taken along line XX in FIG. Prior to description of a method and an apparatus for manufacturing a liquid crystal device, first, a liquid crystal device manufactured by the manufacturing method will be described with reference to an example. The liquid crystal device of the present embodiment is a transflective liquid crystal device that performs full-color display by a simple matrix method.

【0130】図18において、液晶装置101は、液晶
パネル102に半導体チップとしての液晶駆動用IC1
03a及び103bを実装し、配線接続要素としてのF
PC(Flexible Printed Circuit)104を液晶パネル
102に接続し、さらに液晶パネル102の裏面側に照
明装置106をバックライトとして設けることによって
形成される。
In FIG. 18, a liquid crystal device 101 includes a liquid crystal driving IC 1 as a semiconductor chip on a liquid crystal panel 102.
03a and 103b are mounted, and F
It is formed by connecting a PC (Flexible Printed Circuit) 104 to the liquid crystal panel 102 and providing an illumination device 106 as a backlight on the back side of the liquid crystal panel 102.

【0131】液晶パネル102は、第1基板107aと
第2基板107bとをシール材108によって貼り合わ
せることによって形成される。シール材108は、例え
ば、スクリーン印刷等によってエポキシ系樹脂を第1基
板107a又は第2基板107bの内側表面に環状に付
着させることによって形成される。また、シール材10
8の内部には図19に示すように、導電性材料によって
球状又は円筒状に形成された導通材109が分散状態で
含まれる。
The liquid crystal panel 102 is formed by bonding a first substrate 107a and a second substrate 107b with a sealing material. The sealing material 108 is formed by, for example, attaching an epoxy resin in an annular shape to the inner surface of the first substrate 107a or the second substrate 107b by screen printing or the like. In addition, the sealing material 10
As shown in FIG. 19, a conductive material 109 formed in a spherical or cylindrical shape by a conductive material is included in the inside of the conductor 8 in a dispersed state.

【0132】図19において、第1基板107aは透明
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材111aを有する。この基材111aの内側
表面(図19の上側表面)には反射膜112が形成さ
れ、その上に絶縁膜113が積層され、その上に第1電
極114aが矢印D方向から見てストライプ状(図18
参照)に形成され、さらにその上に配向膜116aが形
成される。また、基材111aの外側表面(図19の下
側表面)には偏光板117aが貼着等によって装着され
る。
In FIG. 19, the first substrate 107a has a plate-like base member 111a made of transparent glass, transparent plastic, or the like. A reflective film 112 is formed on the inner surface (upper surface in FIG. 19) of the base material 111a, an insulating film 113 is laminated thereon, and a first electrode 114a is formed on the reflective film 112 in a stripe shape (see FIG. 19). FIG.
), And an alignment film 116a is further formed thereon. Further, a polarizing plate 117a is attached to the outer surface (the lower surface in FIG. 19) of the base material 111a by sticking or the like.

【0133】図18では第1電極114aの配列を分か
り易く示すために、それらのストライプ間隔を実際より
も大幅に広く描いており、よって、第1電極114aの
本数が少なく描かれているが、実際には、第1電極11
4aはより多数本が基材111a上に形成される。
In FIG. 18, in order to clearly show the arrangement of the first electrodes 114a, the spacing between the stripes of the first electrodes 114a is drawn much wider than the actual one. Therefore, the number of the first electrodes 114a is reduced. In practice, the first electrode 11
As for 4a, a larger number are formed on the base material 111a.

【0134】図19において、第2基板107bは透明
なガラスや、透明なプラスチック等によって形成された
板状の基材111bを有する。この基材111bの内側
表面(図19の下側表面)にはカラーフィルタ118が
形成され、その上に第2電極114bが上記第1電極1
14aと直交する方向へ矢印D方向から見てストライプ
状(図18参照)に形成され、さらにその上に配向膜1
16bが形成される。また、基材111bの外側表面
(図19の上側表面)には偏光板117bが貼着等によ
って装着される。
In FIG. 19, the second substrate 107b has a plate-like substrate 111b made of transparent glass, transparent plastic, or the like. A color filter 118 is formed on the inner surface (the lower surface in FIG. 19) of the base material 111b, and the second electrode 114b is provided thereon with the first electrode 1b.
14a, is formed in a stripe shape (see FIG. 18) in the direction perpendicular to the direction of arrow D when viewed from the direction of arrow D, and furthermore the alignment film 1
16b are formed. Further, a polarizing plate 117b is attached to the outer surface (upper surface in FIG. 19) of the base material 111b by bonding or the like.

【0135】図18では、第2電極114bの配列を分
かりやすく示すために、第1電極114aの場合と同様
に、それらのストライプ間隔を実際よりも大幅に広く描
いており、よって、第2電極114bの本数が少なく描
かれているが、実際には、第2電極114bはより多数
本が基材111b上に形成される。
In FIG. 18, in order to clearly show the arrangement of the second electrodes 114b, as in the case of the first electrodes 114a, the spacing between the stripes is drawn much wider than the actual one. Although the number of the second electrodes 114b is small, in practice, a larger number of the second electrodes 114b are formed on the base material 111b.

【0136】図19において、第1基板107a、第2
基板107b及びシール材108によって囲まれる間
隙、いわゆるセルギャップ内には液晶、例えばSTN
(SuperTwisted Nematic)液晶Lが封入されている。第
1基板107a又は第2基板107bの内側表面には微
小で球形のスペーサ119が多数分散され、これらのス
ペーサ119がセルギャップ内に存在することによりそ
のセルギャップの厚さが均一に維持される。
In FIG. 19, the first substrate 107a and the second
In a gap surrounded by the substrate 107b and the sealing material 108, a so-called cell gap, a liquid crystal such as STN
(SuperTwisted Nematic) Liquid crystal L is sealed. A large number of minute and spherical spacers 119 are dispersed on the inner surface of the first substrate 107a or the second substrate 107b, and the thickness of the cell gap is kept uniform by the presence of these spacers 119 in the cell gap. .

【0137】第1電極114aと第2電極114bは互
いに直交関係に配置され、それらの交差点は図19の矢
印D方向から見てドット・マトリクス状に配列する。そ
して、そのドット・マトリクス状の各交差点が1つの絵
素ピクセルを構成する。カラーフィルタ118は、R
(赤)、G(緑)、B(青)の各色要素を矢印D方向か
ら見て所定のパターン、例えば、ストライプ配列、デル
タ配列、モザイク配列等のパターンで配列させることに
よって形成されている。上記の1つの絵素ピクセルはそ
れらR,G,Bの各1つずつに対応しており、そして
R,G,Bの3色絵素ピクセルが1つのユニットになっ
て1画素が構成される。
The first electrode 114a and the second electrode 114b are arranged orthogonally to each other, and their intersections are arranged in a dot matrix when viewed from the direction of arrow D in FIG. Then, each intersection in the dot matrix forms one picture element pixel. The color filter 118
It is formed by arranging each color element of (red), G (green), and B (blue) in a predetermined pattern as viewed in the direction of arrow D, for example, a pattern such as a stripe arrangement, a delta arrangement, and a mosaic arrangement. The one picture element pixel corresponds to each of R, G, and B, and the three-color picture element pixels of R, G, and B form one unit to constitute one pixel.

【0138】ドット・マトリクス状に配列される複数の
絵素ピクセル、従って画素、を選択的に発光させること
により、液晶パネル102の第2基板107bの外側に
文字、数字等といった像が表示される。このようにして
像が表示される領域が有効画素領域であり、図18及び
図19において矢印Vによって示される平面的な矩形領
域が有効表示領域となっている。
By selectively emitting light from a plurality of picture element pixels arranged in a dot matrix, that is, pixels, images such as characters and numerals are displayed on the outside of the second substrate 107b of the liquid crystal panel 102. . The area in which an image is displayed in this way is an effective pixel area, and the planar rectangular area indicated by an arrow V in FIGS. 18 and 19 is an effective display area.

【0139】図19において、反射膜112はAPC合
金、Al(アルミニウム)等といった光反射性材料によ
って形成され、第1電極114aと第2電極114bと
の交差点である各絵素ピクセルに対応する位置に開口1
21が形成されている。結果的に、開口121は図19
の矢印D方向から見て、絵素ピクセルと同じドット・マ
トリクス状に配列されている。
In FIG. 19, a reflection film 112 is formed of a light-reflective material such as an APC alloy or Al (aluminum), and corresponds to each pixel corresponding to an intersection between the first electrode 114a and the second electrode 114b. Opening 1
21 are formed. As a result, the opening 121 is
, Are arranged in the same dot matrix as the picture element pixels.

【0140】第1電極114a及び第2電極114b
は、例えば、透明導電材であるITOによって形成され
る。また、配向膜116a及び116bは、ポリイミド
系樹脂を一様な厚さの膜状に付着させることによって形
成される。これらの配向膜116a及び116bがラビ
ング処理を受けることにより、第1基板107a及び第
2基板107bの表面上における液晶分子の初期配向が
決定される。
First electrode 114a and second electrode 114b
Is formed of, for example, ITO which is a transparent conductive material. The alignment films 116a and 116b are formed by attaching a polyimide resin to a film having a uniform thickness. By subjecting these alignment films 116a and 116b to the rubbing treatment, the initial alignment of the liquid crystal molecules on the surfaces of the first substrate 107a and the second substrate 107b is determined.

【0141】図18において、第1基板107aは第2
基板107bよりも広い面積に形成されており、これら
の基板をシール材108によって貼り合わせたとき、第
1基板107aは第2基板107bの外側へ張り出す基
板張出し部107cを有する。そして、この基板張出し
部107cには、第1電極114aから延び出る引出し
配線114c、シール材108の内部に存在する導通材
109(図19参照)を介して第2基板107b上の第
2電極114bと導通する引出し配線114d、液晶駆
動用IC103aの入力用バンプ、すなわち入力用端子
に接続される金属配線114e、そして液晶駆動用IC
103bの入力用バンプに接続される金属配線114f
等といった各種の配線が適切なパターンで形成される。
In FIG. 18, the first substrate 107a is
The first substrate 107a has a larger area than the substrate 107b, and the first substrate 107a has a substrate overhang portion 107c that extends outside the second substrate 107b when these substrates are bonded to each other with the sealant 108. The substrate extension 107c is connected to the second electrode 114b on the second substrate 107b via a lead wire 114c extending from the first electrode 114a and a conductive material 109 (see FIG. 19) existing inside the seal member. A wiring 114d that is electrically connected to the IC, a bump for input of the liquid crystal driving IC 103a, that is, a metal wiring 114e connected to an input terminal, and a liquid crystal driving IC.
Metal wiring 114f connected to input bump 103b
And the like are formed in an appropriate pattern.

【0142】本実施形態では、第1電極114aから延
びる引出し配線114c及び第2電極114bに導通す
る引出し配線114dはそれらの電極と同じ材料である
ITO、すなわち導電性酸化物によって形成される。ま
た、液晶駆動用IC103a及び103bの入力側の配
線である金属配線114e及び114fは電気抵抗値の
低い金属材料、例えばAPC合金によって形成される。
APC合金は、主としてAgを含み、付随してPd及び
Cuを含む合金、例えば、Ag98%、Pd1%、Cu
1%から成る合金である。
In this embodiment, the lead wiring 114c extending from the first electrode 114a and the lead wiring 114d conducting to the second electrode 114b are formed of ITO, that is, a conductive oxide, which is the same material as those electrodes. The metal wires 114e and 114f, which are wires on the input side of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b, are formed of a metal material having a low electric resistance value, for example, an APC alloy.
APC alloys are alloys that mainly contain Ag and concomitantly contain Pd and Cu, for example, 98% Ag, 1% Pd, Cu
1% alloy.

【0143】液晶駆動用IC103a及び液晶駆動用I
C103bは、ACF(Anisotropic Conductive Fil
m:異方性導電膜)122によって基板張出し部107
cの表面に接着されて実装される。すなわち、本実施形
態では基板上に半導体チップが直接に実装される構造
の、いわゆるCOG(Chip On Glass)方式の液晶パネ
ルとして形成されている。このCOG方式の実装構造に
おいては、ACF122の内部に含まれる導電粒子によ
って、液晶駆動用IC103a及び103bの入力側バ
ンプと金属配線114e及び114fとが導電接続さ
れ、液晶駆動用IC103a及び103bの出力側バン
プと引出し配線114c及び114dとが導電接続され
る。
Liquid Crystal Driving IC 103a and Liquid Crystal Driving I
C103b is an ACF (Anisotropic Conductive Fil)
m: anisotropic conductive film) 122
It is mounted by being adhered to the surface of c. That is, in the present embodiment, a so-called COG (Chip On Glass) liquid crystal panel having a structure in which a semiconductor chip is directly mounted on a substrate is formed. In this COG type mounting structure, the input side bumps of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b and the metal wirings 114e and 114f are conductively connected by the conductive particles contained in the ACF 122, and the output side of the liquid crystal driving ICs 103a and 103b. The bumps and the lead wirings 114c and 114d are conductively connected.

【0144】図18において、FPC104は、可撓性
の樹脂フィルム123と、チップ部品124を含んで構
成された回路126と、金属配線端子127とを有す
る。回路126は樹脂フィルム123の表面に半田付け
その他の導電接続手法によって直接に搭載される。ま
た、金属配線端子127はAPC合金、Cr、Cuその
他の導電材料によって形成される。FPC104のうち
金属配線端子127が形成された部分は、第1基板10
7aのうち金属配線114e及び金属配線114fが形
成された部分にACF122によって接続される。そし
て、ACF122の内部に含まれる導電粒子の働きによ
り、基板側の金属配線114e及び114fとFPC側
の金属配線端子127とが導通する。
In FIG. 18, the FPC 104 has a flexible resin film 123, a circuit 126 including a chip component 124, and a metal wiring terminal 127. The circuit 126 is directly mounted on the surface of the resin film 123 by soldering or another conductive connection method. The metal wiring terminals 127 are formed of an APC alloy, Cr, Cu, or another conductive material. The portion of the FPC 104 where the metal wiring terminals 127 are formed is the first substrate 10
The ACF 122 is connected to a portion of the wiring 7a where the metal wiring 114e and the metal wiring 114f are formed. Then, due to the function of the conductive particles contained in the ACF 122, the metal wirings 114e and 114f on the substrate side and the metal wiring terminal 127 on the FPC side are conducted.

【0145】FPC104の反対側の辺端部には外部接
続端子131が形成され、この外部接続端子131が図
示しない外部回路に接続される。そして、この外部回路
から伝送される信号に基づいて液晶駆動用IC103a
及び103bが駆動され、第1電極114a及び第2電
極114bの一方に走査信号が供給され、他方にデータ
信号が供給される。これにより、有効表示領域V内に配
列されたドット・マトリクス状の絵素ピクセルが個々の
ピクセルごとに電圧制御され、その結果、液晶Lの配向
が個々の絵素ピクセルごとに制御される。
An external connection terminal 131 is formed at the opposite end of the FPC 104, and the external connection terminal 131 is connected to an external circuit (not shown). Then, based on the signal transmitted from the external circuit, the liquid crystal driving IC 103a
And 103b are driven, and a scanning signal is supplied to one of the first electrode 114a and the second electrode 114b, and a data signal is supplied to the other. Thereby, the voltage of the pixel elements in the dot matrix arranged in the effective display area V is controlled for each pixel, and as a result, the orientation of the liquid crystal L is controlled for each pixel element.

【0146】図18において、いわゆるバックライトと
して機能する照明装置106は、図19に示すように、
アクリル樹脂等によって構成された導光体132と、そ
の導光体132の光出射面132bに設けられた拡散シ
ート133と、導光体132の光出射面132bの反対
面に設けられた反射シート134と、発光源としてのL
ED(Light Emitting Diode)136とを有する。
In FIG. 18, a lighting device 106 functioning as a so-called backlight is provided as shown in FIG.
A light guide 132 made of acrylic resin or the like, a diffusion sheet 133 provided on a light exit surface 132b of the light guide 132, and a reflection sheet provided on a surface opposite to the light exit surface 132b of the light guide 132 134 and L as a light source
ED (Light Emitting Diode) 136.

【0147】LED136はLED基板137に支持さ
れ、そのLED基板137は、例えば導光体132と一
体に形成された支持部(図示せず)に装着される。LE
D基板137が支持部の所定位置に装着されることによ
り、LED136が導光体132の側辺端面である光取
込み面132aに対向する位置に置かれる。なお、符号
138は液晶パネル102に加わる衝撃を緩衝するため
の緩衝材を示している。
The LED 136 is supported on an LED substrate 137, and the LED substrate 137 is mounted on a support (not shown) formed integrally with the light guide 132, for example. LE
When the D substrate 137 is mounted at a predetermined position on the support, the LED 136 is placed at a position facing the light intake surface 132 a, which is a side end surface of the light guide 132. Reference numeral 138 denotes a cushioning material for buffering an impact applied to the liquid crystal panel 102.

【0148】LED136が発光すると、その光は光取
込み面132aから取り込まれて導光体132の内部へ
導かれ、反射シート134や導光体132の壁面で反射
しながら伝播する間に光出射面132bから拡散シート
133を通して外部へ平面光として出射する。
When the LED 136 emits light, the light is taken in from the light taking-in surface 132a and guided to the inside of the light guide 132, and is propagated while being reflected by the reflection sheet 134 and the wall surface of the light guide 132 while being propagated. The light is emitted from the surface 132b through the diffusion sheet 133 to the outside as plane light.

【0149】本実施形態の液晶装置101は以上のよう
に構成されているので、太陽光、室内光等といった外部
光が十分に明るい場合には、図19において、第2基板
107b側から外部光が液晶パネル102の内部へ取り
込まれ、その光が液晶Lを通過した後に反射膜112で
反射して再び液晶Lへ供給される。液晶Lはこれを挟持
する電極114a及び114bによってR,G,Bの絵
素ピクセルごとに配向制御されており、よって、液晶L
へ供給された光は絵素ピクセルごとに変調され、その変
調によって偏光板117bを通過する光と、通過できな
い光とによって液晶パネル102の外部に文字、数字等
といった像が表示される。これにより、反射型の表示が
行われる。
Since the liquid crystal device 101 of this embodiment is configured as described above, if the external light such as sunlight or indoor light is sufficiently bright, the external light from the second substrate 107b in FIG. Is taken into the liquid crystal panel 102, the light passes through the liquid crystal L, is reflected by the reflection film 112, and is supplied to the liquid crystal L again. The orientation of the liquid crystal L is controlled for each of the R, G, and B picture elements by the electrodes 114a and 114b sandwiching the liquid crystal L.
The light supplied to the liquid crystal panel 102 is modulated for each pixel pixel, and an image such as a character or a number is displayed outside the liquid crystal panel 102 by the light that passes through the polarizing plate 117b and the light that cannot pass through the modulation. Thus, a reflective display is performed.

【0150】他方、外部光の光量が十分に得られない場
合には、LED136が発光して導光体132の光出射
面132bから平面光が出射され、その光が反射膜11
2に形成された開口121を通して液晶Lへ供給され
る。このとき、反射型の表示と同様にして、供給された
光が配向制御される液晶Lによって絵素ピクセルごとに
変調され、これにより、外部へ像が表示される。これに
より、透過型の表示が行われる。
On the other hand, when the amount of external light is not sufficient, the LED 136 emits light to emit planar light from the light emitting surface 132b of the light guide 132, and the light is
The liquid crystal L is supplied to the liquid crystal L through an opening 121 formed in the liquid crystal L. At this time, similarly to the reflection type display, the supplied light is modulated for each pixel by the liquid crystal L whose orientation is controlled, whereby an image is displayed outside. As a result, a transmissive display is performed.

【0151】上記構成の液晶装置101は、例えば、図
17に示す製造方法によって製造される。この製造方法
において、工程P1〜工程P6の一連の工程が第1基板
107aを形成する工程であり、工程P11〜工程P1
4の一連の工程が第2基板107bを形成する工程であ
る。第1基板形成工程と第2基板形成工程は、通常、そ
れぞれが独自に行われる。
The liquid crystal device 101 having the above configuration is manufactured by, for example, a manufacturing method shown in FIG. In this manufacturing method, a series of steps P1 to P6 is a step of forming the first substrate 107a, and steps P11 to P1 are performed.
A series of steps 4 is a step of forming the second substrate 107b. Usually, each of the first substrate forming step and the second substrate forming step is independently performed.

【0152】まず、第1基板形成工程について説明すれ
ば、透光性ガラス、透光性プラスチック等によって形成
された大面積のマザー原料基材の表面に液晶パネル10
2の複数個分の反射膜112をフォトリソグラフィー法
等を用いて形成し、さらにその上に絶縁膜113を周知
の成膜法を用いて形成し(工程P1)、次に、フォトリ
ソグラフィー法等を用いて第1電極114a及び配線1
14c,114d,114e,114fを形成する(工
程P2)。
First, the first substrate forming step will be described. The liquid crystal panel 10 is formed on the surface of a large-area mother raw material base made of a light-transmitting glass, a light-transmitting plastic or the like.
A plurality of reflective films 112 are formed by photolithography or the like, and an insulating film 113 is further formed thereon by a known film forming method (step P1). Using the first electrode 114a and the wiring 1
14c, 114d, 114e and 114f are formed (Step P2).

【0153】次に、第1電極114aの上に塗布、印刷
等によって配向膜116aを形成し(工程P3)、さら
にその配向膜116aに対してラビング処理を施すこと
により液晶の初期配向を決定する(工程P4)。次に、
例えばスクリーン印刷等によってシール材108を環状
に形成し(工程P5)、さらにその上に球状のスペーサ
119を分散する(工程P6)。以上により、液晶パネ
ル102の第1基板107a上のパネルパターンを複数
個分有する大面積のマザー第1基板が形成される。
Next, an alignment film 116a is formed on the first electrode 114a by coating, printing, or the like (step P3), and rubbing is performed on the alignment film 116a to determine the initial alignment of the liquid crystal. (Step P4). next,
For example, the sealing material 108 is formed in a ring shape by screen printing or the like (Step P5), and the spherical spacers 119 are dispersed thereon (Step P6). As described above, a large-area mother first substrate having a plurality of panel patterns on the first substrate 107a of the liquid crystal panel 102 is formed.

【0154】以上の第1基板形成工程とは別に、第2基
板形成工程(図17の工程P11〜工程P14)を実施
する。まず、透光性ガラス、透光性プラスチック等によ
って形成された大面積のマザー原料基材を用意し、その
表面に液晶パネル102の複数個分のカラーフィルタ1
18を形成する(工程P11)。このカラーフィルタの
形成工程は図7に示した製造方法を用いて行われ、その
製造方法中のR,G,Bの各色フィルタエレメントの形
成は図9のインクジェット装置16を用いて図1、図
2、図3、図4、図5等に示したインクジェットヘッド
の制御方法に従って実行される。これらカラーフィルタ
の製造方法及びインクジェットヘッドの制御方法は既に
説明した内容と同じであるので、それらの説明は省略す
る。
A second substrate forming step (steps P11 to P14 in FIG. 17) is performed separately from the above-described first substrate forming step. First, a large-area mother raw material base formed of a light-transmitting glass, a light-transmitting plastic, or the like is prepared, and a plurality of color filters 1 of the liquid crystal panel 102 are provided on the surface thereof.
18 are formed (Step P11). The formation process of this color filter is performed by using the manufacturing method shown in FIG. 7, and the formation of each of the R, G, and B color filter elements in the manufacturing method is performed by using the ink jet device 16 of FIG. It is executed according to the control method of the ink jet head shown in FIG. 2, FIG. 3, FIG. 4, FIG. The method of manufacturing these color filters and the method of controlling the ink jet head are the same as those already described, and thus description thereof will be omitted.

【0155】図7(d)に示すようにマザー基板12す
なわちマザー原料基材の上にカラーフィルタ1すなわち
カラーフィルタ118が形成されると、次に、フォトリ
ソグラフィー法によって第2電極114bが形成され
(工程P12)、さらに塗布、印刷等によって配向膜1
16bが形成され(工程P13)、さらにその配向膜1
16bに対してラビング処理が施されて液晶の初期配向
が決められる(工程P14)。以上により、液晶パネル
102の第2基板107b上のパネルパターンを複数個
分有する大面積のマザー第2基板が形成される。
As shown in FIG. 7D, when the color filter 1, ie, the color filter 118, is formed on the mother substrate 12, ie, the mother raw material base, the second electrode 114b is then formed by photolithography. (Step P12) Further, the alignment film 1 is formed by coating, printing, or the like.
16b is formed (step P13), and the alignment film 1
Rubbing treatment is performed on 16b to determine the initial alignment of the liquid crystal (step P14). Thus, a large-area mother second substrate having a plurality of panel patterns on the second substrate 107b of the liquid crystal panel 102 is formed.

【0156】以上により大面積のマザー第1基板及びマ
ザー第2基板が形成された後、それらのマザー基板をシ
ール材108を間に挟んでアライメント、すなわち位置
合わせした上で互いに貼り合わせる(工程P21)。こ
れにより、液晶パネル複数個分のパネル部分を含んでい
て未だ液晶が封入されていない状態の空のパネル構造体
が形成される。
After the mother first substrate and the mother second substrate having a large area are formed as described above, the mother substrates are aligned with each other with the sealing member 108 interposed therebetween, that is, are aligned and bonded to each other (step P21). ). As a result, an empty panel structure including the panel portions for a plurality of liquid crystal panels and in which the liquid crystal is not yet sealed is formed.

【0157】次に、完成した空のパネル構造体の所定位
置にスクライブ溝、すなわち切断用溝を形成し、さらに
そのスクライブ溝を基準にしてパネル構造体をブレイ
ク、すなわち切断する(工程P22)。これにより、各
液晶パネル部分のシール材108の液晶注入用開口11
0(図18参照)が外部へ露出する状態の、いわゆる短
冊状の空のパネル構造体が形成される。
Next, a scribe groove, that is, a cutting groove is formed at a predetermined position of the completed empty panel structure, and the panel structure is broken, that is, cut based on the scribe groove (step P22). As a result, the liquid crystal injection opening 11 of the sealing material 108 of each liquid crystal panel portion is formed.
A so-called strip-shaped empty panel structure in which 0 (see FIG. 18) is exposed to the outside is formed.

【0158】その後、露出した液晶注入用開口110を
通して各液晶パネル部分の内部に液晶Lを注入し、さら
に各液晶注入口110を樹脂等によって封止する(工程
P23)。通常の液晶注入処理は、例えば、貯留容器の
中に液晶を貯留し、その液晶が貯留された貯留容器と短
冊状の空パネルをチャンバー等に入れ、そのチャンバー
等を真空状態にしてからそのチャンバーの内部において
液晶の中に短冊状の空パネルを浸漬し、その後、チャン
バーを大気圧に開放することによって行われる。このと
き、空パネルの内部は真空状態なので、大気圧によって
加圧される液晶が液晶注入用開口を通してパネルの内部
へ導入される。液晶注入後の液晶パネル構造体のまわり
には液晶が付着するので、液晶注入処理後の短冊状パネ
ルは工程24において洗浄処理を受ける。
Thereafter, the liquid crystal L is injected into each liquid crystal panel through the exposed liquid crystal injection opening 110, and each liquid crystal injection port 110 is sealed with a resin or the like (step P23). In a normal liquid crystal injection process, for example, a liquid crystal is stored in a storage container, and the storage container storing the liquid crystal and a strip-shaped empty panel are placed in a chamber or the like, and the chamber or the like is evacuated, and then the chamber is evacuated. This is performed by immersing a strip-shaped empty panel in the liquid crystal inside the device, and then opening the chamber to atmospheric pressure. At this time, since the inside of the empty panel is in a vacuum state, the liquid crystal pressurized by the atmospheric pressure is introduced into the inside of the panel through the liquid crystal injection opening. Since the liquid crystal adheres around the liquid crystal panel structure after the liquid crystal injection, the strip-shaped panel after the liquid crystal injection processing is subjected to a cleaning process in step 24.

【0159】その後、液晶注入及び洗浄が終わった後の
短冊状のマザーパネルに対して再び所定位置にスクライ
ブ溝を形成し、さらにそのスクライブ溝を基準にして短
冊状パネルを切断することにより、複数個の液晶パネル
が個々に切り出される(工程P25)。こうして作製さ
れた個々の液晶パネル102に対して図18に示すよう
に、液晶駆動用IC103a,103bを実装し、照明
装置106をバックライトとして装着し、さらにFPC
104を接続することにより、目標とする液晶装置10
1が完成する(工程P26)。
After that, a scribe groove is formed again at a predetermined position on the strip-shaped mother panel after the liquid crystal injection and the cleaning are completed, and the strip-shaped panel is cut with reference to the scribe groove to obtain a plurality of pieces. The individual liquid crystal panels are cut out individually (step P25). As shown in FIG. 18, liquid crystal driving ICs 103a and 103b are mounted on each of the liquid crystal panels 102 thus manufactured, and a lighting device 106 is mounted as a backlight.
By connecting the liquid crystal device 104 to the target liquid crystal device 10
1 is completed (Step P26).

【0160】以上に説明した液晶装置の製造方法及び製
造装置は、特にカラーフィルタを製造する段階において
次のような特徴を有する。すなわち、インクジェットヘ
ッドとして図1、図2、図3、図4又は図5等に示した
構造を採用して、複数のヘッド部20を支持した支持手
段としてのキャリッジ25によって基板12を主走査す
る間にそれら複数のヘッド部20のノズル列28からイ
ンクを吐出するので、1個のヘッド部だけを用いて基板
12の表面を走査する場合に比べて走査時間を短縮で
き、従って、カラーフィルタの製造時間を短縮できる。
The above-described method and apparatus for manufacturing a liquid crystal device have the following features, particularly at the stage of manufacturing a color filter. That is, the structure shown in FIG. 1, FIG. 2, FIG. 3, FIG. 4, or FIG. 5 is adopted as the ink jet head, and the substrate 12 is main-scanned by the carriage 25 supporting the plurality of head units 20. During this time, ink is ejected from the nozzle rows 28 of the plurality of head units 20, so that the scanning time can be reduced as compared with the case where the surface of the substrate 12 is scanned using only one head unit. Manufacturing time can be reduced.

【0161】また、各ヘッド部20は副走査方向Yに対
して角度θの傾斜状態で主走査を行うので、各ヘッド部
20に属する複数のノズル27のノズル間ピッチを基板
12上のフィルタエレメント形成領域7の間の間隔、す
なわちエレメント間ピッチに一致させることができる。
このようにノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾
何学的に一致させれば、ノズル列28を副走査方向Yに
関して位置制御する必要がなくなるので好都合である。
Since each head unit 20 performs main scanning in an inclined state at an angle θ with respect to the sub-scanning direction Y, the inter-nozzle pitch of the plurality of nozzles 27 belonging to each head unit 20 is set to The distance between the formation regions 7, that is, the pitch between the elements can be matched.
If the pitch between the nozzles and the pitch between the elements are geometrically matched in this manner, the position of the nozzle row 28 need not be controlled in the sub-scanning direction Y, which is advantageous.

【0162】また、キャリッジ25の全体を傾斜させる
のではなくて個々のヘッド部20を傾斜させるので、基
板12に近い側のノズル27と基板12から遠い側のノ
ズル27までの距離Tはキャリッジ25の全体を傾斜さ
せる場合に比べて著しく小さくなり、それ故、インクジ
ェットヘッド22によって基板12を走査する時間を著
しく短縮できる。これにより、カラーフィルタの製造時
間を短縮できる。
Further, since the individual head portions 20 are inclined instead of the entire carriage 25, the distance T between the nozzle 27 closer to the substrate 12 and the nozzle 27 farther from the substrate 12 is smaller than the carriage 25. Is significantly reduced as compared with the case where the whole is tilted, so that the time for scanning the substrate 12 by the inkjet head 22 can be significantly reduced. Thereby, the manufacturing time of the color filter can be reduced.

【0163】なお、本実施形態の製造装置及び製造方法
では、インクジェットヘッド22を用いたインク吐出に
よってフィルタエレメント3を形成するので、フォトリ
ソグラフィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る
必要も無く、また、材料を浪費することも無い。
In the manufacturing apparatus and the manufacturing method of the present embodiment, since the filter element 3 is formed by ink discharge using the ink jet head 22, there is no need to go through a complicated process such as a method using a photolithography method. Also, no material is wasted.

【0164】(第8実施形態)図20は、本発明に係る
EL装置の製造装置を用いて行われる製造方法の一実施
形態を示している。また、図21はその製造方法の主要
工程及び最終的に得られるEL装置の主要断面構造を示
している。図21(d)に示すように、EL装置201
は、透明基板204上に画素電極202を形成し、各画
素電極202間にバンク205を矢印G方向から見て格
子状に形成し、それらの格子状凹部の中に正孔注入層2
20を形成し、矢印G方向から見てストライプ配列等と
いった所定配列となるようにR色発光層203R、G色
発光層203G及びB色発光層203Bを各格子状凹部
の中に形成し、さらにそれらの上に対向電極213を形
成することによって形成される。
(Eighth Embodiment) FIG. 20 shows an embodiment of a manufacturing method performed by using an EL device manufacturing apparatus according to the present invention. FIG. 21 shows the main steps of the manufacturing method and the main cross-sectional structure of the finally obtained EL device. As shown in FIG. 21D, the EL device 201
Is a method of forming pixel electrodes 202 on a transparent substrate 204, forming banks 205 between the pixel electrodes 202 in a lattice shape as viewed from the direction of arrow G, and forming a hole injection layer 2 in the lattice-shaped concave portions.
20 are formed, and the R-color light-emitting layer 203R, the G-color light-emitting layer 203G, and the B-color light-emitting layer 203B are formed in each lattice-shaped recess so as to have a predetermined arrangement such as a stripe arrangement when viewed from the direction of arrow G. It is formed by forming the counter electrode 213 on them.

【0165】上記画素電極202をTFD(Thin Film
Diode:薄膜ダイオード)素子等といった2端子型のア
クティブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極
213は矢印G方向から見てストライプ状に形成され
る。また、画素電極202をTFT(Thin Film Transi
stor:薄膜トランジスタ)等といった3端子型のアクテ
ィブ素子によって駆動する場合には、上記対向電極21
3は単一な面電極として形成される。
The pixel electrode 202 is connected to a TFD (Thin Film).
When driven by a two-terminal type active element such as a diode (thin film diode) element, the counter electrode 213 is formed in a stripe shape when viewed from the direction of arrow G. In addition, the pixel electrode 202 is connected to a TFT (Thin Film Transi
In the case of driving by a three-terminal type active element such as a stor (thin film transistor), the above-described counter electrode 21 is used.
3 is formed as a single plane electrode.

【0166】各画素電極202と各対向電極213とに
よって挟まれる領域が1つの絵素ピクセルとなり、R,
G,B3色の絵素ピクセルが1つのユニットとなって1
つの画素を形成する。各絵素ピクセルを流れる電流を制
御することにより、複数の絵素ピクセルのうちの希望す
るものを選択的に発光させ、これにより、矢印H方向に
希望するフルカラー像を表示することができる。
The area sandwiched between each pixel electrode 202 and each counter electrode 213 is one picture element pixel.
G, B three color picture element pixels become one unit and 1
To form one pixel. By controlling the current flowing through each picture element pixel, a desired one of the plurality of picture element pixels is selectively caused to emit light, whereby a desired full-color image can be displayed in the direction of arrow H.

【0167】上記EL装置201は、例えば、図20に
示す製造方法によって製造される。すなわち、工程P5
1及び図21(a)のように、透明基板204の表面に
TFD素子やTFT素子等といった能動素子を形成し、
さらに画素電極202を形成する。形成方法としては、
例えば、フォトリソグラフィー法、真空状着法、スパッ
タリング法、パイロゾル法等を用いることができる。画
素電極の材料としてはITO(Indium Tin Oxide)、酸
化スズ、酸化インジウムと酸化亜鉛との複合酸化物等を
用いることができる。
The EL device 201 is manufactured by, for example, a manufacturing method shown in FIG. That is, the process P5
1 and an active element such as a TFD element or a TFT element is formed on the surface of the transparent substrate 204 as shown in FIG.
Further, a pixel electrode 202 is formed. As a formation method,
For example, a photolithography method, a vacuum deposition method, a sputtering method, a pyrosol method, or the like can be used. As a material for the pixel electrode, ITO (Indium Tin Oxide), tin oxide, a composite oxide of indium oxide and zinc oxide, or the like can be used.

【0168】次に、工程P52及び図20(a)に示す
ように、隔壁すなわちバンク205を周知のパターニン
グ手法、例えばフォトリソグラフィー法を用いて形成
し、このバンク205によって各透明電極202の間を
埋めた。これにより、コントラストの向上、発光材料の
混色の防止、画素と画素との間からの光漏れ等を防止す
ることができる。バンク205の材料としては、EL材
料の溶媒に対して耐久性を有するものであれば特に限定
されないが、フロロカーボンガスプラズマ処理によりフ
ッ素樹脂化できること、例えば、アクリル樹脂、エポキ
シ樹脂、感光性ポリイミド等といった有機材料が好まし
い。
Next, as shown in step P52 and FIG. 20A, a partition wall, that is, a bank 205 is formed by using a well-known patterning method, for example, a photolithography method, and the bank 205 separates between the transparent electrodes 202. buried. Thus, it is possible to improve contrast, prevent color mixing of light emitting materials, and prevent light leakage between pixels. The material of the bank 205 is not particularly limited as long as it has durability with respect to the solvent of the EL material, and can be made into a fluororesin by a fluorocarbon gas plasma treatment, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, a photosensitive polyimide, or the like. Organic materials are preferred.

【0169】次に、正孔注入層用インクを塗布する直前
に、基板204に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズ
マの連続プラズマ処理を行った(工程P53)。これに
より、ポリイミド表面は撥水化され、ITO表面は親水
化され、インクジェット液滴を微細にパターニングする
ための基板側の濡れ性の制御ができる。プラズマを発生
する装置としては、真空中でプラズマを発生する装置で
も、大気中でプラズマを発生する装置でも同様に用いる
ことができる。
Next, immediately before the ink for the hole injection layer was applied, the substrate 204 was subjected to continuous plasma processing of oxygen gas and fluorocarbon gas plasma (step P53). Thereby, the polyimide surface is made water-repellent, the ITO surface is made hydrophilic, and the wettability on the substrate side for finely patterning the inkjet droplets can be controlled. As a device for generating plasma, a device for generating plasma in a vacuum or a device for generating plasma in the atmosphere can be used in the same manner.

【0170】次に、工程P54及び図21(a)に示す
ように、正孔注入層用インクを図9のインクジェット装
置16のインクジェットヘッド22から吐出し、各画素
電極202の上にパターニング塗布を行った。具体的な
インクジェットヘッドの制御方法は図1、図2、図3、
図4又は図5に示した方法を用いた。その塗布後、真空
(1torr)中、室温、20分という条件で溶媒を除
去し(工程P55)、その後、大気中、20℃(ホット
プレート上)、10分の熱処理により、発光層用インク
と相溶しない正孔注入層220を形成した(工程P5
6)。膜厚は40nmであった。
Next, as shown in step P54 and FIG. 21A, the hole injection layer ink is discharged from the ink jet head 22 of the ink jet apparatus 16 in FIG. went. Specific control methods of the ink jet head are shown in FIGS.
The method shown in FIG. 4 or 5 was used. After the application, the solvent was removed under vacuum (1 torr) at room temperature for 20 minutes (step P55), and thereafter, the ink for the light emitting layer was heated at 20 ° C. (on a hot plate) for 10 minutes in air. The incompatible hole injection layer 220 was formed (Step P5).
6). The film thickness was 40 nm.

【0171】次に、工程P57及び図21(b)に示す
ように、各フィルタエレメント領域内の正孔注入層22
0の上にインクジェット手法を用いてR発光層用インク
及びG発光層用インクを塗布した。ここでも、各発光層
用インクは、図9のインクジェット装置16のインクジ
ェットヘッド22から吐出し、さらにインクジェットヘ
ッドの制御方法は図1、図2、図3、図4又は図5に示
した方法に従った。インクジェット方式によれば、微細
なパターニングを簡便に且つ短時間に行うことができ
る。また、インク組成物の固形分濃度及び吐出量を変え
ることにより膜厚を変えることが可能である。
Next, as shown in Step P57 and FIG. 21B, the hole injection layer 22 in each filter element region is formed.
The ink for the R light emitting layer and the ink for the G light emitting layer were applied on 0 using an ink jet method. Again, each light emitting layer ink is ejected from the ink jet head 22 of the ink jet device 16 of FIG. 9, and the control method of the ink jet head is the method shown in FIG. 1, FIG. 2, FIG. 3, FIG. 4 or FIG. Followed. According to the inkjet method, fine patterning can be performed easily and in a short time. Further, the film thickness can be changed by changing the solid content concentration and the ejection amount of the ink composition.

【0172】発光層用インクの塗布後、真空(1tor
r)中、室温、20分等という条件で溶媒を除去し(工
程P58)、続けて窒素雰囲気中、150℃、4時間の
熱処理により共役化させてR色発光層203R及びG色
発光層203Gを形成した(工程P59)。膜厚は50
nmであった。熱処理により共役化した発光層は溶媒に
不溶である。
After applying the light emitting layer ink, vacuum (1 torr)
r), the solvent is removed under the conditions of room temperature, 20 minutes, etc. (step P58), and then conjugated by heat treatment at 150 ° C. for 4 hours in a nitrogen atmosphere to form the R color light emitting layer 203R and the G color light emitting layer 203G. Was formed (Step P59). The film thickness is 50
nm. The light emitting layer conjugated by the heat treatment is insoluble in the solvent.

【0173】なお、発光層を形成する前に正孔注入層2
20に酸素ガスとフロロカーボンガスプラズマの連続プ
ラズマ処理を行っても良い。これにより、正孔注入層2
20上にフッ素化物層が形成され、イオン化ポテンシャ
ルが高くなることにより正孔注入効率が増し、発光効率
の高い有機EL装置を提供できる。
Before forming the light emitting layer, the hole injection layer 2
20 may be subjected to continuous plasma processing of oxygen gas and fluorocarbon gas plasma. Thereby, the hole injection layer 2
By forming a fluorinated layer on the substrate 20 and increasing the ionization potential, the hole injection efficiency is increased and an organic EL device with high luminous efficiency can be provided.

【0174】次に、工程P60及び図21(c)に示す
ように、B色発光層203Bを各絵素ピクセル内のR色
発光層203R、G色発光層203G及び正孔注入層2
20の上に重ねて形成した。これにより、R,G,Bの
3原色を形成するのみならず、R色発光層203R及び
G色発光層203Gとバンク205との段差を埋めて平
坦化することができる。これにより、上下電極間のショ
ートを確実に防ぐことができる。B色発光層203Bの
膜厚を調整することで、B色発光層203BはR色発光
層203R及びG色発光層203Gとの積層構造におい
て、電子注入輸送層として作用してB色には発光しな
い。
Next, as shown in step P60 and FIG. 21C, the B-color light-emitting layer 203B is replaced with the R-color light-emitting layer 203R, the G-color light-emitting layer 203G, and the hole injection layer 2 in each pixel.
20 and formed on top of each other. Accordingly, not only the three primary colors of R, G, and B can be formed, but also the level difference between the banks 205 and the R light emitting layers 203R and 203G and the bank 205 can be flattened. As a result, a short circuit between the upper and lower electrodes can be reliably prevented. By adjusting the thickness of the B-color light-emitting layer 203B, the B-color light-emitting layer 203B acts as an electron injection / transport layer in the laminated structure of the R-color light-emitting layer 203R and the G-color light-emitting layer 203G, and emits light of the B color. do not do.

【0175】以上のようなB色発光層203Bの形成方
法としては、例えば湿式法として一般的なスピンコート
法を採用することもできるし、あるいは、R色発光層2
03R及びG色発光層203Gの形成法と同様のインク
ジェット法を採用することもできる。
As a method for forming the B-color light-emitting layer 203B, for example, a general spin coating method as a wet method can be adopted, or the R-color light-emitting layer 2B can be used.
An inkjet method similar to the method of forming the 03R and G color light emitting layers 203G can be employed.

【0176】その後、工程P61及び図21(d)に示
すように、対向電極213を形成することにより、目標
とするEL装置201を製造した。対向電極213はそ
れが面電極である場合には、例えば、Mg,Ag,A
l,Li等を材料として、蒸着法、スパッタ法等といっ
た成膜法を用いて形成できる。また、対向電極213が
ストライプ状電極である場合には、成膜された電極層を
フォトリソグラフィー法等といったパターニング手法を
用いて形成できる。
Thereafter, as shown in step P61 and FIG. 21D, a target EL device 201 was manufactured by forming a counter electrode 213. When the counter electrode 213 is a plane electrode, for example, Mg, Ag, A
It can be formed using a film forming method such as a vapor deposition method or a sputtering method using l, Li or the like as a material. When the counter electrode 213 is a stripe-shaped electrode, the formed electrode layer can be formed by using a patterning method such as a photolithography method.

【0177】以上に説明したEL装置の製造方法及び製
造装置によれば、インクジェットヘッドとして図1、図
2、図3、図4又は図5等に示した構造を採用して、複
数のヘッド部20を支持した支持手段としてのキャリッ
ジ25によって基板12を主走査する間にそれら複数の
ヘッド部20のノズル列28からインクを吐出するの
で、1個のヘッド部だけを用いて基板12の表面を走査
する場合に比べて走査時間を短縮でき、従って、EL装
置の製造時間を短縮できる。
According to the manufacturing method and the manufacturing apparatus of the EL device described above, a plurality of head units are employed by adopting the structure shown in FIG. 1, FIG. 2, FIG. 3, FIG. While the main scanning of the substrate 12 is performed by the carriage 25 as a supporting means supporting the substrate 20, the ink is ejected from the nozzle rows 28 of the plurality of head units 20, so that the surface of the substrate 12 is formed using only one head unit. The scanning time can be reduced as compared with the case of scanning, and therefore, the manufacturing time of the EL device can be reduced.

【0178】また、各ヘッド部20は副走査方向Yに対
して角度θの傾斜状態で主走査を行うので、各ヘッド部
20に属する複数のノズル27のノズル間ピッチを基板
12上のEL絵素ピクセル形成領域7の間の間隔、すな
わちエレメント間ピッチに一致させることができる。こ
のようにノズル間ピッチとエレメント間ピッチとを幾何
学的に一致させれば、ノズル列28を副走査方向Yに関
して位置制御する必要がなくなるので好都合である。
Since each head unit 20 performs main scanning in an inclined state at an angle θ with respect to the sub-scanning direction Y, the pitch between the nozzles of the plurality of nozzles 27 belonging to each head unit 20 is set to the EL picture on the substrate 12. The distance between the element pixel forming regions 7, that is, the pitch between the elements can be matched. If the pitch between the nozzles and the pitch between the elements are geometrically matched in this manner, the position of the nozzle row 28 need not be controlled in the sub-scanning direction Y, which is advantageous.

【0179】また、キャリッジ25の全体を傾斜させる
のではなくて個々のヘッド部20を傾斜させるので、基
板12に近い側のノズル27と基板12から遠い側のノ
ズル27までの距離Tはキャリッジ25の全体を傾斜さ
せる場合に比べて著しく小さくなり、それ故、インクジ
ェットヘッド22によって基板12を走査する時間を著
しく短縮できる。これにより、EL装置の製造時間を短
縮できる。 なお、本実施形態の製造装置及び製造方法
では、インクジェットヘッド22を用いたインク吐出に
よって絵素ピクセル3を形成するので、フォトリソグラ
フィー法を用いる方法のような複雑な工程を経る必要も
無く、また、材料を浪費することも無い。
Further, since the individual head portions 20 are inclined instead of the entire carriage 25, the distance T between the nozzle 27 closer to the substrate 12 and the nozzle 27 farther from the substrate 12 is smaller than the carriage 25. Is significantly reduced as compared with the case where the whole is tilted, so that the time for scanning the substrate 12 by the inkjet head 22 can be significantly reduced. Thereby, the manufacturing time of the EL device can be reduced. In the manufacturing apparatus and the manufacturing method according to the present embodiment, the pixel pixels 3 are formed by ink discharge using the inkjet head 22, so that it is not necessary to go through a complicated process such as a method using a photolithography method. No waste of material.

【0180】(その他の実施形態)以上、好ましい実施
形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形
態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明
の範囲内で種々に改変できる。
(Other Embodiments) The present invention has been described with reference to the preferred embodiments. However, the present invention is not limited to the embodiments, and various modifications may be made within the scope of the invention described in the claims. Can be modified to

【0181】例えば、以上に説明した実施形態では、図
1に示すようにインクジェットヘッド22の中に6個の
ヘッド部20を設けたが、ヘッド部20の数はより少な
く又はより多くすることができる。
For example, in the embodiment described above, six head units 20 are provided in the ink jet head 22 as shown in FIG. 1, but the number of head units 20 may be reduced or increased. it can.

【0182】また、図1等に示した実施形態では、マザ
ー基板12の中に複数列のカラーフィルタ形成領域11
が設定される場合を例示したが、マザー基板12の中に
1列のカラーフィルタ形成領域11が設定される場合に
も本発明を適用できる。また、マザー基板12とほぼ同
じ大きさの又はそれよりもかなり小さい1個のカラーフ
ィルタ形成領域11だけがそのマザー基板12の中に設
定される場合にも本発明を適用できる。
In the embodiment shown in FIG. 1 and the like, a plurality of rows of the color filter forming regions 11 are formed in the mother substrate 12.
Is set, but the present invention can be applied to a case where one line of the color filter forming region 11 is set in the mother substrate 12. In addition, the present invention can be applied to a case where only one color filter forming region 11 having substantially the same size as or substantially smaller than the mother substrate 12 is set in the mother substrate 12.

【0183】また、図9及び図10に示したカラーフィ
ルタの製造装置では、インクジェットヘッド22をX方
向へ移動させて基板12を主走査し、基板12を副走査
駆動装置21によってY方向へ移動させることによりイ
ンクジェットヘッド22によって基板12を副走査する
ことにしたが、これとは逆に、基板12のY方向への移
動によって主走査を実行し、インクジェットヘッド22
のX方向への移動によって副走査を実行することもでき
る。
In the color filter manufacturing apparatus shown in FIGS. 9 and 10, the inkjet head 22 is moved in the X direction to scan the substrate 12 in the main direction, and the substrate 12 is moved in the Y direction by the sub-scanning driving device 21. The main scanning is performed by moving the substrate 12 in the Y direction.
The sub-scanning can also be performed by moving in the X direction.

【0184】また、上記実施形態では、圧電素子の撓み
変形を利用してインクを吐出する構造のインクジェット
ヘッドを用いたが、他の任意の構造のインクジェットヘ
ッドを用いることもできる。
Further, in the above-described embodiment, the ink jet head having a structure in which the ink is ejected by using the bending deformation of the piezoelectric element is used, but an ink jet head having any other structure may be used.

【0185】また、上記実施形態では、主走査方向と副
走査方向とが直交する最も一般的な構成についてのみ例
示したが、主走査方向と副走査方向との関係は直交関係
には限られず、任意の角度で交差していればよい。
Further, in the above embodiment, only the most general configuration in which the main scanning direction and the sub-scanning direction are orthogonal to each other is illustrated, but the relationship between the main scanning direction and the sub-scanning direction is not limited to the orthogonal relationship. It is only necessary that they intersect at any angle.

【0186】吐出させる材料としては、基板等の対象物
上に形成する要素に応じて種々選択可能であり、例えば
上述してきたインク、EL発光材料の他にも、シリカガ
ラス前駆体、金属化合物等の導電材料、誘電体材料、又
は半導体材料がその一例として挙げられる。
The material to be ejected can be variously selected according to the elements to be formed on the object such as the substrate. For example, in addition to the above-mentioned inks and EL luminescent materials, silica glass precursors, metal compounds, etc. The conductive material, the dielectric material, or the semiconductor material is mentioned as an example.

【0187】また、上記実施形態では、カラーフィルタ
の製造方法及び製造装置、液晶装置の製造方法及び製造
装置、EL装置の製造方法及び製造装置、を例として説
明してきたが、本発明はこれらに限定されることなく、
対象物上に微細パターニングを施す工業技術全般に用い
ることが可能である。
In the above embodiments, the method and apparatus for manufacturing a color filter, the method and apparatus for manufacturing a liquid crystal device, and the method and apparatus for manufacturing an EL device have been described by way of example. Without being limited,
The present invention can be used in general industrial techniques for performing fine patterning on an object.

【0188】例えば、各種半導体素子(薄膜トランジス
タ、薄膜ダイオード等)、各種配線パターン、及び絶縁
膜の形成等がその利用範囲の一例として挙げられる。
For example, various semiconductor elements (thin film transistors, thin film diodes, etc.), various wiring patterns, formation of insulating films, and the like are given as examples of the application range.

【0189】ヘッドから吐出させる材料としては、基板
等の対象物上に形成する要素に応じて種々選択可能であ
り、例えば上述してきたインク、EL発光材料の他に
も、シリカガラス前駆体、金属化合物等の導電材料、誘
電体材料、又は半導体材料がその一例として挙げられ
る。
The material to be ejected from the head can be variously selected according to the elements to be formed on the target such as the substrate. For example, in addition to the above-described ink and EL luminescent material, a silica glass precursor, metal A conductive material such as a compound, a dielectric material, or a semiconductor material is given as an example.

【0190】また、上記実施形態では、簡便のため「イ
ンクジェットヘッド」と呼称してきたが、このインクジ
ェットヘッドから吐出される吐出物はインクには限定さ
れず、例えば、前述のEL発光材料、シリカガラス前駆
体、金属化合物等の導電性材料、誘電体材料、又は半導
体材料等様々であることはいうまでもない。上記実施形
態の製造方法により製造された液晶装置、EL装置は、
例えば携帯電話機、携帯型コンピュータ等といった電子
機器の表示部に搭載することができる。
In the above-described embodiment, the ink jet head is referred to as an “ink-jet head” for simplicity. However, the ejected matter ejected from this ink-jet head is not limited to ink. It goes without saying that there are various kinds of conductive materials such as precursors and metal compounds, dielectric materials, and semiconductor materials. The liquid crystal device and the EL device manufactured by the manufacturing method of the above embodiment are
For example, it can be mounted on a display unit of an electronic device such as a mobile phone or a portable computer.

【0191】[0191]

【発明の効果】本発明に係るカラーフィルタ、液晶装置
及びEL装置のそれぞれの製造装置並びにそれらの製造
方法によれば、複数のヘッド部によって基板を主走査す
る間にそれら複数のヘッド部からインクを吐出すること
ができ、それ故、1個のヘッド部を用いて基板表面を走
査する場合に比べて、走査時間を短縮できる。
According to the respective color filter, liquid crystal device, and EL device manufacturing apparatus and the manufacturing method thereof according to the present invention, ink is supplied from a plurality of head units during main scanning of the substrate by the plurality of head units. Can be ejected, so that the scanning time can be reduced as compared with the case where the substrate surface is scanned using one head unit.

【0192】また、各ヘッド部は傾斜状態で主走査を行
うので、各ヘッド部に属する複数のノズルのノズル間ピ
ッチを基板上に形成するフィルタエレメントや絵素ピク
セルのエレメント間ピッチに一致させることができる。
Also, since each head performs main scanning in an inclined state, the pitch between nozzles of a plurality of nozzles belonging to each head must be matched with the pitch between elements of filter elements and picture elements formed on the substrate. Can be.

【0193】さらに、複数のヘッド部を支持する支持機
構の全体を傾斜させるのではなくて個々のヘッド部を傾
斜させるので、基板に近い側のノズルと基板から遠い側
のノズルまでの距離は支持手段の全体を傾斜させる場合
に比べて小さくなり、それ故、支持機構によって基板を
走査する時間を短縮できる。これにより、カラーフィル
タや液晶装置やEL装置等の製造時間を短縮できる。
Further, since the individual heads are inclined rather than the entire support mechanism for supporting a plurality of heads, the distance between the nozzle closer to the substrate and the nozzle farther from the substrate is not supported. As compared with the case where the entire means is inclined, the time required for scanning the substrate by the support mechanism can be reduced. Thereby, the manufacturing time of a color filter, a liquid crystal device, an EL device, and the like can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係るカラーフィルタの製造装置の一実
施形態を用いて行われる製造方法の主要工程を模式的に
示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view schematically showing main steps of a manufacturing method performed using an embodiment of a color filter manufacturing apparatus according to the present invention.

【図2】図1のインクジェットヘッドの斜視図である。FIG. 2 is a perspective view of the inkjet head of FIG.

【図3】本発明に係るカラーフィルタの製造装置の他の
実施形態を用いて行われる製造方法の主要工程を模式的
に示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view schematically showing main steps of a manufacturing method performed by using another embodiment of the color filter manufacturing apparatus according to the present invention.

【図4】図3のインクジェットヘッドの斜視図である。FIG. 4 is a perspective view of the inkjet head of FIG. 3;

【図5】本発明に係るカラーフィルタの製造装置のさら
に他の実施形態を用いて行われる製造方法の主要工程を
模式的に示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view schematically showing main steps of a manufacturing method performed using still another embodiment of the color filter manufacturing apparatus according to the present invention.

【図6】(a)は本発明に係るカラーフィルタの一実施
形態を示す平面図であり、(b)はその基礎となるマザ
ー基板の一実施形態を示す平面図である。
FIG. 6A is a plan view illustrating an embodiment of a color filter according to the present invention, and FIG. 6B is a plan view illustrating an embodiment of a mother substrate on which the color filter is based.

【図7】図6(a)のVII−VII線に従った断面部
分を用いてカラーフィルタの製造工程を模式的に示す図
である。
FIG. 7 is a diagram schematically illustrating a color filter manufacturing process using a cross-sectional portion along the line VII-VII in FIG.

【図8】カラーフィルタにおけるR,G,B3色の絵素
ピクセルの配列例を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing an example of the arrangement of picture element pixels of R, G, and B colors in a color filter.

【図9】本発明に係るカラーフィルタの製造装置、本発
明に係る液晶装置の製造装置及び本発明に係るEL装置
の製造装置といった各製造装置の主要部分であるインク
ジェット装置の一実施形態を示す斜視図である。
FIG. 9 shows an embodiment of an ink jet apparatus which is a main part of each manufacturing apparatus such as a color filter manufacturing apparatus according to the present invention, a liquid crystal device manufacturing apparatus according to the present invention, and an EL device manufacturing apparatus according to the present invention. It is a perspective view.

【図10】図9の装置の主要部を拡大して示す斜視図で
ある。
10 is an enlarged perspective view showing a main part of the device of FIG. 9;

【図11】図1のインクジェットヘッドに設けられるヘ
ッド部の1つを示す斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view showing one of the head units provided in the inkjet head of FIG. 1;

【図12】ヘッド部の改変例を示す斜視図である。FIG. 12 is a perspective view showing a modified example of a head unit.

【図13】ヘッド部の内部構造を示す図であって、
(a)は一部破断斜視図を示し、(b)は(a)のJ−
J線に従った断面構造を示す。
FIG. 13 is a diagram showing an internal structure of a head unit,
(A) shows a partially cutaway perspective view, (b) shows J- of (a).
3 shows a cross-sectional structure along the line J.

【図14】図9のインクジェット装置に用いられる電気
制御系を示すブロック図である。
FIG. 14 is a block diagram showing an electric control system used in the ink jet apparatus of FIG.

【図15】図14の制御系によって実行される制御の流
れを示すフローチャートである。
FIG. 15 is a flowchart showing a flow of control executed by the control system of FIG. 14;

【図16】ヘッド部のさらに他の改変例を示す斜視面図
である。
FIG. 16 is a perspective view showing still another modification of the head unit.

【図17】本発明に係る液晶装置の製造方法の一実施形
態を示す工程図である。
FIG. 17 is a process chart showing one embodiment of a method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.

【図18】本発明に係る液晶装置の製造方法によって製
造される液晶装置の一例を分解状態で示す斜視図であ
る。
FIG. 18 is an exploded perspective view showing an example of a liquid crystal device manufactured by the method for manufacturing a liquid crystal device according to the present invention.

【図19】図18におけるX−X線に従って液晶装置の
断面構造を示す断面図である。
19 is a cross-sectional view showing a cross-sectional structure of the liquid crystal device according to line XX in FIG.

【図20】本発明に係るEL装置の製造方法の一実施形
態を示す工程図である。
FIG. 20 is a process chart showing one embodiment of a method for manufacturing an EL device according to the present invention.

【図21】図20に示す工程図に対応するEL装置の断
面図である。
21 is a cross-sectional view of the EL device corresponding to the process diagram shown in FIG.

【図22】従来のカラーフィルタの製造方法の一例を示
す図である。
FIG. 22 is a diagram illustrating an example of a conventional color filter manufacturing method.

【図23】従来のカラーフィルタの製造方法の他の例を
示す図である。
FIG. 23 is a diagram illustrating another example of a conventional method for manufacturing a color filter.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 カラーフィルタ 2 基板 3 フィルタエレメント 4 保護膜 6 隔壁 7 フィルタエレメント形成領域 11 カラーフィルタ形成領域 12 マザー基板 13 フィルタエレメント材料 16 インクジェット装置 17 ヘッド位置制御装置 18 基板位置制御装置 19 主走査駆動装置(主走査駆動手段) 20 ヘッド部 21 副走査駆動装置(副走査駆動手段) 22 インクジェットヘッド 25 キャリッジ(支持手段) 26 ヘッドユニット 27 ノズル 28 ノズル列 37 インク供給装置(インク供給手段) 39 インク加圧体 41 圧電素子 49 テーブル 76 キャッピング装置 77 クリーニング装置 78 電子天秤 81 ヘッド用カメラ 82 基板用カメラ 83 ノズル列角度制御装置(ノズル列角度
制御手段) 84 ノズル列間隔制御装置(ノズル列間隔
制御手段) 101 液晶装置 102 液晶パネル 107a,107b 基板 111a,111b 基材 114a,114b 電極 118 カラーフィルタ 201 EL装置 202 画素電極 203R,203G,203B 発光層 204 基板 205 バンク 213 対向電極 220 正孔注入層 L 液晶 M フィルタエレメント材料 X 主走査方向 Y 副走査方向
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Color filter 2 Substrate 3 Filter element 4 Protective film 6 Partition wall 7 Filter element formation area 11 Color filter formation area 12 Mother substrate 13 Filter element material 16 Inkjet device 17 Head position control device 18 Substrate position control device 19 Main scanning drive device (main) (Scanning driving unit) 20 head unit 21 sub-scanning driving unit (sub-scanning driving unit) 22 inkjet head 25 carriage (supporting unit) 26 head unit 27 nozzle 28 nozzle array 37 ink supply unit (ink supply unit) 39 ink pressurizing member 41 Piezoelectric element 49 Table 76 Capping device 77 Cleaning device 78 Electronic balance 81 Head camera 82 Substrate camera 83 Nozzle array angle control device (nozzle array angle control means) 84 Nozzle array interval control device Liquid crystal panel 102 liquid crystal panel 107a, 107b substrate 111a, 111b base material 114a, 114b electrode 118 color filter 201 EL device 202 pixel electrode 203R, 203G, 203B light emitting layer 204 substrate 205 bank 213 counter electrode 220 positive Hole injection layer L Liquid crystal M Filter element material X Main scanning direction Y Sub scanning direction

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 木口 浩史 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 伊藤 達也 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 川瀬 智己 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 (72)発明者 清水 政春 長野県諏訪市大和3丁目3番5号 セイコ ーエプソン株式会社内 Fターム(参考) 2C056 EC08 EC35 EC78 FA10 FB01 HA10 HA22 2H091 FA02Y FC29 LA12  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hiroshi Kiguchi 3-5-5 Yamato, Suwa-shi, Nagano Seiko Epson Corporation (72) Inventor Tatsuya Ito 3-5-3 Yamato, Suwa-shi, Nagano Seiko-Epson Inside (72) Inventor Tomoki Kawase 3-3-5 Yamato, Suwa-shi, Nagano Seiko Epson Corporation (72) Inventor Masaharu Shimizu 3-5-5, Yamato, Suwa-shi, Nagano Seiko Epson Corporation F Terms (reference) 2C056 EC08 EC35 EC78 FA10 FB01 HA10 HA22 2H091 FA02Y FC29 LA12

Claims (26)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 対象物上に材料を吐出する材料の吐出装
置において、 複数のノズルを配列したノズル列を有する複数のヘッド
と、 前記複数のヘッドを支持する支持機構と、 前記対象物及び前記支持機構のうちいずれか一方を他方
に対して走査する機構と、 を有し、 前記走査の方向に対して前記ノズル列が傾斜しているこ
とを特徴とする材料の吐出装置。
An apparatus for ejecting a material onto an object, comprising: a plurality of heads having a nozzle array in which a plurality of nozzles are arranged; a support mechanism for supporting the plurality of heads; And a mechanism for scanning one of the support mechanisms with respect to the other, wherein the nozzle row is inclined with respect to the scanning direction.
【請求項2】 請求項1に記載の材料の吐出装置におい
て、 前記複数のヘッドは、前記支持機構の長手方向に対して
傾斜して支持されてなることを特徴とする材料の吐出装
置。
2. The material discharging apparatus according to claim 1, wherein the plurality of heads are supported to be inclined with respect to a longitudinal direction of the support mechanism.
【請求項3】請求項1又は請求項2に記載の材料の吐出
装置において、 前記対象物及び前記支持機構のうちいずれか一方は、他
方に対して主走査方向、又は主走査方向と交差する副走
査方向に走査されることを特徴とする材料の吐出装置。
3. The material discharging apparatus according to claim 1, wherein one of the object and the support mechanism intersects the other in the main scanning direction or the main scanning direction. An apparatus for discharging a material, which is scanned in a sub-scanning direction.
【請求項4】 請求項1乃至請求項3のいずれかに記載
の材料の吐出装置において、 前記ノズル列のノズル間ピッチは、前記複数のヘッドに
おいて実質的に等しく、 前記ノズル列の傾斜角度の大きさは、前記複数のヘッド
において実質的に等しいことを特徴とする材料の吐出装
置。
4. The material discharging apparatus according to claim 1, wherein a pitch between nozzles of the nozzle row is substantially equal in the plurality of heads, and a tilt angle of the nozzle row is An apparatus for discharging a material, wherein sizes of the plurality of heads are substantially equal.
【請求項5】対象物上に材料を吐出する材料の吐出装置
において、 複数のノズルを配列したノズル列を有する複数のヘッド
と、 前記複数のヘッドを支持する支持機構と、 前記対象物及び前記支持機構のうちいずれか一方を他方
に対して走査する機構と、 少なくとも1つの前記ノズル列と前記走査の方向とのな
す角度を制御する機構と、を具備することを特徴とする
材料の吐出装置。
5. A material discharging apparatus for discharging a material onto an object, comprising: a plurality of heads having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; a support mechanism for supporting the plurality of heads; A device for scanning any one of the support mechanisms with respect to the other; and a mechanism for controlling an angle between at least one of the nozzle rows and the direction of the scanning. .
【請求項6】 請求項5に記載の材料の吐出装置におい
て、 前記複数のノズル列間の間隔を制御する機構を更に備え
たことを特徴とする材料の吐出装置。
6. The material discharging apparatus according to claim 5, further comprising a mechanism for controlling an interval between the plurality of nozzle rows.
【請求項7】 請求項5又は請求項6のいずれかに記載
の材料の吐出装置において、 前記ノズル列と前記走査の方向とのなす角度を制御する
機構は、 前記ノズル列のノズル間ピッチ、及び前記ノズル列の傾
斜角度の大きさが、前記複数のヘッドにおいて実質的に
等しくなるように制御することを特徴とする材料の吐出
装置。
7. The material discharging apparatus according to claim 5, wherein a mechanism for controlling an angle between the nozzle row and the scanning direction includes: a pitch between nozzles of the nozzle row; And a control device for controlling the magnitude of the inclination angle of the nozzle row to be substantially equal in the plurality of heads.
【請求項8】 対象物上に材料を吐出する材料の吐出方
法において、 複数のノズルを配列したノズル列を有する複数のヘッ
ド、及び前記複数のヘッドを支持する支持機構の一方を
他方に対して走査する工程、及び前記対象物に前記材料
を吐出する工程を有してなり、 少なくとも1つの前記ノズル列が、前記走査の方向に対
して傾斜していることを特徴とする材料の吐出方法。
8. A material discharging method for discharging a material onto an object, comprising: a plurality of heads each having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; and a support mechanism that supports the plurality of heads, with respect to one another. A method for discharging a material, comprising: a step of scanning; and a step of discharging the material to the object, wherein at least one nozzle row is inclined with respect to the scanning direction.
【請求項9】 請求項8に記載の材料の吐出方法におい
て、 前記対象物及び前記支持部材のうちいずれか一方は、他
方に対して主走査方向、又は主走査方向と交差する副走
査方向に走査されることを特徴とする材料の吐出方法。
9. The material discharging method according to claim 8, wherein one of the object and the support member is in a main scanning direction with respect to the other or in a sub-scanning direction intersecting the main scanning direction. A method for discharging a material, wherein the material is scanned.
【請求項10】 請求項8乃至請求項10のいずれかに
記載の材料の吐出方法において、 前記ノズル列のノズル間ピッチ、及び前記ノズル列の傾
斜角度の大きさが、前記複数のヘッドにおいて実質的に
等しいことを特徴とする材料の吐出方法。
10. The material discharging method according to claim 8, wherein a pitch between nozzles of the nozzle row and a magnitude of an inclination angle of the nozzle row are substantially equal in the plurality of heads. A material discharging method characterized by being substantially equal.
【請求項11】 請求項8乃至請求項10のいずれかに
記載の材料の吐出方法において、 少なくとも1つの前記ノズル列と前記走査の方向とのな
す角度を制御する工程を更に具備することを特徴とする
材料の吐出方法。
11. The method according to claim 8, further comprising a step of controlling an angle between at least one of the nozzle rows and the scanning direction. Of the material to be discharged.
【請求項12】 請求項8乃至請求項11のいずれかに
記載の材料の吐出方法において、 前記複数のノズル列間の間隔を制御する工程を更に具備
することを特徴とする材料の吐出方法。
12. The material discharging method according to claim 8, further comprising a step of controlling an interval between the plurality of nozzle rows.
【請求項13】 請求項1乃至請求項7のうちいずれか
に記載の吐出装置を備え、 前記対象物としての基板に前記材料としてのカラーフィ
ルタ材料を吐出することを特徴とするカラーフィルタの
製造装置。
13. A color filter, comprising: the discharge device according to claim 1; and discharging the color filter material as the material onto the substrate as the object. apparatus.
【請求項14】 請求項1乃至請求項7のうちいずれか
に記載の吐出装置を備え、 前記対象物としての基板に前記材料としてのEL発光材
料を吐出することを特徴とするEL装置の製造装置。
14. A manufacturing method of an EL device, comprising: the discharging device according to claim 1; and discharging an EL light-emitting material as the material onto the substrate as the object. apparatus.
【請求項15】 請求項10乃至請求項12のうちいず
れかに記載の材料の吐出方法を含む製造方法を用いて製
造された部品を搭載した電子機器。
15. An electronic device mounted with a component manufactured by using the manufacturing method including the material discharging method according to claim 10.
【請求項16】 カラーフィルタの製造装置において、 複数のノズルが配列されたノズル列を有する複数のヘッ
ドと、 前記ヘッドにフィルタ材料を供給する機構と、 前記複数のヘッド部を支持する支持機構とを有し、 前記支持機構は前記複数のヘッド部を傾斜状態で支持し
てなることを特徴とするカラーフィルタの製造装置。
16. A color filter manufacturing apparatus, comprising: a plurality of heads having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; a mechanism for supplying a filter material to the head; and a support mechanism for supporting the plurality of head units. The color filter manufacturing apparatus, wherein the support mechanism supports the plurality of head portions in an inclined state.
【請求項17】 請求項16において、前記支持機構は
前記ヘッドを固定状態で支持することを特徴とするカラ
ーフィルタの製造装置。
17. The color filter manufacturing apparatus according to claim 16, wherein the support mechanism supports the head in a fixed state.
【請求項18】 請求項16又は請求項17に記載のカ
ラーフィルタの製造装置において、 前記複数のヘッドに属するノズル列のノズル間ピッチは
実質的に等しく、さらに、前記ノズル列の傾斜角度の大
きさも実質的に等しいことを特徴とするカラーフィルタ
の製造装置。
18. The apparatus for manufacturing a color filter according to claim 16, wherein a pitch between nozzles of the nozzle rows belonging to the plurality of heads is substantially equal, and further, the inclination angle of the nozzle rows is large. An apparatus for manufacturing a color filter, which is also substantially equal.
【請求項19】 カラーフィルタの製造装置において、 複数のノズルが配列するノズル列を有する複数のヘッド
と、 前記ヘッドにフィルタ材料を供給する機構と、 前記複数のヘッドを支持する支持機構と、 該支持機構を主走査移動させる主走査機構と、 前記支持手段を副走査移動させる副走査機構と、 前記複数のノズル列の傾斜角度を制御するノズル列角度
制御機構と、 前記複数のノズル列間の間隔を制御するノズル列間隔制
御機構とを有することを特徴とするカラーフィルタの製
造装置。
19. A color filter manufacturing apparatus, comprising: a plurality of heads having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; a mechanism for supplying a filter material to the head; a support mechanism for supporting the plurality of heads; A main scanning mechanism that moves the supporting mechanism in the main scanning direction; a sub-scanning mechanism that moves the supporting means in the sub-scanning direction; a nozzle row angle control mechanism that controls the inclination angles of the plurality of nozzle rows; An apparatus for manufacturing a color filter, comprising: a nozzle array interval control mechanism for controlling an interval.
【請求項20】 請求項19に記載のカラーフィルタの
製造装置において、 前記複数のヘッドに属するノズル列のノズル間ピッチ、
及びノズル列の傾斜角度の大きさは実質的に等しいこと
を特徴とするカラーフィルタの製造装置。
20. The apparatus for manufacturing a color filter according to claim 19, wherein a pitch between nozzles of a nozzle row belonging to the plurality of heads,
And an apparatus for manufacturing a color filter, wherein the inclination angles of the nozzle rows are substantially equal.
【請求項21】 カラーフィルタの製造方法において、 複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッドを主
走査方向へ移動させながら、前記複数のノズルからフィ
ルタ材料を吐出して前記基板に前記フィルタエレメント
を形成する工程を有し、 前記ヘッドは複数個並べて設けられており、且つ傾斜状
態で配置されてなることを特徴とするカラーフィルタの
製造方法。
21. A method of manufacturing a color filter, wherein a filter material is discharged from a plurality of nozzles while moving a head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged in a main scanning direction, and the filter element is formed on the substrate. Forming a color filter, wherein a plurality of the heads are provided side by side and arranged in an inclined state.
【請求項22】請求項21に記載のカラーフィルタの製
造方法において、 前記ノズル列のノズル間ピッチは実質的に等しく、且
つ,前記ノズル列の傾斜角度の大きさは実質的に等しい
ことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
22. The method for manufacturing a color filter according to claim 21, wherein a pitch between the nozzles of the nozzle row is substantially equal, and a magnitude of an inclination angle of the nozzle row is substantially equal. A method of manufacturing a color filter.
【請求項23】 液晶装置の製造装置において、 複数のノズルが配列したノズル列を有する複数のヘッド
と、 前記ヘッドにフィルタ材料を供給する機構と、 前記複数のヘッドを支持する支持機構と、 該支持機構を主走査移動させる主走査機構と、 前記支持機構を副走査移動させる副走査機構とを有し、 前記支持機構は前記複数のヘッド部を傾斜状態で支持し
てなることを特徴とする液晶装置の製造装置。
23. An apparatus for manufacturing a liquid crystal device, comprising: a plurality of heads having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; a mechanism for supplying a filter material to the head; a support mechanism for supporting the plurality of heads; A main scanning mechanism that moves the supporting mechanism in a main scanning direction; and a sub-scanning mechanism that moves the supporting mechanism in a sub-scanning direction. The supporting mechanism supports the plurality of heads in an inclined state. Manufacturing equipment for liquid crystal devices.
【請求項24】 液晶装置の製造方法において、 複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッドを主
走査方向へ移動させながら、前記複数のノズルからフィ
ルタ材料を吐出して前記基板に前記フィルタエレメント
を形成する工程を有し、 前記ヘッドは複数個並べて設けられており、且つ傾斜状
態で配置されてなることを特徴とする液晶装置の製造方
法。
24. A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising: ejecting a filter material from a plurality of nozzles while moving a head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged in a main scanning direction; A method of manufacturing a liquid crystal device, comprising: a plurality of heads arranged side by side and arranged in an inclined state.
【請求項25】 EL装置の製造装置において、複数の
ノズルが配列したノズル列を有する複数のヘッドと、前
記ヘッドにEL発光材料を供給する機構と、前記複数の
ヘッドを並べて支持する支持機構と、該支持機構を主走
査移動させる主走査機構と、前記支持手段を副走査移動
させる副走査機構と、前記複数のノズル列の傾斜角度を
制御するノズル列角度制御機構と、前記複数のノズル列
間の間隔を制御するノズル列間隔制御機構とを有するこ
とを特徴とするEL装置の製造装置。
25. An EL device manufacturing apparatus, comprising: a plurality of heads having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged; a mechanism for supplying an EL light emitting material to the head; and a support mechanism for arranging and supporting the plurality of heads. A main scanning mechanism for moving the support mechanism in a main scanning direction, a sub-scanning mechanism for moving the supporting means in a sub-scanning direction, a nozzle row angle control mechanism for controlling an inclination angle of the plurality of nozzle rows, and the plurality of nozzle rows. A manufacturing apparatus for an EL device, comprising: a nozzle row interval control mechanism for controlling an interval between nozzles.
【請求項26】EL装置の製造方法において、 複数のノズルが配列されたノズル列を有するヘッドを主
走査方向へ移動させながら、前記複数のノズルからEL
発光材料を吐出して前記基板に前記EL発光層を形成す
る工程を有し、 前記ヘッドは複数個並べて設けられており、且つ傾斜状
態で配置されてなることを特徴とするEL装置の製造方
26. A method of manufacturing an EL device, comprising: moving a head having a nozzle row in which a plurality of nozzles are arranged in the main scanning direction while moving a plurality of nozzles from the plurality of nozzles.
Forming an EL light emitting layer on the substrate by discharging a light emitting material, wherein a plurality of the heads are provided side by side and arranged in an inclined state.
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