JP2002249504A - 光重合性組成物 - Google Patents
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Abstract
印刷版原版の記録層として有用で、記録層を形成した場
合にも塑性流動を生じず、重ねて保存した場合の記録層
の接着、変形、傷つきなどが抑制された光重合性組成物
を提供する。 【解決手段】 (A)25℃において固体であり、且
つ、分子内に少なくとも1つのラジカル重合可能なエチ
レン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、(B)ラ
ジカル重合開始剤、(C)バインダーポリマー、及び所
望により(D)赤外線露光により熱を発生する化合物を
含有し、露光により硬化することを特徴とする。(A)
成分としては、分子内にアミド結合を有するアクリレー
トおよびメタクリレート類、スチレン類やアクリルアミ
ドおよびメタクリルアミド類等が好ましい。
Description
赤外線などの露光により硬化し得る光重合性組成物に関
し、詳細には、ネガ型平版印刷版原版の記録層として好
適な光重合性組成物に関する。
ら直接製版するシステムが種々開発されており、例え
ば、青色又は緑色の可視光を発光するレーザを用い露光
する光重合系の画像形成材料は、アルゴンレーザ等に感
応性であり、光重合開始系を利用した高感度な直接製版
が可能である点、光重合により硬化した塗膜の強靭さに
よる高耐刷性を達成し得る平版印刷版の記録層として注
目されている。例えば、アルゴンレーザー等の可視レー
ザーに感応する光重合開始系を利用したレーザー刷版と
しては、支持体としてのアルミニウム板上に、付加重合
可能なエチレン性二重結合を含む化合物と光重合開始
剤、さらに所望により用いられる有機高分子結合剤、熱
重合禁止剤等からなる光重合性組成物層を設け、更にそ
の上に重合を阻害する酸素の遮断層を設けたもが用いら
れている。これらの光重合性平版印刷版は、所望の画像
を像露光して露光部分を重合硬化させ、未露光部をアル
カリ水溶液で除去する(現像)ことにより、画像を得る
ものである。
特に波長760nmから1200nmの赤外線を放射す
る固体レーザ及び半導体レーザは、高出力かつ小型のも
のが容易に入手できるようになっている。コンピュータ
等のデジタルデータから直接製版する際の記録光源とし
て、これらのレーザは非常に有用である。このため、前
記したような実用上有用な、感光波長が760nm以下
の可視光域にある多くの感光性記録材料に加えて、これ
らの赤外線レーザで記録可能な材料が望まれており、例
えば、ネガ型の画像記録材料としては、赤外線吸収剤、
光又は熱重合開始剤と、重合或いは架橋形成可能な官能
基を有する化合物とを有する光重合性組成物が記録層と
して用いられるようになってきている。
ものも、赤外線により硬化するものも、基本的にはラジ
カル発生剤のような重合開始剤、重合性の官能基を有す
るモノマーさらには記録層の膜性を向上させるためのバ
インダーポリマーを含み、露光、或いは加熱により露光
(加熱)領域の開始剤よりラジカルが発生し、そのラジ
カルにより重合性化合物が重合/架橋反応を生起し、記
録層の硬化反応が行われ、画像部が形成されるものであ
る。このような光重合性組成物は、多量の重合性化合物
を含有し、それらはモノマー、或いはオリゴマーなどの
比較的低分子量の化合物である場合が多い。
て、保存、搬送され、その際に、感光層表面と支持体裏
面とが密着する。ネガ型の記録層として、露光により硬
化するタイプの光重合性組成物は、架橋或いは重合によ
り硬化する前の感光層では強度が比較的低く、また、重
合性の低分子量化合物を多く含むため、記録層が比較的
柔らかく、塑性流動が生じやすい。このため、支持体と
感光層とが密着し易く、1枚ずつ取出そうとする場合に
剥離しにく、また、積層体がずれたとき、或いは、積層
体の一番上の版から順次、処理のために搬出される際
に、塑性流動に起因する記録層の変形や、こすれによる
記録層表面のキズ付きなどの問題が生じ、作業性が低下
する、剥離時の記録層の傷付きにより画像故障が生じる
などの問題があった。
光や赤外線レーザにより高感度で硬化し、コンピュータ
ー等のデジタルデータから直接記録可能なネガ型平版印
刷版原版の記録層として有用であり、且つ、記録層を形
成した場合にも塑性流動を生じず、重ねて保存した場合
でも記録層の接着、変形、傷つきなどを抑制することが
でき、優れた画質の画像を形成しうる光重合性組成物を
提供することにある。
成物に大量に含まれる重合性化合物に着目し、鋭意検討
の結果、特定の物性を有する重合性化合物を用いること
で上記目的が達成できることを見出し、本発明を完成す
るに至った。即ち、本発明の光重合性組成物は、(A)
25℃において固体であり、且つ、分子内に少なくとも
1つのラジカル重合可能なエチレン性不飽和二重結合を
有する重合性化合物、(B)ラジカル重合開始剤、及び
(C)バインダーポリマーを含有し、露光により硬化す
ることを特徴とする。この光重合性組成物は光増感剤を
含有することが記録感度の観点から好ましい。この光重
合性組成物に、さらに、(D)赤外線露光により熱を発
生する化合物を含有させることで、赤外線レーザ露光に
より硬化させることが可能となる。
チレン性不飽和二重結合を有する重合性化合物として、
25℃において固体状のものを使用するため、未露光時
に応力がかかった場合においても、重合性の低分子化合
物に起因する組成物の塑性流動が生じず、例えば、平版
印刷版原版の記録層として用いた場合にも、記録層の塑
性変形に起因する変形や傷つきを効果的に抑制すること
ができ、優れた画質の画像形成が可能となる。通常、紫
外線或いは可視光の露光に用いる光重合性組成物は、平
版印刷版の記録層として用いる場合、酸素遮断膜である
保護層の存在が必須となっているため、記録層が雰囲気
下に暴露されることが少なく、塑性流動によるダメージ
を受けにくいが、赤外線露光の場合には、局所的な急激
な発熱により画像形成するヒートモード記録を行うた
め、必ずしも酸素遮断層は必要とせず、このような記録
層として用いた場合、本発明の効果が顕著であるといえ
る。
本発明の光重合性組成物は、開始剤及び所望により添加
される光増感剤と共に重合性化合物として、25℃にお
いて固体である化合物を用いることを特徴とする。本発
明の光重合性組成物の構成成分について順次説明する。
つ、分子内に少なくとも1つのラジカル重合可能なエチ
レン性不飽和二重結合を有する重合性化合物(以下、適
宜固体重合性化合物と称する)]本発明に係る固体重合
性化合物は、分子内に少なくとも一個のエチレン性不飽
和二重結合を有するラジカル重合性化合物であり、末端
エチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2
個以上有する化合物であって、25℃において固体であ
るモノマー或いはオリゴマーから選択される。本発明に
好適に用い得る固体重合性化合物としては、物性でいえ
ば、好ましくは融点またはガラス転移点が25℃以上で
ある化合物が挙げられ、さらに好ましくは融点またはガ
ラス転移点が40℃以上である化合物から選択される。
また、分子構造の観点からは、分子内にアミド結合を含
有する化合物が好ましい。アミド結合は、分子の局部的
な分極を促進し、分子間の静電的引力を増大させる特性
を有しており、このため、分子内にアミド結合を導入す
ることで、融点またはガラス転移点を高温度とすること
ができるためである。
としては、具体的には、以下の化合物が挙げられるが、
本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、ト
リス(アクリロキシエチル)イソシアヌレート、トリス
(メタクリロキシエチル)イソシアヌレート、1,3,
5−トリス(2−アクリロキシエチルアミノカルボニ
ル)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−メタクリロキ
シエチルアミノカルボニル)ベンゼン、等の分子内にア
ミド結合を有するアクリレートおよびメタクリレート
類;N−シクロへキシルアクリルアミド、N−シクロヘ
キシルメタクリルアミド、N,N’−ジアクリロイルヘ
キサメチレンジアミン、N,N’−ジメタクリロイルヘ
キサメチレンジアミン、p−ビス(アクリロイルアミ
ノ)ベンゼン、p−ビス(メタクリロイルアミノ)ベン
ゼン、1,3,5−トリス(2−アクリロイルアミノエ
トキシカルボニル)ベンゼン、1,3,5−トリス(2
−メタクリロイルアミノエトキシカルボニル)ベンゼ
ン、等のアクリルアミドおよびメタクリルアミド類;
N,N’−ビス(スチリルカルボニル)ヘキサメチレン
ジアミン、N,N’−ビス(スチリルカルボニル)−
1,4−シクロヘキシレンジアミン、1,3,5−トリ
ス(2−スチリルカルボニルアミノエトキシカルボニ
ル)ベンゼン、1,3,5−トリス(2−スチリルカル
ボキシルエチルアミノカルボニル)ベンゼン、等の分子
内にアミド結合を有するスチレン類;等が挙げられる。
保持している限りにおいて、例えばモノマー、プレポリ
マー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、また
はそれらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学
的形態をもつものであってもよい。固体重合性化合物
は、1種のみを用いてもよく、また、所望により2種以
上を併用してもよい。この固体重合性化合物は、本発明
の光重合性組成物中、固形分で5〜80重量%含有され
ることが好ましく、10〜60重量%であることがさら
に好ましい。
明の効果を損なわない限りにおいて、一般的な重合性化
合物を併用することもできるが、これらの添加量は、組
成物が塑性流動を発現しない範囲に限定され、具体的に
は、光重合性組成物の固体分に対して30重量%以下の
範囲で添加することができる。
とも一個のエチレン性不飽和二重結合を有する公知のラ
ジカル重合性化合物から選ばれる。これらは、例えばモ
ノマー、プレポリマー、オリゴマー、またはそれらの混
合物ならびにそれらの共重合体などの化学的形態をも
つ。モノマーおよびその共重合体の例としては、不飽和
カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタ
コン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸な
ど)や、そのエステル類、アミド類があげられ、好まし
くは、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物
とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化
合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシル基
や、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する
不飽和カルボン酸エステル、アミド類と単官能もしくは
多官能イソシアネート類、エポキシ類との付加反応物、
単官能もしくは、多官能のカルボン酸との脱水縮合反応
物等も好適に使用される。また、イソシアナート基やエ
ポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸
エステルまたはアミド類と、単官能もしくは多官能のア
ルコール類、アミン類およびチオール類との付加反応
物、さらに、ハロゲン基やトシルオキシ基等の脱離性置
換基を有する不飽和カルボン酸エステルまたはアミド類
と、単官能もしくは多官能のアルコール類、アミン類お
よびチオール類との置換反応物も好適である。また、別
の例として、上記の不飽和カルボン酸の代わりに、不飽
和ホスホン酸、スチレン等に置き換えた化合物群を使用
する事も可能である。
いて好適に用いられるラジカル重合開始剤は、光、熱、
輻射線などのエネルギー付与によりラジカルを発生する
化合物から選択され、重合を発現させるために用いる光
源の波長により、特許、文献等で公知である種々の光開
始剤、あるいは2種以上の光開始剤の併用系(光開始
系)を適宜選択して使用することができる。例えば40
0nm以下の紫外光を光源として用いる場合、ベンジ
ル、ベンゾインエーテル、ミヒラーズケトン、アントラ
キノン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン等が
広く使用されている。
ザー、YAG−SHGレーザーを光源とする場合にも、
種々の光開始系が提案されており、例えば、米国特許
2,850,445号に記載のある種の感光性染料、染
料とアミンの複合開始系(特公昭44−20189
号)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤
と染料との併用系(特公昭45−37377号)、ヘキ
サアリールビイミダゾールとp−ジアルキルアミノベン
ジリデンケトンの系(特公昭47−2528号、特開昭
54−155292号)、環状シス−α−ジカルボニル
化合物と染料の系(特開昭48−84183号)、置換
トリアジンとメロシアニン色素の系(特開昭54−15
1024号)、3−ケトクマリンと活性剤の系(特開昭
52−112681号、特開昭58−15503号)、
ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系(特開
昭59−140203号)、有機過酸化物と色素の系
(特開昭59−140203号、特開昭59−1893
40号)、ローダニン骨格の色素とラジカル発生剤の系
(特開平2−244050号)チタノセンと3−ケトク
マリン色素の系(特開昭63−221110号)、チタ
ノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレタ
ン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を組
み合わせた系(特開平4−221958号、特開平4−
219756号)、チタノセンと特定のメロシアニン色
素の系(特開平6−295061号)等を挙げることが
できる。
する場合には、感度の観点からオニウム塩が好ましく挙
げらる。オニウム塩としては、具体的には、ヨードニウ
ム塩、ジアゾニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。
これらのオニウム塩は酸発生剤としての機能も有する
が、本組成物では、前記固体状のラジカル重合性化合物
と併用されるため、ラジカル重合の開始剤として機能す
る。本発明において好適に用いられるオニウム塩は、下
記一般式(III)〜(V)で表されるオニウム塩であ
る。
れ独立に、置換基を有していても良い炭素原子数20個
以下のアリール基を示す。このアリール基が置換基を有
する場合の好ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニ
トロ基、炭素原子数12個以下のアルキル基、炭素原子
数12個以下のアルコキシ基、または炭素原子数12個
以下のアリールオキシ基が挙げられる。Z11-はハロゲ
ンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイ
オン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスル
ホン酸イオンからなる群より選択される対イオンを表
し、好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォ
スフェートイオン、およびアリールスルホン酸イオンで
ある。
ても良い炭素原子数20個以下のアリール基を示す。好
ましい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素
原子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下
のアルコキシ基、炭素原子数12個以下のアリールオキ
シ基、炭素原子数12個以下のアルキルアミノ基、炭素
原子数12個以下のジアルキルアミノ基、炭素原子数1
2個以下のアリールアミノ基または、炭素原子数12個
以下のジアリールアミノ基が挙げられる。Z21 -はZ11-
と同義の対イオンを表す。
ぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していて
も良い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ま
しい置換基としては、ハロゲン原子、ニトロ基、炭素原
子数12個以下のアルキル基、炭素原子数12個以下の
アルコキシ基、または炭素原子数12個以下のアリール
オキシ基が挙げられる。Z31-はZ11-と同義の対イオン
を表す。
るオニウム塩の具体例としては、特願平11−3106
23号明細書の段落番号[0030]〜[0033]に
記載されたものを挙げることができる。
極大吸収波長が400nm以下であることが好ましく、
さらに360nm以下であることが好ましい。このよう
に吸収波長を紫外線領域にすることにより、平版印刷版
原版の取り扱いを白灯下で実施することができる。
も良いし、2種以上を併用しても良い。これらの重合開
始剤は、光重合性組成物の全固形分に対し0.1〜50
重量%、好ましくは0.5〜30重量%、特に好ましく
は1〜20重量%の割合で添加することができる。添加
量が0.1重量%未満であると感度が低くなり、また5
0重量%を越えると例えば、この組成物を平版印刷版の
記録層として用いた場合、印刷時非画像部に汚れが発生
しやすくなる。これらの重合開始剤は他の成分と同一の
層に添加してもよいし、別の層を設けそこへ添加しても
よい。
重合性組成物においては、重合性化合物として固体状の
ものを使用するため、固体重合性化合物の保持と被膜形
成の機能を果たすためのバインダーポリマーを添加す
る。バインダーとしては線状有機ポリマーを用いること
が好ましい。このような「線状有機ポリマー」として
は、どのようなものを使用しても構わない。なお、本発
明の光重合性組成物を平版印刷版の記録層として用いる
場合には、水あるいはアルカリ水による現像を可能とす
るために、水あるいはアルカリ水に可溶または膨潤可能
な線状有機ポリマーを選択することが好ましい。線状有
機ポリマーは、記録層を形成するための皮膜形成剤とし
てだけでなく、水、弱アルカリ水あるいは有機溶剤によ
る現像性向上剤としての用途に応じて選択使用される。
例えば、水可溶性有機ポリマーを用いると水現像が可能
になる。このような線状有機ポリマーとしては、側鎖に
カルボン酸基を有するラジカル重合体、例えば特開昭5
9−44615号、特公昭54−34327号、特公昭
58−12577号、特公昭54−25957号、特開
昭54−92723号、特開昭59−53836号、特
開昭59−71048号に記載されているもの、すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。ま
た同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸性セルロース誘
導体がある。この他に水酸基を有する重合体に環状酸無
水物を付加させたものなどが有用である。
ル基と、カルボキシル基を側鎖に有する(メタ)アクリ
ル樹脂が、膜強度、感度、現像性のバランスに優れてお
り、好適である。
−120041号、特公平7−120042号、特公平
8−12424号、特開昭63−287944号、特開
昭63−287947号、特開平1−271741号、
特願平10−116232号等に記載される酸基を含有
するウレタン系バインダーポリマーは、非常に、強度に
優れるので、耐刷性・低露光適性の点で有利である。
して、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイド
等が有用である。また硬化皮膜の強度を上げるためにア
ルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。
子量については好ましくは5000以上であり、さらに
好ましくは1万〜30万の範囲であり、数平均分子量に
ついては好ましくは1000以上であり、さらに好まし
くは2000〜25万の範囲である。多分散度(重量平
均分子量/数平均分子量)は1以上が好ましく、さらに
好ましくは1.1〜10の範囲である。
ブロックポリマー、グラフトポリマー等いずれでもよい
が、ランダムポリマーであることが好ましい。
単独で用いても混合して用いてもよい。これらポリマー
は、光重合性組成物の全固形分に対し20〜95重量
%、好ましくは30〜90重量%の割合で添加される。
添加量が20重量%未満の場合は、画像形成した際、画
像部の強度が不足する。また添加量が95重量%を越え
る場合は、画像形成されない。またラジカル重合可能な
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物と線状有機ポ
リマーは、重量比で1/9〜7/3の範囲とするのが好
ましい。
られる他の化合物について以下に述べる。 [(D)赤外線露光により熱を発生する化合物]本発明
の光重合性組成物を赤外線を発するレーザで記録するた
めに用いる場合には、赤外線露光により熱を発生する化
合物(以下、適宜、赤外線吸収剤と称する)を添加する
ことが好ましい。赤外線吸収剤は、吸収した赤外線を熱
に変換する機能を有しており、この際発生した熱によ
り、ラジカル発生剤が分解し、ラジカルを発生する。本
発明において使用される赤外線吸収剤は、波長760n
mから1200nmに吸収極大を有する染料又は顔料で
ある。
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、例えば、特開平10−39509号公報の段落番
号[0050]〜[0051]に記載のものを挙げるこ
とができる。これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウム
塩、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さらに、シ
アニン色素が好ましく、特に下記一般式(I)で示され
るシアニン色素が最も好ましい。
X2−L1またはNL2L3を示す。ここで、X2は酸素原
子または、硫黄原子を示し、L1は、炭素原子数1〜1
2の炭化水素基を示し、L2及びL3はそれぞれ独立に炭
素原子数1〜12の炭化水素基を示す。R1およびR
2は、それぞれ独立に、炭素原子数1〜12の炭化水素
基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、R1および
R2は、炭素原子数2個以上の炭化水素基であることが
好ましく、さらに、R1とR2とは互いに結合し、5員環
または6員環を形成していることが特に好ましい。Ar
1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置
換基を有していても良い芳香族炭化水素基を示す。
Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なっていても良く、硫
黄原子または炭素原子数12個以下のジアルキルメチレ
ン基を示す。R 3、R4は、それぞれ同じでも異なってい
ても良く、置換基を有していても良い炭素原子数20個
以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭
素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、
スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7およびR8は、そ
れぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子または炭
素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性
から、好ましくは水素原子である。また、Z1-は、対ア
ニオンを示す。ただし、R1〜R8のいずれかにスルホ基
が置換されている場合は、Z1-は必要ない。好ましいZ
1-は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオ
ン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、
ヘキサフルオロホスフェートイオン、およびスルホン酸
イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、ヘキ
サフルオロフォスフェートイオン、およびアリールスル
ホン酸イオンである。
る一般式(I)で示されるシアニン色素の具体例として
は、特願平11−310623号明細書の段落番号[0
017]〜[0019]に記載されたものを挙げること
ができる。
市販の顔料及びカラーインデックス(C.I.)便覧、
「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会編、1977年
刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年
刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、1984年刊)
に記載されている顔料が利用できる。
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。これらの顔料の詳細
は、特開平10−39509号公報の段落番号[005
2]〜[0054]に詳細に記載されており、これらを
本発明にも適用することができる。これらの顔料のうち
好ましいものはカーボンブラックである。
は顔料の含有量としては、組成物の全固形分重量に対
し、0.01〜50重量%が好ましく、0.1〜10重
量%がより好ましく、さらに染料の場合には、0.5〜
10重量%が最も好ましく、顔料の場合には、1.0〜
10重量%が最も好ましい。前記含有量が、0.01重
量%未満であると、感度が低くなることがあり、50重
量%を超えると、平版印刷用原版とした場合の非画像部
に汚れが発生することがある。
に応じてこれら以外に種々の化合物を添加してもよい。
例えば、可視光域に大きな吸収を持つ染料を画像の着色
剤として使用することができる。また、フタロシアニン
系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チタンな
どの顔料も好適に用いることができる。これらの着色剤
は、本発明の組成物を平版印刷版の記録層として用いる
際に、画像形成後、画像部と非画像部の区別をつきやす
くする目的で添加される。なお、添加量は、組成物全固
形分に対し、0.01〜10重量%の割合である。
中あるいは保存中においてラジカル重合可能なエチレン
性不飽和二重結合を有する化合物の不要な熱重合を阻止
するために少量の熱重合防止剤を添加することが望まし
い。適当な熱重合防止剤としてはハイドロキノン、p−
メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾー
ル、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノ
ン、4,4′−チオビス(3−メチル−6−t−ブチル
フェノール)、2,2′−メチレンビス(4−メチル−
6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソ−N−フェ
ニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩等が挙げられ
る。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に対して
約0.01重量%〜約5重量%が好ましい。また必要に
応じて、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸
やベヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加し
て、塗布後の乾燥の過程で感光層の表面に偏在させても
よい。高級脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約0.
1重量%〜約10重量%が好ましい。
対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251
740号や特開平3−208514号に記載されている
ような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044
号、特開平4−13149号に記載されているような両
性界面活性剤を添加することができる。
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
ルジ(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエ
チルグリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエ
チル−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイ
ン、N−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、
商品名アモーゲンK、第一工業(株)製)等が挙げられ
る。
剤の感光層塗布液中に占める割合は、0.05〜15重
量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5重量%であ
る。
じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加えられ
る。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブ
チル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸
ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジ
ル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン
酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
いて局所的に付与されたエネルギーによりラジカル開始
剤が分解し、ラジカルが発生する。そのときに発生する
酸や熱により、おそらくは会合体又は微結晶で存在して
いると推測される固体重合性化合物が溶融し、反応性と
なり、その重合可能な官能基にラジカルが作用して硬化
反応が進行する。このとき、可視光や赤外線露光を行う
場合には、開始剤系に光熱変換能を有する染料や顔料が
存在するため、熱により重合性化合物が速やかに溶融
し、反応が進行するため、本発明の光重合性組成物は、
露光による発熱を伴う可視光や赤外線露光に用いること
が感度の観点から好ましく、特に、赤外線吸収剤を併用
するため局所的な高エネルギーの発熱が生じる赤外線レ
ーザ露光による記録に好適に用いることができる。
の記録層として用いる際には、通常、記録層塗布液とし
て、上記光重合性組成物を構成する各成分を溶媒に溶
解、分散して、適当な支持体上に塗布して記録層を形成
すればよい。ここで使用する溶媒としては、エチレンジ
クロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、
メタノール、エタノール、プロパノール、エチレングリ
コールモノメチルエーテル、1−メトキシ−2−プロパ
ノール、2−メトキシエチルアセテート、1−メトキシ
−2−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳酸メ
チル、乳酸エチル、N,N−ジメチルアセトアミド、
N,N−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレア、
N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、スルホ
ラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等を挙げるこ
とができるがこれに限定されるものではない。これらの
溶媒は単独又は混合して使用される。溶媒中の上記成分
(添加剤を含む全固形分)の濃度は、好ましくは1〜5
0重量%である。
録層塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、平版
印刷版原版についていえば一般的に0.5〜5.0g/
m2が好ましい。塗布量が少なくなるにつれて、見かけ
の感度は大になるが、画像記録の機能を果たす感光層の
皮膜特性は低下する。塗布する方法としては、種々の方
法を用いることができるが、例えば、バーコーター塗
布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、ディップ
塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール塗布等
を挙げることができる。
版印刷版原版において前記記録層を塗布可能な支持体と
しては、寸度的に安定で、所望の強度と耐久性を備えた
板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチ
ック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、ア
ルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例
えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオ
ン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロー
ス、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカー
ボネート、ポリビニルアセタール等)、上記の如き金属
がラミネート若しくは蒸着された紙又はプラスチックフ
ィルム等が挙げられる。好ましい支持体としては、ポリ
エステルフィルム又はアルミニウム板が挙げられる。
持体としては、軽量で表面処理性、加工性、耐食性に優
れたアルミニウム板を使用することが好ましい。この目
的に供されるアルミニウム材質としては、JIS 10
50材、JIS 1100材、JIS 1070材、A
l−Mg系合金、Al−Mn系合金、Al−Mn−Mg
系合金、Al−Zr系合金。Al−Mg−Si系合金な
どが挙げられる。
面処理を行い、感光層を塗布して平版印刷版原版とする
ことが出来る。粗面化処理には、機械的粗面化、化学的
粗面化、電気化学的粗面化が単独又は組み合わせて行わ
れる。また、表面のキズ付き難さを確保するための陽極
酸化処理を行ったり、親水性を増すための処理を行うこ
とも好ましい。
る。アルミニウム板を粗面化するに先立ち、必要に応
じ、表面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、
有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂処理が
行われてもよい。アルカリの場合、次いで酸性溶液で中
和、スマット除去などの処理を行ってもよい。
し、かつ非画像部に保水性を与えるため、支持体の表面
を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理がなされてい
る。この砂目立て処理法の具体的手段としては、サンド
ブラスト等の機械的砂目立て方法があり、またアルカリ
または酸あるいはそれらの混合物からなるエッチング剤
で表面を粗面化処理する化学的砂目立て方法がある。ま
た、電気化学的砂目立て方法、支持体材料に、粒状体を
接着剤またはその効果を有する方法で接着させて表面を
粗面化する方法や、微細な凹凸を有する連続帯やロール
を支持体材料に圧着させて凹凸を転写する粗面化方法等
公知の方法を適用できる。
わせて行ってもよく、その順序、繰り返し数などは任意
に選択することができる。前述のような粗面化処理すな
わち砂目立て処理して得られた支持体の表面には、スマ
ットが生成しているので、このスマットを除去するため
に適宜水洗あるいはアルカリエッチング等の処理を行う
ことが一般的に好ましい。
場合には、前述のような前処理を施した後、通常、耐摩
耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化
によって支持体に酸化皮膜を形成させる。
る電解質としては多孔質酸化皮膜を形成するものならば
いかなるものでも使用することができ、一般には硫酸、
リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはこれらの混酸が用いら
れる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によって適
宜決められる。陽極酸化の処理条件は用いる電解質によ
り種々変わるので一概に特定し得ないが、一般的には電
解質の濃度が1〜80%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲にあれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2以上が好適であるが、より好まし
くは2.0〜6.0g/m2の範囲である。陽極酸化皮
膜が1.0g/m2未満であると耐刷性が不十分であっ
たり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、印
刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚れ」
が生じ易くなる。
処理後に有機酸またはその塩による処理または、感光層
塗布の下塗り層を適用して用いることができる。
めの中間層を設けてもよい。密着性の向上のためには、
一般に中間層は、ジアゾ樹脂や、例えばアルミニウムに
吸着するリン酸化合物等からなっている。中間層の厚さ
は任意であり、露光した時に、上層の感光層と均一な結
合形成反応を行い得る厚みでなければならない。通常、
乾燥固体で約1〜100mg/m2の塗布割合がよく、
5〜40mg/m2が特に良好である。中間層中におけ
るジアゾ樹脂の使用割合は、30〜100%、好ましく
は60〜100%である。
しては、中心線平均粗さで0.10〜1.2μmであ
る。0.10μmより低いと感光層と密着性が低下し、
著しい耐刷の低下を生じてしまう。1.2μmより大き
い場合、印刷時の汚れ性が悪化してしまう。さらに支持
体の色濃度としては、反射濃度値として0.15〜0.
65であり、0.15より白い場合、画像露光時のハレ
ーションが強すぎ画像形成に支障をきたしてしまい、
0.65より黒い場合、現像後の検版作業において画像
が見難くく、著しく検版性が悪いものとなってしまう。
物を記録層とする平版印刷版原版を作成することができ
る。この平版印刷版原版は、重合開始剤に適合する波長
の種々の光源で記録できる。また、紫外線ランプやサー
マルヘッドによる熱的な記録も可能である。像露光に用
いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀灯、メ
タルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルラン
プ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、電子
線、X線、イオンビーム、遠赤外線などがある。またg
線、i線、Deep−UV光、高密度エネルギービーム(レ
ーザービーム)も使用される。レーザービームとしては
ヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザー、クリプ
トンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザー、KrF
エキシマレーザー等が挙げられる。本発明においては、
特に赤外線吸収剤を併用した系において、波長760n
mから1200nmの赤外線を放射する固体レーザ及び
半導体レーザにより画像露光されることが好ましい。レ
ーザの出力は100mW以上が好ましく、露光時間を短
縮するため、マルチビームレーザデバイスを用いること
が好ましい。また、1画素あたりの露光時間は20μ秒
以内であることが好ましい。記録材料に照射されるエネ
ルギーは10〜300mJ/cm2であることが好まし
い。
いられる現像液及び補充液としては従来より知られてい
るアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリ
ウム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同
アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同ア
ンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウ
ム及び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。
また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチル
アミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチ
ルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルア
ミン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロ
パノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、
ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらの
アルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み合わせて用い
られる。これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現像液
は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水
溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化珪素
SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率と濃度によっ
て現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特開
昭54−62004号公報、特公昭57−7427号に
記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用
いられる。
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の促進
や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性
を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶
剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオ
ン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤があ
げられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハ
イドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸など
の無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に
有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもで
きる。上記現像液及び補充液を用いて現像処理された印
刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス液、アラ
ビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処理され
る。本発明の画像記録材料を印刷版として使用する場合
の後処理としては、これらの処理を種々組み合わせて用
いることができる。
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理
部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びス
プレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理す
ることができる。また、実質的に未使用の処理液で処理
するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。
所望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供
することができる。本発明の光重合性組成物を記録層と
して有する平版印刷版原版は、上記のように、所定の工
程を経て画像形成され、平版印刷版が得られる。この平
版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印
刷に用いられる。
光、可視光、赤外線レーザの露光により高感度で硬化
し、且つ、硬化後の被膜が塑性流動を生じず、重ねて保
存した場合の接着、変形、傷つきなどを抑制することが
でき、均一で安定した被膜と優れた画像形成性を有する
ため、前記詳述した平版印刷版原版の記録層の他、例え
ば、フレキソ印刷版、カラープルーフ、ドライリスフィ
ルム、フォトレジスト、カラーフィルターなどの各種用
途に好適に使用することができる。
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。 (実施例1) [支持体の作成]厚さ0.30mmのアルミニウム板
(材質1050)をトリクロロエチレン洗浄して脱脂し
た後、ナイロンブラシと400メッシュのパミストン−
水懸濁液を用いその表面を砂目立てし、よく水で洗浄し
た。この板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に
9秒間浸漬してエッチングを行い水洗後、さらに2%H
NO 3に20秒間浸漬して水洗した。この時の砂目立て
表面のエッチング量は約3g/m2であった。次にこの
板を7%H2SO4を電解液として電流密度15A/dm
2で3g/m2の直流陽極酸化皮膜を設けた後、水洗乾燥
した。次にこのアルミニウム板に下記下塗り液を塗布
し、80℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は10
mg/m2であった。
に下記下塗り液をワイヤーバーにて塗布し、温風式乾燥
装置を用いて90℃で30秒間乾燥した。乾燥後の被服
量は10mg/m2であった。
1]を調整し、上記の下塗り済みのアルミニウム板にワ
イヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて115
℃で45秒間乾燥して感光層を形成し、平版印刷版原版
を得た。乾燥後の被覆量は1.2〜1.3g/m2の範
囲内であった。
層面が上になるようにして50枚積み重ね、温度35
℃、湿度70%で5日間放置した。放置後、天地を逆に
して、最上部の1枚(放置時は最下部)を引き上げたと
ころ、2枚目との接着はなく、スムーズに引き上げるこ
とができた。
置(SA−L8000)、露光装置(Luxel T−
9000CTP)、コンベア(T−9000 Conv
eyer)、自動現像機(LP−1310H)、ストッ
カー(ST−1160)よりなる富士写真フイルム
(株)CTP出力システムを用いて連続的に、製版処理
を行なった。自動現像機の現像処理槽には、下記組成の
現像液を仕込み、30℃に保温した。自動現像機の第二
浴目には水道水を仕込み、第3浴目にはGU−7(富士
写真フイルム(株)製)を1:1で水希釈したフィニッ
シングガム液を仕込んだ。
給装置に装填し、全自動で、露光、現像処理し、ストッ
カーへ排出した。この間、版材の供給、搬送時のトラブ
ルも生じることなく、順調に製版が行われ、このCTP
出力システムより得られた平版印刷版は、全て、画像部
にヌケやキズなどの欠陥がない良好な画質であった。
−1]で用いた固体重合性化合物〔トリス(アクリロキ
シエチル)イソシアヌレート 0.9g及びN−シクロ
へキシルアクリルアミド 0.1g)を下記25℃にお
いて液状の重合性化合物に変更した他は、実施例1と同
様にして平版印刷版原版を得た。 (重合性化合物) ・NKエステルU−4HA・・・・・・・・・・・・・・・・0.9g (新中村化学(株)製ウレタンアクリレート、液体) ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート(液体)・・・・0.1g
層面が上になるようにして50枚積み重ね、温度35
℃、湿度70%で5日間放置した。放置後、天地を逆に
して、最上部の1枚(放置時は最下部)を引き上げたと
ころ、2枚目と接着してしまい、引き上げることができ
なかった。このように、本発明の光重合性組成物を記録
層として用いた平版印刷版原版は、積層保存した後も記
録層の接着や変形が生じず、ハンドリング性にも優れる
ことがわかった。また、優れた画質の画像が得られるこ
とが確認された。
により高感度で硬化し、コンピューター等のデジタルデ
ータから直接記録可能なネガ型平版印刷版原版の記録層
として有用であり、且つ、記録層を形成した場合にも塑
性流動を生じず、重ねて保存した場合でも記録層の接
着、変形、傷つきを抑制することができ、優れた画質の
画像を形成しうる光重合性組成物を提供することができ
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 (A)25℃において固体であり、且
つ、分子内に少なくとも1つのラジカル重合可能なエチ
レン性不飽和二重結合を有する重合性化合物、(B)ラ
ジカル重合開始剤、及び(C)バインダーポリマーを含
有し、露光により硬化する光重合性組成物。 - 【請求項2】 さらに、(D)赤外線露光により熱を発
生する化合物を含有し、赤外線レーザ露光により硬化す
る請求項1に記載の光重合性組成物。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001046615A JP4512281B2 (ja) | 2001-02-22 | 2001-02-22 | ネガ型平版印刷版原版 |
US10/073,854 US6838222B2 (en) | 2001-02-22 | 2002-02-14 | Photopolymerizable composition |
EP02003257.9A EP1235107B1 (en) | 2001-02-22 | 2002-02-21 | Photopolymerizable composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001046615A JP4512281B2 (ja) | 2001-02-22 | 2001-02-22 | ネガ型平版印刷版原版 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002249504A true JP2002249504A (ja) | 2002-09-06 |
JP4512281B2 JP4512281B2 (ja) | 2010-07-28 |
Family
ID=18908207
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001046615A Expired - Fee Related JP4512281B2 (ja) | 2001-02-22 | 2001-02-22 | ネガ型平版印刷版原版 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6838222B2 (ja) |
EP (1) | EP1235107B1 (ja) |
JP (1) | JP4512281B2 (ja) |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US6838222B2 (en) | 2005-01-04 |
US20020160295A1 (en) | 2002-10-31 |
EP1235107B1 (en) | 2016-11-09 |
JP4512281B2 (ja) | 2010-07-28 |
EP1235107A1 (en) | 2002-08-28 |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A977 | Report on retrieval |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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