JP2002244289A - レーザーで彫り込むフレキソ印刷の印刷要素およびその要素から印刷版を成形する方法 - Google Patents

レーザーで彫り込むフレキソ印刷の印刷要素およびその要素から印刷版を成形する方法

Info

Publication number
JP2002244289A
JP2002244289A JP2001376297A JP2001376297A JP2002244289A JP 2002244289 A JP2002244289 A JP 2002244289A JP 2001376297 A JP2001376297 A JP 2001376297A JP 2001376297 A JP2001376297 A JP 2001376297A JP 2002244289 A JP2002244289 A JP 2002244289A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
oxide
bis
laser
trimethylbenzoyl
elastomeric
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2001376297A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2002244289A5 (ja
JP4310060B2 (ja
Inventor
Anandkumar Ramakrishnan Kannurpatti
ラマクリシュナン カンナーパッティ アナンドクマー
Iii Howard Ensign Simmons
エンサイン シモンズ ザ サード ハワード
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JP2002244289A publication Critical patent/JP2002244289A/ja
Publication of JP2002244289A5 publication Critical patent/JP2002244289A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4310060B2 publication Critical patent/JP4310060B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/02—Engraving; Heads therefor
    • B41C1/04—Engraving; Heads therefor using heads controlled by an electric information signal
    • B41C1/05—Heat-generating engraving heads, e.g. laser beam, electron beam
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
    • B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114—Initiator containing
    • Y10S430/116—Redox or dye sensitizer
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/145—Infrared
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/146—Laser beam

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザー彫り込み可能なフレキソ印刷の印刷
要素と、その要素から印刷版を形成する方法を提供する
こと。 【解決手段】 フレキソ印刷の印刷版は、エラストマー
結合剤、少なくとも１つのモノマー、重合が進むにつれ
て紫外線の吸光度が減少する光開始剤システム、および
９〜１２マイクロメーターの赤外線を吸収する少なくと
も１つの添加物を含んでいるエラストマー組成物の少な
くとも１つのレーザー彫り込み可能な強化エラストマー
層を支持体の上に含むレーザー彫り込み可能なフレキソ
印刷の印刷要素で作られる。その方法は、印刷要素全体
を紫外線に露光して光硬化させ、その光硬化した要素を
９〜１２マイクロメーターの赤外線に露光してそのエラ
ストマー層を彫り込んで形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フレキソ印刷の印
刷要素と、その印刷要素をレーザー輻射によって彫り込
んでその要素がフレキソ印刷の印刷版として有用である
ように浮彫りを成形するための方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】印刷版は、フレキソ印刷の印刷で、特
に、包装材料、例えば、ボール紙、プラスチックフィル
ムなどのような波形をつけられたまたは滑らかな表面に
使用されることがよく知られている。フレキソ印刷の印
刷版の１つの種類は、加硫したゴムから作られる。市販
用のゴムは、天然品、またはエチレンプロピレンジエン
モノマー（ＥＰＤＭ）エラストマーなどの合成品であり
うる。
【０００３】レーザーは、十分な電力密度を発生させ
て、ある種の材料を除去することができる。高出力の二
酸化炭素レーザーのようなレーザーは、木材、プラスチ
ックおよびゴムのような多くの材料、そして金属および
セラミックでさえも除去することができる。レーザーの
出力を適当な電力密度で基板の特定の点にいったん焦点
を当てると、材料を徹底的に除去して浮彫りを作ること
ができる。レーザー光線があたっていない領域は、除去
しない。したがって、レーザーを使うと、適当な材料に
非常に複雑な彫刻図案を作れる可能性がある。
【０００４】最近、フレキソ印刷に必要な望ましい浮彫
り表面を直接提供するゴム要素をレーザーで彫り込むこ
とが可能になってきた。レーザーで彫り込むことによ
り、ゴムの印刷版にさまざまな機会を提供している。高
度に濃縮され、制御可能なエネルギーのレーザーによ
り、ゴムに非常に精密な細部を彫り込むことができる。
印刷板の浮彫りは多くの方法で変更できる。そのような
版のドットゲインに影響するように、ゆっくり低下する
浮彫りの勾配だけでなく非常に急な勾配も彫り込むこと
ができる。エチレンプロピレンジエンモノマーのゴムを
レーザーで彫り込んで、フレキソ印刷の印刷版を作るこ
とができる。
【０００５】Ｃａｄｄｅｌｌに発行された米国特許第
３，４５９，７３３号には、ポリマーの印刷版を製造す
る方法が記述されている。その印刷版は、ポリマー材料
を強度が十分な制御されたレーザー光線に露光し、ポリ
マーを除去して表面にくぼみを作ることによって作られ
る。
【０００６】米国特許第５，７９８，２０２号および米
国特許第５，８０４，３５３号は、柔軟支持材上の強化
エラストマー層をレーザーで彫り込むことによってフレ
キソ印刷の印刷版を作るプロセスを開示している。米国
特許第５，７９８，２０２号に開示されているプロセス
には、柔軟支持材上の強化エラストマー層から成る単層
のフレキソ印刷の印刷要素を補強し、レーザーで彫り込
むことが含まれる。エラストマー層を、機械的に、また
は熱化学的に、または光化学的に、あるいはその組合せ
で強化する。機械的強化は、細かくした粒状物質のよう
な強化剤をそのエラストマー層に混ぜることによって実
施される。光化学的強化は、光硬化可能な材料をエラス
トマー層に混ぜて、その層を化学線放射に露光すること
によって達成できる。光硬化可能な材料には、光開始剤
または光開始剤システムを有する光架橋可能なまたは光
重合可能なシステムが含まれている。
【０００７】米国特許第５，８０４，３５３号に開示さ
れているプロセスは、そのプロセスが強化されたエラス
トマーのトップ層および柔軟な支持材の上の中間エラス
トマー層から成っている多層のフレキソ印刷の印刷要素
を強化し、レーザーで彫り込むことを含んでいること以
外は、米国特許第５，７９８，２０２号と同じである。
エラストマー層を、機械的に、または熱化学的に、また
は光化学的に、あるいはその組合せで強化する。機械的
および光化学的強化は、米国特許第５，７９８，２０２
号に記述されているのと同じ方法で行われる。中間エラ
ストマー層も同様に強化することが可能である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】機械的および光化学的
の両方で強化されるエラストマー要素に関連する問題
は、レーザーで彫り込んでもエラストマー物質を効果的
に除去して、望ましい浮彫りの品質、そして最終的には
印刷品質を与えないということである。要素の彫り込み
効率を高めるために、エラストマー層に赤外光に敏感な
添加物を使うことが望ましい。要素を光化学的に強化す
ると、印刷版としての最終用途だけでなく彫り込みする
のに望ましい特性を与える。しかしながら、粒子状のま
たは他の吸収材として添加物が存在すると、要素を光化
学的に強化するのに必要な紫外線の透過を減らす傾向が
ある。もしエラストマー層が光化学的強化の間に硬化が
不十分だと、レーザー放射によって物質を効果的に除去
できず、その結果、彫り込み領域の浮彫りの品質が劣る
ことになる。さらに、レ−ザーの彫り込みの結果生じる
廃物が粘着性である傾向があり、要素から完全に取り除
くのが困難である。加えて、もしも要素が光化学的に十
分に強化されていないと、印刷版として必要な最終用途
の特性が達成されない。彫り込みの効果を高める添加物
の濃度が増加するにしたがい、これらの問題が悪化する
傾向がある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の１つの目的は、
従来技術の短所を克服し、フレキソ印刷の印刷版として
使用するのに適した浮彫り表面を形成するためにレーザ
ーで彫り込むことができるエラストマー要素を提供する
ことである。
【００１０】本発明によれば、支持体を含むレーザー彫
り込み可能なフレキソ印刷の印刷要素、すなわち、エラ
ストマー結合剤、少なくとも１つのモノマー、重合が進
むにつれて紫外線の吸光度が減少する光開始剤システ
ム、および赤外線、好ましくは９〜１２マイクロメート
ルの赤外線を吸収するケイ素−酸素の官能性またはリン
−酸素の官能性を含む少なくとも１つの添加剤を含んで
いるエラストマー組成物の少なくとも１つのレーザー彫
り込み可能な強化エラストマー層が提供される。
【００１１】本発明のもう１つの態様によれば、そのエ
ラストマー組成物のエラストマー層を紫外線に全面的に
露光することによって強化すること、およびエラストマ
ー層を彫り込むために強化された要素を画像の位置で９
〜１２マイクロメートルの赤外線レーザー放射に露光す
ることを含んでいる、上記のフレキソ印刷の印刷要素か
らフレキソ印刷の印刷版を形成する方法が提供される。
【００１２】
【発明の実施の形態】本明細書で使用されている用語
「レーザー彫り込み可能な」は、十分な強度のレーザー
光線に露光されている材料のそれらの領域がフレキソ印
刷用途に適した十分な解像度および凸版の深さで物理的
に分離されることになるようにレーザー放射を吸収でき
る材料をいう。「物理的に分離される」によって、その
ように露光された材料が、真空清掃または洗浄によるよ
うな機械的手段によって、またはその表面を横切るガス
の流れをほぐされた粒子を除去するのに向けることによ
って除去されるかまたは除去されることができるかのい
ずれかを意味している。
【００１３】本発明は、エラストマー結合剤、少なくと
も１つのモノマー、重合が進むときに紫外線（ＵＶ）の
吸光度が減少する光開始剤システム、および赤外線に敏
感な添加物を含んでいるエラストマー組成物の少なくと
も１つの強化エラストマー層を支持体に含むフレキソ印
刷の印刷要素を包含している。フレキソ印刷の印刷要素
は、強化されたエラストマー層を分離して、レーザーで
照射された領域に浮彫りの深さを形成するために、レー
ザー放射で彫り込み可能である。エラストマー組成物か
ら作られたエラストマー層は、その組成物が感光性で化
学線に露光されると硬化する光化学手段、およびその組
成物が少なくとも１つの添加物を含む機械的手段の両方
によって強化される。
【００１４】適切なエラストマー結合剤は、結果として
生じる要素を以下に論じるようにレーザーにより彫り込
むことができるように選ばれるべきである。加えて、そ
の結果生じる版がフレキソ印刷に関連した特性を有する
べきである。これらの特性の中には、柔軟性、弾力、シ
ョアＡ硬度、インクとの混和性、耐オゾン性、耐久性お
よび解像度がある。そのような材料は、レーザーによる
彫り込みのプロセス中に有毒ガスを放出するのを避ける
ために、ハロゲン、または硫黄のようなヘテロ原子を混
合しないことも好ましいが、それが絶対必要ではない。
したがって、フレキソ印刷に望ましい特性が得られる限
り、単一のエラストマー材料または材料の組合せのいず
れかを使うことができる。結合剤は、エラストマー組成
物の４０重量％から７５重量％、好ましくは少なくとも
４５重量％から５５重量％存在する。
【００１５】エラストマー材料の例は、Ｃｈａｎｄｌｅ
ｒらの編集になるプラスチック技術ハンドブック（Ｐｌ
ａｓｔｉｃ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ Ｈａｎｄｂｏｏ
ｋ）に記載されている。多くの場合、エラストマー層を
調合するのに熱可塑性エラストマーを使用するのが望ま
しい。熱可塑性エラストマーを光化学的に強化する時、
その層は弾性のままであるが、そのような強化の後はも
はや熱可塑性ではない。これには、米国特許第４，３２
３，６３６号、第４，４３０，４１７号および４，０４
５，２３１号に記載されているように、ブタジエンとス
チレンのコポリマー、イソプレンとスチレンのコポリマ
ー、スチレン−ジエン−スチレンのトリブロックコポリ
マーなどのようなエラストマー材料が含まれるが、それ
に限定されない。これらのトリブロックコポリマーを、
３つの基本的な種類のポリマー、すなわち、ポリスチレ
ン−ポリブタジエン−ポリスチレン（ＳＢＳ）、ポリス
チレン−イソプレン−ポリスチレン（ＳＩＳ）、または
ポリスチレン−ポリ（エチレンブチレン）−ポリスチレ
ン（ＳＥＢＳ）に分割することができる。
【００１６】エラストマー結合剤のほかに、第２の結合
剤を任意にエラストマー層に存在させることも可能であ
る。適切な第２の結合剤には、架橋されていないポリブ
タジエンおよびポリイソプレン、ニトリルエラストマ
ー、ポリイソブチレンおよび他のブチルエラストマー、
ポリアルキレンオキシド、ポリホスファゼン、アクリル
酸エステルおよびメタクリル酸エステルの弾性ポリマー
および弾性コポリマー、弾性ポリウレタンおよびポリエ
ステル、エチレン−プロピレンコポリマーおよび非架橋
ＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエンモノマー）の
ようなオレフィンの弾性ポリマーおよびコポリマー、酢
酸ビニルの弾性コポリマーおよびその部分水素化誘導体
が含まれる。本明細書で使用されているようなエラスト
マーという用語は、また、コアシェルのミクロゲル、お
よびミクロゲルと前もって形成された高分子ポリマーの
混合物を包含する。
【００１７】エラストマー組成物は感光性であり、強化
されている、すなわち、放射線、好ましくは紫外線に露
光されることにより誘発される重合によって硬化されて
いるので、そのエラストマー組成物を光重合可能な組成
物と考えることもできる。本明細書で使用されているよ
うに、「光重合可能な」という用語は、光重合可能な、
光架橋可能な、またはその両方であるシステムを包含す
ることを目的としている。エラストマー組成物または光
重合可能な組成物には、エラストマー結合剤、少なくと
も１つのモノマー、および化学線に敏感な開始剤が含ま
れる。ほとんどの場合、その開始剤は、可視線または紫
外線に敏感である。フレキソ印刷の印刷版に形成に適し
ている光重合可能な組成物はどれも本発明のために使用
することができる。適当な組成物の例は、例えば、Ｃｈ
ｅｎらの米国特許第４，３２３，６３７号、Ｇｒｕｅｔ
ｚｍａｃｈｅｒらの米国特許第４，４２７，７４９号、
Ｆｅｉｎｂｅｒｇらの米国特許第４，８９４，３１５
号、およびＭａｒｔｅｎｓの米国特許第５，０１５，５
５６号に開示されている。
【００１８】エラストマー組成物は（光重合可能な組成
物と同様に）、澄んだ曇りのない感光性の層ができる程
度まで、結合剤と相溶性でなければならないたった１つ
のモノマーまたはモノマーの混合物を含んでいる。エラ
ストマー組成物に使用できるモノマーは当該技術分野で
はよく知られており、比較的低い分子量（一般に約３
０，０００未満）を有する付加重合のエチレン系不飽和
化合物を含むが、それに限定されない。好ましくは、モ
ノマーは約５０００未満の比較的低い分子量を有する。
適当なモノマーの例には、アクリル酸ｔ−ブチル、アク
リル酸ラウリル、アルコールおよびアルカノールのよう
なポリオールのアクリル酸エステルおよびメタクリル酸
エステルのモノ−およびポリ−エステル、アルキレング
リコール、トリメチロールプロパン、エトキシル化した
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペ
ンタエリスリトールなどがある。適当なモノマーの他の
例には、イソシアン酸エステル、エステル、エポキシド
などのアクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステル
誘導体がある。モノマーのそれ以上の例は、Ｃｈｅｎの
米国特許第４，３２３，６３６号、Ｆｒｙｄらの米国特
許第４，７５３，８６５号、Ｆｒｙｄらの米国特許第
４，７２６，８７７号、およびＦｅｉｎｂｅｒｇらの米
国特許第４，８９４，３１５号に見つけることができ
る。モノマーは、エラストマー組成物の少なくとも５重
量％、好ましくは１０重量％の量で存在する。
【００１９】エラストマー組成物には、重合が進むにつ
れて紫外線（ＵＶ）の吸光度が減少する光開始剤が含ま
れる。重合が進むにつれて紫外線の吸光度が減少する光
開始剤は、架橋が起こるように、光重合可能な材料に紫
外線を浴びせ続けさせる漂白可能な光開始剤として知ら
れている。従来の開始剤は照射が始まった後に化学線を
吸収し続けるので、漂白可能な光開始剤は、光重合可能
な材料用の従来の光開始剤とは異なる。しかしながら、
いったん漂白可能な光開始剤がエラストマー組成物の中
で反応すると、その開始剤はもはや放射線を吸収する能
力がない。すなわち、漂白可能な光開始剤は、重合が進
むにつれて、層が同じ照射を与えられた従来の開始剤を
持った光重合可能な層よりも、より速くしかもより完全
に硬化するように、その層の中に紫外線をより深く通さ
せる。また、漂白可能な光開始剤は、印刷版の彫り込み
性能、硬度、耐久性および耐インク性を改善する強化さ
れたエラストマー層内により大きな架橋密度を与えるだ
ろう。エラストマー組成物の層に添加物が存在する場
合、添加物が、化学線の吸収または散乱のために、層の
架橋効率を低下させる傾向があるので、漂白可能な光開
始剤を使用することは特に有用である。さらに、そのエ
ラストマー層の他の成分または要素も同様に化学線を吸
収する、または散乱させる可能性があるので、その層の
架橋効率を低下させる傾向がある。したがって、漂白可
能な光開始剤はエラストマー層をより深くまで硬化させ
る。漂白可能な光開始剤は２５０ｎｍ〜５００ｎｍ、好
ましくは約３６５ｎｍの波長に敏感である。本発明のエ
ラストマー組成物に使用するのに適した漂白可能な光開
始剤はアシルホスフィンオキシドである。アルコキシフ
ェニル置換したシルホスフィンオキシドが特に好まし
く、米国特許第５，７６７，１６９号にＬｅｐｐａｒｄ
らによって開示されている。アルコキシフェニル置換し
たビスアシルホスフィンオキシドには、２，４，６−ト
リメチル−ベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシ
ド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，
４−ジイソブトキシフェニルホスフィンオキシド、ビス
（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホス
フィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾ
イル）−２，４−ジオクチルオキシフェニルホスフィン
オキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）
−２，４−ジイソプロポキシフェニルホスフィンオキシ
ド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，
４−ジヘキシルオキシフェニルホスフィンオキシド、ビ
ス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジ
−二級−ブトキシフェニルホスフィンオキシド、ビス
（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２−メチル−
４−メトキシフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，
４，６−トリメチルベンゾイル）−２−プロポキシ−４
−メチルフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，
６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジイソペンチル
オキシフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６
−トリメチルベンゾイル）−２，６−ジメチル−４−ブ
トキシフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジ
メトキシベンゾイル）−２，４−ジオクチルオキシフェ
ニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベ
ンゾイル）−２，４−ジイソブトキシフェニルホスフィ
ンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−
２−メチル−４−メトキシフェニルホスフィンオキシ
ド、およびビス（２，６−ジエトキシベンゾイル）−２
−プロポキシ−４−メチルフェニルホスフィンオキシド
が含まれるが、それに限定されない。最も好ましい漂白
可能な光開始剤はビス（２，４，６−トリメチルベンゾ
イル）−フェニルホスフィンオキシドおよび２，４，６
−トリメチル−ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシ
ドである。漂白可能な光開始剤は、エラストマー組成物
の０．０５重量％から３重量％、好ましくは０．１０重
量％から１．０重量％存在する。
【００２０】光重合可能な層の光重合の速度は、光を吸
収してラジカルを発生する種（光開始剤）の濃度の平方
根だけでなく、その層に当たる光度の平方根に正比例す
る。光開始剤の濃度が増加するにつれて、重合速度が増
加する。しかしながら、サンプルの所定の厚さを通過す
る光が減少すると、その結果、重合速度が減少する場合
もある。したがって、光重合の速度（または硬化速度）
を最大にするために、光開始剤の濃度を最適化する必要
がある。この最適条件は、光開始剤の吸光度特性だけで
なく光重合可能な層の厚さによって決まる。一般的に
は、そのような最適条件は当分野の技術者による実証研
究によって見つけられる。エラストマー組成物に含まれ
る漂白可能な光開始剤の場合には、最適条件は、その開
始剤の漂白の速度、すなわち、どれだけ速くその開始剤
が反応するか、そしてこれら開始剤からの生成物の残り
の吸光度によっても決まる。さらに、本発明のエラスト
マー組成物の場合、その組成物中のある添加物または他
の物質の吸光度、反射率および散乱の影響も考慮する必
要がある。その結果、一般的には、最適な開始剤濃度は
特定の成分（例えば、添加物濃度）および特定の厚さに
ついて実証研究によって見つけられる。
【００２１】エラストマー組成物は、化学線に敏感な任
意の単一化合物または化合物の組合せでありうる従来の
光開始剤を随意的に含むことができ、遊離基を発生させ
てモノマーまたはモノマー混合物の重合を過度に停止す
ることなしに開始する。光開始剤は、一般に、化学線の
光、例えば、可視光線または紫外線、好ましくは紫外線
に敏感である。好ましくは、光開始剤は１８５℃以下で
は熱的に不活性であるべきである。適当な光開始剤の例
には、置換したまたは置換していない多核キノンがあ
る。適当な系の例は、Ｇｒｕｅｔｚｍａｃｈｅｒらの米
国特許第４，４６０，６７５号およびＦｅｉｎｂｅｒｇ
らの米国特許第４，８９４，３１５号に開示されてい
る。光開始剤は、一般に、光重合可能な組成物の重量に
基づいて０．００１％から１０．０％の量存在する。
【００２２】エラストマー組成物には、さらに、赤外
線、好ましくは９〜１２マイクロメーターの赤外線を吸
収するシリカ−酸素（Ｓｉ−Ｏ結合）官能性またはリン
−酸素（Ｐ−Ｏ結合）官能性を含む少なくとも１つの添
加物が含まれる。エラストマー層の彫り込み感度は、彫
り込みに使用されるレーザー放射の、好ましくは９およ
び１２マイクロメーターである波長に敏感である添加物
が存在することによって高くなる。したがって、少なく
とも１つの添加物の感度は、本発明では一般的に二酸化
炭素レーザーである、彫り込みのために使用されるレー
ザー放射の波長に合っている。エラストマー層の彫り込
み感度が増加すると、結果として、彫り込みの速度が速
くなり（添加物の入っていないエラストマー材料と比較
して）、彫り込みによって発生する廃物の厚さが減少す
る。添加物は、同時に、引張強さ、剛性、引裂き抵抗お
よび耐摩耗性のようなエラストマー層の機械的特性を高
めるかもしれない。適当な添加物には、シリカ、粘土、
タルク、雲母、およびケイ酸塩、例えば、ケイ酸カルシ
ウムおよびケイ酸ジルコニウム、のようなシリカ−酸素
の単結合官能性を含んでいる粒子状の無機充填剤材料が
ある。適当な添加物には、また、芳香族のリン酸塩、芳
香族の亜リン酸塩および芳香族のホスホン酸塩のような
リン−酸素の単結合官能性を含んでいる有機材料があ
る。リン−酸素の単結合を持つ添加物は、粒子状、液
体、またはポリマーの形である可能性がある。言及した
他の添加物より以上のエラストマー層の高いレーザー彫
り込み感度を与えるので、ケイ酸塩、特にケイ酸ジルコ
ニウム、および芳香族リン酸塩が好ましい。すなわち、
好ましい添加物は、同じレーザー出力を与えられると、
エラストマー材料が彫り込み中に、他の充填剤を含んで
いるエラストマー層よりも速く除去されるような程度ま
で赤外線を吸収する。添加物は数マイクロメーターまで
の粒径を持つことができるが、好ましくは１マイクロメ
ーター未満である。添加物はエラストマー組成物中に、
エラストマー組成物の１〜２０重量％、好ましくは５〜
２０重量％、そして最も好ましくは１０〜２０重量％存
在する。他の添加物がエラストマー組成物に含まれても
よい。ただし、その感度が彫り込みに使われるレーザー
放射の波長に合うものとする。
【００２３】エラストマー組成物は、エラストマー層に
とって望ましい特性をさらに高めるために、添加物とは
異なる第２の充填剤を任意に含むことができる。適当な
第２の充填剤には、カーボンブラック、黒鉛、二酸化チ
タン、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミニウムお
よびアルミナがある。第２の充填剤は数マイクロメータ
ーまでの粒径を持つことができるが、好ましくは１マイ
クロメーター未満である。充填剤としてのカーボンブラ
ックの場合、粒径は通常直径が２００から５００オング
ストロームの間である。エラストマー組成物は、望まれ
る最終的な特性によっては他の成分を含むことができ
る。そのような成分には、増感剤、可塑剤、レオロジー
改質剤、熱重合禁止剤、着色剤、酸化防止剤およびオゾ
ン割れ防止剤がある。
【００２４】強化エラストマー層の厚さは、望まれる印
刷要素の種類次第で広い範囲にわたって変化することが
できる。光重合可能な層は、厚さが約１７ミルから２８
５ミル（０．０４ｃｍから０．７２ｃｍ）またはそれ以
上であることができる。フレキソ印刷の印刷要素は、隣
接するエラストマー層よりも、同じまたは異なる組成の
１つまたは複数の強化エラストマー層を含むことができ
る。
【００２５】支持体は、フレキソ印刷の印刷版を調製す
るのに使われる感光性要素と共に伝統的に使用されてい
る任意の柔軟材であることができる。適当な支持体材料
の例には、付加ポリマーおよび線状縮合ポリマーによっ
て成形されたようなポリマーフィルム、ガラス繊維のよ
うな透明な発泡体および織物、およびアルミニウムおよ
びニッケルのような金属がある。好ましい支持体はポリ
エステルフィルム、例えば、特に好ましいのはポリエチ
レンテレフタレートである。支持体は、一般的に、２か
ら１０ミル（０．００５１から０．０２５ｃｍ）の厚さ
を持ち、好ましい厚さは３から８ミル（０．００７６か
ら０．０２０ｃｍ）である。支持体はシートの形であっ
てもよいし、あるいはスリーブのような円筒形であって
もよい。ポリマーフィルムで作られた柔軟なスリーブが
好ましい。それは、一般的に、そのようなスリーブは紫
外線に対して透明であり、それによって、円筒形の印刷
要素の中に床板を作るのに逆引火暴露を受け入れるから
である。スリーブは、単層または多層の柔軟材料で成形
することができる。ただし、スリーブが上述の特性を有
するものとする。多層スリーブには、柔軟材の層の間に
接着剤の層または接着剤のテープを含む場合もある。好
ましい多層スリーブは米国特許第５，３０１，６１０号
に開示されている。スリーブは、一般的には、１０から
８０ミル（０．０２５から０．２０３ｃｍ）以上の壁の
厚さを有する。要素に使用するのに適した支持体の他の
例は、米国特許第３，１４６，７０９号のＢａｓｓらに
よって、および米国特許第４，９０３，５９７号のＨｏ
ａｇｅらによって開示されている。
【００２６】スリーブに光重合可能な層の接着を容易に
するために、支持体表面に接着剤またはプライマーとい
う乾板のゼラチンの下塗り層を持つのも任意である。さ
らに、スリーブの外表面を火炎処理または電子処理、例
えば、コロナ処理してもよい。処理層またはプライマー
層は、支持体をポリマーフィルムで作る場合に、特に有
用である。
【００２７】レーザー彫り込みをする表面に、汚染また
は損傷を防止するために任意にカバーシートを使うこと
もできる。任意のカバーシートはレーザー彫り込みをす
る前に取り除く。カバーシートとして使用に適している
のは、ポリエステル、ポリカーボナテ、フッ素ポリマ
ー、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ま
たは他の剥がせる材料の薄いフィルムである。カバーシ
ートとして好ましいのはポリエステルである。カバーシ
ートは剥離層でゼラチンの下塗りをすることもできる。
【００２８】当分野でよく知られているさまざまな技術
を使って、エラストマー組成物を調製することができ
る。使用できる１つの方法は、成分（すなわち、結合
材、モノマー、開始剤、添加物および他の成分）を押出
し機中で混合し、次いでその混合物を支持体の上に高温
溶融物として押し出すことである。組成物を溶融し、混
合し、脱気し、ろ過するという機能を果たすのに押出し
機を使用することが好ましい。均一な厚さを達成するた
めに、押し出し段階を、高温混合物を２枚の平板の間ま
たは１枚の平板と剥離ロールの間でカレンダーにかける
カレンダー段階と都合よく組み合わせることもできる。
代わりに、材料を一時的な支持体の上に押し出し／カレ
ンダーにかけ、後で望ましい最終的な支持体にラミネー
トすることができる。要素を、成分を適当な混合装置で
混合することによって調製し、それから、材料を適当な
金型で望ましい形にプレス加工することもできる。一般
に、材料を支持体とカバーシートの間でプレス加工す
る。成形段階は圧力および／または熱を伴うことができ
る。
【００２９】エラストマー組成物を主として添加物を含
めることによって強化する。レーザー彫り込みする前に
徹底的に光硬化させるために、エラストマー組成物を全
体的に化学線に露光することによって光化学的にも強化
する。エラストマー組成物の層を、要素の製造中に、ま
たは要素の構成の一部として印刷版の中に最終使用する
間に、光化学的に強化することができる。エラストマー
層の光硬化をもたらすための放射源を、放出される波長
が漂白可能な光開始剤の敏感な範囲に合うように選ぶべ
きである。この紫外線源は、この放射の効果的な量を供
給すべきである。太陽光に加えて、適当な高エネルギー
の放射源には、炭素アーク、水銀アークおよび蛍光灯が
含まれ、サブランプが適当である。強度が光硬化を開始
するためにのみ十分であり、材料を除去するのに十分で
ないならば、レーザーを使うことができる。露光する時
間は、放射の強度およびスペクトルエネルギー分布、エ
ラストマー組成物からの距離、そしてエラストマー組成
物の性質および量によって変化する。露光している段階
の間、取り除けるカバーシートがあってもさしつかえな
い。ただし、露光するのが終わった後、レーザーによる
彫り込みの前に、カバーシートは取り除くものとする。
【００３０】フレキソ印刷の印刷要素を使うプロセスで
は、エラストマー要素を光硬化した後、印刷要素をレー
ザー放射で彫り込む。レーザーによる彫り込みは、レー
ザー放射の吸収、局部加熱および三次元での材料の除去
を包含している。本発明のレーザー彫り込みプロセスは
マスクまたは型板の使用を含んでいない。これは、レー
ザーが焦点でまたはその近くで彫り込みされるべき強化
エラストマー層に当たるからである。したがって、彫り
込みできる最小部分がレーザー光線そのものによって指
示されている。レーザー光線および彫り込まれるべき材
料は互いに関しては一定に動いており、したがって、版
（画素）の各微小区域がレーザーによって個々に処理さ
れる。イメージ情報が、型板を通すよりもむしろコンピ
ュータからデジタルデータとして、この種の装置に直接
供給される。同じイメージまたは異なるイメージの単一
イメージまたは多数のイメージについて任意のパターン
を彫り込むことが可能である。
【００３１】レーザーで彫り込む場合に考慮されるべき
要因には、要素の深みへのエネルギーの沈積、熱解離、
溶融、蒸発、酸化のような熱的に誘発された化学反応、
彫り込まれている要素の表面にわたる空中浮遊物の存
在、および彫り込まれているその要素からの材料の機械
的な排出が含まれるが、それに限定されない。集束レー
ザー光線を用いて金属およびセラミック材料を彫り込む
ことに関する調査努力により、その彫り込み効率（レー
ザーエネルギーの単位当たりの除去された材料の容積）
および精度は、彫り込まれる材料の特性およびレーザー
による彫り込みが起こる条件と強く絡み合っていること
が実証されている。エラストマー材料を彫り込む場合、
そのような材料は金属およびセラミック材料とは全く異
なるけれども、同じような複雑なものが関わっている。
【００３２】レーザーで彫り込める材料は通常ある種の
強度のしきい値を示し、それより以下では材料は除去さ
れない。そのしきい値より下では、材料の中に沈積した
レーザーエネルギーはその材料の蒸発温度に達する前に
消散するように見える。このしきい値は金属およびセラ
ミック材料では非常に高い場合もある。しかしながら、
エラストマー材料に関しては、その値が非常に低い可能
性がある。このしきい値より上で、入力エネルギーの速
度は、熱消散のようなエネルギー損失のメカニズムに対
して非常によく対抗する。照らされた区域ではないけれ
ど、その近くの消散したエネルギーは材料を蒸発させる
のに十分かもしれない。したがって、その彫り込まれた
部分はより広く、より深くなる。この影響は、溶融温度
が低い材料でより顕著である。
【００３３】レーザーによる彫り込みは、９〜１２マイ
クロメーター、特に１０．６マイクロメーターの波長の
赤外線を放つ任意のいろいろな種類の赤外線レーザーに
よって達成できる。レーザーによる材料の除去は、強化
エラストマー層中に、レーザーにより発生する放射エネ
ルギーを吸収する赤外線に敏感な添加物が存在すること
によって促進される。フレキソ印刷の印刷要素を彫り込
むのに特に適したレーザーは、１０．６マイクロメータ
ーの波長を出す二酸化炭素レーザーである。二酸化炭素
レーザーは妥当な価格で市販されている。二酸化炭素レ
ーザーは連続波および／またはパルスモードで作動でき
る。レーザーを両方のモードで作動させることができる
ことは、低いまたは適度な放射強度では、パルス彫り込
みは効率が低いかもしれないので、望ましいことであ
る。材料を加熱し、溶融させさえもするが、蒸発はさせ
ないまたはその反対に物理的に分離させるかもしれない
エネルギーは失われる。一方、低いまたは適度な強度で
の連続波の放射は所定の区域に蓄積されるけれど、ビー
ムはその区域の付近を走査する。したがって、低強度で
の連続波モードが好ましいかもしれない。パルスモード
は高強度で好ましいモードであるかもしれない。なぜな
ら、もし材料を吸収している放射の雲状のものが形成さ
れたら、パルス間の時間間隔にそれを分散させるための
時間があっただろうし、したがって、固体表面により効
率的な放射を放出できたであろうからである。
【００３４】一般的に、フレキソ印刷の印刷要素は、レ
ーザーと関係がある回転ドラムの外部に取り付けられ
る。レーザーはドラム上のその要素に当たるように集束
される。ドラムを回転させ、そのレーザー光線に関連し
て移動させると、要素はそのレーザー光線にらせん状の
方式で露光される。レーザー光線は画像データで調節さ
れ、その結果、その要素に彫り込まれた浮彫を持つ二次
元の画像、すなわち、三次元の要素になる。浮彫りの深
さは床の厚さと印刷層の厚さとの差である。代わりに、
レーザーをドラム上の要素に関連して移動させてもよ
い。
【００３５】本明細書に記述したレーザーで彫り込み可
能なフレキソ印刷の印刷要素を、レーザー彫り込みの前
後のいずれかに任意に処理して、表面の粘着性を除去す
ることができる。スチレン−ジエンのブロックコポリマ
ーの表面の粘着性を除去するのに使用されている適当な
処理には、臭素溶液または塩素溶液による処理、および
光による仕上げ、すなわち、３００ｎｍ以下の波長を持
つ放射源に露光することが含まれる。そのような処理
は、エラストマー層の光化学的強化を構成してはいない
ということを理解すべきである。
【００３６】さらに、これらの要素を、化学線に全体を
露光するようなレーザー彫り込み後の処理にかけること
もできる。化学線に露光することは、一般に、化学的硬
化プロセスを完成させることを目的にしている。これ
は、特に、レーザーによる彫り込みによって作られる床
および側壁の表面の場合に当てはまる。
【００３７】以下の実施例では、他に特に指示がない限
り、パーセンテージはすべて重量に基づいている。
【００３８】実施例１Ａ 次の実施例１Ａおよび比較例１Ｂは、漂白可能な光開始
剤を使用すると、添加の充填材が存在する場合、光重合
（および硬化）の速度が高くなることを実証している。
【００３９】表１に記述されているような光重合可能な
層を調製した。漂白可能な光開始剤は、図１Ａに示すよ
うなＣｉｂａ（ニューヨーク州、Ｈａｗｔｈｏｒｎｅ）
によってＵＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標）８１９の商品名
で販売されているビス（２，４，６−トリメチルベンゾ
イル）−フェニルホスフィンオキシドであった。それら
の成分を約２５ｍｌの塩化メチレンに混ぜて、一晩混合
させた後、１００℃で粉砕した。その後、粉砕した材料
を、市販されている液圧プレスであるＣａｒｖｅｒ Ｐ
ｒｅｓｓで、ほぼ６０ミル（０．１５２ｃｍ）の厚さの
板にプレス加工した。光重合可能な層の未硬化の硬度
は、ほぼ３６ショアＡであった。Ｏｌｉｔｅ ＡＬ８３
紫外線暴露装置（カリフォルニア州、ＩｒｖｉｎｅのＯ
ＬＥＣ Ｃｏｒｐ．社製）からの紫外線に１分間露光す
ると、その板は光硬化してほぼ６０のショアＡ硬度を達
成した。使用したその紫外線源の光強度は１７．８ｍＷ
／ｃｍ２であった。
【００４０】
【表１】
【００４１】
【化１】
【００４２】実施例１Ａの化学式：ビス（２，４，６−
トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシド
の構造
【００４３】比較例１Ｂ 漂白可能な光開始剤を１％の２，２−ジメトキシフェニ
ルアセトフェノン（図１Ｂに示す従来の開始剤であり、
Ｃｉｂａ（ニューヨーク州、Ｈａｗｔｈｏｒｎｅ）によ
ってＩｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）６５１の商品名で販
売されている）と交換したこと以外は、実施例１Ａに記
述したのと同様にして光重合可能な層を調製した。充填
剤、ケイ酸ジルコニウムは組成物に残した。開始剤濃度
の変化はオイルの濃度を変えることによって調整した。
層の未硬化の硬度はほぼ３９ショアＡであった。光重合
可能な層を実施例１Ａに記述したのと同じ波長および強
度の紫外線に露光した。同じ紫外線源の下で、同じ条件
を使って７分間暴露した後に、その層はほぼ５８のショ
アＡ硬度を達成した。
【００４４】
【化２】
【００４５】比較例１Ｂの化学式：２，２−ジメトキシ
−２−フェニルアセトフェノン（ＤＭＰＡ）の構造
【００４６】実施例２ 次の実施例は、開始剤の濃度および添加の充填剤の濃度
への重合速度の依存度を実証している。
【００４７】実施例１Ａで記述したものに類似の配合物
であるが、ホスフィンオキシド光開始剤（図２に示す
２，４，６−トリメチル−ベンゾイルジフェニルホスフ
ィンオキシド（ＢＡＳＦ社によってＬＵＣＩＲＩＮ（登
録商標）ＴＰＯの商品名で販売されている）の量を変
え、そしてケイ酸ジルコニウムの代わりに沈降無定形シ
リカ（ペンシルバニア州、ピッツバークのＰＰＧ Ｉｎ
ｄｕｓｔｒｉｅｓ社のＨｉＳｉＬ（登録商標）９１５）
の量を変えて、光重合可能な層を調製した。その異なる
配合物の中のシリカおよび開始剤の量を表２に示す。添
加物濃度の変化は、ＳＢＳポリマーの濃度を変えること
によって補正した。開始剤の濃度の変化はオイルの濃度
を変えることによって補正した。ほぼ０．１５２ｃｍ
（０．０６０インチ）の厚さの板を、実施例１Ａに記述
したような配合物からプレス加工した。
【００４８】
【化３】
【００４９】実施例２の化学式：２，４，６−トリメチ
ル−ベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドの構造
【００５０】示差走査熱量測定は、Ｃ．Ｅ．Ｈｏｙｌｅ
著、″ＣａｌｏｒｉｍｅｔｒｉｃＡｎａｌｙｓｉｓ ｏ
ｆ Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ″、Ｓ．
Ｐｅｔｅｒ Ｐａｐｐａｓ（編集）のＲａｄｉａｔｉｏ
ｎ Ｃｕｒｉｎｇ Ｓｃｉｅｎｃｅ ａｎｄ Ｔｅｃｈ
ｎｏｌｏｇｙの３章、５７〜１３３頁、Ｐｌｅｎｕｍ
Ｐｒｅｓｓ、ニューヨーク、１９９２年に示されている
ように光重合の研究に広く使用されている。この技術
は、反応速度（この場合の重合における）は、反応（重
合）が進む時に放出される熱に正比例しているという原
理に基づいて機能している。
【００５１】これらの板のそれぞれについて光重合速度
を研究するのに、写真用の付属品（デラウエア州、ニュ
ーカッスルのＴＡ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社製）の付
いた示差走査熱量計を使用した。その示差走査熱量計で
の光重合を、約５ｍＷ／ｃｍ ２の紫外線強度の光強度で
行った。配合物の硬化速度を表している最高速度が、前
記配合物のそれぞれについて得られた。表２は、最高速
度に関して光重合速度の光開始剤および充填剤濃度への
依存度を示している。最高速度が高くなればなるほど、
光重合速度が速くなる。
【００５２】
【表２】
【００５３】実施例３Ａ 次の実施例は、充填剤のケイ酸ジルコニウムが存在する
とエラストマーの印刷層のレーザーによる彫り込み感度
が改善されることを実証している。
【００５４】実施例１Ｂに記述した光重合可能な層を、
ＣＹＲＥＬ（登録商標）２００１Ｅ暴露装置の全面的な
暴露によって光重合し、Ｋｅｒｎ二酸化炭素レーザー彫
り込み機（ウイスコンシン州のＫｅｒｎ Ｅｎｇｒａｖ
ｅｒｓ社製）を使って彫り込みをした。そのレーザーの
走査速度は１秒当たり１２．７ｃｍ（５インチ）で、表
面に集束させた。２５Ｗのレーザー出力で彫り込み深さ
は０．０５３ｃｍ（０．０２１インチ）と測定された。
彫り込み後に取り除かれた廃物は粉状で、容易に掃除さ
れた。
【００５５】比較例３Ｂ 実施例３Ａで使用されたものと類似の配合物を持つがケ
イ酸ジルコニウムを持たない光重合可能な層を光重合
し、実施例３Ａに記述したのと同じ条件で彫り込みをし
た。添加の充填剤濃度の変化はＳＢＳポリマーの濃度を
変えて調整した。彫り込み深さは０．０４１ｃｍ（０．
０１６インチ）と測定された。彫り込みにより取り除か
れた廃物は粘着性であり、掃除が容易ではなかった。
【００５６】実施例３Ａと比較すると、ケイ酸ジルコニ
ムが存在するとエラストマー組成物の彫り込み感度が実
質的に改善され、彫り込み廃物の清掃可能性が改善され
た。
【００５７】実施例３Ｃ ケイ酸ジルコニウムを５重量％のＨｉＳｉＬ（登録商
標）９１５（無定形シリカ）と交換したこと以外は実施
例３Ａで使用されたものと類似の配合物を持つ光重合可
能な層を調製した。その層を光重合し、実施例３Ａに記
述したのと同じ条件で彫り込みをした。彫り込み深さは
０．０４８ｃｍ（０．０１９インチ）と測定された。さ
らに、彫り込みにより取り除かれた廃物はやや粘着性で
あり、掃除の容易さはほどほどであった。
【００５８】実施例４Ａ 次の実施例は、非粒子状の形、すなわち、液体の形でリ
ン−酸素の官能性を持つ添加物が存在するとエラストマ
ー層のレーザーによる彫り込み感度が高くなることを実
証している。
【００５９】実施例３Ｃで使用されたものと同じ熱可塑
性エラストマーを含んでいるが、２０重量パーセントの
リン酸トリクレシルを持つ層を調製した。この層を、二
酸化炭素レーザー彫り込み機（アリゾナ州、Ｔｕｃｓｏ
ｎのＵＬＳ社製）を使用して５０Ｗのレーザー出力およ
び１秒当たり６１ｃｍ（２４インチ）の走査速度で彫り
込みすると、彫り込み深さは０．０６１ｃｍ（０．０２
４インチ）と測定された。廃物は清掃が容易なやや粘性
のある液体であった。
【００６０】熱可塑性エラストマーであるスチレン−ブ
タジエン−スチレンのブロックコポリマー（Ｋｒａｔｏ
ｎ １１０２）の層から成る対照サンプルを調製した。
この層を上述と同じ条件（５０Ｗのレーザー出力および
１秒当たり２４インチ（６１ｃｍ）の走査速度で二酸化
炭素レーザー彫り込み機（アリゾナ州、Ｔｕｃｓｏｎの
ＵＬＳ社製））を使って彫り込みした。そのレーザーは
その層の表面に集束された。その彫り込み深さは０．０
５６ｃｍ（０．０２２インチ）と測定された。廃物は掃
除が容易でない粘着性の粉末であった。
【００６１】実施例５Ａ 次の実施例は、エラストマー層を光重合させるための漂
白可能な光開始剤に基づくホスフィンオキシドの効率を
実証している。
【００６２】表３に表示した配合物の光重合可能な層
を、すべての成分を約３０ｍｌのテトラヒドロフラン
（ＴＨＦ）に混合し、それを平なべに流延してフードの
下で溶媒を蒸発させることによって調製した。その後
で、材料を真空オーブンの中にひと晩置いて、残りの溶
媒を追い出した。次いで、この材料を約１００℃の加熱
プレスで約６０ミル（０．１５２ｃｍ）の厚さの光重合
可能な層にプレス加工した。層の未硬化の硬度は４４シ
ョアＡであった。この層をＯＬＩＴＥ ＡＬ８３紫外線
暴露装置（ＯＬＥＣ）を使用して約３０秒間で光重合さ
せた。発生源の紫外線の強度は１５．５ｍＷ／ｃｍ２で
あった。光硬化した層のショアＡ硬度は７０であること
が分かった。
【００６３】
【表３】
【００６４】比較例５Ｂ ０％のＤＭＰＡ（図１Ｂ参照）が０．５％のビス（２，
４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィン
オキシドに取って代わり、そして１５％のＮｉｓｓｏオ
イルの代わりに１４．５％のＮｉｓｓｏオイルを用いた
以外は、実施例５Ａで論じたものと同じ配合物を持つ光
重合可能な層を調製した。その手順は実施例５Ａで使用
したものと同じであった。その層の未硬化の硬度は４４
ショアＡであった。次いで、この層を同じ光線源および
同じ条件で光重合させた。３０秒間暴露した結果、ショ
アＡ硬度は５７になり、３００秒の暴露時間では硬度が
６８という結果になった。
【００６５】
【発明の効果】本発明によれば、機械的および光化学的
の両方で強化されるエラストマー要素が得られ、レーザ
ーで彫り込んでもエラストマー物質を効果的に除去で
き、望ましい浮彫りの品質、そして最終的に望ましい印
刷品質が与えられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０５ Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０５ 7/075 ５２１ 7/075 ５２１ 7/36 7/36 (72)発明者 アナンドクマー ラマクリシュナン カン ナーパッティ アメリカ合衆国 08520 ニュージャージ ー州 イースト ウインドソー サンドス トーン ロード 33 (72)発明者 ハワード エンサイン シモンズ ザ サ ード アメリカ合衆国 19807 デラウェア州 ウィルミントン イースト モザート ド ライブ ９ Ｆターム(参考） 2H025 AA02 AA03 AB02 AC08 AD03 BC13 BC42 BH00 BJ10 CA35 CB32 CB58 CC08 CC11 CC20 FA05 FA19 2H084 AA05 AA14 AA30 AA32 BB04 BB13 CC01 2H096 AA02 BA05 BA20 EA04 EA13 EA23 2H114 AA01 BA02 BA05 BA10 DA14 DA46 EA01 EA02 FA10

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 レーザー彫り込み可能なフレキソ印刷の
    印刷要素であって、 （ａ）支持体、および（ｂ）エラストマー結合剤、少な
    くとも１つのモノマー、重合が進むにつれて紫外線の吸
    光度が減少する光開始剤システム、および赤外線を吸収
    するケイ素−酸素またはリン−酸素の官能性を含む少な
    くとも１つの添加剤を含んでいるエラストマー組成物の
    少なくとも１つのレーザー彫り込み可能な強化エラスト
    マー層を含むことを特徴とする印刷要素。
  2. 【請求項２】 光開始剤がアシルホスフィンオキシドの
    漂白可能な光開始剤であることを特徴とする請求項１に
    記載の要素。
  3. 【請求項３】 漂白可能な光開始剤が２，４，６−トリ
    メチル−ベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキシド、
    ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−
    ジイソブトキシフェニルホスフィンオキシド、ビス
    （２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホス
    フィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾ
    イル）−２，４−ジオクチルオキシフェニルホスフィン
    オキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）
    −２，４−ジイソプロポキシフェニルホスフィンオキシ
    ド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，
    ４−ジヘキシルオキシフェニルホスフィンオキシド、ビ
    ス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジ
    −二級−ブトキシフェニルホスフィンオキシド、ビス
    （２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２−メチル−
    ４−メトキシフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，
    ４，６−トリメチルベンゾイル）−２−プロポキシ−４
    −メチルフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，
    ６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジイソペンチル
    オキシフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，４，６
    −トリメチルベンゾイル）−２，６−ジメチル−４−ブ
    トキシフェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジ
    メトキシベンゾイル）−２，４−ジオクチルオキシフェ
    ニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベ
    ンゾイル）−２，４−ジイソブトキシフェニルホスフィ
    ンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−
    ２−メチル−４−メトキシフェニルホスフィンオキシ
    ド、およびビス（２，６−ジエトキシベンゾイル）−２
    −プロポキシ−４−メチルフェニルホスフィンオキシド
    から成る群から選ばれることを特徴とする請求項２に記
    載の要素。
  4. 【請求項４】 漂白可能な光開始剤がビス（２，４，６
    −トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシ
    ドおよび２，４，６−トリメチル−ベンゾイルジフェニ
    ルホスフィンオキシドから成る群から選ばれることを特
    徴とする請求項２に記載の要素。
  5. 【請求項５】 ケイ素−酸素の官能性を含んでいる添加
    物がシリカ、ケイ酸カルシウム、雲母、粘土、タルク、
    ケイ酸ジルコニウムから成る群から選ばれることを特徴
    とする請求項１に記載の要素。
  6. 【請求項６】 リン−酸素の官能性を含んでいる添加物
    が芳香族のリン酸塩、芳香族の亜リン酸塩および芳香族
    のホスホン酸塩から成る群から選ばれることを特徴とす
    る請求項１に記載の要素。
  7. 【請求項７】 結合剤がエラストマー組成物の４０から
    ７５重量％存在することを特徴とする請求項１に記載の
    要素。
  8. 【請求項８】 少なくとも１つの添加物がエラストマー
    組成物の重量に基づいて１から２０重量％存在し、ケイ
    酸塩、芳香族のリン酸塩、芳香族の亜リン酸塩および芳
    香族のホスホン酸塩から成る群から選ばれることを特徴
    とする請求項１に記載の要素。
  9. 【請求項９】 少なくとも１つの添加物が９〜１２マイ
    クロメーターの赤外線を吸収することを特徴とする請求
    項１に記載の要素。
  10. 【請求項１０】 フレキソ印刷の印刷版を形成する方法
    であって、（１）（ａ）支持体、および（ｂ）エラスト
    マー結合剤、少なくとも１つのモノマー、重合が進むに
    つれて紫外線の吸光度が減少する光開始剤システム、お
    よび９〜１２マイクロメーターの赤外線を吸収するケイ
    素−酸素またはリン−酸素の官能性を含む添加剤を含ん
    でいるエラストマー組成物の少なくとも１つのレーザー
    彫り込み可能な強化エラストマー層を含む感光性の印刷
    要素を提供する工程、（２）感光性の印刷要素全体を紫
    外線に露光して徹底的に光硬化させる工程、および、
    （３）光硬化した要素を画像通りに９と１２マイクロメ
    ーターの間の赤外線に露光してそのエラストマー層を彫
    り込む工程、を含むことを特徴とする方法。
JP2001376297A 2000-12-08 2001-12-10 レーザーで彫り込むフレキソ印刷の印刷要素およびその要素から印刷版を成形する方法 Expired - Fee Related JP4310060B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US25416300P 2000-12-08 2000-12-08
US60/254,163 2000-12-08

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2002244289A true JP2002244289A (ja) 2002-08-30
JP2002244289A5 JP2002244289A5 (ja) 2005-07-14
JP4310060B2 JP4310060B2 (ja) 2009-08-05

Family

ID=22963169

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2001376297A Expired - Fee Related JP4310060B2 (ja) 2000-12-08 2001-12-10 レーザーで彫り込むフレキソ印刷の印刷要素およびその要素から印刷版を成形する方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6737216B2 (ja)
EP (1) EP1215044B1 (ja)
JP (1) JP4310060B2 (ja)
DE (1) DE60134110D1 (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007164178A (ja) * 2005-12-08 2007-06-28 E I Du Pont De Nemours & Co ナノ粒子を有する感光性印刷要素およびこの印刷要素を作製する方法
EP1939244A2 (en) 2006-12-27 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Laser-decomposable resin composition, and pattern-forming material and laser-engravable flexographic printing plate precursor using the same
JP2008296541A (ja) * 2007-06-04 2008-12-11 Shinoda Shoji Kk 印刷用版材及びその製版方法
JP2009145870A (ja) * 2007-09-14 2009-07-02 E I Du Pont De Nemours & Co 強化粒子を有する感光要素、およびこの要素から印刷フォームを作製するための方法
JP2009166504A (ja) * 2009-05-01 2009-07-30 Asahi Kasei E-Materials Corp レーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版
JP2009176740A (ja) * 2009-03-06 2009-08-06 Toray Ind Inc 平面ディスプレイ用隔壁の形成方法および平面ディスプレイの製造方法
JP2010042657A (ja) * 2008-07-18 2010-02-25 Fujifilm Corp レーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法
US7759049B2 (en) 2002-06-25 2010-07-20 Asahi Kasei Chemicals Corporation Photosensitive resin composition for original printing plate capable of being carved by laser
US7790348B2 (en) 2006-03-31 2010-09-07 Fujifilm Corporation Decomposable resin composition and flexographic printing plate precursor using the same
EP2236290A1 (en) 2009-03-30 2010-10-06 Fujifilm Corporation Printing plate precursor for laser engraving , printing plate, and method for producing printing plate

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10040928A1 (de) * 2000-08-18 2002-02-28 Basf Drucksysteme Gmbh Verfahren zur Herstellung lasergravierbarer Flexodruckelemente auf flexiblen metallischen Trägern
DE10113926A1 (de) * 2001-03-21 2002-09-26 Basf Drucksysteme Gmbh Verfahren zur Herstellung von Flexodruckplatten mittels Lasergravur
DE50206327D1 (de) * 2001-08-03 2006-05-18 Xsys Print Solutions Deutschland Gmbh Fotempfindliches flexodruckelement und verfahren zur herstellung von zeitungsflexodruckplatten
DE60226617D1 (de) * 2001-09-05 2008-06-26 Asahi Kasei Chemicals Corp Lichtempfindliche harzzusammensetzung und lasergravierbares druckelement
DE10227188A1 (de) * 2002-06-18 2004-01-08 Basf Drucksysteme Gmbh Verfahren zur Herstellung von Flexodruckformen mittels Laser-Direktgravur
US20040146806A1 (en) * 2003-01-29 2004-07-29 Roberts David H. Photo-imageable nanocomposites
US6881533B2 (en) * 2003-02-18 2005-04-19 Kodak Polychrome Graphics Llc Flexographic printing plate with ink-repellent non-image areas
CN100572088C (zh) * 2004-01-27 2009-12-23 旭化成电子材料株式会社 用于制造能够激光蚀刻的印刷基底的方法
US7125650B2 (en) * 2004-07-20 2006-10-24 Roberts David H Method for bump exposing relief image printing plates
US7284484B2 (en) * 2005-06-02 2007-10-23 Van Denend Mark E Laser ablating of printing plates and/or printing rollers to decrease taper and TIR
US20070084369A1 (en) * 2005-09-26 2007-04-19 Jsr Corporation Flexographic printing plate and process for production thereof
US7750267B2 (en) * 2006-04-25 2010-07-06 Van Denend Mark E Apparatus and method for laser engraveable printing plates
US8501390B2 (en) 2006-06-27 2013-08-06 Xiper Innovations, Inc. Laser engravable flexographic printing articles based on millable polyurethanes, and method
ATE460686T1 (de) * 2006-12-20 2010-03-15 Agfa Graphics Nv Flexodruckformvorläufer für lasergravur
US8187793B2 (en) * 2007-04-23 2012-05-29 Eastman Kodak Company Ablatable elements for making flexographic printing plates
US8187794B2 (en) * 2007-04-23 2012-05-29 Eastman Kodak Company Ablatable elements for making flexographic printing plates
EP2026132B1 (en) 2007-08-16 2013-03-13 E. I. Du Pont de Nemours and Company Process for making a cylindrically-shaped photosensitive element for use as a printing form
US20090211475A1 (en) 2008-02-21 2009-08-27 Taylor Bradley K Extended print sleeve and method for preparing a printing form from the sleeve
US8263314B2 (en) 2009-08-14 2012-09-11 E I Du Pont De Nemours And Company Method for preparing a composite printing form
US20110278766A1 (en) * 2010-05-11 2011-11-17 Vitaly Burkatovsky Three-dimensional imaging of flexographic media
US8603725B2 (en) * 2011-07-28 2013-12-10 Eastman Kodak Company Laser-engraveable compositions and flexographic printing precursors
US9134612B2 (en) 2012-03-27 2015-09-15 E I Du Pont De Nemours And Company Printing form precursor having elastomeric cap layer and a method of preparing a printing form from the precursor
US8941028B2 (en) * 2012-04-17 2015-01-27 Eastman Kodak Company System for direct engraving of flexographic printing members
US10274504B2 (en) * 2013-10-28 2019-04-30 Quantamatrix Inc. Encoded microcapsules and microarray fabricated therefrom
JP6335948B2 (ja) 2016-02-12 2018-05-30 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品製造方法
JP6994277B1 (ja) * 2021-02-15 2022-01-14 内藤プロセス株式会社 射出成形品の製造方法

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3459733A (en) 1964-10-15 1969-08-05 Mobil Oil Corp Monomeric polyesters of polyhydroxy compounds and process for preparing same
US3549733A (en) 1968-12-04 1970-12-22 Du Pont Method of producing polymeric printing plates
CA1099435A (en) 1971-04-01 1981-04-14 Gwendyline Y. Y. T. Chen Photosensitive block copolymer composition and elements
US4323636A (en) 1971-04-01 1982-04-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive block copolymer composition and elements
US4045231A (en) 1975-03-15 1977-08-30 Tokyo Ohka Kogyo Kabushiki Kaisha Photosensitive resin composition for flexographic printing plates
DE2909992A1 (de) 1979-03-14 1980-10-02 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmassen, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen
GB2071574B (en) 1980-03-11 1984-09-05 Crosfield Electronics Ltd Printing members
GB2071011B (en) 1980-03-11 1984-04-18 Crosfield Electronics Ltd Printing members
CH644471A5 (fr) 1981-02-02 1984-07-31 Michael Graetzel Produit destine a etre utilise comme photocatalyseur, procede de preparation de ce produit et utilisation de ce produit.
DE3114341A1 (de) 1981-04-09 1982-11-11 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Acylphosphinverbindungen, ihre herstellung und verwendung
DE3133419A1 (de) 1981-08-24 1983-03-10 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Acylphosphinoxidverbindungen und ihre verwendung
DE3137416A1 (de) * 1981-09-19 1983-03-31 Basf Ag, 6700 Ludwigshafen Fotopolymerisierbare gemische und elemente daraus
DE3633436A1 (de) 1986-10-01 1988-04-14 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmasse, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen
GB2235927B (en) * 1989-09-14 1992-10-21 Asahi Chemical Ind A sulfonic acid group-containing polyurethane and a photosensitive resin composition containing the same
RU2091385C1 (ru) * 1991-09-23 1997-09-27 Циба-Гейги АГ Бисацилфосфиноксиды, состав и способ нанесения покрытий
US5798202A (en) * 1992-05-11 1998-08-25 E. I. Dupont De Nemours And Company Laser engravable single-layer flexographic printing element
US5804353A (en) * 1992-05-11 1998-09-08 E. I. Dupont De Nemours And Company Lasers engravable multilayer flexographic printing element
US5259311A (en) * 1992-07-15 1993-11-09 Mark/Trece Inc. Laser engraving of photopolymer printing plates
US5262275A (en) * 1992-08-07 1993-11-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Flexographic printing element having an IR ablatable layer and process for making a flexographic printing plate
EP0662991A1 (en) * 1992-09-30 1995-07-19 Ppg Industries, Inc. Pigmented compositions and methods for producing radiation curable coatings of very low gloss
TW381106B (en) 1994-09-02 2000-02-01 Ciba Sc Holding Ag Alkoxyphenyl-substituted bisacylphosphine oxides
US5506086A (en) * 1995-05-01 1996-04-09 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for making a flexographic printing plate
DE19536806A1 (de) * 1995-10-02 1997-04-03 Basf Lacke & Farben Verfahren zur Herstellung von photopolymeren Tiefdruckplatten
SE520727C2 (sv) * 1996-03-04 2003-08-19 Ciba Sc Holding Ag Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningar
GB9605712D0 (en) * 1996-03-19 1996-05-22 Minnesota Mining & Mfg Novel uv-curable compositions
DE19611262A1 (de) 1996-03-22 1997-09-25 Basf Lacke & Farben Zur Herstellung von Flexodruckplatten durch digitale Informationsübertragung geeignetes mehrschichtiges Aufzeichnungselement
SG53043A1 (en) * 1996-08-28 1998-09-28 Ciba Geigy Ag Molecular complex compounds as photoinitiators
US5994026A (en) * 1998-03-30 1999-11-30 Eastman Kodak Company Flexographic printing plate with mask layer and methods of imaging and printing
SE9904080D0 (sv) * 1998-12-03 1999-11-11 Ciba Sc Holding Ag Fotoinitiatorberedning
US6159659A (en) * 1999-04-26 2000-12-12 Creo Srl Method for processless flexographic printing and flexographic printing plate
US6207344B1 (en) * 1999-09-29 2001-03-27 General Electric Company Composition for laser marking
US6803392B1 (en) * 1999-10-20 2004-10-12 Ciba Specialty Chemicals Corporation Photoinitiator formulations

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7759049B2 (en) 2002-06-25 2010-07-20 Asahi Kasei Chemicals Corporation Photosensitive resin composition for original printing plate capable of being carved by laser
JP2007164178A (ja) * 2005-12-08 2007-06-28 E I Du Pont De Nemours & Co ナノ粒子を有する感光性印刷要素およびこの印刷要素を作製する方法
US7790348B2 (en) 2006-03-31 2010-09-07 Fujifilm Corporation Decomposable resin composition and flexographic printing plate precursor using the same
EP1939244A2 (en) 2006-12-27 2008-07-02 FUJIFILM Corporation Laser-decomposable resin composition, and pattern-forming material and laser-engravable flexographic printing plate precursor using the same
JP2008296541A (ja) * 2007-06-04 2008-12-11 Shinoda Shoji Kk 印刷用版材及びその製版方法
JP2009145870A (ja) * 2007-09-14 2009-07-02 E I Du Pont De Nemours & Co 強化粒子を有する感光要素、およびこの要素から印刷フォームを作製するための方法
US8790862B2 (en) 2007-09-14 2014-07-29 E I Du Pont De Nemours And Company Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element
US8470518B2 (en) 2007-09-14 2013-06-25 E I Du Pont De Nemours And Company Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element
JP2010042657A (ja) * 2008-07-18 2010-02-25 Fujifilm Corp レーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法
JP2009176740A (ja) * 2009-03-06 2009-08-06 Toray Ind Inc 平面ディスプレイ用隔壁の形成方法および平面ディスプレイの製造方法
EP2236290A1 (en) 2009-03-30 2010-10-06 Fujifilm Corporation Printing plate precursor for laser engraving , printing plate, and method for producing printing plate
US8652760B2 (en) 2009-03-30 2014-02-18 Fujifilm Corporation Printing plate precursor for laser engraving, printing plate, and method for producing printing plate
JP2009166504A (ja) * 2009-05-01 2009-07-30 Asahi Kasei E-Materials Corp レーザー彫刻可能な円筒状フレキソ印刷原版

Also Published As

Publication number Publication date
EP1215044A2 (en) 2002-06-19
DE60134110D1 (de) 2008-07-03
US6737216B2 (en) 2004-05-18
EP1215044A3 (en) 2003-12-17
JP4310060B2 (ja) 2009-08-05
US20020123003A1 (en) 2002-09-05
EP1215044B1 (en) 2008-05-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4310060B2 (ja) レーザーで彫り込むフレキソ印刷の印刷要素およびその要素から印刷版を成形する方法
EP2045660B1 (en) Photosensitive element having reinforcing particles and method for preparing a printing form from the element
JP4425517B2 (ja) フレキソ印刷版の製造方法および該方法に使用する感光性要素
JP2846954B2 (ja) 単層フレキソグラフ印刷板の製造方法
EP0640044B1 (en) A process for making a multilayer flexographic printing plate
JP4808322B2 (ja) レーザー彫刻可能な凸版印刷要素の製造のためのグラフト共重合体の使用方法
CN103109233B (zh) 使用uv-led辐照生产胶印板的方法
CN104272186B (zh) 清洁柔性印刷版及其制备方法
JP4800185B2 (ja) ナノ粒子を有する感光性印刷要素およびこの印刷要素を作製する方法
US7223524B2 (en) Laser-engravable flexographic printing element containing a conductive carbon black and method for production of flexographic printing forms
JP2009063873A (ja) 感光性印刷版原版
JP2004535962A (ja) 電子ビーム架橋及びレーザー彫刻を用いたフレキソ印刷版の製造
CN105980930A (zh) 光敏树脂组合物
JP2009023181A (ja) 樹脂組成物、印刷原版、および印刷原版の製造方法
JP5240968B2 (ja) レーザー彫刻印刷版または印刷原版の再生方法
JP2015509132A (ja) レリーフ画像印刷要素のためのレーザ彫刻可能な組成物
JP2013029739A (ja) フレキソ印刷版の製版方法
JP2009006652A (ja) レーザー彫刻用樹脂組成物、レーザー彫刻用樹脂印刷版原版、レリーフ印刷版およびレリーフ印刷版の製造方法
JP2022043343A (ja) 画像レリーフ構造の製造方法
JP2004174757A (ja) レーザー彫刻印刷版
JP2010076135A (ja) レーザー彫刻用樹脂組成物、画像形成材料、レーザー彫刻用レリーフ印刷版原版、レリーフ印刷版、及びレリーフ印刷版の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20041125

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20041125

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20041125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080201

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080501

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080508

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080602

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080605

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20080701

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20080704

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080731

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080815

RD13 Notification of appointment of power of sub attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7433

Effective date: 20081114

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20081114

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20081212

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20090122

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090213

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20090318

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20090410

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20090511

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120515

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130515

Year of fee payment: 4

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees