JP2002268241A - 電子写真感光体並びにこれを使用した画像形成方法、画像形成装置およびプロセスカートリッジ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高解像度であり、かつ表面エネルギーも
低くその効果が長期にわたって持続されることで、優れ
た画質を長期にわたって維持し、繰り返し使用しても電
位変動のない、機械的かつ化学的耐久性を有する電子写
真感光体、 【解決手段】 導電性支持体１と感光層２からなる電子
写真感光体において、最表面から支持体側へ１±０．３
μｍ離れた位置における感光層の純水に対する接触角が
８５゜以上であり、かつ感光層の膜厚が４μｍ以上２４
μｍ以下であるような感光層を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真方式にお
いて使用される電子写真感光体並びにこれを使用した画
像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセス
カートリッジに関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、電子写真方式において使用される
電子写真感光体（以下、単に感光体と言うことがある）
の光導電体としては大きく分けて種々の無機及び有機光
導電体が知られている。ここにいう「電子写真方式」と
は一般に、光導電性の感光体をまず暗所で、例えばコロ
ナ放電によって帯電させ、次いで像露光し、露光部のみ
の電荷を選択的に逸散させて静電潜像を得て、この潜像
部を染料、顔料などの着色剤と高分子材料などで構成さ
れるトナーで現像し、可視化して画像を形成するように
した、いわゆるカールソンプロセスとよばれる画像形成
プロセスである。有機の光導電体を用いた感光体は無機
光導電体のものに比べ、感光波長域の自由度、成膜性、
可撓性、膜の透明性、量産性、毒性やコスト面等におい
て利点を持つため、現在ではほとんどの感光体には有機
光導電体が用いられている。またこの電子写真方式およ
び類似プロセスにおいてくり返し使用される感光体に
は、感度、受容電位、電位保持性、電位安定性、残留電
位、分光感度特性に代表される静電特性が優れているこ
とが要求される。

【０００３】近年ではこの電子写真方式を用いた情報処
理システム機の発展は目覚ましいものがある。特に情報
をデジタル信号に変換して光によって情報記録をおこな
うデジタル記録方式を用いたプリンターは、そのプリン
ト品質、信頼性において向上が著しい。またこのデジタ
ル記録方式はプリンターのみならず通常の複写機にも応
用され、所謂デジタル複写機が開発されている。さら
に、このデジタル複写機は、種々様々な情報処理機能が
付加されるため今後その需要性が益々高まっていくと予
想される。

【０００４】さらに現在この電子写真方式を用いた電子
写真プリンター、電子写真複写機等の高速化、小型化、
高画質化が進んでいるが、それに伴い感光体が小径化さ
れ電子写真プロセスでの使用条件はますます厳しくなり
つつある。特にクリーニング部ではゴムブレードが使用
され十分にクリーニングするためにはゴム硬度の上昇と
当接圧力の上昇が余儀なくされ、そのために感光体の摩
耗が促進され、電位変動、感度変動が生じ、それによる
異常画像やカラー画像の色バランスのくずれが生じた
り、色再現性に問題が発生するなどの不具合が生じる。
また長時間使用することで帯電時に発生するオゾンによ
るバインダー樹脂及び電荷移動材の酸化劣化や、帯電時
に生成するイオン性化合物、例えば硝酸イオン、硫酸イ
オン、アンモニウムイオン等が感光体表面に蓄積するこ
とによる画質低下が発生し問題となる。このため、感光
体のさらなる高耐久化とその表面層の物性改良がより重
要となっている。

【０００５】このような状況下、画質低下の問題に対し
てこれまでは、感光層にポリテトラフルオロエチレン等
のフッ素系樹脂、ポリジメチルシロキサン等のシリコン
系樹脂等を添加して、表面エネルギーを低下させること
が試みられている。この手段は、感光体の耐久性の向上
及び感光体表面層に付着するイオン性化合物の量を軽減
させることを企図している。例えば、フッ素樹脂の微粒
子を感光体表面層に含有させるもの（特開平４−３６８
９５３号公報）、シロキサン共重合ポリカーボネートを
バインダー樹脂として感光体表面層に含有させ、感光体
表面層に潤滑性を付与してクリーニング性を改良し、ト
ナー、紙粉等の吸湿性物質のフィルミング発生を防止す
るもの（特開平５−１１３６７０号公報）が提案されて
いる。

【０００６】また、感光体表面に保護層を形成させるこ
とにより、画質低下を防止する試みも検討されている。
例えば、種々の樹脂にシリカゲル、酸化スズ等のフィラ
ーを感光体表面層に含有せしめて感光体表面層の耐摩耗
性を向上する方法が提案されており（特開昭５７−３０
８４３号公報、特開平１−２０５１７１号公報、特開平
３ −１５５５５８号公報、特開平７−３３３８８１号
公報、特開平８−１５８８７号公報、特開平８−１２３
０５３号公報、特開平８−１４６６４１号公報、特開平
８−１７９５４２号公報）、３官能アルコキシシランと
４官能アルコキシシランの共加水分解縮合体からなる架
橋ポリシロキサンからなる表面保護層を施すことも提案
されている（特公平５−０４６９４０号公報）。

【０００７】しかしながら、ポリテトラフルオロエチレ
ン等のフッ素系樹脂は、汎用の溶媒に対する溶解性が極
めて悪く、光学的に均一な分散は困難であることや、樹
脂に添加した場合フッ素系樹脂は相溶性が悪いため、凝
集して光散乱を与えると共に、多くの場合、これら添加
された樹脂粒子は感光体表面にブリードするという欠点
があった。また、ポリシロキサンを添加した場合にも、
同様にブリードする傾向が強く、その効果は永続しない
という欠点もあった。ポリシロキサンにより保護層を形
成した場合、一般にはポリシロキサンは優れた絶縁性を
有するポリマーであることから、感光体の電荷輸送性に
支障を来すという不都合があった。フィラーを含有する
樹脂を保護層とした場合には、表面硬度は向上するもの
の、一般的には表面エネルギーが高くなり、クリーニン
グ性が不良となりかつ粒子が凝集して光散乱を生じる等
の問題があった。さらに、長期連続繰り返し使用におい
て明部電位が上昇し、画像濃度低下や画像解像力低下な
どの画像劣化が発生し問題もあった。

【０００８】また積層型感光体において高解像度達成の
ためには感光体膜厚の薄膜化が必要になる。一方薄膜化
のためには感光体の高耐久化がより一層大きな課題とな
ってくる。特開平１１−６５１３４号公報には、感光層
の最表面から１μｍ以上離れた位置の純水に対する接触
角が９０°以上であり、感光層の膜厚が２５μｍ以上で
あることを特徴とする電子写真感光体が提案されてい
る。しかしこの方法では感光体の厚膜化が必須であり、
それゆえ高耐久化においては有利ではあるが、高解像度
を達成するには明らかに不利となる。

【０００９】現在提案されている方法は上記のようにど
れも一長一短があり、これからの高速化、小型化、高画
質化に向けた電子写真感光体の開発において、上記の全
ての特性をバランスよく満足する解決手段が未だ見出さ
れてないのが現状である。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の実情に鑑みてなされたものであって、高解像度であ
り、かつ表面エネルギーも低くその効果が長期にわたっ
て持続されることで、優れた画質を長期にわたって維持
し、繰り返し使用しても電位変動のない、機械的かつ化
学的耐久性を有する電子写真感光体、この電子写真感光
体を用いた画像形成方法、この電子写真感光体を有する
画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ
を提供することをその目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決するために、電子写真感光体を構成する最表層、特
に最表層を構成する材料と物性とに着目し、鋭意検討を
重ねた。その結果、最表面から支持体側へ１±０．３μ
ｍ離れた位置における感光層の純水に対する接触角が８
５゜以上であり、かつ感光層の膜厚が４μｍ以上２４μ
ｍ以下であるような感光層を形成することにより、高解
像度であり、かつ表面エネルギーも低くその効果が長期
にわたって持続され、優れた画質を長期にわたって維持
し、繰り返し使用しても電位変動のない、機械的かつ化
学的耐久性を有する電子写真感光体が得られることを見
出し、この知見に基づいて本発明を完成するに到った。

【００１２】即ち、本発明は以下の（１）から（１６）
の態様からなる。 （１）導電性支持体上に感光層を設けた電子写真感光体
において、該感光層の最表面から支持体側へ１±０．３
μｍ離れた位置における感光層の純水に対する接触角が
８５゜以上であり、かつ感光層の膜厚が４μｍ以上２４
μｍ以下であることを特徴とする電子写真感光体。 （２）感光層が少なくともケイ素またはフッ素原子を有
するバインダー樹脂を含有することを特徴とする上記
（１）記載の電子写真感光体。 （３）感光層が少なくとも下記一般式（１）で表される
構成単位を有するポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂
又はポリカーボネート樹脂からなることを特徴とする上
記（１）記載の電子写真感光体。

【００１３】

【化２】

【００１４】〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２はハロゲン原子、炭素
数１〜６の無置換もしくは置換のアルキル基、炭素数１
〜６の無置換もしくは置換のアルコキシ基、又は無置換
もしくは置換のアリール基を示し（Ｒ^１、Ｒ^２が各々複
数個存在するときは同一であっても別異であってもよ
い）、Ｒ^３は炭素数１〜６の無置換もしくは置換のアル
キル基、又は下記一般式（２） −（ＣＨ_２）_ＮＣＨ_３ （２） ［式中、Ｎは８〜２７の整数を表す。］で表されるアル
キル基を示し、ａ、ｂは各々０〜４の整数を示し、Ｎは
８〜２７の整数を示す。〕

【００１５】（４）導電性支持体上に少なくとも電荷発
生層、電荷輸送層を順次設けた積層型電子写真感光体に
おいて、該電荷輸送層の最表面から支持体側へ１±０．
３μｍ以上離れた位置における感光層の純水に対する接
触角が８５゜以上であり、かつ電荷輸送層の膜厚が２μ
ｍ以上２０μｍ以下であることを特徴とする電子写真感
光体。 （５）電荷輸送層が少なくとも電荷輸送材料とケイ素ま
たはフッ素原子を有するバインダー樹脂を含有すること
を特徴とする上記（４）記載の電子写真感光体。 （６）電荷輸送層が少なくとも電荷輸送材料と上記一般
式（１）で表される構成単位を有するポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂又はポリカーボネート樹脂からな
ることを特徴とする上記（４）記載の電子写真感光体。 （７）電荷輸送層が少なくとも電荷輸送材料からなる層
の上に、少なくともケイ素またはフッ素原子を有するバ
インダー樹脂からなる層を順次設けた積層構造で構成さ
れることを特徴とする上記（４）記載の電子写真感光
体。 （８）電荷輸送層が少なくとも電荷輸送材料からなる層
の上に、少なくとも上記一般式（１）で表される構成単
位を有するポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂又はポ
リカーボネート樹脂からなる層を順次設けた積層構造で
構成されることを特徴とする上記（４）記載の電子写真
感光体。 （９）電荷輸送層が少なくとも電荷輸送材料からなる層
の上に、少なくともケイ素またはフッ素原子を有するバ
インダー樹脂及びフィラーからなる層を順次設けた積層
構造で構成されることを特徴とする上記（４）記載の電
子写真感光体。 （１０）電荷輸送層が少なくとも電荷輸送材料からなる
層の上に、少なくとも上記一般式（１）で表される構成
単位を有するポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂又は
ポリカーボネート樹脂及びフィラーからなる層を順次設
けた積層構造で構成されることを特徴とする上記（４）
記載の電子写真感光体。 （１１）フィラーが酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、
酸化ジルコニウム、酸化インジウム、窒化ケイ素、酸化
カルシウム、硫酸バリウム、シリカ、コロイダルシリ
カ、アルミナ、カーボンブラック、フッ素系樹脂微粉
末、ポリシロキサン系樹脂微粉末、ポリエチレン系樹脂
微粉末、コア−シェル構造を有するグラフト共重合体か
ら選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする上記
（９）または（１０）記載の電子写真感光体。 （１２）電子写真感光体の表面における純水に対する接
触角が８５゜以上であることを特徴とする上記（１）〜
（１１）のいずれかに記載の電子写真感光体。 （１３）上記（１）〜（１２）のいずれかに記載の電子
写真感光体を用いて、帯電、像露光、現像及び転写を行
うことを特徴とする画像形成方法。 （１４）上記（１）〜（１２）のいずれかに記載の電子
写真感光体を有すると共に、帯電手段、像露光手段、現
像手段及び転写手段を備えたことを特徴とする画像形成
装置。 （１５）像露光手段における書込光源の波長が４００〜
４５０Ｎｍの範囲に発振波長を有する半導体レーザーも
しくは発光ダイオードであることを特徴とする上記（１
４）記載の画像形成装置。 （１６）上記（１）〜（１２）のいずれかに記載の電子
写真感光体と、帯電手段、像露光手段、現像手段及び転
写手段及びクリーニング手段から選ばれた少なくとも一
つの手段とを一体的に形成し、画像形成装置本体に着脱
自在としたことを特徴とする画像形成装置用プロセスカ
ートリッジ。

【００１６】以下、本発明の構成及び効果について詳細
に説明する。電子写真感光体の層構成について まず、本発明の電子写真感光体の層構成を図面に基づい
て説明する。図１〜図３は本発明の電子写真感光体の断
面を概略的に示したものである。

【００１７】図１に示したものは、感光層が単層構造と
なっており、導電性支持体１上に電荷発生材料と電荷輸
送性材料とバインダー樹脂とを主成分とする感光層２
（以下、電荷輸送層と電荷発生層を併せたもの、または
どちらか一方を指して感光層と言うことがある）を設け
た構成をとっている。

【００１８】図２に示したものは、感光層が積層構造と
なっており、導電性支持体１上に電荷発生材料を主成分
とする電荷発生層３と、電荷輸送材料及びバインダー樹
脂を必須成分とする電荷輸送層４とが積層された構成を
とっている。また導電性支持体１上に電荷輸送層４、電
荷発生層３の順に積層して逆層型の電子写真感光体とす
ることもできる。

【００１９】図３に示されたものは、感光層が積層構造
となっている他の例であり、導電性支持体１上に電荷発
生材料を主成分とする電荷発生層３と電荷輸送材料を主
成分とする電荷輸送層５とこの上の電荷輸送層６とが積
層された構成をとっている。また電荷輸送層６にはフィ
ラーが含有されていてもよい。さらに導電性支持体１と
感光層２または電荷発生層３との間に帯電性向上、接着
性向上もしくはレーザー書込光の干渉光によるモアレ画
像防止などを目的として中間層（図示せず）が形成され
ていてもよい。

【００２０】次に感光層を形成する成分であるバインダ
ー樹脂について述べる。バインダー樹脂について 本発明に用いられるバインダー樹脂は、感光層の最表面
から支持体側へ１±０．３μｍ離れた位置における感光
層の純水に対する接触角が８５゜以上を満足するもので
あるならば、化学構造的には何ら限定されるものではな
い。中でもケイ素原子又はフッ素原子を有するものが好
ましく用いられる。ケイ素原子を含有するものとして
は、例えば下記のごときものが挙げられる。

【００２１】

【化３】

【００２２】フッ素原子を含有するものとしては、例え
ば下記のごときものが挙げられる。

【００２３】

【化４】

【００２４】また、フッ素置換パラフィン系ポリマーと
ポリカーボネートとの共重合体が使用でき、その代表的
な例としてはポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニ
ル、エチレン−四フッ化エチレンコポリマー、四フッ化
エチレン−六フッ化プロピレンコポリマーなどとポリカ
ーボネートとの共重合体が挙げられる。さらに、下記一
般式（１）で表される構成単位を有するポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂又はポリカーボネート樹脂も好ま
しく用いられる。

【００２５】

【化５】

【００２６】〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２はハロゲン原子、炭素
数１〜６の無置換もしくは置換のアルキル基、炭素数１
〜６の無置換もしくは置換のアルコキシ基、又は無置換
もしくは置換のアリール基を示し（Ｒ^１、Ｒ^２が各々複
数個存在するときは同一であっても別異であってもよ
い）、Ｒ^３は炭素数１〜６の無置換もしくは置換のアル
キル基、又は下記一般式（２） −（ＣＨ_２）_ＮＣＨ_３ …（２） ［式中、Ｎは８〜２７の整数を表す。］で表されるアル
キル基を示し、ａ、ｂは各々０〜４の整数を示し、Ｎは
８〜２７の整数を示す。〕

【００２７】Ｒ^１、Ｒ^２で示されるハロゲン原子として
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙
げられる。Ｒ^１、Ｒ^２で示される炭素数１〜６の無置換
もしくは置換アルキル基としては、直鎖、分岐鎖又は環
状のアルキル基が挙げられ、これらのアルキル基は、フ
ッ素原子、シアノ基、フェニル基もしくはハロゲン原子
又は炭素数１〜６の直鎖、分岐鎖もしくは環状のアルキ
ル基で置換されたフェニル基を含有していてもよい。具
体的には、メチル基、エチル基、Ｎ−プロピル基、ｉ−
プロピル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ブチル基、Ｎ−ブチル
基、ｉ−ブチル基、トリフルオロメチル基、２−シアノ
エチル基、ベンジル基、４−クロロベンジル基、４−メ
チルベンジル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基
等を挙げることができる。

【００２８】Ｒ^１、Ｒ^２で示される炭素数１〜６の無置
換もしくは置換アルコキシ基とは、上記のアルキル基を
アルコキシ基に代えたものであり、メトキシ基、エトキ
シ基、Ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、Ｎ−ブト
キシ基、ｉ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキ
シ基、２−ヒドロキシエトキシ基、２−シアノエトキシ
基、ベンジルオキシ基、４−メチルベンジルオキシ基、
トリフルオロメトキシ基等が挙げられる。

【００２９】Ｒ^１、Ｒ^２で示される無置換もしくは置換
アリール基は、複素環基を含めた基を表し、フェニル
基、ナフチル基、ビフェニリル基、ターフェニリル基、
ピレニル基、フルオレニル基、９ ，９−ジメチル−２
−フルオレニル基、アズレニル基、アントリル基、トリ
フェニレニル基、クリセニル基、フルオレニリデンフェ
ニル基、５Ｈ−ジベンゾ〔ａ ，ｄ 〕シクロヘプテニリ
デンフェニル基、チエニル基、ベンゾチエニル基、フリ
ル基、ベンゾフラニル基、カルバゾリル基、ピリジニル
基、ピロリジル基、オキサゾリル基等が挙げられ、これ
らの基は、上記アルキル基、アルコキシ基又はハロゲン
原子を置換基として有していてもよい。

【００３０】Ｒ^３で表される炭素数１〜６の無置換もし
くは置換アルキル基は、上記と同義である。一般式
（１）で表される構成単位を有するポリウレタン樹脂、
ポリエステル樹脂又はポリカーボネート樹脂は、下記一
般式（３）で表される基を有していてもよい。

【００３１】

【化６】

【００３２】〔式中、Ｘ_１はイミノカルボニルオキシ
基、オキシカルボニル基又はオキシカルボニルオキシ基
を示し、Ｘは炭素数２〜２０の無置換もしくは置換脂肪
族炭化水素２価基、無置換もしくは置換脂環式炭化水素
２価基、炭素数６〜２０の無置換もしくは置換芳香族炭
化水素２価基、これら２価基が結合した２価基、下記式
（４）、（５）、もしくは（６）を示す。〕

【００３３】

【化７】

【００３４】

【化８】

【００３５】

【化９】

【００３６】〔式中、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７はハロゲ
ン原子、炭素数１〜６の無置換もしくは置換アルキル基
又は無置換もしくは置換アリール基を示し（Ｒ^４、
Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７が各々複数個存在するときは、同一で
あっても別異であってもよい）、ｃ、ｄは０〜４の整数
を示し、ｅ、ｆは０〜３の整数を示し、Ｙは単結合、炭
素数２〜１２の直鎖状のアルキレン基、炭素数３〜１２
の無置換もしくは置換分岐状アルキレン基、一つ以上の
炭素数１〜１０のアルキレン基と一つ以上の酸素原子及
び硫黄原子から構成される２価基、−Ｏ−、−Ｓ−、−
ＳＯ−、−ＳＯ_２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−又は下記式
（７）〜（１８）の中から選ばれた一種を示す。

【００３７】

【化１０】

【００３８】

【化１１】

【００３９】

【化１２】

【００４０】

【化１３】

【００４１】

【化１４】

【００４２】

【化１５】

【００４３】

【化１６】

【００４４】

【化１７】

【００４５】

【化１８】

【００４６】

【化１９】

【００４７】（式中、Ｚ^１は炭素数２〜２０の無置換も
しくは置換脂肪族炭化水素２価基又は無置換もしくは置
換アリレン基を示し、Ｚ^２は炭素数２〜２０の無置換も
しくは置換脂肪族炭化水素２価基又は無置換もしくは置
換アリレン基を示し、Ｒ^８はハロゲン原子、炭素数１〜
６の無置換もしくは置換アルキル基、炭素数１〜６の無
置換もしくは置換のアルコキシ基又は無置換もしくは置
換アリール基を示し、Ｒ ^９、Ｒ^１０は水素原子、ハロゲ
ン原子、炭素数１〜６の無置換もしくは置換アルキル
基、炭素数１〜６の無置換もしくは置換のアルコキシ基
又は無置換もしくは置換アリール基を示し、またＲ^９、
Ｒ^１０が結合して炭素数５〜１２の炭素環を形成しても
よく、Ｒ^１１、Ｒ^１２、Ｒ^１３、Ｒ^１４は水素原子、ハ
ロゲン原子、炭素数１〜６の無置換もしくは置換アルキ
ル基、炭素数１〜６の無置換もしくは置換のアルコキシ
基又は無置換もしくは置換アリール基を示し、Ｒ^１５は
ハロゲン原子、炭素数１ 〜６の無置換もしくは置換ア
ルキル基、炭素数１〜６の無置換もしくは置換のアルコ
シキ基又は無置換もしくは置換アリール基を示し、Ｒ^１
６、Ｒ^１７は単結合又は炭素数１〜４のアルキレン基を
表し、Ｒ^１８、Ｒ^１９は炭素数１〜６の無置換もしくは
置換アルキル基又は無置換もしくは置換アリール基を示
し、ｇは０〜４の整数、ｈは１ 又は２、ｉ は０〜４の
整数、ｊ は０〜２０の整数、ｋは０〜２０００の整数
を示す）

【００４８】Ｘで示される無置換もしくは置換脂肪族炭
化水素２価基、無置換もしくは置換脂環式炭化水水素２
価基の具体例としては、エチレングリコール、ジエチレ
ングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール、
１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、
１，５−ぺンタンジオール、３−メチル−１，５−ぺン
タンジオール、１，６−へキサンジオール、１，５−へ
キサンジオール、１，７−へプタンジオール、１，８−
オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０
−デカンジオール、１，１１−ウンデカンジオール、
１，１２−ドデカンジオール、ネオぺンチルグリコー
ル、２−エチル−１，６−へキサンジオール、２−メチ
ル−１，３−プロパンジオール、２−エチル−１，３−
プロパンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパ
ンジオール、１，３−シクロヘキサンジオール、１，４
−シクロヘキサンジオール、シクロヘキサン−１，４−
ジメタノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシシクロヘ
キシル）プロパン、キシリレンジオール、１，４−ビス
（２−ヒドロキシエチル）べンゼン、１，４−ビス（３
−ヒドロキシプロピル）べンゼン、１，４−ビス（４−
ヒドロキシブチル）べンゼン、１，４−ビス（５−ヒド
ロキシぺンチル）べンゼン、１，４−ビス（６−ヒドロ
キシヘキシル）べンゼン、イソホロンジオール等のジオ
ールからヒドロキシ基を２個除いた２価基を挙げること
ができる。Ｘで示される無置換もしくは置換芳香族２価
基としては上記無置換もしくは置換アリール基から誘導
される２価基を挙げることができ、無置換もしくは置換
アルキレン基としては、上記無置換もしくは置換アルキ
ル基から誘導される２価基を挙げることができる。

【００４９】Ｙで示される一つ以上の炭素数１〜１０の
アルキレン基と一つ以上の酸素原子及び硫黄原子から構
成される２価基に特に制限はないが、例えば具体例とし
て、OCH_２CH_２O、 OCH_２CH_２OCH_２CH_２O、 OCH_２CH_２
OCH_２CH_２OCH_２CH_２O、 OCH _２CH_２CH_２O、 OCH_２CH_２
CH_２CH_２O、 OCH_２CH_２CH_２CH_２CH_２CH_２O、 OCH_２CH
_２CH_２CH_２CH_２CH_２CH_２CH_２O、 CH_２O、 CH_２CH
_２O、 CHEtOCHEtO、 CHCH_３O、 SCH_２OCH_２S、 CH
_２OCH_２、 OCH_２OCH_２O、 SCH_２CH_２OCH_２OCH_２CH
_２S、 OCH_２CHCH_３OCH_２CHCH_３O、 SCH_２S、 SCH_２C
H_２S、 SCH_２CH_２CH_２S、 SCH_２CH_２CH_２CH_２S、 SC
H_２CH_２CH_２CH_２CH_２CH_２S、 SCH_２CH_２SCH_２CH _２S、
SCH_２CH_２OCH_２CH_２OCH_２CH_２S 等が挙げられる。

【００５０】炭素原子数３〜１２の分岐状のアルキレン
基に修飾する置換基としては、無置換もしくは置換アリ
ール基、又はハロゲン原子が挙げられる。Ｚ^１、Ｚ^２が
無置換もしくは置換脂肪族の２価基である場合として
は、Ｘが脂肪族の２価基、環状脂肪族の２価基である場
合のジオールからヒドロキシ基を除いた２価基を挙げる
ことができる。また、Ｚ^１、Ｚ^２が無置換もしくは置換
アリレン基である場合として、上記無置換もしくは置換
アリール基から誘導される２価基を挙げることができ
る。

【００５１】Ｘが芳香族の２価基である場合の好ましい
具体例としては、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタ
ン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、
１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス
（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、ビス（４
−ヒドロキシフェニル）ジフェニルメタン、１，１−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、
１，３−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジ
メチルプロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）プロパン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−
（３−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−２−メチルプロパン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルブタ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ぺンタ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−４−メ
チルぺンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）へキサン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）へプタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）ノナン、ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシ
フェニル）メタン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−イソ
プロピル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２
−ビス（３−sec−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロパン、２，２−ビス（３−tert−ブチル−４−ヒド
ロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−シクロ
ヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２
−ビス（３−アリル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ
ン、２，２−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジメチル−４
−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−
クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−
ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフ
ェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−
４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）へキサフルオロプロパン、１，
１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロぺンタン、
１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサ
ン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン、１，１−ビス（３，５−ジメチル
−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−
ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）シ
クロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘプタン、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ノルボルナ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）アダマン
タン、４，４’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、
４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルジフェニ
ルエーテル、エチレングリコールビス（４−ヒドロキシ
フェニル）エーテル、１,３−ビス（４−ヒドロキシフ
ェノキシ）ベンゼン、１,４−ビス（３−ヒドロキシフ
ェノキシ）ベンゼン、４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルフィド、３，３’−ジメチル−４，４’−ジヒド
ロキシジフェニルスルフィド、３，３’，５，５’−テ
トラメチル−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルフ
ィド、４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシ
ド、３，３’−ジメチル−４，４’−ジヒドロキシジフ
ェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジフェニ
ルスルホン、３，３’−ジメチル−４，４’−ジヒドロ
キシジフェニルスルホン、３，３’−ジフェニル−４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、３，３’−ジ
クロロ−４，４’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、
ビス（４−ヒドロキシフェニル）ケトン、ビス（３−メ
チル−４−ヒドロキシフェニル）ケトン、３，３，
３’，３’−テトラメチル−６，６’−ジヒドロキシス
ピロ（ビス）インダン、３，３’，４，４’−テトラヒ
ドロ−４，４，４’，４’−テトラメチル−２，２’−
スピロビ（２Ｈ−１−べンゾピラン）−７，７’−ジオ
ール、トランス−２，３−ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）−２−ブテン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）キサンテン、１，６−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−１，６−へキサンジオン、α，α，α’，α’
−テトラメチル−α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−ｐ−キシレン、α，α，α’，α’−テトラメ
チル−α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｍ
−キシレン、２，６−ジヒドロキシジベンゾ−ｐ−ジオ
キシン、２，６−ジヒドロキシチアントレン、２，７−
ジヒドロキシフェノキサチイン、９，１０−ジメチル−
２，７−ジヒドロキシフェナジン、３，６−ジヒドロキ
シジベンゾフラン、３，６−ジヒドロキシジベンゾチオ
フェン、４，４’−ジヒドロキシビフェニル、１，４−
ジヒドロキシナフタレン、２，７−ジヒドロキシピレ
ン、ハイドロキノン、レゾルシン、４−ヒドロキシフェ
ニル−４−ヒドロキシベンゾエート、エチレングリコー
ル−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）、ジエチレン
グリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエート）、ト
リエチレングリコール−ビス（４−ヒドロキシベンゾエ
ート）、ｐ − フェニレン − ビス（４ − ヒドロキシ
ベンゾエート）、１ ,６６ − ビス（４ − ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ）− １H , １H , ６H ,６H − パー
フルオロヘキサン、１ , ４ − ビス（４ −ヒドロキシ
ベンゾイルオキシ）− １H , １H , ４H ,４H − パー
フルオロブタン、 １，３−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）テトラメチルジシロキサン等で示されるジオール
からヒドロキシ基を２個除いた２価基が挙げられる。な
お、同一表記のものは、上記と同義である。

【００５２】本発明において用いるポリウレタン樹脂
は、上記一般式（１）で表される構成単位を有する樹脂
であり、ジオールとジイソシアネートとの重付加やジア
ミンとビスクロロホーメートの重縮合等、公知の方法に
よって製造することができる（高分子学会編、共立出版
（株）、「新高分子実験学３ 、高分子の合成・反応
（２）縮合系高分子の合成」、ｐ１１７〜１１９、ｐ２
２９〜２３３）。ジオールとジイソシアネートとの重合
反応においては、分子量を調節するために、分子量調節
剤として末端停止剤を用いることが望ましい。したがっ
て、本発明で使用されるポリウレタン樹脂の末端部に
は、末端停止剤に起因する置換基が結合してもよい。使
用される末端停止剤には、公知の１価の芳香族ヒドロキ
シ化合物、１価の芳香族ヒドロキシ化合物のハロホーメ
ート誘導体、１価のカルボン酸又は１価のカルボン酸の
ハライド誘導体等がある。

【００５３】これらの末端封止剤は単独で使用してもよ
く、複数を併用してもよい。好ましい末端停止剤として
は、１価の芳香族ヒドロキシ化合物であるフェノール、
ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール、ｐ−クミルフェノー
ル等又はクロロギ酸フェニル等を挙げることができる。
このようにして得られたポリウレタン樹脂は、重合中に
使用した触媒や酸化防止剤、未反応のジオールや末端停
止剤又は重合中に生成した無機塩等の不純物を除去して
使用に供される。

【００５４】本発明において用いるポリエステル樹脂
は、上記一般式（１）で表される構成単位を有する樹脂
であり、ジオール（ビスフェノールを含む）とジカルボ
ン酸誘導体との求核アシル置換重合、ジカルボン酸塩と
脂肪族炭化水素ジハライドとの求核脂肪族炭化水素基置
換重合等によって製造することができる（高分子学会
編、共立出版（株）、「新高分子実験学３ 、高分子の
合成・反応（２）縮合系高分子の合成」、ｐ４９〜５４
、ｐ７７〜９５）。反応温度溶媒、触媒、分子量調節
剤等についても、公知の条件が採用できる。ジオールと
ジカルボン酸誘導体の重合反応においては、分子量を調
節するために、分子量調節剤として末端停止剤を用いる
ことが望ましい。したがって、本発明で使用されるポリ
エステル樹脂の末端部には、末端停止剤に起因する置換
基が結合してもよい。

【００５５】本発明において用いるポリカーボネート樹
脂は、上記一般式（１）で表される構成単位を有する樹
脂であり、ビスフェノールと炭酸誘導体との重合反応に
よって製造することができる（編者本間清一、日刊工業
新聞社「ポリカーボネート樹脂ハンドブック」）。少な
くともジオールの１種を使用するビスアリールカーボネ
ートとのエステル交換法、ジオールとホスゲン等のハロ
ゲン化カルボニル化合物との溶液重合法又は界面重合
法、ジオールから誘導されるビスクロロホーメート等を
用いる方法等により製造することができる。また、機械
的特性を調節するために、共重合ポリカーボネート樹脂
を使用することもできる。反応温度溶媒、触媒、分子量
調節剤等についても、公知の条件が採用できる。ジオー
ルとジカルボン酸誘導体の重合反応においては、分子量
を調節するために、分子量調節剤として末端停止剤を用
いることが望ましい。したがって、本発明で使用される
ポリカーボネート樹脂の末端部には、末端停止剤に起因
する置換基が結合してもよい。

【００５６】本発明の電子写真感光体に使用されるポリ
ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂又はポリカーボネート
樹脂の分子量は、ポリスチレン換算重量平均分子量で１
０００〜１００００００であり、好ましくは、２０００
〜５０００００である。この分子量が１０００未満で
は、機械的強度が小さくなり、成膜時にひびが入ったり
して実用性に乏しくなり、１００００００を越えると、
一般溶媒に対する溶解性が悪くなったり、溶液の粘度が
高くなって塗工が困難になったりして実用上、その取扱
いに不都合を生じることとなる。機械的特性等を改良す
るために、重合時に分岐化剤を少量加えることもでき、
分岐化剤としては、芳香族ヒドロキシル基、ハロホーメ
ート基、カルボン酸基、カルボン酸ハライド基又は活性
なハロゲン原子等から選ばれる反応基を３個（同種でも
異種でもよい）以上有する化合物が挙げられる。これら
の分岐化剤は単独で使用してもよく、複数を併用しても
よい。

【００５７】これらの樹脂は、バインダー樹脂として機
能するものであり、電荷輸送層に含有され、導電性支持
体上から最も離れた部位に存在させることが好ましい。
すなわち、感光体の最表層にこれらの樹脂を含有させた
場合、表面エネルギーを低下させる効果を奏するからで
ある。

【００５８】その理由は、構成単位の分子構造内に、必
ず一個の長鎖アルキル基が存在することに由来する。一
般に、分子内に長鎖アルキル基を有するものは、臨界表
面張力がシロキサン系樹脂と同様に小さいことが知られ
ている。このため、本件樹脂を最表層に用いた場合、感
光体の表面摩擦抵抗が小さくなり、高耐久化が可能にな
るものである。また同時に、画質低下の原因と考えられ
るイオン性化合物が表面に付着する量を軽減する作用を
持っているため、高画質が長時間にわたって維持される
という効果をも奏することとなる。

【００５９】さらに長鎖アルキル基部位の長鎖数は幅広
く選択できるため、合成の自由度が高く、また、所望の
表面物性に容易に調整できるという利点を有している。
しかし通常は、長鎖アルキル基が上記一般式（１）にお
いて、Ｎが７以下の場合は十分に臨界表面表力が小さく
ならないこと、Ｎが２８以上の場合はモノマーの結晶性
が増し、樹脂の製造が困難となることから、本発明にお
いては、Ｎが８ 〜２７のものが採用されるのである。

【００６０】一般式（１）で表される構成単位を有する
ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂又はポリカーボネ
ート樹脂において、一般式（１）の構成単位の含有する
割合は、１モル％以上、好ましくは５モル％以上、より
好ましくは２０モル％以上である。この割合が１モル％
未満では、臨界表面張力が過大となり、実質的にその効
果を示さない。

【００６１】感光層の純水に対する接触角について 従来公知の低表面エネルギーユニットをもつバインダー
樹脂を用いた感光層は、表面配向により純水に対する接
触角は初期的には１００゜以上の優れた撥水性を示すも
のもある。しかしながら、最表層が機械的摩耗等のため
削れていくのに伴い、接触角は通常大幅に低下すること
も知られている。例えば低表面エネルギーバインダ−樹
脂として知られているシロキサン共重合ポリカーボネー
トをバインダー樹脂として用いた場合、減耗後の接触角
は通常８５゜以下である。減耗後も低表面エネルギー状
態を保つためには感光層のバルクとして低表面エネルギ
ーユニットを多く有していることが必要である。本発明
は低表面エネルギーバインダーの中でも特に低表面エネ
ルギーユニットの含有率の高いものが望ましく用いられ
る。

【００６２】また感光層のバルクの純水に対する接触角
は、実機中で感光体が１±０．３μｍ減耗した表面の接
触角として定義される。最表面ではなく、感光体が１μ
ｍ近くまで減耗した後は、接触角は一定となるので、１
±０．３μｍ減耗した個所の値を測定すればよい。これ
を測定するには実用に供されている複写機に感光体を装
填して、実写テストを行なって摩耗させるのが実用的で
ある。しかし摩耗のさせ方として、例えば２０℃、５０
％ＲＨの環境下で、荷重１０００ｇ、摩耗輪ＣＳ−５、
回転速度６０ｒｐｍの条件でテーバー摩耗試験器（東洋
精機社製）にて１０００回転程度させて表面を削っても
良い。純水に対する接触角の測定は、接触角計ＣＡ−Ｗ
型（協和界面科学社製）を用い、液滴法にて測定するこ
とができる。そして本発明のように電子写真感光体の最
表面から１±０．３μｍ離れた位置の純水に対する接触
角が８５゜以上であることが好ましい。より好ましくは
９５゜以上である。純水に対する接触角が８５゜以上の
時、感光体の表面エネルギーの低下が達成される。感光
体表面の純水に対する接触角が８５゜未満の場合、電子
写真プロセスによる繰り返し使用によって表面に帯電生
成物やトナーや紙からもたらされる脱落物が付着し易
く、クリーニング不良や表面抵抗の低下による潜像の劣
化（画像流れ）を生じやすい。一方純水に対する接触角
が大きすぎても、今度は感光体との接着が不十分となる
ので１４０゜以下が好ましい。

【００６３】特開平１１−６５１３４号公報記載には、
導電性支持体上に感光層を設けてなる電子写真感光体に
おいて、該感光層の最表面から１μｍ以上離れた位置の
純水に対する接触角が９０°以上であり、感光層の膜厚
が２５μｍ以上であることを特徴とする電子写真感光体
が提案されている。この明細書の中では、バルクの接触
角が大きいとクラック等が問題となり、その解決手段と
して感光層の膜厚が２５μｍ以上に厚膜化することが記
載されている。

【００６４】一方本発明が解決しようとする課題は高解
像度であり、同時に表面エネルギーも低くその効果が長
期にわたって持続されることを目的とした電子写真感光
体を提供することにあり、前記の発明とは課題が異な
る。本発明者らは鋭意検討した結果、高解像度を達成す
るための成立用件として、感光層の膜厚が４μｍ以上２
４μｍ以下、また電荷輸送層の膜厚が２μｍ以上２０μ
ｍ以下に薄膜化することと、同時に低表面エネルギー状
態が長期にわたって維持されるために、感光体の最表面
から支持体側へ１±０．３μｍ離れた位置における純水
に対する接触角が８５゜以上の感光体であれば良いこと
を見いだした。すなわち以上の構成用件を同時に満たす
感光体構成をとることで本発明の課題が初めて達成され
る。

【００６５】フィラーについて 本発明の電子写真感光体は、機械的耐久性を調節するた
めにフィラーを含有させることができる。フィラーとし
ては、酸化チタン、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ジルコニ
ウム、酸化インジウム、窒化ケイ素、酸化カルシウム、
硫酸バリウム、シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、
カーボンブラック、フッ素系樹脂微粉末、ポリシロキサ
ン系樹脂微粉末、ポリエチレン系樹脂微粉末、コア−シ
ェル構造を有するグラフト共重合体等が挙げられる。こ
れらフィラーは、分散性向上等のために無機物、有機物
で表面処理されていてもよい。一般に、撥水性処理とし
てシランカップリング剤で処理したもの又はフッ素系シ
ランカップリング剤処理したもの、高級脂肪酸処理した
ものがあり、無機物処理としては、フィラー表面をアル
ミナ、ジルコニア、酸化スズ、シリカ処理したものが挙
げられる。

【００６６】フィラー含有量は、フィラーを含有させる
層に対し、重量基準で通常は、５〜５０％、好ましく
は、１０〜４０％である。５％未満では、摩耗性の向上
が十分に図れないことがあり、５０％を越えると、電荷
輸送層全体の透明性が損なわれることがあるので望まし
くない。フィラーの平均粒径は、通常は、０．０５ 〜
１．０μｍ 、好ましくは、０．０５〜０．８μｍであ
る。０．０５μｍ未満では、耐摩耗性の向上が望めず、
１．０μｍを越えると、フィラーを含有する表面の凹凸
が大きくなり、フィラーがクリーニングブレードを傷つ
け、クリーニング不良が発生することがあるので望まし
くない。

【００６７】分散溶媒としてはメチルエチルケトン、ア
セトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンの
ケトン類、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチルセ
ロソルブなどのエーテル類、トルエン、キシレンなどの
芳香族類、クロロベンゼン、ジクロルメタンなどのハロ
ゲン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類が使
用される。粉砕工程を加える場合はボールミル、サンド
ミル、振動ミルなどを用いる。塗工方法としては浸漬
法、スプレー塗工法、リングコート法、ロールコータ
法、グラビア塗工法、ノズルコート法、スクリーン印刷
法等が採用される。

【００６８】電荷輸送層について 電荷輸送層に用いられる電荷輸送材料には従来公知の電
荷輸送物質を用いることができ、これらの電荷輸送材料
は単独または２種類以上混合して用いられる。電荷輸送
材料のうち低分子型正孔輸送材料としては、以下の一般
式で示される化合物がある。

【００６９】

【化２０】

【００７０】（式中、Ｒ^１はメチル基、エチル基、２−
ヒドロキシエチル基または２−クロルエチル基を表し、
Ｒ^２はメチル基、エチル基、ベンジル基またはフェニル
基を表し、Ｒ^３は水素原子、塩素原子、臭素原子、炭素
数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、
ジアルキルアミノ基またはニトロ基を表す。）

【００７１】

【化２１】

【００７２】（式中、Ａｒはナフタレン環、アントラセ
ン環、ピレン環及びそれらの置換体あるいはピリジン
環、フラン環、チオフェン環を表し、Rはアルキル基、
フェニル基またはベンジル基を表す。）

【００７３】

【化２２】

【００７４】（式中、Ｒ^１はアルキル基、ベンジル基、
フェニル基またはナフチル基を表し、Ｒ^２は水素原子、
炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルコキシ
基、ジアルキルアミノ基、ジアラルキルアミノ基または
ジアリールアミノ基を表し、Ｎは１〜４の整数を表し、
Ｎが２以上のときはＲ^２は同じでも異なっていても良
い。 Ｒ^３は水素原子またはメトキシ基を表す。）

【００７５】

【化２３】

【００７６】（式中、 Ｒ^１は炭素数１〜１１のアルキ
ル基、置換もしくは無置換のフェニル基または複素環基
を表し、 Ｒ^２、Ｒ^３はそれぞれ同一でも異なっていて
もよく、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、ヒドロ
キシアルキル基、クロルアルキル基または置換もしくは
無置換のアラルキル基を表し、また、 Ｒ^２とＲ^３は互
いに結合し窒素を含む複素環を形成していても良い。
Ｒ^４は同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数
１〜４のアルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子
を表す。）

【００７７】

【化２４】

【００７８】（式中、Ｒは水素原子またはハロゲン原子
を表し、Ａｒは置換もしくは無置換のフェニル基、ナフ
チル基、アントリル基またはカルバゾリル基を表す。）

【００７９】

【化２５】

【００８０】（式中、 Ｒ^１は水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、炭素数１〜４のアルコキシ基または炭素
数１〜４のアルキル基を表し、Arは

【００８１】

【化２６】

【００８２】

【化２７】

【００８３】を表し、 Ｒ^２は炭素数１〜４のアルキル
基を表し、Ｒ^３は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜
４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基またはジ
アルキルアミノ基を表し、Ｎは１または２であって、Ｎ
が２のときはＲ^３は同一でも異なっていてもよく、
Ｒ^４、Ｒ^５は水素原子、炭素数１〜４の置換もしくは無
置換のアルキル基または置換もしくは無置換のベンジル
基を表す。）

【００８４】

【化２８】

【００８５】（式中、Ｒはカルバゾリル基、ピリジル
基、チエニル基、インドリル基、フリル基あるいはそれ
ぞれ置換もしくは非置換のフェニル基、スチリル基、ナ
フチル基、またはアントリル基であって、これらの置換
基がジアルキルアミノ基、アルキル基、アルコキシ基、
カルボキシ基またはそのエステル、ハロゲン原子、シア
ノ基、アラルキルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アラル
キルアミノ基、アミノ基、ニトロ基及びアセチルアミノ
基からなる群から選ばれた基を表す。）

【００８６】

【化２９】

【００８７】（式中、Ｒ^１は低級アルキル基、置換もし
くは無置換のフェニル基、またはベンジル基を表し、Ｒ
^２は水素原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハ
ロゲン原子、ニトロ基、アミノ基あるいは低級アルキル
基またはベンジル基で置換されたアミノ基を表し、Ｎは
１または２の整数を表す。）

【００８８】

【化３０】

【００８９】（式中、 Ｒ^１は水素原子、アルキル基、
アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、 Ｒ^２および
Ｒ^３はアルキル基、置換もしくは無置換のアラルキル基
あるいは置換もしくは無置換のアリール基を表し、 Ｒ
^４は水素原子、低級アルキル基または置換もしくは無置
換のフェニル基を表し、また、Ａｒは置換もしくは無置
換のフェニル基またはナフチル基を表す。）

【００９０】

【化３１】

【００９１】（式中、Ｎは０または１の整数、 Ｒ^１は
水素原子、アルキル基または置換もしくは無置換のフェ
ニル基を表し、Ａｒ^１は置換もしくは未置換のアリール
基を表し、Ｒ^５は置換アルキル基を含むアルキル基、あ
るいは置換もしくは無置換のアリール基を表し、Ａは

【００９２】

【化３２】

【００９３】９−アントリル基または置換もしくは無置
換のカルバゾリル基を表し、ここでＲ^２は水素原子、ア
ルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子または

【００９４】

【化３３】

【００９５】（ただし、Ｒ^３およびＲ^４はアルキル基、
置換もしくは無置換のアラルキル基または置換もしくは
無置換のアリール基を示し、 Ｒ^３およびＲ^４は同じで
も異なっていてもよく、 Ｒ^４は環を形成しても良い）
を表し、ｍが２以上の時はＲ^２は同一でも異なっても良
い。また、Ｎが０の時、ＡとＲ^１は共同で環を形成して
も良い。）

【００９６】

【化３４】

【００９７】（式中、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は水素原
子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ハロゲン原子
またはジアルキルアミノ基を表し、Ｎは０または１を表
す。）

【００９８】

【化３５】

【００９９】（式中、 Ｒ^１およびＲ^２は置換アルキル
基を含むアルキル基、または置換もしくは未置換のアリ
ール基を表し、 Aは置換アミノ基、置換もしくは未置換
のアリール基またはアリル基を表す。）

【０１００】

【化３６】

【０１０１】（式中、Ｘは水素原子、低級アルキル基ま
たはハロゲン原子を表し、Rは置換アルキル基を含むア
ルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を表
し、 Aは置換アミノ基または置換もしくは無置換のアリ
ール基を表す。）

【０１０２】

【化３７】

【０１０３】（式中、 Ｒ^１は低級アルキル基、低級ア
ルコキシ基またはハロゲン原子を表し、Ｒ^２、Ｒ^３は同
じでも異なっていてもよく、水素原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基またはハロゲン原子を表し、ｌ、
ｍ、Ｎは０〜４の整数を表す。）

【０１０４】

【化３８】

【０１０５】（式中、 Ｒ^１、Ｒ^３およびＲ^４は水素原
子、アミノ基、アルコキシ基、チオアルコキシ基、アリ
ールオキシ基、メチレンジオキシ基、置換もしくは無置
換のアルキル基、ハロゲン原子または置換もしくは無置
換のアリール基を、Ｒ^２は水素原子、アルコキシ基、置
換もしくは無置換のアルキル基またはハロゲン原子を表
す。ただし、 Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４はすべて水
素原子である場合は除く。また、ｋ，ｌ，ｍおよびＮは
１、２、３または４の整数であり、それぞれが２、３ま
たは４の整数の時は、前記Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４
は同じでも異なっていても良い。）

【０１０６】

【化３９】

【０１０７】（式中、Ａｒは置換基を有してもよい炭素
数１８個以下の縮合多環式炭化水素基を表し、また、
Ｒ^１およびＲ^２は水素原子、ハロゲン原子、置換もしく
は無置換のアルキル基、アルコキシ基、置換もしくは無
置換のフェニル基を表し、それぞれ同じでも異なってい
ても良い。Ｎは１もしくは２の整数を表す。）

【０１０８】

【化４０】

【０１０９】（式中、Ａｒは置換もしくは無置換の芳香
族炭化水素基を表し、Ａは

【０１１０】

【化４１】

【０１１１】（ただし、Ａｒ’は置換もしくは無置換の
芳香族炭化水素基を表し、 Ｒ^１およびＲ^２は置換もし
くは無置換のアルキル基、または置換もしくは無置換の
アリール基である。）を表す。）

【０１１２】

【化４２】

【０１１３】（式中、Ａｒは置換もしくは無置換の芳香
族炭化水素基を、Ｒは水素原子、置換もしくは無置換の
アルキル基、または置換もしくは無置換のアリール基を
表す。Ｎは０または１、ｍは１または２であって、Ｎ＝
０、ｍ＝１の場合、ＡｒとＲは共同で環を形成しても良
い。）

【０１１４】一般式（４）で表される化合物には、例え
ば、９−エチルカルバゾール−３−アルデヒド−１−メ
チル−１−フェニルヒドラゾン、９−エチルカルバゾー
ル−３−アルデヒド−１−ベンジル−１−フェニルヒド
ラゾン、９−エチルカルバゾール−３−アルデヒド−
１、１−ジフェニルヒドラゾンなどがある。

【０１１５】また、一般式（５）で表される化合物に
は、例えば、４−ジエチルアミノスチリル−β−アルデ
ヒド−１−メチル−１−フェニルヒドラゾン、４−メト
キシナフタレン−１−アルデヒド−１−ベンジル−１−
フェニルヒドラゾンなどがある。

【０１１６】一般式（６）で表される化合物には、例え
ば、４−メトキシベンズアルデヒド−１−メチル−１−
フェニルヒドラゾン、２、４−ジメトキシベンズアルデ
ヒド−１−ベンジル−１−フェニルヒドラゾン、４−ジ
エチルアミノベンズアルデヒド−１、１−ジフェニルヒ
ドラゾン、４−メトキシベンズアルデヒド−１−（４−
メトキシ）フェニルヒドラゾン、４−ジフェニルアミノ
ベンズアルデヒド−１−ベンジル−１−フェニルヒドラ
ゾン、４−ジベンジルアミノベンズアルデヒド−１、１
−ジフェニルヒドラゾンなどがある。また、

【０１１７】一般式（７）で表される化合物には、例え
ば、１，１−ビス（４−ジベンジルアミノフェニル）プ
ロパン、トリス（４−ジエチルアミノフェニル）メタ
ン、１、１−ビス（４−ジベンジルアミノフェニル）プ
ロパン、２，２’−ジメチル−４，４’−ビス（ジエチ
ルアミノ）−トリフェニルメタンなどがある。一般式
（８）で表される化合物には、例えば、９−（４−ジエ
チルアミノスチリル）アントラセン、９−ブロム−１０
−（４−ジエチルアミノスチリル）アントラセンなどが
ある。また、一般式（９）で表される化合物には、例え
ば、９−（４−ジメチルアミノベンジリデン）フルオレ
ン、３−（９−フルオレニリデン）−９−エチルカルバ
ゾールなどがある。

【０１１８】また、一般式（１２）で表される化合物に
は、例えば、１，２−ビス（４−ジエチルアミノスチリ
ル）ベンゼン、１，２−ビス（２，４−ジメトキシスチ
リル）ベンゼンなどがある。一般式（１３）で表される
化合物には、例えば、３−スチリル−９−エチルカルバ
ゾール、３−（４−メトキシスチリル）−９−エチルカ
ルバゾールなどがある。一般式（１４）で表される化合
物には、例えば、４−ジフェニルアミノスチルベン、４
−ジベンジルアミノスチルベン、４−ジトリルアミノス
チルベン、１−（４−ジフェニルアミノスチリル）ナフ
タレン、１−（４−ジエチルアミノスチリル）ナフタレ
ンなどがある。一般式（１５）で表される化合物には、
例えば、４’−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチル
ベン、４’−ビス（４−メチルフェニル）アミノ−α−
フェニルスチルベンなどがある。

【０１１９】一般式（１８）で表される化合物には、例
えば、１−フェニル−３−（４−ジエチルアミノスチリ
ル）−５−（４−ジエチルアミノフェニル）ピラゾリン
などがある。一般式（１９）で表される化合物には、例
えば、２、５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−
１，３，４−オキサジアゾール、２−Ｎ、Ｎ−ジフェニ
ルアミノ−５−（４−ジエチルアミノフェニル）−１，
３，４−オキサジアゾール、２−（４−ジメチルアミノ
フェニル）−５−（４−ジエチルアミノフェニル）−
１，３，４−オキサジアゾールなどがある。一般式（２
０）で表される化合物には、例えば、２−Ｎ、Ｎ−ジフ
ェニルアミノ−５−（Ｎ−エチルカルバゾール−３−イ
ル）−１，３，４−オキサジアゾール、２−（４−ジエ
チルアミノフェニル）−５−（Ｎ−エチルカルバゾール
−３−イル）−１，３，４−オキサジアゾールなどがあ
る。

【０１２０】一般式（２１）で表されるベンジジン化合
物には、例えば、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル− Ｎ，Ｎ’−
ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’−ビフェニ
ル］−４，４’−ジアミン、３，３’−ジメチル−Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−メチルフェニル）−
［１，１’−ビフェニル］−４，４’−ジアミンなどが
ある。また、一般式（２２）で表されるビフェニリルア
ミン化合物には、例えば、４’−メトキシ− Ｎ，Ｎ−
ジフェニル−［１，１’−ビフェニル］−４−アミン、
４’−メチル− Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）
−［１，１’−ビフェニル］−４−アミン、４’−メト
キシ− Ｎ，Ｎ−ビス（４−メチルフェニル）−［１，
１’−ビフェニル］−４−アミン、Ｎ，Ｎ−ビス（３，
４−ジメチルフェニル）−［１，１’−ビフェニル］−
４−アミンなどがある。また、

【０１２１】一般式（２３）で表されるトリアリールア
ミン化合物には、例えば、１−ジフェニルアミノピレ
ン、１−ジ（ｐ−トリルアミノ）ピレン、Ｎ，Ｎ−ジ
（ｐ−トリル）−１−ナフチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジ（ｐ
−トリル）−１−フェナントリルアミン、９，９−ジメ
チル−２−（ジ−ｐ−トリルアミノ）フルオレン、Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−メチルフェニル）−
フェナントレン−９，１０−ジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラキス（３−メチルフェニル）−ｍ−フェニ
レンジアミンなどがある。また、一般式（２４）で表さ
れるジオレフィン芳香族化合物には、例えば、１、４−
ビス（４−ジフェニルアミノスチリル）ベンゼン、１、
４−ビス［４−ジ（ｐ−トリル）アミノスチリル］ベン
ゼンなどがある。また、一般式（２６）で表されるスチ
リルピレン化合物には、例えば、１−（４−ジフェニル
アミノスチリル）ピレン、１− ［４−ジ（ｐ−トリ
ル）アミノスチリル］ピレンなどがある。

【０１２２】また高分子型正孔輸送材料としては例え
ば、ポリ−Ｎ−カルバゾール誘導体、ポリ−γ−カルバ
ゾリルエチルグルタメート誘導体、ピレン−ホルムアル
デヒド縮合物誘導体、ポリビニルピレン、ポリビニルフ
ェナントレン、オキサゾール誘導体、イミダゾール誘導
体、アセトフェノン誘導体（特開平７−３２５４０９号
公報に記載）、ジスチリルベンゼン誘導体、ジフェネチ
ルベンゼン誘導体（特開平９−１２７７１３号公報に記
載）、α−フェニルスチルベン誘導体（特開平９−２９
７４１９号公報に記載）、ブタジエン誘導体（特開平９
−８０７８３号公報に記載）、水素化ブタジエン（特開
平９−８０７８４号公報に記載）、ジフェニルシクロヘ
キサン誘導体（特開平９−８０７７２号公報に記載）、
ジスチリルトリフェニルアミン誘導体（特開平９−２２
２７４０号公報に記載）、ジフェニルジスチリルベンゼ
ン誘導体（特開平９−２６５１９７号、同９−２６５２
０１号公報に記載）、スチルベン誘導体（特開平９−２
１１８７７号公報に記載）、ｍ−フェニレンジアミン誘
導体（特開平９−３０４９５６号、同９−３０４９５７
号公報に記載）、レゾルシン誘導体（特開平９−３２９
９０７号公報に記載）、トリアリールアミン誘導体（特
開昭６４−９９６４号、特開平７−１９９５０３号、特
開平８−１７６２９３号、特開平８−２０８８２０号、
特開平８−２５３５６８号、特開平８−２６９４４６
号、特開平３−２２１５２２号、特開平４−１１６２７
号、特開平４−１８３７１９号、特開平４−１２４１６
３号、特開平４−３２０４２０号、特開平４−３１６５
４３号、特開平５−３１０９０４号、特開平７−５６３
７４号、特開平８−６２８６４号各公報、米国特許５，
４２８，０９０号、同５，４８６，４３９号各明細書）
などが挙げられる。

【０１２３】電荷輸送物質のうち、電子輸送物質として
は従来公知の電子輸送材料が使用される。例えば、クロ
ルアニル、ブロムアニル、テトラシアノエチレン、テト
ラシアノキノジメタン、２，４，７−トリニトロ−９−
フルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フ
ルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロキサント
ン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、２，６，
８−トリニトロ−インデノ４Ｈ−インデノ［１、２−
ｂ］チオフェン−４−オン、１，３，７−トリニトロジ
ベンゾチオフェン−５，５−ジオキサイドなどを挙げる
ことができ、さらに下記（２７）、（２８）、（２９）
式に挙げる電子輸送材料を好適に使用することができ
る。これらの電荷輸送材料は単独または２種類以上混合
して用いられる。

【０１２４】

【化４３】

【０１２５】

【化４４】

【０１２６】

【化４５】

【０１２７】電荷輸送材料の量はバインダー樹脂１重量
部に対し、０〜３重量部、好ましくは０〜１．５重量部
が適当である。電荷輸送層の塗工方法としては浸漬法、
スプレー塗工法、リングコート法、ロールコータ法、グ
ラビア塗工法、ノズルコート法、スクリーン印刷法等が
採用される。電荷輸送層４及び５の膜厚は２μｍ以上２
０μｍ以下が好ましい。また、電荷輸送層６の膜厚は
０．５〜１０μｍで好ましくは０．５〜５μｍである。
本発明において電荷輸送層は可塑剤やレベリング剤を添
加してもよい。可塑剤としては、ジブチルフタレート、
ジオクチルフタレートなど一般の樹脂の可塑剤として使
用されているものがそのまま使用でき、その使用量は、
バインダー樹脂に対して０〜３０重量％程度が適当であ
る。レベリング剤としては、ジメチルシリコーンオイ
ル、メチルフェニルシリコーンオイルなどのシリコーン
オイル類や、側鎖にパーフルオロアルキル基を有するポ
リマーあるいは、オリゴマーが使用され、その使用量は
バインダー樹脂に対して、０〜２重量％が適当である。

【０１２８】電荷発生層について 電荷発生材料としては、例えばセレン、セレン−テル
ル、硫化カドミウム、硫化カドミウム−セレン、α−シ
リコンなどの無機材料、有機材料としては例えばシーア
イピグメントブルー２５（カラーインデックスＣＩ２１
１８０）、シーアイピグメントレッド４１（ＣＩ２１２
００）、シーアイアシッドレッド５２（ＣＩ４５１０
０）、シーアイベーシックレッド３（ＣＩ４５２１
０）、カルバゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭５３
−９５０３３号公報に記載）、ジスチリルベンゼン骨格
を有するアゾ顔料（特開昭５３−１３３４４５号公
報）、トリフェニルアミン骨格を有するアゾ顔料（特開
昭５３−１３２３４７号公報に記載）、ジベンゾチオフ
ェン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−２１７２８号
公報に記載）、オキサジアゾール骨格を有するアゾ顔料
（特開昭５４−１２７４２号公報に記載）、フルオレノ
ン骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−２２８３４号公
報に記載）、ビススチルベン骨格を有するアゾ顔料（特
開昭５４−１７７３３号公報に記載）、ジスチリルオキ
サジアゾール骨格を有するアゾ顔料（特開昭５４−２１
２９号公報に記載）、ジスチリルカルバゾール骨格を有
するアゾ顔料（特開昭５４−１４９６７号公報に記載）
などのアゾ顔料、例えばシーアイピグメントブルー１６
（ＣＩ７４１００）などのフタロシアニン系顔料、例え
ばシーアイバットブラウン５（ＣＩ７３４１０）、シー
アイバットダイ（ＣＩ７３０３０）などのインジゴ系顔
料、アルゴスカーレットＢ（バイエル社製）、インダン
スレンスカーレットＲ（バイエル社製）などのペリレン
系顔料などが挙げられる。なお、これらの電荷発生材料
は単独で用いられても２種以上が併用されてもよい。

【０１２９】電荷発生層は、電荷発生材料と適当な溶媒
に、必要に応じてバインダー樹脂を加え溶解もしくは分
散し、塗布して乾燥させることにより設けることができ
る。バインダー樹脂としては、本件樹脂以外にも絶縁性
がよい、従来から知られているバインダー樹脂であれば
何でも使用でき特に限定はない。従来公知のバインダー
樹脂としては例えば、ポリエチレン、ポリビニルブチラ
ール、ポリビニルホルマール、フェノキシ樹脂、ポリプ
ロピレン、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、塩化ビニル
樹脂、酢酸ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹
脂、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹
脂、ポリアミド樹脂、シリコン樹脂、メラミン樹脂等の
付加重合型樹脂、重付加型樹脂、重縮合型樹脂、ならび
にこれらの樹脂の繰り返し単位のうち２つ以上を含む共
重合体樹脂、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、
スチレン−アクリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル
−無水マレイン酸共重合体樹脂等の絶縁性樹脂のほか、
ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール等の高分子有機半導体が
挙げられる。これらのバインダーは単独または２種類以
上の混合物として用いることが出来る。バインダー樹脂
の量は、電荷発生材料１重量部に対し０〜５重量部、好
ましくは０．１〜３重量部が適当である。

【０１３０】電荷発生層の分散液或いは溶液を調整する
際に使用する溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル
ホルムアミド、トルエン、キシレン、モノクロルベンゼ
ン、１，２−ジクロルエタン、１，１，１−トリクロル
エタン、ジクロルメタン、１，１，２−トリクロルエタ
ン、トリクロルエチレン、テトラヒドロフラン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサ
ノン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジオキサン等を挙げる
ことができる。

【０１３１】電荷発生層用分散液の分散方法としては、
例えば、ボールミル、超音波、ホモミキサー等が挙げら
れ、また塗布手段としては、ディッピング塗工法、ブレ
ード塗工法、スプレー塗工法等が挙げられる。電荷発生
材料を分散し、感光層を形成する場合、層中への分散性
を良くするために、その電荷発生材料は２μｍ以下、好
ましくは１μｍ以下の平均粒径のものが好ましい。ただ
し、上記の粒径があまりに小さいとかえって凝集しやす
く、層の抵抗が上昇したり、結晶欠陥が増えて感度及び
繰り返し特性が低下したり、或いは微細化する上で限界
があるから、平均粒径の下限を０．０１μｍとするのが
好ましい。電荷発生層の膜厚は、０．０１〜５μｍ程度
が適当であり、好ましくは０．１〜２μｍである。さら
に上記感光層中には、帯電性の向上等を目的に、フェノ
ール化合物、ハイドロキノン化合物、ヒンダードフェノ
ール化合物、ヒンダードアミン化合物、ヒンダードアミ
ンとヒンダードフェノールが、同一分子中に存在する化
合物などを添加することが出来る。

【０１３２】導電性支持体について 本発明の感光体製造において導電性支持体には以下のも
のが使用することができる。すなわち体積抵抗１０^１０
Ω以下の導電性を示すもの、例えばアルミニウム、ニッ
ケル、チタン、クロム、ニクロム、銅、銀、金、白金、
鉄などの金属、また酸化スズ、酸化インジウムなどの酸
化物を蒸着またはスパッタリングによりフィルム状もし
くは円筒状のプラスチック、紙等に被覆したもの、ある
いはアルミニウム、アルミニウム合金、ニッケル、ステ
ンレスなどの板およびそれらを押出し、引き抜きなどの
工法で素管化後、切削、超仕上げ、研磨などで表面処理
した管などが挙げられる。

【０１３３】中間層について 導電性支持体上に中間層を設けることができる。中間層
は導電性支持体と感光層との接着性を向上する、モワレ
などを防止する、上層の塗工性を改良する、残留電位を
低減するなどの目的で設けられる。中間層は一般に樹脂
を主成分とするが、これらの樹脂はその上に感光層を溶
剤でもって塗布することを考えると、一般の有機溶剤に
対して耐溶解性の高い樹脂であることが望ましい。この
ような樹脂としては、ポリビニルアルコール、カゼイ
ン、ポリアクリル酸ナトリウム等の水溶性樹脂、共重合
ナイロン、メトキシメチル化ナイロン、等のアルコール
可溶性樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、アルキッド
−メラミン樹脂、エポキシ樹脂等、三次元網目構造を形
成する硬化型樹脂などが挙げられる。また、モアレ防
止、抵抗値の最適化等のために酸化チタン、シリカ、ア
ルミナ、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化インジウム
等で例示できる金属酸化物、あるいは金属硫化物、金属
窒化物などの微粉末を加えてもよい。これらの中間層
は、適当な溶媒、塗工法を用いて形成することができ
る。更にシランカップリング剤、チタンカップリング
剤、クロムカップリング剤等を使用することもできる。

【０１３４】この他に本発明の中間層には Ａｌ_２Ｏ_３
を陽極酸化にて設けたものや、ポリパラキシリレン（パ
リレン）等の有機物や、ＳｉＯ，ＳＮＯ_２，ＴｉＯ_２，
ＩＴＯ，ＣｅＯ_２等の無機物を真空薄膜作製法にて設け
たものも良好に使用できる。中間層の膜厚は０〜５μｍ
が適当である。

【０１３５】酸化防止剤について 本発明の感光体においては、化学的耐久性の更なる向上
の目的で、とりわけ感度低下、残留電位の上昇を防止す
る目的で、酸化防止剤を添加することができる。酸化防
止剤は、有機物を含む層ならばいずれに添加してもよい
が、電荷輸送材料を含む層に添加すると良好な結果を得
ることができる。酸化防止剤にはその機能、作用から連
鎖反応開始阻害剤、ラジカル連鎖反応禁止剤及び過酸化
物分解剤に分類される。

【０１３６】連鎖反応開始阻害剤としてはフェニルサリ
チレート、モノグリコールサリチレート、２−ヒドロキ
シ−４−メトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロ
キシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、レ
ゾルシノールモノベンゾエート、Ｎ−サリシロイル−
Ｎ’−アルデヒドヒドラジン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルオ
キサミド、６−エトキシ−２，２，４−トリメチル−
１，２−ジヒドロキノリン、Ｎ−フェニル−Ｎ’−イソ
プロピル−ｐ−フェニレンジアミンなどが挙げられる。
またラジカル連鎖反応禁止剤としては、２，６−ジ−ｔ
−ブチル−ｐ−クレゾ−ル、２，６−ジ−ｔ−ブチルフ
ェノール、ブチル化ヒドロキシアニソ−ル、２，６−ジ
−ｔ−ブチル−４−エチルフェノ−ル、ステアリル−β
−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニ
ル）プロピオネ−ト、２，２’−メチレン−ビス−（４
−メチル−６−ｔ−ブチルフェノ−ル）、２，２’−メ
チレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノ−
ル）、４，４’−チオビス−（３−メチル−６−ｔ−ブ
チルフェノ−ル）、４，４’−ブチリデンビス−（３−
メチル−６−ｔ−ブチルフェノ−ル）、１，１，３−ト
リス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチル
フェニル）ブタン、１，３，５−トリメチル−２，４，
６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）ベンゼン、テトラキス−［メチレン−３−
（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェ
ニル）プロピオネ−ト］メタン、ビス［３，３’−ビス
（４’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチルフェニル）ブチ
リックアッシド］クリコ−ルエステル、トコフェロ−ル
類、２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン、２，６
−ジドデシルハイドロキノン、２−ドデシルハイドロキ
ノン、２−ドデシル−５−クロロハイドロキノン、２−
ｔ−オクチル−５−メチルハイドロキノン、２−（２−
オクタデセニル）−５−メチルハイドロキノン、フェニ
ル−β−ナフチルアミン、α−ナフチルアミン、フェノ
チアジン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジア
ミンなどが挙げられる。過酸化物分解剤としてはジラウ
リル−３，３’−チオジプロピオネ−ト、ジステアリル
−３，３’−チオジプロピオネ−ト、ジテトラデシル−
３，３’−チオジプロピオネ−ト、ラウリルステアリル
チオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネ
ート、２−メルカプトベンゾイミダゾール、トリフェニ
ルホスフィン、トリ（ノニルフェニル）ホスフィン、ト
リ（ジノニルフェニル）ホスフィン、トリクレジルホス
フィン、トリ（２，４−ジブチルフェノキシ）ホスフィ
ン、トリデシルホスフィン、トリオクタデシルホスフィ
ンなどが挙げられる。

【０１３７】これらの化合物は、ゴム、プラスチック、
油脂類などの酸化防止剤として知られており、酸化防止
剤ハンドブック（大成社）にその詳細が記載されてい
る。また市販品を容易に入手できる。本発明における酸
化防止剤の添加量は、電荷輸送材料１００重量部に対し
て０．０５〜１００重量部、好ましくは０．１〜３０重
量部である。

【０１３８】画像形成方法及び装置並びにプロセスカー
トリッジについて 本発明は次に、上記の電子写真感光体を用い、帯電、像
露光及び転写を行うことを特徴とする画像形成方法を提
供する。そしてまた、上記の電子写真感光体を有すると
共に、帯電手段、像露光手段及び転写手段を備えたこと
を特徴とする画像形成装置を提供する。さらに上記の電
子写真感光体と帯電手段、像露光手段、現像手段、転写
手段及クリーニング手段から選ばれた少なくとも一つの
手段とを一体的に形成し、画像形成装置本体に着脱自在
としたことを特徴とする画像形成装置用プロセスカート
リッジを提供する。以下図面に基づいて、この画像形成
方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカート
リッジについて説明する。

【０１３９】図４は、本発明の画像形成装置の概略図で
ある。感光体１はドラム状の形状を示しているが、シー
ト状、エンドレスベルト状のものであっても良い。帯電
チャージャ３、転写前チャージャ７、転写チャージャ１
０、分離チャージャ１１、クリーニング前チャージャ１
３には、コロトロン、スコロトロン、固体帯電器（ソリ
ッド・ステート・チャージャ）、帯電ローラを始めとす
る公知の手段が用いられる。

【０１４０】転写手段には、一般に上記の帯電器が使用
できるが、図に示されるように転写チャージャと分離チ
ャージャを併用したものが効果的である。画像露光部５
と除電ランプ２等の光源には、蛍光灯、タングステンラ
ンプ、ハロゲンランプ、水銀灯、ナトリウム灯、ＬＥ
Ｄ、ＬＤ、エレクトロルミネッセンス素子（ＥＬ）など
の発光物全般を用いることができる。

【０１４１】特に高解像度を得るためには画像露光部５
に４００〜４５０Ｎｍの範囲に発振波長を有するＬＤも
しくはＬＥＤが用いられる。これらの光源は光強度波長
分布が極めて狭いものではあるが、温度環境、製造ロッ
ト等によって発振ピーク波長が数Ｎｍ波長ほど長波長も
しくは短波長側に波長変動するため、電子写真感光体の
電荷輸送層は３９０〜４６０Ｎｍの範囲の光を充分透過
させるものであることが好ましい。この場合、照射光の
透過率が５０％以上であることが好ましく、より好まし
くは９０％以上である。

【０１４２】そして、所望の波長域の光のみを照射する
ために、シャープカットフィルター、バンドパスフィル
ター、近赤外カットフィルター、ダイクロイックフィル
ター、干渉フィルター、色温度変換フィルターなどの各
種フィルターを用いることもできる。この時像露光部、
書込光源のビーム系は１２００〜２４００ｄｐｉ相当の
高解像度を達成するためには１０〜３０μｍであること
が好ましい。かかる光源等は、図４に示される工程の他
に光照射を併用した転写工程、除電工程、クリーニング
工程、あるいは前露光などの工程を設けることにより、
感光体に光が照射される。

【０１４３】現像ユニット６により感光体１上に現像さ
れたトナーは、転写紙９に転写されるが、全部が転写さ
れるわけではなく、感光体１上に残存するトナーも生ず
る。このようなトナーは、ファーブラシ１４およびクリ
ーニングブレード１５により、感光体より除去される。
クリーニングは、クリーニングブラシだけで行なわれる
こともあり、クリーニングブラシにはファーブラシ、マ
グファーブラシを始めとする公知のものが用いられる。

【０１４４】電子写真感光体に正（負）帯電を施し、画
像露光を行なうと、感光体表面上には正（負）の静電潜
像が形成される。これを負（正）極性のトナー（検電微
粒子）で現像すれば、ポジ画像が得られるし、また正
（負）極性のトナーで現像すれば、ネガ画像が得られ
る。かかる現像手段には、公知の方法が適用されるし、
また、除電手段にも公知の方法が用いられる。

【０１４５】図５は、本発明の他の画像形成装置の概略
図である。感光体２１は本発明の感光体であり、駆動ロ
ーラ２２ａ，２２ｂにより駆動され、帯電チャージャ２
３による帯電、像露光源２４による像露光、現像（図示
せず）、転写チャージャ２５を用いる転写、光源２６に
よるクリーニング前露光、クリーニングブラシ２７によ
るクリーニング、除電光源２８による除電が繰返し行な
われる。第５図においては、感光体２１（勿論この場合
は支持体が透光性である）に支持体側よりクリーニング
前露光の光照射が行なわれる。

【０１４６】上記に図示した画像形成方法及び画像形成
装置は、本発明における実施様態を例示したものであっ
て、他の実施様態も可能である。例えば、図５において
は、支持体側よりクリーニング前露光を行っているが、
これは感光層側から行ってもよく、また、像露光、除電
光の照射を支持体側から行ってもよい。また、光照射工
程は、像露光、クリーニング前露光、除電露光が図示さ
れているが、他に転写前露光、像露光のプレ露光、およ
びその他公知の光照射工程を設けて、感光体に光照射を
行うこともできる。

【０１４７】このようにして行う画像形成手段は、複写
装置、ファクシミリ、プリンター内に固定して組み込ま
れていてもよいが、プロセスカートリッジの形態により
それら装置内に組み込まれてもよい。プロセスカートリ
ッジとは、感光体を内蔵し、他に帯電手段、露光手段、
現像手段、転写手段、クリーニング手段、除電手段を含
んだ１つの装置であり、また部品である。プロセスカー
トリッジの形状等については数多く挙げられるが、ここ
では、図６にその１例を示す。このプロセスカートリッ
ジは、本発明の電子写真感光体１６、帯電チャージャ１
７、クリーニングブラシ１８、画像露光部１９、現像ロ
ーラ２０からなるものである。

【０１４８】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明はこれら実施例によってなんら限定される
ものではない。なお下記実施例において部とあるのはす
べて重量部である。

【０１４９】＜実施例１＞中間層の形成 オイルフリーアルキッド樹脂 １．５部 （大日本インキ化学製：ヘ゛ッコライトM６４０１） メラミン樹脂 １部 （大日本インキ化学製：スーハ゜ーヘ゛ッカミンG− ８２１） 二酸化チタン ５部 （石原産業（株）製：タイペークＣＲ−ＥＬ） ２−ブタノン ２２．５部 上記成分の混合物をボールミルポットに取り、φ１０ｍ
ｍのアルミナボールを使用し、４８時間ボールミリング
して中間層塗工液を調製した。この塗工液をアルミニウ
ム・シリンダー上に塗工し、厚さ約４μｍの中間層を形
成した。

【０１５０】感光層の形成（単層） Ｙ型オキソチタニウムフタロシアニン顔料粉末 ０．５部 前記例示化合物（ｐ１）で表される樹脂 ０．９部 テトラヒドロフラン ８．１部 の混合物をボールミリングした後、これを顔料組成とし
て２重量％、同じく前記例示化合物（ｐ１）で表される
樹脂が５０重量％、電荷輸送材料としての下記構造式
（ａ）で示されるアミノビフェニル化合物が２８重量
％、１０重量％の同樹脂溶液を加え、十分に撹拌し感光
層塗工液を調製した。この塗工液を塗工後、乾燥後の膜
厚が１５μｍになるよう感光層を形成し、単層型電子写
真感光体ドラムを作成した。

【０１５１】

【化４６】

【０１５２】＜実施例２＞実施例１の例示化合物（ｐ
１）で表される樹脂を下記構造式（ｂ）で示されるポリ
カーボネート樹脂に変えた以外は実施例１と同様に操作
して感光体ドラムを作製した。

【０１５３】

【化４７】

【０１５４】＜実施例３＞実施例１と同様にアルミニウ
ム・シリンダー上に中間層を形成した。次に下記構造式
（ｃ）で示されるビスアゾ化合物７．５部およびポリエ
ステル樹脂［（株）東洋紡績製バイロン２００］２．５
部の０．５％テトラヒドロフラン溶液５００部をボール
ミル中で粉砕混合し、得られた分散液を前記中間層上に
塗工し、膜厚０．３μｍの電荷発生層を形成した。次に
電荷輸送材料として前記構造式（ａ）で示されるアミノ
ビフェニル化合物７部と前記例示化合物（ｐ６）で表さ
れる樹脂１０部をテトラヒドロフランに溶解し、この電
荷輸送層塗工液を前記電荷発生層上に塗工し、膜厚１５
μｍの電荷輸送層を形成し感光体ドラムを作成した。

【０１５５】

【化４８】

【０１５６】＜実施例４＞実施例３の例示化合物（ｐ
６）で表される樹脂を下記構造式（ｄ）で示されるポリ
アリレート樹脂に変えた以外は実施例３と同様に操作し
て感光体ドラムを作製した。

【０１５７】

【化４９】

【０１５８】＜実施例５＞実施例３と同様にアルミニウ
ム・シリンダー上に中間層、電荷発生層を順次形成し
た。次に、電荷輸送材料として下記構造式（ｅ）で示さ
れる電荷輸送材料７部とポリカーボネート樹脂［（株）
帝人製パンライトＣ−１４００］１０部をテトラヒドロ
フランに溶解した。この第一電荷輸送層塗工液を前記電
荷発生層上に塗工し、厚さ１５μｍの第一電荷輸送層を
形成した。次に、下記構造式（ｅ）で示される電荷輸送
材料３部とポリカーボネート樹脂［（株）帝人製パンラ
イトＣ−１４００］４部とパーフルオロアルキルアクリ
レート樹脂（ダイキン工業（株）製ユニダインＴＧ−６
５６）１部、ＴＨＦ４０部及びシクロヘキサノン１４０
部の第二電荷輸送層塗工液を第一電荷輸送層上に塗工
し、厚さ３μｍの第二電荷輸送層を形成し感光体ドラム
を作成した。

【０１５９】

【化５０】

【０１６０】＜実施例６＞実施例５の第二電荷輸送層塗
工液に用いられたポリカーボネート樹脂とパーフルオロ
アルキルアクリレート樹脂を下記構造式（ｆ）で示され
るポリカーボネート樹脂に変えた以外は実施例５と同様
に操作して感光体ドラムを作製した。

【０１６１】

【化５１】

【０１６２】＜実施例７＞実施例１と同様にアルミニウ
ム・シリンダー上に中間層を形成した。次にＹ型オキソ
チタニウムフタロシアニン１．５部およびポリエステル
樹脂［（株）東洋紡績製バイロン２００］１部の０．５
％ジクロロメタン溶液５００部をボールミル中で粉砕混
合し、得られた分散液を前記中間層上に塗工し、膜厚
０．２μｍの電荷発生層を形成した。次に、電荷輸送材
料として下記構造式（ｇ）で示されるアミノビフェニル
化合物７部とポリカーボネート樹脂（帝人化成社製：ｐ
ＣＸ−５）１０部をテトラヒドロフランに溶解し、この
第一電荷輸送層塗工液を前記電荷発生層上に塗工し、厚
さ１２μｍの第一電荷輸送層を形成した。次に下記構造
式（ｇ）で示される電荷輸送材料３部、前記例示化合物
（ｐ１）で表される樹脂５部、フィラーとして酸化チタ
ン微粒子（石原産業社製ＣＲ９７）２部、ＴＨＦ４０部
及びシクロヘキサノン１４０部の第二電荷輸送層塗工液
を第一電荷輸送層上に塗工し、厚さ５μｍの第二電荷輸
送層を形成し、感光体ドラムを作成した。

【０１６３】

【化５２】

【０１６４】＜実施例８＞実施例７の第二電荷輸送層塗
工液に用いられたバインダー樹脂を下記構造式（ｈ）で
示されるポリカーボネート樹脂に変えた以外は実施例７
と同様に操作して感光体ドラムを作製した。

【０１６５】

【化５３】

【０１６６】＜実施例９＞実施例７の第二電荷輸送層塗
工液に用いられたバインダー樹脂をポリカーボネート樹
脂（帝人化成社製：ｐＣＸ−５）に変えた以外は実施例
７と同様に操作して感光体ドラムを作製した。

【０１６７】＜比較例１＞実施例１の感光層塗工液に用
いられた例示化合物（ｐ１）で表される樹脂をポリカー
ボネート樹脂（（株）帝人製パンライトＣ−１４００）
に変えた以外は実施例１と同様に操作して感光体ドラム
を作製した。

【０１６８】＜比較例２＞実施例３の電荷輸送層塗工液
に用いられた例示化合物（ｐ６）で表される樹脂をポリ
カーボネート樹脂（（株）帝人製パンライトＣ−１４０
０）に変えた以外は実施例３と同様に操作して感光体ド
ラムを作製した。

【０１６９】＜比較例３＞電荷輸送層の膜厚を３０μｍ
に形成した以外は実施例３と同様に操作して感光体ドラ
ムを作製した。

【０１７０】＜比較例４＞実施例６の第二電荷輸送層塗
工液に用いられた前記構造式（ｆ）で表されるポリカー
ボネート樹脂をポリカーボネート樹脂（出光興産（株）
製タフゼットＧ−７００）に変えた以外は実施例６と同
様に操作して感光体ドラムを作製した。

【０１７１】＜比較例５＞実施例７の第二電荷輸送層塗
工液に用いられた前記例示化合物（ｐ１）で表される樹
脂をポリカーボネート樹脂（（株）帝人製パンライトＣ
−１４００）に変えた以外は実施例７と同様に操作して
感光体ドラムを作製した。

【０１７２】実施例１〜９、比較例１〜５についての評
価 上記実施例１〜９、および比較例１〜５で作製した電子
写真感光体ドラムを第５図に示した電子写真プロセスに
装着し（ただし、画像露光光源を７８０Ｎｍに発光を持
つＬＤとした（ポリゴン・ミラーによる画像書き込
み））、また、現像直前の感光体の表面電位が測定でき
るように表面電位計のプローブを挿入した。連続して五
千枚の印刷を行い、その時の画像露光部と画像非露光部
の表面電位を初期と五千枚後に測定した。結果を表１に
示す。

【０１７３】また感光体表面の純水に対する接触角を初
期と五千枚の印刷後に測定した。五千枚印刷後のドラム
の膜厚を測定し、初期との差から減耗膜厚を算出した。
さらに実施例１〜９、および比較例１〜５の電子写真感
光体、帯電手段として帯電ローラ、像露光手段として光
源に発振波長４０５Ｎｍの半導体レーザを搭載しビーム
系をアパーチャーで調節できる光学系、現像手段として
２成分の現像ユニット及びパターンジェネレーターを取
り付けた作像実験機により３０μｍのビーム系で得られ
る孤立ドットを感光体上に形成させ、それを接着テープ
に転写させ、ＣＣＤカメラにより読み取り、画像解析し
た。感光体の初期帯電電位は６００Ｖで行い、トナーは
平均粒径６μｍ磁性トナーを使用した。孤立ドットの形
状を目視により評価した。これら一連の評価結果を表２
に示す。

【０１７４】

【表１】

【０１７５】

【表２】

【０１７６】表１及び２から本発明の感光体は、比較例
の感光体に比べ、繰り返し使用においても電位変動のな
い電子写真感光体であることが分かる。さらに表２から
本発明の電子写真感光体は、印刷後も高い水接触角を維
持していること、感光体の膜厚減少が同一層構成の比較
例の感光体に比べ小さいことから、低表面エネルギー状
態が持続されていることが分かる。さらに実施例の感光
体は全ての場合において、良好なドット形成、再現性を
示す。

【０１７７】＜実施例１０、１１、１２＞及び＜比較例
６、７＞導電性支持体をアルミニウムシリンダ−から電
鋳ニッケル・ベルトに変えて、この上に実施例４で用い
た中間層塗工液、電荷発生層塗工液、および電荷輸送層
塗工液を、順次塗布・乾燥し、実施例４と同様の積層感
光体を作製した（実施例１０の感光体）。また感光層塗
工液を実施例５もしくは９、比較例２もしくは５のもの
に代えた以外は実施例１０と同様に操作してそれぞれ実
施例１１、１２および比較例６、７の感光体を作製し
た。このようにして作製した電子写真感光体ベルトを第
５図に示す電子写真プロセス（ただし、クリーニング前
露光は無し）に装着し、画像露光光源を６５５Ｎｍの半
導体レーザー（ポリゴン・ミラーによる画像書き込み）
として、現像直前の感光体の表面電位が測定できるよう
に表面電位計のプローブを挿入した。連続して八千枚の
印刷を行い、その時の画像露光部と画像非露光部の表面
電位を初期と八千枚後に測定した。結果を表３に示す。

【０１７８】

【表３】

【０１７９】＜実施例１３、１４＞及び＜比較例８、９
＞アルミニウムシリンダ−表面を陽極酸化処理した後封
孔処理をおこなった。この上に実施例３で用いた中間層
塗工液、電荷発生層塗工液、電荷輸送層塗工液を、順次
塗布、乾燥し、実施例３と同様の積層感光体ドラムを作
製した（実施例１３の感光体）。また感光層塗工液を実
施例８及び比較例２もしくは５のものに代えた以外は実
施例１３と同様に操作してそれぞれ実施例１４および比
較例８、９の感光体を作製した。

【０１８０】このようにしてなる電子写真感光体を第６
図に示す電子写真用プロセスカートリッジに装着した
後、画像形成装置に搭載した。ただし、画像露光光源を
発振波長４０５Ｎｍ の半導体レーザー（ポリゴン・ミ
ラーによる画像書き込み） として、現像直前の感光体
の表面電位が測定できるように表面電位計のプローブを
挿入した。連続して一万枚の印刷を行い、その時の画像
露光部と画像非露光部の表面電位を初期と一万枚後に測
定した。結果を表４に示す。

【０１８１】

【表４】

【０１８２】表３及び４から本発明の感光体は、比較例
の感光体に比べ、繰り返し使用においても電位変動のな
い電子写真感光体であることが分かる。さらに表４から
本発明の電子写真感光体は、４００〜４５０Ｎｍの範囲
に発振波長を有するＬＤ，ＬＥＤ書込光源を用いた場合
にも適用される。そして本発明の電子写真感光体を用い
た電子写真方法、電子写真感光体を有する電子写真装置
及びこの電子写真装置に用いるプロセスカートリッジが
提供される。

【０１８３】

【発明の効果】本発明によれば、高解像度であり、かつ
表面エネルギーも低くその効果が長期にわたって持続さ
れることで、優れた画質を長期にわたって維持し、繰り
返し使用しても電位変動のない、機械的かつ化学的耐久
性を有する電子写真感光体、この電子写真感光体を用い
た画像形成方法、この電子写真感光体を有する画像形成
装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジが提供さ
れる。そして本発明は電子写真プリンター、電子写真複
写機等の電子写真プロセスに使用される機械、機器等の
設計、製作分野において多大の寄与をなすものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の感光体の層構造を示す図

【図２】本発明の感光体の他の層構造を示す図

【図３】本発明の感光体の他の層構造を示す図

【図４】本発明の画像形成装置の概略図

【図５】本発明の他の画像形成装置の概略図

【図６】本発明のプロセスカートリッジの概略図

【符号の説明】

１、２１ 感光体 ２ 除電ランプ ３、１７、２３ 帯電チャージャ ５ 画像露光部 ６ 現像ユニット ７ 転写前チャージャ ９ 転写紙 １０、２５ 転写チャージャ １１ 分離チャージャ １３ クリーニング前チャージャ １４ ファーブラシ １５ クリーニングブレード １６ 電子写真感光体 １８、２７ クリーニングブラシ １９ 画像露光部 ２０ 現像ローラ ２２ａ 駆動ローラ ２２ｂ 駆動ローラ ２４ 像露光源 ２６ クリーニング前露光源

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 島田 知幸 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 (72)発明者 南場 通彦 東京都大田区中馬込１丁目３番６号 株式 会社リコー内 Ｆターム(参考） 2H068 AA13 AA14 AA28 AA35 AA37 AA39 BB04 BB23 BB25 BB31 BB33 BB40 BB61 CA02 CA06 CA22 CA33 CA37 CA40 CA60 FA27 FB07 FB08

Claims (16)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 導電性支持体上に感光層を設けた電子写
   真感光体において、該感光層の最表面から支持体側へ１
   ±０．３μｍ離れた位置における感光層の純水に対する
   接触角が８５゜以上であり、かつ感光層の膜厚が４μｍ
   以上２４μｍ以下であることを特徴とする電子写真感光
   体。
2. 【請求項２】 感光層が少なくともケイ素またはフッ素
   原子を有するバインダー樹脂を含有することを特徴とす
   る請求項１記載の電子写真感光体。
3. 【請求項３】 感光層が少なくとも下記一般式（１）で
   表される構成単位を有するポリウレタン樹脂、ポリエス
   テル樹脂又はポリカーボネート樹脂からなることを特徴
   とする請求項１記載の電子写真感光体。 【化１】 〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２はハロゲン原子、炭素数１〜６の無
   置換もしくは置換のアルキル基、炭素数１〜６の無置換
   もしくは置換のアルコキシ基、又は無置換もしくは置換
   のアリール基を示し（Ｒ^１、Ｒ^２が各々複数個存在する
   ときは同一であっても別異であってもよい）、Ｒ^３は炭
   素数１〜６の無置換もしくは置換のアルキル基、又は下
   記一般式（２） −（ＣＨ_２）_ＮＣＨ_３ （２） ［式中、Ｎは８〜２７の整数を表す。］で表されるアル
   キル基を示し、ａ、ｂは各々０〜４の整数を示し、Ｎは
   ８〜２７の整数を示す。〕
4. 【請求項４】 導電性支持体上に少なくとも電荷発生
   層、電荷輸送層を順次設けた積層型電子写真感光体にお
   いて、該電荷輸送層の最表面から支持体側へ１±０．３
   μｍ以上離れた位置における感光層の純水に対する接触
   角が８５゜以上であり、かつ電荷輸送層の膜厚が２μｍ
   以上２０μｍ以下であることを特徴とする電子写真感光
   体。
5. 【請求項５】 電荷輸送層が少なくとも電荷輸送材料と
   ケイ素またはフッ素原子を有するバインダー樹脂を含有
   することを特徴とする請求項４記載の電子写真感光体。
6. 【請求項６】 電荷輸送層が少なくとも電荷輸送材料と
   上記一般式（１）で表される構成単位を有するポリウレ
   タン樹脂、ポリエステル樹脂又はポリカーボネート樹脂
   からなることを特徴とする請求項４記載の電子写真感光
   体。
7. 【請求項７】 電荷輸送層が少なくとも電荷輸送材料か
   らなる層の上に、少なくともケイ素またはフッ素原子を
   有するバインダー樹脂からなる層を順次設けた積層構造
   で構成されることを特徴とする請求項４記載の電子写真
   感光体。
8. 【請求項８】 電荷輸送層が少なくとも電荷輸送材料か
   らなる層の上に、少なくとも上記一般式（１）で表され
   る構成単位を有するポリウレタン樹脂、ポリエステル樹
   脂又はポリカーボネート樹脂からなる層を順次設けた積
   層構造で構成されることを特徴とする請求項４記載の電
   子写真感光体。
9. 【請求項９】 電荷輸送層が少なくとも電荷輸送材料か
   らなる層の上に、少なくともケイ素またはフッ素原子を
   有するバインダー樹脂及びフィラーからなる層を順次設
   けた積層構造で構成されることを特徴とする請求項４記
   載の電子写真感光体。
10. 【請求項１０】 電荷輸送層が少なくとも電荷輸送材料
    からなる層の上に、少なくとも上記一般式（１）で表さ
    れる構成単位を有するポリウレタン樹脂、ポリエステル
    樹脂又はポリカーボネート樹脂及びフィラーからなる層
    を順次設けた積層構造で構成されることを特徴とする請
    求項４記載の電子写真感光体。
11. 【請求項１１】 フィラーが酸化チタン、酸化スズ、酸
    化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、窒化ケイ
    素、酸化カルシウム、硫酸バリウム、シリカ、コロイダ
    ルシリカ、アルミナ、カーボンブラック、フッ素系樹脂
    微粉末、ポリシロキサン系樹脂微粉末、ポリエチレン系
    樹脂微粉末、コア−シェル構造を有するグラフト共重合
    体から選ばれた少なくとも１種であることを特徴とする
    請求項９または１０記載の電子写真感光体。
12. 【請求項１２】 電子写真感光体の表面における純水に
    対する接触角が８５゜以上であることを特徴とする請求
    項１〜１１のいずれかに記載の電子写真感光体。
13. 【請求項１３】 請求項１〜１２のいずれかに記載の電
    子写真感光体を用いて、帯電、像露光、現像及び転写を
    行うことを特徴とする画像形成方法。
14. 【請求項１４】 請求項１〜１２のいずれかに記載の電
    子写真感光体を有すると共に、帯電手段、像露光手段、
    現像手段及び転写手段を備えたことを特徴とする画像形
    成装置。
15. 【請求項１５】 像露光手段における書込光源の波長が
    ４００〜４５０Ｎｍの範囲に発振波長を有する半導体レ
    ーザーもしくは発光ダイオードであることを特徴とする
    請求項１４記載の画像形成装置。
16. 【請求項１６】 請求項１〜１２のいずれかに記載の電
    子写真感光体と、帯電手段、像露光手段、現像手段及び
    転写手段及びクリーニング手段から選ばれた少なくとも
    一つの手段とを一体的に形成し、画像形成装置本体に着
    脱自在としたことを特徴とする画像形成装置用プロセス
    カートリッジ。