JP2002212743A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2002212743A5 JP2002212743A5 JP2001282258A JP2001282258A JP2002212743A5 JP 2002212743 A5 JP2002212743 A5 JP 2002212743A5 JP 2001282258 A JP2001282258 A JP 2001282258A JP 2001282258 A JP2001282258 A JP 2001282258A JP 2002212743 A5 JP2002212743 A5 JP 2002212743A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- web
- coating
- plenum
- coating material
- deposition
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Description
【特許請求の範囲】
【請求項1】 2つのロールされたウエブの物質である形態の、2つの基体をコーティングする装置であって、
該ウエブ基体のそれぞれのコートされていない部分を供給し、支持するための2つの供給手段;
それぞれのウエブ基体を、コーティングエリアを通し、該ウエブ基体が前記コーティングエリア内で互いに近接して、堆積プレナムを形成する様にガイドするための、2つのウエブハンドリング部分;
ウエブ基体のそれぞれのコートされた部分を支持し、それぞれのウエブ基体を供給ローラーからコーティングエリアを通して、それぞれの巻取り手段へ運ぶための、2つの巻取り手段;および
コーティング物質を堆積プレナムに提供するためのコーティング物質ソースを含み;
ウエブが堆積プレナム内で垂直方向に配向され、コーティング物質ソースが堆積プレナムの底部に配置され、さらに装置が堆積プレナムの頂部に排気システムを有し、コーティング物質が2つのウエブ間を堆積プレナムの底部から堆積プレナムの頂部へと流れ;
2つのウエブハンドリング部分のそれぞれが、複数のアーチバーを有し、前記アーチバーのそれぞれが水平線に沿って各ウエブを支持し、それにより各ウエブにおいて曲りを形成し、コーティング物質が該曲りを通る際に方向を変えられて、堆積プレナム内で乱流領域を形成する前記装置。
【請求項2】 排気システムがウエブの幅に対応する幅を有し、前記排気システムがプレナムの幅にわたって間隔をおいて配置されている複数のランナーを有し、各前記ランナーは:
ベンチュリ管;および
前記ベンチュリ管内のスライド弁であって、該スライド弁は、前記ベンチュリ管中を流れるコーティング物質の量を変えるように調節可能であり、したがって前記堆積プレナムの幅にわたって、圧力差が調節され、ウエブ上に、より均一なコーティングを提供することができる前記スライド弁を含む、請求項1記載の装置。
【請求項3】 排気システムがさらに、排気システム静圧センサー、ランナー静圧センサー、ランナー温度センサー、および排気システム静圧センサーを含み、スライド弁の制御のためのフィードバックを提供する、請求項2記載の装置。
【請求項4】 2つのロールされたウエブの物質である形態の、2つの基体をコーティングする装置であって、
該ウエブ基体のそれぞれのコートされていない部分を供給し、支持するための2つの供給手段;
それぞれのウエブ基体を、コーティングエリアを通し、該ウエブ基体が前記コーティングエリア内で互いに近接して、堆積プレナムを形成する様にガイドするための、2つのウエブハンドリング部分;
ウエブ基体のそれぞれのコートされた部分を支持し、それぞれのウエブ基体を供給ローラーからコーティングエリアを通して、それぞれの巻取り手段へ運ぶための、2つの巻取り手段;
コーティング物質を堆積プレナムに提供するためのコーティング物質ソース;
多数のクロスバーにより互いに連結された第一および第二の側板を含むフレーム;および
4本の脚であって、前記脚のうちの2本は前記第一の側板を支持し、前記脚の他の2本は前記第二の側板を支持する前記脚を含み;
2つの供給手段、2つのウエブハンドリング部分、および2つの巻取り手段が前記第一および第二の側板に取り付けられ、支持されている前記装置。
【請求項5】 2つのロールされたウエブの物質である形態の、2つの基体をコーティングする装置であって、
該ウエブ基体のそれぞれのコートされていない部分を供給し、支持するための2つの供給手段;
それぞれのウエブ基体を、コーティグエリアを通し、該ウエブ基体が前記コーティングエリア内で互いに近接して、堆積プレナムを形成する様にガイドするための、2つのウエブハンドリング部分;
ウエブ基体のそれぞれのコートされた部分を支持し、それぞれのウエブ基体を供給ローラーからコーティングエリアを通して、それぞれの巻取り手段へ運ぶための、2つの巻取り手段;および
コーティング物質を堆積プレナムに提供するためのコーティング物質ソースを含み;
堆積プレナムが、コーティング物質を2つのウエブ間に保持するための第一および第二のサイドエアダムをさらに含み、該第一および第二のサイドエアダムと2つのウエブが、堆積プレナムの最も内部の壁の4つを形成する前記装置。
【請求項6】 コーティング物質ソースが、コーティング物質が気化される昇華装置を含む請求項1記載の装置。
【請求項7】 コーティング物質ソースが、気化装置を含む請求項1記載の装置。
【請求項8】 コーティング物質ソースが、ネブライザーを含む請求項1記載の装置。
【請求項9】 コーティング物質ソースが、少なくとも1つの燃焼蒸着ノズルを含む請求項1記載の装置。
【請求項10】 ロールされたウエブ物質の形態である基体をコーティングする装置であって、該装置は
ウエブ基体のコートされていない部分を供給し、支持する供給手段;
コーティング領域を通ってウエブ基体をガイドするためのウエブハンドリング部分であって、該ウエブ基体は該コーティング領域内の表面に隣接して、堆積プレナムを形成する、該ウエブハンドリング部分;
ウエブ基体のコートされた部分を支持し、ウエブ基体を供給ローラーからコーティングエリアを通して、前記駆動巻取りローラー上に移動させるための巻取り手段;および
コーティング物質を堆積プレナムに提供するためのコーティング物質ソースを含み;
供給手段が、巻取り手段の下方にあり、ウエブが前記堆積プレナム内で実質的に垂直であり;
ウエブ基体が堆積プレナムの底部から前記堆積プレナムの中心領域へ、表面に向かって次第に収束し、前記堆積プレナムの前記中心領域から前記堆積プレナムの上部へ向かって次第に散開し、前記堆積プレナム内に中心ベンチュリ領域を形成する前記装置。
【請求項1】 2つのロールされたウエブの物質である形態の、2つの基体をコーティングする装置であって、
該ウエブ基体のそれぞれのコートされていない部分を供給し、支持するための2つの供給手段;
それぞれのウエブ基体を、コーティングエリアを通し、該ウエブ基体が前記コーティングエリア内で互いに近接して、堆積プレナムを形成する様にガイドするための、2つのウエブハンドリング部分;
ウエブ基体のそれぞれのコートされた部分を支持し、それぞれのウエブ基体を供給ローラーからコーティングエリアを通して、それぞれの巻取り手段へ運ぶための、2つの巻取り手段;および
コーティング物質を堆積プレナムに提供するためのコーティング物質ソースを含み;
ウエブが堆積プレナム内で垂直方向に配向され、コーティング物質ソースが堆積プレナムの底部に配置され、さらに装置が堆積プレナムの頂部に排気システムを有し、コーティング物質が2つのウエブ間を堆積プレナムの底部から堆積プレナムの頂部へと流れ;
2つのウエブハンドリング部分のそれぞれが、複数のアーチバーを有し、前記アーチバーのそれぞれが水平線に沿って各ウエブを支持し、それにより各ウエブにおいて曲りを形成し、コーティング物質が該曲りを通る際に方向を変えられて、堆積プレナム内で乱流領域を形成する前記装置。
【請求項2】 排気システムがウエブの幅に対応する幅を有し、前記排気システムがプレナムの幅にわたって間隔をおいて配置されている複数のランナーを有し、各前記ランナーは:
ベンチュリ管;および
前記ベンチュリ管内のスライド弁であって、該スライド弁は、前記ベンチュリ管中を流れるコーティング物質の量を変えるように調節可能であり、したがって前記堆積プレナムの幅にわたって、圧力差が調節され、ウエブ上に、より均一なコーティングを提供することができる前記スライド弁を含む、請求項1記載の装置。
【請求項3】 排気システムがさらに、排気システム静圧センサー、ランナー静圧センサー、ランナー温度センサー、および排気システム静圧センサーを含み、スライド弁の制御のためのフィードバックを提供する、請求項2記載の装置。
【請求項4】 2つのロールされたウエブの物質である形態の、2つの基体をコーティングする装置であって、
該ウエブ基体のそれぞれのコートされていない部分を供給し、支持するための2つの供給手段;
それぞれのウエブ基体を、コーティングエリアを通し、該ウエブ基体が前記コーティングエリア内で互いに近接して、堆積プレナムを形成する様にガイドするための、2つのウエブハンドリング部分;
ウエブ基体のそれぞれのコートされた部分を支持し、それぞれのウエブ基体を供給ローラーからコーティングエリアを通して、それぞれの巻取り手段へ運ぶための、2つの巻取り手段;
コーティング物質を堆積プレナムに提供するためのコーティング物質ソース;
多数のクロスバーにより互いに連結された第一および第二の側板を含むフレーム;および
4本の脚であって、前記脚のうちの2本は前記第一の側板を支持し、前記脚の他の2本は前記第二の側板を支持する前記脚を含み;
2つの供給手段、2つのウエブハンドリング部分、および2つの巻取り手段が前記第一および第二の側板に取り付けられ、支持されている前記装置。
【請求項5】 2つのロールされたウエブの物質である形態の、2つの基体をコーティングする装置であって、
該ウエブ基体のそれぞれのコートされていない部分を供給し、支持するための2つの供給手段;
それぞれのウエブ基体を、コーティグエリアを通し、該ウエブ基体が前記コーティングエリア内で互いに近接して、堆積プレナムを形成する様にガイドするための、2つのウエブハンドリング部分;
ウエブ基体のそれぞれのコートされた部分を支持し、それぞれのウエブ基体を供給ローラーからコーティングエリアを通して、それぞれの巻取り手段へ運ぶための、2つの巻取り手段;および
コーティング物質を堆積プレナムに提供するためのコーティング物質ソースを含み;
堆積プレナムが、コーティング物質を2つのウエブ間に保持するための第一および第二のサイドエアダムをさらに含み、該第一および第二のサイドエアダムと2つのウエブが、堆積プレナムの最も内部の壁の4つを形成する前記装置。
【請求項6】 コーティング物質ソースが、コーティング物質が気化される昇華装置を含む請求項1記載の装置。
【請求項7】 コーティング物質ソースが、気化装置を含む請求項1記載の装置。
【請求項8】 コーティング物質ソースが、ネブライザーを含む請求項1記載の装置。
【請求項9】 コーティング物質ソースが、少なくとも1つの燃焼蒸着ノズルを含む請求項1記載の装置。
【請求項10】 ロールされたウエブ物質の形態である基体をコーティングする装置であって、該装置は
ウエブ基体のコートされていない部分を供給し、支持する供給手段;
コーティング領域を通ってウエブ基体をガイドするためのウエブハンドリング部分であって、該ウエブ基体は該コーティング領域内の表面に隣接して、堆積プレナムを形成する、該ウエブハンドリング部分;
ウエブ基体のコートされた部分を支持し、ウエブ基体を供給ローラーからコーティングエリアを通して、前記駆動巻取りローラー上に移動させるための巻取り手段;および
コーティング物質を堆積プレナムに提供するためのコーティング物質ソースを含み;
供給手段が、巻取り手段の下方にあり、ウエブが前記堆積プレナム内で実質的に垂直であり;
ウエブ基体が堆積プレナムの底部から前記堆積プレナムの中心領域へ、表面に向かって次第に収束し、前記堆積プレナムの前記中心領域から前記堆積プレナムの上部へ向かって次第に散開し、前記堆積プレナム内に中心ベンチュリ領域を形成する前記装置。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US23302200P | 2000-09-15 | 2000-09-15 | |
US24997900P | 2000-11-20 | 2000-11-20 | |
US60/249979 | 2000-11-20 | ||
US60/233022 | 2000-11-20 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002212743A JP2002212743A (ja) | 2002-07-31 |
JP2002212743A5 true JP2002212743A5 (ja) | 2008-10-23 |
Family
ID=26926559
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001282258A Pending JP2002212743A (ja) | 2000-09-15 | 2001-09-17 | 連続供給コーター |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6869484B2 (ja) |
EP (1) | EP1209252A3 (ja) |
JP (1) | JP2002212743A (ja) |
KR (1) | KR20020021619A (ja) |
CA (1) | CA2357324A1 (ja) |
TW (1) | TW514557B (ja) |
Families Citing this family (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20100330748A1 (en) | 1999-10-25 | 2010-12-30 | Xi Chu | Method of encapsulating an environmentally sensitive device |
US6866901B2 (en) | 1999-10-25 | 2005-03-15 | Vitex Systems, Inc. | Method for edge sealing barrier films |
US7198832B2 (en) * | 1999-10-25 | 2007-04-03 | Vitex Systems, Inc. | Method for edge sealing barrier films |
TW578198B (en) * | 2001-08-24 | 2004-03-01 | Asml Us Inc | Atmospheric pressure wafer processing reactor having an internal pressure control system and method |
EP1347077B1 (en) * | 2002-03-15 | 2006-05-17 | VHF Technologies SA | Apparatus and method for the production of flexible semiconductor devices |
US8900366B2 (en) | 2002-04-15 | 2014-12-02 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
US8808457B2 (en) | 2002-04-15 | 2014-08-19 | Samsung Display Co., Ltd. | Apparatus for depositing a multilayer coating on discrete sheets |
US20040020430A1 (en) * | 2002-07-26 | 2004-02-05 | Metal Oxide Technologies, Inc. | Method and apparatus for forming a thin film on a tape substrate |
US20040142104A1 (en) * | 2003-01-07 | 2004-07-22 | Woolley Christopher P. | Apparatus and method for depositing environmentally sensitive thin film materials |
US7648925B2 (en) * | 2003-04-11 | 2010-01-19 | Vitex Systems, Inc. | Multilayer barrier stacks and methods of making multilayer barrier stacks |
DE10330401B3 (de) * | 2003-07-04 | 2005-02-24 | Applied Films Gmbh & Co. Kg | Verfahren und Vorrichtung zum bereichsweisen Auftragen von Trennmitteln |
US20050079278A1 (en) * | 2003-10-14 | 2005-04-14 | Burrows Paul E. | Method and apparatus for coating an organic thin film on a substrate from a fluid source with continuous feed capability |
US20050256011A1 (en) * | 2004-01-23 | 2005-11-17 | Metal Oxide Technologies, Inc. | System and method for quality testing of superconducting tape |
EP1745247B1 (en) * | 2004-04-23 | 2015-11-11 | Philip Morris Products S.a.s. | Aerosol generators and methods for producing aerosols |
DE102004061095A1 (de) * | 2004-12-18 | 2006-06-22 | Aixtron Ag | Vorrichtung zur temperierten Aufbewahrung eines Behälters |
US7968145B2 (en) | 2005-04-26 | 2011-06-28 | First Solar, Inc. | System and method for depositing a material on a substrate |
US7931937B2 (en) * | 2005-04-26 | 2011-04-26 | First Solar, Inc. | System and method for depositing a material on a substrate |
US20070034228A1 (en) | 2005-08-02 | 2007-02-15 | Devitt Andrew J | Method and apparatus for in-line processing and immediately sequential or simultaneous processing of flat and flexible substrates through viscous shear in thin cross section gaps for the manufacture of micro-electronic circuits or displays |
US7767498B2 (en) | 2005-08-25 | 2010-08-03 | Vitex Systems, Inc. | Encapsulated devices and method of making |
DE102005044306A1 (de) * | 2005-09-16 | 2007-03-22 | Polyic Gmbh & Co. Kg | Elektronische Schaltung und Verfahren zur Herstellung einer solchen |
CH697933B1 (de) | 2005-11-03 | 2009-03-31 | Tetra Laval Holdings & Finance | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Kunststofffolien mit einer Oxidschicht. |
US7923281B2 (en) * | 2006-04-13 | 2011-04-12 | Solopower, Inc. | Roll-to-roll processing method and tools for electroless deposition of thin layers |
EP2073985A4 (en) * | 2006-10-06 | 2009-11-04 | Gp Stratum As | METHOD AND DEVICE FOR CONTINUOUSLY PROCESSING A FLAT SUBSTRATE |
US7410542B2 (en) * | 2006-10-10 | 2008-08-12 | Paul Terrance Nolan | Variable environment, scale-able, roll to roll system and method for manufacturing thin film electronics on flexible substrates |
US8815346B2 (en) * | 2006-10-13 | 2014-08-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Compliant and nonplanar nanostructure films |
EP1990442A1 (en) * | 2007-03-27 | 2008-11-12 | Galileo Vacuum Systems S.p.A. | Device for vacuum deposition of a coating on a continuous material, with liquid applicator |
DE112008001359T5 (de) * | 2007-05-14 | 2010-07-08 | Ulvac Corp., Chigasaki | Filmfördergerät und Rolle-zu-Rolle-Vakuumbeschichtungsverfahren |
US7513410B2 (en) * | 2007-06-11 | 2009-04-07 | International Business Machines Corporation | Air bearing gap control for injection molded solder heads |
KR20100035158A (ko) * | 2007-07-06 | 2010-04-02 | 필킹톤 그룹 리미티드 | 증착 방법 |
US9337446B2 (en) | 2008-12-22 | 2016-05-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated RGB OLEDs having enhanced optical output |
US9184410B2 (en) | 2008-12-22 | 2015-11-10 | Samsung Display Co., Ltd. | Encapsulated white OLEDs having enhanced optical output |
EP2281921A1 (en) * | 2009-07-30 | 2011-02-09 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Apparatus and method for atomic layer deposition. |
US20110143019A1 (en) | 2009-12-14 | 2011-06-16 | Amprius, Inc. | Apparatus for Deposition on Two Sides of the Web |
JP5621258B2 (ja) * | 2009-12-28 | 2014-11-12 | ソニー株式会社 | 成膜装置および成膜方法 |
US8590338B2 (en) | 2009-12-31 | 2013-11-26 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Evaporator with internal restriction |
US20130061803A1 (en) * | 2010-01-15 | 2013-03-14 | Solopower, Inc. | Roll-To-Roll PVD System and Method to Manufacture Group IBIIIAVIA Photovoltaics |
US8088224B2 (en) * | 2010-01-15 | 2012-01-03 | Solopower, Inc. | Roll-to-roll evaporation system and method to manufacture group IBIIAVIA photovoltaics |
EP2360293A1 (en) | 2010-02-11 | 2011-08-24 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Method and apparatus for depositing atomic layers on a substrate |
EP2362002A1 (en) | 2010-02-18 | 2011-08-31 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Continuous patterned layer deposition |
EP2362411A1 (en) | 2010-02-26 | 2011-08-31 | Nederlandse Organisatie voor toegepast -natuurwetenschappelijk onderzoek TNO | Apparatus and method for reactive ion etching |
TWI477646B (zh) * | 2010-08-09 | 2015-03-21 | Hon Hai Prec Ind Co Ltd | 化學氣相沉積設備 |
DE102010060489B4 (de) * | 2010-11-11 | 2018-08-16 | Océ Printing Systems GmbH & Co. KG | Vorrichtung zum Trocknen eines mit Tinte bedruckten Aufzeichungsträgers in einem Drucker und Verfahren hierzu |
KR101806916B1 (ko) * | 2011-03-17 | 2017-12-12 | 한화테크윈 주식회사 | 그래핀 필름 제조 장치 및 그래핀 필름 제조 방법 |
TWI414641B (zh) * | 2011-06-20 | 2013-11-11 | Intech Electronics Co Ltd | 軟性銅箔基板電鍍裝置 |
CN103107241B (zh) * | 2013-01-25 | 2015-10-14 | 山东四季欣盛科技有限公司 | 太阳能电池背膜的生产工艺 |
DE102013219816B4 (de) * | 2013-09-30 | 2023-06-22 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung mit Abscheidekammer mit turbulenter Gasführung zur kontinuierlichen Beschichtung von Substraten mittels Gasphasenabscheidung sowie Verfahren zu diesem Zweck unter Verwendung einer solchen Vorrichtung |
DE102013111790A1 (de) * | 2013-10-25 | 2015-04-30 | Aixtron Se | Energie- und materialverbrauchsoptimierter CVD-Reaktor |
JP6282917B2 (ja) * | 2014-04-11 | 2018-02-21 | 株式会社Ihi | 真空処理装置 |
KR101905560B1 (ko) * | 2016-03-08 | 2018-11-21 | 현대자동차 주식회사 | 연료전지용 막-전극 어셈블리의 제조장치 및 방법 |
US10954598B2 (en) * | 2017-02-28 | 2021-03-23 | George Xinsheng Guo | High throughput vacuum deposition sources and system |
IT201800006582A1 (it) * | 2018-06-22 | 2019-12-22 | Filo metallico con rivestimento anticorrosivo, nonché impianto e procedimento per rivestire un filo metallico | |
US11633885B2 (en) | 2020-05-22 | 2023-04-25 | 86 Solar Inc. | Lazarev reactor 2: continuous production process of films of two- dimensional polymers |
CN113091337B (zh) * | 2021-05-26 | 2022-07-08 | 青海中煤地质工程有限责任公司 | 一种基于地热利用的地热转换设备 |
CN114481034B (zh) * | 2022-01-04 | 2022-12-16 | 重庆金美新材料科技有限公司 | 一种复合金属箔的制备方法、设备和系统 |
CN117431494B (zh) * | 2023-11-09 | 2024-08-09 | 南宁西桂微电子有限公司 | 一种等离子喷涂送粉器压力调节机构及其调节方法 |
Family Cites Families (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3907607A (en) * | 1969-07-14 | 1975-09-23 | Corning Glass Works | Continuous processing of ribbon material |
US3850679A (en) * | 1972-12-15 | 1974-11-26 | Ppg Industries Inc | Chemical vapor deposition of coatings |
US4031851A (en) * | 1973-08-08 | 1977-06-28 | Camahort Jose L | Apparatus for producing improved high strength filaments |
US4423701A (en) * | 1982-03-29 | 1984-01-03 | Energy Conversion Devices, Inc. | Glow discharge deposition apparatus including a non-horizontally disposed cathode |
DE3330092A1 (de) * | 1983-08-20 | 1985-03-07 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verfahren zum einstellen der oertlichen verdampfungsleistung an verdampfern in vakuumaufdampfprozessen |
EP0142083A3 (de) * | 1983-11-11 | 1987-04-29 | Hoesch Aktiengesellschaft | Verfahren und Einrichtung zum Herstellen metallischer Überzüge |
US4601260A (en) * | 1985-04-01 | 1986-07-22 | Sovonics Solar Systems | Vertical semiconductor processor |
US4664951A (en) * | 1985-07-31 | 1987-05-12 | Energy Conversion Devices, Inc. | Method provided for corrective lateral displacement of a longitudinally moving web held in a planar configuration |
US4723507A (en) * | 1986-01-16 | 1988-02-09 | Energy Conversion Devices, Inc. | Isolation passageway including annular region |
US4728406A (en) * | 1986-08-18 | 1988-03-01 | Energy Conversion Devices, Inc. | Method for plasma - coating a semiconductor body |
JPS6357777A (ja) * | 1986-08-28 | 1988-03-12 | Canon Inc | 堆積膜形成装置 |
JPH01224206A (ja) * | 1988-03-04 | 1989-09-07 | Natl Res Inst For Metals | 酸化物高温超電導体皮膜の形成方法 |
GB9007273D0 (en) * | 1990-03-31 | 1990-05-30 | British Petroleum Co Plc | Process for the manufacture of ceramic fibres |
US5314570A (en) * | 1990-07-18 | 1994-05-24 | Sumitomo Electric Industries Ltd. | Process and apparatus for the production of diamond |
US5273911A (en) * | 1991-03-07 | 1993-12-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method of producing a thin-film solar cell |
US5236509A (en) * | 1992-02-06 | 1993-08-17 | Spire Corporation | Modular ibad apparatus for continuous coating |
DE4324320B4 (de) * | 1992-07-24 | 2006-08-31 | Fuji Electric Co., Ltd., Kawasaki | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer als dünne Schicht ausgebildeten fotovoltaischen Umwandlungsvorrichtung |
JP2914098B2 (ja) * | 1993-06-29 | 1999-06-28 | 東レ株式会社 | 蒸着フィルムの測定、制御方法、装置および製造方法 |
JP3632999B2 (ja) * | 1994-09-16 | 2005-03-30 | 株式会社ユーハ味覚糖精密工学研究所 | 高圧力下でのラジカルcvd法による連続成膜方法及びその装置 |
DE19744060C2 (de) * | 1997-10-06 | 1999-08-12 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren und Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung von Substraten |
SE9801190D0 (sv) * | 1998-04-06 | 1998-04-06 | Abb Research Ltd | A method and a device for epitaxial growth of objects by Chemical Vapour Deposition |
US6368665B1 (en) * | 1998-04-29 | 2002-04-09 | Microcoating Technologies, Inc. | Apparatus and process for controlled atmosphere chemical vapor deposition |
JP2000082595A (ja) * | 1998-07-08 | 2000-03-21 | Sekisui Chem Co Ltd | シート状基材の放電プラズマ処理方法及びその装置 |
US6258408B1 (en) * | 1999-07-06 | 2001-07-10 | Arun Madan | Semiconductor vacuum deposition system and method having a reel-to-reel substrate cassette |
-
2001
- 2001-09-14 TW TW090122820A patent/TW514557B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-09-14 CA CA002357324A patent/CA2357324A1/en not_active Abandoned
- 2001-09-14 EP EP01307874A patent/EP1209252A3/en not_active Withdrawn
- 2001-09-15 US US09/952,881 patent/US6869484B2/en not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-15 KR KR1020010057028A patent/KR20020021619A/ko not_active Application Discontinuation
- 2001-09-17 JP JP2001282258A patent/JP2002212743A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002212743A5 (ja) | ||
TW514557B (en) | Continuous feed coater | |
CN1956799B (zh) | 涂敷工艺和设备 | |
CN101811111B (zh) | 涂敷装置以及涂敷方法 | |
JPH0398673A (ja) | 移動基体に適用された液体フイルムを乾燥するための方法および装置 | |
JP4178443B2 (ja) | 板硝子の製造方法及び装置 | |
JPS6144521B2 (ja) | ||
CN106170672B (zh) | 用于干燥扁平材料的干燥机和方法 | |
NO894093L (no) | Fremgangsmaate og apparat for paafoering av belegg paa varm glassoverflate. | |
CA2207079C (en) | Combination air bar and hole bar flotation dryer | |
WO2018173992A1 (ja) | 蛇行修正可能な帯状材の搬送装置 | |
JPH1199576A (ja) | 波形形成ダブルバッカの改良された真空式ウエブ駆動装置 | |
JPS5883175A (ja) | 材料ウエブのための乾燥プラント | |
TW200827273A (en) | Web transfer device and method thereof | |
JP2003188077A5 (ja) | ||
JP5308647B2 (ja) | 浮上搬送塗布装置 | |
JP2003188078A5 (ja) | ||
JP4129861B2 (ja) | 塗工装置 | |
JP2605859Y2 (ja) | 薄膜形成装置 | |
JPH09220797A (ja) | 積層体の製造方法および製造装置 | |
JP2002193630A (ja) | 幅広板硝子の製造法改良 | |
JP2024501348A (ja) | ノンインパクト印刷装置により印刷されたシートを乾燥させる乾燥機を備えるシート印刷機械 | |
JP4390485B2 (ja) | 乾燥装置 | |
KR100381395B1 (ko) | 유기 반도체 장치에서 유기물 증착막 형성용 스캐닝 헤드 | |
JP2001286809A (ja) | ウェブの搬送装置 |