JP2002252263A - 処理システム及び処理システムの被処理体の搬送方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の処理装置の内の一部にトラブルが発生
しても他の正常な処理装置に対して被処理体を搬送する
ことが可能な処理システムを提供する。 【解決手段】 被処理体Ｗに対して所定の処理を施す複
数の処理装置２４Ａ、２４Ｂと、処理すべき被処理体を
待機させる被処理体待機ポート３６Ａ〜３６Ｃと、前記
複数の処理装置と前記被処理体待機ポートとの間で前記
被処理体を搬送する共通搬送機構４０と、前記共通搬送
機構の動作を制御する制御部９４とを有する処理システ
ムにおいて、前記制御部は、前記共通搬送機構が前記被
処理体を搬送中にて前記搬送途中の被処理体の搬送先の
処理装置のトラブルを検出した時には、前記搬送中の被
処理体を前記被処理体待機ポートへ戻すと共にトラブル
が発生していない処理装置に対しては被処理体を搬送す
るように制御する。これにより、複数の処理装置の内の
一部にトラブルが発生しても他の正常な処理装置に対し
て被処理体を搬送することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等に
所定の処理を施すための処理システム及び処理システム
の被処理体の搬送方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体デバイスを製造する際の
装置としては、多種多様な処理装置が組み合わされてお
り、これらの処理装置同士間及び半導体ウエハを多数枚
収容するカセットと上記処理装置との間などにウエハを
自動的に受け渡しを行なうために搬送機構が設けられて
いる。この搬送機構は、例えば屈伸、旋回及び昇降自在
になされた搬送アーム部を有しており、これを移載位置
まで水平移動してウエハを所定の位置まで搬送して移載
ようになっている。この種の複数種類の処理装置を組み
合わせた処理システムの一例として、例えば特開平７−
１９３１１２号公報、特開平９−２５２０３９号公報、
特開２０００−１２７０６９号公報等に開示されてい
る。

【０００３】図７は、この種の処理システムの一例を示
す概略構成図である。図示するようにこの処理システム
は横長になされた箱状の共通搬送室２を有しており、こ
の長手方向に沿った一側に複数、図示例では３つの被処
理体待機ポート４Ａ、４Ｂ、４Ｃが設けられ、ここに複
数枚、例えば２５枚程度の未処理の半導体ウエハＷを多
段に収容できるカセット６を載置して待機させるように
なっている。また、この待機ポート４Ａ〜４Ｃの対向辺
側には、真空引き可能になされたロードロック室８Ａ、
８Ｂを有する複数、図示例では処理装置１０Ａ、１０Ｂ
が設けられており、ここでは上記処理装置１０Ａ、１０
Ｂは例えば互いに異なる処理を行うようになっている。
そして、上記各ロードロック室８Ａ、８Ｂ内には、それ
ぞれ２つのバッファ用載置台１２Ａ、１２Ｂと個別移載
機構１４Ａ、１４Ｂが設けられており、各処理装置１０
Ａ、１０Ｂと共通搬送室２との間でウエハの橋渡しを行
うようになっている。更に、この共通搬送室２の一端に
は、ウエハのずれ量を補正して位置決めを行うオリエン
タ１６が設けられており、ウエハの位置決めを行うよう
になっている。また、この共通搬送室２内にはその長手
方向（Ｘ方向）へ移動可能になされた共通搬送機構１８
が設けられており、この共通搬送機構１８は、屈伸、旋
回及び昇降可能に独立に制御可能になされた２つの搬送
アーム２０Ａ、２０Ｂを有している。そして、これらの
２本の搬送アーム２０Ａ、２０Ｂを用いてウエハの置き
替えを行い得るようになっている。

【０００４】上記処理システムにあっては、まず共通搬
送機構１８の一方の搬送アーム、例えば２０Ａにより各
被処理体待機ポート４Ａ〜４Ｃのカセット６から搬送さ
れた未処理の半導体ウエハＷは、オリエンタ１６へ搬送
され、他方の空の搬送アーム、例えば２０Ｂを用いてこ
こで先の位置決めがなされたウエハと置き替えが行わ
れ、そして、位置決めが先になされたウエハを所望する
処理を行うために所定の処理装置、例えば１０Ａのロー
ドロック室８Ａまで搬送して行く。また、ロードロック
室８Ａ内に、先に処理装置１０Ａ内で処理された処理済
みのウエハが搬出されてくると、この処理済みのウエハ
と上記搬送されてきた未処理のウエハとをロードロック
室８Ａにて置き替えを行い、未処理のウエハは処理装置
１０Ａへ搬入されて所定の処理が行われると共に、処理
済みのウエハはこの共通搬送機構１８により元のカセッ
ト６内へ収容されることになる。この場合、この処理シ
ステム全体の動作を制御する例えばマイクロコンピュー
タ等よりなる制御部２１は、各処理装置１０Ａ、１０Ｂ
における処理状況を監視しつつ、対応する処理を行うべ
く順次、ウエハの搬送指令を出して行くことになる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
処理システムにおいて、一般的にはスループットの向上
の見地より、できるだけ未処理の半導体ウエハを処理装
置１０Ａ或いは１０Ｂに接近させて待機させることが望
ましいことから、上述のように制御部２１の制御により
カセット６からは順次未処理のウエハの搬送が仕掛けら
れて、これらがオリエンタ１６上、共通搬送機構１８の
いずれか一方の搬送アーム上（他方の搬送アームはウエ
ハ入れ替えのために空き状態となっている）、及びロー
ドロック室８Ａ、８Ｂ内のバッファ用載置台１２Ａ、１
２Ｂ上に、それぞれ待機されている。そして、１枚のウ
エハの処理が完了すると、処理済みのウエハは直ちにカ
セット内へ収容され、上記各待機中の未処理のウエハが
順送りされて次の未処理のウエハを直ちに処理工程へ移
行するようになっている。

【０００６】ところで、このような状況下において、万
一、処理装置１０Ａや１０Ｂが故障等してその装置にお
ける処理の続行が不可能になった場合、制御部２１は、
直ちにその故障（エラー）した処理装置に対するウエハ
の搬送を停止し、その故障した処理装置の復帰を待つこ
とになる。しかしながら、この場合、オリエンタ１６や
共通搬送機構１８の搬送アーム２０Ａ或いは２０Ｂ上
に、上記故障した処理装置に向けて搬送されつつあるウ
エハが保持されていると、これらのウエハが他の処理装
置に向かうウエハに対する搬送の障害となってしまっ
て、故障していない他方の処理装置が正常であるにもか
かわらず、この正常な処理装置へウエハを搬送できなく
なって、処理システム全体の動作が完全に停止してしま
って処理効率が大幅に低下してしまう、といった問題が
あった。本発明は、以上のような問題点に着目し、これ
を有効に解決すべく創案されたものである。本発明の目
的は、複数の処理装置の内の一部にトラブルが発生して
も他の正常な処理装置に対して被処理体を搬送すること
が可能な処理システム及び処理システムの被処理体の搬
送装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】請求項１に規定する発明
は、被処理体に対して所定の処理を施す複数の処理装置
と、処理すべき被処理体を待機させる被処理体待機ポー
トと、前記複数の処理装置と前記被処理体待機ポートと
の間で前記被処理体を搬送する共通搬送機構と、前記共
通搬送機構の動作を制御する制御部とを有する処理シス
テムにおいて、前記制御部は、前記共通搬送機構が前記
被処理体を搬送中にて前記搬送途中の被処理体の搬送先
の処理装置のトラブルを検出した時には、前記搬送中の
被処理体を前記被処理体待機ポートへ戻すと共にトラブ
ルが発生していない処理装置に対しては被処理体を搬送
するように制御するようにしたものである。これによ
り、複数の処理装置の内の一部にトラブルが発生して
も、上記トラブルの発生した処理装置に向けて搬送され
ていた搬送途中の被処理体は、一旦、元の被処理体待機
ポートへ戻されるので、トラブルの発生していない他の
処理装置へは引き続いて被処理体を搬送してこれに所定
の処理を施すことが可能となる。従って、処理システム
自体の使用効率を向上させてスループットも改善するこ
とが可能となる。

【０００８】請求項２に規定する発明によれば、被処理
体に対して所定の処理を施す複数の処理装置と、処理す
べき被処理体を待機させる被処理体待機ポートと、前記
複数の処理装置と前記被処理体待機ポートとの間で前記
被処理体を搬送する共通搬送機構と、前記共通搬送機構
に連設されて、搬送途中の被処理体の位置決めを行う位
置決め装置と、前記共通搬送機構の動作を制御する制御
部とを有する処理システムにおいて、前記制御部は、前
記共通搬送機構が前記位置決め装置を経由して前記被処
理体を搬送中にて前記搬送途中の被処理体の搬送先の処
理装置のトラブルを検出した時には、前記搬送中の被処
理体を前記被処理体待機ポートへ戻すと共にトラブルが
発生していない処理装置に対しては被処理体を搬送する
ように制御することを特徴とする処理システムである。
この場合、搬送途中には位置決め装置も含まれており、
トラブルの発生した処理装置に向けて搬送されていた被
処理体が位置決め装置上に待機している場合には、この
被処理体を元の被処理体待機ポートへ戻すことが可能と
なる。

【０００９】この場合、例えば請求項３に規定するよう
に、前記制御部は、前記処理装置のトラブルの検出の判
断を、前記共通搬送機構の一動作ユニット毎に行うこと
になる。また、例えば請求項４に規定するように、前記
共通搬送機構は、独立して屈伸及び旋回可能になされた
複数の搬送アームを有している。更に、例えば請求項５
に規定するように、前記被処理体には、前記処理装置を
クリーニング処理する時に用いるクリーニング用被処理
体が含まれる。

【００１０】また、例えば請求項６に規定するように、
前記制御部は、前記各処理装置が前記被処理体をそれぞ
れ所定の枚数処理する毎に前記クリーニング用被処理体
を搬送すると共に、前記所定の枚数には前記途中で戻さ
れた被処理体は含まれていないように計測している。こ
れにより、処理されることなく被処理体待機ポートへ戻
された被処理体は処理済みの被処理体としてはカウント
されないので、正確に所定の処理枚数毎に処理装置をク
リーニングすることが可能となる。

【００１１】また、請求項７に規定するように、前記制
御部は、前記所定の枚数の枚数管理数を、前記被処理体
が前記被処理体待機ポートから搬出された時点で１を加
算し、未処理の被処理体が前記被処理体待機ポートへ戻
ってきた時点で１を減算する。また、例えば請求項８に
規定するように、前記複数の処理装置では、互いに異種
の処理が行われる。或いは、例えば請求項９に規定する
ように、前記複数の処理装置では、互いに同種の処理が
行われる。

【００１２】請求項１０は、上記処理システムによって
行われる方法発明を規定したものであり、すなわち被処
理体に対して所定の処理を施す複数の処理装置と、処理
すべき被処理体を待機させる被処理体待機ポートと、前
記複数の処理装置と前記被処理体待機ポートとの間で前
記被処理体を搬送する共通搬送機構と、前記共通搬送機
構の動作を制御する制御部とを有する処理システムの被
処理体の搬送方法において、前記共通搬送機構が前記被
処理体を搬送中にて前記搬送途中の被処理体の搬送先の
処理装置のトラブルを検出した時には、前記搬送中の被
処理体を前記被処理体待機ポートへ戻すと共にトラブル
が発生していない処理装置に対しては被処理体を搬送す
るように構成したことを特徴とする処理システムの被処
理体の搬送方法である。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る処理システ
ム及び処理システムの被処理体の搬送方法の一実施例を
添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明に係る被処
理体の処理システムを示す概略構成図、図２は図１に示
す処理システムを模式的に示す図である。ここでは被処
理体として半導体ウエハを用いた場合について説明す
る。

【００１４】まず、図１を参照して被処理体を処理する
ための処理システムについて説明する。この処理システ
ム２２は、被処理体としての半導体ウエハＷに対して成
膜処理、エッチング処理等の各種の処理を行なう処理ユ
ニット２４と、この処理ユニット２４に対してウエハＷ
を搬入、搬出させる搬送ユニット２６とにより主に構成
される。また、この搬送ユニット２６は、ウエハＷを搬
送する際に共用される共通搬送室２８を有している。上
記処理ユニット２４は、２つの処理装置２４Ａ、２４Ｂ
よりなり、各処理装置２４Ａ、２４Ｂは、それぞれ処理
室３２Ａ、３２Ｂと、これらのそれぞれに連設される真
空引き可能になされたロードロック室３０Ａ、３０Ｂを
有しており、各処理室３２Ａ、３２Ｂにおいて互いに同
種の、或いは異種の処理をウエハＷに対して施すように
なっている。各処理室３２Ａ、３２Ｂ内には、ウエハＷ
を載置するための載置台３４Ａ、３４Ｂがそれぞれ設け
られる。尚、このロードロック室及び処理室よりなる処
理装置は２つに限定されず、更に追加して設けるように
してもよい。

【００１５】一方、搬送ユニット２６の共通搬送室２８
は、例えばＮ_２ ガスの不活性ガスや清浄空気が循環さ
れる横長の箱体により形成されており、この横長の一側
には、複数の、図示例では３台のカセットを載置する被
処理体待機ポートとしてのカセット台３６Ａ、３６Ｂ、
３６Ｃが設けられ、ここにそれぞれ１つずつカセットＣ
１〜Ｃ３を載置できるようになっている。各カセットＣ
１〜Ｃ３には、最大例えば２５枚のウエハＷを等ピッチ
で多段に載置して収容できるようになっており、内部は
例えばＮ_２ ガス雰囲気で満たされた密閉構造となって
いる。そして、共通搬送室２８内へは、ゲートバルブ３
９Ａ〜３９Ｃを介してウエハを搬出入可能になされてい
る。

【００１６】共通搬送室２８内には、ウエハＷをその長
手方向に沿って搬送する共通搬送機構４０が設けられ
る。この共通搬送機構４０は、基台４８上に固定されて
おり、この基台４８は共通搬送室２８内の中心部を長さ
方向に沿って延びるように設けた案内レール４２上にス
ライド移動可能に支持されている。この基台４８と案内
レール４２には、それぞれリニアモータの可動子と固定
子（図示せず）とが設けられている。従って、この案内
レール４２の端部に設けたリニアモータ駆動機構５０を
駆動することにより、上記共通搬送機構４０は案内レー
ル４２に沿ってＸ方向へ移動することになる。

【００１７】また、共通搬送室２８の他端には、ウエハ
の位置決めを行なう位置決め装置としてのオリエンタ５
２が設けられ、更に、共通搬送室２８の長手方向の途中
には、前記２つの処理室３２Ａ、３２Ｂとの間を連結す
るために真空引き可能になされた先の２つのロードロッ
ク室３０Ａ、３０Ｂがそれぞれ開閉可能になされたゲー
トバルブ５４Ａ、５４Ｂを介して設けられる。各ロード
ロック室３０Ａ、３０Ｂ内には、それぞれウエハＷを一
時的に載置して待機させる一対のバッファ用載置台５６
Ａ、５８Ａ及び５６Ｂ、５８Ｂが設けられる。ここで共
通搬送室２８側のバッファ用載置台５６Ａ、５６Ｂを第
１バッファ用載置台とし、反対側のバッファ用載置台５
８Ａ、５８Ｂを第２バッファ用載置台とする。そして、
両バッファ用載置台５６Ａ、５８Ａ間及び５６Ｂ、５８
Ｂ間には、屈伸、旋回及び昇降可能になされた多関節ア
ームよりなる個別移載機構６０Ａ、６０Ｂが設けられて
おり、その先端に設けたフォーク６１Ａ、６１Ｂを用い
て第１、第２の両バッファ用載置台５６Ａ、５８Ａ及び
５６Ｂ、５８Ｂ間でウエハＷの受け渡し移載を行い得る
ようになっている。そして、各ロードロック室３０Ａ、
３０Ｂの他端は、開閉可能になされたゲートバルブ６２
Ａ、６２Ｂを介してそれぞれ上記処理室３２Ａ、３２Ｂ
へ連結されている。尚、処理室３２Ａ、３２Ｂ内へのウ
エハの搬入搬出は、それぞれに対応させて設けた個別移
載機構６０Ａ、６０Ｂを用いる。

【００１８】また、上記オリエンタ５２は、駆動モータ
（図示せず）によって回転される基準台７２を有してお
り、この上にウエハＷを載置した状態で回転するように
なっている。基準台７２の外周には、ウエハＷの周縁部
を検出するための光学センサ８４が設けられる。この光
学センサ８４は基準台７２の半径方向に沿って配置した
所定の長さのライン状の発光素子（図示せず）と、ウエ
ハ周縁部を挟んでこれと対応するように配置した受光素
子（図示せず）とよりなり、レーザ光をウエハ端部に照
射してこの変動を検出し、この検出結果よりウエハＷの
偏心量、偏心方向及びウエハＷに形成されている切り欠
き目印としての例えばノッチやオリエンテーションフラ
ットの回転位置、すなわち方位を認識できるようになっ
ている。

【００１９】また、上記共通搬送機構４０は、上下２段
に配置された多関節形状になされた２つの搬送アーム９
０、９２を有している。この各搬送アーム９０、９２の
先端にはそれぞれ２股状になされたフォーク９０Ａ、９
２Ａを取り付けており、このフォーク９０Ａ、９２Ａ上
にそれぞれウエハＷを直接的に保持するようになってい
る。従って、各搬送アーム９０、９２は、この中心より
半径方向へ向かうＲ方向へ屈伸自在になされており、ま
た、各搬送アーム９０、９２の屈伸動作は個別に制御可
能になされている。上記搬送アーム９０、９２の各回転
軸は、それぞれ基台４８に対して同軸状に回転可能に連
結されており、各回転軸は、例えば基台４８に対する旋
回方向であるθ方向へ一体的に回転できるようになって
いる。更に、この各回転軸は、基台４８を中心として、
上下方向へ、すなわちＺ方向へも例えば一体的に移動可
能になっている。従って、上記フォーク９０Ａ、９２Ａ
は、Ｘ、Ｚ、Ｒ、θの方向へ移動できるようになってお
り、各位置座標は、例えばエンコーダ等によって認識で
きるようになっている。尚、この共通搬送機構４０の構
成としては、上下２段に重なるようにして搬送アーム９
０、９２が設けられる構造に限定されない。

【００２０】上記オリエンタ５２、共通搬送機構４０等
の動作制御も含めてこの処理システム全体の動作を制御
するために、例えばマイクロコンピュータ等よりなる制
御部９４が設けられる。そして、この制御部９４には各
種のデータ等を記憶するメモリ９６が並設されている。
この制御部９４は、上記各処理装置２４Ａ、２４Ｂを常
時監視しており、トラブルなどのエラーが発生している
か否かを見ている。そして、この制御部９４において
は、予め定められたスケジュール（レシピ）に基づい
て、各カセットＣ１〜Ｃ３からどの処理室に向けて半導
体ウエハを搬送すべきかを指示する指令を出すようにな
っている。ここで、本実施例では、後述するように、ウ
エハの搬送途中において処理装置２４Ａ、或いは２４Ｂ
のエラーが検出された時には、搬送のデッドロックを防
止するためにそのエラーが発生した処理装置に向けて搬
送されているウエハを元の被処理体待機ポート、すなわ
ち元のカセットへ戻すように制御が行われる。尚、搬送
途中のウエハとは、オリエンタ５２上のウエハや共通搬
送機構４０に保持されているウエハを指し、ロードロッ
ク室３０Ａ、或いは３０Ｂの内側へすでに搬入されてし
まったウエハは、デッドロックとは関係ないので、戻し
の対象とはしない。

【００２１】次に、以上のような処理システム２２を用
いて行なわれる本発明の搬送方法について、図３乃至図
５も参照して説明する。まず、カセットＣ１〜Ｃ３に
は、未処理の半導体ウエハや処理室３２Ａ、３２Ｂ内を
定期的にクリーニングする時に使用するクリーニング用
被処理体としてのクリーニング用ウエハ等が収容されて
いる。そして、各処理室３２Ａ、３２Ｂ内において所定
の枚数だけ製品ウエハを処理する毎にクリーニング用ウ
エハを用いてクリーニング処理が行われる。ここで、本
発明方法を理解し易くするために、カセットＣ１、Ｃ２
に製品ウエハが収容されており、カセットＣ３にクリー
ニング用ウエハが収容されているものと仮定する。ま
た、各処理室３２Ａ、３２Ｂ内においては取り付けられ
る処理室の種類により、互いに同種の処理を行う場合も
あり、また互いに異なる種類の処理を行う場合もある。
そして、実際には、少量多品種の製品を作成することか
ら、２つの処理室３２Ａ、３２Ｂ内で互いに同じ処理を
施す場合には、各カセットＣ１、Ｃ２内の各ウエハは、
どちらの処理室３２Ａ、３２Ｂ内へ搬送してもよいし、
２つの処理室３２Ａ、３２Ｂ内の処理が互いに異なる場
合には、各カセットＣ１、Ｃ２の各ウエハは、それに対
応してどちらの処理室に搬送されるべきか、予め定めら
れている。従って、この場合には一般的に各カセットＣ
１、Ｃ２内に、一方の処理室３２Ａに向けて搬送される
べきウエハと他方の処理室３２Ｂに向けて搬送されるべ
きウエハとが混在して収容されている。そして、当然の
こととして各ウエハ毎にどちらの処理室に向けて搬送す
べきかという点については、予め制御部９４において認
識されている。

【００２２】まず、ウエハＷの一般的な流れについて説
明すると、共通搬送機構４０により各カセットＣ１〜Ｃ
３より取り出されたウエハは、オリエンタ５２まで搬送
されてオリエンタ５２の基準台７２に移載され、ここで
位置決めされる。この位置決めされたウエハは、再度、
上記共通搬送機構４０により受け取られて保持され、こ
の保持しているウエハの処理に対応する処理装置２４
Ａ、或いは２４Ｂのロードロック室３０Ａ、或いは３０
Ｂの直前まで搬送される。そして、圧力調整を行った後
にこのロードロック室３０Ａ或いは３０Ｂのゲートバル
ブ５４Ａ、或いは５４Ｂを開いてこの保持していたウエ
ハをロードロック室３０Ａ、或いは３０Ｂ内に収容する
ことになる。ここで共通搬送機構４０の一般的な動作と
しては、オリエンタ５２では空き状態の一方の搬送アー
ム、例えば９０で位置決め済みのウエハを取り出し、そ
して、他方の搬送アーム例えば９２に保持していた位置
決めを行っていないウエハをオリエンタ５２に載置する
ように、ウエハの入れ替えを行う。同様に、ロードロッ
ク室においても、一方の空き状態の搬送アーム、例えば
９２で処理済みのウエハを保持し、そして、他方の搬送
アーム例えば９０に保持していた位置決め済みのウエハ
をロードロック室に載置するように、ウエハの入れ替え
を行う。

【００２３】そして、実際のウエハの搬送においては、
各処理装置２４Ａ、２４Ｂにおける処理時間や処理の進
捗状況に応じてウエハが搬送されるので、処理室３２Ａ
に向けて搬送されているウエハと、処理室３２Ｂに向け
て搬送されているウエハとが、搬送途中において混在す
る状況が生じる。従って、例えばオリエンタ５２上には
処理室３２Ａに向けて搬送されるウエハが存在し、他
方、共通搬送機構４０の搬送アーム９０上には処理室３
２Ｂに向けて搬送されるウエハが存在するような場合、
或いはその逆の場合、更にはオリエンタ５２上にも搬送
アーム９０上にも共に同じ処理室に向けて搬送されつつ
あるウエハが存在する場合など、種々の状況が発生す
る。このような状況下において、２つの処理装置２４
Ａ、２４Ｂの内のいずれか一方にトラブルが発生して処
理が続行できなくなった場合、このトラブルの生じた処
理装置に向けて搬送されているウエハが搬送途中に存在
すると、このウエハが搬送障害となってデッドロックが
生じ、他方の正常な処理装置に向けてウエハが搬送でき
なくなってしまう。

【００２４】そこで、本発明方法においては、このよう
なデッドロックの状況を回避するために、トラブルの生
じた処理装置に向けて搬送されているウエハを、元の被
処理体待機ポート、すなわち元のカセットへ戻し、トラ
ブルの発生していない処理装置に向かうウエハの搬送に
ついては継続して搬送を行うようにしている。この場
合、本実施例においては、各処理装置のトラブルの発生
の有無の検出の判断は、上記共通搬送機構の一動作ユニ
ット毎に行う。ここで一動作ユニットとは、カセットか
らのウエハの取り出し動作（ウエハの移し替え）、ウエ
ハをオリエンタ５２まで搬送する動作、オリエンタ５２
にてウエハを移し替える動作及びウエハを処理装置のロ
ードロック室の直前まで搬送する動作をいい、これらの
各動作を行う毎に上記判断がなされる。ここで、前述し
たように、処理装置２４Ａに向かうウエハと処理装置２
４Ｂに向かうウエハとが混在された状態で順次搬送され
るが、ここでは図３を参照してカセットＣ１のウエハに
主に着目してその搬送過程を説明する。尚、ここでは説
明を判り易くするために、カセットＣ１のウエハは処理
装置２４Ａに向けて搬送し、カセットＣ２のウエハは他
方の処理装置２４Ｂに向けて搬送するものと、仮定す
る。

【００２５】まず、制御部９４において、カセットＣ１
中の特定のウエハに特定の処理装置（ここでは処理装置
２４Ａ）に向けての搬送指令タスクが形成されて、その
指令が出されると、搬送の空き状況を見て、まず、共通
搬送機構４０がカセットＣ１まで移動し、ここで搬送ア
ーム９０或いは９２を駆動してウエハをとり出す（Ｓ
１）。この場合、処理済みのウエハを搬送アームに保持
している場合には、他方の空の搬送アームでウエハを取
り出し、今まで搬送アームに保持していた処理済みのウ
エハをカセットＣ１内の元の位置に移載し、ウエハの移
し替えを行う。このように、ウエハの取り出し動作を終
了したら、制御部９４は処理装置２４Ａにトラブルが発
生しているか否かを判断する（Ｓ２）。ＮＯの場合、す
なわち、トラブルが発生していない場合には、共通搬送
機構４０を案内レール４２に沿ってスライド移動させて
このウエハをオリエンタ５２まで搬送する（Ｓ３）。そ
して、この搬送動作が終了したら、制御部９４は処理装
置２４Ａにトラブルが発生しているか否かを判断する
（Ｓ４）。

【００２６】ＮＯの場合、すなわちトラブルが発生して
いない場合には、２本の搬送アーム９０、９２を駆動す
ることによってこの保持しているウエハとオリエンタ５
２にて先に位置決めされているウエハとを移し替え（取
り替え）する（Ｓ５）。尚、ここでオリエンタ５２が空
の場合には、搬送してきたウエハをオリエンタ５２の基
準台７２に載置することになる。また、ここでは先に位
置決めされていたウエハの搬送先も処理装置２４Ａであ
ると仮定する。このようにして、ウエハの移し替え動作
が終了したならば、制御部９４は処理装置２４Ａにトラ
ブルが発生しているか否かを判断する（Ｓ６）。

【００２７】ＮＯの場合、すなわちトラブルが発生して
いない場合には、共通搬送機構４０を案内レール４２に
沿ってスライド移動させてこのウエハを処理装置２４Ａ
のロードロック室３０Ａの直前まで搬送する（Ｓ７）。
そして、この搬送動作を終了したら、制御部９４は処理
装置２４Ａにトラブルが発生しているか否かを判断する
（Ｓ８）。ＮＯの場合、すなわちトラブルが発生してい
ない場合には、このウエハをロードロック室３０Ａ内の
バッファ用載置台５６Ａ上に載置されて待機している処
理済みのウエハと移し替えする（Ｓ９）。尚、この処理
済みウエハはカセットＣ１より取り出されたものと仮定
する。

【００２８】次に、共通搬送機構４０を駆動してこの保
持した処理済みのウエハをカセットＣ１に向けて搬送
し、これをカセットＣ１の元の位置に戻す（Ｓ１０）。
そして、未処理のウエハが存在すれば（Ｓ１１のＹＥ
Ｓ）、先のＳ１へ戻り、存在しなければカセットＣ１の
ウエハに関しては処理を終了する。処理済みのウエハが
元のカセットＣ１へ戻ると、このウエハに対する搬送指
令タスクは完了とされる。また、クリーニングに関して
は、ロードロック室、例えば３０Ａにウエハの搬入が完
了した時点で処理室３２Ａに対するクリーニング開始の
ための枚数管理数として確定する。すなわち、処理室に
対するクリーニングのためのウエハ枚数管理数の積算
は、カセットから製品ウエハが搬出されたときに１枚加
算され、このとき上記枚数管理数がクリーニングのため
に予め設定された製品ウエハ規定数を越えていると、あ
と追いでクリーニング用のダミーウエハを搬出する。そ
して、本機能によって、未処理の製品ウエハがカセット
に戻されると、その処理室に対するクリーニングのため
の積算された枚数管理数は未処理ウエハがカセットに戻
された時点で１枚減算される。さて、ここで上記各トラ
ブル発生の有無を判断する判断ステップ（Ｓ２、Ｓ４、
Ｓ６、Ｓ８）においてＹＥＳの場合には、処理装置２４
Ａにおける処理が続行できないので、この処理装置２４
Ａに向けて搬送途中のウエハを全て元のカセットＣ１内
の元の位置に戻す（Ｓ１２）。すなわち、オリエンタ５
２の基準台７２に載置されている処理装置２４Ａ側のウ
エハや共通搬送機構４０の搬送アーム９０或いは９２に
保持されている処理装置２４Ａ向けのウエハを、カセッ
トＣ１の元の位置に戻す。そして、この戻されたウエハ
に対する搬送指令タスクは未完了として取り消される。
また例えば、オリエンタ５２の基準台７２上に載置され
ているウエハが他方の処理装置２４Ｂに向けて搬送され
ている場合には、このウエハは戻されないのは勿論であ
る。

【００２９】そして、処理装置２４Ａのトラブルが解消
されずに回復しない場合には（Ｓ１３のＮＯ）、他方の
カセットＣ２より処理装置２４Ｂへ向けてウエハは継続
的に搬送されて処理が行われることになる（Ｓ１４）。
そして、処理装置２４Ａのトラブルが解消して回復した
ならば（Ｓ１３のＹＥＳ）、Ｓ１へ戻って、カセットＣ
１からのウエハの搬送が再開されることになる。尚、未
処理のためにカセットＣ１へ戻されたウエハは、当然の
ように、制御部９４においては未処理として処理され、
クリーニング開始のための枚数管理数には処理ウエハと
して加算されないのは勿論であり、また、処理装置２４
Ａが回復した時には、再度、この戻りウエハに対して処
理装置２４Ａに向けての搬送指令タスクが形成されてそ
の指令が出されることになる。図３に示すフローでは、
カセットＣ１内のウエハについて主に着目して説明した
が、カセットＣ２内のウエハ（処理装置２４Ｂに向けて
搬送される）についても同様なフローとなり、このフロ
ーは図４に示される。この場合、先のカセットＣ１がカ
セットＣ２になり、処理装置２４Ａが処理装置２４Ｂに
代わるだけである。ここで、図３中のＳ１〜Ｓ１４は、
それぞれ図４中のＳ２１〜Ｓ３４に対応している。

【００３０】さて、図３及び図４では、それぞれカセッ
トＣ１内のウエハ及びカセットＣ２内のウエハの搬送過
程を主として説明したが、前述したように実際には両カ
セットＣ１、Ｃ２中にそれぞれ処理装置２４Ａ及び２４
Ｂに向けて搬送されるウエハが混在しており、また、各
処理装置２４Ａ及び２４Ｂ毎にクリーニング処理するた
めの製品ウエハ処理枚数が規定されており、処理のスケ
ジュールに従って、各カセットＣ１、Ｃ２からウエハが
取り出され、また、クリーニング時期にはカセットＣ３
からクリーニング用のダミーウエハが取り出されて行
く。

【００３１】次に、図５に示すフローを参照してウエハ
の実際の流れについて説明する。まず、制御部９４で行
われたスケジューリングによって定められた順序に従っ
て、各カセットＣ１〜Ｃ３のいずれかよりウエハを取り
出し（Ｓ１０１）、取り出した時点で処理装置２４Ａ、
或いは２４Ｂにトラブルが発生しているか否かを判断す
る（Ｓ１０２）。ここでいずれの処理装置２４Ａ、２４
Ｂにもトラブルが発生していない時には（Ｓ１０２のＮ
Ｏ）、この取り出したウエハをオリエンタ５２まで搬送
する（Ｓ１０２）。オリエンタ５２までの搬送が終了し
たならば、処理装置２４Ａ、或いは２４Ｂにトラブルが
発生しているか否かを判断する（Ｓ１０４）。ここでい
ずれの処理装置２４Ａ、２４Ｂにもトラブルが発生して
いない時には（Ｓ１０４のＮＯ）、この保持しているウ
エハと、先に搬送されてオリエンタ５２にて先に位置決
めされているウエハとを移し替え（取り替え）する（Ｓ
１０５）。

【００３２】この移し替えが終了したならば、処理装置
２４Ａ、或いは２４Ｂにトラブルが発生しているか否か
を判断する（Ｓ１０６）。ここでいずれの処理装置２４
Ａ、２４Ｂにもトラブルが発生していない時には（Ｓ１
０６のＮＯ）、この移し替えによって保持しているウエ
ハを対応する処理装置のロードロック室３０Ａ、或いは
３０Ｂの直前まで搬送する（Ｓ１０７）。そして、ロー
ドロック室の直前までの搬送が終了したならば、処理装
置２４Ａ、或いは２４Ｂにトラブルが発生しているか否
かを判断する（Ｓ１０８）。ここでいずれの処理装置２
４Ａ、２４Ｂにもトラブルが発生していない時には（Ｓ
１０８のＮＯ）、この搬送してきたウエハとロードロッ
ク室３０Ａ或いは３０Ｂ内に待機している処理済みのウ
エハとを移し替え（取り替え）を行う（Ｓ１０９）。次
に、この移し替えによって保持している処理済みのウエ
ハを元のカセットへ搬送し、このカセット内の元の位置
へ戻す（Ｓ１１０）。そして、未処理のウエハが存在す
る場合には（Ｓ１１１のＹＥＳ）、再度Ｓ１０１へ戻
り、未処理のウエハが存在しない場合には処理を終了す
る。

【００３３】ここで上記各トラブル存否の判断ステップ
Ｓ１０２、Ｓ１０４、Ｓ１０６、Ｓ１０８でトラブル有
りと判断された場合には、それぞれどちらの処理装置２
４Ａ、或いは２４Ｂでトラブルが発生したか否かを判断
する（Ｓ１１２、Ｓ１１３、Ｓ１１４、Ｓ１１５）。上
記判断の結果、処理装置２４Ａにトラブルが発生してい
る場合には、搬送途中の処理装置２４Ａ向けのウエハを
元のカセットに戻す（Ｓ１１６）。この元に戻すウエハ
は、丁度、処理装置２４Ａのクリーニング時期に対応し
ていればクリーニング用のウエハである場合もある。ま
た、この際、共通搬送機構４０の搬送アーム９０或いは
９２及びオリエンタ５２の基準台７２上に共に処理装置
２４Ａ向けのウエハを保持している時には、各ウエハを
順次元のカセットに戻す。また、共通搬送機構４０の搬
送アーム９０或いは９２及びオリエンタ５２の基準台７
２上に共に他方の処理装置２４Ｂ向けのウエハを保持し
ている時には、両ウエハの搬送はそのまま継続して行わ
れ、以後、カセットからの処理装置２４Ａ向けのウエハ
の取り出しは停止される。

【００３４】また、オリエンタ５２の基準台７２上にト
ラブルの発生した処理装置２４Ａ向けのウエハが載置さ
れており、搬送アーム９０或いは９２には他方の正常な
処理装置２４Ｂ向けのウエハを保持している時には、搬
送アーム９０或いは９２に保持しているウエハを処理装
置２４Ｂのロードロック室３０Ｂへ搬送した後に、上記
基準台７２上のウエハを元のカセットへ戻す。また逆
に、オリエンタ５２の基準台７２上に正常な処理装置２
４Ｂ向けのウエハが載置されており、搬送アーム９０或
いは９２には他方のトラブルの発生した処理装置２４Ａ
向けのウエハを保持している時には、搬送アーム９０或
いは９２に保持しているウエハを元のカセットへ戻し、
次に、基準台７２上のウエハを正常な処理装置２４Ｂに
向けて搬送して行く。そして、処理装置２４Ａのトラブ
ルが回復するまで、他方の正常な処理装置２４Ｂに向け
てのウエハ（クリーニング用のウエハも含む）の搬送及
びその処理は継続して行われる（Ｓ１１７、Ｓ１１
８）。これにより、正常な処理装置２４Ｂでの処理が連
続して行われ、処理システム全体が停止することを防止
することができる。

【００３５】これに対して、上記各ステップ（Ｓ１１
２、Ｓ１１３、Ｓ１１４、Ｓ１１５）の判断の結果、他
方の処理装置２４Ｂにトラブルが発生している場合に
は、搬送途中の処理装置２４Ｂ向けのウエハを元のカセ
ットに戻す（Ｓ１１９）。この元に戻すウエハは、丁
度、処理装置２４Ｂのクリーニング時期に対応していれ
ばクリーニング用のウエハである場合もある。また、こ
の際、共通搬送機構４０の搬送アーム９０或いは９２及
びオリエンタ５２の基準台７２上に共に処理装置２４Ｂ
向けのウエハを保持している時には、各ウエハを順次元
のカセットに戻す。また、共通搬送機構４０の搬送アー
ム９０或いは９２及びオリエンタ５２の基準台７２上に
共に他方の処理装置２４Ａ向けのウエハを保持している
時には、両ウエハの搬送はそのまま継続して行われ、以
後、カセットからの処理装置２４Ｂ向けのウエハの取り
出しは停止される。

【００３６】また、オリエンタ５２の基準台７２上にト
ラブルの発生した処理装置２４Ｂ向けのウエハが載置さ
れており、搬送アーム９０或いは９２には他方の正常な
処理装置２４Ａ向けのウエハを保持している時には、搬
送アーム９０或いは９２に保持しているウエハを処理装
置２４Ａのロードロック室３０Ａへ搬送した後に、上記
基準台７２上のウエハを元のカセットへ戻す。また逆
に、オリエンタ５２の基準台７２上に正常な処理装置２
４Ａ向けのウエハが載置されており、搬送アーム９０或
いは９２には他方のトラブルの発生した処理装置２４Ｂ
向けのウエハを保持している時には、搬送アーム９０或
いは９２に保持しているウエハを元のカセットへ戻し、
次に、基準台７２上のウエハを正常な処理装置２４Ａに
向けて搬送して行く。そして、処理装置２４Ｂのトラブ
ルが回復するまで、他方の正常な処理装置２４Ａに向け
てのウエハ（クリーニング用のウエハも含む）の搬送及
びその処理は継続して行われる（Ｓ１２０、Ｓ１２
１）。これにより、正常な処理装置２４Ａでの処理が連
続して行われ、処理システム全体が停止することを防止
することができる。

【００３７】尚、上記実施例では、２つの処理装置２４
Ａ、２４Ｂでは、共に異なる処理を施す場合を例にとっ
て説明したが、取り付ける処理装置によっては、両処理
装置２４Ａ、２４Ｂでは共に同一処理を施すように設定
することができる。この場合には、製品ウエハはどちら
の処理装置２４Ａ、２４Ｂで処理を行ってもよいことか
ら、例えば一方の処理装置、例えば２４Ａに向けて一旦
搬送されたウエハが、その搬送途中で処理装置２４Ａに
トラブルが発生して戻されてきた時には、この戻された
ウエハに対して再スケジューリングして、今度は他方の
正常な処理装置２４Ｂに向けての搬送指令タスクが形成
されて、その指令を出すように制御する。

【００３８】また、本実施例では、一動作ユニット毎に
処理装置２４Ａ、２４Ｂのトラブルの発生の有無を検出
するようにしたが、これに限定されず、このトラブルの
発生の有無を、例えば数ｍｓｅｃ毎に検出して、トラブ
ルの発生を検知したならば、移送途中、例えば共通搬送
機構４０が目標とする位置に向かってＸ方向へ移動して
いる途中にトラブルが発生したならば、目標とする位置
に到達する前にその動作を停止して元のカセットへ戻す
ための動作へ移行するようにしてもよい。更に、この処
理システム２２では、２つの処理装置２４Ａ、２４Ｂと
３つの被処理体待機ポート３６Ａ、３６Ｂ、３６Ｃを設
けた場合を例にとって説明したが、これに限定されず、
更に多くの処理装置及び待機ポートを設けるようにして
もよい。また、ここではオリエンタ５２を設けた処理シ
ステム２２を例にとって説明したが、このオリエンタ５
２を設けていない処理システムにも、本発明を適用する
ことができる。

【００３９】また、上記実施例では細長い箱状の共通搬
送室２８に、ロードロック室３０Ａ、３０Ｂと処理室３
２Ａ、３２Ｂを連結してなる処理装置２４Ａ、２４Ｂを
設け、この共通搬送室２８内にスライド移動可能に搬送
機構４０を設けてなる処理システムを例にとって説明し
たが、これに限定されず、例えば図６に示すように、多
角形、例えば６角形状の共通搬送室２８内の中心に図１
にて示したと同様な搬送機構４０（Ｘ方向のスライド移
動はなし）を設け、この周囲に例えば４つの処理装置２
４Ａ〜２４Ｄ及び２つのチャンバ状のカセット台３６
Ａ、３６Ｂを設けてなる、いわゆるクラスタツール型の
処理システムについても本発明を適用することができ
る。

【００４０】この場合には、６角形状の共通搬送室２８
内の一部に、基準台７２と光学センサ８４とよりなるオ
リエンタ５２を設けている。このように、本発明は、例
えば４角形、或いは前述したような６角形などの多角形
の共通搬送室の各辺に複数の処理装置やオリエンタを接
合したような、いわゆるクラスタツール型の処理システ
ムや、上記共通搬送室内にオリエンタを内蔵した形式の
処理システムについても本発明を適用できるのは勿論で
ある。更には、ここでは共通搬送機構４０に２本の搬送
アーム９０、９２を設けた形式の処理システムについて
説明したが、これに限定されず、共通搬送機構が１本の
搬送アームしか有しない形式の処理システムについても
本発明を適用できる。また、ここでは被処理体として半
導体ウエハＷを例にとって説明したが、これに限定され
ず、ガラス基板、ＬＣＤ基板等にも本発明を適用するこ
とができる。

【００４１】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の処理シス
テム及び処理システムの被処理体の搬送方法によれば、
次のように優れた作用効果を発揮することができる。請
求項１、３〜５、８〜１０の発明によれば、複数の処理
装置の内の一部にトラブルが発生しても、上記トラブル
の発生した処理装置に向けて搬送されていた搬送途中の
被処理体は、一旦、元の被処理体待機ポートへ戻される
ので、トラブルの発生していない他の処理装置へは引き
続いて被処理体を搬送してこれに所定の処理を施すこと
ができる。従って、処理システム自体の使用効率を向上
させてスループットも改善することができる。請求項２
の発明によれば、搬送途中には位置決め装置も含まれて
おり、トラブルの発生した処理装置に向けて搬送されて
いた被処理体が位置決め装置上に待機している場合に
は、この被処理体を元の被処理体待機ポートへ戻すこと
ができる。請求項６、７の発明によれば、処理されるこ
となく被処理体待機ポートへ戻された被処理体は処理済
みの被処理体としてはカウントされないので、正確に所
定の処理枚数毎に処理装置をクリーニングすることがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る被処理体の処理システムを示す概
略構成図である。

【図２】図１に示す処理システムを模式的に示す図であ
る。

【図３】一方のカセットから一方の処理装置に向けて搬
送される被処理体の流れを主として説明するためのフロ
ーチャートである。

【図４】他方のカセットから他方の処理装置に向けて搬
送される被処理体の流れを主として説明するためのフロ
ーチャートである。

【図５】各カセットから搬送される被処理体の流れを統
合的に説明するためのフローチャートである。

【図６】本発明の処理システムの他の一例を示す概略構
成図である。

【図７】従来の被処理体の処理システムを示す概略構成
図である。

【符号の説明】

２２ 処理システム ２４ 処理ユニット ２４Ａ，２４Ｂ 処理装置 ２６ 搬送ユニット ２８ 共通搬送室 ３０Ａ，３０Ｂ ロードロック室 ３２Ａ，３２Ｂ 処理室 ３６Ａ〜３６Ｃ カセット台（被処理体待機ポート） ４０ 共通搬送機構 ５２ オリエンタ（位置決め装置） ７２ 基準台 ９４ 制御部 Ｗ 半導体ウエハ（被処理体）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 飯島 清仁 東京都港区赤坂五丁目３番６号 ＴＢＳ放 送センター東京エレクトロン株式会社内 Ｆターム(参考） 5F031 CA02 CA20 FA01 FA11 FA12 FA15 GA43 GA47 GA48 GA50 JA31 JA51 PA03 PA10 PA24

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体に対して所定の処理を施す複数
   の処理装置と、 処理すべき被処理体を待機させる被処理体待機ポート
   と、 前記複数の処理装置と前記被処理体待機ポートとの間で
   前記被処理体を搬送する共通搬送機構と、 前記共通搬送機構の動作を制御する制御部とを有する処
   理システムにおいて、 前記制御部は、前記共通搬送機構が前記被処理体を搬送
   中にて前記搬送途中の被処理体の搬送先の処理装置のト
   ラブルを検出した時には、前記搬送中の被処理体を前記
   被処理体待機ポートへ戻すと共にトラブルが発生してい
   ない処理装置に対しては被処理体を搬送するように制御
   することを特徴とする処理システム。
2. 【請求項２】 被処理体に対して所定の処理を施す複数
   の処理装置と、 処理すべき被処理体を待機させる被処理体待機ポート
   と、 前記複数の処理装置と前記被処理体待機ポートとの間で
   前記被処理体を搬送する共通搬送機構と、 前記共通搬送機構に連設されて、搬送途中の被処理体の
   位置決めを行う位置決め装置と、 前記共通搬送機構の動作を制御する制御部とを有する処
   理システムにおいて、 前記制御部は、前記共通搬送機構が前記位置決め装置を
   経由して前記被処理体を搬送中にて前記搬送途中の被処
   理体の搬送先の処理装置のトラブルを検出した時には、
   前記搬送中の被処理体を前記被処理体待機ポートへ戻す
   と共にトラブルが発生していない処理装置に対しては被
   処理体を搬送するように制御することを特徴とする処理
   システム。
3. 【請求項３】 前記制御部は、前記処理装置のトラブル
   の検出の判断を、前記共通搬送機構の一動作ユニット毎
   に行うことを特徴とする請求項１または２記載の処理シ
   ステム。
4. 【請求項４】 前記共通搬送機構は、独立して屈伸及び
   旋回可能になされた複数の搬送アームを有していること
   を特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の処理シ
   ステム。
5. 【請求項５】 前記被処理体には、前記処理装置をクリ
   ーニング処理する時に用いるクリーニング用被処理体が
   含まれることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに
   記載の処理システム。
6. 【請求項６】 前記制御部は、前記各処理装置が前記被
   処理体をそれぞれ所定の枚数処理する毎に前記クリーニ
   ング用被処理体を搬送すると共に、前記所定の枚数には
   前記途中で戻された被処理体は含まれていないように計
   測していることを特徴とする請求項５記載の処理システ
   ム。
7. 【請求項７】 前記制御部は、前記所定の枚数の枚数管
   理数を、前記被処理体が前記被処理体待機ポートから搬
   出された時点で１を加算し、未処理の被処理体が前記被
   処理体待機ポートへ戻ってきた時点で１を減算するよう
   に構成したことを特徴とする請求項６記載の処理システ
   ム。
8. 【請求項８】 前記複数の処理装置では、互いに異種の
   処理が行われることを特徴とする請求項１乃至７のいず
   れかに記載の処理システム。
9. 【請求項９】 前記複数の処理装置では、互いに同種の
   処理が行われることを特徴とする請求項１乃至７のいず
   れかに記載の処理システム。
10. 【請求項１０】 被処理体に対して所定の処理を施す複
    数の処理装置と、 処理すべき被処理体を待機させる被処理体待機ポート
    と、 前記複数の処理装置と前記被処理体待機ポートとの間で
    前記被処理体を搬送する共通搬送機構と、 前記共通搬送機構の動作を制御する制御部とを有する処
    理システムの被処理体の搬送方法において、 前記共通搬送機構が前記被処理体を搬送中にて前記搬送
    途中の被処理体の搬送先の処理装置のトラブルを検出し
    た時には、前記搬送中の被処理体を前記被処理体待機ポ
    ートへ戻すと共にトラブルが発生していない処理装置に
    対しては被処理体を搬送するように構成したことを特徴
    とする処理システムの被処理体の搬送方法。