JP2002265393A - ベンゼン誘導体の製造方法 - Google Patents
ベンゼン誘導体の製造方法Info
- Publication number
- JP2002265393A JP2002265393A JP2001071475A JP2001071475A JP2002265393A JP 2002265393 A JP2002265393 A JP 2002265393A JP 2001071475 A JP2001071475 A JP 2001071475A JP 2001071475 A JP2001071475 A JP 2001071475A JP 2002265393 A JP2002265393 A JP 2002265393A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- substituent
- represented
- following formula
- mol
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
便な反応で得ること。 【解決手段】 リチウム金属存在下、下記式(II)で示さ
れるチタナシクロペンタジエンと、下記式(III)で示さ
れるアルキンとを反応させ、下記式(I)で示されるベン
ゼン誘導体を製造する。 【化1】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5、R6は、水素原子;
炭化水素基等、L1及びL2は、シクロペンタジエニル基
等を示す。)
Description
製造方法に関する。
ベンゼンに置換基を導入する際には、置換基による配向
性の相違を利用して、目標化合物ごとに最適な合成スキ
ームを検討することが求められていた。たとえば、オル
ト、パラ配向性、又は、メタ配向性という置換基に依存
する配向性の相違を考慮し、二置換ベンゼン、三置換ベ
ンゼン等を合成していた。また、従来、コバルト、ニッ
ケル、パラジウム等の遷移金属を触媒として用いてベン
ゼン誘導体を合成する方法は数多く知られている。
法では、ベンゼンに導入する置換基が多くなればなるほ
ど、合成経路が長くなり、収率が低下した。
多置換ベンゼンを高収率で選択的、かつ、簡便な反応で
得ることが所望された。
規な反応により、ベンゼン誘導体の製造方法を提供する
ことを目的とする。
下記式(I)で示されるベンゼン誘導体の製造方法であ
って
れ、互いに独立し、同一または異なって、水素原子;置
換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基
を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を
有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基
を有していてもよいアミノ基;置換基を有していてもよ
いシリル基、又は水酸基であり、ただし、R2及びR
3は、互いに架橋してC4〜C20飽和環又は不飽和環を形
成してもよく、前記環は、酸素原子、硫黄原子、珪素原
子、スズ原子、ゲルマニウム原子又は式−N(R7)−
で示される基(式中、R7は水素原子又はC1〜C20炭化
水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換
基を有していてもよい。)、リチウム金属存在下、下記
式(II)で示されるチタナシクロペンタジエンと
る。L1及びL2は、互いに独立し、同一又は異なって、
非局在化環状η5−配位系配位子を示し、ただし、L1及
びL2は、架橋されていてもよい。)、下記式(II
I)で示されるアルキンと
せることを特徴とするベンゼン誘導体の製造方法が提供
される。
(I)で示されるベンゼン誘導体の製造方法であって
れ、互いに独立し、同一または異なって、水素原子;置
換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基
を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を
有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基
を有していてもよいアミノ基;置換基を有していてもよ
いシリル基、又は水酸基である。)、リチウム金属、及
び下記式(V)で示されるチタン化合物存在下
て、非局在化環状η5−配位系配位子を示し、ただし、
L1及びL2は、架橋されていてもよい。X1及びX2は、
互いに独立し、同一又は異なって、ハロゲン原子を示
す。)、下記式(IVa)、(IVb)及び(IVc)
で示されるアルキンを
味を有する。)反応させることを特徴とするベンゼン誘
導体の製造方法が提供される。
(I’)で示されるベンゼン誘導体の製造方法であって
立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有して
いてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していて
もよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していても
よいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していて
もよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基、
又は水酸基であり、Aは、置換基を有してもよい2価の
C4〜C10炭化水素基であり、酸素原子、硫黄原子、又
は式−N(R7)−で示される基(式中、R7は水素原子
又はC1〜C40炭化水素基である。)で中断されていて
もよく、かつ、置換基を有していてもよい。)、リチウ
ム金属、及び下記式(V)で示されるチタン化合物存在
下
て、非局在化環状η5−配位系配位子を示し、ただし、
L1及びL2は、架橋されていてもよい。X1及びX2は、
互いに独立し、同一又は異なって、ハロゲン原子を示
す。)、下記式(III)で示されるアルキンと
式(VI)で示されるアルキンと
反応させることを特徴とするベンゼン誘導体の製造方法
が提供される。
(I)で示されるベンゼン誘導体の製造方法であって、
リチウム金属存在下、下記式(II)で示されるチタナ
シクロペンタジエンと、下記式(III)で示されるア
ルキンとを反応させることを特徴とするベンゼン誘導体
の製造方法が提供される。
2は、上記の意味を有する。) R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、それぞれ、互いに
独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有し
ていてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有してい
てもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していて
もよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有してい
てもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル
基、又は水酸基である。
飽和若しくは不飽和の非環式であってもよいし、飽和若
しくは不飽和の環式であってもよい。C1〜C20炭化水
素基が非環式の場合には、線状でもよいし、枝分かれで
もよい。C1〜C20炭化水素基には、C1〜C20アルキル
基、C2〜C20アルケニル基、C2〜C20アルキニル基、
C3〜C20アリル基、C4〜C20アルキルジエニル基、C
4〜C20ポリエニル基、C6〜C18アリール基、C6〜C
20アルキルアリール基、C6〜C20アリールアルキル
基、C4〜C20シクロアルキル基、C4〜C20シクロアル
ケニル基、(C 3〜C10シクロアルキル)C1〜C10アル
キル基などが含まれる。
ル基、C2〜C20アルキニル基、C3〜C20アリル基、C
4〜C20アルキルジエニル基、及び、C4〜C20ポリエニ
ル基は、それぞれ、C1〜C10アルキル基、C2〜C10ア
ルケニル基、C2〜C10アルキニル基、C3〜C10アリル
基、C4〜C10アルキルジエニル基、及び、C4〜C1 0ポ
リエニル基であることが好ましい。
アリール基、C6〜C20アリールアルキル基、C4〜C20
シクロアルキル基、及び、C4〜C20シクロアルケニル
基は、それぞれ、C6〜C10アリール基、C6〜C12アル
キルアリール基、C6〜C12アリールアルキル基、C4〜
C10シクロアルキル基、及び、C4〜C10シクロアルケ
ニル基であってもよい。
していてもよいアルキル基の例としては、制限するわけ
ではないが、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル、
t−ブチル、ドデカニル、トリフルオロメチル、ペルフ
ルオロ−n−ブチル、2,2,2−トリフルオロエチ
ル、ベンジル、2−フェノキシエチル等がある。
していてもよいアリール基の例としては、制限するわけ
ではないが、フェニル、2−トリル、3−トリル、4−
トリル、ナフチル、ビフェニル、4−フェノキシフェニ
ル、4−フルオロフェニル、3−カルボメトキシフェニ
ル、4−カルボメトキシフェニル等がある。
していてもよいアルコキシ基の例としては、制限するわ
けではないが、メトキシ、エトキシ、2−メトキシエト
キシ、t−ブトキシ等がある。
していてもよいアリールオキシ基の例としては、制限す
るわけではないが、フェノキシ、ナフトキシ、フェニル
フェノキシ、4−メチルフェノキシ、2−トリルオキ
シ、3−トリルオキシ、4−トリルオキシ、ナフチルオ
キシ、ビフェニルオキシ、4−フェノキシフェニルオキ
シ、4−フルオロフェニルオキシ、3−カルボメトキシ
フェニルオキシ、4−カルボメトキシフェニルオキシ等
がある。
シ基、C6〜C20アリールオキシ基、アミノ基、シリル
基には、置換基が導入されていてもよく、この置換基と
しては、例えば、C1〜C10炭化水素基、C1〜C10アル
コキシ基、C6〜C10アリールオキシ基、アミノ基、水
酸基又はシリル基などが挙げられる。
していてもよいアミノ基の例としては、制限するわけで
はないが、アミノ、ジメチルアミノ、メチルアミノ、メ
チルフェニルアミノ、フェニルアミノ等がある。
していてもよいシリル基としては、制限するわけではな
いが、トリメチルシリル、トリエチルシリル、トリメト
キシシリル、トリエトキシシリル、ジフェニルメチルシ
リル、トリフェニルシリル、トリフェノキシシリル、ジ
メチルメトキシシリル、ジメチルフェノキシシリル、メ
チルメトキシフェニル等がある。
4〜C20飽和環又は不飽和環を形成してもよい。これら
の置換基が形成する環は、4員環〜16員環であること
が好ましく、4員環〜12員環であることが更に好まし
い。この環は、ベンゼン環等の芳香族環あってもよい
し、脂肪族環であってもよい。また、これらの置換基が
形成する環に、更に単数又は複数の環が形成されていて
もよい。
硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子また
は式―N(R7)―で示される基(式中、R7は水素原子
またはC1〜C20炭化水素基である。)で中断されてい
てもよい。即ち、前記飽和環または不飽和環はヘテロ環
であってもよい。かつ、置換基を有していてもよい。不
飽和環は、ベンゼン環等の芳香族環であってもよい。
であることが好ましく、水素原子またはC1〜C7炭化水
素基であることが更に好ましく、R6は水素原子、C1〜
C3アルキル基、フェニル基またはベンジル基であるこ
とが更になお好ましい。
ていてもよく、たとえば、C1〜C2 0炭化水素基、C1〜
C20アルコキシ基、C6〜C20アリールオキシ基、アミ
ノ基、水酸基又はシリル基などの置換基が導入されてい
てもよい。
びR6のいずれかの組合せが同一の置換基であることが
好ましい。
の製造方法では、下記式(II)で示されるチタナシク
ロペンタジエンが用いられる。
る。) L1及びL2は、互いに独立し、同一又は異なって、非局
在化環状η5−配位系配位子を示す。非局在化環状η5−
配位系配位子の例は、無置換のシクロペンタジエニル
基、及び置換シクロペンタジエニル基である。
ば、メチルシクロペンタジエニル、エチルシクロペンタ
ジエニル、イソプロピルシクロペンタジエニル、n−ブ
チルシクロペンタジエニル、t−ブチルシクロペンタジ
エニル、ジメチルシクロペンタジエニル、ジエチルシク
ロペンタジエニル、ジイソプロピルシクロペンタジエニ
ル、ジ−t−ブチルシクロペンタジエニル、テトラメチ
ルシクロペンタジエニル、インデニル基、2−メチルイ
ンデニル基、2−メチル−4−フェニルインデニル基、
テトラヒドロインデニル基、ベンゾインデニル基、フル
オレニル基、ベンゾフルオレニル基、テトラヒドロフル
オレニル基、オクタヒドロフルオレニル基及びアズレニ
ル基である。非局在化環状η5−配位系配位子は、非局
在化環状π系の1個以上の原子がヘテロ原子に置換され
ていてもよい。水素の他に、周期表第14族の元素及び
/又は周期表第15、16及び17族の元素のような1
個以上のヘテロ原子を含むことができる。
ば、シクロペンタジエニル基は、中心金属と、環状であ
ってもよい、一つの又は複数の架橋配位子により架橋さ
れていてもよい。架橋配位子としては、例えば、C
H2、CH2CH2、CH(CH3)CH2、CH(C
4H9)C(CH3)2、C(CH3)2、(CH3)2Si、
(CH3) 2Ge、(CH3)2Sn、(C6H5)2Si、
(C6H5)(CH3)Si、(C6H 5)2Ge、(C
6H5)2Sn、(CH2)4Si、CH2Si(CH3)2、
o−C6H4又は2、2'−(C6H4)2が挙げられる。
ンタジエンは、二つ以上のメタロセン部分 (moiety)を
有する化合物も含む。このような化合物は多核メタロセ
ンとして知られている。前記多核メタロセンは、いかな
る置換様式及びいかなる架橋形態を有していてもよい。
前記多核メタロセンの独立したメタロセン部分は、各々
が同一種でも、異種でもよい。前記多核メタロセンの例
は、例えばEP−A−632063、特開平4−802
14号、特開平4−85310、EP−A−65447
6に記載されている。
の製造方法では、下記式(III)で示されるアルキン
が用いられる。
クロペンタジエン(II)1モルに対し、0.1モル〜
100モルであり、好ましくは0.5モル〜5モルであ
り、更に好ましくは0.9モル〜2モルであり、特に好
ましくは約1モルである。
の製造方法は、リチウム金属の存在下で行われる。
ジエン(II)1モルに対し、0.1モル〜10モルで
あり、好ましくは0.5モル〜5モルであり、更に好ま
しくは0.9モル〜5モルであり、特に好ましくは約1
モル〜約3モルである。
の製造方法としては、典型的には、上記式(II)で示
されるチタナシクロペンタジエンの溶液に、リチウム金
属、上記式(III)で示されるアルキンを添加し、攪
拌する。もっとも、リチウム金属と上記式(III)で
示されるアルキンを添加する順序には制限がない。リチ
ウム金属及びアルキン(III)を同時に添加してもよ
いし、アルキン(III)を添加した後に、リチウム金
属を添加してもよいし、リチウム金属を添加した後に、
アルキン(III)を添加してもよい。
の温度範囲で行われ、特に好ましくは−80℃〜200
℃の温度範囲、更に好ましくは−50℃〜100℃の温
度範囲で行われる。圧力は、例えば、0.1バール〜2
500バールの範囲内で、好ましくは0.5バール〜1
0バールの範囲内である。
チタナシクロペンタジエンを溶解することができる溶媒
が好ましい。溶媒は、脂肪族又は芳香族の有機溶媒が用
いられる。エーテル系溶媒、例えばテトラヒドロフラン
又はジエチルエーテル;塩化メチレンのようなハロゲン
化炭化水素;o−ジクロロベンゼンのようなハロゲン化
芳香族炭化水素;N,N−ジメチルホルムアミド等のア
ミド、ジメチルスルホキシド等のスルホキシド;ベンゼ
ン、トルエン等の芳香族炭化水素が用いられる。
ンタジエンは、ビスシクロペンタジエニルチタンジアル
キルのようなメタロセン1モルに、2モルのアルキン又
は1モルのジインを作用させることにより得ることがで
きる。チタナシクロペンタジエンの生成については、例
えば、T. Takahashi et al. J. Org. Chem. 1995, 60,
4444 に記載されており、これと同一又は近似した条件
で反応が進行する。上記式(II)で示されるチタナシ
クロペンタジエンは、単離される必要はなく、in situ
で更に金属化合物、アルキン(III)と反応させても
よい。
ける溶媒は、脂肪族又は芳香族の溶媒が用いられ、好ま
しくは、極性溶媒が用いられる。エーテル系溶媒、例え
ばテトラヒドロフラン又はジエチルエーテル;塩化メチ
レンのようなハロゲン化炭化水素;o−ジクロロベンゼ
ンのようなハロゲン化芳香族炭化水素;N,N−ジメチ
ルホルムアミド等のアミド、ジメチルスルホキシド等の
スルホキシドが用いられる。あるいは、芳香族の溶媒と
して、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水
素を用いてもよい。
0℃の温度範囲で行われ、特に好ましくは−80℃〜5
0℃の温度範囲で行われる。圧力は0.1バール〜25
00バールの範囲内で、好ましくは0.5バール〜10
バールの範囲内である。反応は継続的に又はバッチ式
で、一段階又はそれより多段階で、溶液中、懸濁液中、
気相中又は超臨界媒体中で行える。
タジエンは、例えば、下記のメタロセンを用いて合成す
ることができる。
ロロチタンなどのジクロロ体については、ナトリウム等
のアルカリ金属、マグネシウム等のアルカリ土類金属の
ような強塩基で還元するか、又は、ジアルキル体に変換
してから、チタナシクロペンタジエンを生成させる。
タン;(2−メチル−7−ナフチルインデニル)(2,
6−ジ−tert−ブチルフルオレニル)ジブチルチタ
ン;(インデニル)(2−ブテン−4−イルシクロペン
タジエニル)ジブチルチタン;ジメチルシランジイルビ
ス(インデニル)ジブチルチタン;ビス(シクロペンタ
ジエニル)エチルブチルチタン;(2−メチル−7−ナ
フチルインデニル)(2,6−ジ−tert−ブチルフ
ルオレニル)エチルブチルチタン;(インデニル)(2
−ブテン−4−イルシクロペンタジエニル)エチルブチ
ルチタン;ジメチルシランジイルビス(インデニル)エ
チルブチルチタン。
る。本発明の第2態様では、下記式(I)で示されるベ
ンゼン誘導体の製造方法であって、リチウム金属、及び
下記式(V)で示されるチタン化合物存在下、下記式
(IVa)、(IVb)及び(IVc)で示されるアル
キンを反応させることを特徴とするベンゼン誘導体の製
造方法が提供される。
1及びL2は、上記の意味を有する。) R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、それぞれ、互いに
独立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有し
ていてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有してい
てもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していて
もよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有してい
てもよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル
基、又は水酸基である。
ぞれ、C1〜C10アルキル基、C2〜C10アルケニル基、
C2〜C10アルキニル基、C3〜C10アリル基、C4〜C
10アルキルジエニル基、及び、C4〜C10ポリエニル基
であることが好ましい。
シ基、C6〜C20アリールオキシ基、アミノ基、シリル
基には、置換基が導入されていてもよく、この置換基と
しては、例えば、C1〜C10炭化水素基、C1〜C10アル
コキシ基、C6〜C10アリールオキシ基、アミノ基、水
酸基又はシリル基などが挙げられる。
の製造方法では、下記式(IVa)、(IVb)及び
(IVc)で示されるアルキンが用いられる。
味を有する。) 上記式(IVa)、(IVb)及び(IVc)で示され
るアルキンは、同一のアルキンであることが好ましい。
また、R1、R2、R3、R4、R5及びR6がいずれも同一
の置換基であることが好ましい。
誘導体の製造方法は、下記式(V)で示されるチタン化
合物の存在下で行われる。
在化環状η5−配位系配位子を示し、ただし、L1及びL
2は、架橋されていてもよい。なお、L1及びL2につい
ては、第1態様で説明した通りである。
なって、ハロゲン原子を示す。ハロゲン原子としては、
Cl、Br、F、Iを挙げることができ、特にClを好
ましく挙げることができる。
c)で示されるアルキンの量は、それぞれ、チタン化合
物(V)1モルに対し、0.1モル〜100モルであ
り、好ましくは0.5モル〜50モルであり、更に好ま
しくは1モル〜10モルであり、特に好ましくは約1モ
ル〜約3モルである。
の製造方法は、リチウム金属の存在下で行われる。
1モルに対し、0.1モル〜10モルであり、好ましく
は0.5モル〜8モルであり、更に好ましくは0.9モ
ル〜5モルであり、特に好ましくは約1モル〜約3モル
である。
の製造方法としては、典型的には、上記式(V)で示さ
れるチタン化合物の溶液に、リチウム金属、上記式(I
Va)、(IVb)、(IVc)で示されるアルキンを
添加し、攪拌する。もっとも、リチウム金属と上記各ア
ルキンを添加する順序には制限がない。リチウム金属及
び各アルキンを同時に添加してもよいし、各アルキンを
添加した後に、リチウム金属を添加してもよいし、リチ
ウム金属を添加した後に、各アルキンを添加してもよ
い。
の温度範囲で行われ、特に好ましくは−80℃〜200
℃の温度範囲、更に好ましくは−80℃〜100℃の温
度範囲で行われる。圧力は、例えば、0.1バール〜2
500バールの範囲内で、好ましくは0.5バール〜1
0バールの範囲内である。
タン化合物を溶解することができる溶媒が好ましい。溶
媒は、脂肪族又は芳香族の有機溶媒が用いられる。エー
テル系溶媒、例えばテトラヒドロフラン又はジエチルエ
ーテル;塩化メチレンのようなハロゲン化炭化水素;o
−ジクロロベンゼンのようなハロゲン化芳香族炭化水
素;N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド、ジメチ
ルスルホキシド等のスルホキシド;ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素が用いられる。
る。本発明の第3態様では、下記式(I’)で示される
ベンゼン誘導体の製造方法であって、リチウム金属、及
び下記式(V)で示されるチタン化合物存在下、下記式
(III)で示されるアルキンと、下記式(VI)で示
されるアルキンとを反応させることを特徴とするベンゼ
ン誘導体の製造方法が提供される。
L2は、上記の意味を有する。) R1、R4、R5及びR6は、それぞれ、互いに独立し、同
一または異なって、水素原子;置換基を有していてもよ
いC1〜C20炭化水素基;置換基を有していてもよいC1
〜C20アルコキシ基;置換基を有していてもよいC6〜
C20アリールオキシ基;置換基を有していてもよいアミ
ノ基;置換基を有していてもよいシリル基、又は水酸基
である。
〜C10アルキル基、C2〜C10アルケニル基、C2〜C10
アルキニル基、C3〜C10アリル基、C4〜C10アルキル
ジエニル基、及び、C4〜C10ポリエニル基であること
が好ましい。
シ基、C6〜C20アリールオキシ基、アミノ基、シリル
基には、置換基が導入されていてもよく、この置換基と
しては、例えば、C1〜C10炭化水素基、C1〜C10アル
コキシ基、C6〜C10アリールオキシ基、アミノ基、水
酸基又はシリル基などが挙げられる。
かの組合せが同一の置換基であることが好ましい。
C10炭化水素基である。2価のC4〜C10炭化水素基と
しては、ヘキサメチレン基のようなC4〜C10アルキレ
ン基、ブテニレン基のようなC4〜C10アルケニレン
基、ブチニレン基のようなC4〜C 10アルキニレン基、
フェニレン基のようなC6〜C10アリーレン基等が挙げ
られる。これらは分枝を有していても良い。
(R7)−で示される基(式中、R7は水素原子又はC1
〜C40炭化水素基である。)で中断されていてもよく、
かつ、置換基を有していてもよい。
の製造方法では、下記式(III)で示されるアルキン
が用いられる。
方法では、下記式(VI)で示されるアルキンが用いら
れる。
方法は、下記式(V)で示されるチタン化合物の存在下
で行われる。
在化環状η5−配位系配位子を示し、ただし、L1及びL
2は、架橋されていてもよい。なお、L1及びL2につい
ては、第1態様で説明した通りである。
なって、ハロゲン原子を示す。ハロゲン原子としては、
Cl、Br、F、Iを挙げることができ、特にClを好
ましく挙げることができる。
は、それぞれ、チタン化合物(V)1モルに対し、0.
1モル〜100モルであり、好ましくは0.5モル〜5
0モルであり、更に好ましくは0.9モル〜10モルで
あり、特に好ましくは約1モル〜約3モルである。
は、それぞれ、チタン化合物(V)1モルに対し、0.
1モル〜100モルであり、好ましくは0.5モル〜5
0モルであり、更に好ましくは0.9モル〜10モルで
あり、特に好ましくは約1モル〜約3モルである。
1モルに対し、0.1モル〜10モルであり、好ましく
は0.5モル〜8モルであり、更に好ましくは0.9モ
ル〜3モルであり、特に好ましくは約2モル〜約3モル
である。
の製造方法としては、典型的には、上記式(V)で示さ
れるチタン化合物の溶液に、リチウム金属、上記式(I
II)で示されるアルキン、上記式(VI)で示される
アルキンを添加し、攪拌する。もっとも、リチウム金属
と上記各アルキンを添加する順序には制限がない。リチ
ウム金属及び各アルキンを同時に添加してもよいし、各
アルキンを添加した後に、リチウム金属を添加してもよ
いし、リチウム金属を添加した後に、各アルキンを添加
してもよい。
の温度範囲で行われ、特に好ましくは−80℃〜200
℃の温度範囲、更に好ましくは−80℃〜100℃の温
度範囲で行われる。圧力は、例えば、0.1バール〜2
500バールの範囲内で、好ましくは0.5バール〜1
0バールの範囲内である。
タン化合物を溶解することができる溶媒が好ましい。溶
媒は、脂肪族又は芳香族の有機溶媒が用いられる。エー
テル系溶媒、例えばテトラヒドロフラン又はジエチルエ
ーテル;塩化メチレンのようなハロゲン化炭化水素;o
−ジクロロベンゼンのようなハロゲン化芳香族炭化水
素;N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド、ジメチ
ルスルホキシド等のスルホキシド;ベンゼン、トルエン
等の芳香族炭化水素が用いられる。
ただし、本発明は、下記の実施例に制限されるものでは
ない。
われた。溶媒として用いたテトラヒドロフラン(THF)は
窒素気流下、無水とした。チタノセンジクロライド、2-
ブチン及び5-デシンは東京化成工業から購入したものを
用いた。3-ヘキシン及び4-オクチンは、アルドリッチ
(Aldrich Chemical Company, Inc)から購入したもの
を用いた。リチウム及びn-ブチルリチウム(1.6 M solut
ion in hexane)は、関東化学から購入したものを用い
た。
℃の溶液(TMS1%含有)を用いて、JEOLスペクトロ
メター上で測定した。ガスクロマトグラフ分析は、シリ
カガラスキャピラリカラムSHIMADZU CBP1-M25-O25 及び
SHIMADZU C-R6A-Chromatopac integrator を備えたSHI
MADZU GC-14A ガスクロマトグラフで測定した。内部標
準としてドデカン及びメシチレンを用いた。
4mmol, 100mg)及びリチウム(1.6mmol, 11.2mg)のTHF 20
mL溶液に、-78℃にて、3-ヘキシン (6.0mmol,0.68mL)を
加えた。反応混合物を50℃まで直ちに昇温し、この温度
で1時間攪拌した。3N HClを添加して加水分解を行い、
通常の処理をした。減圧下で赤色油を蒸発させた後、シ
リカゲルを充填剤として、カラムクロマトグラフィーを
行い、白色固体の標題化合物(384mg)を得た。GC収率99
%、単離収率78%。
0.9Hz, 18H), 2.64 (q, J = 11.4Hz, 12H). 13C NMR
(CDCl3, Me4Si):δ15.71 (6C), 22.16. (6C), 137.82
(6C)。
わりに2-ブチンを用いた。白色固体の表題化合物が246m
g得られた。GC収率99%、単離収率76%。
13C NMR (CDCl3, Me4Si):δ16.76(6C), 132.00 (6
C)。
わりに4-オクチンを用いた。白色固体の表題化合物が52
1mg得られた。GC収率97%、単離収率79%。
7.2Hz, 18H), 1.49-1.57 (m, 12H),2.47 (t, J = 8.5H
z, 12H). 13C NMR (CDCl3, Me4Si):δ15.30 (6C), 24.
80 (6C), 32.23 (6C), 136.75 (6C)。
わりに、5-デシンを用いた。白色固体の表題化合物が58
0mg得られた。GC収率97%、単離収率 70%。
6.5Hz, 18H) , 1.36-1.55 (m, 24H),2.45-2.55 (m, 12
H). 13C NMR (CDCl3, Me4Si):δ13.88 (6C), 23.68 (6
C), 29.36 (6C), 33.69 (6C), 136.63 (6C)。
ナフタレン ビス(η5−シクロペンタジエニル)ジクロロチタン(2.
4mmol, 600mg)及びn-ブチルリチウム (1.6 M n-ヘキサ
ン溶液3.0ml, 4.8 mmol) のTHF 20mL溶液に、-78℃に
て、1,8-ジフェニルオクタ-1,7-ジイン(2.0mmol, 516m
g)を1時間かけて加え、温度を3時間かけて-10℃まで上
げた。続いて、4-オクチン (2.0mmol, 0.296mL) 及びリ
チウム (4.0mmol, 28mg)を加えた。反応混合物の温度を
0℃まで上げ、この温度で6時間攪拌した。3N HClで加水
分解した後、通常の処理をした。減圧下で赤色油を蒸発
させた後、シリカゲルを充填剤として、カラムクロマト
グラフィーを行い、白色固体の標題化合物(647mg)を得
た。GC収率98%、単離収率88%。
7.6Hz, 6H), 0.80-0.89 (m, 4H), 1.04-1.16 (m, 4H),
1.26-1.38 (m, 4H), 1.50-1.58 (m, 4H), 2.25-2.35
(m, 4H), 7.21-7.43 (m, 10H). 13C NMR (CDCl3, Me4S
i):δ13.48 (2C), 23.15 (2C),23.17 (2C), 29.31 (2
C), 29.97 (2C), 33.50 (2C), 126.29 (2C), 128.07 (4
C), 129.59 (4C), 132.57 (2C), 136.26 (2C), 141.70
(2C)。
フタレン 実施例5と同じ手順で行った。但し、4-オクチンの代わ
りに3-ヘキシンを用いた。白色固体の表題化合物が330m
g得られた。GC収率58%、単離収率49%。NMRデータは実施
例5と同じであった。
フタレン 実施例5と同じ手順で行った。但し、4-オクチンの代わ
りに5-デシンを用いた。白色固体の表題化合物が433mg
得られた。GC収率64%、単離収率55%。NMRデータは実施
例5と同じであった。
フタレン 実施例5と同じ手順で行った。但し、1,8-ジフェニルオ
クタ-1,7-ジインの代わりに、1,8-ジプロピルオクタ-1,
7-ジインを用いた。また、4-オクチンの代わりに3-ヘキ
シンを用いた。白色固体の表題化合物が284mg得られ
た。GC収率68%、単離収率52%。
7.2Hz, 6H), 1.17 (t, J = 7.4Hz, 6H), 1.44-1.54 (m,
4H), 1.74-1.78 (m, 4H), 2.49-2.55 (m, 4H), 2.64
(q, J= 7.4Hz, 4H), 2.70-2.74 (m, 4H). 13C NMR (CD
Cl3, Me4Si):δ15.06 (2C), 15.88 (2C), 22.13 (2C),
23.24 (2C), 23.60 (2C), 27.18 (2C), 31.41 (2C), 13
3.15 (2C), 136.84 (2C), 137.32 (2C)。
ナフタレン 実施例5と同じ手順で行った。但し、1,8-ジフェニルオ
クタ-1,7-ジインの代わりに、1,8-ジプロピルオクタ-1,
7-ジインを用いた。白色固体の表題化合物が240mg得ら
れた。GC収率50%、単離収率40%。
7.2Hz, 6H), 1.05 (t, J = 7.2Hz, 6H), 1.45-1.56 (m,
8H), 1.74-1.77 (m, 4H), 2.47-2.53 (m, 8H), 2.69-
2.71 (m, 4H). 13C NMR (CDCl3, Me4Si):δ15.14 (2
C), 15.25 (2C), 23.21 (2C), 23.53 (2C), 24.95 (2
C), 27.17 (2C), 31.55 (2C), 32.02 (2C), 133.05 (2
C), 136.28 (2C), 136.90 (2C)。
フタレン 実施例5と同じ手順で行った。但し、1,8-ジフェニルオ
クタ-1,7-ジインの代わりに、1,8-ジプロピルオクタ-1,
7-ジインを用いた。4-オクチンの代わりに5-デシンを用
いた。白色固体の表題化合物が360mg得られた。GC収率7
0%、単離収率55%。
7.4Hz, 6H), 1.03 (t, J = 7.4Hz, 6H), 1.43-1.53 (m,
12H), 1.74-1.78 (m, 4H), 2.47-2.57 (m, 8H), 2.69-
2.74(m, 4H). 13C NMR (CDCl3, Me4Si):δ13.84 (2C),
15.08 (2C), 23.23 (2C), 23.57 (2C), 23.64 (2C), 2
7.20 (2C), 29.20 (2C), 31.51 (2C), 33.79 (2C), 13
3.00 (2C), 136.29 (2C), 136.88 (2C)。
タレン 実施例5と同じ手順で行った。但し、1,8-ジフェニルオ
クタ-1,7-ジインの代わりに、1,8-ジエチルオクタ-1,7-
ジインを用いた。4-オクチンの代わりに3-ヘキシンを用
いた。白色固体の表題化合物が240mg得られた。GC収率5
4%、単離収率49%。
7.5Hz, 6H), 1.18 (t, J = 7.5Hz, 6H), 1.76-1.78 (m,
4H), 2.59-2.68 (m, 8H), 2.73-2.75 (m, 4H). 13C N
MR (CDCl3, Me4Si):δ14.48 (2C), 15.88 (2C), 21.71
(2C), 21.96 (2C), 23.20 (2C), 27.05 (2C), 133.06
(2C), 137.24 (2C), 138.04 (2C)。
フタレン 実施例5と同じ手順で行った。但し、1,8-ジフェニルオ
クタ-1,7-ジインの代わりに、1,8-ジエチルオクタ-1,7-
ジインを用いた。白色固体の表題化合物が276mg得られ
た。GC収率60%、単離収率51%。
7.3Hz, 6H), 1.14 (t, J = 7.5Hz,6H), 1.53-1.55 (m,
4H), 1.76-1.78 (m, 4H), 2.51-2.63 (m, 8H), 2.72-2.
73(m, 4H). 13C NMR (CDCl3, Me4Si): δ14.48 (2C),
15.20 (2C), 21.85 (2C),23.20 (2C), 24.99 (2C), 27.
06 (2C), 31.85(2C), 132.95 (2C), 136.17 (2C),138.0
7 (2C)。
タレン 実施例5と同じ手順で行った。但し、1,8-ジフェニルオ
クタ-1,7-ジインの代わりに、1,8-ジエチルオクタ-1,7-
ジインを用いた。4-オクチンの代わりに5-デシンを用い
た。白色固体の表題化合物が256mg得られた。GC収率52
%、単離収率43%。
7.0Hz, 6H), 1.14 (t, J = 7.5Hz,6H), 1.46-1.53 (m,
8H), 1.76-1.78 (m, 4H), 2.54-2.63 (m, 8H), 2.70-2.
75(m, 4H). 13C NMR (CDCl3, Me4Si): δ13.88 (2C),
14.78 (2C), 21.82 (2C),23.22 (2C), 23.65 (2C), 27.
08 (2C), 29.07 (2C), 33.86 (2C), 132.90 (2C),136.1
5 (2C), 138.05 (2C)。
25mmol, 312mg)及びn-ブチルリチウム(1.6 M n-ヘキサ
ン溶液2.4ml, 1.5 mmol)のTHF 6mL溶液に、-78℃にて、
1時間かけて、3-ヘキシン (2.0mmol, 0.228ml)を加え、
3時間かけて温度を-10℃まで上げた。続いて、4-オクチ
ン(1.0mmol, 0.147mL) 及びリチウム (2.0mmol, 14mg)
を-78℃にて加えた。反応混合物の温度を室温まで上
げ、この温度で反応混合物を3時間攪拌した。3N HClで
加水分解した後、通常の処理をした。減圧下で赤色油を
蒸発させた後、シリカゲルを充填剤として、カラムクロ
マトグラフィーを行い、白色固体の標題化合物(140mg)
を得た。GC収率66%、単離収率51%。
7.3Hz, 6H), 1.18 (t, J = 7.5Hz,12H), 1.51-1.59 (m,
4H), 2.45-2.53 (m, 4H), 2.58-2.67 (m, 8H). 13C N
MR(CDCl3, Me4Si): δ15.23 (2C), 15.70 (2C), 22.15
(2C), 22.30 (2C), 24.81(2C), 32.06 (2C), 136.77 (2
C), 137.71 (2C), 137.85 (2C)。
わりに5-デシンを用いた。白色固体の表題化合物が140m
gで得られた。GC収率63%、単離収率46%。
7.1Hz, 6H), 1.42 (t, J = 7.5Hz,12H), 1.67-1.78 (m,
8H), 2.76-2.80 (m, 4H), 2.82-2.88 (m, 8H). 13C N
MR(CDCl3, Me4Si): δ13.87 (2C), 15.70 (4C), 22.17
(2C), 22.27 (2C), 23.71(2C), 29.28 (2C), 33.71 (2
C), 136.74 (2C), 137.64 (2C), 137.82 (2C)。
導体を簡便に、かつ選択的に得ることができる。
Claims (3)
- 【請求項1】下記式(I)で示されるベンゼン誘導体の
製造方法であって、 【化1】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、それぞ
れ、互いに独立し、同一または異なって、水素原子;置
換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基
を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を
有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基
を有していてもよいアミノ基;置換基を有していてもよ
いシリル基、又は水酸基であり、 ただし、R2及びR3は、互いに架橋してC4〜C20飽和
環又は不飽和環を形成してもよく、前記環は、酸素原
子、硫黄原子、珪素原子、スズ原子、ゲルマニウム原子
又は式−N(R7)−で示される基(式中、R7は水素原
子又はC1〜C20炭化水素基である。)で中断されてい
てもよく、かつ、置換基を有していてもよい。) リチウム金属存在下、下記式(II)で示されるチタナ
シクロペンタジエンと、 【化2】 (式中、R1、R2、R3及びR4は、上記の意味を有す
る。L1及びL2は、互いに独立し、同一又は異なって、
非局在化環状η5−配位系配位子を示し、ただし、L1及
びL2は、架橋されていてもよい。) 下記式(III)で示されるアルキンと 【化3】 (式中、R5及びR6は、上記意味を有する。)を反応さ
せることを特徴とするベンゼン誘導体の製造方法。 - 【請求項2】下記式(I)で示されるベンゼン誘導体の
製造方法であって、 【化4】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、それぞ
れ、互いに独立し、同一または異なって、水素原子;置
換基を有していてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基
を有していてもよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を
有していてもよいC6〜C20アリールオキシ基;置換基
を有していてもよいアミノ基;置換基を有していてもよ
いシリル基、又は水酸基である。) リチウム金属、及び下記式(V)で示されるチタン化合
物存在下、 【化5】 (式中、L1及びL2は、互いに独立し、同一又は異なっ
て、非局在化環状η5−配位系配位子を示し、ただし、
L1及びL2は、架橋されていてもよい。X1及びX2は、
互いに独立し、同一又は異なって、ハロゲン原子を示
す。) 下記式(IVa)、(IVb)及び(IVc)で示され
るアルキンを 【化6】 (式中、R1、R2、R3、R4、R5及びR6は、上記の意
味を有する。)反応させることを特徴とするベンゼン誘
導体の製造方法。 - 【請求項3】下記式(I’)で示されるベンゼン誘導体
の製造方法であって、 【化7】 (式中、R1、R4、R5及びR6は、それぞれ、互いに独
立し、同一または異なって、水素原子;置換基を有して
いてもよいC1〜C20炭化水素基;置換基を有していて
もよいC1〜C20アルコキシ基;置換基を有していても
よいC6〜C20アリールオキシ基;置換基を有していて
もよいアミノ基;置換基を有していてもよいシリル基、
又は水酸基であり、 Aは、置換基を有してもよい2価のC4〜C10炭化水素
基であり、酸素原子、硫黄原子、又は式−N(R7)−
で示される基(式中、R7は水素原子又はC1〜C40炭化
水素基である。)で中断されていてもよく、かつ、置換
基を有していてもよい。) リチウム金属、及び下記式(V)で示されるチタン化合
物存在下、 【化8】 (式中、L1及びL2は、互いに独立し、同一又は異なっ
て、非局在化環状η5−配位系配位子を示し、ただし、
L1及びL2は、架橋されていてもよい。X1及びX2は、
互いに独立し、同一又は異なって、ハロゲン原子を示
す。) 下記式(III)で示されるアルキンと、 【化9】 (式中、R5及びR6は、上記の意味を有する。)、下記
式(VI)で示されるアルキンと 【化10】 (式中、A、R1及びR4は、上記の意味を有する。)を
反応させることを特徴とするベンゼン誘導体の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001071475A JP4287601B2 (ja) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | ベンゼン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001071475A JP4287601B2 (ja) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | ベンゼン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002265393A true JP2002265393A (ja) | 2002-09-18 |
JP4287601B2 JP4287601B2 (ja) | 2009-07-01 |
Family
ID=18929194
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001071475A Expired - Fee Related JP4287601B2 (ja) | 2001-03-14 | 2001-03-14 | ベンゼン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4287601B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007080837A1 (ja) * | 2006-01-11 | 2007-07-19 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 置換ベンゼンの製造法 |
-
2001
- 2001-03-14 JP JP2001071475A patent/JP4287601B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007080837A1 (ja) * | 2006-01-11 | 2007-07-19 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | 置換ベンゼンの製造法 |
JP5158348B2 (ja) * | 2006-01-11 | 2013-03-06 | 日産化学工業株式会社 | 置換ベンゼンの製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4287601B2 (ja) | 2009-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4287601B2 (ja) | ベンゼン誘導体の製造方法 | |
JP4180254B2 (ja) | 窒素含有6員環の製造方法 | |
JP4340404B2 (ja) | 不飽和6員環の製造方法 | |
JP4287576B2 (ja) | 多環化合物の製造方法 | |
JP4252742B2 (ja) | アレニルエーテルの製造方法 | |
JP4401001B2 (ja) | アリール誘導体及びその製造方法 | |
JP4067791B2 (ja) | テトラエン誘導体及びその製造方法 | |
JP4303978B2 (ja) | ジハロゲン化ビフェニル誘導体およびその製造方法 | |
JP4526222B2 (ja) | ホスホール誘導体の製造方法 | |
JP4169519B2 (ja) | ピリジン誘導体の製造方法 | |
JP4255603B2 (ja) | シクロペンテノン誘導体の製造方法 | |
JP4227831B2 (ja) | シクロペンテノン誘導体の製造方法 | |
JP4695843B2 (ja) | インデン誘導体の製造方法。 | |
JP4252734B2 (ja) | デュワーベンゼン誘導体とその製造方法 | |
JP4051215B2 (ja) | インデン誘導体の製造方法 | |
JP4540217B2 (ja) | ピラン誘導体及びその製造方法 | |
JP4388236B2 (ja) | エンイン誘導体およびスチレン誘導体の製造方法 | |
JP4743980B2 (ja) | ピロリノン誘導体及びその製造方法 | |
JP4346199B2 (ja) | トリエン誘導体及びナフタレン誘導体の製造方法 | |
JP4346216B2 (ja) | アリールアセチレン誘導体の製造方法 | |
JP4183852B2 (ja) | シクロヘプタジエノン誘導体の合成方法 | |
JP2003327549A (ja) | 共役性多環式化合物の製造方法 | |
JP4090252B2 (ja) | ベンゼン誘導体の製造方法 | |
JP4448349B2 (ja) | ホスファフェロセン誘導体及びその製造方法。 | |
JP3961857B2 (ja) | ジケトン類の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20040210 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060404 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090220 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090303 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090327 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120403 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130403 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140403 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |