JP2002240448A - ロール処理され且つ型押しされたアルミニウム支持体上に放射線−感受性記録層を有する印刷版及びそれらの製造法 - Google Patents
ロール処理され且つ型押しされたアルミニウム支持体上に放射線−感受性記録層を有する印刷版及びそれらの製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 その支持体が限定された粗さの微細な表面構
造を有し、１５０，０００枚のプリントより多いプリン
トランのために、放射線−感受性層を支持体材料におい
てしっかり固定しており、追加の艶消層又は放射線−感
受性層中への艶消剤の導入のような既知の材料の欠点の
ない放射線−感受性印刷版を提供すること。 【解決手段】 印刷版はロール処理されて型押しされた
アルミニウム支持体を含み、その表面はピットの粗い構
造を有し、その上に電気化学的粗面化により形成される
くぼみの微細構造が重ねられる。くぼみは０．１〜６μ
ｍの直径を有し、型押しされたアルミニウム支持体の表
面の平均粗さＲaは０．６３〜０．８２μｍの範囲内に
ある。
造を有し、１５０，０００枚のプリントより多いプリン
トランのために、放射線−感受性層を支持体材料におい
てしっかり固定しており、追加の艶消層又は放射線−感
受性層中への艶消剤の導入のような既知の材料の欠点の
ない放射線−感受性印刷版を提供すること。 【解決手段】 印刷版はロール処理されて型押しされた
アルミニウム支持体を含み、その表面はピットの粗い構
造を有し、その上に電気化学的粗面化により形成される
くぼみの微細構造が重ねられる。くぼみは０．１〜６μ
ｍの直径を有し、型押しされたアルミニウム支持体の表
面の平均粗さＲaは０．６３〜０．８２μｍの範囲内に
ある。
Description
【０００１】
【発明の分野】本発明は、１０〜６０μｍ、好ましくは
２０〜２４μｍの平均直径を有するピットのある表面構
造を有するロール処理され且つて型押しされたアルミニ
ウム支持体上に放射線−感受性記録層を有する印刷版な
らびにそれらの製造法に関する。
２０〜２４μｍの平均直径を有するピットのある表面構
造を有するロール処理され且つて型押しされたアルミニ
ウム支持体上に放射線−感受性記録層を有する印刷版な
らびにそれらの製造法に関する。
【０００２】プラノグラフィー印刷版の作製における第
１段階は通常、版の放射線−感受性記録層を真空密着コ
ピー枠においてマスクを介して画像通りに露出すること
である。マスクは可能な限り迅速に記録層と密着され
る。密着コピー枠の排気後、マスクと記録層の間に気泡
が残ってはならない。露出の間に記録層のキノンジアジ
ドから遊離する窒素も、窒素の泡が形成されないように
可能な限り迅速に運び去られねばならない。両方の要求
は、その放射線−感受性層が表面−粗面化された印刷版
により満たされ得る。粗い表面は、例えば画像通りの露
出の前の散粉（ｄｕｓｔｉｎｇ）により得ることができ
る。しかしながら、この型の方法は通常不均一に粗面化
された表面を生じ、結果としてこの型の印刷版を用いて
不均一なコピー結果が得られる。
１段階は通常、版の放射線−感受性記録層を真空密着コ
ピー枠においてマスクを介して画像通りに露出すること
である。マスクは可能な限り迅速に記録層と密着され
る。密着コピー枠の排気後、マスクと記録層の間に気泡
が残ってはならない。露出の間に記録層のキノンジアジ
ドから遊離する窒素も、窒素の泡が形成されないように
可能な限り迅速に運び去られねばならない。両方の要求
は、その放射線−感受性層が表面−粗面化された印刷版
により満たされ得る。粗い表面は、例えば画像通りの露
出の前の散粉（ｄｕｓｔｉｎｇ）により得ることができ
る。しかしながら、この型の方法は通常不均一に粗面化
された表面を生じ、結果としてこの型の印刷版を用いて
不均一なコピー結果が得られる。
【０００３】従って、印刷版の製造は、限定された粗さ
の表面を有するその製品を与える。ここにおいては種々
の方法が用いられる。かくして、懸濁された水溶性粒子
を含有する放射線−感受性溶液を印刷版の支持体にコー
ティングすることができ、該粒子は層が乾燥された後に
水で洗い流される。かくして放射線−感受性層の表面は
多数のくぼみを有する。
の表面を有するその製品を与える。ここにおいては種々
の方法が用いられる。かくして、懸濁された水溶性粒子
を含有する放射線−感受性溶液を印刷版の支持体にコー
ティングすることができ、該粒子は層が乾燥された後に
水で洗い流される。かくして放射線−感受性層の表面は
多数のくぼみを有する。
【０００４】記録層のためのコーティング溶液に、８０
〜３００℃に加熱されると窒素ガスを脱離させる化合物
を加えることが提案された。ニトロソ、スルホニルヒド
ラジン、アゾ又はヒドラゾ化合物が特に適している。上
記の温度範囲内における乾燥の間に脱離プロセスが始ま
る。この方法で放射線−感受性層は粗い表面を得る。
〜３００℃に加熱されると窒素ガスを脱離させる化合物
を加えることが提案された。ニトロソ、スルホニルヒド
ラジン、アゾ又はヒドラゾ化合物が特に適している。上
記の温度範囲内における乾燥の間に脱離プロセスが始ま
る。この方法で放射線−感受性層は粗い表面を得る。
【０００５】最後に、中に懸濁された樹脂を有する放射
線−感受性コーティング溶液を用いることも提案されて
おり、その樹脂は乾燥の間に凝集して沈殿し、この方法
で表面構造を粗くする。しかしながらこれらの方法のい
ずれもこれまで自身を確立することができなかった。
線−感受性コーティング溶液を用いることも提案されて
おり、その樹脂は乾燥の間に凝集して沈殿し、この方法
で表面構造を粗くする。しかしながらこれらの方法のい
ずれもこれまで自身を確立することができなかった。
【０００６】連続もしくは不連続の（ｉｎｔｅｒｒｕｐ
ｔｅｄ）艶消層の適用によって粗い表面を得ることもで
きる。かくして、ＤＥ−Ａ ３０ ０９ ９２８（＝Ｇ
Ｂ−Ａ ２，０４６，４６１）は、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、エチレン−プロピレンコポリマー、エチレ
ン−酢酸ビニルコポリマー、ポリエチレンテレフタレー
ト又は架橋されたビニルポリマーの粒子を分散された形
態で含有する非−感光性コーティング液を感光層にコー
ティングする方法を記載している。乾燥後、それぞれの
粒子は非常に小さい突起として連続最上層中に残る。
ｔｅｄ）艶消層の適用によって粗い表面を得ることもで
きる。かくして、ＤＥ−Ａ ３０ ０９ ９２８（＝Ｇ
Ｂ−Ａ ２，０４６，４６１）は、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、エチレン−プロピレンコポリマー、エチレ
ン−酢酸ビニルコポリマー、ポリエチレンテレフタレー
ト又は架橋されたビニルポリマーの粒子を分散された形
態で含有する非−感光性コーティング液を感光層にコー
ティングする方法を記載している。乾燥後、それぞれの
粒子は非常に小さい突起として連続最上層中に残る。
【０００７】限定された表面粗さを有する連続もしくは
不連続の最上層をエンボスローラーにより適用すること
ができる。この目的のために用いられるコーティング溶
液は通常の艶消剤、例えば二酸化ケイ素、酸化亜鉛、二
酸化チタン、ガラスビーズ、酸化アルミニウム、澱粉、
ポリ（メチルメタクリレート）、ポリスチレン及びフェ
ノール性樹脂を含むことができる（ＤＥ−Ａ ２６ ０
６ ７９３＝ＧＢ−Ａ１，５４２，１３１）。
不連続の最上層をエンボスローラーにより適用すること
ができる。この目的のために用いられるコーティング溶
液は通常の艶消剤、例えば二酸化ケイ素、酸化亜鉛、二
酸化チタン、ガラスビーズ、酸化アルミニウム、澱粉、
ポリ（メチルメタクリレート）、ポリスチレン及びフェ
ノール性樹脂を含むことができる（ＤＥ−Ａ ２６ ０
６ ７９３＝ＧＢ−Ａ１，５４２，１３１）。
【０００８】最後に、感光層の表面上に溶融した（ｍｅ
ｌｔｅｄ）微粉末を散粉することによって艶消を生ずる
こともできる。この目的のために、粉末は感光層より低
い軟化点を有していなければならない。艶消粒子は一般
にポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン
オキシド、ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸、
ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリメタクリ
ルアミド、ポリブチルアクリレート、ポリスチレン、ポ
リビニルメチルエーテル、エポキシ樹脂、フェノール性
樹脂、ポリアミド又はポリビニルブチラールから成る
（ＤＥ−Ａ ３００３ １３１＝ＵＳ−Ａ ４，２８
８，５２１）。
ｌｔｅｄ）微粉末を散粉することによって艶消を生ずる
こともできる。この目的のために、粉末は感光層より低
い軟化点を有していなければならない。艶消粒子は一般
にポリ酢酸ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン
オキシド、ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸、
ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリメタクリ
ルアミド、ポリブチルアクリレート、ポリスチレン、ポ
リビニルメチルエーテル、エポキシ樹脂、フェノール性
樹脂、ポリアミド又はポリビニルブチラールから成る
（ＤＥ−Ａ ３００３ １３１＝ＵＳ−Ａ ４，２８
８，５２１）。
【０００９】ＤＥ−Ａ ３１ ３１ ５７０（＝ＧＢ−
Ａ ２ ０８１ ９１９）は、感光層及びその上に置か
れた艶消層を有する記録材料を開示している。艶消層
は、有機コポリマーを含む水溶液又は水性分散液をスプ
レー噴霧し、乾燥することにより適用される。スプレー
噴霧を静電的に行うこともできる。放射線−感受性層は
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド及びポリマー性結
合剤を含むことができる。
Ａ ２ ０８１ ９１９）は、感光層及びその上に置か
れた艶消層を有する記録材料を開示している。艶消層
は、有機コポリマーを含む水溶液又は水性分散液をスプ
レー噴霧し、乾燥することにより適用される。スプレー
噴霧を静電的に行うこともできる。放射線−感受性層は
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド及びポリマー性結
合剤を含むことができる。
【００１０】ＥＰ−Ａ ０ ３４４ ９８５に従うと、
不連続の艶消層を与える材料を、ある低い導電率を有す
る炭化水素中に溶解するか、もしくは分散させ、放射線
−感受性層上に静電的にスプレー噴霧する。艶消のため
に用いられる材料は感光性であることもできる。この方
法の利点は、層を打つ滴が実質的に均一な寸法を有する
ことである。
不連続の艶消層を与える材料を、ある低い導電率を有す
る炭化水素中に溶解するか、もしくは分散させ、放射線
−感受性層上に静電的にスプレー噴霧する。艶消のため
に用いられる材料は感光性であることもできる。この方
法の利点は、層を打つ滴が実質的に均一な寸法を有する
ことである。
【００１１】ＤＥ−Ａ ３４ ３３ ２４７（＝ＵＳ−
Ａ ４，８４２，９８２）は、粗い最上層を放射線−感
受性層上にスプレー噴霧し、乾燥する放射線−感受性記
録材料を記載している。２つの層は本質的に同じ組成を
有する。細かい網の仕事に必要であり得るように、記録
材料を短時間だけ露出すると、最上層の残渣が多くの場
合、現像後に非−画像領域内に残る。かくしてこれらを
追加の修正段階で除去してしまわなければならない。
Ａ ４，８４２，９８２）は、粗い最上層を放射線−感
受性層上にスプレー噴霧し、乾燥する放射線−感受性記
録材料を記載している。２つの層は本質的に同じ組成を
有する。細かい網の仕事に必要であり得るように、記録
材料を短時間だけ露出すると、最上層の残渣が多くの場
合、現像後に非−画像領域内に残る。かくしてこれらを
追加の修正段階で除去してしまわなければならない。
【００１２】艶消された感光性記録材料の製造の他の方
法は、その最も小さい寸法が少なくとも層の厚さと同じ
大きさである微粉砕された粒子を感光層中に導入するこ
とを含む。粒子は無機又は有機性のものであることがで
きる（ＤＥ−Ａ ２９ ２６２３６＝ＡＵ−Ｂ ５９
４１７／８０）。熱的に硬化されるフェノール性樹脂が
特に適しているとして記載されている（ＤＥ−Ａ ３１
１７ ７０２＝ＧＢ−Ａ ２ ０７５ ７０２）。
法は、その最も小さい寸法が少なくとも層の厚さと同じ
大きさである微粉砕された粒子を感光層中に導入するこ
とを含む。粒子は無機又は有機性のものであることがで
きる（ＤＥ−Ａ ２９ ２６２３６＝ＡＵ−Ｂ ５９
４１７／８０）。熱的に硬化されるフェノール性樹脂が
特に適しているとして記載されている（ＤＥ−Ａ ３１
１７ ７０２＝ＧＢ−Ａ ２ ０７５ ７０２）。
【００１３】ＪＰ−Ａ ５７−１１５ ５４８は、その
放射線−感受性層が５００μｍ未満の平均直径を有する
疎水性二酸化ケイ素粒子及び３〜４０μｍの平均直径を
有するポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロ
ピレンコポリマー又は架橋されたビニルポリマーの艶消
粒子を含む記録材料を開示している。二酸化ケイ素粒子
は艶消粒子の分散のために役立つ。
放射線−感受性層が５００μｍ未満の平均直径を有する
疎水性二酸化ケイ素粒子及び３〜４０μｍの平均直径を
有するポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロ
ピレンコポリマー又は架橋されたビニルポリマーの艶消
粒子を含む記録材料を開示している。二酸化ケイ素粒子
は艶消粒子の分散のために役立つ。
【００１４】放射線−感受性層自身が艶消されている記
録材料は、一方で画像通りの露出及び続く現像の後、画
像点において艶消が保持されるという利点を与える。他
方、それは放射線−感受性層中の艶消粒子の回りで望ま
しくないハレーションが起こり得る点で不利である。艶
消粒子は凝集物も形成し得、それはプリントの画質を損
なう。
録材料は、一方で画像通りの露出及び続く現像の後、画
像点において艶消が保持されるという利点を与える。他
方、それは放射線−感受性層中の艶消粒子の回りで望ま
しくないハレーションが起こり得る点で不利である。艶
消粒子は凝集物も形成し得、それはプリントの画質を損
なう。
【００１５】他方、記載されている分離された艶消層は
現像液中に可溶性もしくは分散性であり、実質的に完全
に除去される。
現像液中に可溶性もしくは分散性であり、実質的に完全
に除去される。
【００１６】ＥＰ−０ ６４９ ０６３は、１グラム当
たりに最高で０．８０ミリモルの酸及び／又は塩の基を
含む樹脂のアニオン的に、又はアニオン的／非イオン的
に安定化された水性分散液をコピー層上にスプレー噴霧
する方法を記載している。この方法は、分散液中の大き
すぎる滴が現像の問題を与え得、さらに艶消が印刷版製
造法における追加の作業段階を生ずるという欠点を有す
る。
たりに最高で０．８０ミリモルの酸及び／又は塩の基を
含む樹脂のアニオン的に、又はアニオン的／非イオン的
に安定化された水性分散液をコピー層上にスプレー噴霧
する方法を記載している。この方法は、分散液中の大き
すぎる滴が現像の問題を与え得、さらに艶消が印刷版製
造法における追加の作業段階を生ずるという欠点を有す
る。
【００１７】艶消層を放射線−感受性層に適用するか又
は艶消剤を放射線−感受性層中に導入し、ここで艶消層
又は艶消剤のいずれも支持体にしっかり付着していない
ことは、これらの方法のすべてに共通である。
は艶消剤を放射線−感受性層中に導入し、ここで艶消層
又は艶消剤のいずれも支持体にしっかり付着していない
ことは、これらの方法のすべてに共通である。
【００１８】
【発明の目的】従って、本発明の目的は、その支持体が
限定された粗さの微細な表面構造を有し、１５０，００
０枚のプリントより多いプリントラン（ｐｒｉｎｔ ｒ
ｕｎ）のために放射線−感受性層を支持体材料において
しっかり固定しており、追加の艶消層又は放射線−感受
性層中への艶消剤の導入のような既知の材料の欠点のな
い放射線−感受性印刷版を提供することである。
限定された粗さの微細な表面構造を有し、１５０，００
０枚のプリントより多いプリントラン（ｐｒｉｎｔ ｒ
ｕｎ）のために放射線−感受性層を支持体材料において
しっかり固定しており、追加の艶消層又は放射線−感受
性層中への艶消剤の導入のような既知の材料の欠点のな
い放射線−感受性印刷版を提供することである。
【００１９】
【発明の概略】この目的は、０．１〜６μｍの範囲内の
くぼみ直径を有するくぼみの微細構造をこの表面構造に
重ねる点で冒頭に記載した型の印刷版により達成され
る。
くぼみ直径を有するくぼみの微細構造をこの表面構造に
重ねる点で冒頭に記載した型の印刷版により達成され
る。
【００２０】印刷版の精巧さ（ｒｅｆｉｎｅｍｅｎｔ）
は請求項２及び３の特徴から現れる。
は請求項２及び３の特徴から現れる。
【００２１】予備−型押しされたアルミニウムウェブの
製造のための複数の方法が先行技術に記載されている。
「パックロール処理」（ＤＥ ２８ ３２ ５８０ Ｃ
２、印刷版に関して特許請求していない）の名前の下
に、２つのアルミニウムウェブを最後のロール処理段階
において２つのローラーの間に一緒に通過させる。該方
法では、不規則な予備的に粗面化された構造がローラー
と反対に向いた面の上、すなわち第１のアルミニウムウ
ェブが他のアルミニウムウェブと接触するようになる表
面の上に形成される。この方法は、表面構造が粗すぎ、
平版印刷の目的のために制御するのが困難であるという
欠点を有する。さらに、それは有意な方向配向（ｄｉｒ
ｅｃｔｉｏｎ ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ）を示し、それ
は印刷法のために好ましくない。
製造のための複数の方法が先行技術に記載されている。
「パックロール処理」（ＤＥ ２８ ３２ ５８０ Ｃ
２、印刷版に関して特許請求していない）の名前の下
に、２つのアルミニウムウェブを最後のロール処理段階
において２つのローラーの間に一緒に通過させる。該方
法では、不規則な予備的に粗面化された構造がローラー
と反対に向いた面の上、すなわち第１のアルミニウムウ
ェブが他のアルミニウムウェブと接触するようになる表
面の上に形成される。この方法は、表面構造が粗すぎ、
平版印刷の目的のために制御するのが困難であるという
欠点を有する。さらに、それは有意な方向配向（ｄｉｒ
ｅｃｔｉｏｎ ｏｒｉｅｎｔａｔｉｏｎ）を示し、それ
は印刷法のために好ましくない。
【００２２】平版印刷目的のために、ＧＢ−Ａ ９３
３０７ ４５４（Ａｌｃａｎ）は平版印刷版のためのこ
の型の予備−粗面化を記載している。この粗面化は上記
と同じ欠点を有する。
３０７ ４５４（Ａｌｃａｎ）は平版印刷版のためのこ
の型の予備−粗面化を記載している。この粗面化は上記
と同じ欠点を有する。
【００２３】レーザーテックス法（ｌａｓｅｒｔｅｘ
ｐｒｏｃｅｓｓ）（ＷＯ ９７／３１ ７８３ Ａｌｃ
ｏａ）では、レーザーにより中にくぼみが焼き込まれた
スチールローラーを最後のロール処理段階に用いる。し
かしながら、得られる構造は粗く、平版印刷目的に適し
ていない。さらに、そのようなエンボスローラーのくぼ
みはそれを用いて型押しされる柔らかいアルミニウムス
トリップにより急速になすり付けられ（ｓｍｅａｒｅ
ｄ）、次いで清浄化するか又は再び新しくしなければな
らず、それは該方法を非常に高価なものとする。
ｐｒｏｃｅｓｓ）（ＷＯ ９７／３１ ７８３ Ａｌｃ
ｏａ）では、レーザーにより中にくぼみが焼き込まれた
スチールローラーを最後のロール処理段階に用いる。し
かしながら、得られる構造は粗く、平版印刷目的に適し
ていない。さらに、そのようなエンボスローラーのくぼ
みはそれを用いて型押しされる柔らかいアルミニウムス
トリップにより急速になすり付けられ（ｓｍｅａｒｅ
ｄ）、次いで清浄化するか又は再び新しくしなければな
らず、それは該方法を非常に高価なものとする。
【００２４】用いられる印刷版の支持体は、ＤＥ １９
９ ０２ ５２７に記載されているような、ロール処理
され且つ型押しされたアルミニウムストリップから作ら
れるプレートフォーマット（ｐｌａｔｅ ｆｏｒｍａｔ
ｓ）である。アルミニウムストリップは、ドーム−形の
隆起から成る表面を有するローラーを用いて最後のロー
ル処理段階に型押しされる。アルミニウムストリップが
供される電気化学的粗面化法の故に、最初に型押しされ
る構造は大部分保持され、電気化学的に作られる微細構
造がその上に重ねられる。追加の電気化学的粗面化は、
記録層のしっかりした固定及びかくして長いプリントラ
ンを保証するために必要である。印刷版の支持体が機械
的に型押しされ、次いで陽極酸化されると、記録層の固
定が不十分であり、結局、プリントランはわずか約３
０，０００である。
９ ０２ ５２７に記載されているような、ロール処理
され且つ型押しされたアルミニウムストリップから作ら
れるプレートフォーマット（ｐｌａｔｅ ｆｏｒｍａｔ
ｓ）である。アルミニウムストリップは、ドーム−形の
隆起から成る表面を有するローラーを用いて最後のロー
ル処理段階に型押しされる。アルミニウムストリップが
供される電気化学的粗面化法の故に、最初に型押しされ
る構造は大部分保持され、電気化学的に作られる微細構
造がその上に重ねられる。追加の電気化学的粗面化は、
記録層のしっかりした固定及びかくして長いプリントラ
ンを保証するために必要である。印刷版の支持体が機械
的に型押しされ、次いで陽極酸化されると、記録層の固
定が不十分であり、結局、プリントランはわずか約３
０，０００である。
【００２５】真空密着コピー枠における放射線−感受性
印刷版の画像通りの露出の際、アルミニウム支持体にお
ける最初の粗い構造は空気吸引溝として働き、結果とし
て排気がマスクを印刷版と迅速に密着させる。露出の間
に放射線−感受性記録層のキノンジアジド又はジアゾニ
ウム塩から遊離する窒素も迅速に運び去られ、窒素の泡
は形成され得ない。
印刷版の画像通りの露出の際、アルミニウム支持体にお
ける最初の粗い構造は空気吸引溝として働き、結果とし
て排気がマスクを印刷版と迅速に密着させる。露出の間
に放射線−感受性記録層のキノンジアジド又はジアゾニ
ウム塩から遊離する窒素も迅速に運び去られ、窒素の泡
は形成され得ない。
【００２６】本発明の目的の一部は、印刷版の製造法を
提供することでもある。この型の方法は、ロール処理さ
れ且つ型押しされたアルミニウム支持体を、予備−ピッ
クリング（ｐｒｅ−ｐｉｃｋｌｉｎｇ）及び水を用いる
濯ぎの後に、希塩酸中で交流を用いて電気化学的に粗面
化し、水中で濯ぎ、硫酸中で汚れを除去し、次いで濯
ぎ、陽極酸化し、さらに親水性化し、乾燥し、そして放
射線−感受性記録層をコーティングすることにより区別
される（ｄｉｓｔｉｎｇｕｉｓｈｅｄ）。
提供することでもある。この型の方法は、ロール処理さ
れ且つ型押しされたアルミニウム支持体を、予備−ピッ
クリング（ｐｒｅ−ｐｉｃｋｌｉｎｇ）及び水を用いる
濯ぎの後に、希塩酸中で交流を用いて電気化学的に粗面
化し、水中で濯ぎ、硫酸中で汚れを除去し、次いで濯
ぎ、陽極酸化し、さらに親水性化し、乾燥し、そして放
射線−感受性記録層をコーティングすることにより区別
される（ｄｉｓｔｉｎｇｕｉｓｈｅｄ）。
【００２７】該方法のさらに精巧さは請求項５〜１２に
記載されている。
記載されている。
【００２８】下記において実施例に言及して本発明をさ
らに詳細に説明する。
らに詳細に説明する。
【００２９】実施例１及び２のアルミニウム支持体の基
本的材料は平版印刷目的に用いられる純粋なアルミニウ
ムストリップであり、それはＤＥ １９９ ０２ ５２
７Ａ１に記載されている方法により、ローラーを用いて
機械的に型押しされている。型押しされたアルミニウム
ストリップの表面構造は、ＤＩＮ ４７６８に従う機械
的走査を用いる粗さ測定により、ならびに型押しされた
アルミニウムストリップの電化化学的粗面化の後には、
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の顕微鏡写真により決定さ
れる。ＳＥＭ顕微鏡写真は１２００倍であり、４０oの
傾斜角で記録される。型押しされたアルミニウムバンド
又はアルミニウム支持体のＤＩＮ ４７６８に従う平均
粗さＲaは０．６３μｍ〜０．８２μｍの範囲内であ
る。
本的材料は平版印刷目的に用いられる純粋なアルミニウ
ムストリップであり、それはＤＥ １９９ ０２ ５２
７Ａ１に記載されている方法により、ローラーを用いて
機械的に型押しされている。型押しされたアルミニウム
ストリップの表面構造は、ＤＩＮ ４７６８に従う機械
的走査を用いる粗さ測定により、ならびに型押しされた
アルミニウムストリップの電化化学的粗面化の後には、
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）の顕微鏡写真により決定さ
れる。ＳＥＭ顕微鏡写真は１２００倍であり、４０oの
傾斜角で記録される。型押しされたアルミニウムバンド
又はアルミニウム支持体のＤＩＮ ４７６８に従う平均
粗さＲaは０．６３μｍ〜０．８２μｍの範囲内であ
る。
【００３０】比較実施例１はロール処理された純粋なア
ルミニウムストリップ、ＡＡ １０５０型であり、０．
３ｍｍの厚さ及びミル仕上げ表面を有する。
ルミニウムストリップ、ＡＡ １０５０型であり、０．
３ｍｍの厚さ及びミル仕上げ表面を有する。
【００３１】本発明に従う実施例及び比較実施例を下記
で互いに比較し、本発明に従う実施例の利点を説明す
る。
で互いに比較し、本発明に従う実施例の利点を説明す
る。
【００３２】粗さ及びかくしてガスを運び去るための容
量の尺度として、Ｂｅｋｋ平滑度を用いる。これまでの
実験は、３０〜２００秒の範囲内のＢｅｋｋ平滑度の値
を有する印刷版が優れた排気挙動を与えることを示して
いる。
量の尺度として、Ｂｅｋｋ平滑度を用いる。これまでの
実験は、３０〜２００秒の範囲内のＢｅｋｋ平滑度の値
を有する印刷版が優れた排気挙動を与えることを示して
いる。
【００３３】
【実施例】実施例１ 予備−型押しされたアルミニウム版をＤＥ １９９ ０
２ ５２７に類似して以下のプロセス段階に供する： −水の１ｌ当たり１０〜１００ｇの水酸化ナトリウムを
有する水酸化ナトリウム溶液中における、５０〜８０℃
及び２〜２０秒の接触時間での予備−ピックリング −脱イオン水を用いる１０秒間の濯ぎ −希塩酸（１５ｇ／ｌ）中で４０Ａ／ｄｍ2の電流強度
を用いる、３５℃で３０秒間の交流粗面化 −脱イオン水を用いる１０秒間の濯ぎ −４０℃で硫酸（２００ｇ／ｌ）中における２０秒間の
汚れの除去 −脱イオン水を用いる１０秒間の濯ぎ −硫酸（１００ｇ／ｌ）中で１０Ａ／ｄｍ2の電流強度
を用いる、３５℃において３０秒間の陽極酸化 −脱イオン水を用いる１０秒間の濯ぎ −ポリビニルホスホン酸（１０ｇ／ｌ）中で４０℃にお
ける１０秒間の親水性化 −脱イオン水を用いる１０秒間の濯ぎ −１２０℃で６０秒間の乾燥。
２ ５２７に類似して以下のプロセス段階に供する： −水の１ｌ当たり１０〜１００ｇの水酸化ナトリウムを
有する水酸化ナトリウム溶液中における、５０〜８０℃
及び２〜２０秒の接触時間での予備−ピックリング −脱イオン水を用いる１０秒間の濯ぎ −希塩酸（１５ｇ／ｌ）中で４０Ａ／ｄｍ2の電流強度
を用いる、３５℃で３０秒間の交流粗面化 −脱イオン水を用いる１０秒間の濯ぎ −４０℃で硫酸（２００ｇ／ｌ）中における２０秒間の
汚れの除去 −脱イオン水を用いる１０秒間の濯ぎ −硫酸（１００ｇ／ｌ）中で１０Ａ／ｄｍ2の電流強度
を用いる、３５℃において３０秒間の陽極酸化 −脱イオン水を用いる１０秒間の濯ぎ −ポリビニルホスホン酸（１０ｇ／ｌ）中で４０℃にお
ける１０秒間の親水性化 −脱イオン水を用いる１０秒間の濯ぎ −１２０℃で６０秒間の乾燥。
【００３４】続いてフォーマットに、 ＤＩＮ ５３７８３／５３２４０に従う４２０のヒドロキシル価及び１０，０ ００の平均分子量Ｍw（ポリスチレン標準を用いてＧＰＣにより決定）を有する クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック ５．００ｐｂｗ ３モルの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロリド及び １モルの２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンから作られるエステル １．２０ｐｂｗ １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニルクロリド ０．１５ｐｂｗ ビクトリア・ピュア・ブルー（Ｃ．Ｉ．４４０４５） ０．０５ｐｂｗ及び メチルエチルケトンとプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合物（４ ０／６０） ９３．６ｐｂｗ から成るポジティブ−作用性感光性記録層の溶液をコー
ティングし、乾燥する。乾燥層重量は２ｇ／ｍ2であ
る。この試料についてのＢｅｋｋ平滑度測定は、表に示
す値を与える。
ティングし、乾燥する。乾燥層重量は２ｇ／ｍ2であ
る。この試料についてのＢｅｋｋ平滑度測定は、表に示
す値を与える。
【００３５】実施例２ 実施例１で製造された基質に、 ６１．８００ｐｂｗのメトキシエタノール ２２．７８０ｐｂｗのテトラヒドロフラン中に、 ７１重量％のビニルブチラール単位、２重量％の酢酸ビニル単位及び２７重量 ％のビニルアルコール単位を含む７０，０００〜８０，０００の分子量を有する ポリビニルブチラールと無水マレイン酸との反応の生成物の８％濃度ブタノン溶 液（生成物の酸価 ４０） ８１．５９０ｐｂｗ； １モルの３−メトキシジフェニルアミン ４−ジアゾニウムサルフェートと１ モルの４，４’−ビスメトキシメチルジフェニルエーテルから作られ、メシチレ ンスルホネートとして沈殿するジアゾウニム塩重縮合生成物 ０．５１０ｐｂｗ ビクトリア・ピュア・ブルー ＦＧＡ（Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ Ｂｌｕｅ ８１ ） ０．０７０ｐｂｗ フェニルアゾジフェニルアミン ０．０１７ｐｂｗ リン酸（８５％） ０．０６０ｐｂｗ を含む溶液のネガティブ−作用性層を、１ｇ／ｍ2の乾
燥層重量でコーティングする。Ｂｅｋｋ平滑度測定は表
に挙げる値を示す。
燥層重量でコーティングする。Ｂｅｋｋ平滑度測定は表
に挙げる値を示す。
【００３６】実施例３ 予備−型押しされたアルミニウムストリップを以下のプ
ロセス段階にストリップ単位で供する： 予備−ピックリング：５０〜８０℃における水酸化ナト
リウム溶液中で、１０〜１００ｇ／ｌの水酸化ナトリウ
ム溶液を用い、２〜２０秒の接触時間で。 粗面化：５〜３０ｇ／ｌの酸濃度を有する塩酸又は硝酸
あるいは硫酸とのそれらの混合物のような無機酸中で、
３０〜５０℃の温度において、２００〜９００Ｃｂ／ｄ
ｍ 2の電荷の流れが生ずるように３０〜２００Ａ／ｄｍ2
の電流密度で３〜３０秒の電流接触時間において。 中間ピックリング：４０〜７０℃の温度で２〜３０秒の
接触時間を以て５０〜３００ｇ／ｌの範囲内の硫酸又は
リン酸あるいはそれらの混合物を含むか、あるいは２０
〜７０℃の温度において２〜２０秒の接触時間を以て１
〜３０ｇ／ｌの濃度範囲内の水酸化ナトリウム溶液を使
用。 陽極酸化：５０〜３００ｇ／ｌの濃度における硫酸又は
リン酸あるいはそれらの混合物中で、３０〜６５℃にお
いて、３〜３０秒の接触時間を用い、２０〜１００Ａ／
ｄｍ 2の電流密度で。 後処理：０．５〜１０ｇ／ｌの含有率を有するポリビニ
ルホスホン酸の水溶液中で、４０〜８０℃において、３
〜２０秒の接触時間を用いて。 濯ぎ：各処理段階の後、脱イオン水を用いて１〜１５秒
間濯ぎを行う。
ロセス段階にストリップ単位で供する： 予備−ピックリング：５０〜８０℃における水酸化ナト
リウム溶液中で、１０〜１００ｇ／ｌの水酸化ナトリウ
ム溶液を用い、２〜２０秒の接触時間で。 粗面化：５〜３０ｇ／ｌの酸濃度を有する塩酸又は硝酸
あるいは硫酸とのそれらの混合物のような無機酸中で、
３０〜５０℃の温度において、２００〜９００Ｃｂ／ｄ
ｍ 2の電荷の流れが生ずるように３０〜２００Ａ／ｄｍ2
の電流密度で３〜３０秒の電流接触時間において。 中間ピックリング：４０〜７０℃の温度で２〜３０秒の
接触時間を以て５０〜３００ｇ／ｌの範囲内の硫酸又は
リン酸あるいはそれらの混合物を含むか、あるいは２０
〜７０℃の温度において２〜２０秒の接触時間を以て１
〜３０ｇ／ｌの濃度範囲内の水酸化ナトリウム溶液を使
用。 陽極酸化：５０〜３００ｇ／ｌの濃度における硫酸又は
リン酸あるいはそれらの混合物中で、３０〜６５℃にお
いて、３〜３０秒の接触時間を用い、２０〜１００Ａ／
ｄｍ 2の電流密度で。 後処理：０．５〜１０ｇ／ｌの含有率を有するポリビニ
ルホスホン酸の水溶液中で、４０〜８０℃において、３
〜２０秒の接触時間を用いて。 濯ぎ：各処理段階の後、脱イオン水を用いて１〜１５秒
間濯ぎを行う。
【００３７】比較実施例１ 通常の印刷版の製造に用いられるような通常のミル仕上
げ表面を有する純粋なアルミニウムストリップ（ＡＡ１
０５０）のフォーマットを実施例１におけると同じプロ
セス段階に供し、コーティングする。Ｂｅｋｋ平滑度測
定は、予備−型押しされ且つ電気化学的に粗面化された
アルミニウム支持体を用いる実施例１の場合より有意に
高い値を与える。
げ表面を有する純粋なアルミニウムストリップ（ＡＡ１
０５０）のフォーマットを実施例１におけると同じプロ
セス段階に供し、コーティングする。Ｂｅｋｋ平滑度測
定は、予備−型押しされ且つ電気化学的に粗面化された
アルミニウム支持体を用いる実施例１の場合より有意に
高い値を与える。
【００３８】比較実施例２ 比較実施例１に記載した基質に実施例２で示した溶液を
１ｇ／ｍ2の乾燥層重量でコーティングする。Ｂｅｋｋ
平滑度を表に挙げる。
１ｇ／ｍ2の乾燥層重量でコーティングする。Ｂｅｋｋ
平滑度を表に挙げる。
【００３９】比較実施例３ ＤＥ １９９ ０２ ５２７に類似して予備−型押しさ
れたアルミニウム版を硫酸（１００ｇ／ｌ）中で、１０
Ａ／ｄｍ2の電流強度において３５℃で３０秒間陽極酸
化し、実施例１に示した溶液をコーティングする。実施
例１及び比較実施例３に従う版を印刷すると、本発明に
従う版を用いて、比較の版を用いるより５倍の数のプリ
ントが印刷機で印刷され、これは実施例１に従う版の記
録層が、アルミニウム支持体の微細構造の結果として、
比較実施例３に従う版のアルミニウム支持体の粗い構造
におけるより有意にしっかりと固定されていることに帰
せられ得る。
れたアルミニウム版を硫酸（１００ｇ／ｌ）中で、１０
Ａ／ｄｍ2の電流強度において３５℃で３０秒間陽極酸
化し、実施例１に示した溶液をコーティングする。実施
例１及び比較実施例３に従う版を印刷すると、本発明に
従う版を用いて、比較の版を用いるより５倍の数のプリ
ントが印刷機で印刷され、これは実施例１に従う版の記
録層が、アルミニウム支持体の微細構造の結果として、
比較実施例３に従う版のアルミニウム支持体の粗い構造
におけるより有意にしっかりと固定されていることに帰
せられ得る。
【００４０】以下の表は本発明に従う実施例及び比較実
施例のプリントラン及びＢｅｋｋ平滑度の値を示す。
施例のプリントラン及びＢｅｋｋ平滑度の値を示す。
【００４１】
【表１】
【図１】０．６３μｍの平均粗さＲa（ＤＩＮ ４７６
８に従う機械的走査で）を有し、上に電気化学的粗面化
により形成される微細構造が重ねられている実施例１又
は２に従う型押しされたアルミニウム支持体表面のＳＥ
Ｍ顕微鏡写真。
８に従う機械的走査で）を有し、上に電気化学的粗面化
により形成される微細構造が重ねられている実施例１又
は２に従う型押しされたアルミニウム支持体表面のＳＥ
Ｍ顕微鏡写真。
【図２】平均粗さＲa＝０．４７μｍを有する通常のミ
ル仕上げ表面を持つ比較実施例１に従う純粋なアルミニ
ウム支持体のＳＥＭ顕微鏡写真。
ル仕上げ表面を持つ比較実施例１に従う純粋なアルミニ
ウム支持体のＳＥＭ顕微鏡写真。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H114 AA11 AA14 AA22 AA23 BA02 DA04 DA09 DA34 DA51 DA59 EA03 FA06 FA10 GA05 GA06 GA08 GA09
Claims (16)
- 【請求項１】 ロール処理され且つ型押しされたアルミ
ニウム支持体上に放射線−感受性記録層を有し、アルミ
ニウム支持体は１０〜６０μｍ、好ましくは２０〜２４
μｍの平均直径を有するピットを持つ表面構造を有する
印刷版であって、電気化学的粗面化により作られる０．
１〜６μｍの範囲内のくぼみ直径を有するくぼみの微細
構造がこの表面構造上に重ねられていることを特徴とす
る印刷版。 - 【請求項２】 くぼみの数が７６〜８２％の面積包含率
（ａｒｅａ ｃｏｖｅｒａｇｅ）を以て１ｍｍ2当たり
に１８，０００〜２００，０００個であることを特徴と
する請求項１に従う印刷版。 - 【請求項３】 Ｂｅｋｋ平滑度が３０〜２００秒である
ことを特徴とする請求項１又は２に従う印刷版。 - 【請求項４】 ロール処理され且つ型押しされたアルミ
ニウム支持体を、予備−ピックリング及び水を用いる濯
ぎの後、希塩酸中で交流を用いて電気化学的に粗面化
し、水中で濯ぎ、硫酸中で汚れを除去し、次いで濯ぎ、
陽極酸化し、さらに親水性化し、乾燥し、必要に応じて
フォーマット化し（ｆｏｒｍａｔｔｅｄ）、そして放射
線−感受性記録層をコーティングすることを特徴とする
請求項１〜３のいずれかに従う印刷版の製造法。 - 【請求項５】 アルミニウム支持体を、水の１ｌ当たり
５〜３０ｇの酸の酸濃度を有する塩酸又は硝酸あるいは
それらと硫酸との混合物中で、３０〜５０℃の温度で、
３０〜２００Ａ／ｄｍ2の電流密度及び３〜３０秒の電
流接触時間において２００〜９００Ｃｂ／ｄｍ2の電荷
の流れを以て、電気化学的に粗面化することを特徴とす
る請求項４に従う方法。 - 【請求項６】 電気化学的粗面化を、水の１ｌ当たり１
０〜２０ｇの塩酸の濃度を有する塩酸水溶液中で、３５
〜４５Ａ／ｄｍ2の電流強度を有する交流を用い、３０
〜４５℃の塩酸溶液温度において３０秒間行うことを特
徴とする請求項５に従う方法。 - 【請求項７】 ロール処理され且つ型押しされたアルミ
ニウム支持体を、電気化学的粗面化の前に、水の１ｌ当
たり１０〜１００ｇの水酸化ナトリウムの濃度を有する
水酸化ナトリウム水溶液中で、５０〜８０℃の水酸化ナ
トリウム溶液温度において５〜２０秒間化学的に予備−
ピックリングし、次いで脱イオン水を用いて１〜１５秒
間濯ぐことを特徴とする請求項４又は５に従う方法。 - 【請求項８】 ロール処理され且つ型押しされたアルミ
ニウム支持体を、電気化学的粗面化の後に、水の１ｌ当
たり５０〜３００ｇの酸の酸濃度を有する硫酸又はリン
酸あるいはそれらの混合物を用い、４０〜７０℃の温度
及び２〜３０秒の接触時間において中間ピックリングに
供することを特徴とする請求項４に従う方法。 - 【請求項９】 ロール処理され且つ型押しされたアルミ
ニウム支持体を、電気化学的粗面化の後に、水の１ｌ当
たり１〜３０ｇの水酸化物の濃度を有する水酸化ナトリ
ウム溶液を用い、２０〜７０℃の温度及び２〜２０秒の
接触時間において中間ピックリングに供することを特徴
とする請求項４に従う方法。 - 【請求項１０】 ロール処理され且つ型押しされたアル
ミニウム支持体を、電気化学的粗面化の後に、脱イオン
水を用いて１〜１５秒間濯ぎ、水の１ｌ当たり１００〜
２００ｇの硫酸を有する硫酸溶液中で、３５〜６５℃の
温度において５〜２５秒間汚れを除去し、次いで脱イオ
ン水を用いて３〜１２秒間再び濯ぐことを特徴とする請
求項４に従う方法。 - 【請求項１１】 アルミニウム支持体を、水の１ｌ当た
り５０〜３００ｇの酸の濃度を有する硫酸又はリン酸あ
るいはそれらの混合物中で、３０〜６５℃の温度及び３
〜３０秒の接触時間において、２０〜１００Ａ／ｄｍ2
の電流密度で陽極酸化することを特徴とする請求項４に
従う方法。 - 【請求項１２】 アルミニウム支持体を、水の１ｌ当た
り１００〜２００ｇの硫酸の濃度を有する硫酸水溶液中
で、１０Ａ／ｄｍ2の電流強度の交流を用い、３０〜４
５℃の硫酸溶液温度において３０秒間陽極酸化すること
を特徴とする請求項４に従う方法。 - 【請求項１３】 アルミニウム支持体を、水の１ｌ当た
り０．５〜１０ｇの酸の濃度を有するポリビニルホスホ
ン酸水溶液中で、４０〜８０℃の温度において３〜２０
秒間親水性化すること、ならびに親水性化の前及び後の
両方において脱イオン水を用いる濯ぎを１〜１５秒間行
うことを特徴とする請求項４に従う方法。 - 【請求項１４】 親水性化されたアルミニウム支持体を
９０〜１３０℃において１〜１５秒間乾燥し、次いで、
乾燥されると、２ｇ／ｍ2又は１ｇ／ｍ2の乾燥層重量を
有する放射線−感受性ポジティブ−もしくはネガティブ
−作用性記録層を適用することを特徴とする請求項４に
従う方法。 - 【請求項１５】 ポジティブ−作用性記録層が、 ＤＩＮ ５３７８３／５３２４０に従う４２０のヒドロキシル価及び１０，０ ００の平均分子量Ｍw（ポリスチレン標準を用いてＧＰＣにより決定）を有する クレゾール−ホルムアルデヒドノボラック ５．００ｐｂｗ ３モルの１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニルクロリド及び １モルの２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンから作られるエステル １．２０ｐｂｗ １，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニルクロリド ０．１５ｐｂｗ ビクトリア・ピュア・ブルー（Ｖｉｃｔｏｒｉａ Ｐｕｒｅ Ｂｌｕｅ）（Ｃ ．Ｉ．４４０４５） ０．０５ｐｂｗ及び メチルエチルケトンとプロピレングリコールモノメチルエーテルの混合物（４ ０／６０） ９３．６ｐｂｗ を含み、ここでｐｂｗは重量部を示すことを特徴とする
請求項１４に従う方法。 - 【請求項１６】 ネガティブ−作用性記録層が、 ６１．８００ｐｂｗのメトキシエタノール ２２．７８０ｐｂｗのテトラヒドロフラン中に、 ７１重量％のビニルブチラール単位、２重量％の酢酸ビニル単位及び２７重量 ％のビニルアルコール単位を含む７０，０００〜８０，０００の分子量を有する ポリビニルブチラールと無水マレイン酸との反応の生成物の８％濃度ブタノン溶 液（生成物の酸価 ４０） ８１．５９０ｐｂｗ； １モルの３−メトキシジフェニルアミン ４−ジアゾニウムサルフェートと１ モルの４，４’−ビスメトキシメチルジフェニルエーテルから作られ、メシチレ ンスルホネートとして沈殿するジアゾウニム塩重縮合生成物 ０．５１０ｐｂｗ ビクトリア・ピュア・ブルー ＦＧＡ（Ｃ．Ｉ．Ｂａｓｉｃ Ｂｌｕｅ ８１ ） ０．０７０ｐｂｗ フェニルアゾジフェニルアミン ０．０１７ｐｂｗ リン酸（８５％） ０．０６０ｐｂｗ を含み、ここでｐｂｗは重量部を示すことを特徴とする
請求項１４に従う方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE10064892.4 | 2000-12-23 | ||
| DE10064892 | 2000-12-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002240448A true JP2002240448A (ja) | 2002-08-28 |
Family
ID=7668885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001389283A Pending JP2002240448A (ja) | 2000-12-23 | 2001-12-21 | ロール処理され且つ型押しされたアルミニウム支持体上に放射線−感受性記録層を有する印刷版及びそれらの製造法 |
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| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020119394A1 (ja) |
| EP (1) | EP1231510A3 (ja) |
| JP (1) | JP2002240448A (ja) |
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| JP2006082387A (ja) * | 2004-09-16 | 2006-03-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
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| DE3425860A1 (de) * | 1984-07-13 | 1986-01-16 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Traegermaterial fuer druckplatten aus einer aluminiumlegierung und druckplatte aus diesem material |
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| JP3217194B2 (ja) * | 1993-08-31 | 2001-10-09 | 富士写真フイルム株式会社 | 平版印刷版用支持体の製造方法 |
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-
2001
- 2001-11-28 EP EP01000666A patent/EP1231510A3/en not_active Withdrawn
- 2001-12-14 US US10/020,103 patent/US20020119394A1/en not_active Abandoned
- 2001-12-21 JP JP2001389283A patent/JP2002240448A/ja active Pending
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| EP1231510A2 (en) | 2002-08-14 |
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