JP4704788B2 - 二次荷電粒子発生装置 - Google Patents
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Description
前記二次荷電粒子発生ターゲットは、中心に回転軸を有する円板状に形成され、前記回転軸は水平方向に配置され、該二次荷電粒子発生ターゲットを回転する駆動装置が設けられ、前記二次荷電粒子発生ターゲットの下側一部を貯留した冷却水に直接浸漬して水冷を行う水槽が設けられることを特徴とする二次荷電粒子発生装置を提供する。
Claims (4)
- 陽子ビームを入射して二次荷電粒子を発生させる金属製の二次荷電粒子発生ターゲットを備えた二次荷電粒子発生装置において、
前記二次荷電粒子発生ターゲットは、中心に回転軸を有する円板状に形成され、前記回転軸は水平方向に配置され、該二次荷電粒子発生ターゲットを回転する駆動装置が設けられ、前記二次荷電粒子発生ターゲットの下部を貯留した冷却水に直接浸漬して水冷を行う水槽が設けられて構成され、
前記二次荷電粒子発生ターゲットには、回転する該二次荷電粒子発生ターゲットの上部に前記陽子ビームが入射されることで発熱部が形成され、回転する該発熱部が前記二次荷電粒子発生ターゲットの下部が水槽の冷却水に直接浸漬されることにより冷却されるように形成されること
を特徴とする二次荷電粒子発生装置。 - 請求項1において、前記二次荷電粒子発生ターゲットは、円板状外周端部の軸方向断面が三角形状もしくは円弧形状とされることを特徴とする二次荷電粒子発生装置。
- 請求項1において、前記二次荷電粒子発生ターゲットは、その厚さ方向において複数のターゲット板から構成され、前記中心軸に対して、一体に回転駆動されることを特徴とする二次荷電粒子発生装置。
- 請求項3において、陽子ビーム入射側に配置されるターゲット板と二次荷電粒子が取り出される側に配置されるターゲット板と中間に配置されるターゲット板は、陽子ビーム入射側から順次厚さが薄くされていることを特徴とする二次荷電粒子発生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005104063A JP4704788B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | 二次荷電粒子発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2005104063A JP4704788B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | 二次荷電粒子発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006284344A JP2006284344A (ja) | 2006-10-19 |
JP4704788B2 true JP4704788B2 (ja) | 2011-06-22 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005104063A Expired - Fee Related JP4704788B2 (ja) | 2005-03-31 | 2005-03-31 | 二次荷電粒子発生装置 |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4704788B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5532728B2 (ja) * | 2009-08-04 | 2014-06-25 | 三菱電機株式会社 | 中性子発生源用ターゲット |
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-
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Publication number | Publication date |
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JP2006284344A (ja) | 2006-10-19 |
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A711 | Notification of change in applicant |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070214 |
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RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070302 |
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A621 | Written request for application examination |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20071004 |
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A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071211 |
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20100401 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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S533 | Written request for registration of change of name |
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|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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