JPH0398673A - 移動基体に適用された液体フイルムを乾燥するための方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、移動基体に適用され且つ蒸発性溶媒成分およ
び固体成分を含有する液体フィルムを加熱乾燥ガスによ
って乾燥するための方法および装置に関する。

〔発明の背景〕

異なる乾燥法および乾燥装置が、液体フィルムの適用さ
れたウェブ形態の大表面積の材料の乾燥において使用さ
れている。乾燥するための典型的な材料は、例えば、液
体フィルムが適用されている金属またはプラスチックス
トリップである。この液体フィルムは、一般に、乾燥プ
ロセス時に液体フィルムから除去される蒸発性溶媒成分
と、乾燥後に基体上に残る不蒸発性成分とからなる。

被覆は、基体の表面に特殊な性質を与える。これらの特
殊な性質は、乾燥プロセス後にのみ、爾後用途に望まし
い形態で存在する。挙げることができる一例は、印刷版
に作り上げる金属ストリップの感光性フィルムでの被覆
である。従って、金属ストリップまたはプラスチックシ
一トを溶媒含有湿潤フィルム（以下、液体フィルムと称
する）の形態の物質で被覆した後に乾燥することは、フ
ィルムの所望の製品品質を保証するために特殊な設備を
必要とする操作を表わす。この操作での必須のプロセス
工程は、被覆法での最終処置としてフィルム乾燥の工程
である。

基体上の液体フィルムの乾燥においては、加熱ガス、特
に空気を基体の表面の上に流して溶媒成分をフィルム層
から除去することが通常行われる。

そうする際に、昇温ガス流は、乾燥装置を通して走行す
る基体に一様な分布の層で適用された液体フィルムと直
接接触させている。汚れおよびまだらを含まない乾燥フ
ィルム表面、即ち、後に残る成分の一様な分布を保証す
るために、乾燥設備は、液体フィルム上の空気流の好都
合または一様な分布を達成しようとする装置を備えてい
る。従って、披覆ウェブの全幅を一様に完全乾燥するこ
とが、目的である。更に、既知の乾燥設備は、部分的に
乱流運動のため、フィルム表面に悪影響を及ぼし且つそ
こに現われるまだらを生じさせる空気運動の乱れを最小
限にするための装置をＨしている。

米国特許第３，０１２，３３５号明細書によれば、この
ような乾燥装置の通常のデザインは、多数のスロット、
ノズル、穴または多孔性中実体によって、乾燥ガスを供
給し且つ被覆すべきウェブの上で或る長さにわたって配
置されたガス空間から乾燥ガスでできるだけ一様に乾燥
するために液体フィルムの上に隣接するガス空間を供給
することからなる。このことは、循環コンベヤーベルト
上の連続被覆ストリップまたは被覆板を乾燥装置に連続
的に通過させ、溶媒蒸気を乾燥ガスに出すことを包含す
る。この操作においては、流入乾燥空気は、開路で一定
に更新でき且つ溶媒に富んだ空気は、完全に運び去るこ
とができる。部分的に更新され且つ運び去られる乾燥空
気を使用する再循環空気法も、使用してもよい。

乾燥空気を乾燥空間から運び去る際の困難は、ストリッ
プ走行方向に横断方向に配置された縦方向ノズルまたは
縦方向スロットの場合には、横方向流出での圧力降下の
ため、ノズル流出速度の減速がスロット型ノズル乾燥機
のノズルバンクの中央で生じ、従って、熱伝達および物
質移動がストリップ走行方向に横断方向に影響されると
いう事実からしばしば生ずる。このことの結果は、縁部
における過乾燥であり、このことは、多くの被覆操作が
ある場合には、乾燥されたフィルムに対して望ましくな
い構造化効果を生じさせる。

それゆえ、乾燥機の全ストリップ幅にわたって一定の熱
伝達および物質移動を保証しようとするスロット型ノズ
ル乾燥機におけるノズルバンクのデザインを最適にする
ための提案は、技術ジャーナルｒｃｈｃｍｌｃ−１ｎｇ
ｃｎｌｅｕｒ−ＴｃｃｈｎｉｋＪ　、４　２年度、１４
号（１９７０年）、第９２７頁〜第９２９貞、４３年度
、８号（１９７１年）、第５１６頁〜第５１９真および
４５年度、５号（１９７３年）、第２９０頁〜第２９４
頁に与えられている。スロット型ノズル乾燥機の最適化
のためには、異なるノズル表面積を有するスロット型ノ
ズルバンクからの衝撃流における物質移動測定は、広範
囲の外部影響変数で実験的に相関する。見出された関係
は、物質表面１耐当たりのファン出力と関係して最適の
ノズル幾何学的形状を決定するために使用される。この
関係は、一定の熱伝達および物質移動がウェブの縁部か
ら中央に向けて連続的に増大するスロット幅を有するノ
ズルスロットによってウェブ幅にわたって達成されるこ
とを示す。

大表面積の物質のウェブを乾燥する時には、しばしば、
局部過乾燥および関連づけられる品質低下を回避するた
めに、熱伝達および物質移動がウェブの幅にわたって非
常に一様であることが必要とされる。これらの場合には
、スロットがウェブの走行方向に横断方向に配置されて
いるスロット型ノズルバンクが、好ましくは、使用され
ている。

スロットの方向で流出するスロット型ノズル乾燥機でそ
れによって観察される縁部での過乾燥は、スロットに沿
っての流出速度の分布に起因する。

縁部でのこの過乾燥を回避するためには、このことから
推せば、とりわけ、ノズル乾燥機の場合には、流出表面
積は、物質のウェブの幅にわたって一様な乾燥を得るた
めにノズル出口表面積の少なくとも３．５倍であるべき
である。

今日、表面処理を運搬空気ノズルシステムによってプラ
スチックシ一トまたは金属ストリップ用懸濁乾燥機中で
接触なしで行うことが技術の現状である（ジャーナル「
ガス・ベルメ・インターナショナル」、第２４巻（１９
７５年）、Ｎｏ．１２、第５２７頁〜第５３１頁）。こ
の処理においては、溶媒に富んだ乾燥空気は、望ましく
ない横断流を排除するためにノズルバンク中で再度直接
ｉｌｌ出している。このことにより、いわゆるノズル乾
燥機または衝撃ジェット乾燥機が生み出されている。

これらの乾燥機における特定の不利な点は、個々のノズ
ルのよどみ点様の流れであり、これは流れ物理的不安定
に対する層形態の流れと乱流形態の流れとの両方の傾向
を有し、特に低粘度液体フィルムの場合に、不可避的に
不可逆的な乾燥構造を生じさせる。

乾燥装置の初期領域におけるよどみ点様流れを回避する
ために、ＰＣＴ出願ＷＯ第８２／０３４５０号明細書に
よれば、乾燥空気は、控室から好適な入口開口部および
流れ反らせ板を介して安定化中間空間に通過し、そこか
ら乾燥空気の一部分は液体フィルムのすぐ隣に配置され
た多孔性フィルターエレメントを介して乾燥すべきウェ
ブ上に行く。このような乾燥は、安定化されているが溶
媒に高度に富んでいる弱い空気流が多孔性保護シールド
と乾燥すべき液体フィルムとの間に形成され且つ多孔性
媒体の上で横断方向に流出する残留空気との交換によっ
て一定に更新され、従って、比較的短い全長のため、ま
だら効果の出現に対して減少された傾向を有する液体フ
ィルムの予備乾燥が達成されるという原理に基づく。

この種の乾燥は、多孔性保護シールドを通しての溶媒蒸
気／空気混合物の支配的拡散によって特徴づけられ、そ
して、この場合には、ストリップと保護シールドとの間
の空間内での対流真空排気事実上全くなしに、液体フィ
ルムの完全な乾燥は乾燥機が非常に長いか下流補助乾燥
機を加える場合にだけ可能となる。

〔発明の概要〕

本発明の目的は、移動基体上の液体フィルムの溶媒が、
液体フィルムが田後の乾燥工程で悪い発泡効果に影響を
受けないのに十分な程迅速且つ十分に第一乾燥工程で蒸
発する段階にまで開発された方法および装置を提供する
ことにある。

この目的は、基体を基体の下側に対して流れる乾燥ガス
の運搬クッション上で自由に懸垂しなからウェプに沿っ
て取り、溶媒成分の大部分を加熱乾燥ガスによって蒸発
し、溶媒成分の蒸気をガスによって基体の上側から運び
去ることによって初めに記載の種類の方法によって達成
される。

本法または本装置においては、基体は、乾燥帯を通して
水１２方向に走行するか曲線状ウェブに沿って走行し且
つ上側上で乾燥すべき液体フィルムを運搬する。

本法の改善においては、乾燥ガスは空気であり、この空
気は昇温し且つ液体フィルム用乾燥エネルギーを基体に
供給し、且つ基体の上側および下側上の空気供給システ
ムは互いに分離している。

本法においては、２個のガスまたは空気供給システムは
、一方を他方と対向して開放式に操作し且つ上部ガスま
たは空気供給システムの横方向に流出する過剰のガスま
たは過剰の空気は下部ガスまたは空気供給システムの排
ガス（ｅｘｈａｕｓｔ　ｇａｓ）または排気（ｅｘｈａ
ｕｓｔ　ａｉｒ）によって運び去る。

この場合には、基体ウェブの上側上のガスまたは空気供
給システムの作動幅は、便宜上、基体ウェブの下側上の
仝気供給システムの幅よりも広いように選ばれる。

本法の更に他の改善においては、空気は、上部空気供給
システムによって層流状で一様に供給し、液体フィルム
の適用点から予備乾燥帯の末端までの基体と空気との間
の差速は０．２５ｍ／秒未満である。

本法は、基体を水平方向で平らに取り且つ基体の下側上
のガスまたは空気供給システムを水平方向且つ平らに整
列するような方式、または基体を曲線状形態で取り且つ
基体の下側上のガスまたは空気供給システムを基体と同
じ曲率で整列するような方式のいずれかで適用する。

移動基体に適用され且つ蒸発性溶媒成分および固体成分
を含有する液体フィルムを加熱乾燥ガスまたは乾燥空気
によって乾燥するための装置は、各々の場合に、ガスま
たは空気供給システムが移動基体の下と上との両方に配
置されており、前記移動基体には適用装置が液体フィル
ムを適用するという明確な特徴を有し、且つ自由に懸垂
しながら、基体を乾燥帯を通して下部ガスまたは空気供
給システムによって生ずる運搬クッション上でウェブに
沿って取るという明確な特徴を有する。

装置の更に他の開発においては、下部ガスまたは空気供
給システムはガスまたは空気供給のために基体の走行方
向に横断方向に配置されたスロ・ントおよびガスまたは
空気除去用返送チャンネノレを有し且つスロットおよび
返送チャンネルは、基体とガスまたは空気供給システム
の上側との間の返送チャンネルの左右に配置されたスロ
・ソトを去るガスまたは空気を返送チャンネル内に運び
去るために交互にある。

本発明に係る装置の更に他の改善は、請求項１０ないし
１９のいずれか１項に記載の特徴から生ずる。

第１図中、本発明に係る装置１の第一態様の縦断面図を
概略的に示す。基体２は、ローラー１３の同りに取り且
つ更に他のローラー１３までの距離を装置１を通して水
平方向に走行し、このローラー１３の回りで基体２は水
平方向の位置から垂直位置に反らされる。第一ローラー
１３の領域においては、適用装置５、例えば、フイ・ソ
シュテールノズルがあり、この適用装置５を通して液体
フィルム３は基体２に適用される。液体フイノレム３は
、蒸発性溶媒成分および固体成分を含有し、固体成分は
、例えば、感光性である。本発明は、液体フィルムを乾
燥する装置を参照して説明する。

液体フィルムの固体成分は、金属ストリップに連続的に
適用され、乾燥する感光性物質である。しかしながら、
本発明は、感光性フィルムには決して制限されるもので
はないが、むしろ空気またはガス流からの発泡悪影響に
感受性である他の液体フィルムを乾燥するのに使用する
ことができる。

更に、金属ストリップの代わりに、同様にプラスチック
シ一ト、紙などのストリップが、基体を形威してもよい
。

適用装置５は、例えば、第一ローラー１３に近い９時の
位置に配置されている。上部に液体フィルム３を有する
基体２は、装置１を通して水平方向に走行する基体ウェ
ブ２４に沿って取る。基体ウェブ２４の下方と上方との
両方に、それぞれ空気またはガス供給システム１１およ
び１２がある。

下部のガスまたは空気供給システム１１は、上部のガス
または空気供給システム１２よりも小さい幅を有する。

下記の記載では空気除去および空気供給システムのみし
か述べていないならば、これらの用語は、例えば、不活
性ガスの場合のガス除去およびガス供給システムをも表
わすと解釈され得る。両方の空気供給システムは、各々
の場合に詳述しないフジングに収容されている。自由に
懸垂しながら、基体２は、下部空気供給システム１１に
よって生ずる空気運搬クッションによってＵ体ウェブ２
４に沿って装置１の乾燥帯２１を通して取られる。この
目的で、下部空気供給システム１１は、基体２の走行方
向に横断方向に配置されたスロット１４を有し、これら
のスロット１４を通して供給空気８は基体２の下側に対
して流れる。下部空気供給システム１１のこの供給空気
８は、一般に、熱風である。スロットｌ４に加えて、空
気０（給システム１１の上側には返送チャンネル１５が
あり、これらの返送チャンネル１５を通して排気１６が
抽き出される。スロット１４および返送チャンネル１５
は、交互に配置されており、それゆえ、供給空気８は、
返送チャンネル１５の左右上のスロット１４から、基体
２の下側と空気供給システム１１の上側との間に、関連
づけられた返送チャンネル１５の方向に基体の下側に沿
って流れる。その結果、被覆された基体２の裏側は熱風
で昇湿され、それによって必要な乾燥エネルギーが供給
され、これにより溶媒成分の最大割合の迅速な蒸発が生
ずる。基体ウェブ２４の上側または被覆基体ウェブ２の
上側上で生じた溶媒蒸気は、上部空気供給システム１２
によって真空排気する。このシステムは、供給空気９お
よび排気６用セクション７に細分され、排気６は溶媒成
分の蒸気に富んだ返送空気である。各セクション７は、
細孔が設けられた物質の２個の濾板４を具備し、ギャッ
プ２２はこれらの２個の濾板４間で開放したままである
。供給空気９は、被ｆｆｌＭ体２上に邪魔板２３によっ
て反らされ、基体ウェブ２４の表面上に排気または返送
空気６として返送される。

邪魔板２３は、対で配置されており且つセクション７の
下側上でわずかに内側に曲がっていて、セクション７の
濾板４の側縁で終わる。邪魔板は、濾板４の上に直立し
て配置されている。装置１は、被覆基体２の裏側を熱風
で昇温し、溶媒成分の蒸気をフィルムを損傷しない基体
２の上側上への空気の伝導によってフィルム側上で真空
排気するという原理で操作される。乾燥は、溶媒成分を
十分に蒸発した時に完了し、それゆえ、基体２上に残る
固体成分は、爾後の乾燥時にガス流または空気流による
悪い発泡に実質上感受性ではなくなるフィルムを形成す
る。勿論、空気の代わりに、別のガス、例えば、窒素が
乾燥に使用できる。

望ましい乾燥速度にしたがって、セクション７を上部空
気供給システム１２中に幾つ設けてもよく、この上部空
気供給システム１２を介して供給空気が流入し且つ排気
が流出する。濾板４の多孔性物質を通して流れる供給空
気および排気は、層流状であり且つ一様であり、適用装
置５から予備乾燥帯２１の末端までの披覆基体２と供給
空気９との間の速度差は０．２５ｍ／秒未満である。そ
れによって、液体フィルム３の悪いフィルム発泡が生じ
ないことが保証される。溶媒成分の蒸発によって富んだ
返送空気または排気６は、上部空気供給システム１２に
よって、例えば、溶媒成分蒸気用凝縮器（図示せず）に
供給され、この凝縮器において蒸気が液体溶媒成分に凝
縮し且つ再加工するか、適当な処理後に、投棄のために
環境上安全なものに分解できる。

上部空気供給システム】２の作動幅は、常に、下部空気
供給システム１１の作動幅よりも大きく、従って、最大
の話体幅よりも大きいので、披ｔＬＴＭ体２の上での乱
されない空気運動カ慣られる。スロット１４および返送
チャンネル１５を有する下部空気供給システム１１の特
殊なデザインは、基体ウェブ２４に沿っての被覆基体２
の平滑な無振動ストリップ走行を保証する。

第２図に概略的に示す装置１の第二態様の場合において
は、基体ウェブ２５は、ゎずがの曲率のアークで走行す
る。空気供給システム１１および１２は、曲線状基体ウ
ェブ２５から所定の距離で曲線状形態で同様に配置され
ている。この第二態様のすべての他の構造ユニッ１・は
、第一態様の部品に実質上対応し、それゆえ、再度説明
する必要はないであろう。

第１図の線１−１に沿った第３図中の断面図は、２個の
空気供給システム１１および１２が一方を他方に対向し
て開放するように設計し、且つ開口部２６を有する分割
壁２７および開口部２６の上の被覆基体２によってのみ
互いに分離されていることを示す。下部空気供給システ
ム１１の供給空気８は、液体フィルム３で被覆された基
体２および横方向カバー板１０によって上部空気帯１９
に直接流れるのを防止する。基体２およびカバー板１０
の縁部て下部空気，：ｊＦ　２　８から上部空気帯１９
内に過剰の空気２０として横方向に流入する少量の空気
は、上部供給システム１２の排気または返送空気６によ
って真空排気する。逆に、上部空気供給システムの過剰
の空気は、下部空気供給システムの琲気によって運び去
られる。

第４図および第５図に示す本発明に係る装置の第三態様
および第四態様の下部空気供給システムは、第三態様の
場合には基体２を平らな水平方向の基体ウェブ２４に沿
って取り且つ第四態様の場合には基体ウェブ２５および
同様に下部空気供給システム１１がわずかにアーク状で
ある点でのみ異なる。第三態様の場合と第四態様の場合
との両方で、空気供給システム１１は、互いに離間して
、それぞれ基体ウェブ２４に横断方向に配置されている
多数の円筒体１７を具備する。供給空気８は、流入でき
且つ排気１６は円筒体１７間のギャップを通して流去で
きる。第５図の第四態様の場合には、互いに離間された
円筒体１７は、基体ウェブ２５と同じ曲率を有するアー
クに沿って配置されている。円筒体１７は、流入供給熱
風８によって加熱し、その結果、このような空気供給シ
ステム１１は、基体２の特に良好な一様な昇温によって
区別される。

第６図は、多孔性物質の空気流入板１８を具備する装置
の第五態様の下部空気供給システム１１を示す。基体ウ
ェブ２４は、水平配置で且つ水平方向に走行し且つ空気
供給システム１１は同様に水平方向のデザインを有する
。空気供給システム１１の供給空気８は、平らな空気流
入板１８の多孔性物質を通して基体２の下側の方向に去
り且つ琲気１６として返送チャンネル１５に流出し、こ
れらの返送チャンネル１５は板１８問および板の外縁で
存在する。返送チャンネル１５は、基体ウェブ２４の走
行方向に横断方向に流入帯間に配置されている。第７図
の下部空気供給システム１１の第六態様は、空気供給シ
ステムおよび同様に基体ウェブ２５がわずかにアーク状
である点でのみ第６図と具なる。空気供給システム１１
は、対応して曲線状の空気流入板２９を有し、これらの
空気流入板２９は越体ウェブ２５と同じ曲率を有する。

空気流入板２９は、互いに所定距離で配置されており且
つ排気１６は返送チャンネル１５を通して流出し、これ
らの返送チャンネル１５は板２９問および板の外縁で取
り付けられている。

第４図〜第７図の下部空気供給システム１１と関連づけ
られる上部空気供給システム１２は、第１図および第２
図の上部空気供給システム１２と似ており、それゆえ、
再度図示しない。ここに記載の下部空気供給システム１
１は、基体ストリップの下側用機械的支持エレメントな
しに空気運搬クッションで操作する。水平方向の通路の
場合には、基体ウェブ上下の空気流条件の正確な整合は
、平滑な無振動のストリップ走行を達成するために必要
である。基体ストリップのアーク状または曲線状通路は
、水平方向の通路よりも良いウェブ安定化を示し且つ大
きな費用なしに誌体ストリップの無振動の平滑な走行を
生ずる。

第８図は、運搬空気クッション上のストリップの軸受力
Ｐと、わずかな曲線状の基体ウェブを有する基体ストリ
ップの下側に対して流れる供給空気のストリップカＺお
よび空気速度Ｖとの間のグラフ関係を示す。下記関係は
、運搬空気クッションを有するわずかに曲線状のガイダ
ンスウェブ上でストリップの力の平衡にあてはまる：〔
式中、Ｐは空気クッション上のストリップの軸受力（Ｎ
／ｎｆ）であり、ＤはＩＩＩＩ線状基体ウェブの想像直
径（ｍ）であり、ストリップ張力ＺはＢ×ＳＸＫ（式中
、Ｂはウェブ幅ｍ，Ｓはウェブ厚さｍ％Ｋは比ストリッ
プ張力（Ｎ／ｒｒｒ）　）であり、基体ストリップの重
量を無視して通常約１０Ｎ／ーである〕。

基体ストリップの軸受圧力Ｐは、基体ストリッップと下
部空気供給システムの上側との間の接触を回避するため
に下部空気供給システムの供給空気の運搬空気クッショ
ンによって少なくとも同じ力と対抗しなければならない
。運搬空気は、前記のように基体ストリップの下で返送
チャンネル内に流入する。このことは、運搬空気クッシ
ョンの空気圧力に対応する空気速度Ｖで生ずる。この速
度に対しては、ベルヌーイの式があてはまる：〔式中、
■は空気速度（ｍ／秒）であり、ρは空気の密度（ｋｇ
／　ｒｄ）である〕。裏側排気１６の流出速度は、気温
と一粘に、ストリップ加熱速度および液体フィルムの溶
媒成分の蒸発速度を決定する。例えば、基体ストリップ
の軸受力がＰ１に等しいならば、第８図の線図は、下部
空気供給システム１２の排気１６の関連最小流出速度ｖ
１を与える。軸受力Ｐの関係から推して、軸受力Ｐは、
ストリップ幅Ｂに無関係であり且つストリップ厚さＳ、
比ストリップ張力Ｋおよび曲線状基体ウェブ２５の直径
Ｄのみに依存する。大体同じ比ストリップ張力Ｋを有ナ
る基体ウェブ２５に沿って取る各種の厚さの基体ストリ
ップの場合には、軸受力Ｐとストリップ張力Ｚとストリ
ップ厚さＳと空気速度の平方ｖ２との間には比例があり
、これらの変数は必要な乾燥時間に大体比例する。換言
すれば、このことは、乾燥時間がストリップ厚さＳに実
質上依存することを意味する。

第８図は、ストリップ張力Ｚと軸受力Ｐとの直線関係を
示す（バラメーターＤ１およびＤ２は各種の曲線状基体
ウェブ２５の直径に等しい）。同じ軸受力Ｐ１では、直
径が増大するにつれて（Ｄ１ａＤ２）　、Ｚ２よりも大
きいストリップ張力ｚ１を選ぶことが必要である。換言
すれば、このことは、曲率が大きければ大きい程、モし
てＤが小さければ小さい程、小さい支持力またはより低
い空気速度Ｖを有するストリップガイダンスがより安定
であることを意味する。

液体レジストでの通常の被覆の場合には、一般に２／３
よりも多い乾燥エネルギーがアルミニウムストリップを
昇温するのに必要であり（例えば、０．３秒）、そして
乾燥エネルギーの残部のみは溶媒成分の蒸発に利用でき
る。利点は、アルミニウムストリップまたは基体ストリ
ップの裏側を昇温することにより、通常の装置の場合よ
りもはるかに多い乾燥エネルギーを溶媒成分の蒸発に利
用できるようにさせるという発明によって達成される。

大抵の液体レジスト彼覆物の場合には、悪い発泡の影響
を受けないことは、溶媒成分の約７０％が既に液体レジ
ストフィルムから蒸発されるまで保証されない。

排気速度ｖ１およびストリップ厚さＳが既知であるなら
ば、必要な乾燥エネルギーは、概算できる。

すべての装置の場合には、基体も、沿って取りながら、
支持してもよく、即ち、自由に懸垂しなくともよい。

【図面の簡単な説明】

第１図は水平方向の基体ウェブを有する本発明に係る装
置の第一態様の縦断面の線図、第２図は曲線走行基体ウ
ェブを有する以外は第一態様と同様の装置の第二態様の
縦断面の線図、第３図は線１−Ｉに沿っての第１図に示
す第一態様の断面図、第４図は本発明に係る装置の第三
態様の下部ガスまたは空気供給システムの縦断面の線図
、第５図は基体の水平方向の通路の代わりに曲線状通路
を有する装置の第四態様の下部ガスまたは空気供給シス
テムの縦断面図、第６図は本発明に係る装置の第五態様
の下部ガスまたは空気供給システムをの縦断面の線図、
第７図は水平方向の基体ウェブの代わりに曲線状基体ウ
ェブを有する第６図と同様の装置の第六態様の下部ガス
または空気供給システムの縦断面の線図、第８図は基体
ウェブ上のス１・リップ張力Ｚとガスまたは空気運搬ク
ッション上の基体ウェブの輔受圧力Ｐとの間の相互関係
および基体ウェブの走行速度と軸受圧力Ｐこの間の相互
関係を示す図である。 １・・・装置、２・・・基体、３・・・液体フィルム、
４・・・濾板、５・・・適用装置、６・・・返送空気、
７・・・セクション、８・・・供給空気、９・・・供給
空気、１０・・・カバー板、１１、１２・・・ガスまた
は空気供給システム、１４・・・スロット、１５・・・
返送チャンネル、１６・・・排気、１７・・・円筒体、
１８・・・空気流入板、１つ・・・上部空気帯、２］・
・・乾燥帯、２２・・・ギャップ、２３・・・邪魔板、
２４・・・基体ウェブ、２５・・・基体ウェブ、２６・
・・開口部、２７・・・分割壁、２８・・・下部空気帯
、２９・・・空気流入板。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、移動基体に適用され且つ蒸発性溶媒成分および固体
   成分を含有する液体フィルムを加熱乾燥ガスによって乾
   燥するにあたり、基体を基体の下側に対して流れる乾燥
   ガスの運搬クッション上で自由に懸垂しながらウェブに
   沿って取り、溶媒成分の大部分を加熱乾燥ガスによって
   蒸発させ、この溶媒成分の蒸気をガスによって基体の上
   側から運び去ることを特徴とする、液体フィルムの乾燥
   法。 ２、乾燥ガスが空気であり、この空気は昇温され且つ液
   体フィルム用乾燥エネルギーを基体に供給し、且つ基体
   の上側および下側上のガスまたは空気供給システムが互
   いに分離している、請求項１に記載の方法。 ３、２個のガスまたは空気供給システムを一方を他方と
   対向させて開放式に操作し且つ上部のガスまたは空気供
   給システムの横方向に流出する過剰の空気またはガスを
   下部のガスまたは空気供給システムの排ガスまたは排気
   によって運び去る、請求項２に記載の方法。 ４、基体ウェブの上側上のガスまたは空気供給システム
   の作動幅が、基体ウェブの下側上のガスまたは空気供給
   システムの幅よりも広くなるように選ばれる、請求項２
   に記載の方法。 ５、ガスまたは空気を上部ガスまたは空気供給システム
   によって層流状で一様に供給し、液体フィルムの適用点
   から予備乾燥帯の末端までの基体とガスまたは供給空気
   との間の差速は０．２５ｍ／秒未満である、請求項２に
   記載の方法。 ６、基体を水平方向で平らに取り且つ基体の下側上のガ
   スまたは空気供給システムを水平方向且つ平らに整列す
   る、請求項１に記載の方法。 ７、基体を曲線状形態で取り且つ基体の下側上のガスま
   たは空気供給システムを基体と同じ曲率で整列する、請
   求項１に記載の方法。 ８、移動基体に適用され且つ蒸発性溶媒成分および固体
   成分を含有する液体フィルムを加熱乾燥ガスまたは加熱
   乾燥空気によってを乾燥するための装置であって、ガス
   または空気供給システム（１１、１２）は移動基体（２
   ）の下方と上方との両方に配置されており、前記移動基
   体（２）には適用装置（５）が液体フィルム（３）を適
   用し、基体（２）を乾燥帯（２１）を通して下部のガス
   または空気供給システム（１１）によって生ずる運搬ク
   ッション上でウェブに沿って自由に懸垂しながら取るこ
   とを特徴とする、液体フィルムの乾燥装置。 ９、下部ガスまたは空気供給システム（１１）がガスま
   たは空気供給のために基体（２）の走行方向に横断方向
   に配置されたスロット（１４）およびガスまたは空気除
   去用返送チャンネル（１５）を有し且つスロット（１４
   ）および返送チャンネル（１５）は、基体（２）とガス
   または空気供給システム（１１）の上側との間の返送チ
   ャンネルの左右に配置されたスロットを去るガスまたは
   空気を返送チャンネル内に運び去るために交互にある、
   請求項８に記載の装置。 １０、上部のガスまたは空気供給システム （１２）が流入ガスおよび排ガス用または供給空気およ
   び排気用セクションに細分されており且つ各セクション
   （７）が、細孔が設けられた材料の２個の濾板（４）を
   具備し、板間にはギャップ（２２）が存在する、請求項
   ８に記載の装置。 １１、上部のガスまたは空気供給システム （１２）が、下部のガスまたは空気供給システム（１１
   ）よりも大きい作動幅を有する、請求項８に記載の装置
   。 １２、上部ガスまたは空気供給システム （１２）において、ガスまたは供給空気（９）が基体（
   ２）上に邪魔板（２３）によってそらされ且つ返送空気
   （６）またはガスとして基体ウェブの上に返送され、且
   つ邪魔板（２３）が下側で対で配置されて、セクション
   （７）の濾板（４）の側縁で終わる、請求項１０に記載
   の装置。 １３、ガスまたは空気供給システム（１１、１２）が平
   らであり且つ平らの水平方向の基体ウェブ（２４）から
   所定の距離で配置されている、請求項８に記載の装置。 １４、ガスまたは空気供給システム（１１、１２）が、
   対応して曲線状の基体基体ウェブ（２５）から所定の距
   離で曲線状形態で配置されている、請求項８に記載の装
   置。 １５、２個のガスまたは空気供給システム （１１、１２）が一方が他方に対向して開放であるよう
   に設計されており且つ基体ウェブ（２４、２５）の下に
   はカバー板（１０）が下部空気または下部ガス帯（１６
   ）と上部空気または上部ガス帯（１９）との間で分割壁
   （２７）の開口部（２６）のサイドに配置されている、
   請求項８に記載の装置。 １６、下部の平らなガスまたは空気供給システム（１１
   ）が基体ウェブ（２４）に横断方向に互いに離間されて
   配置された多数の円筒体（１７）を具備し且つガスまた
   は供給空気（８）が流入し且つ排ガスまたは排気（１６
   ）が円筒体（１７）間を流出する、請求項８に記載の装
   置。 １７、下部曲線状ガスまたは空気供給システム（１１）
   において、互いに離間された多数の円筒体（１７）が基
   体ウェブ（２５）と同じ曲率を有するアークに沿って配
   置されており且つ流入ガスまたは供給空気（８）が流入
   し且つ流出ガスまたは排気（１６）が円筒体（１７）間
   を通して流出する、請求項８に記載の装置。 １８、下部の平らなガスまたは空気供給システム（１１
   ）が多孔性物質のガスまたは空気流入板（１８）を具備
   し、このガスまたは空気流入板（１８）を通してガスま
   たは供給空気（８）が流入し、その中でガスまたは空気
   流入板が互いに所定距離で平らに配置されており且つ排
   ガスまたは排気（１６）が板間を通し並びに板の外縁を
   過ぎて返送チャンネル（１５）に流出する、請求項８に
   記載の装置。 １９、下部曲線状ガスまたは空気供給システム（１１）
   が曲線状ガスまたは空気流入板（２９）を有し、その曲
   率が基体ウェブ（２５）のものと同じであり、ガスまた
   は空気流入板（２９）が互いに所定距離で配置されてお
   り且つ排ガスまたは排気（１６）が板間を通し並びに板
   の外縁を過ぎて返送チャンネル（１５）に流出する、請
   求項８に記載の装置。