JP2002205368A - 積層体の製造方法及び積層体並びに真空成膜装置 - Google Patents
積層体の製造方法及び積層体並びに真空成膜装置Info
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- JP2002205368A JP2002205368A JP2001003463A JP2001003463A JP2002205368A JP 2002205368 A JP2002205368 A JP 2002205368A JP 2001003463 A JP2001003463 A JP 2001003463A JP 2001003463 A JP2001003463 A JP 2001003463A JP 2002205368 A JP2002205368 A JP 2002205368A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】重合開始剤が不要で、熱、帯電によるダメージ
が無く、かつ重合速度が速く、密着性の良い均一な膜形
成できる積層体の製造方法及び積層体並びに真空成膜装
置を提供するものである。なかでも、高度なガスバリア
性を有する透明性に優れたガスバリア材及びその製造方
法並びに真空成膜装置を提供する。 【解決手段】高分子樹脂基材上の少なくとも片面上に、
少なくとも放射線硬化樹脂層が１層以上積層された積層
体の製造方法において、前記放射線硬化樹脂層を前記高
分子基材上に形成させた後、真空中でプラズマに曝すこ
とによって硬化させることによって設けることを特徴と
する積層体の製造方法を提供する。
が無く、かつ重合速度が速く、密着性の良い均一な膜形
成できる積層体の製造方法及び積層体並びに真空成膜装
置を提供するものである。なかでも、高度なガスバリア
性を有する透明性に優れたガスバリア材及びその製造方
法並びに真空成膜装置を提供する。 【解決手段】高分子樹脂基材上の少なくとも片面上に、
少なくとも放射線硬化樹脂層が１層以上積層された積層
体の製造方法において、前記放射線硬化樹脂層を前記高
分子基材上に形成させた後、真空中でプラズマに曝すこ
とによって硬化させることによって設けることを特徴と
する積層体の製造方法を提供する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、食品や医薬品等の
包装に適した酸素および水蒸気の透過に対して高度なガ
スバリア性を持ったガスバリア材等の積層体の製造方法
及び製造装置に関するものである。
包装に適した酸素および水蒸気の透過に対して高度なガ
スバリア性を持ったガスバリア材等の積層体の製造方法
及び製造装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、包装材料の分野では、包装材料と
しては内容物の保存のためにガスバリア性が重要であ
り、酸素や水蒸気に対するガスバリア性を備えた透明包
装材料として、無機化合物からなるガスバリア層を設け
る包装材料が知られている。無機化合物からなるガスバ
リア層を高分子樹脂基材へ成膜する際、ガスバリア性
能、生産性などを考慮すると、電子線加熱方式の巻き取
り式真空蒸着による成膜が適している。電子線加熱方式
は蒸着物のみを加熱し不純物の混入を最小限に抑えるこ
とが可能な上に、蒸発速度も速く高速巻き取りが可能で
生産性に優れているためである。しかし真空蒸着は蒸着
物の持つエネルギーが低いため高分子樹脂との密着性が
低く、界面で剥離するといった問題があった。
しては内容物の保存のためにガスバリア性が重要であ
り、酸素や水蒸気に対するガスバリア性を備えた透明包
装材料として、無機化合物からなるガスバリア層を設け
る包装材料が知られている。無機化合物からなるガスバ
リア層を高分子樹脂基材へ成膜する際、ガスバリア性
能、生産性などを考慮すると、電子線加熱方式の巻き取
り式真空蒸着による成膜が適している。電子線加熱方式
は蒸着物のみを加熱し不純物の混入を最小限に抑えるこ
とが可能な上に、蒸発速度も速く高速巻き取りが可能で
生産性に優れているためである。しかし真空蒸着は蒸着
物の持つエネルギーが低いため高分子樹脂との密着性が
低く、界面で剥離するといった問題があった。
【０００３】この改善のため有機物を硬化させたアンカ
ーコート層を用いたガスバリア材が開発されている。例
えば特開平９−２９８８５公報には高分子樹脂基材上に
紫外線硬化型アクリレート樹脂硬化層を用いたガスバリ
ア性を有するフィルムが開示されている。アンカーコー
ト層として用いる有機物の硬化手段としては、熱、電子
線、紫外線で重合硬化させる手段がある。そのうち熱に
よる硬化は重合速度が遅く、また乾燥はオーブンが多大
なスペースを要するうえに基材にも熱が掛かりダメージ
を受ける。この改善の為放射線重合によって硬化させる
ものが考えられている。電子線で硬化させる方法では重
合速度は速いが、ガスバリア材が帯電し成膜装置内の塵
埃や蒸発物の塊を引きつける。付着物が巻き取り搬送系
でガスバリア材と多数のロールとの間で擦られることに
よって重大な損傷がガスバリア材に生じる。さらに、巻
き取り搬送中にガスバリア材とロールが剥離する際に放
電し、ガスバリア層から樹脂基材まで貫通する損傷が生
じる問題がある。一方紫外線で硬化させる場合は帯電の
影響はない。しかし熱による重合に比べ硬化は速いもの
の光源からの放射熱によって基材樹脂がダメージを受け
る。また光重合開始剤が必要となり有機層が黄変する場
合、また層内に未硬化の重合開始剤が残留する場合があ
る。
ーコート層を用いたガスバリア材が開発されている。例
えば特開平９−２９８８５公報には高分子樹脂基材上に
紫外線硬化型アクリレート樹脂硬化層を用いたガスバリ
ア性を有するフィルムが開示されている。アンカーコー
ト層として用いる有機物の硬化手段としては、熱、電子
線、紫外線で重合硬化させる手段がある。そのうち熱に
よる硬化は重合速度が遅く、また乾燥はオーブンが多大
なスペースを要するうえに基材にも熱が掛かりダメージ
を受ける。この改善の為放射線重合によって硬化させる
ものが考えられている。電子線で硬化させる方法では重
合速度は速いが、ガスバリア材が帯電し成膜装置内の塵
埃や蒸発物の塊を引きつける。付着物が巻き取り搬送系
でガスバリア材と多数のロールとの間で擦られることに
よって重大な損傷がガスバリア材に生じる。さらに、巻
き取り搬送中にガスバリア材とロールが剥離する際に放
電し、ガスバリア層から樹脂基材まで貫通する損傷が生
じる問題がある。一方紫外線で硬化させる場合は帯電の
影響はない。しかし熱による重合に比べ硬化は速いもの
の光源からの放射熱によって基材樹脂がダメージを受け
る。また光重合開始剤が必要となり有機層が黄変する場
合、また層内に未硬化の重合開始剤が残留する場合があ
る。
【０００４】さらにアンカーコート層の塗工、成膜を大
気中で行った場合、大気中の水や酸素によって変質して
しまう。これにより無機化合物からなるガスバリア層と
の密着性や、ガスバリア性が低下する。また、ガスバリ
ア性を上げるためやガスバリア層の保護のためにガスバ
リア層の上部にオーバーコート層を設けるという方法が
知られているが、従来は前記アンカーコート層と同様、
紫外線硬化樹脂や電子線硬化樹脂を用いて成膜していた
ため、同様の問題があった。
気中で行った場合、大気中の水や酸素によって変質して
しまう。これにより無機化合物からなるガスバリア層と
の密着性や、ガスバリア性が低下する。また、ガスバリ
ア性を上げるためやガスバリア層の保護のためにガスバ
リア層の上部にオーバーコート層を設けるという方法が
知られているが、従来は前記アンカーコート層と同様、
紫外線硬化樹脂や電子線硬化樹脂を用いて成膜していた
ため、同様の問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記の
ような問題点を解決するものであり、重合開始剤が不要
で、熱、帯電によるダメージが無く、かつ重合速度が速
く、密着性の良い均一な膜形成できる積層体の製造方法
及び積層体並びに真空成膜装置を提供するものである。
なかでも、高度なガスバリア性を有する透明性に優れた
ガスバリア材及びその製造方法並びに真空成膜装置を提
供することにある。
ような問題点を解決するものであり、重合開始剤が不要
で、熱、帯電によるダメージが無く、かつ重合速度が速
く、密着性の良い均一な膜形成できる積層体の製造方法
及び積層体並びに真空成膜装置を提供するものである。
なかでも、高度なガスバリア性を有する透明性に優れた
ガスバリア材及びその製造方法並びに真空成膜装置を提
供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、高分
子樹脂基材上の少なくとも片面上に、少なくとも放射線
硬化樹脂層が１層以上積層された積層体の製造方法にお
いて、前記放射線硬化樹脂層を前記高分子基材上に形成
させた後、真空中でプラズマに曝すことによって硬化さ
せることによって設けることを特徴とする積層体の製造
方法である。
子樹脂基材上の少なくとも片面上に、少なくとも放射線
硬化樹脂層が１層以上積層された積層体の製造方法にお
いて、前記放射線硬化樹脂層を前記高分子基材上に形成
させた後、真空中でプラズマに曝すことによって硬化さ
せることによって設けることを特徴とする積層体の製造
方法である。
【０００７】請求項２の発明は、前記放射線硬化樹脂層
を前記高分子基材上に形成させる方法が蒸着法であるこ
とを特徴とする請求項１記載の積層体の製造方法であ
る。
を前記高分子基材上に形成させる方法が蒸着法であるこ
とを特徴とする請求項１記載の積層体の製造方法であ
る。
【０００８】請求項３の発明は、前記放射線硬化樹脂層
樹脂原料がモノマーまたはオリゴマーであることを特徴
とする請求項１または２記載の積層体の製造方法であ
る。
樹脂原料がモノマーまたはオリゴマーであることを特徴
とする請求項１または２記載の積層体の製造方法であ
る。
【０００９】請求項４の発明は、前記積層体がガスバリ
ア層を有することを特徴とする請求項１〜３記載の積層
体の製造方法である。
ア層を有することを特徴とする請求項１〜３記載の積層
体の製造方法である。
【００１０】請求項５の発明は、高分子樹脂基材上の少
なくとも片面上に、放射線硬化樹脂層Ａ、ガスバリア
層、放射線硬化樹脂層Ｂを順次積層してなることを特徴
とする請求項４記載の積層体の製造方法である。
なくとも片面上に、放射線硬化樹脂層Ａ、ガスバリア
層、放射線硬化樹脂層Ｂを順次積層してなることを特徴
とする請求項４記載の積層体の製造方法である。
【００１１】請求項６記載の発明は、前記高分子樹脂基
材上に前記放射線硬化樹脂層を成膜する工程、前記ガス
バリア層を成膜する工程、がすべて同一真空装置内で大
気に曝されることなく逐次的に形成されることを特徴と
する請求項４または５記載の積層体の製造方法である。
材上に前記放射線硬化樹脂層を成膜する工程、前記ガス
バリア層を成膜する工程、がすべて同一真空装置内で大
気に曝されることなく逐次的に形成されることを特徴と
する請求項４または５記載の積層体の製造方法である。
【００１２】請求項７記載の発明は、請求項１〜６記載
の製造方法により製造されたことを特徴とする積層体で
ある。
の製造方法により製造されたことを特徴とする積層体で
ある。
【００１３】請求項８記載の発明は、同一真空成膜装置
内に、冷却ロールとその上部に巻きだしロールと巻き取
りロールを備えてなる高分子樹脂基材巻き取り手段を備
え、前記冷却ロールの周囲に、順に、放射線硬化樹脂層
Ａ樹脂形成装置、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂にプラズマ照
射し放射線硬化樹脂層Ａを形成する装置、ガスバリア層
形成装置、放射線硬化樹脂樹脂層Ｂ樹脂形成装置、放射
線硬化樹脂層Ｂ樹脂にプラズマ照射し放射線硬化樹脂層
Ｂを形成する手段、を含むことを特徴とする積層体の真
空成膜装置である。
内に、冷却ロールとその上部に巻きだしロールと巻き取
りロールを備えてなる高分子樹脂基材巻き取り手段を備
え、前記冷却ロールの周囲に、順に、放射線硬化樹脂層
Ａ樹脂形成装置、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂にプラズマ照
射し放射線硬化樹脂層Ａを形成する装置、ガスバリア層
形成装置、放射線硬化樹脂樹脂層Ｂ樹脂形成装置、放射
線硬化樹脂層Ｂ樹脂にプラズマ照射し放射線硬化樹脂層
Ｂを形成する手段、を含むことを特徴とする積層体の真
空成膜装置である。
【００１４】請求項９記載の発明は、同一真空成膜装置
内に、冷却ロールとその上部に巻きだしロールと巻き取
りロールを備えてなる高分子樹脂基材巻き取り手段を備
え、前記冷却ロールの周囲に、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂
形成装置、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂にプラズマ照射し放
射線硬化樹脂層Ａを形成する装置、を含むことを特徴と
する積層体の真空成膜装置である。
内に、冷却ロールとその上部に巻きだしロールと巻き取
りロールを備えてなる高分子樹脂基材巻き取り手段を備
え、前記冷却ロールの周囲に、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂
形成装置、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂にプラズマ照射し放
射線硬化樹脂層Ａを形成する装置、を含むことを特徴と
する積層体の真空成膜装置である。
【００１５】請求項１０記載の発明は、同一真空成膜装
置内に、冷却ロールとその上部に巻きだしロールと巻き
取りロールを備えてなる高分子樹脂基材巻き取り手段を
備え、前記冷却ロールの周囲に、順に、放射線硬化樹脂
層Ａ樹脂形成装置、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂にプラズマ
照射し放射線硬化樹脂層Ａを形成する装置、ガスバリア
層形成装置、を含むことを特徴とする積層体の真空成膜
装置である。
置内に、冷却ロールとその上部に巻きだしロールと巻き
取りロールを備えてなる高分子樹脂基材巻き取り手段を
備え、前記冷却ロールの周囲に、順に、放射線硬化樹脂
層Ａ樹脂形成装置、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂にプラズマ
照射し放射線硬化樹脂層Ａを形成する装置、ガスバリア
層形成装置、を含むことを特徴とする積層体の真空成膜
装置である。
【００１６】請求項１１記載の発明は、同一真空成膜装
置内に、冷却ロールとその上部に巻きだしロールと巻き
取りロールを備えてなる高分子樹脂基材巻き取り手段を
備え、前記冷却ロールの周囲に、順に、ガスバリア層形
成装置、放射線硬化樹脂樹脂層Ｂ樹脂形成装置、放射線
硬化樹脂層Ｂ樹脂にプラズマ照射し放射線硬化樹脂層Ｂ
を形成する手段、を含むことを特徴とする積層体の真空
成膜装置である。
置内に、冷却ロールとその上部に巻きだしロールと巻き
取りロールを備えてなる高分子樹脂基材巻き取り手段を
備え、前記冷却ロールの周囲に、順に、ガスバリア層形
成装置、放射線硬化樹脂樹脂層Ｂ樹脂形成装置、放射線
硬化樹脂層Ｂ樹脂にプラズマ照射し放射線硬化樹脂層Ｂ
を形成する手段、を含むことを特徴とする積層体の真空
成膜装置である。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下図面を用いて本発明の積層体
の製造方法と製造装置を、放射線硬化樹脂層Ａ、ガスバ
リア層、放射線硬化樹脂層Ｂを順次積層してなるガスバ
リア材を例にして説明する。ここで、放射線硬化樹脂層
Ａ、放射線硬化樹脂層Ｂは共に請求項１記載の放射線硬
化樹脂層と同様の方法で成膜される。図１に装置図を示
し、図２にこの製造方法によって作られるガスバリア材
を示す。
の製造方法と製造装置を、放射線硬化樹脂層Ａ、ガスバ
リア層、放射線硬化樹脂層Ｂを順次積層してなるガスバ
リア材を例にして説明する。ここで、放射線硬化樹脂層
Ａ、放射線硬化樹脂層Ｂは共に請求項１記載の放射線硬
化樹脂層と同様の方法で成膜される。図１に装置図を示
し、図２にこの製造方法によって作られるガスバリア材
を示す。
【００１８】以下、製造装置の具体例を説明をする。真
空ポンプ（２）を接続した真空成膜装置（１）の内部に
冷却ロール（３）を、その上部に巻き出しロール
（４）、巻き取りロール（５）を設置する。冷却ロール
（３）周囲に、順に放射線硬化樹脂原料層Ａ樹脂蒸着装
置（６）からなる放射線硬化樹脂原料層形成装置、放射
線硬化樹脂層Ａプラズマ照射装置（７）、遮蔽板（８）
及びガスバリア層蒸着用電子銃（９）及び坩堝（１０）
及び偏向コイル（１１）からなるガスバリア層形成装置
を設置する。さらに、放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置
（１２）からなる放射線硬化樹脂原料層形成装置、放射
線硬化樹脂層Ｂプラズマ照射装置（１３）を設置する。
さらに、前記放射線硬化樹脂原料層Ａ樹脂蒸着装置
（６）に放射線硬化樹脂層Ａ樹脂層樹脂原料供給装置
（１４）を連結し、放射線硬化樹脂層Ａプラズマ照射装
置（７）に放射線硬化樹脂層Ａ用プラズマ硬化ガス供給
装置（１７）を連結し、前記ガスバリア層形成装置にガ
スバリア層形成用酸素ガス供給装置（１５）を配置し、
放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置（１２）に放射線硬化
樹脂層Ｂ樹脂層樹脂原料供給装置（１６）を連結し、放
射線硬化樹脂層Ｂプラズマ照射装置（１３）に放射線硬
化樹脂層Ｂ用プラズマ硬化ガス供給装置（１８）を連結
する。さらに放射線硬化樹脂層Ａ樹脂蒸着装置（６）、
ガスバリア層蒸着用電子銃（９）、放射線硬化樹脂層Ｂ
樹脂蒸着装置（１２）のそれぞれに真空ポンプ等圧力調
整装置を接続し、各プロセスに適した真空度に調節す
る。このように同じ真空成膜装置内で放射線硬化樹脂
層、ガスバリア層が形成できることにより、ゴミなどの
混入が少なく生産性の高い積層体が製造できる。巻き出
しロール（４）に高分子樹脂基材（１０１）の原反を装
着し、冷却ロール（３）を介して巻き取りロール（５）
に至る原反搬送パスを形成する。真空成膜装置（１）内
を真空ポンプ（２）にて排気して、真空度を１Ｐａ以上
とする。また、ここでは放射線硬化樹脂層Ａ、ガスバリ
ア層、放射線硬化樹脂層Ｂを順次積層してなるガスバリ
ア材のそれぞれの層を蒸着法により形成する製造装置の
例を説明したが、これに限るものではない。
空ポンプ（２）を接続した真空成膜装置（１）の内部に
冷却ロール（３）を、その上部に巻き出しロール
（４）、巻き取りロール（５）を設置する。冷却ロール
（３）周囲に、順に放射線硬化樹脂原料層Ａ樹脂蒸着装
置（６）からなる放射線硬化樹脂原料層形成装置、放射
線硬化樹脂層Ａプラズマ照射装置（７）、遮蔽板（８）
及びガスバリア層蒸着用電子銃（９）及び坩堝（１０）
及び偏向コイル（１１）からなるガスバリア層形成装置
を設置する。さらに、放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置
（１２）からなる放射線硬化樹脂原料層形成装置、放射
線硬化樹脂層Ｂプラズマ照射装置（１３）を設置する。
さらに、前記放射線硬化樹脂原料層Ａ樹脂蒸着装置
（６）に放射線硬化樹脂層Ａ樹脂層樹脂原料供給装置
（１４）を連結し、放射線硬化樹脂層Ａプラズマ照射装
置（７）に放射線硬化樹脂層Ａ用プラズマ硬化ガス供給
装置（１７）を連結し、前記ガスバリア層形成装置にガ
スバリア層形成用酸素ガス供給装置（１５）を配置し、
放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置（１２）に放射線硬化
樹脂層Ｂ樹脂層樹脂原料供給装置（１６）を連結し、放
射線硬化樹脂層Ｂプラズマ照射装置（１３）に放射線硬
化樹脂層Ｂ用プラズマ硬化ガス供給装置（１８）を連結
する。さらに放射線硬化樹脂層Ａ樹脂蒸着装置（６）、
ガスバリア層蒸着用電子銃（９）、放射線硬化樹脂層Ｂ
樹脂蒸着装置（１２）のそれぞれに真空ポンプ等圧力調
整装置を接続し、各プロセスに適した真空度に調節す
る。このように同じ真空成膜装置内で放射線硬化樹脂
層、ガスバリア層が形成できることにより、ゴミなどの
混入が少なく生産性の高い積層体が製造できる。巻き出
しロール（４）に高分子樹脂基材（１０１）の原反を装
着し、冷却ロール（３）を介して巻き取りロール（５）
に至る原反搬送パスを形成する。真空成膜装置（１）内
を真空ポンプ（２）にて排気して、真空度を１Ｐａ以上
とする。また、ここでは放射線硬化樹脂層Ａ、ガスバリ
ア層、放射線硬化樹脂層Ｂを順次積層してなるガスバリ
ア材のそれぞれの層を蒸着法により形成する製造装置の
例を説明したが、これに限るものではない。
【００１９】以下、工程を説明する。高分子樹脂基材
（１０１）上にアンカーコート層として放射線硬化樹脂
層Ａ（１０２）を設ける。高分子樹脂基材としては、特
に限定するものではなく、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリ
エーテルスルフォン等を用いることができる。
（１０１）上にアンカーコート層として放射線硬化樹脂
層Ａ（１０２）を設ける。高分子樹脂基材としては、特
に限定するものではなく、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフ
タレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリ
エーテルスルフォン等を用いることができる。
【００２０】ここでは、放射線硬化樹脂層Ａはアンカー
コート層として機能するが、それ以外のガスバリア性な
どの機能を持たせても良い。放射線硬化樹脂層は、放射
線硬化樹脂原料層を蒸着法により形成した後、プラズマ
に曝すことにより重合させ形成する。蒸着は、減圧下で
行うと膜厚制御、成膜速度に優れている。前記放射線硬
化樹脂層は、ガスバリア材に用いるとき、高分子樹脂基
材とガスバリア材層との間にはさむことにより、ガスバ
リア層の密着性が向上する。放射線硬化樹脂層樹脂原料
としては特に限定するものではなく、用途に応じて選ぶ
ことができ、なかでも塩素を含まない樹脂が環境衛生上
好ましい。また、前記放射線硬化樹脂層樹脂原料として
は、低分子量であるモノマー、オリゴマーは、蒸気圧が
高く蒸着制御が容易であるため、好ましい。この場合蒸
発速度は使用するモノマーあるいはオリゴマーによって
異なるので、それらを考慮しながら樹脂の流量を制御す
る。
コート層として機能するが、それ以外のガスバリア性な
どの機能を持たせても良い。放射線硬化樹脂層は、放射
線硬化樹脂原料層を蒸着法により形成した後、プラズマ
に曝すことにより重合させ形成する。蒸着は、減圧下で
行うと膜厚制御、成膜速度に優れている。前記放射線硬
化樹脂層は、ガスバリア材に用いるとき、高分子樹脂基
材とガスバリア材層との間にはさむことにより、ガスバ
リア層の密着性が向上する。放射線硬化樹脂層樹脂原料
としては特に限定するものではなく、用途に応じて選ぶ
ことができ、なかでも塩素を含まない樹脂が環境衛生上
好ましい。また、前記放射線硬化樹脂層樹脂原料として
は、低分子量であるモノマー、オリゴマーは、蒸気圧が
高く蒸着制御が容易であるため、好ましい。この場合蒸
発速度は使用するモノマーあるいはオリゴマーによって
異なるので、それらを考慮しながら樹脂の流量を制御す
る。
【００２１】また図１の装置図には示していないが、前
記放射線硬化樹脂原料層は、蒸着法ではなく、塗布法等
により形成しても良い。また、同一真空装置内で形成す
ればゴミ等の混入もなく、生産性の高い積層体が製造で
きる。
記放射線硬化樹脂原料層は、蒸着法ではなく、塗布法等
により形成しても良い。また、同一真空装置内で形成す
ればゴミ等の混入もなく、生産性の高い積層体が製造で
きる。
【００２２】このような放射線硬化樹脂層樹脂原料とし
ては、ラウリルアクリレート、エトキシジエチレングリ
コールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、
ノニルフェノールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−
フェノキシプロピルアクリレート、２−アクリロイロキ
シエチルコハク酸、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、トリプロピレングリコールジアクリレート、１，
９ノナンジオールジアクリレート、ジメチロール−トリ
シクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロ
ピルメタクリレート、メチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、ラウリルメタクリレート、メトキシジエ
チレングリコールメタクリレート、シクロヘキシルメタ
クリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２
−メタクリロイロキシエチルコハク酸等が挙げられる。
ては、ラウリルアクリレート、エトキシジエチレングリ
コールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、
ノニルフェノールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−
フェノキシプロピルアクリレート、２−アクリロイロキ
シエチルコハク酸、トリエチレングリコールジアクリレ
ート、トリプロピレングリコールジアクリレート、１，
９ノナンジオールジアクリレート、ジメチロール−トリ
シクロデカンジアクリレート、トリメチロールプロパン
トリアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアク
リレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイロキシプロ
ピルメタクリレート、メチルメタクリレート、エチルメ
タクリレート、ラウリルメタクリレート、メトキシジエ
チレングリコールメタクリレート、シクロヘキシルメタ
クリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２
−メタクリロイロキシエチルコハク酸等が挙げられる。
【００２３】放射線硬化樹脂層樹脂原料を所定の厚さに
蒸着させた後、プラズマに曝して重合させる。重合装置
においてプラズマが発生する系内は酸素が除去されてい
ることが望ましく、ガスとしては、特に限定するもので
はないが、ヘリウム、アルゴン等の不活性気体を用いる
ことが望ましい。プラズマを発生させる際の入力エネル
ギーおよびガス流量は、装置の形態や、放射線硬化樹脂
層Ａ（１０２）に用いる樹脂、膜厚に応じて制御する。
プラズマによる樹脂の重合硬化は、短時間で重合を行う
ことができるため基材に与える熱負荷が極めて少なく、
基材の伸びや硬化層の変形がない。また電子線による硬
化と異なりフィルムの帯電が無く塵埃などの付着が無
く、巻き取り搬送系において擦れ合うことによる損傷を
防ぐことができる重合方法である。また、このように放
射線硬化樹脂層原料樹脂を基板に均一に蒸着した後、プ
ラズマにより重合させることにより、蒸着中に重合が起
こらず、均一な膜の形成ができる。
蒸着させた後、プラズマに曝して重合させる。重合装置
においてプラズマが発生する系内は酸素が除去されてい
ることが望ましく、ガスとしては、特に限定するもので
はないが、ヘリウム、アルゴン等の不活性気体を用いる
ことが望ましい。プラズマを発生させる際の入力エネル
ギーおよびガス流量は、装置の形態や、放射線硬化樹脂
層Ａ（１０２）に用いる樹脂、膜厚に応じて制御する。
プラズマによる樹脂の重合硬化は、短時間で重合を行う
ことができるため基材に与える熱負荷が極めて少なく、
基材の伸びや硬化層の変形がない。また電子線による硬
化と異なりフィルムの帯電が無く塵埃などの付着が無
く、巻き取り搬送系において擦れ合うことによる損傷を
防ぐことができる重合方法である。また、このように放
射線硬化樹脂層原料樹脂を基板に均一に蒸着した後、プ
ラズマにより重合させることにより、蒸着中に重合が起
こらず、均一な膜の形成ができる。
【００２４】次にガスバリア層を形成する。ガスバリア
層蒸着用電子銃（９）から電子線を坩堝（１０）内の蒸
着原料に照射して、蒸着原料を蒸気化させる。ガスバリ
ア層（１０３）としては、特に限定するものではない
が、酸化アルミニウム、酸化ケイ素が透明性とガスバリ
ア性に優れる。酸化アルミニウムの真空蒸着には、蒸着
原料として金属アルミニウム、酸化アルミニウムのいず
れを用いることも可能である。金属アルミニウムを蒸着
原料とした場合には、金属アルミニウムガスバリア層蒸
着用電子銃（９）により蒸気化させると共にガスバリア
層酸素供給装置（１５）から酸素を供給し反応蒸着によ
って酸化アルミニウム層を成膜する。酸化アルミニウム
の真空蒸着による成膜は、成膜速度が速く生産性に優れ
る。供給する酸素の量は酸化アルミニウムの厚さ、酸化
度、巻き取り速度、真空成膜装置（１）の大きさ等の成
膜条件によって異なるが、金属アルミニウムの単位時間
当たりの蒸発量に対し酸素供給速度が、酸素／アルミニ
ウムモル換算比で０．１５〜０．７５であることが望ま
しい。酸素の比が０．１５より小さいと金属アルミニウ
ムの酸化度が低く着色が顕著となり、反対に酸素比が
０．７５より多いと酸化アルミニウム層内に空隙が多く
なりガスバリア性が発揮されないためである。
層蒸着用電子銃（９）から電子線を坩堝（１０）内の蒸
着原料に照射して、蒸着原料を蒸気化させる。ガスバリ
ア層（１０３）としては、特に限定するものではない
が、酸化アルミニウム、酸化ケイ素が透明性とガスバリ
ア性に優れる。酸化アルミニウムの真空蒸着には、蒸着
原料として金属アルミニウム、酸化アルミニウムのいず
れを用いることも可能である。金属アルミニウムを蒸着
原料とした場合には、金属アルミニウムガスバリア層蒸
着用電子銃（９）により蒸気化させると共にガスバリア
層酸素供給装置（１５）から酸素を供給し反応蒸着によ
って酸化アルミニウム層を成膜する。酸化アルミニウム
の真空蒸着による成膜は、成膜速度が速く生産性に優れ
る。供給する酸素の量は酸化アルミニウムの厚さ、酸化
度、巻き取り速度、真空成膜装置（１）の大きさ等の成
膜条件によって異なるが、金属アルミニウムの単位時間
当たりの蒸発量に対し酸素供給速度が、酸素／アルミニ
ウムモル換算比で０．１５〜０．７５であることが望ま
しい。酸素の比が０．１５より小さいと金属アルミニウ
ムの酸化度が低く着色が顕著となり、反対に酸素比が
０．７５より多いと酸化アルミニウム層内に空隙が多く
なりガスバリア性が発揮されないためである。
【００２５】また図１の装置図には示していないが、前
記ガスバリア層は蒸着法ではなく、スパッタリング法な
どにより形成しても良い。また、同一真空装置内で形成
すればゴミ等の混入もなく、生産性の高い積層体が製造
できる。
記ガスバリア層は蒸着法ではなく、スパッタリング法な
どにより形成しても良い。また、同一真空装置内で形成
すればゴミ等の混入もなく、生産性の高い積層体が製造
できる。
【００２６】前記のようにして成膜されたガスバリア層
の上に、さらに放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）を積層さ
せることによってガスバリア性、可撓性を向上させるこ
とが可能である。ここでは、放射線硬化樹脂層Ｂはオー
バーコート層として機能するが、それ以外にガスバリア
性などの他の機能を持たせても良い。この場合、前記放
射線硬化樹脂層Ａ（１０２）と同一のモノマーまたはオ
リゴマーである必要はないが、同一であっても良い。蒸
発速度は使用するモノマーあるいはオリゴマーによって
異なるので、それらを考慮しながら放射線硬化樹脂層Ｂ
樹脂蒸着装置（１２）を制御する。こうして蒸発物を所
定の厚さに蒸着させた後、放射線硬化樹脂層Ｂプラズマ
照射装置（１３）にて硬化処理が行われる。
の上に、さらに放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）を積層さ
せることによってガスバリア性、可撓性を向上させるこ
とが可能である。ここでは、放射線硬化樹脂層Ｂはオー
バーコート層として機能するが、それ以外にガスバリア
性などの他の機能を持たせても良い。この場合、前記放
射線硬化樹脂層Ａ（１０２）と同一のモノマーまたはオ
リゴマーである必要はないが、同一であっても良い。蒸
発速度は使用するモノマーあるいはオリゴマーによって
異なるので、それらを考慮しながら放射線硬化樹脂層Ｂ
樹脂蒸着装置（１２）を制御する。こうして蒸発物を所
定の厚さに蒸着させた後、放射線硬化樹脂層Ｂプラズマ
照射装置（１３）にて硬化処理が行われる。
【００２７】
【実施例】次に更に詳細な実施例を記載する。
【００２８】＜実施例１＞１２μｍ厚のポリエチレンテ
レフタレートフィルムを真空成膜装置（１）の巻き出し
ロール（４）に装着し、真空成膜装置（１）内を１×１
０−１Ｐａまで減圧した。速度１０ｍ／分で冷却ロール
（３）に密着させて走行せしめた。高分子樹脂基材（１
０１）の上にアクリレート（共栄社化学（株）製３ＥＧ
−Ａ）の樹脂モノマーを、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂供給
装置（１４）、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂蒸着装置（６）
を用いて硬化後の放射線硬化樹脂層厚が、０．１μｍに
なるように制御した。プラズマ照射装置において放射線
硬化樹脂層Ａガス供給装置（１７）を用いてアルゴンガ
スを３００ｓｃｃｍ導入し、周波数１３．５６ＭＨｚ、
電力１００Ｗでプラズマを発生させた。プラズマを放射
線硬化樹脂層面に曝して重合させた。つづいて、ガスバ
リア層蒸着用電子銃（９）に１５ｋＷの電力を供給して
電子線を発生させ、蒸着原料であるアルミニウムに照射
して蒸発させることにより、ガスバリア層（１０３）を
設けた。この時アルミニウムの酸化剤として酸素を、ア
ルミニウム蒸発速度に対しモル比で０．４の割合でガス
バリア層酸素供給装置（１５）から導入してアルミニウ
ムと反応させ、膜厚２０ｎｍの酸化アルミニウム層を成
膜した。
レフタレートフィルムを真空成膜装置（１）の巻き出し
ロール（４）に装着し、真空成膜装置（１）内を１×１
０−１Ｐａまで減圧した。速度１０ｍ／分で冷却ロール
（３）に密着させて走行せしめた。高分子樹脂基材（１
０１）の上にアクリレート（共栄社化学（株）製３ＥＧ
−Ａ）の樹脂モノマーを、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂供給
装置（１４）、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂蒸着装置（６）
を用いて硬化後の放射線硬化樹脂層厚が、０．１μｍに
なるように制御した。プラズマ照射装置において放射線
硬化樹脂層Ａガス供給装置（１７）を用いてアルゴンガ
スを３００ｓｃｃｍ導入し、周波数１３．５６ＭＨｚ、
電力１００Ｗでプラズマを発生させた。プラズマを放射
線硬化樹脂層面に曝して重合させた。つづいて、ガスバ
リア層蒸着用電子銃（９）に１５ｋＷの電力を供給して
電子線を発生させ、蒸着原料であるアルミニウムに照射
して蒸発させることにより、ガスバリア層（１０３）を
設けた。この時アルミニウムの酸化剤として酸素を、ア
ルミニウム蒸発速度に対しモル比で０．４の割合でガス
バリア層酸素供給装置（１５）から導入してアルミニウ
ムと反応させ、膜厚２０ｎｍの酸化アルミニウム層を成
膜した。
【００２９】＜実施例２＞放射線硬化樹脂層Ａ、ガスバ
リア層を実施例１と同じ条件で成膜し、前記ガスバリア
層上に放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）を設けた。アクリ
レート（共栄社化学（株）製３ＥＧ−Ａ）の樹脂モノマ
ーを、放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂供給装置（１６）、放射
線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置（１２）を用いて硬化後の
有機層厚が、１．０μｍになるように制御した。次いで
プラズマ照射装置においてアルゴンプラズマを放射線硬
化樹脂層面に接触させ放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）を
硬化させた。
リア層を実施例１と同じ条件で成膜し、前記ガスバリア
層上に放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）を設けた。アクリ
レート（共栄社化学（株）製３ＥＧ−Ａ）の樹脂モノマ
ーを、放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂供給装置（１６）、放射
線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置（１２）を用いて硬化後の
有機層厚が、１．０μｍになるように制御した。次いで
プラズマ照射装置においてアルゴンプラズマを放射線硬
化樹脂層面に接触させ放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）を
硬化させた。
【００３０】＜実施例３＞放射線硬化樹脂層Ａ（１０
２）を設けず、ガスバリア層、放射線硬化樹脂層Ｂを実
施例２と同じ条件で成膜した。
２）を設けず、ガスバリア層、放射線硬化樹脂層Ｂを実
施例２と同じ条件で成膜した。
【００３１】＜比較例１＞放射線硬化樹脂層Ａ（１０
２）の硬化をプラズマでなく電子線によって行った以外
は実施例１と同じ条件、層構成で成膜した。加速電圧１
２０ｋＶ、電子線照射量１００ｋＧｙで硬化させた。
２）の硬化をプラズマでなく電子線によって行った以外
は実施例１と同じ条件、層構成で成膜した。加速電圧１
２０ｋＶ、電子線照射量１００ｋＧｙで硬化させた。
【００３２】＜比較例２＞放射線硬化樹脂層Ａ（１０
２）および放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）の硬化をプラ
ズマでなく電子線によって行った以外は実施例２と同じ
条件、層構成で成膜した。電子線照射条件は各層とも比
較例１と同じ条件で行った。
２）および放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）の硬化をプラ
ズマでなく電子線によって行った以外は実施例２と同じ
条件、層構成で成膜した。電子線照射条件は各層とも比
較例１と同じ条件で行った。
【００３３】＜比較例３＞放射線硬化樹脂層Ｂ（１０
４）の硬化をプラズマでなく電子線によって行った以外
は実施例３と同じ条件、層構成で成膜した。電子線照射
条件は各層とも比較例１と同じ条件で行った。
４）の硬化をプラズマでなく電子線によって行った以外
は実施例３と同じ条件、層構成で成膜した。電子線照射
条件は各層とも比較例１と同じ条件で行った。
【００３４】＜比較例４＞放射線硬化樹脂層Ａ（１０
２）の硬化をプラズマでなく紫外線によって行った以外
は実施例１と同じ条件、層構成で成膜した。１２０Ｗ／
ｃｍの高圧水銀ランプを用い、照射量は２００ｍＪ／ｃ
ｍ2で硬化させた。
２）の硬化をプラズマでなく紫外線によって行った以外
は実施例１と同じ条件、層構成で成膜した。１２０Ｗ／
ｃｍの高圧水銀ランプを用い、照射量は２００ｍＪ／ｃ
ｍ2で硬化させた。
【００３５】＜比較例５＞放射線硬化樹脂層Ａ（１０
２）および放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）の硬化をプラ
ズマでなく紫外線によって行った以外は実施例２と同じ
条件、層構成で成膜した。紫外線照射条件は各層とも比
較例４と同じ条件で行った。
２）および放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）の硬化をプラ
ズマでなく紫外線によって行った以外は実施例２と同じ
条件、層構成で成膜した。紫外線照射条件は各層とも比
較例４と同じ条件で行った。
【００３６】＜比較例６＞放射線硬化樹脂層Ｂ（１０
４）の硬化をプラズマでなく紫外線によって行った以外
は実施例３と同じ条件、層構成で成膜した。紫外線照射
条件は比較例４と同じ条件で行った。
４）の硬化をプラズマでなく紫外線によって行った以外
は実施例３と同じ条件、層構成で成膜した。紫外線照射
条件は比較例４と同じ条件で行った。
【００３７】＜比較例７＞放射線硬化樹脂層Ａ（１０
２）及び放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）を設けず、ガス
バリア層のみを実施例１と同じ条件成膜した。
２）及び放射線硬化樹脂層Ｂ（１０４）を設けず、ガス
バリア層のみを実施例１と同じ条件成膜した。
【００３８】上記実施例１、２、３および比較例１、
２、３、４、５、６、７で得られたガスバリア材につい
て、以下の評価を行った。その結果を表１に示す。 ＜評価方法＞ （１）酸素バリア性・・温度３０℃、湿度７０％ＲＨの
雰囲気下でＭｏｃｏｎＯｘｔｒａｎ１０／５０Ａ酸素透
過度測定装置（モダンコントロール社製）によって測定
し酸素透過度とした。 （２）水蒸気バリア性・・温度４０℃、湿度９０％ＲＨ
の雰囲気下でＭｏｃｏｎＰｅｒｍａｔｒａｎＷ６水蒸気
透過度測定装置（モダンコントロール社製）にて測定し
水蒸気透過度とした。 （３）欠陥観察・・光学顕微鏡で２×２ｃｍ範囲に含ま
れる膜の欠陥を数え、塵埃などによって擦られたことに
起因する損傷を調べた。 （４）可撓性・・ガスバリア材の試料を長さ４０ｃｍ、
幅１４ｃｍに切り出し、長さ方向に所定の歪（３％、６
％）まで引っ張った後、元に戻して酸素バリア性、水蒸
気バリア性を評価した。 （５）密着性評価・・１０×３０ｍｍの大きさのガスバ
リアフィルムを、水温２５℃の３％水酸化ナトリウム水
溶液に１０分浸漬させた後、水洗、乾燥しセロハンテー
プを貼ってはがしてもＡｌＯx膜が下地に全て残ってい
る条件を満たしたものを○そうでない場合を×とした。 （６）総合評価・・欠陥検査５以下、引っ張り無し酸
素、水蒸気透過度をそれぞれ０．１０、０．１０以下、
３％引っ張り酸素、水蒸気透過度をそれぞれ０．１０、
０．５０以下、６％引っ張り酸素、水蒸気透過度をそれ
ぞれ１．００、１．００以下、密着度○または△という
条件を全て満たすものを○とし、それ以外を×とした。 なお、表中の酸素透過度の単位はｃｃ／ｍ2・ｄａｙ・
ａｔｍ、水蒸気透過度の単位はｇ／ｍ2・ｄａｙであ
る。
２、３、４、５、６、７で得られたガスバリア材につい
て、以下の評価を行った。その結果を表１に示す。 ＜評価方法＞ （１）酸素バリア性・・温度３０℃、湿度７０％ＲＨの
雰囲気下でＭｏｃｏｎＯｘｔｒａｎ１０／５０Ａ酸素透
過度測定装置（モダンコントロール社製）によって測定
し酸素透過度とした。 （２）水蒸気バリア性・・温度４０℃、湿度９０％ＲＨ
の雰囲気下でＭｏｃｏｎＰｅｒｍａｔｒａｎＷ６水蒸気
透過度測定装置（モダンコントロール社製）にて測定し
水蒸気透過度とした。 （３）欠陥観察・・光学顕微鏡で２×２ｃｍ範囲に含ま
れる膜の欠陥を数え、塵埃などによって擦られたことに
起因する損傷を調べた。 （４）可撓性・・ガスバリア材の試料を長さ４０ｃｍ、
幅１４ｃｍに切り出し、長さ方向に所定の歪（３％、６
％）まで引っ張った後、元に戻して酸素バリア性、水蒸
気バリア性を評価した。 （５）密着性評価・・１０×３０ｍｍの大きさのガスバ
リアフィルムを、水温２５℃の３％水酸化ナトリウム水
溶液に１０分浸漬させた後、水洗、乾燥しセロハンテー
プを貼ってはがしてもＡｌＯx膜が下地に全て残ってい
る条件を満たしたものを○そうでない場合を×とした。 （６）総合評価・・欠陥検査５以下、引っ張り無し酸
素、水蒸気透過度をそれぞれ０．１０、０．１０以下、
３％引っ張り酸素、水蒸気透過度をそれぞれ０．１０、
０．５０以下、６％引っ張り酸素、水蒸気透過度をそれ
ぞれ１．００、１．００以下、密着度○または△という
条件を全て満たすものを○とし、それ以外を×とした。 なお、表中の酸素透過度の単位はｃｃ／ｍ2・ｄａｙ・
ａｔｍ、水蒸気透過度の単位はｇ／ｍ2・ｄａｙであ
る。
【００３９】
【表１】
【００４０】表１に示すように、本発明によって示され
たようにガスバリア材は高度なガスバリア性を有し、比
較例に示されるガスバリア材に比べ初期のガスバリア性
に優れ、さらに所定の歪みまで引っ張った後のガスバリ
ア性に優れ十分な可撓性を示すことが確認された。
たようにガスバリア材は高度なガスバリア性を有し、比
較例に示されるガスバリア材に比べ初期のガスバリア性
に優れ、さらに所定の歪みまで引っ張った後のガスバリ
ア性に優れ十分な可撓性を示すことが確認された。
【００４１】
【発明の効果】本発明により、放射線硬化樹脂層樹脂原
料を蒸着法により形成した後、プラズマ照射による重合
によって、熱によるダメージもなく、帯電も無く均一に
有機層を成膜できることにより、塵埃の付着を防ぎ巻き
取り搬送中での擦れによる損傷を削減され、可撓性、密
着性、透明性に優れ、また重合開始剤が不要かつ重合速
度の速い積層体の製造方法を提供することができる。ま
た、本発明をガスバリア材の製造方法に応用した場合、
放射線硬化樹脂層の存在によって可撓性が向上し、放射
線硬化樹脂層を基材樹脂とガスバリア層の間に設けるこ
とによって密着性が向上した、高度なガスバリア性を有
する積層体の製造方法が提供できる。また、放射線硬化
樹脂層をさらに最上層に積層することによって、ガスバ
リア層の損傷を防ぐことができる。また、この製造方法
において、すべての層を同一真空装置内で大気に開放せ
ず逐次的に形成することで生産性が大きく向上させるこ
とができる。
料を蒸着法により形成した後、プラズマ照射による重合
によって、熱によるダメージもなく、帯電も無く均一に
有機層を成膜できることにより、塵埃の付着を防ぎ巻き
取り搬送中での擦れによる損傷を削減され、可撓性、密
着性、透明性に優れ、また重合開始剤が不要かつ重合速
度の速い積層体の製造方法を提供することができる。ま
た、本発明をガスバリア材の製造方法に応用した場合、
放射線硬化樹脂層の存在によって可撓性が向上し、放射
線硬化樹脂層を基材樹脂とガスバリア層の間に設けるこ
とによって密着性が向上した、高度なガスバリア性を有
する積層体の製造方法が提供できる。また、放射線硬化
樹脂層をさらに最上層に積層することによって、ガスバ
リア層の損傷を防ぐことができる。また、この製造方法
において、すべての層を同一真空装置内で大気に開放せ
ず逐次的に形成することで生産性が大きく向上させるこ
とができる。
【００４２】
【図１】本発明の積層体の形成に関わり、真空成膜装置
（１）を含む製造装置の１例を説明する模式説明図であ
る。
（１）を含む製造装置の１例を説明する模式説明図であ
る。
【図２】本発明によって製造される積層体の１例を説明
する模式説明図である。
する模式説明図である。
【００４３】
１ 真空成膜装置 ２ 真空ポンプ ３ 冷却ロール ４ 巻き出しロール ５ 巻き取りロール ６ 放射線硬化樹脂層Ａ樹脂蒸着装置 ７ 放射線硬化樹脂層Ａプラズマ照射装置 ８ 遮蔽板 ９ ガスバリア層蒸着用電子銃 １０ 坩堝 １１ 偏向コイル １２ 放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂蒸着装置 １３ 放射線硬化樹脂層Ｂプラズマ照射装置 １４ 放射線硬化樹脂層Ａ樹脂供給装置 １５ ガスバリア層酸素供給装置 １６ 放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂供給装置 １７ 放射線硬化樹脂層Ａガス供給装置 １８ 放射線硬化樹脂層Ｂガス供給装置 １０１ 高分子樹脂基材 １０２ 放射線硬化樹脂層Ａ １０３ ガスバリア層 １０４ 放射線硬化樹脂層Ｂ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4F100 AK01A AK01B AK01C AR00D BA03 BA04 BA06 BA07 BA10A BA10B BA10C BA15 EH662 EJ592 EJ612 GB15 GB23 JB14B JB14C JD02 JD02D JK06 JK13 JK17 JM02B JM02C JN01
Claims (11)
- 【請求項１】高分子樹脂基材上の少なくとも片面上に、
少なくとも放射線硬化樹脂層が１層以上積層された積層
体の製造方法において、前記放射線硬化樹脂層を前記高
分子基材上に形成させた後、真空中でプラズマに曝すこ
とによって硬化させることによって設けることを特徴と
する積層体の製造方法。 - 【請求項２】前記放射線硬化樹脂層を前記高分子基材上
に形成させる方法が蒸着法であることを特徴とする請求
項１記載の積層体の製造方法。 - 【請求項３】前記放射線硬化樹脂層樹脂原料がモノマー
またはオリゴマーであることを特徴とする請求項１また
は２記載の積層体の製造方法。 - 【請求項４】前記積層体がガスバリア層を有することを
特徴とする請求項１〜３記載の積層体の製造方法。 - 【請求項５】高分子樹脂基材上の少なくとも片面上に、
放射線硬化樹脂層Ａ、ガスバリア層、放射線硬化樹脂層
Ｂを順次積層してなることを特徴とする請求項４記載の
積層体の製造方法。 - 【請求項６】前記高分子樹脂基材上に前記放射線硬化樹
脂層を成膜する工程、前記ガスバリア層を成膜する工
程、がすべて同一真空装置内で大気に曝されることなく
逐次的に形成されることを特徴とする請求項４または５
記載の積層体の製造方法。 - 【請求項７】請求項１〜６記載の製造方法により製造さ
れたことを特徴とする積層体。 - 【請求項８】同一真空成膜装置内に、冷却ロールとその
上部に巻きだしロールと巻き取りロールを備えてなる高
分子樹脂基材巻き取り手段を備え、前記冷却ロールの周
囲に、順に、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂形成装置、放射線
硬化樹脂層Ａ樹脂にプラズマ照射し放射線硬化樹脂層Ａ
を形成する装置、ガスバリア層形成装置、放射線硬化樹
脂樹脂層Ｂ樹脂形成装置、放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂にプ
ラズマ照射し放射線硬化樹脂層Ｂを形成する手段、を含
むことを特徴とする積層体の真空成膜装置。 - 【請求項９】同一真空成膜装置内に、冷却ロールとその
上部に巻きだしロールと巻き取りロールを備えてなる高
分子樹脂基材巻き取り手段を備え、前記冷却ロールの周
囲に、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂形成装置、放射線硬化樹
脂層Ａ樹脂にプラズマ照射し放射線硬化樹脂層Ａを形成
する装置、を含むことを特徴とする積層体の真空成膜装
置。 - 【請求項１０】同一真空成膜装置内に、冷却ロールとそ
の上部に巻きだしロールと巻き取りロールを備えてなる
高分子樹脂基材巻き取り手段を備え、前記冷却ロールの
周囲に、順に、放射線硬化樹脂層Ａ樹脂形成装置、放射
線硬化樹脂層Ａ樹脂にプラズマ照射し放射線硬化樹脂層
Ａを形成する装置、ガスバリア層形成装置、を含むこと
を特徴とする積層体の真空成膜装置。 - 【請求項１１】同一真空成膜装置内に、冷却ロールとそ
の上部に巻きだしロールと巻き取りロールを備えてなる
高分子樹脂基材巻き取り手段を備え、前記冷却ロールの
周囲に、順に、ガスバリア層形成装置、放射線硬化樹脂
樹脂層Ｂ樹脂形成装置、放射線硬化樹脂層Ｂ樹脂にプラ
ズマ照射し放射線硬化樹脂層Ｂを形成する手段、を含む
ことを特徴とする積層体の真空成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001003463A JP4710137B2 (ja) | 2001-01-11 | 2001-01-11 | 積層体の製造方法及び積層体並びに真空成膜装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001003463A JP4710137B2 (ja) | 2001-01-11 | 2001-01-11 | 積層体の製造方法及び積層体並びに真空成膜装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002205368A true JP2002205368A (ja) | 2002-07-23 |
| JP4710137B2 JP4710137B2 (ja) | 2011-06-29 |
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ID=18871804
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001003463A Expired - Fee Related JP4710137B2 (ja) | 2001-01-11 | 2001-01-11 | 積層体の製造方法及び積層体並びに真空成膜装置 |
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|---|---|
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Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08512256A (ja) * | 1993-10-04 | 1996-12-24 | カタリナ コーティングス，インコーポレイティド | コンデンサーの誘電体及び酸素バリヤーを形成するのに有用な架橋アクリレートコーティング材料 |
| JP2000198162A (ja) * | 1999-01-07 | 2000-07-18 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリア材およびその製造方法 |
| JP2000318082A (ja) * | 1999-05-10 | 2000-11-21 | Toppan Printing Co Ltd | ガスバリア材およびその製造方法 |
| JP2001508089A (ja) * | 1996-10-31 | 2001-06-19 | プレステック，インコーポレイティド | アクリレートコーティング方法 |
Family Cites Families (5)
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