JPH03240948A - 金属蒸気の発生方法 - Google Patents

金属蒸気の発生方法

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Publication number
JPH03240948A
JPH03240948A JP3253490A JP3253490A JPH03240948A JP H03240948 A JPH03240948 A JP H03240948A JP 3253490 A JP3253490 A JP 3253490A JP 3253490 A JP3253490 A JP 3253490A JP H03240948 A JPH03240948 A JP H03240948A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
crucible
container
electron beam
raw material
Prior art date
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Pending
Application number
JP3253490A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuhiko Nakahara
克彦 中原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH03240948A publication Critical patent/JPH03240948A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は金属膜の蒸着加工ないしは原子レーザー法によ
る同位体分離などのように金属を蒸気化する必要がある
分野に利用される金属蒸気の発生方法に関する。
(従来の技術) 電子ビームで金属を溶融して金属蒸気を発生する方法は
たとえば第3図に示した方法が知られている。すなわち
、固体状の金属原料1を内面がU字状に形成された容器
2内に収容して、たとえばリニア電子銃3から発射され
る電子ビーム4を図示しない外部磁場コイルにより偏向
して容器2内の金属原料1に照射すれば、電子ビーム4
の照射を受けた金属原料1は加熱されて溶融し、金属蒸
気を発生して蒸気流5を形成する。なお、図示してない
が容器2は減圧に排気される真空容器内に配置されてい
る。この場合、溶融金属の表面で散乱した散乱電子6は
蒸発には利用されないで容器2の外に散逸する。
(発明が解決しようとする課題) このような構成によると、電子銃3からの電子ビーム4
が金属原料1の上面に照射された場合、るつぼ2の上面
の開口部2aが拡開形状であるため、電子ビーム4によ
って与えられる熱が周囲に拡散し易く、それだけエネル
ギ損失が大きくなり、過大な電子銃3の出力を要し、電
力消費量も増大する。また、金属原料1の上面では電子
ビーム4が照射された部分が局部的に加熱されて多量に
溶融するいわゆる穴掘効果が生じ、溶融状態が不均一と
なる。さらに、溶融金属飛沫または金属ウラン蒸気がる
つぼ2の周囲に飛散し易くこれにより金属原料および蒸
気の無駄も生じ易い。
しかして、蒸発部の金属原料1の表面で散乱され、容器
2の外に散逸する電子のエネルギは蒸発には利用されず
損失になり、電子銃のエネルギ利用率が低くなる課題が
ある。
また、発生した金属蒸気流5は蒸発面より上方に離れた
位置で利用されるが、蒸気密度は蒸発面から遠くなるほ
ど小さくなり、高い蒸気密度が得られない課題がある。
本発明は蒸気課題を解決するためになされたもので、電
子銃3のエネルギ利用率を高め、かつ高い蒸気密度が得
られる金属蒸気の発生方法を提供することにある。
[発明の構成コ (課題を解決するための手段) 本発明は電子銃から発生する金属原料加熱用電子ビーム
加熱溶融作用で前記金属原料の表面から金属蒸気流を発
生させる金属蒸気の発生方法において、前記金属原料を
内面がほぼU字型に形成された容器内に収容し、この容
器を回転させて発生する遠心力で該容器内の加熱されて
溶融した金属表面を該容器の内面に沿って擦り鉢状に変
形して保ち、前記金属表面で散乱された電子を再び該金
属表面に入射させることを特徴とする。
(作 用) 容器内に金属原料を収容し、電子銃から電子ビームを金
属原料の表面に入射する。容器を軸心を中心にして回転
させる。電子ビームによって金属原料は溶融し金属蒸気
を発生する。蒸気は蒸発面から垂直方向に最も蒸発しや
すい。容器を回転すると遠心力が発生し、この遠心力で
溶融した金属は容器の内面に沿って擦り鉢状に盛り上り
その状態を保つ。この擦り鉢状の状態で、金属表面で散
乱された電子が再び金属表面に入射するので電子のエネ
ルギ利用率を高めることができる。
また、容器の形状と容器の回転数を適切に設定すること
によって溶融した金属の形状を凹レンズ状態に保つこと
ができる。この凹レンズ状態を保つことによって発生す
る金属蒸気を容器の上方で集中させ、蒸気密度を高く保
つことができる。
(実施例) 本発明に係る金属蒸気の発生方法の一実施例を第1図を
参照して説明する。
第1図において、金属原料1を収容する容器2の下面に
は回転駆動部7が設けられており、この回転駆動部7に
よって軸心CLを中心にして容器2は矢印方向に回転す
るように構成されている。
容器2および回転駆動部7の軸は図示してない真空容器
内に配置されている。
容器2内に金属原料1を収容し、電子銃3から電子ビー
ム4を金属原料1の表面に入射させると金属原料1は加
熱されて蒸気流5を発生する。そこで、回転駆動部7を
駆動し、容器2を回転させると溶融した金属は遠心力に
よって盛り上った溶融金属8が形成される。回転駆動部
7は容器2を回転させるだけではなく、容器2の冷却ま
たは断熱媒体としても働き、また電子銃3に対してのア
ースにもなっている。
電子ビーム4の軌道は適当な磁場を磁石などで印加する
ことによって制御する。電子ビーム4は金属原料1に入
射し金属を′加熱し蒸発させる。金属表面で散乱された
散乱電子6は印加されている磁場によって曲がりながら
再び遠心力によって外周方向に盛り上った金属表面に入
射する。
このように金属表面で散乱された電子を再び金属表面に
入射させることによって電子銃3のエネルギ利用率を高
めることができる。
第2図は本発明方法の他の実施例を説明すものである。
なお、装置の構成としては第1図に示したものと同様な
ので、重複する部分を省略している。
容器2内の金属原料1を電子ビーム4で加熱し蒸気流5
を発生させると、蒸気は蒸発面から垂直方向に最も蒸発
しやすくなる。そこで、容器2の形状と、容器2の回転
数を適切に設定し、溶融した金属表面の形状を凹レンズ
状に保つと符号9・lG・11で示す蒸発面からの垂直
方向のどの位置から蒸発しても蒸気が集中する領域12
に示す位置に蒸気を集中しやすくできる。したがって、
発生する蒸気が集中する領域12の位置で蒸気を利用す
れば高い蒸気密度が得られる。
[発明の効果] 本発明によれば、金属表面で散乱された電子を再び金属
表面に入射させて電子銃のエネルギ利用率を高めること
ができ、発生する金属蒸気を容器の上方で集中させるこ
とができるので高い蒸気密度を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る金属蒸気の発生方法の一実施例を
説明するための概略的縦断面図、第2図は同じく他の実
施例を説明するための部分断面図、第3図は従来の金属
蒸気の発生方法を説明するための概略的断面図である。 1・・・金属原料 2・・・容器 3・・・リニア電子銃 4・・・電子ビーム 5・・・蒸気流 6・・・散乱電子 7・・・回転駆動部 8・・・遠心力によって盛り上った溶融金属9・10・
11・・・蒸発面からの垂直方向12・・・蒸気が集中
する領域 (8733)代理人 弁理士 猪 股 祥(ほか 1名) 9−

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 電子銃から発生する金属原料加熱用電子ビームによる加
    熱溶融作用で前記金属原料の表面から金属蒸気流を発生
    させる金属蒸気の発生方法において、前記金属原料を内
    面がほぼU字型に形成された容器内に収容し、この容器
    を回転させて発生する遠心力で該容器内の加熱されて溶
    融した金属表面を該容器の内面に沿って擦り鉢状に変形
    して保ち、前記金属表面で散乱された電子を再び該金属
    表面に入射させることを特徴とする金属蒸気の発生方法
JP3253490A 1990-02-15 1990-02-15 金属蒸気の発生方法 Pending JPH03240948A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008175479A (ja) * 2007-01-19 2008-07-31 Ulvac Japan Ltd シリコン溶解用容器及びこれを用いた溶解装置
JP2013204139A (ja) * 2012-03-29 2013-10-07 Nec Corp 真空蒸着装置および真空蒸着方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008175479A (ja) * 2007-01-19 2008-07-31 Ulvac Japan Ltd シリコン溶解用容器及びこれを用いた溶解装置
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