JP2013204139A - 真空蒸着装置および真空蒸着方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】真空蒸着装置による真空蒸着方法では、加熱された液状の蒸着材MTを略水平方向に回転させて液面MSを所定の放物面状とし、蒸着材MTの減少に対応して回転速度を低下させることで、蒸着ターゲットSBの下面に分子線を経時的に均等に飛翔させる。
【選択図】図1
Description
Y={(X2×ω2)/2g}+C
と表現される。
θ=tan−1{(X2×ω)/g}
と表現される。
rt=X−(Lt−Y)×tanθ
と表現される。
また、上記形態では円筒形の回転するルツボ130の外周面と対向する位置に、蒸着材MTを輻射熱で加熱する伝熱器の円筒ヒータ140が固定されていることを例示した。しかし、図6に例示する真空蒸着装置200のように、ルツボ130に収容されている蒸着材MTにレーザ光を照射して加熱するレーザ光源210を材料加熱手段としてもよい。この場合、やはりレーザ光源210を固定してルツボ130と回転させる必要がないので構造が簡単である。
110 真空チャンバ
120 ターゲット保持機構
130 材料収容容器であるルツボ
131 材料収容凹部
140 材料加熱手段である円筒ヒータ
150 材料回転機構
151 回転ステージ
160 ルツボカバー
161 カバー変位機構
162 カバー加熱機構
IS 内部空間
MS 液面
MT 蒸着材
SB 蒸着ターゲット
Claims (6)
- 蒸着材と蒸着ターゲットとが位置する内部空間を真空とする真空チャンバと、
前記真空チャンバの上方に前記蒸着ターゲットの蒸着される下面を位置させるターゲット保持機構と、
前記蒸着ターゲットの下方で上面開口の材料収容凹部に前記蒸着材を収容する材料収容容器と、
前記材料収容容器の外面と対向する位置に固定されていて前記蒸着材を液状に加熱することで液面から略直角に分子線を飛翔させる材料加熱手段と、
加熱された液状の前記蒸着材を略水平方向に回転させて前記液面を所定の放物面状にすることで前記蒸着ターゲットの下面に前記分子線を円錐状に略過不足なく飛翔させる材料回転手段と、を有し、
前記材料回転手段は、収容されている前記蒸着材の減少に対応して前記材料収容容器の回転速度を低下させる、
真空蒸着装置。 - 前記材料収容容器に収容されている前記蒸着材の残量を検出する残量検出手段も有し、
前記材料回転手段は、検出された前記蒸着材の残量に対応して回転速度を低下させる、請求項1に記載の真空蒸着装置。 - 前記残量検出手段は、前記材料収容容器に収容されている前記蒸着材の重量から残量を検出する、請求項2に記載の真空蒸着装置。
- 前記残量検出手段は、前記材料収容容器に収容されている前記蒸着材の液面の位置から残量を検出する、請求項2に記載の真空蒸着装置。
- 前記材料回転手段は、前記蒸着ターゲットの拡大に対応して前記蒸着材の回転速度を低下させる、請求項1ないし4の何れか一項に記載の真空蒸着装置。
- 蒸着材と蒸着ターゲットとが位置する真空チャンバの内部空間を真空とし、
材料収容容器の上面開口の材料収容凹部に前記蒸着材を収容し、
材料加熱手段の外面に対向する位置に固定されている材料加熱手段で前記蒸着材を液状に加熱することで液面から略直角に分子線を飛翔させ、
加熱された液状の前記蒸着材を材料回転手段で略水平方向に回転させて前記液面を所定の放物面状とし、
飛翔する前記分子線で形成される円錐状の範囲にターゲット保持機構で前記蒸着ターゲットの蒸着される下面を位置させ、
収容されている前記蒸着材の減少に対応して前記材料収容容器の回転速度を低下させる、真空蒸着方法。
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2012
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