JP2002181999A - 電子線照射装置 - Google Patents
電子線照射装置Info
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- JP2002181999A JP2002181999A JP2000381847A JP2000381847A JP2002181999A JP 2002181999 A JP2002181999 A JP 2002181999A JP 2000381847 A JP2000381847 A JP 2000381847A JP 2000381847 A JP2000381847 A JP 2000381847A JP 2002181999 A JP2002181999 A JP 2002181999A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高出力の電子線照射にも耐えることができる
電子線照射装置を提供する。 【解決手段】 回転機構１３によりディスク状の窓１２
が回転するので、電子線が窓１２を透過する際に窓１２
の金属原子等と相互作用を起こして熱が発生しても窓１
２の他の領域に伝導して自然冷却される。すなわち、デ
ィスク状の窓１２自体が放熱板として機能する。この結
果、窓１２が熱で溶けたりするのが防止され窓の寿命が
伸びる。また、窓１２の露出部を冷却手段１８で冷却す
ることにより、高出力の電子線が照射された場合でも窓
１２が十分に冷却されるので耐えることができる。さら
に、窓１２のうち電子線発生装置の照射口４と対向する
リング状の領域だけを電子線が透過する金属薄膜とする
ことにより、窓１２の強度を増すと共に低コスト化する
ことができる。
電子線照射装置を提供する。 【解決手段】 回転機構１３によりディスク状の窓１２
が回転するので、電子線が窓１２を透過する際に窓１２
の金属原子等と相互作用を起こして熱が発生しても窓１
２の他の領域に伝導して自然冷却される。すなわち、デ
ィスク状の窓１２自体が放熱板として機能する。この結
果、窓１２が熱で溶けたりするのが防止され窓の寿命が
伸びる。また、窓１２の露出部を冷却手段１８で冷却す
ることにより、高出力の電子線が照射された場合でも窓
１２が十分に冷却されるので耐えることができる。さら
に、窓１２のうち電子線発生装置の照射口４と対向する
リング状の領域だけを電子線が透過する金属薄膜とする
ことにより、窓１２の強度を増すと共に低コスト化する
ことができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子線照射装置に
関する。
関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は従来の電子線照射装置の概念図で
ある。
ある。
【０００３】電子線照射装置１は、主に電子線発生装置
２と、電子線発生装置２からの電子線を取り出すための
電子線取り出し部３とで構成されており、対象物に電子
線を照射する装置である。電子線発生装置２は、電子銃
と、電子銃からの電子を加速する加速管とで構成されて
いる（いずれも図示せず。）。これら電子銃、加速管及
び電子線取り出し部は電子線を効率よく加速し進行させ
るため真空に保持されている。
２と、電子線発生装置２からの電子線を取り出すための
電子線取り出し部３とで構成されており、対象物に電子
線を照射する装置である。電子線発生装置２は、電子銃
と、電子銃からの電子を加速する加速管とで構成されて
いる（いずれも図示せず。）。これら電子銃、加速管及
び電子線取り出し部は電子線を効率よく加速し進行させ
るため真空に保持されている。
【０００４】電子線取り出し部３の照射口４には電子線
が透過するＴｉ（若しくはＡｌ）等の金属薄膜からなる
窓５が設けられている。この電子線照射装置の窓５から
対象物（図示せず。）に電子線６が照射されるようにな
っている。
が透過するＴｉ（若しくはＡｌ）等の金属薄膜からなる
窓５が設けられている。この電子線照射装置の窓５から
対象物（図示せず。）に電子線６が照射されるようにな
っている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで、電子線照射
装置が作動すると、電子線６が窓５を通過する際に、電
子線６の一部が窓５の金属原子等と相互作用を起こして
熱を発生する。このため、エアーブローや冷却水の循環
等によりこの熱を除去するようにしているが、その放熱
量には限界があり、窓５の寿命の低下の原因となる。特
に高出力の電子線照射装置では電子線のエネルギーが大
きいため、発熱量が大きく窓５の一部を電子線が透過し
続けると、放熱が間に合わず昇温し、最終的には溶解し
てしまうという問題があった。
装置が作動すると、電子線６が窓５を通過する際に、電
子線６の一部が窓５の金属原子等と相互作用を起こして
熱を発生する。このため、エアーブローや冷却水の循環
等によりこの熱を除去するようにしているが、その放熱
量には限界があり、窓５の寿命の低下の原因となる。特
に高出力の電子線照射装置では電子線のエネルギーが大
きいため、発熱量が大きく窓５の一部を電子線が透過し
続けると、放熱が間に合わず昇温し、最終的には溶解し
てしまうという問題があった。
【０００６】そこで、本発明の目的は、上記課題を解決
し、高出力の電子線照射にも耐えることができる電子線
照射装置を提供することにある。
し、高出力の電子線照射にも耐えることができる電子線
照射装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明の電子線照射装置は、電子線発生装置で発生し
た電子線を対象物に照射する電子線照射装置において、
電子線発生装置の照射口の近傍に設けられ電子線の照射
方向に略平行な回転軸を有する回転機構と、中心が回転
軸に接続されると共に、照射口を覆うディスク状の窓
と、窓と照射口との間に設けられ電子線照射装置内を真
空保持するため窓を回転自在にシールするシール機構と
を備えたものである。
に本発明の電子線照射装置は、電子線発生装置で発生し
た電子線を対象物に照射する電子線照射装置において、
電子線発生装置の照射口の近傍に設けられ電子線の照射
方向に略平行な回転軸を有する回転機構と、中心が回転
軸に接続されると共に、照射口を覆うディスク状の窓
と、窓と照射口との間に設けられ電子線照射装置内を真
空保持するため窓を回転自在にシールするシール機構と
を備えたものである。
【０００８】上記構成に加え本発明の電子線照射装置
は、窓の露出部を冷却する冷却手段を有するのが好まし
い。
は、窓の露出部を冷却する冷却手段を有するのが好まし
い。
【０００９】上記構成に加え本発明の電子線照射装置の
窓は照射口と対向するリング状の領域が電子線を透過す
る金属薄膜からなっており、残りの部分が電子線を遮断
する部材からなっているのが好ましい。
窓は照射口と対向するリング状の領域が電子線を透過す
る金属薄膜からなっており、残りの部分が電子線を遮断
する部材からなっているのが好ましい。
【００１０】本発明によれば、回転機構によりディスク
状の窓が回転するので、電子線が窓を透過する際に窓の
金属原子等と相互作用を起こして熱が発生しても窓の他
の領域に伝導して自然冷却される。すなわち、ディスク
状の窓自体が放熱板として機能する。この結果、窓が熱
で溶けたりするのが防止され窓の寿命が伸びる。また、
窓の露出部を冷却手段で冷却することにより、高出力の
電子線が照射された場合でも窓が十分に冷却されるので
高出力の電子線に耐えることができる。さらに、窓のう
ち電子線発生装置の照射口と対向するリング状の領域だ
けを電子線が透過する金属薄膜とすることにより、窓の
強度を増すと共に低コスト化することができる。
状の窓が回転するので、電子線が窓を透過する際に窓の
金属原子等と相互作用を起こして熱が発生しても窓の他
の領域に伝導して自然冷却される。すなわち、ディスク
状の窓自体が放熱板として機能する。この結果、窓が熱
で溶けたりするのが防止され窓の寿命が伸びる。また、
窓の露出部を冷却手段で冷却することにより、高出力の
電子線が照射された場合でも窓が十分に冷却されるので
高出力の電子線に耐えることができる。さらに、窓のう
ち電子線発生装置の照射口と対向するリング状の領域だ
けを電子線が透過する金属薄膜とすることにより、窓の
強度を増すと共に低コスト化することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて詳述する。
図面に基づいて詳述する。
【００１２】図１は本発明の電子線照射装置の一実施の
形態を示す側面断面図である。図２は図１に示した電子
線照射装置の底面図である。図３は図１に示した電子線
照射装置のＡ−Ａ線断面図である。
形態を示す側面断面図である。図２は図１に示した電子
線照射装置の底面図である。図３は図１に示した電子線
照射装置のＡ−Ａ線断面図である。
【００１３】図１に示す電子線発生装置２は、電子銃
と、電子銃からの電子を加速する加速管とで構成されて
いる（いずれも図示せず。）。電子線発生装置２の出射
口は電子線取り出し部３に接続されている。これら電子
銃、加速管及び電子線取り出し部３は電子線を効率よく
加速し進行させるため真空に保持されている。電子線取
り出し部３の照射口４には、シール機構としての磁気シ
ール（若しくはＯリング）１０、１１を介してディスク
状の窓１２が配置されている。１５ａは窓保持板であ
り、１５ｂは窓保持リングであり、窓保持板１５ａと窓
保持リング１５ｂとで窓１２が保持されるようになって
いる（窓全体が円板であってもよい）。１６は一方の側
面（図では下側の側面）に環状の開口部１７を有する環
状のダクトである。このダクト１６は電子線取り出し部
３と連通しており、磁気シール１０、１１を挟むように
窓保持板１５ａ及び窓保持リング１５ｂに配置されてい
る。すなわち、窓１２の一方の面（電子線発生装置２
側）は真空に保持され、他方の面（底面）は大気開放さ
れていることになる。ディスク状の窓１２は、照射口４
の内径の約５倍の半径を有している（窓１２の大きさは
この大きさに限定されるものではなく、照射口４を常に
覆うことができればよい）。窓１２は、照射口４の近傍
に設けられた回転機構（例えばギヤードモータ）１３の
回転軸１４に接続されており、回転機構１３により窓１
２の中心を軸として回転するようになっている。
と、電子銃からの電子を加速する加速管とで構成されて
いる（いずれも図示せず。）。電子線発生装置２の出射
口は電子線取り出し部３に接続されている。これら電子
銃、加速管及び電子線取り出し部３は電子線を効率よく
加速し進行させるため真空に保持されている。電子線取
り出し部３の照射口４には、シール機構としての磁気シ
ール（若しくはＯリング）１０、１１を介してディスク
状の窓１２が配置されている。１５ａは窓保持板であ
り、１５ｂは窓保持リングであり、窓保持板１５ａと窓
保持リング１５ｂとで窓１２が保持されるようになって
いる（窓全体が円板であってもよい）。１６は一方の側
面（図では下側の側面）に環状の開口部１７を有する環
状のダクトである。このダクト１６は電子線取り出し部
３と連通しており、磁気シール１０、１１を挟むように
窓保持板１５ａ及び窓保持リング１５ｂに配置されてい
る。すなわち、窓１２の一方の面（電子線発生装置２
側）は真空に保持され、他方の面（底面）は大気開放さ
れていることになる。ディスク状の窓１２は、照射口４
の内径の約５倍の半径を有している（窓１２の大きさは
この大きさに限定されるものではなく、照射口４を常に
覆うことができればよい）。窓１２は、照射口４の近傍
に設けられた回転機構（例えばギヤードモータ）１３の
回転軸１４に接続されており、回転機構１３により窓１
２の中心を軸として回転するようになっている。
【００１４】窓１２の露出部には窓１２を冷却する冷却
手段（例えばファン）１８が設けられている。
手段（例えばファン）１８が設けられている。
【００１５】なお、磁気シール１０、１１とは、磁性流
体を用いた回転導入シールである。
体を用いた回転導入シールである。
【００１６】この電子線照射装置１９が作動すると、回
転機構１３によりディスク状の窓１２が回転するので、
電子線が窓１２を透過する際に窓１２の金属原子等と相
互作用を起こして熱が発生しても窓１２の他の領域に伝
導して自然冷却される。すなわち、ディスク状の窓１２
自体が放熱板として機能する。この結果、窓１２が熱で
溶けたりするのが防止され窓１２の寿命が伸びる。ま
た、窓１２の露出部をファン１８で冷却することによ
り、高出力の電子線が照射された場合でも窓１２が十分
に冷却されるので耐えることができる。さらに、窓１２
のうち電子線発生装置の照射口４と対向するリング状の
領域だけを電子線が透過する金属薄膜とすることによ
り、窓１２の強度を増すと共に低コスト化することがで
きる。
転機構１３によりディスク状の窓１２が回転するので、
電子線が窓１２を透過する際に窓１２の金属原子等と相
互作用を起こして熱が発生しても窓１２の他の領域に伝
導して自然冷却される。すなわち、ディスク状の窓１２
自体が放熱板として機能する。この結果、窓１２が熱で
溶けたりするのが防止され窓１２の寿命が伸びる。ま
た、窓１２の露出部をファン１８で冷却することによ
り、高出力の電子線が照射された場合でも窓１２が十分
に冷却されるので耐えることができる。さらに、窓１２
のうち電子線発生装置の照射口４と対向するリング状の
領域だけを電子線が透過する金属薄膜とすることによ
り、窓１２の強度を増すと共に低コスト化することがで
きる。
【００１７】
【発明の効果】以上要するに本発明によれば、次のよう
な優れた効果を発揮する。
な優れた効果を発揮する。
【００１８】高出力の電子線照射にも耐えることができ
る電子線照射装置の提供を実現することができる。
る電子線照射装置の提供を実現することができる。
【図１】本発明の電子線照射装置の一実施の形態を示す
側面断面図である。
側面断面図である。
【図２】図１に示した電子線照射装置の底面図である。
【図３】図１に示した電子線照射装置のＡ−Ａ線断面図
である。
である。
【図４】従来の電子線照射装置の概念図である。
２ 電子線発生装置 ３ 電子線取り出し部 ４ 照射口 １１ 磁気シール（シール機構） １２ 窓 １３ 回転機構 １４ 回転軸 １５ａ 窓保持板 １５ｂ 窓保持リング １６ ダクト １８ ファン（冷却手段）
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白川 忠秀 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東京エンジニアリング センター内 (72)発明者 打越 千恵子 東京都江東区豊洲三丁目１番15号 石川島 播磨重工業株式会社東京エンジニアリング センター内 Ｆターム(参考） 4C058 AA01 BB06 KK03 KK14 KK26 4G075 AA01 BD03 CA03 CA39 DA02 EB21 EC06 ED01 FB02 FC04
Claims (3)
- 【請求項１】 電子線発生装置で発生した電子線を対象
物に照射する電子線照射装置において、上記電子線発生
装置の照射口の近傍に設けられ電子線の照射方向に略平
行な回転軸を有する回転機構と、中心が該回転軸に接続
されると共に、上記照射口を覆うディスク状の窓と、該
窓と上記照射口との間に設けられ上記電子線照射装置内
を真空保持するため上記窓を回転自在にシールするシー
ル機構とを備えたことを特徴とする電子線照射装置。 - 【請求項２】 上記窓の露出部を冷却する冷却手段を有
する請求項１に記載の電子線照射装置。 - 【請求項３】 上記窓は上記照射口と対向するリング状
の領域が電子線を透過する金属薄膜からなっており、残
りの部分が電子線を遮断する部材からなっている請求項
１または２に記載の電子線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000381847A JP4479093B2 (ja) | 2000-12-15 | 2000-12-15 | 電子線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000381847A JP4479093B2 (ja) | 2000-12-15 | 2000-12-15 | 電子線照射装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002181999A true JP2002181999A (ja) | 2002-06-26 |
| JP4479093B2 JP4479093B2 (ja) | 2010-06-09 |
Family
ID=18849772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000381847A Expired - Fee Related JP4479093B2 (ja) | 2000-12-15 | 2000-12-15 | 電子線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4479093B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006284344A (ja) * | 2005-03-31 | 2006-10-19 | Hitachi Eng Co Ltd | 二次荷電粒子発生装置 |
| WO2023074104A1 (ja) * | 2021-10-25 | 2023-05-04 | 株式会社日立製作所 | 電子ビーム処理装置 |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02135900U (ja) * | 1989-04-17 | 1990-11-13 | ||
| JPH04164300A (ja) * | 1990-10-29 | 1992-06-09 | Fujitsu Ltd | 放射線取り出し窓及び放射線装置 |
| JPH04230900A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-08-19 | Toshiba Corp | シンクロトロン放射光照射装置及びｘ線露光装置 |
| JPH0644934A (ja) * | 1992-07-22 | 1994-02-18 | Mitsubishi Electric Corp | 低速陽電子発生装置 |
| JPH08271700A (ja) * | 1995-03-29 | 1996-10-18 | Toshiba Corp | 電子ビーム照射装置 |
| JPH095498A (ja) * | 1995-06-22 | 1997-01-10 | Toshiba Corp | 電子線照射装置 |
| JPH10206599A (ja) * | 1997-01-21 | 1998-08-07 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 荷電ビーム偏向装置 |
| JPH11160496A (ja) * | 1997-12-01 | 1999-06-18 | Nissin High Voltage Co Ltd | 電子線照射装置 |
| JP2000249800A (ja) * | 1999-03-03 | 2000-09-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 電子ビーム照射装置 |
| JP2002139600A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Katsuhiro Ono | 回転ウインドウ型電子線照射装置 |
-
2000
- 2000-12-15 JP JP2000381847A patent/JP4479093B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Cited By (3)
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| JP4704788B2 (ja) * | 2005-03-31 | 2011-06-22 | 株式会社日立エンジニアリング・アンド・サービス | 二次荷電粒子発生装置 |
| WO2023074104A1 (ja) * | 2021-10-25 | 2023-05-04 | 株式会社日立製作所 | 電子ビーム処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4479093B2 (ja) | 2010-06-09 |
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