JPH01110609A - クラスプパターン製作用光重合レジン組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は部分床義歯を製作するに当たり、義歯の把持（
側方運動に対する抵抗）と維持（着脱に対する抵抗）と
、支持（咬合圧に対する抵抗）とを授ける金属構成部分
である鋳造クラスプをロストワックス法にて製作するに
当り維持力、耐久性などに対する理論的な形状を示す鋳
造クラスプの原型即ちクラスプのパターンを造るための
光重合レジン組成物に関するものである。

〔従を来の技術〕

部分床義歯の主及び間接維持装置としてはその９０％以
上にクラスプが用いられている。しかし、特に鋳造クラ
スプではその製作方法が煩雑であってその維持力や適合
精度、与えらたアーム部の形態など必ずしも満足なもの
ではないのが現状である。

従来の鋳造クラスプの製作方法は、先ず第一に患者の口
腔内の顎印象を採取し、超硬石膏などで作業模型を造る
。次に維持装置となるクラスプの設計を行なうために、
この作業模型上の維持歯部分にサーベイングを行なう。

尚サーベイングは模型上の残存歯や顎堤の最大豊隆部を
求めると同時に、相互の平行関係などを調べるために行
なう作業で、義歯着脱方向の決定、維持歯の決定、ブロ
ックアウト部の明示、アンダーカット量の測定。

クラスプ位置の決定など、その目的を観ると義歯製作上
極めて重要な作業である。

さて、クラスプの維持力を左右する重要な因子としては
、クラスプアームの長さ、太さ、断面形態、使用合金の
ヤング率、設定されたアンダーカット量、維持歯歯面の
曲率、などが挙げられる。

ｇ造りラスプをパラフィン系のワックスパターンを利用
して製作する場合、クラスプの維持力は。

利用するアンダーカット量、パターンの太さ、異種断面
形態の選択によりコントロールすることが可能であり、
サーベイフグ時及び義歯設計時は維持歯歯周組織の状態
に対応したクラスプの設計が要求されることになる。

作業模型に対する設計・ブロックアウトが終了すると次
にクラスプのワックスパターンを製作するために設計に
従ってブロックアウトされた維持歯部分を再度印象採取
（複印法）し、作業模型を模型用埋没材に置き換える。

次にクラスプの維持力を正確にコントロールすることを
考慮した上でパラフィン系ワックスのクラスプパターン
を手指で曲げながら接着剤を用いて模型用埋没材に貼り
付け、レスト部、脚部の成形を行ない、スプルーの植立
を行なう。次にこのパラフィン系ワックスのクラスプパ
ターンを模型用埋没材から取り外ずさずに模型用埋没材
ごと鋳造用埋没材で埋没し、埋没材が硬化した後、パラ
フィン系のクラスプパターンをファーネスで加熱焼却し
、その後に出来たクラスプパターンの鋳型に溶けた金属
を流し込み冷却後、割り出し研磨を行なってクラスプを
完成させる。（以後、この方法を「型ごと埋没法」と称
す。） 〔発明が解決しようとする問題点〕 上記の鋳造クラスプの製作方法は、クラスプパターンを
作る材質がパラフィン系ワックスであるため次の様な問
題点を含んでいる。

■パラフィン系ワックスは全く弾性変形出来ず可塑変形
するため作業模型上の維持歯のアンダーカット部から最
大豊隆部を通って取り外ずすことが出来ない。

無理に取り外ずすと永久変形を生じ正確な適合が得られ
ない。このため維持力のコントロールされた正確なりラ
スプを造ることが出来ない。従ってパラフィン系ワック
スのクラスプパターンは必ず作業模型を複印像し模型用
埋没材に置き換えて模型用埋没材にクラスプパターンを
成形し模型用埋没材ごと鋳造用埋没材で埋没する。所謂
型ごと埋没法を行なわなければならない。このためクラ
スプ製作工程が煩雑で長い時間を要し、材料コストも多
大なものとなる。

■パラフィン系ワックスのクラスプパターンは模型用埋
没材や石膏と接着しないため、必ず専用の接着剤を使用
しなければならない、従って接着剤の厚みが約ＳＯ，ａ
の誤差を有するクラスプとなり、適合の良いクラスプを
得ることが出来ない。

■パラフィン系ワックスのクラスプパターンは接着剤を
使用して手指で圧接し模型用埋没材に接着させるが、そ
の時その埋没材の強度が低いため埋没材の粒子が剥がれ
落ち維持歯の形態及び表面性状が悪くなる。またこの埋
没材の剥がれ落ちた粒子がパラフィン系ワックスのクラ
スプパターンに付着し表面性状の良い鋳造クラスプを造
ることが出来ない。

■パラフィン系ワックスのクラスプパターンは結晶性が
高く比較的分子量の低いポリマーであり、ガラス転移温
度Ｔｇと融点Ｔｍが非常に近いが金属の様にガラス転移
点が無い様な物質であるため、ワックスを加熱焼却時に
その温度上昇速度が大き過ぎると融けた°ワックスが沸
騰し、気体となったワックスが膨張するので急却圧され
埋没材に亀裂が発生したり埋没材内面の荒れが生じたり
する。

本発明は之等の問題点を解決するためにパラフィン系ワ
ックスに代わる新しい材質のクラスプパターンを開発し
様としたものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明者等は上記の問題点を解決すべく鋭意検討の結果
、パラフィン系ワックスのクラスプパターンに代わる新
しい材質である光重合レジン組成物を開発した。先ず上
記問題点を解決するための夫々の手段に就いて述べる。

■従来の作業模型から再度印象を採り模型用埋没材に置
き換えてクラスプパターンを造り、模型用埋没材ごと鋳
造用埋没材で埋没して鋳造する所謂型ごと埋没法を行な
わず、本発明の光重合レジン組成物から成るクラスプパ
ターンを使用することにより作業模型に該クラスプパタ
ーンを接着、成形させ可視光線にて重合させそれを作業
模型から取り外ずして鋳造用埋没材で埋没して鋳造する
方法を行なう。

このためにはクラスプパターンを作業模型に接着、成形
させる段階では従来のワックスと同様に可塑性に富んで
いて自由に変形することが出来、可視光線や紫外線など
の活性エネルギー線を照射することにより直ちに硬化し
て弾性体となり作業模型から取り外ずしても全く変形し
ない材質が必要となる。

本発明の光重合レジン組成物はこの様なものであり、ク
ラスプ装着部位のアンダーカット部から最大豊隆部を通
って最大０．５ｍ程度の変形を以て取り外ずしても破折
することなく、また元の形に正確に戻るという性質を有
しているのである。この材質の光重合クラスプパターン
を用いて鋳造クラスプを造る場合。

作業模型上の維持歯部分の印象採取、模型用埋没材置き
換え、の各工程が削除出来るので従来約８時間を要して
いた工程を約４時間に短縮出来たと共に夫れに伴ない従
来使用していた精密印象材、模型用埋没材の材料コスト
の低減を図れたのである。

■本発明によって得られた組成物の材質はパラフィン系
ワックスとは異なり石膏との馴染みが良く、接着材を使
用せずに適度に石膏に接着し硬化後は容易に取り外ずす
ことが出来る。

従って従来の接着剤皮膜の厚さによる適合悪さも防げ適
合精度の良い鋳造クラスプを造ることが出来る。

■本発明によって得られた組成物の材質は接着材を使用
しなくても適度に埋没材と接着するために手指の圧接に
よる埋没材の剥がれ落ちが無いため維持歯の形態及び表
面性状に悪い影響を与えない。また、埋没材粒子がクラ
スプパターンに付着することが無いので表面性状の良い
功造クラスプを造ることが出来る。

■本発明によって得られた組成物の材質は結晶性高分子
であり、結晶質の部分（分子が配向した箇所）と非晶質
の部分（分子が配向していない箇所）とから成り、９０
℃付近にガラス転移点”ｒｇが存在し、熱硬化性樹脂と
なった硬化物の分解温度附近までは徐々に軟化し、続い
て炭化し、最後には二酸化炭素と水とになって焼却され
る。よって従来のパラフィン系ワックスのクラスプパタ
ーンに見られた沸騰膨張、急加圧による埋没材の亀裂発
生及び埋没材内面の荒れも無い鋳造面の良好な鋳造クラ
スプを得ることが出来たのである。

本発明に於ける常温で固体のエチレン性不飽和２重結合
を少なくとも１個含有する光重合可能な化合物のうち、
単官能のメタクリレートの例としては、メトキシポリエ
チレングリコール１０００メタクリレ−１−があり、単
官能のアクリレートの例としてはメトキシポリエチレン
グリコール１０００アクリレートがあり、多官能のメタ
クリレートの例としてはジイソシアネートメチルベンゼ
ンと２−ヒドロキシエチルメタクリレートとの反応生成
物（商品名アートレジン５Ｒ−１００，板上工業社製品
）、ジイソシアネートメチルシクロヘキサンと２−ヒド
ロキシエチルメタクリレートとの反応生成物（商品名ア
ートレジンＳｌ＋−２００，板上工業社製品）、インフ
オロンジイソシアネートと２−ヒドロキシエチルメタク
リレートとの反応生成物（商品名アートレジン５Ｈ−３
００、板上工業社製品）、ヘキサメチレンジイソシアネ
ートと２−ヒドロキシエチルメタクリレートとの反応生
成物（商品名アートレジン５Ｈ−４００、板上工業社製
品）、ヘキサメチレンジイソシアネートと２−ヒドロキ
シプロピルメタクリレートとの反応生成物（商品名アー
トレジン５Ｈ−４２０，板上工業社製品）、ヘキサメチ
レンジイソシアネートと３−クロロ２−ヒドロキシプロ
ピルメタクリレートとの反応生成物（商品名アートレジ
ン５Ｈ−４４０。

板上工業社製品）、メチレンビス（４−シクロヘキシル
イソシアネート）と２−ヒドロキエチルメタクリレ−１
〜との反応生成物（商品名アートレジン５Ｈ−６００、
板上工業社製品）、トリス（メタクリロキシエチル）イ
ソシアネート、ポリエチレングリコールｔｏｏｏジメタ
クリレートがあり、多官能のアクリレートの例としては
、　トリス（アクリロキシエチル）インシアネート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレートがあり、また下記の構造式で
示される多官能のアクリレートも好適である。

以下余白 Ｒ□ｌＲ２＋Ｒ１はアルキル基 （商品名Ｕ−１０８Ａ、新中村化学社製品）本発明に於
ける有機物充填材としては、ポリオレフィンパウダー（
ポリエチレンパウダー、ポリプロピレンパウダーなど）
、ポリアクリル酸エステルパウダー（ポリアクリル酸メ
チル、ポリアクリル酸エチルなど）、ポリメタクリル酸
エステルパウダー（ポリメタクリル酸メチル、ポリメタ
クリル酸エチルなど）、　メタクリル酸エステル共重合
体パウダー（ポリメタクリル酸メチルとポリメタクリル
酸エチルとの共重合体など）、アクリル酸エステル共重
合体パウダー（ポリアクリル酸メチルとポリアクリル酸
エチルとの共重合体など）。

架橋型メタクリル酸エステルパウダー（トリメチロール
プロパントリメタクリレートで架橋したポリメタクリル
酸メチルなど）、　スチレン−ブタジェン共重合体パウ
ダー、アクリロニトリルースチレン共重合体パウダー、
アクリロニトリル−スチレン−ブタジェン共重合体パウ
ダー、ナイロンパウダーなどがあり、之等は１種または
２種以上混合して使用しても良い。その添加量は光重合
可能な化合物１００重量部に対し０．１〜９０重量部が
好ましい。

光重合開始剤としては、α−ジケトン系化合物。

ケタール系化合物、アントラキノン系化合物、チオキサ
ントン系化合物、ベンゾインアルキルエーテル系化合物
が有効であり、具体的には、α−ジケトン系化合物とし
てはｄ、Ｑカンファーキノン。

ベンジル、ジアセチル、アセナフテンキノン。

９．１０−フェナントレンキノンなどが効果的である。

之等の中でｄ、Ｑカンファーキノン、ベンジルが特に好
ましい、ケタール系化合物としてはベンジルジメチルケ
タール、ベンジルジエチルケタール。

ペンジルジプロビルケタール、ベンジルジ（β−フェニ
ルエチル）ケタール、ベンジルジ（２−メトキシエチル
）ケタール、ベンジルジ（２−エトキシエチル）ケター
ル、ベンジルジ（２−メトキシエトキシエチル）ケター
ル、ベンジルジ（２−エトキシエトキシエチル）ケター
ル、　４．４’−ジメチルベンジルジメチルケタール、
　　２．２’−ジメトキシベンジルジエチルケタール、
　　４．４’−ジクロロベンジル−ジエチルケタール、
　　４．４’−ジクロロベンジルジプロピルケタールな
どが効果的である。之等の中でベンジルジメチルケター
ル、ベンジルジエチルケタール、ベンジルジ（２−メト
キシエチル）ケタール、’　　４．４’−ジメチルベン
ジルジメチルケタールが特に好ましい。

アントラキノン系化合物としてはアントラキノン、１−
クロロアントうキノン、２−クロロアントラキノン、１
．２−ベンズアントラキノン、１−ヒドロキシアントラ
キノン、１−メチルアントラキノン、２−エチルアント
ラキノン、１−ブロモアントラキノンなどが効果的であ
る。之等の中でアントラキノン。

１−クロロアントラキノン、ｌ、２−ベンズアントラキ
ノンが特に好ましい。チオキサントン系化合物としては
チオキサントン、２−クロロチオキサントン。

２−イソプロピルチオキサントン、２−ニドロチオキサ
ントン、２−メチルチオキサントン、２，４−ジメチル
チオキサントン、２．４−ジエチルチオキサントン。

２．４−ジイソプロピルチオキサントン、２−クロロ−
フートリフルオロメチルチオキサントン、チオキサント
ン−１０，１０−ジオキサイド、チオキサントン−１〇
−オキサイドなどが効果的である。之等の中でチオキサ
ントン、２−クロロチオキサントン、２．４−ジメチル
チオキサントン、２．４−ジエチルチオキサン１−ン、
２，４−ジイソプロピルチオキサントンが特に好ましい
。

ベンゾインアルキルエーテル系化合物としてはベンゾイ
ンメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエ
ーテル、ベンゾインブチルエーテルなどが効果的である
。之等の中でベンゾインブチルエーテルが特に好ましい
。

以上の光重合開始剤は夫々１種または２種以上混合して
使用しても良い。之等の光重合開始剤の配合Ｊｆはエチ
レン性不飽和２重結合を少なくとも１個含有する常温で
固体の光重合可能な化合物１００重量部に対して夫々０
．００１〜５重量部であることが好ましい、配合量が０
．００１重量部未満であると反応性に乏しくて硬化時間
が長くなり、また硬化深度が小さくなる。また配合量が
５重Ｊｋ部を超えると余剰触媒が可塑剤の働きをするの
で硬化物の強度を低下させる。

本発明の還元剤としては光増感剤が励起状態にあるとき
は光増感剤を還元するけれども、光増感剤が活性エネル
ギー線によって励起されていないときは光増感剤を還元
出来ない様な還元能力を持つものが用いられる。還元剤
は第１級、第２級まいて２個、１個または０個の基Ｒ，
Ｒ’、　Ｒ’が水素原子でもよい、１個またはそれ以上
の基Ｒ，Ｒ’。

Ｒ＃は炭化水素基であることが出来、且つ同一の基であ
ることが出来る。炭化水素基は例えばアルキル、シクロ
アルキル、ヒドロキシアルキルまたはアラルキル基でよ
い。好適には基Ｒ，Ｒ’、Ｒ′は１〜１０個の炭素原子
を持つアルキル基であることが出来る。

１個または夫れ以上の単位Ｒ，Ｒ’、　Ｒ’が炭化水素
である適当な還元剤の例としてはプロピルアミン、ｎ−
ブチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ジメ
チルアミン、ジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジ−
ｎ−ブチルアミン、ジペンチルアミン、２−ジメチルア
ミノエタノール、トリメチルアミン、トリエチルアミン
、トリプロピルアミン、トリーｒ１−ブチルアミン、ト
リペンチルアミン。

ジメチルアミノエチルメタクリレ−１−、ジエチルアミ
ノエチルメタクリレート、トリエタノールアミン及び長
鎖脂肪族アミンがある。

芳香族基を含む還元剤の例にはＮ、　Ｎ’−ジメチルア
ニリン、　　Ｎ、Ｎ’−ジメチル−ｐ−トルイジン、ｐ
−トリルジェタノールアミン、ｍ−トリルジェタノール
アミン、Ｎ−メチルジフェニルアミン、２−ジメチルア
ミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチ
ル、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチル
アミノ安息香酸ブチル、４−ジメチルアミノ安、ａ香Ｍ
２−エチルヘキシル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソ
アミルなどがある。

ミンがある。但しｎは２以上の整数、鵡Ｒ，Ｒ’　。

Ｒ′、Ｒ′は同一または異なっていてもよく、水素原子
または炭化水素基、特にアルキルノ、（である。

この例の還元剤としてはエチレンジアミン、トリメチレ
ンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレン
ジアミン若しくはヘキサメチレンジアミン或いはそれ等
のＮ−炭化水素基誘導体、特にＮ−アルキル誘導体であ
り得る。

元素Ｎが環系の一部分を成している還元剤の例としては
、例えばピペリジン及びピペリジンのＮ−炭化水素誘導
体がある。その他の還元剤としてはトリアリールアミン
、アリルチオ尿素、芳香族スルフィン酸塩類、５−アル
キル−または５−アリールバルビッール酸などがある。

之等の還元剤の中ではジメチルアミノエチルメタクリレ
ート、トリエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息
香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチルが好ま
しい。

之等の還元剤の添加量はエチレン性不飽和２重結合を少
なくとも１個含有する光重合可能な化合物１００重量部
に対し０．０１〜１０重量部であることが好ましい。添
加量が０．０１重量部未満であると反応性に乏しくて硬
化時間が長くなり、また硬化深度が小さくなる。また添
加量が１０重量部を超えると保存安定性が悪くなり、通
常の室内証明での技工操作余裕時間が非富に短くなる。

この光重合クラスプパターン組成物はクラスプパターン
を造るのに適した形状に予め成形したものが望ましく、
第１表に示すのはその形状の例である。

以下余白 第１表 ［単位：ｍｌ 之等の形状は部分床義歯着脱時や咀喘時の維持力をコン
トロールする際に重要となるものであるが、その形状は
第１表に全く限定されるものではない。

〔実施例〕

次に示す実施例及び比較例の組成物を準備及び作製し実
験１〜８を行ない本発明の効果を確認した。なお本発明
は之等に限定されるものではない。

実施例１〜２６； 第２表にその組成を示した。

実施例２７； 第３表にその組成を示した。

比較例１〜６； 実施例の範囲を限定するために行なった。第２表にその
組成を示した。

比較例７； 本発明の光重合クラスプパターン組成物の組成物中の有
機物充填材に代わり無機物充填材を用いた例である。第
２表にその組成を示した。

比較例８： 市販のパラフィン系ワックスのクラスプパターン（面至
歯科工業■製、商品名ジーシクラスプパターン） 実施例１〜２７及び比較例１〜８を次に示す方法で行な
った。

まずこのエチレン性不飽和２重結合を少なくとも１個含
有する光重合可能で常温で固体の化合物をその融点（約
６０℃〜８０℃）以上に力０熱溶解し液体となった処へ
光重合開始剤と還元剤とを適量添加し均一に溶解する迄
攪拌する。完全に溶解したものを約８０℃に温度制御出
来る乳鉢に所定量入れ。

之に見合う分の有機物充填材を徐々に添加攪拌して行く
。有機物充填材が均一に分散混合するとこのペースト状
のものを加熱出来る真空脱泡機に入れ気泡を取り除く。

気泡の取り除かれたペーストを室温迄冷却し第１表に示
した様な形状になる様に設計した金型でプレス成型し取
り出す。なお、この製作工程は総べて赤色ランプ下で１
００Ｖ、６０Ｗ、５００Ｌｘ以下の条件下で行なった。

次に実験１〜８にて本発明の効果を確認した。

なお本発明の効果に就いては第２表および第３表に示し
た。

実験１　硬化前の操作性 ベタっきが無く柔軟性に富むこと。

実験２　硬化後の曲げ強度（Ｉ、Ｓ、０．４０４９（２
５Ｘ２ｘ２＋ｎｍ）） （ケタール系とベンゾインアルキルエーテル系は面至社
製、商品名ＧＣパーマキュアＵＣ−Ｉで２０分間照射し
た以外は面至社製、商品名ＧＣラボライトＬＶ−Ｉで片
面１分間ず、っ照射２両面で計２分間照射、　Ｃ，１１
，Ｓは１圃／ｍｉｎ　） この値は大きければ良いというものではなく、約２００
ｋＨ／ａＩｔ以上であれば充分使用に耐えられる。

実験３　焼却残渣（６００℃で１時間、オートファーネ
スで焼却する） 残渣はゼロでなければならない６ 実験４　硬化時間 （ケタール系とベンゾインアルキルエーテル系は面至社
製、商品名ＧＣパーマキュアＵＣ−Ｉで照射中５秒おき
にビカー針接触により判定し、それ以外は面至社製、商
品名ＧＣラボライトＬＶ−１照射中５秒おきにビカー針
接触により硬化程度を判定する） ３０秒〜１分３０秒の範囲なら使い易いものである。３
０秒より速いと操作余裕が短い場合があり、１分３０秒
を超えると光重合というシャープな硬化特性を利用出来
ない。

実験５　硬化深度 （ケタール系とベンゾインアルキルエーテル系は面至社
製、商品名ＧＣパーマキュアＵＣ−１２０分間照射し未
硬化部分をエチルアルコールで洗浄しガーゼで拭き取る
。それ以外は面至社製、商品名ＧＣライトＶＬ−Ｉ　　
４０秒照射し未硬化部分をエチルアルコールで洗浄しガ
ーゼで拭き取る。） 最も太いＮａ　１のクラスプパターンが３．７９ｎｗｎ
あるので、この値以上の硬化深さが必要である。更に症
例によってはレスト部や脚部が４重ｍ程度になることも
充分考えられるので４ｍ以上の硬化深さになることが望
ましい。

実験６　クラスプの製作時間 作業模型のサーベイングから鋳造物の研磨迄に要する時
間 実験７　接着剤必要の有無 例えば面至社のプレフォームボンドを必要とするかどう
か。

実験８　鋳造面の状態 而荒れを起こしているかどうか。

実施例１〜９と１１〜１６それに実施例１８〜２６は常
温で固体のエチレン性不飽和２重結合を少なくとも１個
含有する光重合可能な化合物にポリメタクリル酸メチル
パウダーを混入した例であり、実施例１０はポリプロピ
レンパウダーを混入した例、実施例１７はスチレン−ブ
タジェン共重合体パウダーを添加した例である。その中
で実施例１１．１２．１８゜１９、２０はポリメタクリ
ル酸メチルパウダーの添加量を変化させた例を示したも
のであり、この範囲内であれば物性に大きな影響は無い
。

実施例１と５〜２２と２４〜２６の光重合開始剤はｄ、
Ｑカンファーキノンであり、実施例２，３，４゜２３の
光重合開始剤は夫々、１．２ベンズアントラキノン、チ
オキサントン、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジ
ルジメチルケタールである。之等の光重合開始剤のうち
１．２ベンズアントラキノンは少量で充分効果を発揮す
ることが出来る。実施例１〜４と６〜２６の還元剤はジ
メチルアミノエチルメタクリレートであり、実施例５の
還元剤は４−ジメチルアミノ安息香酸メチルである。実
施例１３と２５は光重合開始剤のｄ、Ｑカンファーキノ
ンの添加量が少ない例を示しており、実施例１４は多い
例を示したものである。ｄ、Ｑカンファーキノンの添加
量が少ないと硬化時間が遅くなり、多いと速くなる傾向
にあるが、特許請求の範囲内にあれば使用上問題はない
。実施例１５と２６は還元剤のジメチルアミノエチルメ
タクリレートの添加量が少ない例を示しており、実施例
１６は多い例を示したものである。ジメチルアミノエチ
ルメタクリレ−１への添加量が少ないと硬化時間が遅く
なり、多いと速くなるが、特許請求の範囲内にあれば使
用上問題はない。

実施例１〜５と１０〜２０．２３．２５．２６はエチレ
ン性不飽和２重結合を少なくとも１個含有し常温で固体
の光重合可能な化合物のうち多官能のアクリレートを用
いた例であり、実施例６と７は多官能のメタクリレート
を用いた例である。また実施例８．９．２４は多官能の
アクリレートとメタクリレートを混合させた例である。

実施例２１は単官能のメタクリレートを用いた例であり
、実施例２２は単官能のアクリレートを用いた例である
。

実施例２７はエチレン性不飽和２重結合を少なくとも１
個含有し常温で固体の光重合可能な化合物として多官能
のメタクリレート２種類を混合して用いた例であり、充
填材としてトリメチロールプロパントリメタクリレート
で架橋したポリメタクリル酸メチルパウダーを用いてい
る。この充填材を用いると鋳造面の状態が特に優れたも
のとなる。

また、硬化深度は実施例に比べると約２倍と大きく重合
が充分に進んでいることも示している。

比較例１と４は有機物充填材であるポリメタクリル酸メ
チルパウダーの添加量が好ましい範囲を逸脱した例であ
るが、比較例１の様に添加量が少ない方に逸脱すると、
その操作性に於いて粘るという悪い特性が表われ、比較
例４の様に多い方に逸脱するとパラフィンワックスの様
な柔軟性が無くなり脆いものになって了う。比較例２は
光重合開始剤のｄ、Ｑカンファーキノンの添加量がまた
比較例３は還元剤のジメチルアミノエチルメタクリレー
トの添加量が何れも好ましい範囲を少ない方に逸脱した
例であって、重合が不充分で曲げ強度も低く、硬化時間
が長く、硬化深度も小さいことが判る。比較例５はｄ、
Ｑカンファーキノンの添加量がまた比較例６はジメチル
アミノエチルメタクリレートの添加量が何れも多い方に
逸脱した例であって硬化が速過ぎ充分な操作余裕が採れ
ない」二にｄ、Ｑカンファーキノンの添加量が多い方に
逸脱した例では、曲げ強度の低下が認められた。このこ
とは、余剰の触媒が可塑剤の働きをして強度を低下させ
るものと考えられる。比較例７は充填材として無機質フ
ィラーを添加した例であって従来のコンポジットレジン
の配合と似ている。之は充填材が無機質であるが故に焼
却残渣がゼロにはならず全くクラスプを鋳造するという
機能を有していない。

比較例８は従来行なわれているパラフィン系ワックスめ
クラスプパターンを使用した例である。

この場合は面至社爬のＧＣクラスプパターンを使用した
例であるが、作業模型から模型用埋没材に置き換えサー
ベイングしｕ造するという型ごと埋没法を行なうためク
ラスプ製作時間が約８時間を要し本発明に於ける光重合
クラスプパターン組成物を使用した場合に比べて約４時
間長く掛かる。更にパラフィン系ワックスのクラスプパ
ターンを使用するには必ず模型用埋没材に接着させるた
めの接着剤（例えば面至社製のプレフォームボンド）が
必要となる。またワックスの焼却条件や埋没材の種類と
の関係により鋳造面の状態に稍々悪い影響を及ぼすこと
がある。

以下余白 〔発明の効果〕 従来用いられていたパラフィン系ワックスのクラスプパ
ターンは全く弾性変形をしないため作業模型から取り外
ずすことが出来ないので必ず模型用埋没材に置き換えて
鋳造する所謂型ごと埋没法が行なわれている。このため
クラスプ製作工程が煩雑で長い時間を要し、材料コスト
も多大なものであった。更にパラフィン系ワックスのク
ラスプパターンを模型用埋没材か石膏に接着させるため
には接着剤を必要とする。またパラフィン系ワックスの
クラスプパターンでは焼却時の膨張による急加圧から生
じる埋没材の亀裂及び埋没材内面の荒れが生じる。

本発明の光重合レジン組成物から成るクラスプパターン
は之等の欠点を根本から解決したものである。該クラス
プパターンはクラスプパターンを造る作業模型に接着、
形成させる段階では、従来のパラフィン系ワックスと同
様に可塑性に富み。

特別な加熱装置無しで自由に形成が出来、クラスプパタ
ーンを作業模型に接着、成形完了後に直ちに可視光線な
どの活性エネルギー線を照射することにより、その該ク
ラスプパターンが硬化し、アンダーカット部から最大豊
隆部を通過する際の歪に充分耐えられる強度を有するも
のに変化するのである。

このことはパラフィン系ワックスのクラスプパターンで
は実現出来なかった作業模型からのクラスプパターンの
取り外すしか可能になった。よって模型用埋没材に置き
換える所謂型ごと埋没法を行なう必要がなくなった。従
って従来約８時間を要していたクラスプパターン製作工
程は約４時間に短縮されそれに伴い従来使用していた印
象材、−模型用埋没材の材料コストの低減を図れたので
ある。また、本発明により得られた光重合レジン組成物
は作業模型との馴染みが良く適度に接着し、硬化後は容
易に取り外ずすことが出来る。従って特別な接着剤は必
要としなくなり従って従来の様な接着剤皮膜の厚さによ
る適合悪さも防げ精度の良いクラスプを造ることが可能
となった。また手指の圧接の必要が無いため埋没材粒子
の剥がれによる維持歯及び鋳造クラスプの表面性状に与
える悪影響が全く無くなった。更に本発明により得られ
た光重合レジン組成物は結晶性の高分子であり。

加熱しても沸胎すること無く徐々に軟化し次いで炭化し
最後には二酸化炭素と水になるので埋没材に亀裂が生じ
たり埋没材内面の荒れも無く鋳造面の良好なりラスプを
得ることが出来る利点を有しでいる。

本発明によって得られた組成物はクラスプパターンのみ
ならずインレーパターン、リンガルバーパターン、バラ
タルバーパターン、スケルトンパターン、鋳造床パター
ン、クラウンブリッジパターン、及びその他の鋳造用パ
ターンにも使用することが出来る。

特許出願人　而至陶歯工業株式会社 ゛＼ （、ｊ ＼−１・−１

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　ａ）エチレン性不飽和２重結合を少なくとも１個含
   有する光重合可能な化合物と； ｂ）有機物充填材と； ｃ）光重合開始剤と； ｄ）還元剤と； から成るクラスプパターン製作用光重合レジン組成物。 ２　エチレン性不飽和２重結合を少なくとも１個含有す
   る光重合可能な化合物であつて常温で固体である特許請
   求の範囲第１項に記載のクラスプパターン製作用光重合
   レジン組成物。 ３　エチレン性不飽和２重結合を少なくとも１個含有す
   る光重合可能な化合物が単官能のメタクリレートである
   特許請求の範囲第１項または第２項に記載のクラスプパ
   ターン製作用光重合レジン組成物。 ４　エチレン性不飽和２重結合を少なくとも１個含有す
   る光重合可能な化合物が多官能のメタクリレートである
   特許請求の範囲第１項または第２項に記載のクラスプパ
   ターン製作用光重合レジン組成物。 ５　エチレン性不飽和２重結合を少なくとも１個含有す
   る光重合可能な化合物が単官能のアクリレートである特
   許請求の範囲第１項または第２項に記載のクラスプパタ
   ーン製作用光重合レジン組成物。 ６　エチレン性不飽和２重結合を少なくとも１個含有す
   る光重合可能な化合物が多官能のアクリレートである特
   許請求の範囲第１項または第２項に記載のクラスプパタ
   ーン製作用光重合レジン組成物。 ７　有機物充填材の配合量が、エチレン性不飽和２重結
   合を少なくとも１個含有する光重合可能な化合物１００
   重量部に対し、０．１〜９０重量部である特許請求の範
   囲第１項ないし第６項中の何れか１項に記載のクラスプ
   パターン製作用光重合レジン組成物。 ８　光重合開始剤が、α−ジケトン系化合物、ケタール
   系化合物、アントラキノン系化合物、チオキサントン系
   化合物、ベンゾインアルキルエーテル系化合物、及び之
   等の誘導体の１種以上である特許請求の範囲第１項ない
   し第７項中の何れか１項に記載のクラスプパターン製作
   用光重合レジン組成物。 ９　光重合開始剤の配合量が、エチレン性不飽和２重結
   合を少なくとも１個含有する光重合可能な化合物１００
   重量部に対し、０．００１〜５重量部である特許請求の
   範囲第１項ないし第８項中の何れか１項に記載のクラス
   プパターン製作用光重合レジン組成物。 １０　還元剤の配合量がエチレン性不飽和２重結合を少
   なくとも１個含有する光重合可能な化合物１００重量部
   に対して０．０１〜１０重量部である特許請求の範囲第
   １項ないし第９項中の何れか１項に記載のクラスプパタ
   ーン製作用光重合レジン組成物。